TW201038684A - Silane coating compositions containing silicon-based polyether copolymers, methods for coating metal surfaces and articles made therefrom - Google Patents
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201038684 六、發明說明: 相關申請案之交互參照 此申請案主張2009年1月9日提出申請之美國專利 申請案61/143,647之優先權,茲將該案全文以引用方式納 入本文中。 【發明所屬之技術領域】 0 本發明係關於用於無機底質之不含鉻的塗料,用以塗 覆無機底質之方法及含該固化塗層之物件。特別地,本發 明係關於用於金屬(包括鋼、經鋅塗覆的鋼和鋁)表面之 未沖洗、無鉻酸鹽、無磷酸金屬鹽的塗層,其包含至少一 種矽烷和至少一種以矽爲底之共聚物,其用以改良平坦化 、流動、美觀和外觀及塗漆或其他塗料與金屬表面之黏著 性及提供金屬增進的腐蝕保護。 Q 【先前技術】 商業應用已經知道各種組成物用以改良對無機底質之 黏著性及增進金屬表面之腐蝕保護。例如,在塗漆操作之 前,鉻和重金屬磷酸鹽轉變塗層用於商業應用以製備金® 表面。但是由於鉻的毒性及鉻酸鹽、磷酸鹽和其他重金屬 自這些工業法的廢液流排放至河流和水道之污染效應’存 在的考量日增。矽烷爲底的轉變塗料代替這些鉻和重金β 磷酸鹽轉變塗料,但是這些以矽烷爲底的塗料通常具有@ 膜厚度不均勻,導致黏著力及金屬表面腐蝕保護不足° -5- 201038684 據此,此技藝對於以均句膜厚度提供就地乾燥的轉變 或鈍化塗層以抑制金屬表面腐蝕並增進漆上或在可施用至 此表面上的其他塗層上之黏著性的有效處理有需求存在。 【發明內容】 [發明總論] 本發明係關於一種含以矽爲底之共聚物的矽烷塗料組 成物,一種用以處理金屬(如,鋼、鋅塗覆的鋼和鋁)表 面以形成均勻塗層(特別是轉變和/或鈍化塗層之方法, 該塗層提高裸露或經塗覆的金屬之耐蝕性和/或金屬之黏 著性’及包含金屬底質、轉變和/或鈍化塗層和塗漆或其 他塗層之物件。本發明之方法包括使必要的金屬表面與矽 烷化合物和以矽爲底之聚醚共聚物的水性溶液接觸。金屬 表面與前述處理物接觸之後,該處理物可就地乾燥而形成 所欲塗層。較佳地,此處理物實質上沒有鉻和磷酸鹽。 一體系中’本發明係關於一種塗覆組成物,包含 (a) 至少一種通式(1)的矽烷 其中 每個R1獨立地爲氫原子或各者具1至16個碳原子的 醯基、一價烴基或經烷氧基取代的烷基; 每個R2獨立地爲烷基、經烷氧基取代的烷基、芳基 、或芳烷基’其中各者具1至16個碳原子; 每個R3獨立地爲共價化學鍵或1至12個碳原子之直 -6 - 201038684 鏈、支鏈或環狀的二價有機基團; 每個Y獨立地爲m價的一 _、二-或多價有機官能基’ 每個下標a、b、m和η獨地爲整數’其中&疋〇至 3;b是0至是1至4;而η是1至50; (b) 至少一種通式(2)之以矽爲底的聚醚共聚 物; (R4)(R5)(R6)SiR7Si(R8)(R9)[〇Si(R10)(R11)]xR12(C2H4〇)d(C3H6〇)e(C4H8〇)fR13 (2) Ο 每個R4、R5、R6、R8、R9、R1Q和R11獨立地爲1至 1 0個碳原子的一價烴基; 每個R7獨立地爲1至3個碳原子的二價伸烴基; 每個R12獨立地爲具下列結構的二價有機基團: -CH2-CH(R14)(R15)g〇- 其中每個R14獨立地爲氫原子或甲基;每個R15獨立 地爲1至6個碳原子的二價伸烷基;而下標g是〇或1; 〇 每個R13獨立地選自氫原子、1至6個碳原子的一價 烴基和1至6個碳原子的醯基;而 每個下標d、e、f和X是整數,其中d是2至20’ e 是〇至18,f是〇至以而X是0或1,但2£d + e + f£20 ; 和 (c ) 水。 另一體系中,本發明係關於處理金屬表面以於其上形 成塗層之方法,其包含使該金屬表面與前述塗覆組成物接
Mm 觸0 201038684 另一體系中’本發明係關於具有前述塗覆組成物施於 彼之金屬,及具有塗覆組成物施於彼之經塗覆的金屬。 應瞭解除了實施例或他處所示者之外,說明書和申請 專利範圍中所列之用以表示材料量、反應條件、時間區間 、材料的定量性質·.等的所有數字皆經過“約”一詞修飾。 亦將瞭解文中所列的任何數字範圍意欲含括在該範圍 內之所有的次範圍及該範圍或次範圍之各種終點的任何組 合。 將進一步瞭解到,說明書和中所揭示和/或申請專利 範圍中所列之表達或隱涵之屬於結構方面、組成方面和/ 或官能性方面相關的化合物、材料或物質的群組之任何化 合物、材料或物質包括其群組的個別代表及它們的所有組 合。 【實施方式】 根據本發明’藉由使所欲表面與一或多種未水解、部 分水解或水解的矽烷、水解安定之以矽爲底的聚醚共聚物 、水和任意選用之含膠態氧化物的溶膠(如,金屬氧化物 溶膠或矽石溶膠)、安定劑、有機矽化合物和/或有機界 面活性劑之水性溶液接觸,可提供無鉻(且以無磷酸鹽爲 佳)的轉變或鈍化塗層且可提供金屬表面(如,電鍍鋅的 鋼、冷軋鋼、熱浸鍍鋅的鋼、鋁)及含有這些轉變或鈍化 塗層的其他金屬。本發明之一方面中,安定劑加至矽烷混 合物,以增進產物安定性和儲存壽命。本發明之水性前處 -8- 201038684 理組成物提供裸露或經塗覆的金屬改良的耐蝕性,及施用 的塗料對於經塗覆的金屬之黏著性。含有本發明之轉變或 鈍化塗層的金屬表面可以進一步以塗漆或其他塗料處理, 以提供塗漆或其他塗料與裸露的金屬之間具良好黏著性之 經塗覆的表面。 應瞭解文中定義的“平坦化”一詞是指施用的塗料形成 平滑膜的能力,其中,施用器(如,刷或滾輪)留下的不 _ 完美在乾燥程序期間內消失。文中定義的“流動”一詞是指 〇 塗料的分佈性及塗料施用的容易度。文中描述的“潤濕,,係 調合物有效地潤濕底質表面且無針孔和缺陷的能力。 本發明之背景中,“裸露的金屬”一詞是指經本發明之 轉變或鈍化塗料處理但未上漆的金屬表面。 本發明之矽烷塗覆組成物含有以矽爲底之共聚物,其 包含, (a) 至少一種通式(1 )的矽烷 [[(R1〇)3-a-b(-〇-)〇.5aR2bSi-R3-]mY]n (1) ❹ 其中 每個R1獨立地爲氫原子或各者具1至16個碳原子的 醯基、一價烴基或經烷氧基取代的烷基; 每個R2獨立地爲烷基、經烷氧基取代的烷基、芳基 、或芳烷基,其中各者具1至16個碳原子; 每個R3獨立地爲共價化學鍵或1至12個碳原子之直 鏈、支鏈或環狀的二價有機基團; 每個Y獨立地爲m價的一-、二-或多價有機官能基; -9 - 201038684 每個下標a、b、m和η獨立地爲整數’其中a是〇至 3;b是0至2;m是1至4;而η是1至50; (b ) 至少一種通式(2)之以矽爲底的聚醚共聚 物: (R4)(R5)(R6)SiR7Si(R8)(R9)[OSi(R10)(R11)IxR12(C2H4O)d(C3H6O)e(C4H8O)fR13 ⑵ 其中 每個R4、R5、R6、R8、R9、R1。和R11獨立地爲1至 1 0個碳原子的一價烴基; 每個R7獨立地爲1至3個碳原子的二價伸烴基; 每個R 12獨立地爲具下列結構的二價有機基團: -CH2-CH(R14)(R15)gO- 其中每個r14獨立地爲氫原子或甲基;每個R15獨立 地爲1至6個碳原子的二價伸烷基;而下標g是0或1; 每個R13獨立地選自氫原子、1至6個碳原子的一價 烴基和1至6個碳原子的醯基;而 每個下標d、e、f和X是整數,其中d是2至20’e 是〇至18,f是0至18而X是0或1,但2$d + e + fS20 ; 和 (c ) 水。 文中使用的表示法,(-0-)0.5,是指矽氧烷基Sl_〇_Si 的一半。因此,此(-〇-)〇.5矽氧烷基與兩個獨立的矽原子 形成化學鍵並使得這兩個獨立的矽原子固定在一起’無論 這些矽原子位於分子間或分子內皆然。因爲(-〇-)0.5,是指 矽氧烷基Si-0-Si的一半,所以在通式(1)中’(-0-)0.5 -10- 201038684 基必須總是與另一(-〇_)0.5基相合,以使得兩個(-0-)0.5基 能夠合倂形成一個Si-0-Si基。 文中所謂的一價烴基包括直鏈、支鏈和環狀烷基、烯 基和炔基、芳烷基和芳基。烷基的特定非限制例包括甲基 、乙基、丙基和異丁基。烯基的特定非限制例包括乙烯基 、丙烯基、烯丙基和甲基烯丙基。炔基的特定非限制例包 括乙炔基、炔丙基和甲基乙炔基。芳烷基的特定非限制例 0 包括苄基和苯乙基。芳基的特定非限制例包括苯基。 文中所謂的二價烴基包括直鏈、支鏈和環狀伸烷基、 伸烯基和伸炔基、伸芳烷基和伸芳基。伸烷基的特定非限 制例包括伸甲基、伸乙基、伸丙基和伸異丁基。伸烯基的 特定非限制例包括伸乙烯基和伸丙烯基。伸炔基的特定非 限制例包括伸乙炔基和伸炔丙基和甲基伸乙炔基。伸芳烷 基的特定非限制例包括伸二甲苯基。伸芳基的特定非限制 例包括伸苯基。 Q “經取代”的脂基或芳基是指碳主鏈可以具有雜原子位 於主鏈內或雜原子或含雜原子的基團接至碳主鏈的脂基或 芳基。 “有機基團”是指脂族烴基、芳族烴基、或經取代的脂 基或經取代的芳基。 塗覆組成物之通式(1 )的矽烷(a ) 塗覆組成物之通式(1)的矽烷(a)與金屬表面作用 而提供黏著性和抑制腐蝕及與塗漆或其他塗料增進與裸露 -11 - 201038684 金屬之黏著性。 式(1 )中的符號γ係能夠與金屬、塗漆或其他塗料 作用的有機官能基。此有機官能基的價數由1至4且經由 二價R3基團連接至矽原子。 此處的一價有機官能基包括,但不限於,胺基( -NR162)、二胺基(-N(R16)R3NR162)、巯基(-SH)、醯氧基 (ch2 = chco2-)、甲基醯氧基(ch2 = c(ch3)co2-)、乙醯氧 基(CH3C02-)、環氧丙基(-0-CH2-C2H30)、環氧環己基( -C6H90)、環氧基(-CR16(-0-)CR162)、羥基(HO-)、二硫碳 酸基(-SC( = 0)SR16)、三硫碳酸基(-SC( = S)SR16)、胺甲酸 酯基(-NR16(C = 0)0R16)、硫酯(-S(C = 0)R16)、硫胺甲酸基( -NR16(C = 0)SR16)、二硫胺甲酸基(-NR16(C = S)SR16)、胺甲 酸酯基(-〇(c = o)nr16r16)、一價脲基(-NR16(C = 0)NR162)、 矽基(-SURyjOR1 5a)和異氰尿酸基(( -N)(NR16)(NR16)C3 03),其中每個R16獨立地選自氫和1 至6個碳原子的直鏈、支鏈和環狀的烷基、烯基或芳基而 a和b如前文之定義。 此處的二價有機官能基包括,但不限於,硫基(-S -)、 二硫基(-SS-)、三硫基(-SSS-)、四硫基(-SSSS-)、胺甲酸 酯基((-)2n(c = o)or16 或-rI6n(c = o)o-)、脲基((-)2n(c = o)nr162 或(-)nr16(c = o)n(-)r16)和異氰尿酸基((-N)2(NR16)C303),其中每個R16獨立地選自氫和1至6個 碳原子的直鏈、支鏈和環狀的烷基、烯基或芳基而a和b 如前文之定義。 -12- 201038684 此處的三價有機官能基包括,但不限於,胺甲酸酯基 ((-)2n(c = o)o(-))、脲基((-)nr16(c = o)n(-)2)和異氰尿酸酯 基((-N)3C303))。 此處的四價有機官能基包括,但不限於,脲基((- )2(c = o)n(-)2)。 R1的代表性非限制例係氫、乙基、甲基、丙基、異丙 基、丁基、異丁基、二級丁基和乙醯基。R2的代表性非限 Q 制例係甲基、乙基、丁基、己基、苯基和苄基。R3的代表 性非限制例係化學鍵、伸甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基 、伸己基和伸癸基、伸乙烯基、伸丙烯基、伸丁烯基、伸 己烯基、伸苯基、3-氧雜-伸丙基和4-氧雜伸庚基。 矽烷(a)的例示例係其中的R1爲氫、甲基或乙基; R2爲甲基;R3爲伸甲基、伸乙基和伸丙基;且Y是脲基 、環氧基或四硫基者。例如,Y是脲基,其中R16是氫或 甲基。 