TW200914898A - Color conversion filter and manufacturing method of the organic EL display - Google Patents

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200914898 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係爲有關色變換濾光片之形成方法。特別是有 關包含具有高精確度之圖案的色變換層之色變換濾光片之 製造方法。另外，本發明係有關包含前述色變換濾光片， 將3原色之中之至少1色，通過色變換層而輸出之有機電 激發光（EL)顯示器之製造方法。 【先前技術】 近年來，針對在顯示器領域，係進行可多彩顯示或全 彩顯示之多色發光型顯示器之開發。特別是，積極地進行 可有效地利用有機EL元件的特性之高精細之多色發光型 有機EL顯示器的開發。爲何如此，有機EL元件係因可 經由低電壓的施加而得到高電流密度，而由此，可實現高 發光亮度及發光效率之情況。 其中，色變換方式之有機EL顯示器則被注目。而色 變換方式之有機EL顯示器一般係將從有機EL元件所發 光的光線，依序通過色變換層及濾光片層，將具有所期望 之波長的光線，釋放於外部之構成。在此，色變換層係具 有吸收從有機EL元件所發光的近紫外範圍乃至可視領域 的光線，進行波長分布變換，放射含有不同波長的光線之 可視光的機能。另外，彩色濾光片層係具有遮斷特定波長 的光線，使通過色變換層之可視光之色純度提升的機能。 關於具有色變換層及彩色瀘光片層之有機EL顯示器 -4- 200914898 ，作爲實現多色發光的例，係揭示以下的技術。 例如，提案有具有透明基板，和蒸鍍顏料及/或有機 染料而形成之彩色瀘光片層，和變換爲特定之波長的光線 之螢光變換層（相當於上述色變換層），和於至少一方爲 透明之2個電極之間，至少含有一層之有機發光層，可做 爲獨立控制之複數之有機EL元件的有機El顯示器（參 照專利文獻1 )。針對在此技術，螢光變換層（色變換層 )係包含吸收短波長的光線而變換爲長波長的光線之至少 1種色變換物質。 作爲螢光變換層（色變換層）之形成方法，係揭示有 於樹脂，塗佈使色變換物質分散的液體之方法，及經由蒸 鍍或濺鍍法等之乾式處理而堆積色變換物質之方法（參照 專利文獻1~3 )。 一般，在使用色變換方式之有機EL顯示器而實現高 精細之彩色顯示時，提升色變換層中之色變換物質的濃度 ，而使針對在色變換層之吸收光線的吸光度增加，得到高 變換光強度之情況則爲有利。 但，當提升色變換物質的濃度時，經由從有機EL元 件所發光的光線之吸收能量則在色變換物質之分子間反覆 移動，未伴隨發光地色變換物質分子則失活，產生稱之爲 濃度消光之現象。而爲了抑制濃度消光，於任何媒體中， 使色變換物質溶解或分散而使其濃度下降之情況則爲重要 (參照專利文獻3 )。另一方面，當使色變換物質的濃度 下降時，應吸收的光線的吸光度則減少，未能得到充分之 -5- 200914898 變換光強度。 關於此問題，進行使色變換層之膜厚增加而提升其吸 光度，維持色變換之效率情況。如此’使用厚的色變換層 (膜厚1 0 μπα程度）之情況，存在有在段差部之電極圖案 的斷線，高精化之困難度，對於色變換層中之水分或溶劑 的殘留（對於與有機EL元件組合的情況，經由殘留水分 或溶劑，有機EL層產生變質，成爲顯示缺陷）等之問題 。加上，從使視野角依存性減少之觀點，色變換膜之膜厚 增大並不理想。 對於其矛盾之要求，作爲提供未使膜厚增大而得到充 分之變換光強度之色變換層之技術，提案有經由蒸鍍法， 形成具有2000nm以下之膜厚的主一客系色變換層之技術 〇 對於經由蒸鍍法而形成色變換層之情況，因於成爲基 底的層之全面，形成色變換層，無法分離發光3原色（紅 色，綠色及藍色）之各自的範圍。因此，經由何種手段， 形成具有對應於特定之原色的細微圖案（副畫素）之色變 換層則成爲必要。作爲針對在蒸鍍法而進行圖案狀之薄膜 形成之方法的例’知道有經由金屬遮罩之分塗法（參照專 利文獻1 ) 但，金屬遮罩係其實質上’從必須做爲貫通之開口部 情況，對於爲了確保金屬遮罩之強度，係有必要確保所鄰 接之開口部間的間隔（即，圖框的寬度）。隨之，對於金 屬遮罩之局精細化係存在有界限。另外，從產生回入蒸鍍 -6 - 200914898 物質於金屬遮罩之背後情況，亦對於使用金屬遮罩而形成 之圖案之精細化係有著界限。實際上，各1 5 0畫素英吋（ ppi)之精細度位準爲界限，而超出此之高精細之圖案的 形成係爲困難。更加地，隨著基板變大，對於金屬遮罩之 剛性的要求則大增，而對剛性不足之情況，係亦有遮罩彎 曲之問題點。因其問題，對於基板之大面積化而有問題。 加上，產生因將金屬遮罩配置於成膜基板上時之圖案偏移 等之理由而造成產率下降，亦有低成本化成爲困難之問題 〇 爲了對於針對在上述蒸鍍法之問題點進行處理，提案 有使用噴墨法而形成色變換層之技術（參照專利文獻4〜7 )° 另一方面，提案有針對在伴同色變換層之濾光片方式 (經由只使光源光線的特定波長域透過，釋放具有所期望 之波長的光線於外部的方式）之顯示器，將抑制工程數的 增加及製造成本的增加，作爲目的，重合複數種之濾光片 層而於所期望的範圍’形成遮光部之方法（參照專利文獻 8 )。 [專利文獻1]日本特開2002-75643號公報 [專利文獻2]日本特開2003-217859號公報 [專利文獻3]日本特開2000-230172號公報 [專利文獻4]日本特開20〇4_253179號公報 [專利文獻5]日本特開2006-73450號公報 [專利文獻6]日本特開20〇6_32010號公報 200914898 [專利文獻7]日本特開2003-229261號公報 [專利文獻8 ]日本特開2 0 0 4 - 9 4 2 3 6號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 但’經由噴墨法而形成色變換層之提案係均使用另外 形成之間隔壁。而間隔壁係爲了防止經由噴墨法而附著於 成膜基板之液滴擴散至不希望之位置情況而作爲必要。而 另外形成間隔壁之情況，係招致製造工程的大增，以及經 由此之製造成本的大增。 更加地’對於以高精細度形成色變換層及彩色濾光片 層時，有必要設置爲了作爲位置配合之標示器。但，另外 形成標示器的情況，亦招致製造工程的大增，以及經由此 之製造成本的大增。 隨之’本發明之第1目的係提供即使未另外形成間隔 壁’亦可於期望的位置，形成色變換層之使用噴墨法之色 變換濾光片的製造方法。本發明之第2目的係提供應用前 述之色變換濾光片之製造方法之有機電激發光顯示器之製 造方法。 [解決課題之手段] 製造本發明之第1實施形態之色變換濾光片之方法， 其特徵乃包含具有（a)於透明基板上，形成具有複數之 開口部之黑矩陣的工程、和（b )使透過各爲不同之波長 -8 - 200914898 域之光的至少二種類之彩色濾光片層，獨立形成之工程中 ，於不同之二種之彩色濾光片層所鄰接之黑矩陣上，重合 彩色濾光片層之至少二者，形成間隔壁的工程、和（C ) 於前述彩色濾光片層之至少一個之上，使用噴墨法，形成 吸收特定之波長之光線，輸出包含與吸收之波長不同之波 長的光線之色變換層的工程。在此，針對在工程（b )， 間隔壁亦可由重合2個之彩色濾光片層而形成，或另外， 針對在工程（b )，亦可將3種類之彩色濾光片層做爲獨 立而形成，而亦可將間隔壁，重合3個之彩色濾光片層而 形成。此情況，3種類之彩色濾光片層之各自係亦可具有 呈被覆黑矩陣之開口部地所形成之第1之部分，和與前述 第1之部分分離，構成間隔壁之第2之部分。另外，本實 施形態係包含由上述之方法所製造，至少具有1種類之色 變換層的色變換濾光片。 本發明之第2實施形態之有機EL顯示器之製造方法 之第1型態，其特徵乃包含經由第1實施形態之方法，製 造色變換濾光片之工程，和（2a)於前述色變換濾光片上 ，形成阻障層之工程’和（3 a )於前述阻障層上’形成依 序含有透明電極，有機EL層及反射電極之有機EL元件 之工程的有機電激發光顯示器之製造方法。