TW200800403A - Swirl nozzle - Google Patents

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200800403 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種特別用於傳送或霧化液體（較佳為藥 劑調配物或其他流體）之渦旋噴嘴(如請求項1或η之桿的 物）、渦旋喷嘴在霧化液體藥劑調配物時之用途以及^造 渦旋喷嘴及包含渦旋喷嘴之霧化器的方法。 ^ 【先前技術】 當霧化液體藥劑調配物時，目的在於盡可能將精確界定 的適量活性物質轉化成用於吸入之霧劑。霧劑特徵應為小 液滴尺寸平均值較低，同時具有狹窄的小液滴尺寸分佈及 低脈衝（低傳播速率）。 根據本發明之術語"藥劑調配物"超過藥劑範圍而包括产 療製劑或其類似物，特別係用於吸入或其他用途之各㈣ 2。然而，儘管下文之說明主要針對料吸人之藥劑調配 ^父佳霧化，本發明並不限於用以吸人n霧化， 而是亦可用於（詳言之）化妝劑、身體或美容護理劑、家用 製劑（諸如，空氣清新劑、拋光劑或其類似物）、清 . 其他目的之製劑’尤其係用於傳送較少量的製劑。… 、、術語”液體”應在廣義上加以理解，且詳言之，包括分散 液、懸浮液、所謂的懸溶液（溶液與懸浮液之混合物）或1 類似物。本發明-般亦可用於其他流體。然而，下文之說 明主要針對液體之傳送。 根據本發明，術語”霧劑"伤指靈 務d係和務化液體之複數個液滴之 孝父佳雲狀聚集物，豆中哕笙 u初〃 亥專液滴較佳地具有移動方向之大 Π 9030, d〇c 200800403 ，霧 應於 體上無向或寬闊空間分佈，且較佳液滴低速行進，值 d亦可為（例如）小液滴之錐形雲霧，雲霧主要方向對 主噴出方向或喷出脈衝方向。 M35，m A、us 5,951，882 A及 ΕΡ 〇 970 751 用於屑流室之噴嘴之製造。平坦錄匙狀渴流室被钱刻到一 板形材料或組件中，同時具有若干入口通道自平坦側開炎 成切線地通向渴流室。另外，在渴流室中心蝕刻一出“

道牙過H室之薄基底。人口通道在人口端連接至亦钱象

至組件中之環形供應通道。具有此蝕刻結構之組件由一 A 口件覆盍，且安裝於一托架中。此等渦流室噴嘴對較高屬 力及輸送較少量流體或產生極細小液滴而言並不理想P ^ 【發明内容】 " 本發明之目標在於提供一種渦旋噴嘴、渦旋喷嘴之用途 以及製造渦旋喷嘴及霧化器之方法，以能夠使噴嘴構造簡 單及/或製造容易，同時特別仍然允許傳送極少量液體及/ 或達成極細霧化。 此目標藉由如請求項1或12之渦旋喷嘴、如請求項“之 用途、如請求項20或22之方法或如請求項24之霧化器來達 成在申巧專利範圍附屬項中陳述其他有利特徵。 根據本發明之第一態樣，若干入口通道直接及/或成切 線或以切線方向與徑向之間的一角度通向出口通道。無需 先前技術中所用之渦流室。此使得構造尤為緊湊簡單。另 外’其產生會特別承受較高壓力之更穩固結構，因為不再 需要具有薄基底之渦流室來確保較短長度之出口通道。相 119030.doc 200800403 度。改良包圍出口通道之材料及支撐物之加強強 倘若I::進仃分配大體上減少由噴嘴所容納之液體量。 筚巧減2準確地計量極少的量，此方法（例如）在傳送 =配物時报有利。此外’渴旋喷嘴中最小可能的量係 〜+ μ如，用以抵制渦旋噴嘴中之藥劑調配物中的可 此細滴生長及/或由固體沉澱物所導致的渦旋喷嘴污染。 為了霧化液體藥劑調配物，而使藥劑調配物在高昼下通 過：提出之渴旋噴嘴’使將藥劑調配物霧化成霧劑或細小 」 更月確δ之’係在恰離開出口通道時進行霧化。