Q 矽烷(a )的代表性非限制例包括乙烯基甲基二乙氧 基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基二甲基乙氧基矽烷 、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三丙氧基矽烷、乙烯基-參(2_甲氧基乙氧基矽烷)、苯乙烯基乙基三甲氧基矽烷 、γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-(丙烯醯氧基丙基) 甲基二甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧 基丙基甲基一甲氧基砂院' γ -甲基丙稀醯氧基丙基甲基二 乙氧基矽烷、γ -甲基丙烯醯氧基丙基-參-(2 -甲氧基乙氧 -13- 201038684 基)矽烷、β-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、 β- (3,4-環氧基環己基)乙基三乙氧基矽烷、γ-環氧丙基 丙基三甲氧基砂院、γ-環氧丙基丙基三乙氧基砂院、γ-環 氧丙基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-環氧丙基丙基甲基二甲 氧基矽烷、γ-巯基丙基三甲氧基矽烷、γ-锍基丙基三乙氧 基矽烷、γ-硫辛醯基丙基三甲氧基矽烷、γ-锍辛醯基丙基 三乙氧基矽烷、雙-(三甲氧基矽基丙基)四硫烷、雙-( 三乙氧基矽基丙基)二硫烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、 γ-脲基丙基三乙氧基矽烷、γ-脲基丙基二甲氧基乙氧基矽 烷、γ-脲基丙基甲氧基二乙氧基矽烷、γ-脲基丙基甲基二 甲氧基矽烷、γ-脲基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-脲基丙基 甲基甲氧基乙氧基矽烷、γ-胺甲酸乙酯基丙基三甲氧基矽 烷、γ-胺甲酸乙酯基丙基三乙氧基矽烷、Ν,Ν’,Ν’’-參-(3-三甲氧基矽基丙基)異氰尿酸酯、雙(三甲氧基矽基丙基 )脲、雙(三乙氧基矽基丙基)脲和它們的部分或完全水 解物。 例如,矽烷(a )可包括γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、 γ-脲基丙基三乙氧基砂院、γ-脲基丙基二甲氧基乙氧基石夕 烷、γ-脲基丙基甲氧基二乙氧基矽烷、γ-脲基丙基甲基二 甲氧基矽烷、γ-脲基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-脲基丙基 甲基甲氧基乙氧基矽烷、Ν,Ν’-雙-(3-三乙氧基矽基丙基 )脲、Ν,Ν’-雙-(3-三甲氧基矽基丙基)脲、Ν,Ν’-雙-( 3-二乙氧基甲基矽基丙基)脲、Ν,Ν,-雙-(3-二異丙氧基 甲基矽基丙基)脲、Ν,Ν-雙-(3 -三乙氧基矽基丙基)脲 -14 - 201038684 、N,N-雙- (3-三甲氧基矽基丙基)脲、N,N-雙_(3_ —乙 氧基甲基矽基丙基)脲、N,N-雙-(3-二異丙氧基甲基砂 基丙基)脲、N,N,N,-參-(3-三乙氧基砂基丙基)脈、 Ν,Ν,Ν’-參-(3-三甲氧基矽基丙基)脲、N,N,N’-爹_ ( 3_ 二乙氧基甲基矽基丙基)脲、N,N,N,·參_(3·二異丙氧基 矽基丙基)脲、N,N,N,,N,-肆-(3-三乙氧基砂基丙基)脈 、N,N,N’,N,-肆-(3-三甲氧基矽基丙基)脲、N,N,N’,N’-q 肆-(3-二乙氧基甲基矽基丙基)脲、N,N,N’,N’-肆-(3-二異丙氧基甲基矽基丙基)脲、參-(3-三甲氧基砂基丙基 )異氰尿酸酯和它們的部分或完全水解物。 例如,矽烷(a)包括未水解、部分水解和水解的γ-脲基丙基三甲氧基矽烷和γ-脲基丙基三乙氧基矽烷。γ-脲 基丙基三甲氧基砍院和γ -脲基丙基三乙氧基砂院係市售品 ,其名稱爲 Silquest* A-1524 silane 和 Silquest* Α-1160 silane,其分別以在甲醇中之 50%的活性矽烷形式由 〇 Momentive Performance Materials 銷售 ° 此處所述的塗覆組成物中的矽烷(a )含量特定由 0.01至80重量% ’更特定由〇.1至60重量%,且最特定 由1至4 0重量% ’該重量%係以該組成物總重爲基礎。 塗覆組成物之通式(2)之以矽爲底之聚醚共聚物(b) 以矽爲底之聚醚共聚物(b)在金屬表面上提供均勻 的轉變或鈍化塗層。以矽爲底之聚醚共聚物之製備爲此技 藝已知者。例如,這些化合物之製備述於美國專利案第 -15- 201038684 7,507,775號和美國專利申請案US 2007/0249560 A1,茲 將此二文獻全文以引用方式納入本文中。 製造本發明之組成物的一個方法係使下列式(3 )或 (4 )的分子與經烯烴修飾的聚環氧烷在氫矽化反應條件 下反應 (R4)(R5)(R6)SiR7Si(R8)(R9)OSi(R10)(R11)(H) (3) (R4)(R5)(R6)SiR7Si(R8)(R9)(H) (4) 其中 每個R4 、 R5 、 R6 、 R8 、 R9 、 R1Q和R11獨立地爲1至 10個碳原子的一價烴基; 毎個R7獨立地爲1至3個碳原子的二價伸烴基。 此處所謂“經烯烴修飾的聚環氧烷”是指具有一或多個 含有一或多個末端或懸垂碳-碳雙鍵之環氧烷基的分子。 此聚醚係經烯烴修飾的聚環氧烷,其藉通式(5 )描述: CH2-C(R14)(R15)g〇(c2H4〇)d(C 3H6〇)e(〇4H80)f R13 (5) 其中 每個R13獨立地選自氫原子、1至6個碳原子的一價 烴基和1至6個碳原子的醯基; 每個R14獨立地爲氫原子或甲基; 每個R15獨立地爲1至6個碳原子的二價伸烷基; 每個下標d、e、f和g是整數,其中d是2至20,e 是0至18’f是〇至18而g是0或1,但2£d + e + f£20。 當此聚醚由混合的氧環氧烷基(即,環氧乙烷、環氧 丙烷和環氧丁烷)所構成時,此單元可爲嵌段或無規分佈 -16- 201038684 。嫻於此技藝者將瞭解使用嵌段或無規構形的優點。 聚醚的例示例如下,但不限於: CH2—CHCH20(CH2CH20)8H; CH2—CHCH20(CH2CH20)8CH3; CHz— CHCH20(CH2CH20)4(CH2CH(CH3)0)5H;CH2=CHO(CH2CH20)5(CH2CH(CH3)0)5H; ch2—c(ch3)ch2o(ch2ch2o)4(ch2 ch(ch3)〇)5c(—o)ch3;和 ch2= CHCH2〇(CH2CH20)5(CH2CH(CH3)0)2(CH2CH(CH2CH3)0)2H. 經聚醚修飾的矽氧烷可藉此技藝中已知者,經由使用 氫矽化反應而使得經烯烴修飾(即,乙烯基、烯丙基或甲 〇 基烯丙基)的聚環氧烷接枝在本發明的二矽氧烷的氫化物 (SiH)中間產物上而製得。 適用以製造經聚醚取代的矽氧烷之貴金屬觸媒爲此技 藝習知者且包含铑、釕、鈀、餓、銥和/或鉛之錯合物。 已經知道此SiH用於烯烴加成反應之許多類型的鉑觸媒且 此鉑觸媒可用以產生本發明之組成物。此鉑化合物可選自 美國專利案第3,1 5 9,60 1號(茲將該案全文以引用方式納 入本文中)描述之具有式(PtCl2烯烴)和H ( PtCl3烯烴 〇 )者。另一含鉑材料可爲氯鉛酸與至多2莫耳選自醇、醚 、醛和它們的混合物/克鉑的錯合物,此如美國專利案第 3,22 0,9 72號中所描述者,茲將該案全文以引用方式納入 本文中。可用於本發明的另一組含鉑材料述於美國專利案 第 3,7 1 5,3 3 4、3,775,452 和 3,8 1 4,73 0 號(Karstedt)。關 於此技藝的其他背景可見於 J.L.Spier, “Homogeneous Catalysis of Hydro silation by Transition Metals”, in Advances in O r g an om e t al 1 i c Chemistry, volume 17,p . 4 0 7-447, F.G.A.Stone and R.West 編輯,Academic Press 印行 -17- 201038684 (New York, 1 9 79 )。嫻於此技藝者能夠以不費力的方式 定出鉑觸媒的有效量。通常’相對於經有機修飾的二砍氧 烷組成物總量,鉑觸媒的有效量由約0.1至5 0 PPm。 前文已描述以矽爲底之聚醚共聚物(b)的式(2)的 取代基。例如’用於以矽爲底之聚醚共聚物(b ) ’ r4 ' R5、R6、R8和R9係1至6個碳原子的烷基;R7係1至3 個碳原子的伸烷基;Rl2是-CH2CH2CH2〇-或-CH2CH(CH3)CH20-; R13係氫原子、1至6個碳原子的院 基或乙醯基;d是3至1〇; e是〇至1〇,而f是〇至8° 例如,以矽爲底之聚醚共聚物(b)中,r4、r5、r6、R 和R9係甲基、乙基、丙基、異丙基或異丁基;r7係仲乙 基;R12是- CH2CH2CHO-; R13係氫原子、甲基或乙醯基’ d是5至8; e是0至5’而f是〇至2。以矽爲底之聚酿 共聚物(b)的另一實例中’ R4、R5、r6、R8和R9係甲基 ;而(1是5至8;6是0至3,而£是0和又是0。 以矽爲底之聚醚共聚物(b )的代表性非限制例係’ (CH3)3SiCH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)2〇CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH(CH3)CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3. (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)7(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)5(CH2CH(CH3)0)2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)15(CH2CH(CH3)0)5H, -18- 201038684 (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)2(CH2CH(CH3)0)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH20)4(CH2CH(CH2CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)1t)(CH2CH(CH2CH3)0)5CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2O(CH2CH2〇)i0(CH2CH(CH2CH3)O)10C(=O)CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)i(CH2CH(CH2CH3)〇)H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)8(CH2CH(CH3)〇)5(CH2CH(CH2CH3)〇)H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3l (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3l 〇 (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH20)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)20CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH(CH3)CH2〇(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3> (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iH, (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4-(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)〇)iCH3, Q (CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇-(CH2CH2〇)7(CH2CH(CH3)0)i ch3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)5(CH2CH(CH3)〇)2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH2〇>i5(CH2CH(CH3)0)5H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)2(CH2CH(CH3)0)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0SKCH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH2CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH2〇)i〇- (CH2CH(CH2CH3)0)5CH3, -19- 201038684 (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10- (CH2CH(CH2CH3)O)10C(=O)CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)i- (CH2CH(CH2CH3)0)H,(CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)8- (CH2CH(CH3)0)5(CH2CH(CH2CH3)0)H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH20(CH2CH2〇)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH20)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2O(CH2CH2O)4- (CH2CH(CH3)〇)iCH3i (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3>2)CH2CH2CH2〇(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)0)iCH3 ,及它們的混合物。 