而實施形態之 有機電激發光顯示器之製造方法之第2型態’其特徵乃包 含（1 )經由第1實施形態之方法’製造色變換濾光片之 工程，和（2b )於第2支持體上’形成依序含有反射電極 ，有機EL層及透明電極之有機EL元件之工程，和（3b -9- 200914898 )於前述有機E L元件上，形成阻障層之工程，和（4 ) 將形成前述阻障層之有機電激發光元件與前述色變換濾光 片，使前述色變換層與前述阻障層對向而組合之工程者。 [發明之效果] 經由採取以上之構成，針對在本發明，經由在特定部 位層積黑矩陣和至少2種之彩色濾光片層之情況，可排除 必須另外形成爲以往所提案之噴墨法所必須之間隔壁。另 外，針對在本發明之方法，可經由將黑矩陣，作爲爲了位 置決定針對在彩色濾光片層之圖案化及色變換層之形成的 噴墨裝置之標示器而使用之情況，作爲可形成具有140ppi 以上精確度之高精細圖案的色變換層者。更加地，針對在 本發明之方法，不只是彩色濾光片層之膜厚，而因可將黑 矩陣之膜厚，作爲間隔壁的高度而使用，故可形成更有效 防止噴墨擴散之間隔壁。另外，本發明之製造方法係可迴 避針對在使用金屬遮罩之蒸鍍法的前述問題點。更加地， 經由利用其方法之情況，可製造可高精細之多色顯示之有 機EL顯示器。 【實施方式】 以下，參照圖面而詳細地說明本發明之最佳的實施形 態。然而，以下所示之實施形態僅爲本發明之一例，如爲 當業者，可適宜做設計變更。 本發明之第1實施形態係爲製造色變換濾光片之方法 -10- 200914898 ，其特徵乃包含具有（a)於透明基板上’形成具有 之開口部之黑矩陣的工程、和（b )使透過各爲不同 長域之光的至少二種類之彩色濾光片層，獨立形成之 、和（c)於前述彩色濾光片層之至少一個之上’使 墨法，形成吸收特定之波長之光線，輸出包含與吸收 長不同之波長的光線之色變換層的工程，針對在工I )，在不同之2種之彩色濾光片層所鄰接之黑矩陣上 合彩色濾光片層之至少2個而形成間隔壁者。在本發 ，使用透過各爲不同之波長域的光線之至少2種類之 瀘光片層，理想係使用3種之彩色濾光片層。 最初，說明關於使用紅色（R )，綠色（G )及藍 B )之3種類之彩色濾光片層的情況，間隔壁則重合 之彩色濾光片層30而形成之本實施形態之色變換濾 之製造方法的第1型態。圖1 ( a )〜（e )係表示本實 態之色變換濾光片之製造方法的工程之剖面圖，圖2 〜（c )係爲將最初形成於黑矩陣20上之紅色彩色濾 層30R作爲例，表示各彩色濾光片層30之形狀的圖 2(a)係爲表示彩色濾光片層30之形狀的例之上面 圖2 ( b)及（c)係分別沿著切斷線Ilb-IIb，IIC-IIC 面圖。 最初，如圖1 ( a )所示，於透明基板10上，形 矩陣20。而黑矩陣20係亦可使用塗佈法（旋塗法） 成於透明基板10全面後，使用光微影法等而作爲圖 ，或者亦可使用網版印刷法等而形成爲圖案狀。而黑 複數 之波 工程 用噴 之波 1 ( b ，重 明中 彩色 色（ 2個 光片 施形 :a ) 光片 。圖 圖， 的剖 成黑 ，形 案化 矩陣 -11 - 200914898 20係從延伸於第1之方向及第2之方向（與第1之方向垂 直交叉的方向）之帶狀形狀部分所構成，作爲具有複數之 開口部的格子狀之形狀的一體的層所形成。黑矩陣20之 開口部則成爲形成副畫素的位置。 透明基板1 0係富有光透光性，且使用耐於當形成黑 矩陣20，彩色濾光片層30(R，G，B)，以及後述之色 變換層40及有機EL元件時所使用之條件（溶劑，溫度等 )的材料所形成。更加地理想爲使用對於尺寸安定性優越 之材料者。另外，理想爲不會引起多色發光顯示器之性能 下降之材料。而透明基板1 0之材料的例係包含玻璃，各 種塑料，各種薄膜等。 黑矩陣2 0係爲遮斷可視光，爲了使對比提升的層。 而黑矩陣20係可使用通常之平板顯示器用之材料而形成 者。特別是，期望爲具有對於含於爲了形成後述之色變換 層40的噴墨之溶劑的耐性者。而黑矩陣20之膜厚係針對 在能滿足後述之間隔壁的高度之條件下，可任意設定。 接著，將透過各爲不同之波長域的光線之至少2種的 彩色濾光片層3 0，獨立形成。而彩色濾光片層3 0係使可 視光的特定波長域透過，將透過光作爲所期望之色相，及 爲了使透過光的色純度提升的層。而彩色濾光片層30係 可使用平板面板顯示器用之市售的材料而形成。近年來， 通常使用分散顏料於光阻劑中之顏料分散型材料。如圖1 所示，使用3種之彩色濾光片層的情況，期望使用透過 4 00nm〜5 0 0nm之波長域的光線之藍色彩色濾光片層30B， -12- 200914898 透過5 00nm〜600nm之波長域的光線之綠色彩色濾光片層 3 0G，透過600nm以上之波長域的光線之紅色彩色濾光片 層 30R。 第1，如圖1 ( b )所示，形成紅色彩色濾光片層30R 。紅色彩色濾光片層3 0R係期望爲如圖2 ( a )所示，從 延伸於第1之方向之帶狀形狀的複數之部分所形成。此時 ，紅色彩色濾光片層3 0R係如圖2 ( b )所示，呈重疊於 鄰接於形成有紅色彩色濾光片層3 OR之開口部（紅色副畫 素）之黑矩陣20 (即，成爲與異色之副畫素之交界的黑矩 陣20 )上所形成。 第2，如圖1 (c)所示，形成綠色彩色濾光片層3 0G 。綠色彩色濾光片層3 0 G，亦另外，期望爲從延伸於第1 之方向之帶狀形狀的複數之部分所形成，除了所形成之位 置不同之情況，具有與圖2 ( a )及（b )所示之紅色彩色 濾光片層3 0R同樣的形狀。此時，針對在綠色彩色濾光片 層3 0G與紅色彩色濾光片層30R之間（即，紅色副畫素與 形成有綠色彩色濾光片層3 0 G之開口部（綠色副畫素）之 間）的部位，呈重疊於黑矩陣20與紅色彩色濾光片層 3 0R之層積體地形成綠色彩色濾光片層3〇G。

第3，如圖1 ( d )所示，形成藍色彩色濾光片層3 〇 B 。藍色彩色濾光片層30B，亦另外’期望爲從延伸於第1 之方向之帶狀形狀的複數之部分所形成’除了所形成之位 置不同之情況，具有與圖2 ( a )及（b )所示之紅色彩色 濾光片層30R同樣的形狀。此時’藍色彩色濾光片層30B -13- 200914898 係呈重疊於鄰接之黑矩陣20與紅色彩色濾光片層 層積體，以及鄰接之黑矩陣20與綠色彩色瀘光片 之層積體所形成。換言之，針對在紅色副畫素與形 色彩色濾光片層3 0B之開口部（藍色副畫素）之間 ，呈重疊於黑矩陣20與紅色彩色濾光片層30R之 地形成藍色彩色濾光片層3 0B。同樣地’針對在綠 素與藍色副畫素之間的部位，呈重疊於黑矩陣2 0 彩色瀘光片層30G之層積體地形成藍色彩色濾光片 〇 上述之各彩色濾光片層30，在使用塗佈法（旋 ，形成於透明基板1 〇全面後’亦可經由使用光微 而實施圖案化之情況而形成’或者亦可使用網版印 而形成爲圖案狀。另外，在上述之說明中’由紅色 光片層30R，綠色彩色濾光片層30G，及藍色彩色 層3 0B的順序而形成3種之彩色濾光片層30，但 順序係可適宜做變更者。 經由以上的工程，於位置於不同之2種之彩色 層30之間的黑矩陣20上’形成有層積該2種之彩 片層的間隔壁。針對在本發明之「間隔壁的高度」 在黑矩陣20上之層積體，和鄰接於該層積體，接 明基板1 〇之彩色瀘光片層3 0的關係所定義。針對 明之「間隔壁的商度」係意味從黑矩陣20之膜厚） 之彩色濾光片層3 0所構成之層積體的總膜厚’和 之彩色濾光片層30之膜厚的差。針對在本發明之 30R之 層 3 0 G 成有藍 的部位 層積體 色副畫 與綠色 層3 0 B 塗法） 影法等 刷法等 彩色濾 濾光片 其形成 濾光片 色濾光 係針對 觸於透 在本發 :口 2種 所鄰接 「間隔 -14- 200914898 壁的高度」係期望爲2-4 μιη者。 經由以上的工程，得到於紅色副畫素上，由具有黑矩 陣20/紅色彩色濾光片層30R/綠色彩色濾光片層30G之層 積構造及黑矩陣20/紅色彩色濾光片層30R/藍色彩色濾光 片層3 0Β之層積構造之2個之間隔壁所圍住，具有沿著第 1之方向之帶狀形狀的紅色擋牆（bank )構造。同樣地， 得到於綠色副畫素上，由具有黑矩陣20/紅色彩色濾光片 層30R/綠色彩色濾光片層30G之層積構造及黑矩陣20/綠 色彩色濾光片層30G/藍色彩色濾光片層30B之層積構造 之2個間隔壁所圍住，具有沿著第1之方向之帶狀形狀的 綠色擋牆構造。而關於藍色副畫素之上方的藍色擋牆構造 ，亦爲同樣。 接著，如圖1 ( e )所示，針對在至少1種之擋牆構造 ’使用噴墨法，於彩色瀘光片層3 0之上方，形成色變換 層4 0。