詳 所得之雲務以大體上之錐形形狀釋放。 根據本發明之另—態樣（其可單獨建構）’喷霧嘴包含一 I人π通道之上游之過濾結構’該過濾結構具有小於入 口通道之過道橫截面。此再次使渦旋噴嘴之構造極小且詳 :之極微細，並且，即使在少量液體的情況下亦允許極細 霧化’因為可過遽掉待霧化之液體中所含有的、原本容易 阻塞入q通道之任何微粒或甚至可過濾出口通道ς因此， 即使在極小尺寸之渦旋喷嘴的情況下亦達成高操作 性。 製造渦旋噴嘴之第一種提出方的法特徵在於：在第—板 形組件之平坦側上形成至少一個入口通道，並形成—出口 通道’該出口通道延伸到該組件中且起初在—末端處仍封 閉。隨後將第-組件連接至第二、較隹亦為板形的組件， 以使得第二組件至少部分地覆蓋第一通道區包含入口通道 I19030.doc 200800403 平一側，、有當该兩件材料結合在一起時，才於遠離第 -組件之平坦側上對第—組件進行機械加卫、尤其係研磨 除去，從而在此側上打開出口通道。第二組件在機械加工 中及機械加工之後穩定第一組件。此提供製造具有高穩定 ‘性之相對較薄或較小結構（尤其係較短出口通道）的簡單方 同時亦獲得有強度抵抗高流體壓力或其他應力之 喷嘴。 • 製造渴旋噴嘴之第二種提出方法的特徵在於：在第_、 較佳為板形組件中自平坦側開始形成至少一個入口通道； 出口通道至少部分地形成於第二、較佳為板形組件中，士亥 出口通道自平坦側開始且特別係在其橫向上延伸，且㈣ 兩件材料結合在一起，以使得第二組件至少部分地覆蓋第 一組件包含入口通道之平坦側。 奴仏i每甚至極細結構 間早方式。彼此獨立地製造該至少—個人口通道及出口 通道使得有可能最佳化所涉及的製造過程。 ·=一較佳特徵，在該兩件材料結合在一起之前特別 猎由姓刻而形成出口通道，出口通道處於第二組件之僅— 側上，並且係敞開的。隨後，第—次將該兩件材料結 離起丰以使得出口通道之開口朝向第—組件。 離組件之平坦側上對第二組件進行機槭加工、尤其係研; 除去，從而在此側上打開出口通道。 繁一如力^ ，且件可因此穩定 一、、、牛，甚至在機械加工中及機械加 f實施方式】 〜爰亦係如此。 圖1為根據本發日狀第—實施㈣提出料她的示意 U9030.doc 200800403 性平面圖、’其中渦旋噴嘴1沒有外罩。渦旋喷嘴!具有至少 、、個入通一道2，較佳為若干個，且特別為2至12個入口通 道2。在所示之實施例中，提供四個入口通道2。 心疋喷嘴1亦具有出口通道3，出口通道3在圖！所示之圖 式中橫向延伸，亦即，至少與圖式之平面成一角度且尤並 係垂直於圖式之平而。_ a 、 入口通道2在所示之實施例中在圖 式之平面中延伸’因此，詳言之係在共同平面中。相應 地，出口通道3橫向（成-角度或斜度）尤其係垂直於入口通 道2而延伸，或及夕介 飞反之亦然。入口通道2亦可在不同表面（例 如’錐形表面）上延伸。 吾人提出入口通道2較佳的為直接、徑向及/或成切線地 通向出口通道3,但入口通道亦可以切線方向與徑向之間 的角度通向出口通道3,較佳的為更接近切線通向出口通 道3，特別較佳的為處在自切線開始的25。角的範圍中。因 此，砰s之，不提供先前技術中所習知的（額外）渦流室。 之說明可清楚瞭解到，此允許渦旋噴嘴1之結構保 、、間早緊凑’且特別穩固。渦旋喷嘴!亦可具有處於入口 通Γ之上游的其他結構；所以，此等結構不必形成涡旋 :。1之外部入口，而是簡單地成為至出口通道3之供應管 渦旋喷嘴1用來傳送且特別係霧化流體·，諸如，液體（未 圖示），特別係藥劑調配物或其類似物。若圖〗所示之結構 或配置經適當遮蓋，則液體較佳專門經由人口通道2供應 至出口通道，以使得渦流或紊流直接在出口通道3中形 H9030.doc -10- 200800403 成。