此處描述之組成物之以矽爲底之聚醚共聚物@ 含量特定由0.001至1〇重量%,更特定由0.01至3重量% ,且最特定由〇 . 1至〇 . 5重量%,該重量%係以該組成物總 重爲基礎。 水(C ) 此水可以來自任何來源,包括自來水、井水、蒸餾水 、去離子水..等。較佳地,此水經蒸餾或去離子’以杜絕 通常存在於自來水和井水中的鹽(如,碳酸鈣或碳酸鉀) 。這些鹽會抑制矽烷(a )和以矽爲底之聚醚(b )與金屬 表面之作用。 此處描述之組成物的水(c)含量可由1至99.99重 量%,更特定由2至99.9重量%,且最特定由80至95重 量%,該重量。/。係以該組成物總重爲基礎。 -20- 201038684 其他組份 除了矽烷(a)、以矽爲底之聚醚共聚物(b)和水( c )以外,其他組份可用於本發明之塗覆組成物中,其可 進一步改良轉變或鈍化塗層之黏著性、抑制腐蝕,及增加 儲存安定性。此其他組份包括,但不限於,膠態氧化物、 安定劑 '有機矽化合物和有機界面活性劑。 ❹ 藤態氧化物 可作爲轉變或鈍化塗覆組成物中之組份的膠態氧化物 包括安定的水性膠態矽石(亦稱爲矽石溶膠)或膠態金屬 氧化物。膠態金屬氧化物(亦稱爲金屬氧化物溶膠)包括 非限制例,如,氧化铈、氧化鋅(ZnO )、氧化鍩(Zr02 )、二氧化鈦(Ti〇2)、氧化鋁(ai2o3 )和它們的組合 〇 Q 此矽石溶膠材料包含水性膠態矽石,以具酸性pH者 爲佳。例示砂石溶膠材料可購自 Cabot Corporation及其 他供應商,如,Wacker Chemie、Degussa、Nissan Chemical 和 Nalco Chemical Company。矽石溶膠的一個例 子,Cab-O-Sperse A205,係高純度熔凝矽石在去離子水中 之水性分散液。此溶膠的pH約5-7且固體含量約12%。 其黏度低於lOOcPs且比重約1.07» 例示氧化铈溶膠亦可以商業方式取得。通常,這些包 含氧化鈽粒子於水性膠態懸浮液中。可提及之市售的氧化 -21 - 201038684 铈溶膠的例子包括膠態氧化鈽硝酸鹽和氧化鈽乙酸鹽(此 二者皆可自 Rhodia 取得)及可自 Nyacol Nano Technologies Inc.取得者。較佳的氧化铈乙酸鹽溶膠包括 約20重量%的氧化鈽粒子。例示氧化鈽溶膠包括粒子尺寸 特定低於約1〇〇奈米,更特定低於約5〇奈米且最特定低 於約20奈米者。氧化鈽溶膠的非限制例示pH値特定在約 1至9,更特定爲1至6且最特定爲2至4。膠態金屬氧化 物可包含矽石粒子以外的任何其他膠態金屬氧化物’即’ 奈米尺寸的矽石粒子、氧化鋅粒子(如’奈米尺寸的氧化 鋅粒子)和/或氧化鋁粒子(如,前述奈米尺寸的氧化銘 粒子)。金屬氧化物的水性膠態懸浮液可以進一步包含砂 石,更特定爲矽石溶膠。 此處描述之組成物的膠態氧化物含量由0·001至36 重量%,更特定由0.01至30重量% ’且最特定由0·1至 20重量%,該重量%係以該組成物總重爲基礎。 安定劑 應瞭解此處使用的“安定劑,,係可溶於水中並延遲凝結 物的沉澱或膠凝的物質。安定劑在水中的溶解度使得至少 看不到因爲安定劑和水性組成物之至少兩個不同層之形成 而造成的相分離情況° 安定劑在水中的溶解度可有1重量。/°至完全互溶,且 更特定爲約2至約5 0重量。’該重量%係以安疋劑和水溶 液的總重爲基礎。凝結物的沉S或膠凝之延遲包含相較於 -22- 201038684 在相同時間期間內具有該沉澱或膠凝之不含該安定劑的對 等組成物,自組成物消除任何看得見的沉殺或膠凝達一段 時間。 以用以提高安定性的量使用的此安定劑提供該組成物 一段時間的安定性,此段時間是未添加安定劑的對等組成 物的至少兩倍。進一步更特定的體系中,此安定劑提供該 組成物安定性的期間是未添加安定劑的對等組成物的至少 三倍。最特定的體系中,此安定劑提供該組成物安定性的 期間是未添加安定劑的對等組成物的至少五倍。此安定劑 提供組成物安定性的期間由約1小時至約5年,更特定由 約48小時至約3年,更特定由96小時至約2年,且最特 定由約1週至約18個月。 安定劑的基質可爲前示者,包括,例如,醇、二醇、 三醇、聚醇、二醇醚、酯、酮、吡啶烷酮和聚醚矽烷。 特定安定劑包括:乙醇、1-丙醇、2 -丙醇(異丙醇) 、2-甲基-1-丙醇(異丁醇)、2-甲基-2-丙醇(三級丁醇 )、卜丁醇、2-丁醇、2 -甲基-1-丁醇、2 -甲基-2-丁醇、 2,2 -二甲基-1-丙醇、1-戊醇、2-戊醇、4 -甲基-2-戊醇;二 醇,包括丙二醇、1,3-丁二醇、1,4 -丁二醇、2 -甲基-1,3-丙二醇、2 -甲基-2,4 -戊二醇(己二醇)、二乙二醇、三乙 二醇、四乙二醇、聚(乙二醇)、二丙二醇、三丙二醇、 聚(丙二醇)、1,5-戊二醇、酯二醇2 04、2,2,4-三甲基戊 二醇、2 -乙基-1,3 -己二醇、甘油、甘油乙氧化物、甘油乙 氧化物-共-丙氧化物三醇、甘油丙氧化物、季戊四醇、甘 -23- 201038684 油酸(包括1-甲氧基-2-丙醇(丙二醇甲醚))、1-乙氧 基-2-丙醇、1·丙氧基-2-丙醇' κ 丁氧基_2_丙醇、2 -甲氧 基乙醇、2 -乙氧基乙醇、2 -丙氧基乙醇、2 -丁氧基乙醇、 2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2_(2_乙氧基乙氧基)乙醇 、2- (2 -丙氧基乙氧基)乙醇、2_ (2 -丁氧基乙氧基)乙 醇(丁基卡必醇)、二(丙二醇)丁醒、甲氧基三乙二醇 (三(乙二醇)一甲醚)、乙氧基三乙二醇(三(乙二醇 )一乙醚) 丁氧基三乙二醇(三 乙 一 丁醚、 甲氧基聚乙二醇(聚(乙二醇)甲酸)、聚(乙二醇)丁 醚、聚(乙二醇)二甲醚、聚(乙二醇_共_丙二醇)、聚 (乙二醇-共-丙二醇)一丁醚、聚(丙二醇)一丁醚、二 (丙二醇)二甲醚;酯類(包括乙酸甲酯、乙酸乙酯、乳 酸乙酯、乙酸2_甲氧基乙酯、乙酸2_乙氧基乙酯、乙酸 2-丁氧基乙酯、乙酸2-(2-甲氧基乙氧基)乙酯、乙酸2_ (2-乙氧基乙氧基)乙酯、乙酸2_(2_ 丁氧基乙氧基)乙 酯、二乙酸甘酯、二乙酸三乙二醇酯、丙二醇甲醚乙酸酯 (乙酸1-甲氧基-2-丙醇酯)' 丙二醇乙醚乙酸酯)、和 酮類(包括丙酮、甲基乙基酮、2,4_戊二酮、二丙酮醇) 和通式 R17〇-(CH2CH20-)u(CH2)v_Si_(〇Ri8)3 的聚醚矽烷( 其中R17是氫原子或1至6個碳原子的直鏈、支鏈或環狀 烷基、芳基、芳烷基或醯基);R18是1至6個碳原子的 直鏈、支鏈或環狀烷基;u是1至約20;而v是1至I2, 包括例不聚醚砂院’其以註冊名稱 Silquest* A-1230由
Momentive Performance Materials 銷售。 -24- 201038684 相較於使用低於此量之用於前述安定性期間之相同安 定劑的對等組成物,應瞭解“提高安定性的量”是前述提供 組成物延遲凝聚物沉澱或膠凝之安定劑的量。將瞭解提高 安定性的量將視因素(如,安定劑、矽烷(a )和此處描 述的其他組成物組份)而有大幅變化。 此處描述的組成物所含安定劑的量可以特定由1至5 0 重量%,更特定由2至40重量%且最特定由3至30重量% 0 ,該重量%係以組成物總重爲基礎。 有機矽化合物 轉變或鈍化塗料可包括有機矽化合物以提供額外的石夕 氧烷官能性(Si-0-Si鍵),此官能性增進黏著性並抑制 金屬底質的腐蝕性。此有機矽化合物包括通式(6)的化_ 合物: R20Si(OR19)3 (6) G 其中每個R19獨立地選自1至4個碳原子的烷基;而 r2°是具1至10個碳原子的一價烴基或-OR2Q基。此有機 矽化合物在水存在下水解以提供矽氧烷鍵來源。 有機矽化合物的代表性非限制例包括正矽酸四乙基^ 、正矽酸四-正丙基酯、正矽酸四-異丙基酯、甲基三甲氧 基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基Ξ 甲氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷和它們的混合物。 此處描述的組成物所含的有機矽化合物的量可以特定 由0.01至15重量%,更特定由0.1至10重量。/。且最特定 -25- 201038684 由1至5重量%,該重量%係以組成物總重爲基礎。 有機界面活性劑 使用有機界面活性劑以有助於潤濕和平坦化轉變或鈍 化塗料。此有機界面活性劑包括非離子、陽離子、陰離子 、兩性離子、偶極離子、聚合性界面活性劑、或它們的任 何混合物。此有機界面活性劑基本上係以烴爲底、以矽酮 爲底或以氟化碳爲底者。可以使用具有短鏈疏水性的有機 界面活性劑且其述於美國專利案第5,558,8 06號,茲將該 案全文以引用方式納入本文中。其他有用的有機界面活性 劑包括含有烷氧化物(特別是乙氧化物)的嵌段共聚物, 包括環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷之共聚物及它們的混 合物;烷基芳基烷氧化物,特別是乙氧化物或丙氧化物及 它們的衍生物(包括烷基酚乙氧化物);芳基芳基烷氧化 物,特別是乙氧化物或丙氧化物和它們的衍生物;胺烷氧 化物,特別是胺乙氧化物;脂肪酸烷氧化物;脂肪醇烷氧 化物、烷基磺酸酯;烷基苯和烷基萘磺酸酯;硫酸化的脂 肪醇;胺或酸醯胺;2-羥乙磺酸鈉的酸酯;磺基丁二酸鈉 的酯類;硫酸化或磺酸化的脂肪酸酯;石油磺酸酯;N-醯 基肌胺酸酯;烷基聚糖苷;烷基乙氧化的胺;和它們的混 合物。 有機界面活性劑的代表性非限制包括烷基乙炔二醇( Air Products 以註冊名稱 SURFYNOL銷售)、吡咯烷酮 爲底的界面活性劑(ISP以註冊名稱SURFADONE-LP 1 00 -26- 201038684 銷售)、硫酸2-乙基己酯、異癸醇乙氧化物(Rhodia以 註冊名稱RHODASURF DA 53 0銷售)、氧一十三醇乙氧 化物(Clariant以註冊名稱 GENAPOL X-020銷售)、乙 二胺烷氧化物(BASF以註冊名稱TETRONICS銷售)、環 氧乙烷/環氧丙烷共聚物(BASF以註冊名稱PLURONICS 銷售)、二苯基醚 Gemini-型界面活性劑(Dow Chemical Corporation以註冊名稱DOWFΑΧ銷售)、辛醇乙氧化物 (Henkel Corporation 以註冊名稱 DEHYD〇L®04 銷售)、