針對在本實施形態係至少形成丨種類之色變換層。 而使用RGB之3種彩色濾光片層之情況，至少形成紅色 變換層40R，亦可加上形成綠色變換層40G。對於圖1 (e )係表示於紅色擋牆構造內，形成紅色變換層40R，及於 綠色擋牆構造內，形成綠色變換層40G之色變換層。 爲了形成色變換層40之噴墨係含有至少1種之色變 換色素，和溶劑。針對在本發明，係期望使用含有第1色 素及第2色素之2種之色變換色素的混合物者。 第1色素係爲吸收對於色變換層4 0之入射光，理想 爲有機EL·元件所發光的藍色〜藍綠色的光線，爲使所吸收 -15- 200914898 的能量移動至第2色素之色素。隨之，期望第1色素之吸 收光譜與有機EL元件之發光光譜重疊，而第丨色素的吸 收極大與有機EL元件之發光光譜之極大則重疊（作爲一 致）之情況則更理想。另外，期望第1色素之發光光譜與 第2色素之吸收光譜重疊，而第1色素的發光光譜之極大 與第2色素之吸收光譜之極大則重疊（作爲一致）之情況 則更理想。 針對在本發明，作爲第1色素而適合使用之色素係包 含Alq3 (參（8-羥基喹啉）鋁錯合物）等之鋁螯合物系色 素，3- (2 -苯并噻唑基二乙基）-7 -二乙基胺基香豆素（香 豆素6) ’ 3- ( 2-N-苯并咪唑基）-7-二乙基胺基香豆素（ 香豆素7)，香豆素135等之香豆素系色素。或另外，亦 可將如溶劑黃43，溶劑黃44之萘二甲醯亞胺系色素，作 爲第1色素而使用。此外，亦可適用各種低分子發光材料 、各種高分子發光材料。第1色素係期望爲將色變換層40 之總構成分子數，作爲基準，以50〜99.99莫耳％的量而存 在之情況。經由存在在如此之濃度範圍情況，可充分吸收 色變換膜之入射光，將所吸收的光能量，能量移動於第2 色素者。 第2色素係爲收容從第1色素所移動之能量，並放射 光的色素。如前述，期望第1色素之發光光譜與第2色素 之吸收光譜重疊，而第1色素的發光光譜之極大與第2色 素之吸收光譜之極大則重疊（作爲一致）之情況則更理想 。隨之’第2色素所放射的光線係爲較第1色素所吸收的 -16- 200914898 光線爲長波長，爲綠色或紅色。針對在本發明，可作爲第 2色素而可適合使用之色素係包含二乙基喹吖酮（DEQ ) 等之喹吖酮衍生物；4-二氰亞甲基-2-甲基-6- ( P-二甲基

二甲胺苯乙烯基）-4H-吡喃（DCM-l(I) ) > DCM-2 ( II )，及DCJTB(III)等之花青苷色素；4,4-二氟-1，3,5,7-

四苯基-4-bora-3a，4a -二氮-s_苯并二茚（IV)，路碼近F 紅（lumogenFred，尼羅紅（niie red) (γ)等。或另外 ’亦可使用若丹明Β，若丹明6G等之咕噸系色素，或吡 陡1等之批陡系色素。另外，亦可適用各種低分子發光材 7 料，各種高分子EL發光材料。 【化1】

200914898 針對在本發明之色變換層40，發出光線的色素係因爲 爲第2色素，故第2色素，不引起濃度消光之情況則爲重 要。爲何如此’因第2色素之濃度消光係亦帶來色變換的 效率下降。而針對在本發明之色變換層40的第2色素之 濃度的上限係將不引起濃度消光之情況，作爲條件，依存 於第1及第2色素的種類而產生變化。另外，第2色素的 濃度之下限係將得到充分之變換光強度之情況，作爲條件 ，依存於第1及第2色素的種類，或做爲目的之用途而產 生變化。一般而言，針對在本發明之色變換層40之第2 色素的理想濃度係將色變換層4 0之總構成分子數，作爲 基準，爲1 0莫耳％以下，理想爲〇. 〇 1〜1 〇莫耳％，更理想 爲0 . 1〜5莫耳°/〇之範圍內。經由以如此範圍內之濃度而使 用第2色素之情況，防止濃度消光之同時，可得到充分之 變換光強度者。 如前述，經由採取根據別種的色素而實現入射光之吸 收與色變換之構成情況，可加大經由第1色素之入射光之 吸收峰値波長，和經由第2色素之色變換之發光峰値波長 的差者。更加地，經由分離機能之情況，可擴大作爲第1 色素及第2色素所使用之材料的選擇者。 或另外，如爲只由第1色素，吸收藍〜藍綠色的光線 ，在無須進行濃度消光的情形下可獲得充分之變換光強度 (紅色光或綠色光），亦可不採用第2色素。 爲了針對在本發明之色變換層形成的噴墨用溶劑，係 -18- 200914898 可使用可溶解上述色素之任意的溶劑。例如，可將甲苯等 苯系等非極性溶劑，三氯甲烷，醇系，酮系等之極性溶劑 ，作爲噴墨用溶劑而使用者。而噴墨用溶劑係亦可以單一 成分所構成，而亦可爲複數之溶劑的混合物。 針對在本實施形態，可藉由將至少1種之色變換色素 ，混合於溶劑中之情況而製作噴墨。爲了排除水分及氧的 影響，以不活性氣體（例如，氮或氬等之稀有氣體）環境 下而製作噴墨之情況則爲理想。而在製作噴墨之前，爲了 去除溶劑中之水分及氧，亦可使用脫氣處理，經由水分吸 收劑之處理，經由氧吸收劑之處理，針對在蒸餾等之該技 術所知道之任意手段而將溶劑作爲前處理。 所製作之噴墨係將可以所期望之解像度的塗佈之情況 做爲條件，使用針對在該技術所知道之任意的噴墨裝置及 方法，附著於擋牆構造內之彩色濾光片層3 0上。而噴墨 裝置及方法係均可爲熱噴墨方式，壓電噴墨方式。使用噴 墨方法所附著之噴墨係經由黑矩陣上之2種彩色濾光片層 之層積體而成的間隔壁，防止擴散於必要部位以外之情況 ，成爲可形成色變換層40於特定之位置者。針對在本實 施形態，加上於重合之2種彩色濾光片層3 0之膜厚的合 計，黑矩陣20之膜厚亦因寄予間隔壁之高度，因此可更 有效地防止對於使用噴墨方法所附著之噴墨之必要部位以 外的擴散者。 在附著之後，使溶劑蒸發而去除，形成由至少1種之 色變換色素而成之色變換層4〇。而溶劑之去除係可經由在 -19- 200914898 前述之不活性氣體環境下或真空中，加熱至溶劑蒸發的溫 度而實施。此時，期望爲以噴墨中之色變換色素的劣化或 熱分解會發生的方式設定加熱溫度之情況。 本發明之色變換層40係具有2〇〇〇nm ( 2μηι )以下， 理想爲1〇〇〜2000nm，更理想爲100〜l〇〇〇nm之膜厚。而包 含任意選擇之熱硬化型樹脂組成物之情況’本發明之色變 換層40係理想爲具有100〜2 00nm之膜厚。針對在本發明 之色變換層40係構成其大部分之第1色素，爲了具有入 射吸收之機能，如此，針對在薄的膜厚，亦具有充分之吸 光度。並非將拘泥於任何理論之情況做爲意圖之構成，但 ，本發明之色變換層40中的第1色素，吸收光線而成爲 激發狀態之情況，認爲較在第1色素間之能量移動，從第 1色素對於第2色素之能量移動的情況則容易引起。隨之 ，第1色素之激發能量的大部分係認爲在不會受到因在第 1色素間之移動所引起的消失（濃度消光）的情形下移動 至第2色素，可寄予第2色素之發光者。並且，第2色素 係因如前述以未引起濃度消光之情況的低濃度而存在，故 可有效利用所移動之激發能量而進行色變換’發出具有所 期望之波長分布的光線。如此作爲，針對在本發明之色變 換層40，係成爲可倂存薄的膜厚與高色變換效率者。 由實施以上之工程所得到之色變換層40係與彩色濾 光片層3 0同樣地，具有延伸於第1之方向的帶狀形狀。 當將紅色變換層4 0 R作爲例而說明時，如圖2 ( c )所示 ，在位於設置有紅色彩色濾光片層3 OR之2個開口部（2 -20- 200914898 個紅色副畫素）之間的黑矩陣2 0上，雖經由紅色彩色濾 光片層3 OR重疊之情況而存在有段差，但段差的高度係相 當於黑矩陣20之膜厚，未至防止爲了形成紅色變換層 4OR之噴墨的擴散，而遍佈複數之副畫素而形成連續於第 1之方向的帶狀形狀之紅色變換層40R。 作爲上述之第1型態之變形例，如圖3所示，亦可於 位於設置有同種之彩色濾光片層3 0之2個開口部之間的 黑矩陣20上，使在最後所形成之彩色濾光片層30重疊， 形成間隔壁。針對在圖3，係表示變更藍色彩色濾光片層 30B之形狀的例。而圖3 (a)乃表示藍色彩色濾光片層 3 0B之上面形狀的圖，圖3 ( b )係爲沿著切斷線Illb-IIIb 之剖面圖，圖3 ( c )係爲沿著切斷線IIIc-IIIc之剖面圖 。如圖3(a)所示，藍色彩色濾光片層30B係被覆複數 之開口部（藍色副畫素），在所鄰接之黑矩陣20上，由 延伸於重疊於異種之彩色濾光片層30 (紅色彩色濾光片層 30R或綠色彩色濾光片層30G)之第1之方向之帶狀形狀 部分，和將黑矩陣20上，延伸於第2之方向（垂直交叉 於第1之方向的方向）的部分所構成。