液體較佳地僅經由出口通道3放出，詳言之，沒有任 何後續管線、通道或類似部分，並且，液體在此時或之後 馬上霧化成霧劑（未圖示）或精細小液滴或微粒。 入口通道2之入口較佳為與出口通道3之中心軸線μ存在 ^距，此間距較佳為5()至3⑽_，尤其為9G至12〇_。 洋吕之’该等入口繞出口通、音7 甘丄 、C 3或其中心軸線μ均一地酉己 置成一圓形。 入口通道2基本上以你a v, 向或考曲組態延伸向出口通道3， 較佳地具有怪定的或朝Θ °出口通道3持續增加之曲率， 或通道橫截面逐漸減，1、 χ 干汉/ 祈減小。入口通道2之曲率方向 旋噴嘴1或出口通道3中少、六A 7驗'玲 中之液體（未圖示）的渦旋方向。 入口通道2特別較佳 L \上 大體上根據下述公式被彎曲， 此么式以極座標給出 度）： 通道2之側壁形狀（r=半徑，角

R 其中RA為所討論入口通道2之出口半徑，且 徑，而wjWe為對應角度。 E為八入口半 …道2較佳全部朝二 … 可流過之橫截面面積乍尤，、基於流體 入口通道2較佳形成急，一刀之一。 雜辟 4 一 凹區’特別係處於導引器件、隔 離壁、升南區部4或類似 匕“ 口通道2或形成或界Ό0卜在所^施例中，入 八口通道2之升高區部4至少大體上 2 29030.doc 200800403 為新月形或半月形。 口通道2之深度在每—情況下較佳為5至35_。較佳 也，入口通道2之出口各 之寬度。百至30 _、特別係10至20 μχη 广：仏地’入口通道2之出口各與出口通道3之中心軸線Μ 存在一間距，此間距相當於“通道3之直㈣u倍至15 ::/或至少丨_。自圖2及圖3所示之示意性截面可以推 士 ，出口通道3可於其入口區域中橫截面或直徑稍微變 ，其中該入π區域係由入口通道2之出口或升高區部*之 末端區域徑向限定或形成。此變大主要係藉由製造技術產 生 且車父佳為足夠小而鱼洛厭S月 〇疋幻』阳/、，夜Μ無關。此可能徑向偏移因此 無關緊要’且入口通道2仍然直接通向出口通道3。直巧之 變大程度較佳為至多30 _、特別係僅1〇_或更小。自出 、通道3之，k大部分至其餘部分之過渡可為階梯形或可能 為圓錐形的。 仏地A 口通道3至少大體上為圓柱形。尤其對上述 入：區域而言更係如此。出口通道3較佳具有至少大體上 恆定之橫截面。在此方面，入口區域之完全(輕微”龙大並 不破認為係必要$。然％ ’出〇通道3亦可能在其長度上 =/或在入口區域或出口區域中具有一輕微錐度，特別係 藉由製造方法而產生之錐度。 出口通道3之直徑較佳為5至1〇〇 μιη，特別係“至仏 ㈣。出π通道3之長度較佳為1Q至_ μπι，特別 Μ111，及/或較佳相當於出口通道3直徑之〇 5至2倍。 H9030.doc 200800403 屑方疋喷紫1車乂 4土包含_處於入口通道2上游之過遽結構， 在所示之貝轭例中，該過濾結構係由升高區部$形成，且 特別包3小於入口通道2之過道横截面。過濾結構（圖1中 並未按比例I不)防止微粒進入入口通道2，此等微粒可能 會阻基人口通道2及/或出口通道3。此等微粒由過滤結構 濾出原α在於過道橫截面較小。過濾、結構亦可獨立於 上文所述之渴旋嘖嘴1 4 h # 、％ 1之較佳構造而形成於其他渦旋噴嘴 中 〇 對於過濾結構而言，應指出其具有«面較小之複數個 平行流動通道，且因此而較佳提供大體上多於人π通道2 L動路;L 、、、°果，過濾結構之流動阻力較佳小於平行入 口通道2之流動阻力。此亦麵甚至（例如）在過濾結構之個 別流動路徑被微粒阻塞時的滿意操作。 k t 2在入口端附接至共同供應通道6，供應通道& 用來分配並供應㈣奴㈣。