U 癸醇乙氧化物 (Rhone-Poulenc 以註冊名稱 EMULPHOGENE® D A - 5 3 0銷售)、三甲基壬醇乙氧化物 (Dow Chemical Corporation 以註冊名稱 TERGITOL® TMN-6 銷售)及院基聚糖苷(Dow Chemical Corporation 以註冊名稱TRITON®CG-100銷售)。 此處描述之組成物的界面活性劑含量可以特定由0.01 至5重量%,更特定由0.05至2重量%且最特定由0.1至 Q 1重量%,該重量%係以組成物總重爲基礎。 其他組份(如,著色劑、染料、緩衝劑、有機溶劑.. 等)亦可摻至本發明之組成物中。 轉變或鈍化塗料之製備 轉變或鈍化塗料係藉由令各組份(例如,通式(1 ) 的矽烷、通式(2)之以矽爲底的聚醚共聚物和其他任意 選用的組份)混在一起而製得。雖然添加順序不重要,典 型程序包含先將矽烷(a)和任意選用的有機矽化合物加 -27- 201038684 至水中並於介於5和8 (TC之間的溫度攪拌 然後添加以矽爲底的聚醚共聚物、任意選 、任意選用的安定劑和任意選用的有機界 序使得矽烷(a )和有機矽化合物溶入水 份接觸之前反應。當矽烷(a)或任意選 物之水溶性欠佳時,則同時將安定劑加至 基本上,使用葉片機械攪拌器。基本上, (如,摻合機),此因高切變會導致塗料 或鈍化塗料之汽提、噴灑或蒸餾可用以移 物(HAP或HAPS)和揮發性有機化合物 將額外的水或其他非揮發性組份加至轉變 補充在汽提、噴灑或蒸餾步驟期間內移除 他非揮發性組份。使用較低沸點組份時, 和揮發性有機化合物之移除可以發生於形 合之後,但發生於添加其他組份之前。 以實質上沒有有害空氣污染物(HAP 發性有機化合物(VOC )之轉變或鈍化塗 氣污染物和揮發性有機化合物對與轉變或 工作者造成健康和安全風險,造成空氣污 通過當地政府機構的製造設施許可。 有害空氣污染物係塗漆中使用的之經 物,如經 Clean Air Act Amendments of 害空氣污染物可爲自矽烷(a )、安定劑 變或鈍化塗料中之其他組份的水解反應] 1至60分鐘, 用的膠態氧化物 面活性劑。此程 中並在與其他組 用的有機矽化合 溶液中較有利。 避免高切變混合 膠凝之故。轉變 除有害空氣污染 (VOC)。可以 或鈍化塗料中以 的任何的水或其 有害空氣污染物 Μ完(a )與水混 或HAPS)和揮 料爲佳。有害空 鈍化塗料接觸的 染,且通常必須 鑑別的任何化合 1 990鑑別者。有 、溶劑或摻入轉 衫成的副產物。 -28- 201038684
Clean Air Act Amendments of 1990鑑別的有害空氣污染物 包括乙醯胺、丙烯醯胺、丙烯酸、丙烯腈、烯丙基氯、苯 胺、苯、1,3-丁二烯、己內醯胺、兒茶酚、異丙苯、1,2- 二氯乙烷、二氯乙醚、二乙醇胺、二甲胺基-偶氮基苯、 二甲基甲醯胺、酞酸二甲酯、表氯醇、丙烯酸乙酯、乙苯 、二溴乙烷、乙亞胺、甲醛、六氯苯、正己烷、氫醌、異 佛爾酮、順-丁烯二酸酐、甲醇、甲基乙基酮、甲基異丁 0 基酮、二氯甲烷、萘、硝基苯'2 -硝基丙烷、五氯酚、酚 、環氧丙烷、苯乙烯、1,1,2,2-四氯乙烷、甲苯、二異氰 酸2,4-甲苯酯、1,1,1-三氯乙烷、三氯乙烯、2,4,6-三氯酚 、乙酸乙烯酯、氯乙烯、二甲苯、間-二甲苯、鄰-二甲苯 、對-二甲苯和它們的組合。 “實質上沒有有害空氣污染物”是指有害空氣污染物的 量低於約1重量%,更特定低於約0 · 2重量%,甚至更低於 約0 · 0 5重量%且最特定低於約〇 · 〇 1重量%,該重量%係以 Q 組成物總重爲基礎。 揮發性有機化合物係任何有機化合物,其在任何大氣 光化學反應中沉澱並包括除了環保署(EPA)指定爲光化 學反應性可忽略的那些化合物以外的所有的揮發性有機化 合物。典型的揮發性有機化合物包括甲醇、乙醇、正丙醇 、2-丙醇、正丁醇、2-丁醇、三級丁醇和它們的組合。 揮發性有機化合物量低係轉變或鈍化塗料中之揮發性 有機化合物的量低於約1 0重量%,特定低於約5重量%, 更特定低於約2重量%且最特定低於約丨重量%,該重量% -29- 201038684 係以組成物總重爲基礎。塗料中之揮發性有機化合物的量 係根據EPA Method 24,自非揮發物%計算,其經豁免溶 劑和水校正。非揮發物含量係根據A S T Μ標準D 2 3 6 9和 D 3 9 6 0測定。基本上’材料樣品置於盤中並置於η 〇艺的 對流烤箱中1小時。之後測定留在盤中的重量。 藉由使用不含或不產生有害空氣污染物或揮發性有機 化合物的組份’經由組份混合時的化學反應,可以製得實 質上沒有有害空氣污染物和揮發性有機化合物的轉變或鈍 化塗層。當所用組份含有有害空氣污染物或揮發性有機化 合物時’可以在組份混合之後,移除這些化合物。有害空 氣污染物或揮發性有機化合物之移除可藉由以惰性氣體( 其非限制例如氮)噴射塗層而達成。噴射可進行約2至約 9 6小時,更特定由約4至約7 2小時,甚至更特定由約6 至約4 8小時,最特定由約8至約2 4小時。H A Ρ之移除可 藉由減低壓力和/或蒸餾而進行。藉蒸餾移除有害空氣污 染物或揮發性有機化合物所用的溫度可由5 t至9 5。(:,更 特定由3〇°C至80°C且最特定由50°C至70°C。可以使用的 減低壓力係由0.1托耳至500托耳,且更特定由15托耳 至300托耳。 以前述方法製得之說明用的例示轉變或鈍化塗覆組成 物實質上沒有鉻且以實質上沒有磷酸鹽爲佳,並包含, (a ) 〇 . 〇 1至8 0重量。/。的矽烷(a ); (b ) 0.001至1〇重量%之以矽爲底之聚醚共聚物(b -30- 201038684 (c ) 1至9 9.9 9重量%的水, (d)任意選用的,0.001至36重量%的膠態氧化物 » (e )任意選用的,1至50重量%的安定劑; (f) 任意選用的,〇.〇1至15重量%的有機矽化合物 :和 (g) 任意選用的,0.01至5重量%的有機界面活性 〇齊" 其中該重量%係以該組成物總重爲基礎。 另一說明用的轉變或鈍化塗覆組成物包含 (a ) 〇 · 1至6 0重量%的矽烷(a ); (b ) 0.01至3重量%之以矽爲底之聚醚共聚物; (c ) 2至9 9.9重量%的水; (d ) 〇 . 〇 1至3 0重量%的膠態氧化物;和 (e ) 2至40重量%的安定劑; 其中該重量%係以該組成物總重爲基礎。 使用本發明之組成物處理金屬表面之方法 無鉻且無磷酸鹽的轉變或鈍化塗覆組成物可以施用於 金屬表面上。此金屬包括,但不限於,冷軋鋼、鋅塗覆的 鋼、鋁、鋅一鋁塗覆的鋼、鍍錫的鋼、不銹鋼、鎂和金屬 合金(包括,但不限於,前列金屬的合金(包括Fe、A1、 Zn、Sn、Mg的合金…等,例如,鋅鋁合金(galvalume, Zn-Al 合金)。 -31 - 201038684 必要的金屬表面可藉由噴霧、浸泡或滾輪施用而與塗 覆組成物接觸。將即述參考組成物施用至待處理的表面上 的其他方法包括,但不限於,刷塗、噴塗、沒入、靜電塗 覆、滾輪塗覆(特定W之,逆轉滾輪(reverse roll)塗覆 )、浸塗、覆墨(flood coating )、洩降塗覆(drawdown coating )或沖洗塗覆。該塗覆組成物經乾燥,且該金屬表 面備用於塗漆或其他塗覆應用。金屬表面之處理揭示於美 國專利申請案 2006/0228470 A1 和 2008/0268 1 46 A1,茲 將該案全文以引用方式納入本文中。 本發明之轉變或鈍化處理可以施用至待處理的表面, 使得轉變塗層的重量高於約0.1毫克/平方英呎(1毫克 /平方米)處理表面,更特定言之,重量約0.5至500毫 克/平方英呎(5至5400毫克/平方米)處理表面,且更 特定言之,重量約1至300毫克/平方英呎(10至3200 毫克/平方米)處理表面。 用於商業應用時,可藉由以水進一步稀釋轉變或鈍化 塗覆組成物而製得工作溶液。此工作溶液包含0.1至1 0 0 重量%,特定由0.5至70重量%,且更特定爲1至50重量 %的轉變或鈍化塗覆組成物,該重量%係以工作溶液總重 爲基礎。工作溶液可用以與所欲的金屬表面接觸。 此處所描述之組成物和/或方法可用以提供用於金屬 (如鋼和鋁)之轉變或鈍化塗層,以改良對於金屬上的其 他塗層(非限制例如塗漆)之黏著性及亦提供該金屬改良 的腐蝕保護。經此處之組成物和/或方法處理的金屬可用 -32- 201038684 以製造物件,包括經塗覆的金屬片(如建築使用的金屬片 ·.·等)之商業和工業應用。例如,預期此組成物提供金屬 (包括’但不限於,冷軋鋼、熱浸鍍鋅的鋼、不銹鋼和鋁 ’其用於白色物件、大型器具、辦公傢倶、裝飾性百葉窗 、建築的排水溝和裝飾、汽車和機械的零件、及小的器具 )極佳的耐蝕性。 Ο 現將與下列實例描述本發明,實例被視爲本發明的某 些體系之例示但不應以其限制本發明。 實例1 以砂爲底之聚酸共聚物 (CH3)3Si(CH2)2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH2〇)7.5CH3 之 製備 〇 200毫升圓底瓶配備磁攪拌子、具N2入口的迴餾冷凝 管、熱偶、加料漏斗和加熱包。乙烯基三甲基矽烷(25.7 克’ 0.257莫耳)和Karstedt觸媒(10 ppm)引至瓶中, 並在N2下到達30。(:。二氯甲基矽烷(24.3克,0.257莫 耳)引至加料漏斗’並逐滴加至圓底瓶。注意到立即放熱 ’且持續添加1小時。添加之後,反應維持於4 〇 I 1小時 ’然後藉GC分析。發現轉化成五甲基氯二羰基二矽烷的 轉化率高於98%。產物取至甲苯(1〇〇克)中,引至5〇〇 毫升圓底瓶中,此溶液冷卻至〇I。 -33- 201038684 二氫-雙-(2-甲氧基乙氧基)鋁酸鈉的溶液(Vitride ,7〇%於甲苯中;39.3克溶液,0.135莫耳)引至加料漏 斗並以使得反應溫度維持< 5 t的速率逐滴加至溶液中(共 添加約2小時)。完全添加之後,反應物溫熱至室溫,並 再攪拌2小時。取得反應樣品,中和並以g C分析;發現 轉化爲五甲基一羰基砂院還原反應產物的定量轉化率降低 。以0.5N HC1緩慢地中和此反應混合物,以水(3x100毫 升)萃取並在MgS04上乾燥,過濾並以在甲苯中的22 %溶 液(1 1 〇克)裝瓶。 2 00毫升圓底瓶配備磁攪拌子、具比入口的迴餾冷凝 管 '熱偶、加料漏斗和加熱包。乙烯基起始之甲基封端的 聚環氧乙烷(CH2 = CHCH20(CH2CH20)7.5CH3 ; 33_7 克; 0.0810莫耳)、氯鉑酸(1〇 ρρπι)和丙酸鈉(50毫克) 引至圓底瓶中’攪拌並達8CTC。矽烷在甲苯中之溶液( 45.5克22%溶液;1〇.〇克,〇.〇623莫耳)引至加料漏斗並 逐滴加至瓶中。注意到輕微放熱,再持續添加45分鐘。 添加完全之後’溶液維持於8 5 丨小時。測試反應樣品的 Si-H含量,發現有〇 cc h2 /克留下。此混合物經滌氣( 約10毫米汞柱’ 100°c ) I .5小時以移除甲苯,使其冷卻 至<40°C,以Celite (矽藻土)和碳酸氫鈉處理,攪拌, 加壓過濾’並裝瓶。產物爲42· 1克的透明淡黃色流體。 實例2 以矽爲底之聚醚共聚物 -34- 201038684 (CH3)3Si(CH2)2Si(CH3)2〇Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)9 .4CH3之製備 25〇毫升圓底瓶中引入四甲基二矽氧烷(51.6克,0.4 莫耳)和 Wilkinson 觸媒((pph3)3RhCl,100 ppm),在 氮下攪拌並使其到達60 °C。三甲基乙烯基矽烷(25.6克 ’ 0.25莫耳)引至加料漏斗,以約1克/分鐘的速率逐滴 添加以於冷卻時使得反應溫度維持低於7 0 °C。此反應維持 於65°C 1小時,取樣用於氣相層析(GC ):發現殘留的 四甲基二矽氧烷和94:6 M’MR : MRMR。得到的材料在真空 (約30毫米汞柱)下分餾,得到51.6克的((2-三甲基 矽基)乙基)四甲基二矽氧烷產物,99.1% GC純度。藉 氣壓滴定法,發現此產物的Si-H含量爲96 cc H2 /克。 25 0毫升圓底瓶配備磁攪拌子、具n2入口的迴餾冷凝 管、熱偶、加料漏斗和加熱包。兩種乙烯基起始的聚環氧 乙烷聚合物,CH2 = CHCH2(OCH2CH2)75-OH(MW = 389 克 /莫耳,由 OH含量得知,34·4克,0.0884莫耳)和 CH2 = CHCH2(OCH2CH2)".2-〇H ( 561 克 / 莫耳,由 OH 含 量得知;49.6克,0.0884莫耳)、異丙醇(15克)、丙 酸鈉(〇.1〇克)和氯鉑酸溶液(0.0213克)在N2下引至 瓶中,攪拌,並使其到達60°C。( ( 2-三甲基矽基)乙基 四甲基二矽氧烷(234.5克/莫耳;32.0克,0.136莫耳) 引至加料漏斗並逐滴添加。注意到立即放熱;並以冰浴將 添加期間內的反應溫度控制<95 t。完全添加之後,反應 維持於90 °C 1小時。測試反應樣品的Si-H含量,發現有5 -35- 201038684 cc H2 /克留下。另添加氯鉑酸觸媒(5 ppm),反應樣品 維持於9 0 °C 1 . 5小時。反應取樣,由S i - Η含量發現反應完 全。此混合物經滌氣(約10毫米汞柱,70 °C ) 1 ·5小時以 移除異丙醇,使其冷卻至<40 °C,以C elite (矽藻土)和 碳酸氫鈉處理,攪拌’加壓過濾’並裝瓶。產物爲100克 的透明淡黃色流體。 實例3 - 9,比較例1 - 8 轉變塗層在不同金屬表面上的均勻度 使用兩種不同的施用方法,以熱浸鍍鋅的鋼(HDG ) 、不銹鋼(SS )和冷軋鋼(CRS )定出以矽爲底之聚醚共 聚物(b )和有機界面活性劑對於轉變塗層或鈍化塗層的 效能之影響。表1所示的調合物係藉由混合矽烷(a )、 以矽爲底之聚醚共聚物(b )、有機界面活性劑、膠態氧 化铈和水而製得。在1 〇〇毫升的玻璃瓶中添加蒸餾水、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、膠態氧化鈽和有機界面活性劑且 此溶液於常溫攪拌3 0分鐘。 在比較例中,Triton X-100係以下所示的辛基酚乙氧 化物界面活性劑,其中P是5至1 5且其可得自 Dow Chemical Corporation。Tergitol NP-12 係以下所示的壬基 酚乙氧化物界面活性劑,其中p是5至15且其可得自 Dow Chemical Corporation。Surfynol 485 係乙氧化的 2,4,7,9-四甲基-5-癸-4,7-二醇,其可得自 Air Products。 Silwet* L-8610係以下所示的直鏈矽酮聚醚共聚物,其中 -36- 201038684 y是 5至 30而 z是 5至 15且其可得自 Momentive Performance Materials 〇