如圖3(b)所示， 針對在紅色副畫素與綠色副畫素或藍色副畫素之交界，本 變形例係與上述形態同樣地，於黑矩陣20之上方，層積 有2種之彩色濾光片層3 0，形成延伸於第1之方向的間隔 壁。加上，如圖3(c)所示，重疊黑矩陣20，紅色彩色 濾光片層30R，及藍色彩色濾光片層30B，形成延伸於第 2之方向的間隔壁。隨之，針對在本變形例，關於紅色副 -21 - 200914898 畫素，呈圍住各副畫素地形成間隔壁，得到對各副畫素獨 立之擋牆構造。而關於綠色副畫素，亦爲同樣。而對各副 畫素獨立之擋牆構造係針對在抑制各副畫素間之色變換層 40的膜厚不均的點爲有效。 接著，關於使用紅色（R)，綠色（G)，藍色（B) 之3種類的彩色濾光片層之情況，說明間隔壁由重合3個 之彩色濾光片層3 0而形成之本實施形態的色變換濾光片 之製造方法之第2型態。在重合黑矩陣及彩色濾光片層而 形成間隔壁時，爲了提升間隔壁之高度係加厚黑矩陣之膜 厚之情況則爲有效。但，對於從負型材料形成黑矩陣之情 況，作爲圖案而殘留曝光部分，且照射光爲了被黑矩陣材 料吸收，而膜厚越變厚（約2 μιη以上），黑矩陣之形成則 變爲困難。另外，提升間隔壁高度之情況，經由重合之彩 色濾光片層材料之黏度，基底的潤濕性，塗佈條件等，突 起（間隔壁形成部位）之頂上的彩色濾光片層之膜厚，有 較存在於黑矩陣開口部之彩色濾光片層之膜厚爲小之情況 。爲了迴避如以上之問題點的影響，而本型態係爲有用。 針對在第2型態，除了所形成之彩色濾光片層3 0之 上面形狀，可使用在第1型態所說明之工程而製造色變換 濾光片。針對在本型態係加上於重合之3個彩色濾光片層 30之膜厚的合計，黑矩陣20之膜厚亦寄予間隔壁之高度 。另外’針對在本型態係經由重合3個彩色濾光片層3 0 而形成間隔壁之情況，比較於第1型態，可形成更高的間 隔壁。更加地使用更薄之彩色濾光片層之情況，亦可得到 -22- 200914898 充分高度的間隔壁。 參照圖4而說明第2型態之第1例。對於圖4係表示 作爲彩色濾光片層30的例，最初形成於黑矩陣20上之紅 色彩色濾光片層30R。綠色彩色濾光片層30G及藍色彩色 濾光片層30B，亦除了所形成之位置以外，具有與紅色彩 色濾光片層30R同樣的形狀。圖4 ( a )乃爲表示紅色彩 色濾光片層30R之上面形狀的圖，圖4 ( b )係爲沿著切 斷線IVb-IVb之剖面圖，圖4 ( c )係爲沿著切斷線IVc-IVc之剖面圖。然而，針對在圖4 ( b )及（c )係之後所 形成之各層，亦合倂表示。 針對在此例，如圖4 ( a )所示，各彩色濾光片層3 0 係從2種之個別的帶狀形狀部分所構成。第1之帶狀形狀 部分係形成於成爲該色之副畫素之黑矩陣2 0的開口部’ 及成爲與異種之彩色濾光片層30的交界（即，與異色之 副畫素之交界）之黑矩陣20之上方’而第2之帶狀形狀 部分係未與該色之副畫素鄰接，而形成於成爲不同色之副 畫素間之交界的黑矩陣20之上方。經由層積如此由2個 之個別的部分而成之彩色濾光片層3 0之情況’如圖4 ( b )所示，針對在延伸於成爲異種之彩色濾光片層30之交 界之黑矩陣20之第1方向的部分’形成依序層積3種之 彩色濾光片層3 0的間隔壁。另外’針對在此例’如圖4 ( c )所示，在位於設置同種之彩色濾光片層3 0之2個開口 部（即，同色之2個副畫素）之間的黑矩陣2 0上方’雖 經由彩色濾光片層3 〇重疊之情況而存在有段差’但段差 -23- 200914898 的高度係相當於黑矩陣20之膜厚，未至防止爲了形成色 變換層40之噴墨的擴散。即，針對在此例，如圖1及圖2 所示，對於各色，得到具有延伸於第1之方向之帶狀形狀 的擋牆構造。而於其擋牆構造內，形成連續於第1之方向 之帶狀形狀之色變換層40。 參照圖5而說明第2型態之第2例。對於圖5係表示 作爲彩色濾光片層30的例，最初形成於黑矩陣20上之紅 色彩色濾光片層30R。綠色彩色濾光片層30G及藍色彩色 濾光片層30B，亦除了所形成之位置，具有與紅色彩色濾 光片層30R同樣的形狀。圖5 ( a )乃爲表示紅色彩色濾 光片層30R之上面形狀的圖，圖5 ( b )係爲沿著切斷線 Vb-Vb之咅IJ面圖，圖5 ( c)係爲沿著切斷線Vc-Vc之剖面 圖。然而，針對在圖5 ( b )及（c )係之後所形成之各層 ，亦合倂表示。 針對在此例，各彩色濾光片層係圖4 ( a )所示之2種 之個別的帶狀形狀乃形成於位於設置同種之彩色濾光片層 30之2個開口部（同色之副畫素）之間的黑矩陣20上方 ，具有經由延伸於第2之方向之帶狀形狀部分所連結之一 體的構造（參照圖5(a))。針對在此例，如圖5(b) 所示，針對在延伸於成爲與異種之彩色濾光片層3 0之交 界之黑矩陣20之第1方向的部分，形成依序層積3種彩 色濾光片層3 0的間隔壁。加上，如圖5 ( c )所示，針對 在位於同色之2個副畫素之間的黑矩陣20上，亦形成層 積3種彩色濾光片層3 0 ( R，G，B )的間隔壁。如以上， -24- 200914898 針對在此例，關於3色（R，G，B)之副畫素之所有，呈 圍住各副畫素地形成間隔壁，得到對於各副畫素獨立之擋 牆構造。對於如此所構成之各副畫素獨立之擋牆構造係針 對在抑制各副畫素間之色變換層40的膜厚之不均的點爲 有效。 參照圖6而說明第2型態之第3例。對於圖6係表示 作爲彩色濾光片層30的例，最初形成於黑矩陣20上之紅 色彩色濾光片層30R，綠色彩色濾光片層30G及藍色彩色 濾光片層3 0B，亦除了所形成之位置，具有與紅色彩色濾 光片層3 0R同樣的形狀。圖6 ( a )乃爲表示紅色彩色濾 光片層3 OR之上面形狀的圖，圖6 ( b )係爲沿著切斷線 VIb-VIb之剖面圖，圖6 ( c)係爲沿著切斷線VIc-VIc之 剖面圖。然而，針對在圖6 ( b )及（c )係之後所形成之 各層，亦合倂表示。 針對在此例，如圖6 ( a )所示，各彩色濾光片層3 0 係從2種之個別的部分所構成。第1之矩形狀部分係爲呈 被覆成爲該色之副畫素之黑矩陣2 0的開口部地所形成之 副畫素部分。而第2之格子狀部分係形成於黑矩陣20之 上方，由延伸於呈圍住成爲副畫素之開口部地垂直交叉之 2個方向之帶狀形狀部分之組合所構成。如圖4 ( b )及圖 4(c)所示，在黑矩陣20之上方，形成依序層積3種之 彩色濾光片層3 0之格子狀部分之間隔壁。另外，針對在 此例，與圖5所示的例同樣地，關於3色（R，G，B )之 副畫素之所有，呈圍住各副畫素地形成間隔壁，得到對於 -25- 200914898 各副畫素獨立之擋牆構造。其構成係對於黑矩陣2〇之寬 度則比較於彩色濾光片層3 〇做成時之寬度’充分大之情 況而爲有效，經由分離副畫素部分’和爲了形成間隔壁之 格子狀部分之情況，可做爲抑制重疊彩色濾光片層3 0之 範圍（間隔壁形成範圍）附近之膜厚的不安定性’均一地 作爲間隔壁形狀，及均一地做爲經由間隔壁所形成之擋牆 構造之容量者。 本發明之第2實施形態係爲包含製造色變換濾光片之 工程，和形成包含透明電極，有機EL層及反射電極之有 機EL元件之工程的有機EL顯示器之製造方法。 本實施形態之有機EL顯示器之製造方法的第1型態 :包含（1 )經由第1實施形態之方法，製造色變換濾光 片之工程，和（2 )於前述色變換瀘光片上，形成阻障層 之工程；和（3 )形成於前述阻障層上，依序包含透明® 極，有機EL層及反射電極之有機EL元件之工程。於圖7 表示在本型態所得到之有機EL顯示器。 針對在本型態，雖爲任意選擇，但在於色變換濾光片 上，形成阻障層之前，亦可形成平坦化層（不圖示）。而 平坦化層係針對在消解經由彩色濾光片層3 0及色變換® 4〇所形成之段差，防止之後所形成之有機EL元件中的透 明電極及/或反射電極之斷線的情況而爲有用。前述之’又 差，對於不會對有機EL元件之形成帶來影響之情況’係 亦可省略平坦化層。 爲了形成平坦化層之材料係需要富有光透過性’可不 -26- 200914898 使彩色濾光片層3 0及色變換層40劣化地而形成’且必須 耐於後述之阻障層60之形成條件。 例如，經由塗佈光硬化性或光熱倂用型硬化性樹脂’ 接著進行光及/或熱處理’使自由基種或離子種產生而進 行聚合或交聯，再進行不溶不融化之情況，可形成平坦化 層。