在所以實_巾，供應 ^ 6較佳為環形的（對照圖】），且自周邊圍繞入口通道2。 : (、應通道6徑向配置於（一方面）過濾結構或升高區 P 〃（另方面）入口通道2或升高區部4之間。供應通道6 ，確保所有入口通道2足夠供應有待霧化之液體，例 、v f如圖1所不液體僅自—侧供應時或在過濾結構 被邛么阻塞時亦能供應足夠液體。 現將更為詳細地闡述上述提出㈣噴嘴i之較佳製造。 二处所述之製造方法理論上亦可用於其他渦旋喷嘴，甚 至可此用於具備渦流室之渦旋噴嘴。 119030.doc -13- 200800403 、乙2及出口通道3、較佳地共同供應通道6及/或過 慮結構亦較佳形成於單件構成或多部分構成喷嘴❸中。 下文將更為全面地描述兩種所提出之方法及實施例。 …在弟-實施例中’噴嘴體7形成為兩個部分。其包含— 弟-、較佳為板形組件8及第二、較佳為板形組件9。 圖1僅展示第一组# 8，介& 件8亦即，不具有形成外罩之第二組 件9的渦旋喷嘴！。圖2以 口 1之線ΙΚίΙ上之示意性截面展示 -兩個組件8及9處在尚未完全製成狀態下。 =實施例中，首先，所要結構自平坦側開 刀地且特別係至少大體上完全 係藉由蝕列，& 弟一組件8中，特別 方法形成H 51 “技财所描述之 通、f2上 個入口通道2且較佳所有入口 通道2及出口通道3自平 更焊一” 千坦側開始凹陷於第一組件8中，且 。。之错由蝕刻而形成為 平坦側而延#。入口通道2特別平行於 叩、彳甲出口通道3特別與平扫相 且起初係凹陷的或僅开…心 以直角而延伸’ W &僅&成為—端封_凹座（盲孔）。 另卜所有其他所要結構或類 組件8 Φ，士、甘γ t 傅J问％形成於第一 尤八係共同供應通道6、 送管路或類似部分。 …、、。構及/或其他饋 =組件8較佳切或某種其他合適材料組成。 /後’將第一組件8結合至第二細件 9至少部分地覆¥箓，从A 乂便传弟二組件 …/ 包含入口通道2之平扭側或入 =道2,從而形成渦旋喷嘴i之所要密封中空社構或入 、，且件8與9特·*所謂的黏結或焊接而結 ^ ^。然 J 19030.doc •14- 200800403 I的理論上，任何其他合適的附著方法或夾層構造均係可 ，特別較佳的替代實施例中’利用板構件（未圖示 糸石夕晶圓，自其複數個第—組件8用於複數個渦旋嘴嘴 立在分開為個別組件8或渦旋噴嘴！之前，較佳該等結構 '凹區或凹座起初自板構件之平坦側而形成，以用 ^第一組件8或渦旋喷嘴i。此特別藉由半導體製造中所 "的精細結構處理或餘刻而完成，因此 參考與料刻或類似方式有關的先前技術。方面本文 特別較佳地係，第二組件9類似於第一組件8由一板構件 I造=該板構件分開為或分離成複數個第二組件9。為了 开7成弟-組件8，特職佳的係如上所述利用係晶圓作為 反構件肖於產生第二組件9之板構件亦可為石夕晶圓或某 些其他晶圓、一片玻璃或其類似物。 土若利用板構件來產生第—組件8及第二組件9,則特別較 佳的係在該等板構件分開為個別組件8及9之前將其結合在 一起。此使得裝配及定位大體上較為容易。 為了幫助將板構件相對於彼此而定位，特別較佳的係利 用相同尺寸及形狀的板構件。舉例而言，若利用盤狀石夕晶 圓來形成第-組件8’則建議利用相同尺寸之盤狀板構件 (例如’由玻璃製造）來形成第二組件9。很明顯，可使用其 他板形狀並可結合在-起，諸如，矩形板構件 '然而，特 別推薦圓盤’因㈣晶圓或其他材料可特別便宜地獲得。 應注意’結合在-起之板構件需要時可具有不同形狀或尺 119030.doc -15- 200800403 寸。 在兩個組件8與9或形成其之板構件結合在-起之後，在 板構件为離或分開為個別組件8 ^ ^ ^ ^ 或為渦旋噴嘴1之前或 之後，在通離弟二組件9或其板構件對 件8或對應板構件進行機械加工 以、且 .,. 