、〇· Ο 、cr
TergitolNP-12 CH3 CH3 OCH2CH2· -OCH2CH2CH2——Si——O——Si CH. ch3 ?h3 Ό-Si—CH2CH2CH2O* ch3 -ch2ch2o--h J z
Silwet* L-8610 -37- 201038684 I嗽 XRF回應⑸聊) | 6710.6 I 4370.8 | 3491.3 I 3365.7 | 5130.7 I 4012.7 | ! 10523.5 I ! 17657.0 | 中央 1 6496.2 I 4165.6 | 3429.3 | 3449.3 | 5442.7 | 4273.2 | 4110.8 | 17381.5 | 4512.0 | 5770.0 | , 4411.0 | 5551.0 | 4558.0 | j 5603.0 ] 4438.0 | 4367.0 | 4666.0 | 5002.0 1 [ 113.68 1 106.42 I 60.21 | 52.46 | 3.56 | 5.92 1 1 129.09 I 136.87 ! | 62.59 | 59.23 I 17.58 I 15.06 6320.1 [ 4465.3 | 3579.6 | 3717.1 | 4841.3 | 3859.2 | 6526.5 | | 19679.1 | 位置 頂部 1 底部 | 頂部 | 底部 | 頂部 | 底部 | ί 頂部 | l 底部 I 頂部 | i 底部 I I 頂部 I I 底部 | I 頂部 I I 底部 I I 頂部 I 1 底部 | 1 頂部 1 丨底部 1 厂頂部 Ί I 底部 I I 頂部 I 丨底部 | I 頂部 ! 1 底部 I 頂部 I 底部 | 頂部 1 底部 I 頂部 I 底部 界面活性劑濃度 e C » 3 0.10% 0.10% d c c c ► a > 0.10% s c c » 3 J « c s 3 5 c c s P 0.10% 0.10% 0.10% 0.10% 0.10% _I c c 0.10% 界面活性劑 Triton X-100 實例1 摻合物, m Tergitol NP-12 I Surfynot 485 L-8610 實例1 摻合物1 Triton X-100 實例1 氧化铈 1.30% 1.30% 1 卜 0 c 0.33% I 0.17% ! 0.67% _I d P Γ c S > > 3 0.17% 矽烷濃度 gs 4% 2.0% 1.0% -1 0.5% ! 2.0% c 1 0.5% 金屬 HDG (f) Vi ! CRS 方法 洩降 浸泡 洩降擠壓 實例 比較例1 t 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 ιΑ <0 比較例6 比較例7 比較例8 r eo O) 。蓉<π邀^(呍鰣越K1嫲酹@^)蓉^嫲2鮏111+-潁碱%«_05 -38- 201038684 熱浸鍍鋅(HDG)的鋼片(4英吋χ8英吋 ,ACT Test Panels’ LLC)藉由浸在標準鹼性 分鐘而清潔。然後自浸液移出鋼片並以蒸餾水 片以沒有棉絨的毛巾擦拭乾淨,再度以蒸餾水 後以氮氣乾燥。此鋼片於清潔之後,呈現無 water-break-free)的狀態。每個鋼片各自以矽 物使用#3洩降棍和自動膜施用器以50毫米/ ^ 。此鋼片平放並使其乾燥1 0分鐘。然後,砂 上在設定於150°C的空氣循環爐中固化2分鐘 溫之後’此鋼片切成3片。一片爲4英吋X2英 片爲4英吋X 3英吋。棄置4英吋X 2英吋的咅[5 英吋X3英吋者藉X-射線螢光光譜術於各三個β 不銹鋼片(SS-36,3英吋χ6英吋χθ.037 | Corporation )以收到時的狀態使用。此片各自 覆組成物的浸液中2分鐘。各個片使用熱空氣 Q 烷層在鋼片上在設定於150 °C的空氣循環爐中丨 。冷卻至室溫之後’每片鋼片藉X-射線螢光 兩個位置分析。
CRS片(4英吋x8英吋χθ.032英吋,ACT ,LLC )藉由浸在標準鹼性清潔液中2分鐘而 自浸液移出鋼片並以蒸餾水沖洗。此鋼片以沒 巾擦拭乾淨,再度以蒸餾水沖洗,且然後以氮 鋼片於清潔之後’進行“無水膜殘跡”試驗。?! 水膜殘跡”試驗(ASTM F22-02 ( 2007 ))的鋼 X 0.0 3 2英吋 清潔液中2 沖洗。此鋼 沖洗,且然 水膜殘跡( 烷塗覆組成 秒速率處理 烷層在鋼片 。冷卻至室 吋。其他兩 分且兩個4 i置分析。 I 吋,Q-Lab 浸在矽烷塗 槍乾燥且矽 3化2分鐘 光譜術於各 Test Panels 清潔。然後 有棉絨的毛 氣乾燥。此 <能通過“無 片以前述方 -39- 201038684 式清潔兩次。每一鋼片各自以矽烷塗覆組成物使用#3洩降 棍和自動膜施用器以5 0毫米/秒速率及之後以具有刮漿 板的擦拭物處理。此鋼片平放並使其乾燥1分鐘。然後, 矽烷層在鋼片上在設定於150°C的空氣循環爐中固化2分 鐘。冷卻至室溫之後,此鋼片切成3片(一片爲4英吋x2 英吋,兩片爲4英吋x3英吋)。棄置4英吋x2英吋的部 分且兩個4英吋X3英吋者藉X-射線螢光光譜術分析。 X-射線螢光光譜術係一種專用於表面上或基質內之矽 之偵測的定量法。每秒鐘的砍計數(Silicon Counts per Second )正比於存在於底質表面上的矽總量。其結果示於 表1。所有的三個底質(HDG、SS、CRS ),含括以矽爲 底之聚醚共聚物,提供矽烷塗覆組成物在片表面上之極佳 均勻性。此外,相較於測試之其他的有機界面活性劑,含 括以矽爲底之聚醚共聚物改良了矽烷塗層在難以潤濕的表 面(如HDG和SS )上的均勻度。 實例10-17,比較例9-17 各種轉變塗層之腐蝕評估 藉由使用下列混合程序製備轉變塗層:在1〇〇毫升的 玻璃瓶中’添加蒸餾水、γ -脲基丙基三甲氧基矽烷、膠態 氧化鈽(1 .3克2 0重量%的水性溶液)且如所示者,以矽 爲底之聚醚共聚物和有機界面活性劑。此溶液於常溫攪拌 3 0分鐘。矽烷、以矽烷爲底之聚醚共聚物和有機界面活性 劑的量示於表2。 -40- 201038684
OD s NSST時間 500小時 300小時 I蠕變(毫米)I 1.75 2.10 1.10 1.10 1.30 1.85 1.55 1.00 2.00 1.50 2.75 2.65 1,40 1.25 1.20 1.30 1.50 施用方法 噴霧 洩降 mm 噴霧 洩降 噴霧 洩降 界面活性劑 0.1% Triton X-100 0_1%實例1 (^抶摻合物1 0.1% Triton X-100 0_1%賁例1 0.1%摻合物1 0.1 % Triton X-100 0.1%實例1 0-1%摻合物1 氧化鈽濃度 0.67% 1.33% 2.00% 1.33% 0.67% 1.33% 2.00% 1.33% 0.33% 0.67% 1.33% [ 0.67% ! 矽烷含置 § i $ § 塗漆 PPG (1PMY5650/5MA8113) PPG (Polycron III) 金屬 HDG CRS I實例I 比較例9 比較例10 比較例11 〇 T— 'r- 比較例12 比較例13 比較例14 CM r~ η r· 比較例15 比較例16 比較例17 m τ- (0 τ— 卜 。蓉如邀^(问酶遯\)贓醛@^)鬆孕嫲叼鮏|11+-猓嫲%__沄惡
aMisbsng3i^lgs^li;.g^®w>I«N -41 - 201038684 熱浸鍍鋅(HDG)的鋼片(4英吋χ8英吋Χ0·032英吋 ,ACT Test Panels,LLC)藉由浸在60 °C的標準鹼性清潔 液中2分鐘而清潔。然後自浸液移出鋼片並以蒸餾水沖洗 。此鋼片以沒有棉絨的毛巾擦拭乾淨,再度以蒸餾水沖洗 ,且然後以氮氣乾燥。此鋼片於清潔之後,進行“無水膜 殘跡”試驗。未能通過“無水膜殘跡”試驗(AS TM F2 2-02 ( 2〇〇7))的鋼片以前述方式清潔兩次。 CRS 片(4 英吋 x8 英吋 χθ.0 32 英吋,ACT Test Panels ,:LLC )藉由浸在60t的標準鹼性清潔液中2分鐘而清潔 。然後自浸液移出鋼片並以蒸餾水沖洗。此鋼片以沒有棉 絨的毛巾擦拭乾淨,再度以蒸餾水沖洗,且然後以氮氣乾 燥。此鋼片於清潔之後,進行“無水膜殘跡”試驗。未能通 過“無水膜殘跡”試驗(ASTM F22-02 ( 2007 ))的鋼片以 前述方式清潔兩次。 矽烷塗覆組成物以兩種方法之一施用:噴霧或洩降。 使經噴霧的鋼片懸掛乾燥,而經浅降處理者平放。然後’ 矽烷層在設定於150 °C的空氣循環爐中固化2分鐘。 HDG片以聚胺甲酸酯底漆(1PMY5650)和 Duranar Light Sea Wolfe面塗(5MA81 13 )塗覆,此二者皆可得自 PPG Industries。這兩個塗料皆依製造商的建議施用和固 化。 CRS 片以得自 PPG Industries 的 White Polycron III (AG452W3 223 )塗覆。此漆依製造商的說明書施用和固 化。 -42- 201038684 上漆之後’ HDG片根據ASTM B-117進行爲時500小 時的中性鹽噴霧試驗(Neutral Salt Spray Testing,NSST )並根據ASTM D 1 654將蠕變額定(表2 )。在相同條件 下測試CRS片達3〇〇小時。以毫米爲單位,蠕變値定義爲 標記線至塗層邊緣之間的距離。標記線附近的腐蝕和漆黏 著損失越大’則蠕變値越大。因此,蠕變値降低視爲腐蝕 保護獲改良。 0 其結果示於表2。以矽爲底之聚醚共聚物用於矽烷塗 覆組成物,使得耐蝕性明顯改良。就此二種底質(H D G和 CRS )而言’相對於使用有機界面活性劑之矽烷塗覆組成 物’蠕變値降低至多5 0 %。 已經以其特定體系詳細描述本發明,應已瞭解本發明 不限於此所揭示的體系。而是,本發明可經修飾以摻入任 何數目之前文未描述但與本發明之精神和範圍相稱的改變 、變化、替代或對等安排。據此,本發明不受限於前文之 Q 描述。 -43-
Claims (1)