可使用之光硬化性或光熱倂用型硬化性樹脂係包含（ 1) 複數具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基之丙烯基系多官能 單體及低聚物，和由光或熱聚合開始劑而成之組成物，（ 2) 由聚乙烯苯基丙烯酸酯與增感劑而成之組成物，（3) 鏈狀或環狀鏈與二迭氮而成之組成物，或（4)具有環氧 基之單體與光氧產生劑而成之組成物。特別是可以高精細 進行圖案化，以及經由耐溶劑性及耐熱性等之信賴性爲高 之情況’ （1 )的組成物則爲理想。然而，對於部分性地 進行光及/或熱處理而實施平坦化層之圖案化情況，理想 爲在未硬化之狀態，對於有機溶劑或鹼性溶劑，使用可溶 性之樹脂者。 或另外，亦可使用聚碳酸酯（pc)，聚對苯二甲酸乙 二醇酯（PET )，聚醚颯，聚乙烯醇縮丁醛，聚氧化二甲 苯’聚薩胺’聚乙醚，降冰片烯系樹脂，甲基丙烯酸樹脂 ’異丁基馬來酸酐共聚物樹脂，環狀烯烴系等之熱可塑性 樹脂；環氧樹脂，苯酚樹脂，胺酯樹脂，丙烯酸樹脂，乙 燦酯樹脂’亞胺系樹脂，胺酯系樹脂，脲醛樹脂，三聚氰 胺樹脂等之熱硬化性樹脂；或含有聚苯乙烯，丙烯腈，聚 碳酸酯等3官能性，或4官能性之烷氧基矽烷之高分子複 -27- 200914898 合物等，形成平坦化層。對於此情況，在塗佈此等材料之 溶液或分散液之後，經由溶劑或分散劑之除去，以及因應 必要而進行硬化處理之情況，可得到平坦化層。 在此，對於平坦化層之形成，使用溶劑或分散劑之情 況’期望爲選擇不會引起位於下方之色變換層40的溶出 之溶劑或分散劑者。或另外，亦可在平坦化層之形成前， 形成保護層而防止色變換層40之溶出。而保護層係例如 ’可使用與後述之阻障層6 0同樣的材料及方法而形成者 〇 接著，呈被覆前述之黑矩陣20，彩色濾光片層30, 色變換層40及平坦化層（存在之情況）地，形成阻障層 60。阻障層60係可爲單一的層，而亦可爲複數的層之層 積。而阻障層60係從有含於形成於其下方之層中的可能 性之水分及氧，保護後述之有機EL層1 40之構成要素之 情況而爲有效。 阻障層60係可使用具有電性絕緣性，具有對於氣體 及有機溶劑之阻障性，且富有針對在可視域之透明性的材 料（在40〇~7 0 0nm之範圍，透過率50%以上）而使用。爲 了可耐後述之透明電極130之製膜，理想爲使用具有2H 以上之膜硬度的材料，形成阻障層60之情況則爲期望。 可使用之材料’係例如包含SiOx，A10x，TiOx，TaOx , ZnOx等之無機氧化物，SiNx等之無機氮化物，及SiNx〇y 等之無機氯氧化物。而阻障層60係可經由針對在濺鍍法 ，CVD法’真空蒸鍍法等之該技術所知道之任意手法而形 -28- 200914898 成。期望係阻障層60，使用具有良好覆蓋範圍之CVD法 ，由高折射率之S i N x所形成。 最後，於阻障層60之上面，配設有機EL元件。針對 在本型態之有機EL元件係依序含有透明電極1 30 ’有機 E L層1 4 0及反射電極1 5 0。針對在本型態之有機E L元件 係具有可獨立抑制發光/非發光之複數之發光部。 作爲第1階段，於阻障層6 0之上面，配設透明電極 130。透明電極130係可使用ITO，氧化錫，氧化銦，IZO ，氧化鋅，鋅-鋁氧化物，鋅-鎵氧化物，或對於此等之氧 化物而言，添加F，Sb等之摻雜劑之導電性透明金屬氧化 物而形成。透明電極1 3 0係使用蒸鍍法，濺鍍法或化學氣 相堆積（CVD )法，將前述之導電性透明金屬氧化物全面 地進行成膜之後，使用光微影法等進行圖案化所形成。理 想係使用濺鍍法所形成。透明電極1 3 0係從延伸於第1之 方向之帶狀形狀之複數之部分電極所構成。該複數之部分 電極係設置於對應於彩色濾光片層3 0之位置。 透明電極13〇係可爲陽極，亦可爲陰極。而對於將透 明電極1 3 0作爲陰極而使用之情況，亦可於透明電極1 3 〇 與有機EL層1 40之間，設置陰極緩衝層，使電子注入效 率提升。而陰極緩衝層係可從Li，Na，K或Cs等之鹼性 金屬’ Ba或Sr等之鹼土類金屬，稀土類金屬，含有此等 金屬之合金，或此等金屬之氟化物等而形成。從爲了確保 透明性之觀點，期望爲將陰極緩衝層的膜厚作爲〗0nm以 下之情況。 -29- 200914898 作爲第2階段，於透明電極13 0之上面，配設有機 EL層140。針對在本發明，有機EL層140係至少含有有 機發光層，具有因應需要而使電洞注入層，電洞輸送層， 電子輸送層及/或電子注入層介入存在之構造。具體而言 ，對於有機EL元件，係採用如下記的層構造而成之構成 (1)陽極/有機發光層/陰極 (2) 陽極/電洞注入層/有機發光層/陰極 (3) 陽極/有機發光層/電子注入層/陰極 (4) 陽極/電洞注入層/有機發光層/電子注入層/陰極 (5) 陽極/電洞輸送層/有機發光層/電子注入層/陰極 (6) 陽極/電洞注入層/電洞輸送層/有機發光層/電子注 入層/陰極 (7) 陽極/電洞注入層/電洞輸送層/有機發光層/電子輸 送層/電子注入層/陰極 構成有機EL層1 40之各層係使用針對在該技術所知 道之任意材料所形成。例如，作爲爲了得到從藍色至藍綠 色之發光的有機發光層之材料，例如理想使用苯并噻唑系 ，苯并咪哇系’苯并噁唑系等之螢光增白劑，金屬螯合物 化經化合物，苯乙烯基苯系化合物，芳香族二次甲基系化 合物等之材料。另外，因應必要，有機發光層之發光色亦 可爲白色。此情況係使用公知之紅摻雜劑。另外，構成有 機EL層1 40之各層係可使用針對在蒸鍍法等之該技術所 知道之任意方法所形成。 -30- 200914898 作爲第3階段，於有機EL層140之上面，配設反射 電極1 5 0。反射電極1 5 0係理想爲使用高反射率之金屬， 非晶質合金，微結晶性合金所形成者。而高反射率之金屬 係包含Al，Ag，Mo，W，Ni，Cr等。高反射率之非晶質 合金係包含NiP，NiB，CrP及CrB等。高反射率之微結 晶性合金係包含NiAl等。而亦可將反射電極150作爲陰 極而使用，或作爲陽極而使用。對於將反射電極1 5 0作爲 陰極而使用之情況，於反射電極150與有機EL層140之 界面，亦可設置前述之陰極緩衝層而使對於有機EL層之 電子注入之效率提升。或另外，對於前述之高反射率金屬 ，非晶質合金或微結晶性合金而言，添加功函數爲小之材 料的鋰，鈉，鉀等之鹼性金屬，鈣，鎂，鋸等之鹼土類金 屬而合金化，可使電子注入效率提升。另一方面，對於將 反射電極1 5 0作爲陽極而使用之情況，於反射電極1 5 0與 有機EL層140之界面，亦可設置前述之導電性透明金屬 氧化物的層而使對於有機EL層1 40之電洞注入之效率提 升。而反射電極1 5 0係亦可使用依存於所使用之材料，針 對在蒸鍍，濺鍍，離子電鍍，雷射除去等之該技術所知道 之任意手段而形成。 反射電極1 5 0係從延伸於第2之方向（垂直交叉於第 1之方向的方向）之帶狀形狀之複數的部分電極所構成。 而由複數之部分電極而成之反射電極150係可經由使用具 有得到期望形狀之開口部的光罩之蒸鍍法而形成。或另外 ，亦可在透明電極1 3 0之形成後，具有逆錐型之剖面形狀 -31 - 200914898 ，形成延伸於第2之方向之帶狀形狀的分離間隔壁，之後 ，實施有機EL層140及反射電極150之形成，形成由複 數之部分電極而成之反射電極150。 經由以上的方法，可得到做爲被動矩陣驅動之底部放 射型有機EL顯示器。 本實施形態之有機EL顯示器之製造方法的第2型態 係包含（η經由第1實施形態之方法，製造色變換濾光 片之工程；（2) 於第2支持體上，形成將反射電極、有 機電激發光層及透明電極依此順序包含之有機電激發光元 件之工程；和（3 )於前述有機電激發光元件上，形成阻 障層之工程；和（4 )將形成前述阻障層之有機電激發光 元件與前述色變換濾光片，使前述色變換層與前述阻障層 對向而組合之工程。於圖8表示在本型態所得到之有機 EL顯示器。 針對在工程（2)，於第2支持體210上，形成將反 射電極25 0、有機電激發光層240及透明電極230依此順 序包含之有機電激發光元件。而第2支持體係可爲透明， 亦可爲不透明，可使用玻璃，矽，陶瓷’各種塑料，各種 薄膜等而形成。而於對應於第2支持體210之表面上之有 機EL元件的發光部之位置，亦可設置複數之開關元件 220。複數之開關元件220係例如亦可爲針對在TFT ’ MIM等該技術所知道之任意的元件。此情況，於第2支持 體210之表面上，可更設置爲了複數之開關元件220之配 線，驅動電路等。 -32- 200914898 反射電極2 5 0係使用與第1型態之反射電極丨5 〇同樣 的材料’使用針對在蒸鍍，濺鍍，離子電鍍，雷射除去等 之該技術所知道之任意手段而形成。而反射電極250係從 對應於複數之開關元件220之複數之部分電極所構成。而 對於複數之部分電極之分割係可使用針對在光微影法等之 該技術所知道之任意手段而實施。 於反射電極250之上方，形成有機電激發光層240。 有機電激發光層240係可使用與第1型態之有機EL層 1 4 0同樣的材料及方法來形成。 於有機電激發光層240之上方，形成透明電極23 0。 透明電極2 3 0係使用與第1型態之透明電極1 3 0同樣的材 料而形成。透明電極23 0係可使用針對在蒸鍍法’濺鍍法 或化學氣相堆積（CVD )法而形成。透明電極230係爲一 體型之共通電極。 接著，針對在工程（3)，形成被覆有機EL元件之阻 障層260。阻障層260係使用與針對在第1型態之阻障層 60同樣的材料及方法所形成。 最後，針對在工程（4)，將形成有機EL元件及阻障 層26 0之第2支持體210與色變換濾光片’經由色變換層 40與阻障層260爲對向支狀態組合之情況’得到頂放射型 之有機EL顯示器。而第2支持體26 0與色變換濾光片之 組合係例如，可經由使用設置於透明基板1 〇與第2支持 體210之周緣部之接著層310，接著透明基板10與第2支 持體2〗〇而實施。接著層3 1 0係可使用例如UV硬化性接 -33- 200914898 著劑等之該技術所知道之任意材料而製作。針對在本工程 ，亦可任意選擇性地’於經由透明基板1 〇，第2支持體 210及接著層310所確定之內部空間，塡充塡充劑。塡充 劑係從使光取出效率提升之觀點，期望爲具有與阻障層 260同等以上之折射率之透明之樹脂材料。對於將阻障層 2 6 0 ’以S i N x而形成之情況，期望爲使用具有i . 6〜丨.7以 上之折射率的透明樹脂材料。 經由以上之方法’可得到主動矩陣驅動之頂放射型之 有機EL顯示器。或另外’經由從未設置複數之開關元件 220 ’而將透明電極23 0由延伸於第2之方向的帶狀形狀 之複數之部分電極而構成，將反射電極250由延伸於第1 之方向的帶狀形狀之複數之部分電極而構成之情況，當業 者理解到得到被動矩陣驅動之頂放射型之有機E L顯示器 〇 另外，針對在以本實施形態之方法所製造之有機EL 顯示器，經由第1色素之吸收，從第1色素至第2色素之 能量移動，及針對在來自第2色素之發光的色變換層40 之一連串過程的效率係爲一定。即，來自第2色素之放射 光量係與EL光的強度成正比而產生變化。隨之，以本實 施形態之方法所製造之有機EL顯示器係伴隨驅動電壓之 變化，或通電時間之增加，來自有機E L元件的E L光的 強度，即使變化，隨著其變化’變換光之發光強度亦產生 變化，故可將長時間所期望之色相的光線’安定地進行發 光。 -34- 200914898 [實施例] <實施例1 > (色變換濾光片） 於長度200mmx寬度200mmx〇.7mm厚度之1737玻璃 (Corning公司製）上方，塗佈彩色發光面CK-7001 (可 從 FUJIFILM Electronic Materials Co.，Ltd 取得），使用 光微影法，形成具有複數之矩形狀開口部之黑矩陣。而黑 矩陣係具有1 μπι之膜厚。各矩形狀開口部（相當於副畫素 )係具有長度方向131μπιχ寬度方向37μηι，所鄰接之矩形 狀開口部間之間隔係長度方向及寬度方向均爲1 0 μιη。 接著，塗佈彩色發光面 CR-7001 (可從 FUJIFILM Electronic Materials Co.，Ltd 取得），使用光微影法，形 成延伸於長度方向之複數之帶狀形狀部分而成之紅色彩色 濾光片層。各複數之帶狀形狀部分，呈重疊於延伸於鄰接 於兩側之黑矩陣之長度方向的部分地形成。另外，各複數 之帶狀形狀部分係具有Ιμιη之膜厚及5 7 μιη之寬度，以 84μιη之間隔所配置。 接著，塗佈彩色發光面 CG-7001 (可從 FUJIFILM Electronic Materials Co.，Ltd 取得），使用光微影法，形 成延伸於長度方向之複數之帶狀形狀部分而成之綠色彩色 濾光片層，各複數之帶狀形狀部分，呈重疊於延伸於鄰接 於單側之黒矩陣之長度方向的部分及鄰接於相反側之黑矩 陣/綠色彩色濾光片層之層積體地形成。另外，各複數之 -35- 200914898 帶狀形狀部分係具有Ιμπα之膜厚及57μηι之寬度，以 84μιη之間隔所配置。 接著，塗佈彩色發光面CB-7001 (可從FUJIFILM Electronic Materials Co，，Ltd 取得），使用光微影法，形 成延伸於長度方向之複數之帶狀形狀部分而成之藍色彩色 濾光片層。各複數之帶狀形狀部分，呈重疊於鄰接之黑矩 陣/紅色彩色濾光片層之層積體及黑矩陣/綠色彩色濾光片 層之層積體地形成。另外，各複數之帶狀形狀部分係具有 Ιμηι之膜厚及57μιη之寬度，以84μιη之間隔所配置。 經由於延伸於黑矩陣之長度方向之部分，層積2種之 彩色濾光片層之情況所形成之間隔壁，係具有各2μιη之高 度（即，黑矩陣及2種之彩色濾光片層之合計膜厚，和形 成於所鄰接之矩形狀開口部之彩色濾光片層之膜厚的差） 〇 所得到之構造物係具有長度方向1 4 1 μηι X寬度方向 4 7 μιη之副畫素，將由RGB 3色之副畫素所構成之長度方 向 141μιηχ寬度方向 141μιη，具有畫素。此係相當於 1 8 0 p p i之精細度。 接著，混合甲苯1〇〇〇重量份，及爲第1色素之香豆 素6和爲第2色素之二乙基喹吖酮（DEQ )之混合物（莫 耳比係香豆素6 : DEQ = 48 : 2 ) 50重量份，調製噴墨。將 所調製之噴墨，裝塡於噴墨裝置。接著，在氮環境中，對 於1個之綠色副畫素而言，使42pL (將14PL之液滴做爲 3滴）之噴墨附著。未破壞氮環境而使附著噴墨之濾光片 -36- 200914898 ，移動至真空乾燥爐中，以1.0xl0_3Pa之壓力之下，加熱 至100 °C而進行甲苯之除去。所得到之綠色變換層係具有 500nm之膜厚。 混合甲苯1 0 0 0重量份，及爲第1色素之香豆素6和 爲第2色素之DCM-2之混合物（莫耳比係香豆素6: DCM-2 = 48 ： 2 ) 50重量份，調製噴墨。將所調製之噴墨’ 裝塡於噴墨裝置。接著，在氮環境中，對於1個之紅色副 畫素而言，使42pL (將14pL之液滴做爲3滴）之噴墨附 著。未破壞氮環境而使附著噴墨之瀘光片，移動至真空乾 燥爐中，以l.〇xl(T3Pa之壓力之下，加熱至100°C而進行 甲苯之除去。所得到之紅色變換層係具有5 00nm之膜厚。 接著，未破壞真空，而使形成綠色變換層及紅色變換 層之彩色濾光片，移動至電漿CVD裝置內。使用電漿 CVD法，使膜厚Ιμπι之氮化矽（SiN)堆積而形成阻障層 ，得到色變換濾光片。在此，將單矽烷（SiH4 )，氨（ NH3 )及氮（N2 )作爲原料氣體而使用。另外，將阻障層 形成時之彩色濾光片的溫度，維持於1 0 0 °C以下。 (有機EL顯示器） 最初，使用濺鍍法，遍佈阻障層之上面全面，使膜厚 20 0nm之IZO膜堆積。接著，以使用光阻劑「TFR- 1 25 0」 (東京應化工業製）之光微影法，進行圖案化，於相當於 各副畫素之位置，得到延伸於長度方向，具有寬度3 9 μηι 之帶狀形狀之複數之部分電極而成之透明電極。所鄰接之 -37- 200914898 部分電極間的間隙係爲8 μιη。針對在；^ 係爲陽極。 接著，將形成透明電極之色變換擔 加熱蒸鑛裝置內，並未破壞真空地依持 機發光層及電子注入輸送層進行成膜， 而在成膜時，將真空槽內壓減壓至1 X : 層係爲膜厚lOOnm之銅酞菁（CuPc) 膜厚 20nm之 4,4’-雙[N-(l-萘基）-ί NPD )，發光層係爲膜厚30nm之4,4 基）聯苯（DPVBi )，電子注入輸送層 Alq3 0 接著，未破壞真空地使用金屬遮罩 Mg/Ag ( 10 : 1之重量比率）膜堆積， 反射電極係由具有延伸於寬度方向之帶 分電極所構成。而各部分電極係具有 1 4 1 μιη之間距所整列。針對在本實施例 極。 將所得到之層積體，在球型室內之 濃度及水分濃度之雙方同時爲1 Oppm以 璃及UV硬化型黏接劑而密封，得到有 <實施例2 > 除了將黑矩陣的膜厚作爲2μιη之 例1之順序而製作有機EL顯示器。 