斤 将別係研磨除去。以此 方式’弟一組件8之厚声女雜μ 中，釦私戶痒η 又_破減小。在習知矽晶圓 被大體二通常為約_至7°° _。此厚度D1(例如) 被大體上減小至約150陶或更小之厚度m。此使得自機械 加工側打開起初在—側上封閉的出口通、、、 長度因而由厚度1)2判定，Α中將广。口通道3之 件8之板構件機械加工至厚度D2。，且件8或形成第—組 ^述Γ造方法使得較易形成第—組件8㈣，且同時

高穩定性及抵抗力，特別係抵抗高J 仵第—二 與第一組件8形成-統-整體，且確 8之所需穩定㈣穩定化程度，甚至在其極薄 時亦係如此。 狂辟 沾：外’在入口通道2與出口通道3之間較佳不存在渦产室 的事實亦有助於第一組件8之高穩定性或承載能力在= =有極小厚她時亦係如此。實情是，劃定或界定入 二二Tit其:腹 徑。因此，第一二二具二大體上小於正常渦流室之直 小至出口通道3之直徑 域中無支樓之區部基本上減 、’·。合在-起之板構件最終分別分開為較佳矩形或正方形 119030.doc -16- 200800403 ==圓形的組件8及9，亦即分開為成品料嘴嘴， 、y猎由鋸切或其他機械加工分開。 現將荼考圖3來描述所提出 佳製造方法之、 〈弟-貝施例及較 弟一貫施例。圖3以圖1中1之線IIMV上之截 對應於圖2)展示根據第二實施例之渦旋喷嘴1。下文 =弟二實施例與第一實施例之間僅有的主要差別。在 -方面’上文之論述相應地或以補充方式繼續適用。 开二I施例中，出口通道3至少部分地、特別係至少 二特別Γ第二組件9中。渴旋噴嘴1之結構之其餘部 此古 少一個入口通道形成於第-組件8中。因 構、’特少較大程度上獨立於㈣噴嘴1之其餘結 2特別係渦旋喷嘴1之入口區域之製造而產生出口㈣ 在第二實施例中，將兩個組件8與9結合在一起之前，以 凹座之形式、較佳藉由蝕刻 至少部分地凹陷於第二組件9中，出並 而延伸。然而，理論上亦有可能僅在二:、平坦侧成直角 一 此僅在兩個組件8與9結合在 -起之後形成出口通道3或使出口通道3成為凹陷。 特別較佳的係，在兩個組件8與9結合在—起之前，出口 通道3起初特別藉由姓刻而僅凹陷於第二組件9中之一侧 二同時其係敞開的，亦即，如同第-實施例-樣為—盲 孔，但，在此情況下在第二組件9中而不在第一組件8中。 視情況，可隨後研磨、拋光或以其他方式（例如 旋轉姓刻）使表面變薄。隨後將兩個組件㈣⑼入在曰一 119030.doc -17- 200800403 起。較佳，此再次藉由將板構件結合在 每一板構件形成複數個組件8或9。 凡成，八中 最後，隨後在遠離第_ 研磨第二組件9或形成第二之平坦側上減帛、特別係 等出口通道3自機^ 之板構件。此使得該或該 件.人被打開。然而，亦可在該等組 件、“在一起之前進行機械加工及/或打開。 :二組件9或對應板構件之減薄較 例中所闡述之厚度D2，々弟只施 形。 口此之别所作論述適用於此情 在第曰二實施例中’亦較佳將石夕用於第二組件9。詳言 ’矽晶圓或其類似物用作形成第二組件9之板構件 所述所提出萝泸方法、， 反構件。 亚不限於所提出或展示之渦旋噴嘴 、“ —般亦可用於其他渦旋噴嘴1，且亦可用於 涡流室噴嘴’亦即具有渴流室之渦旋噴嘴。 薄在=;較佳地利用'刻來加工材料、特別係使其減 ，了獲取極精確、極精細之結構，特別係凹 座、通道及類似結構’最佳處於50陶、特別係30 _或更 ::::範圍中。然而’另外或替代地，亦可利用機械加 材：及/或定形之其他方法’諸如，雷射處理、機械處 理、鑄造及/或壓印。 較佳’渦旋喷嘴！至少大體上為平坦及/或板形的。