- 201038684 七、申請專利範圍: 1· 一種塗覆組成物,包含 (a ) 至少一種通式(1 )的矽烷 [[(R1〇)3-a-b(-〇-)〇.5aR2bSi-R3-]mY]n 0) 其中 每個R1獨立地爲氫原子或各者具1至16個碳原子的 醯基、一價烴基或經烷氧基取代的烷基; 每個R2獨立地爲烷基、經烷氧基取代的烷基、芳基 、或芳烷基,其中各者具1至16個碳原子; 每個R3獨立地爲共價化學鍵或1至12個碳原子之直 鏈、支鏈或環狀的二價有機基團; 每個Y獨立地爲m價的一-、二-或多價有機官能基; 每個下標a、b、m和η獨立地爲整數,其中a是0至 3;b是0至2;m是1至4;而η是1至50; (b ) 至少一種通式(2)之以矽爲底的聚醚共聚 物; (R4)(R5)(R6)SiR7Si(R8)(R9)[OSi(R10)(R11)]xR12(C2H4〇)d(C3H6〇)e(C4H8〇)fR13 (2) 其中 每個R4、R5、R6、R8、R9、R1。和Rl1獨立地爲1至 10個碳原子的一價烴基; 每個R7獨立地爲1至3個碳原子的二價伸煙基; 每個R 12獨立地爲具下列結構的二價有機基團: -CH2-CH(R14)(R15)gO- 其中每個R14獨立地爲氫原子或甲基;每個Rl5獨立 -44- 201038684 地爲1至6個碳原子的二價伸烷基;而下標g是〇或1; 每個rU獨立地選自氫原子、1至6個碳原子的一價 烴基和1至ό個碳原子的醯基;而 每個下標d、e、f和X是整數,其中d是2至20,e 是0至18’f是〇至18而X是〇或1,但2Sd + e + fS20 ; 和 (c ) 水。 2. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中Y是 〇 —價有機官能基,其選自胺基(-NR162)、二胺基( -N(R16)R3NR162)、锍基(-SH)、醯氧基(ch2 = chco2-)、甲 基醯氧基(ch2 = c(ch3)co2-)、乙醯氧基(CH3C02-)、環氧 丙基(-o-ch2-c2h3o)、環氧環己基(-C6H90);環氧基( -CR16(-0-)CR162)、羥基(H0-)、二硫碳酸基(-SC( = 0)SR16) 、三硫碳酸基(-SC( = S)SR16)、胺甲酸酯基( -NR16(C = 0)0R16)、硫酯(-S(C = 0)R16)、硫胺甲酸基( Q -nr16(c = 0)sr16)、二硫胺甲酸基(-NR16(C = S)SR16)、胺甲 酸酯基(-〇(C = 0)NR16R16)、一 價脲基(-NR16(0 = 0)1^1 62)、 矽基(-8丨(112)13(0111)3_3-1)(-〇-)().53)和異氰尿酸基(( -N)(NR16)(NR16)C303),其中每個R16獨立地選自氫和1 至6個碳原子的直鏈、支鏈和環狀的烷基、烯基或芳基。 3. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中Y是 二價有機官能基’其選自硫基(-S-)、二硫基(-SS-)、三硫 基(-SSS-)、四硫基(-SSSS-)、胺甲酸酯基(㈠2N(C = 0)0r16 或-r16n(c = o)o-)、脲基((-)2n(c = o)nr162 或(-)nr16(c = o) -45- 201038684 N(-)R16)和異氰尿酸基((-N)2(NRI6)C303),其中每個R16獨 立地選自氫和1至6個碳原子的直鏈 '支鏈和1環狀的烷基 、烯基或芳基。 4. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中Y是 三價有機官能基’其選自胺甲酸酯基((-)2N(C = 0)〇(-))、 脲基((-)NR16(C = 〇)N(-)2)和異氰尿酸酯基((-N)3C303),其 中每個R16獨立地選自氫和1至6個碳原子的直鏈、支鏈 和環狀的烷基、烯基或芳基。 5. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中Y是 四價有機官能基脲基((-)2(C = 〇)N(-)2) ° 6. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中矽烷 (a)選自乙烯基甲基二乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽 烷、乙烯基二甲基乙氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙 烯基三丙氧基矽烷、乙烯基-參(2_甲氧基乙氧基矽烷)、 苯乙烯基乙基三甲氧基矽烷、 γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、(丙烯醯氧基丙基 )甲基二甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧 基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二 乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基-參-(2-甲氧基乙氧 基)矽烷、β-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、 β- ( 3,4-環氧基環己基)乙基三乙氧基矽烷、γ-環氧丙基 丙基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙基丙基三乙氧基矽烷、γ-環 氧丙基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-環氧丙基丙基甲基二甲 -46- 201038684 氧基矽烷、γ-巯基丙基三甲氧基矽烷、γ-锍基丙基三乙氧 基矽烷、γ-硫辛醯基丙基三甲氧基矽烷、γ-锍辛醯基丙基 三乙氧基矽烷、 雙-(三甲氧基矽基丙基)四硫烷、雙-(三乙氧基矽 基丙基)二硫烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基 三乙氧基矽烷、γ-脲基丙基二甲氧基乙氧基矽烷、γ-脲基 丙基甲氧基二乙氧基矽烷、 γ-脲基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-脲基丙基甲基二乙 Ο 氧基矽烷、γ-脲基丙基甲基甲氧基乙氧基矽烷、γ-胺甲酸 乙酯基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺甲酸乙酯基丙基三乙氧基 矽烷、 Ν,Ν’-雙-(3-三乙氧基矽基丙基)脲、Ν,Ν’-雙-(3-三甲氧基矽基丙基)脲、Ν,Ν’-雙-(3-二乙氧基甲基矽基 丙基)脲、Ν,Ν’-雙- (3-二異丙氧基甲基矽基丙基)脲、 Ν,Ν-雙-(3-三乙氧基矽基丙基)脲、Ν,Ν-雙-(3-三甲氧 Q 基矽基丙基)脲、Ν,Ν-雙- (3-二乙氧基甲基矽基丙基) 脲、Ν,Ν-雙- (3-二異丙氧基甲基矽基丙基)脲、 Ν,Ν,Ν’-參-(3-三乙氧基矽基丙基)脲、Ν,Ν,Ν’-參-(3-三甲氧基矽基丙基)脲、Ν,Ν,Ν’-參-(3-二乙氧基甲 基矽基丙基)脲、Ν,Ν,Ν’-參- (3-二異丙氧基矽基丙基) 脲、Ν,Ν,Ν’,Ν’-肆- (3-三乙氧基矽基丙基)脲、 Ν,Ν,Ν’,Ν’-肆-(3-三甲氧基矽基丙基)脲、Ν,Ν,Ν’,Ν’-肆-(3-二乙氧基甲基矽基丙基)脲、Ν,Ν,Ν’,Ν’-肆- (3-二異 丙氧基甲基矽基丙基)脲、Ν,Ν’,Ν”-參_(3·三甲氧基矽基 -47- 201038684 丙基)異氰尿酸酯和它們的部分或完全水解物。 7. 如申請專利範圍第6項之塗覆組成物,其中矽烷 (a )選自未經水解、部分水解和水解的γ-脲基丙基三甲 氧基矽烷和γ-脲基丙基三乙氧基矽烷。 8. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中該含 以矽爲底之聚醚共聚物(b)選自 (CH3)3SiCH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH20)2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)2〇CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH(CH3)CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)7(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)5(CH2CH(CH3)0)2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇<CH2CH2〇)i5(CH2CH(CH3)0)5H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3>2CH2CH2CH20(CH2CH2〇)2(CH2CH(CH3)〇)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH2CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10(CH2CH(CH2CH3)O)5CH3, (CH3>3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10(CH2CH(CH2CH3)O)10C(=O)CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)i(CH2CH(CH2CH3)〇)H (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)5(CH2CH(CH2CH3>0)H (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3>2CH2CH2〇(CH2CH20)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)1CH3, -48- 201038684 (CH3)3SiCH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3>2)CH2CH20(CH2CH20)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)20CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH(CH3)CH2〇(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3l (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iH, (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)〇)iCH3,(CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH20· (CH2CH2〇)7(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3〉2)CH2CH2CH20(CH2CH2〇)5(CH2CH(CH3)0)2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)15(CH2CH(CH3)0)5H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)2(CH2CH(CH3)0)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH2〇)8(CH2CH(CH3)0)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH2CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2a(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10- (CH2CH(CH2CH3)0)5CH3, (CH3)3SiCH2CH2a(CH3)2(〇a(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)10- (CH2CH(CH2CH3)O)10C(=O)CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4(CH2CH(CH3>C〇r (CH2CH(CH2CH3)0)H,(CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)8- (CH2CH(CH3)0)s(CH2CH(CH2CH3)0)H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH20(CH2CH2〇)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)1CH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)〇)iCH3l (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)C H2CH2CH2〇(CH2CH20)4-(CH2CH(CH3)0)iCH3 ,及它們的混合物。 -49 - 201038684 9.如申請專利範圍第7項之塗覆組成物,其中該含 以矽爲底之聚醚共聚物(b)選自 (CH3)3SiCH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2O(CH2CH2O)20CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH(CH3)CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Sr(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3l (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)1CH3, (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)1CH3, (CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)7(CH2CH(CH3)0)1CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20>5(CH2CH(CH3)C〇2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)1s(CH2CH(CH3)0)5H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)2(CH2CH(CH3)0)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3K))3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH2CH3)0)1CH3) (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10(CH2CH(CH2CH3>O)5CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10(CH2CH(CH2CH3>O)10C(=O)CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)i(CH2CH(CH2CH3)0)H(CH 3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)5(CH2CH(CH2CH3)0)H (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH20(CH2CH2C〇2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3>2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)20CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH(CH3)CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH20)4(CH2CH(CH3)〇)iH, -50- 201038684 (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3〉2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2〇- (CH2CH2〇)7(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)5(CH2CH(CH3)0)2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH20)15(CH2CH(CH3)0}5H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH20)2(CH2CH(CH3)0)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)4-〇 (CH2CH(CH2CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10- (CH2CH(CH2CH3)0)5CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10· (CH2CH(CH2CH3)O)10C(=O>CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)r (CH2CH(CH2CH3)0)H,(CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)r (ch2ch(ch3)o)5(ch2ch(ch2ch3)o)h, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH20)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, Q (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4-(CH2CH(CH3)0)iCH3( (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4- (CH2CH(CH3)0)iCH3 ,及它們的混合物。 1 〇.如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其進一步 包含膠態氧化物,該膠態氧化物選自氧化矽(Si〇2 ) 、_ 化姉、氧化鈽硝酸鹽、氧化铈乙酸鹽、氧化鋅(ZnO )、 二氧化锆(Zr02 )、二氧化鈦(Ti02 )、氧化鋁(AhCh )和它們的組合。 -51 - 201038684 11. 如申請專利範圍第9項之塗覆組成物,其進一步 包含膠態氧化物,該膠態氧化物選自氧化矽(Si〇2 )、氧 化铈、氧化铈硝酸鹽、氧化铈乙酸鹽、氧化鋅(Zno )、 二氧化鉻(Zr02 )、二氧化鈦(Ti02 )、氧化鋁(Al2〇3 )和它們的組合。 12. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其進一步 包含安定劑,該安定劑選自乙醇、1-丙醇、2-丙醇(異丙 醇)、2-甲基-1-丙醇(異丁醇)、2-甲基-2-丙醇(三級 丁醇)、1-丁醇' 2-丁醇、2-甲基-1-丁醇、2-甲基-2-丁醇 、2,2-二甲基-1-丙醇、卜戊醇、2-戊醇、4-甲基-2-戊醇; 二醇,包括丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、2-甲基-2,4-戊二醇(己二醇)、 二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚(乙二醇)、二 丙二醇、三丙二醇、聚(丙二醇)、1,5-戊二醇、酯二醇 204、2,2,4 -三甲基戊二醇、2 -乙基-1,3 -己二醇、甘油、甘 油乙氧化物、甘油乙氧化物-共-丙氧化物三醇、甘油丙氧 化物、季戊四醇、甘油醚(包括1-甲氧基-2-丙醇(丙二 醇甲醚))、 1-乙氧基-2-丙醇、1-丙氧基-2-丙醇、1-丁氧基-2-丙 醇、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丙氧基乙醇、2-丁 氧基乙醇、2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙 氧基)乙醇、2- ( 2-丙氧基乙氧基)乙醇、2- ( 2-丁氧基 乙氧基)乙醇(丁基卡必醇)、 二(丙二醇)丁醚、甲氧基三乙二醇(三(乙二醇) -52- 201038684 一甲醚)、乙氧基三乙二醇(三(乙二醇)一乙醚)、丁 氧基三乙二醇(三(乙二醇))—丁醚、甲氧基聚乙二醇 (聚(乙二醇)甲醚)、 聚(乙二醇)丁醚、聚(乙二醇)二甲醚、聚(乙二 醇-共-丙二醇)、聚(乙二醇-共-丙二醇)一丁醚、聚( 丙二醇)一丁醚、二(丙二醇)二甲醚;酯類(包括乙酸 甲酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸2_甲氧基乙酯、乙酸2-^ 乙氧基乙酯、乙酸2-丁氧基乙酯 '乙酸2-(2-甲氧基乙氧 基)乙酯 '乙酸2-(2-乙氧基乙氧基)乙酯、乙酸2-(2-丁氧基乙氧基)乙酯、二乙酸甘酯、二乙酸三乙二醇酯、 丙二醇甲醚乙酸酯(乙酸1-甲氧基_2_丙醇酯)、丙二醇 乙醚乙酸酯)、和酮類(包括丙酮、甲基乙基酮、2,4-戊 二酮、二丙酮醇)和通式 R17〇(CH2CH20-)u(CH2)v-Si-(〇R18)3的聚醚矽烷(其中R17是氫原子或1至6個碳原子 的直鏈、支鏈或環狀烷基、芳基、芳烷基或醯基);R18 〇 是1至6個碳原子的直鏈、支鏈或環狀烷基;U是1至約 20 ;而v是1至12。 1 3 ·如申請專利範圍第2項之塗覆組成物,其進一步 包含至少一種添加劑,該添加劑選自膠態氧化物、安定劑 '有機砂化合物、有機界面活性劑、緩衝劑、著色劑、染 料和有機溶劑。 1 4.如申請專利範圍第1 3項之塗覆組成物,其中該 有機界面活性劑選自烷基乙炔基二醇、以吡咯啉酮爲底的 界面活性劑、硫酸2-乙基己酯、異癸醇乙氧化物、氧-十 -53- 201038684 三醇乙氧化物、乙二醇烷氧化物、環氧乙烷/環氧丙烷共 聚物和一苯基酸G e m i n i型界面活性劑。 1 5 _如申請專利範圍第1 4項之塗覆組成物,其中該 有機界面活性劑的存在量以該塗覆組成物總重計爲0.0 1 至5重量%。 1 6 ·如申請專利範圍第1 5項之塗覆組成物,其中該 有機界面活性劑的存在量以該塗覆組成物總重計爲0 . 〇 5 至約2重量%。 17. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中該塗 覆組成物實質上沒有磷酸鹽且實質上沒有鉻。 18. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中該塗 覆組成物的揮發性有機化合物劑含量低於2重量%,該重 量%係以該組成物總重爲基礎。 19. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中該塗 覆組成物的危害空氣污染物含量低於1重量%,該重量% 係以該組成物總重爲基礎。 20. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中該糸且 成物包含 (a) 0.0 1至80重量%的矽烷(a); (b) 0.001至10重量%之以矽爲底之聚醚共聚物(b );和 (c ) 1至9 9 · 9 9重量%的水, 該重量%係以該組成物總重爲基礎。 2 1 .如申請專利範圍第20項之塗覆組成物,其中該 -54- 201038684 塗覆組成物包含 (a) 1至40重量%的矽烷(a); (b) 0.1至0.5重量%之以矽爲底之聚醚共聚物(b) :和 (c ) 1至9 9 · 9 9重量%的水, 該重量%係以該組成物總重爲基礎。 22. 如申請專利範圍第1項之塗覆組成物,其中該塗 覆組成物包含 (a) 0.1至60重量%的矽烷(a); (b) 0.01至3重量%之以矽爲底之聚醚共聚物(b) I (C ) 2至9 9 9重量%的水; (d ) 0 · 0 1至3 0重量%的膠態氧化物;和 (e ) 2至40重量%的安定劑; 其中該重量%係以該組成物總重爲基礎。 23. —種處理金屬表面以在其上形成塗層之方法,$ 含使金屬表面與包含下列者之塗覆組成物接觸: (a) 至少一種通式(1)的矽烷 [[(R1〇)3*a-b(-〇-)o.5aR2bS 卜 R3-]mY]n 其中 每個R1獨立地爲氫原子或各者具1至16個碳原子的 基 芳 、 基 烷 的 戈 ; 基基^ 院氧W 的二 代經 1 取、至 基基 1 氧烷具 烷爲者 經地各 或立中 基獨其 烴 2 , 價R基 1 個烷 、 每芳 基 或 醯 、 -55- 201038684 每個R3獨立地爲共價化學鍵或1至12個碳原子之直 鏈、支鏈或環狀的二價有機基團; 每個Y獨立地爲m價的一-、二-或多價有機官能基; 每個下標a、b、m和η獨立地爲整數,其中a是〇至 3;1)是0至2;111是1至4;而11是1至50; (b ) 至少一種通式(2 )之以矽爲底的聚醚共聚 物; (R4)(R5)(R6)SiR7Si(R8)(Rs)[〇Si(R10)(R11)]xR12(C2H4O)d(C3H6O)e(C4H8O)fR13 (2) 其中 每個R4 、 R5 、 R6 、 R8 、 R9 、 R1。