P實施例之透明電極 ΐ光片，裝著於電阻 ;將電洞輸送層，有 形成有機EL層。 l(T4Pa。而電洞注入 ，而電洞輸送層係 4 -苯胺基]聯苯（α -’-雙（2,2-二苯乙烯 係爲膜厚20nm之 ，使膜厚200nm之 形成反射電極。而 1犬形狀之複數之部 13 1μηι之寬度，以 Ϊ之反射電極係爲陰 .乾燥氮環境下（氧 〔下），使用密封玻 機EL顯示器。 況以外，重複實施 對在本實施例之中 -38- 200914898 間構造物之濾光片，經由層積2種之彩色濾光片層於延伸 於黑矩陣之長度方向的部分情況所形成之間隔壁，係各具 有3 μηι之高度。 <實施例3 > 除了將黑矩陣的膜厚作爲2.5μιη，將各彩色濾光片層 (R，G，Β )的膜厚作爲1 · 5 μηι之情況以外，重複實施例 1之順序而製作有機EL顯示器，針對在本實施例之中間 構造物之濾光片，經由層積2種之彩色濾光片層於延伸於 黑矩陣之長度方向的部分情況所形成之間隔壁，係各具有 4μιη之高度。 <比較例1 > 除了將構成各彩色濾光片層（R，G，Β )的帶狀形狀 部分之寬度作爲37μιη，未進行對於黑矩陣上之彩色濾光 片層的重疊之情況以外，重複實施例1之順序而製作有機 EL顯示器。針對在本實施例之中間構造物之彩色濾光片 ，並未形成間隔壁，而其高度爲Ομπι。 <比較例2 > 除了將構成各彩色濾光片層（R，G，Β)的形成，如 以下地實施以外，重複實施例1之順序而製作有機EL顯 示器。 塗佈彩色發光面C R - 7 0 0 1，使用光微影法，形成延伸 -39- 200914898 於長度方向之複數之帶狀形狀部分而成之紅色彩色: 層。各複數之帶狀形狀部分，呈只重疊於延伸於鄰; 側之黑矩陣之長度方向的部分地形成。另外，各複; 狀形狀部分係具有Ιμηι之膜厚及47μιη之寬度，以 之間隔所配置。 接著，塗佈彩色發光面CG-700 1，使用光微影沒 成延伸於長度方向之複數之帶狀形狀部分而成之綠诌 濾光片層。各複數之帶狀形狀部分，呈只重疊於延伺 接於單側之黑矩陣之長度方向的部分地形成。另外， 數之帶狀形狀部分係具有Ιμιη之膜厚及47μηι之寬虔 94μΐη之間隔所配置。 接著，塗佈彩色發光面CB-7001，使用光微影沒 成延伸於長度方向之複數之帶狀形狀部分而成之藍色 濾光片層，得到彩色濾光片。各複數之帶狀形狀部另 只重疊於延伸於鄰接於單側之黑矩陣之長度方向的部 形成。另外，各複數之帶狀形狀部分係具有1 之膜 4 7μηι之寬度，以94μιη之間隔所配置。 針對在本比較例.，對於延伸於黑矩陣之長度方向 分，係經由層積1種之彩色濾光片層情況而形成間隔 所形成之間隔壁’係具有各1 μιη之高度。 <比較例3 >

除了將各彩色濾光片層（R，G ’ Β )的膜厚 〇.5μηι之情況，重複實施例1之順序而製作有機EL 光片 於單 之帶 94 μιη ，形 彩色 於鄰 各複 ，以 ，形 彩色 ，呈 分地 厚及 的部 壁。 作爲 顯示 -40- 200914898 器。針對在本實施例之中間構造物之彩色濾光 積2種之彩色濾光片層於延伸於長度方向之部 成間隔壁，係各具有1·5μιη之高度。 <實施例4 > (色變換濾光片） 於長度 200mmx寬度 200mmx〇.7mm厚度 (EAGLE 2000 ·· Corning公司製）上之複數之 塗佈彩色發光面 CK-700 1 (可從 FUJIFILM Materials Co.，Ltd取得），使用光微影法， 數之矩形狀開口部之黑矩陣。而黑矩陣係具有約 膜厚及約1 . 6 μ m (最小部）之線幅。矩形狀開口 度方向1 8 0 μιη，及寬度方向6 0 μιη之間距所排歹L 當於141ppi之精細度。 接著，塗佈彩色發光面 CR-700 1 (可從 Electronic Materials Co.，Ltd 取得），使用光微 成具有圖5所示之形狀的紅色彩色濾光片層。而 紅色副畫素之開口部，重疊於所鄰接之黑矩陣所 伸於第1之方向之帶狀形狀部分係具有約68μιη 另外，其部分係針對在開口部，具有約2 μιη之膜 ，形成於成爲綠色副畫素與藍色副畫素之交界之 ，延伸於第1之方向之帶狀形狀部分，及形成於 副畫素之交界之黑矩陣上，延伸於第2之方向之 部分係各具有約8 μηι寬度之膜厚。 ，經由層 情況所形 .無鹼玻璃 ί板範圍， Electronic 成具有複 1 · 5 μιη 之 部係以長 丨。此係相 FUJIFILM :影法，形 :被覆成爲 '形成，延 之寬度。 :厚。另外 黑矩陣上 •成爲同色 .帶狀形狀 -41 - 200914898 接著，塗佈彩色發光面 CG-700 1 (可 Electronic Materials Co.，Ltd 取得），使用 成除了所形成之位置，具有與紅色彩色濾光 之綠色彩色瀘光片層。更加地，塗佈彩色發 (可從 FUJIFILM Electronic Materials Co_ ’ 使用光微影法，形成除了所形成之位置，具 濾光片層同樣形狀之藍色彩色濾光片層。 針對在以上之構成，對於黑矩陣上，係 及藍色彩色濾光片層之層積構造所構成，形 寬度之間隔壁，得到分離於各副畫素之擋牆 陣與形成於其上方之3種之彩色濾光片層之 膜厚，經由在突起（間隔壁形成部位）膜厚 變爲較各層之膜厚的單純總和7.5 μηι爲低， ，間隔壁之高度，針對在任何部分，均約爲 有所得到之黑矩陣及彩色濾光片層之構造物 及UV照射處理。 接著，混合甲苯1〇〇〇重量份，及爲第 素6和爲第2色素之二乙基喹吖酮（DEQ ) 耳比係香豆素6: DEQ = 48: 2 ) 50重量份， 層用噴墨。將所調製之綠色變換層用噴墨， 氧濃度5ppm以下，水分濃度5ppm以下之 式噴墨裝置（具有約±5μιη之著彈精確度） 綠色副畫素上之擋牆構造而言，使約42PL ( 滴做爲3滴）之噴墨附著。未破壞氮環境而

從 FUJIFILM 光微影法，形 片層同樣形狀 光面 CB-700 1 Ltd取得）， 有與紅色彩色 由紅色，綠色 成具有約8 μ m 構造。而黑矩 層積構造的總 變薄之現象， 約6 μ m。隨之 4 μ m。對於含 ，施以熱處理 1色素之香豆 之混合物（莫 調製綠色變換 裝塡於設定爲 環境的多噴嘴 。接著，對於 將14pL之液 加熱至l〇〇°C -42- 200914898 而進行甲苯之除去，得到綠色變換層。所得到之綠色變換 層係具有約5 00nm之膜厚。 接著，混合甲苯1 0 00重量份，及爲第1色素之香豆 素6和爲第2色素之DCM-2之混合物（莫耳比係香豆素6 :DCM-2 = 48: 2) 50重量份，調製紅色變換層用噴墨。將 所調製之紅色變換層用噴墨，裝塡於噴墨裝置。接著，在 氮環境中，對於1個之紅色副畫素上之擋牆構造而言，使 約42pL (將MpL之液滴做爲3滴）之噴墨附著。未破壞 氮環境而加熱至1 〇〇 °C而進行甲苯之除去，所得到紅色變 換層。所得到之紅色變換層係具有約5 00nm之膜厚。 接著，未破壞氮環境地使形成綠色變換層及紅色變換 層之構造物，移動至電漿CVD裝置內。使用電漿CVD法 ，堆積膜厚2μιη之氮化矽（SiN)而形成阻障層。更加地 ，於相當於間隔壁之位置的阻障層上，使用光硬化性樹脂 (CR-60 0 :日立化成工業製），以約180μιη間隔而形成 直徑1 Ομιη及高度約5 μιη之光間隔件，得到色變換濾光片 (有機EL元件） 準備於 200mmx200mmx厚度 0.7mm之無鹼玻璃（ EAGLE 2000 : Corning公司製）上，形成複數之面板分的 TFT ’和被覆TFT之膜厚3μηι之平坦化樹脂層之基板。於 其基板之平坦化樹脂層上，使用濺鍍法，將由膜厚約 3 00nm之Si0 2而成之鈍化層進形成膜。接著，使用乾蝕 -43 - 200914898 刻，於平坦化樹脂層及鈍化層，形成爲了連接TFT與反射 電極之接觸孔。接著，使用RF平面磁控管濺鍍裝置，將 膜厚約50nm之IZO進行成膜。作爲濺鍍氣體而使用Ar。 經由使用光阻劑（OFRP-800 :東京應化製）之光微影法， 將IZO膜進行圖案化，於各副畫素，形成分離成島狀之 IZO基底層。將各IZO基底層之島狀部，藉由接觸孔而與 TFT以1對1連接。接著，使用濺鍍法，形成膜厚10 Onm 之Ag膜，接著，實施同樣的圖案化，形成由複數之島狀 部分而成之反射電極。