液體 (未圖示）之主要流動方向或主要供應方向基本上處在主要 方向上，此特別對應於組件8、9之板之平面、組件 8、9的結合在—起之表面或與其平行之平面。出π通道3 H9030.doc -18- 200800403 為軼向延伸，尤其係垂直於主要延伸平面或噴霧嘴！ 之板之平面、液體之主要流入方向及/或過遽結構之主要 L伸方向而延伸。出口通道3之主要延伸方向及渦旋噴嘴! 之主要傳迗方向較佳在中心軸線Μ之方向上延伸。 形成於渦％噴嘴i中之入口通道2、供應通道6、過濾結 構及/或用於液體之其他流人區域較佳至少大體上配置於 共同平面中，且最佳為自組件8之平坦側或表面開始而特 別僅形成於一側上: 、理順上，複數個出口通道3乃至複數個渦旋喷嘴1可形成 於組件8、9上。隨後相應調適結構。圖4以一對應於圖五之 視圖來展示根據第三實施例之渦旋喷嘴，該實施例具有處 於組件8及/或9上之若干（此情況下為三個）渦旋喷嘴〗及一 /、同k濾、、Ό構5。上文之論述及解釋相應地或以補充方式 適用。 亦可按需要彼此組合多種實施例及申請專利範圍之個別 特徵及態樣。 所提出之渴旋喷嘴！最佳地用於霧化液體藥劑調配物（該 藥劑調配物在高壓下通過渴旋噴嘴υ，以使得將自出口通 道3出來之藥劑調配物被霧化成霧劑（未圖示），更詳言之係 具有若干微粒或小液滴，該等微粒或小液滴之平均直徑小 於1〇 μΐΏ，較佳為1至7^m，特別係大體上為5 μηι或更小。 較佳，將所提出之渦旋喷嘴丨用於下文所描述之霧化器 1 〇。洋吕之，渦旋噴嘴〗用來達成極好或極細之霧化，同 時達成相對較大之流量及/或相對較低之壓力。 119030.doc •19- 200800403 圖5及圖6居千 丁心、 不處在未張緊狀態下（圖5)及處 下（圖6)之霧化器1〇 你浪策狀恶 吸入m 霧化器i0特別建構為一攜帶型 ^ 奴佳地在無推進氣體的情況下運作。 器 :旋贺嘴1較佳地安裝於霧化器!。中，特 因此，獲得-噴嘴配置22。 持 務化益10用於霧化流體12，特別係高效 物或其類似物。者霰彳卜A， 杀Μ凋配 田務化/爪體12(較佳為液體，尤 時’形成霧劑24,1可被#用去^ 尤/、係樂劑） 心 ，、被使用者（未圖示）吸進或吸入。 韦視患者狀況而定，一天至少進行一次 -天幾次吸入，較佳為以指定間隔吸入。、別的係 已^的霧化器10具有可插入且較佳為可更換的容器⑴ 二一 13裝有流體12。因此，.容器13構成用於待霧化之 流體12之儲集器。較佳地^ ^ ^ ^ 谷叩U裝有足夏的流體12 J1物質’以⑨夠提供高達（例如）3_劑量單位 : 3〇〇次喷霧或使用。 问違 容器13大體上為圓柱形或濾筒狀，且可在打開霧化哭之 後自下面插人於霧化㈣中，並可視情況進行更換。容哭 具有剛性構造，其中流體12較佳保存於容㈣中之流體； 1 4中，該流體室14由一可壓縮袋組成。 霧化器Η)亦包含輸送裝置，較佳為塵力產生器Η，用於 輸送及霧化流體！2,特別係以預定、視情況可調定劑量輸 送0 務化裔10或壓力產生器15具有··容器13之固定裝置Μ · 僅部分展示於圖中之關聯驅動彈簧17，其具有鎖定元件 119030.doc -20- 200800403 1 8，該鎖定元件1 8可經手動操作而將其釋放；輪送管19， 其較么地呈具有可述閥、特別係止回閥2 〇之厚壁毛細管的 形態；壓力室21 ;及，處於吹口 23之區域中之喷嘴二置 22。容器13藉由固定裝置16，更特別的係藉由嚙合而固定 - 於霧化器10中，以使得輸送管19浸沒於容器13中。固定穿 置16可經建構以使得容器13可被釋放及更換。 、 在驅動彈簧17之軸向張緊過程中，固定裝置16在圖式中 • 肖容器13及輸送管19—起向下移動，且藉由止回閥20將流 體12自容器吸出至壓力產生器1 5之壓力室2 1中。 ”在致動鎖定元件18之後的隨後釋放中，以如下方式而對 壓力室21中流體12施加壓力：藉由釋放驅動彈菁^來移動 輸送管19,而其現已關閉之止回闕別再次向上，並且止回 =20此刻充當壓力衝柱或活塞。如圖5所示，此壓力迫使 ’瓜體12向外通過噴嘴22，此處流體12被霧化成霧劑24。 使用者或患者（未圖示）可吸入霧劑24，同時可較佳地藉 •纟至夕個空氣入口開口 25而將空氣吸取到吹口 23中。 務匕1 0具有上部外殼部件26及内部部件w，該内部部 件27可圍繞上部外殼部件％進行旋轉㈤6)且具有上部部件 27a及^部部件m(圖5)，㈣特別經手動操作之外殼部件 28較佳错由固^元件29而以可釋放的方式附著至、較佳係 内^部件27上。為插入及/或替換容器13，外殼部 件28可自霧化器10分離。 外殼部件28可相對於上部外殼部件26而旋轉.，』一起帶 動内部部件97+ 丁 ^ 下邛部件27b，在圖式中下部部件2几處於 II9030.doc 200800403 下部。結果，驅動彈箬1 7^m 斯评$ 17猎由作用於固定裝置16之齒輪 (未圖示）而在軸向方向上張緊。在張緊過程中，容器^向 下軸向移動，直至如圖6所示容器13呈現末端位置。在此 ^態下，驅動彈簧17處於張力下。#第—次進行張緊時， 女置於外殼部件28中之軸向作㈣簧观鄰接容器之基 並在其第-次與之鄰接時便藉由刺穿元件加穿入容 益13或底部上之密封件中，以用於通風。在霧化過程中， 容器13藉由驅動彈簧17而使容器！3往回移入至圖5所示之 其原始位置中，同時輸送管19移入至壓力室幻中。因此， 輸送元件或輸送管19在用於汲取流體之張緊過程 中及在務化過程中執行提昇移動。 二般應提及的係，在所提出之霧化器附，容器 ㈣入至霧化器10中，亦即，可安裝於其中。因此，容1 13較佳為獨立組件。 a 今益 直接由霧化器二==或流體室14理論… 式餐…一戈務化錢部分形成，或以某種其他方 J 務化_中，或可連接至霧化器10。. 與自立設備或類似設備相比而言，所提出 佳地經建構而為攜帶型及 益0較 為可移動手持式裝置。/呆作型的’且詳言之其 特別較佳的係靈^> 吸時間。缺而，母:人致動時並待續約1至2次呼 續的^ μ 論上’霧化亦可能持續更長時間或為連 特別車乂佳地，霧化器〗〇建構入 劑處理之吸入$ … ^ ，尤，、用於藥物霧 及入然而，作為替代地，霧化器_可經設 H9030.doc -22- 200800403 汁而用於其他目的，且可較佳地用於霧北美容流體並特別 用作香水霧化器。容器13因此裝有（例如）藥劑調配物，或 美容流體，諸如，香水或其類似物。 然而’所提出之解決方案可不僅用於本文具體描述之霧 • 化器10中，且亦可用於其他霧化器或吸入器中，例如，粉 - 末吸入器或所謂的定劑量吸入器。 通過屬旋噴嘴1之流體12之霧化較佳在約〇· 1至3 5 MPa、 • 特別在約〇·5至20 MPa之壓力下及/或以約1至300 μ1/δ、特 別以約5至50 μΐ/s之流量進行。 【圖式簡單說明】 圖1為根據本發明之第一實施例之所提出渦旋噴嘴的示 意圖； 圖2為根據圖1之渦旋喷嘴之示意性截面； 圖3為第二實施例中對應於圖2之所提出渦旋喷嘴的系意 性截面； • 圖4為根據第三實施例對應於圖1之所提出渦旋喷嘴齡置 的示意圖； · 圖5為一具有所提出渦旋喷嘴、處在未張緊狀態下之霧 ’ 化器的示意性截面；及 囷6為處在張緊狀恶下之務化器的示意性截面，與圖5相 比旋轉90。。 在圖示中，相同的元件符號用於相同或類似的部分，即 便可省略對應說明。 【主要元件符號說明】 119030.doc -23- 200800403