和R11獨立地爲1至 1 〇個碳原子的一價烴基; 每個R7獨立地爲1至3個碳原子的二價伸烴基; 每個R12獨立地爲具下列結構的二價有機基團: -CH2-CH(R14)(R15)g〇- 其中每個R14獨立地爲氫原子或甲基;每個Ri5獨立 地爲1至6個碳原子的二價伸烷基;而下標g是〇或1; 每個R13獨立地選自氫原子、1至6個碳原子的一價 烴基和1至6個碳原子的醯基;而 每個下標d、e、f和X是整數,其中d是2至20,e 是0至18’ f是〇至18而X是0或1,但2£d + e + f$2〇; 和 (c ) 水。 2 4 .如申請專利範圍第2 3項之方法,其中該金屬表 面之該接觸包含刷塗、噴塗、沒入、靜電塗覆、滾輪塗覆 -56- 201038684 、逆轉滾輪(reverse roll)塗覆、浸塗、覆墨(flood coating )、浅降塗覆(drawdown coating)或沖洗塗覆。 2 5 .如申請專利範圍第2 3項之方法,其中該金屬選 自冷軋鋼、鋅塗覆的鋼、鋁、鋅-鋁塗覆的鋼、鍍錫的鋼 、不銹鋼和鎂。 26. —種有塗覆組成物施於其上的金屬,其中該塗覆 組成物包含 OC a) 至少一種通式(1 )的矽烷 [[(R1〇)3-a-b(-〇-)〇.5aR2bSi-R3-]mV]n (1) 其中 每個R1獨立地爲氫原子或各者具1至16個碳原子的 醯基、一價烴基或經烷氧基取代的烷基; 每個R2獨立地爲烷基、經烷氧基取代的烷基、芳基 、或芳烷基,其中各者具1至16個碳原子; 每個R3獨立地爲共價化學鍵或1至12個碳原子之直 Q 鏈、支鏈或環狀的二價有機基團; 每個Y獨立地爲m價的一-、二-或多價有機官能基; 每個下標a、b、m和η獨立地爲整數,其中a是0至 3;b是0至2;m是1至4;而η是1至50; (b ) 至少一種通式(2)之以矽爲底的聚醚共聚 物; (R4)(R5)(R6)SiR7Si(R8)(R9)[〇Si(R1°)(R11)]xR12(C2H40)d(C3H60)e(C4H80)fR13 (2) 其中 每個R4、R5、R6、R8、R9、R1Q和R11獨立地爲1至 -57- 201038684 10個碳原子的一價烴基; 每個R7獨立地爲1至3個碳原子的二價伸烴基; 每個R12獨立地爲具下列結構的二價有機基團: -CH2-CH(R14)(R15)g〇. 其中每個R14獨立地爲氫原子或甲基;毎個R15獨立 地爲1至6個碳原子的二價伸烷基;而下標g是0或1; 每個R13獨立地選自氫原子、丨至6個碳原子的一價 烴基和1至6個碳原子的醯基;而 每個下標<1、6、€和x是整數,其中d是2至20,e 是0至18’ f是〇至18而X是〇或1,但2Sd + e + fS20; 和 (c ) 水。 27. 如申請專利範圍第26項之金屬,其中該金屬選 自冷軋鋼、鋅塗覆的鋼、鋁、鋅-鋁塗覆的鋼、鍍錫的鋼 、不銹鋼、鎂和金屬合金。 28. 如申請專利範圍第26項之金屬,其中該塗覆組 成物中的該砍烷(a )選自未經水解、部分水解和水解的 7-脲基丙基三甲氧基矽烷和7 -脲基丙基三乙氧基矽院。 29. 如申請專利範圍第26項之金屬,其中該塗覆組 成物中之該含以矽爲底之聚醚共聚物(b)選自 -58- 201038684 (CH3)3SiCH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH20)2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3}2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)2〇CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH(CH3)CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH20)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2CH2CH20(CH2CH2O)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)7(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)5(CH2CH(CH3)0)2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)15(CH2CH(CH3)0)5H, 〇 (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)2(CH2CH(CH3)0)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH20)4(CH2CH(CH2CH3)〇)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10(CH2CH(CH2CH3)O)5CH3, (CH3>3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH20(CH2CH20>10(CH2CH(CH2CH3)0)i〇C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)4(CH2CH(CH3)〇MCH2CH(CH2CH3)0)H (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)8(CH2CH(CH3)0)5(CH2CH(CH2CH3)0)H (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH20)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2CH2CH20(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, G -59- 201038684 (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CHaJaSiCHzCHzCHzSKCHaiaCHzCHzCHzOiCHzCHzOi^CHzCHiCHaPJiCHa, (CH3)3SiCH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2>CH2CH20(CH2CH20)2H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3>2)CH2CH2CH20(CH2CH20)7CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3>2)CH2CH2CH2O(CH2CH2O)20CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3>2)CH2CH(CH3)CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)〇)iH, (CH3CH2CH2)3SiCH2CH2Si(CH2CH2CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH20)4- (CHaCHtCHaJOJ^Ha, (CH3)2(CH3CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4- (CHzCHiCHaJO^CHa, (CH3)2(C6H5CH2CH2)SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3>2)CH2CH20- (CH2CH20)7(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)5(CH2CH(CH3)〇)2CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3M〇Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)15(CH2CH(CH3)0)5H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3W〇Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)2<CH2CH(CH3)0)18CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2<0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)8(CH2CH(CH3)0)3CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH2CH3)0)iCH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2>CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10- (CH2CH(CH2CH3)0)5CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3>2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2O)10- (CH2CH(CH2CH3)O)10C(=O)CH3, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH20)4(CH2CH(CH3)〇)i-(CH2CH(CH2CH3}0)H, (CH3>3SiCH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)a-(CH2CH(CH3)0)5(CH2CH(CH2CH3)0)H, (CH3)3SiCH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, -60- 201038684 (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)5C(=0)CH3, (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(〇Si(CH3)2)CH2CH2〇(CH2CH2〇)4(CH2CH(CH3)0)iCH3, (CH3CH2)3SiCH2CH2CH2Si(CH2CH3)2(0Si(CH3)2)CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)0)iCH3) (CH3)3SiCH2CH2CH2Si(CH3)2(OSi(CH3)2)CH2CH2CH20(CH2CH20)4- (CH2CH(CH3)0)iCH3 ,及它們的混合物。 30.如申請專利範圍第26項之金屬’其中該塗覆組 成物進一步包含膠態氧化物’該膠態氧化物選自氧化矽( 〇 si〇2 )、氧化铈、氧化鈽硝酸鹽、氧化铈乙酸鹽、氧化鋅 (ZnO )、二氧化锆(Zr02 )、二氧化鈦(Ti02 )、氧化 鋁(A1203 )和它們的組合。 3 1.如申請專利範圍第26項之金屬,其進一步包含 施於彼之塗料。 3 2 .如申請專利範圍第3 0項之金屬,其進一步包含 施於彼之塗料。 # I 3 3 . —種物件,其含有如申請專利範圍第2 6項之經塗覆 的金屬。 201038684 四、指定代表圖: (一) 、本案指定代表囷為:無 (二) 、本代表圖之元件代表符號簡單說明:無❹ 201038684 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:式1 [[(R1〇)3-a-b(-〇-)〇.5aR2bSi-R3-]mY]n (1) -4-
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