各島狀部分係具有長度方向約 164μιηχ寬度方向約44μηι之尺寸，及以長度方向約180μιη ，寬度方向約60μιη之間距所配置。並且，於反射電極上 ，使用旋塗法而塗佈漆用酚醛樹脂（JEM-700R2，JSR製 )，經由光微影法而實施圖案化，於相當於發光部之位置 ，形成具有開口部之膜厚1 μιη之有機絕緣膜（不圖示）。 接著，將形成反射電極之構造物，裝著於電阻加熱蒸 鍍裝置內，於反射電極上，堆積膜厚約1.5 nm之Li，得到 陰極緩衝層。接著，將真空槽內壓力，減壓至lxl(T4Pa， 依序將由膜厚約20nm之Alq3而成之電子輸送層，由膜厚 約3 0nm之DPVBi而成之有機發光層，由膜厚約l〇nm之 α-NPD而成之電洞輸送層，及由膜厚約l〇〇nm之CuPc而 成之電洞注入層進行成膜，得到有機EL層。而各層之成 膜速度係爲〇·1 nm/s。更加地，於有機EL層上，將膜厚約 5nm之MgAg而成之損傷緩和層進行成膜。 接著，將形成損傷緩和層之構造物，未破壞真空之情 -44 - 200914898 況，移動至對向之濺鍍裝置，藉由設置開口部於對應於顯 示部之位置的金屬遮罩，堆積膜厚約1 〇〇nm之IZO，得到 透明電極。更加地，將形成透明電極之構造物，未破壞真 空之情況，移動至CVD裝置，堆積膜厚約2μιη之SiNx， 形成阻障層，得到有機EL元件。 (有機EL顯示器） 將如前述所得到之有機EL元件及色變換濾光片，移 動至維持氧5ppm，水分5ppm以下的環境之貼合裝置內。 並且，將色變換濾光片之處理面（形成阻障層的面）朝上 設置，使用分配器（dispenser)無縫地塗佈環氧系紫外線 硬化接著劑（XNR-5516: nagasechemtex.co·製）於複數之 面板範圍之各外緣，形成接著劑。接著，於各畫面中央附 近，做爲塡充劑，使用機械閥，滴下特定量之熱硬化型環 氧接著劑（折射率1 . 5 8 )。 接著，以將色變換濾光片之處理面對向於色變換濾光 片之處理面（形成阻障層的面）之狀態，設定有機E L元 件。將貼合裝置內，減壓至約1 OPa，使有機EL元件及色 變換濾光片接近至約3 0 μπι，對準此等畫素位置，接著， 將貼合裝置內，返回至大氣壓同時，僅施加一些荷重。此 時，有機EL元件及色變換濾光片係相互相向接近，色變 換濾光片上之光間隔件前端則在接觸於有機EL元件的點 停止。此時，滴下至各個畫面中央之熱硬化型環氧接著劑 係遍佈各畫面之全面，擴散經由光間隔件所形成之有機 -45- 200914898 EL元件及色變換濾光片之間隙。 接著，從色變換濾光片側，只照射紫外線於接著層而 使其暫時硬化，取出於一般環境。之後，使用自動玻璃切 割器與斷裂裝置，分割成各個面板。將經分割的各個面板 ，以加熱爐1小時加熱爲8 0 °C，在爐內自然冷卻3 0分鐘 〇 最後，使用乾蝕刻，除去形成於爲了有機EL元件之 外部連接的端子範圍之阻障層，並使用向異性導電性接著 劑，接著控制1C，得到有機EL顯示器。 <評價> 針對在實施例1〜4及比較例1〜3所製作之有機EL顯 示器，評價是否良好地形成有色變換層。將結果表示於表 [表1] 第1表：色變換層之形成狀況之評價 間隔壁高度(μηι) 色變換層之形成狀況 實施例1 2 良好 實施例2 3 良好 實施例3 4 良好 比較例1 0 不良(混色） 比較例2 1 不良(混色） 比較例3 1.5 不良(混色） 針對在比較例1〜3，間隔壁的高度不足，爲了形成色 變換層之噴墨則洩漏至所鄰接之副畫素，產生混色。另一 方面，針對在具有2μιη以上之間隔壁的高度之實施例1〜3 -46- 200914898 ’可在不會產生混色的情形下’製作紅色及綠色變換層。 如以上，使用噴墨法，可提供具有140ppi以上之高 精細度之圖案的色變換層之新的製作方法。隨之，本發明 係在可適用於近年來逐漸要求高精細度之顯示裝置之開發 的各種顯示器之製造的情況而爲有望。 【圖式簡單說明】 [圖1 ]係爲表示本發明之第1實施形態的第】型態之 色變換濾光片之製造方法的剖面圖，（a )〜（e )係爲表 示各層之層積工程的剖面圖，（e )係爲沿著切斷線ie-Ie 之橫方向剖面圖。 [圖2 ]係爲表示使用於本發明之第1實施形態的第1 型態之色變換濾光片之製造之彩色濾光片層的例圖，（a )係爲上面圖，（b )係爲沿著切斷線11 b -11 b之剖面圖， (c )係爲沿著切斷線iic-iic之剖面圖。 [圖3]係爲表示針對在本發明之第1實施形態的第i 型態之色變換濾光片之製造之變形例，最後所形成之彩色 濾光片層的例圖，（a )係爲上面圖，（b )係爲沿著切斷 線Illb-IIIb之剖面圖，（c )係爲沿著切斷線IIIc-IIIc之 剖面圖。 [圖4]係爲表示使用於本發明之第1實施形態的第2 型態之色變換濾光片之製造之彩色濾光片層的例圖’ （a )係爲上面圖，（b)係爲沿著切斷線IVb_IVb之剖面圖 ，（c)係爲沿著切斷線iVc-iVc之剖面圖。 -47- 200914898 [圖5 ]係爲表示使用於本發明之第1實施形態的第2 型態之色變換濾光片之製造之彩色濾光片層的其他例圖’ (a )係爲上面圖，（b )係爲沿著切斷線Vb-Vb之剖面圖 ，（c )係爲沿著切斷線Vc-Vc之剖面圖。 [圖6]係爲表示使用於本發明之第1實施形態的第2 型態之色變換濾光片之製造之彩色濾光片層的其他例圖’ (a )係爲上面圖，（b )係爲沿著切斷線VIb-VIb之剖面 圖，（c )係爲沿著切斷線Vic-Vic之剖面圖。 [圖7 ]係爲表示本發明之第2實施形態的第1型態之 有機EL顯示器（1副畫素分）之剖面圖。 [圖8 ]係爲表示本發明之第2實施形態的第2型態之 有機EL顯示器（1副畫素分）之剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 〇 :透明基板 20 :黑矩陣 3 0: ( R，G，B )彩色濾光片層 40: (R，G)色變換層 6 0，2 6 0 :阻障層 140 ， 240 :有機 EL 層 150，250:反射電極 210 :第2支持體 220 :開關元件 3 1 〇 :接著層 -48-

Claims (1)

1. 200914898 十、申請專利範圍 1. 一種色變換濾光片之製造方法，其特徵乃包含： (a )於透明基板上，形成具有複數之開口部之黑矩 陣的工程、 (b) 使透過各爲不同之波長域之光的至少二種類之 彩色濾光片層，獨立形成之工程中，於不同之二種之彩色 濾光片層所鄰接之黑矩陣上，重合彩色濾光片層之至少二 者，形成間隔壁的工程、 (c) 於前述彩色濾光片層之至少一個之上，使用噴 墨法，形成吸收特定之波長之光線，輸出包含與吸收之波 長不同之波長的光線之色變換層的工程。 2. 如申請專利範圍第1項之色變換濾光片之製造方 法，其中，於工程（b )中，間隔壁則重合2個彩色濾光 片層而形成者。 3. 如申請專利範圍第1項之色變換濾光片之製造方 法，其中，於工程（b )中，3種類之彩色濾光片層則獨立 形成，間隔壁則重合3個彩色濾光片層而形成者。 4. 如申請專利範圍第3項之色變換濾光片之製造方 法，其中，各個前述3種類之彩色濾光片層乃具有被覆黑 矩陣之開口部而形成的第1之部分，和與前述第1之部分 分離，構成間隔壁之第2之部分。 5. 一種色變換濾光片，其特徵乃以如申請專利範圍 第1項至第4項之任一項之方法所製造，且具有至少一種 類之色變換層。 -49- 200914898 6. —種有機電激發光顯示器之製造方法’其特徵乃 包含： (1 )經由如申請專利範圍第1項至第4項之任一項 之方法，製造色變換濾光片之工程、 和（2a)於前述色變換據光片上，形成阻障層之工程 、 和（3 a )於前述阻障層上，形成將透明電極、有機電 激發光層及反射電極依此順序包含之有機電激發光元件之 工程。 7. —種有機電激發光顯示器之製造方法，其特徵乃 包含： (1 )經由如申請專利範圍第1項至第4項之任一項 之方法，製造色變換濾光片之工程、 和（2b )於第2支持體上，形成將反射電極、有機電 激發光層及透明電極依此順序包含之有機電激發光元件之 工程、 和（3 b )於前述有機電激發光元件上，形成阻障層之 工程、 和（4)將形成前述阻障層之有機電激發光元件與前 述色變換濾光片，使前述色變換濾光片與前述阻障層對向 而組合之工程。 -50-