1 渦旋喷嘴 2 入口通道 3 出口通道 4 升高區部 5 升高區部 6 供應通道 7 喷嘴體 8 組件 9 組件 10 霧化器 11 固定器 12 流體 13 容器 14 流體室 15 壓力產生器 16 固定裝置 17 驅動彈簧 18 鎖定元件 19 輸送管 20 止回閥 21 壓力室 22 噴嘴配置 23 吹口 24 霧劑 119030.doc -24- 200800403

25 26 27 27a 27b 28 29

31 M 空氣入口開口 上部外殼部件 内部部件 27之上部部件 27之下部部件 外殼部件 固定元件 軸向作用彈簧 刺穿元件 中心軸線 119030.doc -25

Claims (1)

1. 200800403 十、申請專利範圍： 1· 一種渦旋喷嘴（1)，用於傳送且特別係霧化呈一流體（12) 之形態之一藥劑調配物、一化妝劑、一身體或美容護理 劑、一清潔劑或家用製劑’該渦旋噴嘴（1)具有若干入口 通道（2)及一出口通道（3)，該等入口通道（2)係橫向，尤 其係垂直於該入口通道（3)而延伸， 其中該渦旋喷嘴（1)特徵在於：

   該等入口通道（2)係直接、徑向及/或成切線地通向該 出口通道（3)。 2·如請求項1之渦旋喷嘴，其特徵在於該等入口通道（2)係 至少大體上成切線地或以切線方向與徑向之間的一角度 通向該出口通道（3)。 3.如請求項之渦旋喷嘴，其特徵在於2至^個，特別 係4個入π通道（2)通向該出σ通道（3)及/或該等入口通道 (2)係在一共同平面中延伸。 4. 如前述請求項中任—項之渦旋噴嘴，其特徵在於該等入 通道（2)之入口與該出口通道⑺之中心轴線⑽之間存 在間距，4間距為5〇至3〇〇 _，特別係、8〇至叫。 5. 如前述請求項中任—項之渦旋喷嘴，其特徵在於該等入 口通道（2)各在紊流方向上彎曲，特別係具有-恆定或朝 向該出口通道（3)持續增加之曲率。 6.如前述請求項中任一項之渦旋喷嘴，其特徵在於該等^ :通：(2)各朝向該出口通道(3)基於 減，特別係縮減為至少二分之一。 、漸， 119030.doc 200800403 7.如則述明求項中任一項之渴旋噴嘴，其特徵在於該等入 口通道（2)各具有5至35 μπι之深度。 8·如河述請求項中任-項之㈣喷嘴，其特徵在於該等入 込〔（2)之出口各具有2至30 μπι，特別係10至2〇 μιη之 寬度。 9·如㈣述明求項中任一項之渴旋嘴嘴，其特徵在於該等入 口通道⑺之該等出口各與該出口通道⑺之該中心轴線

   (Μ)之間存在一間距，該間距係相當於該出口通道（3)之 直控的1.1至1· 5倍。 1〇· ^⑴^ 求項中任-項之渦旋噴嘴，其特徵在於該出口 kC(3)在構造上至少為大體上圓才主形，及，或特徵在於 該出口通道（3)具有一至少大體上怔定的橫截面。 11·如W：4請求項中任_項之渦旋喷嘴，其特徵在於該出口 通道⑺之該直徑為5至⑽μιη，特別係25至45 μπ1，及/ 或特被在於忒出口通道（3)之長度為1〇至1⑽pm，特別係 25至45 _及/或相當於該出口通道⑺之該直徑的〇·⑴ 倍。 禋狗從贺嘴（1)，其較佳 ......研1[一流騷，特別係 -藥劑調配物，該滿旋噴嘴⑴具有若干入口通道⑺及 -出口通道（3)’該等人口通道（2)係橫向，尤其係垂直 於該出口通道（3)而延伸，纺、# 伸該屑％贺嘴（1)尤其係如前述 請求項中之任一項， 其中該渦旋喷嘴（1)特徵在於： 該渦旋噴嘴（1)包含一 #於兮站 處於4等入口通道（2)之上游之 119030.doc -2 200800403 過濾結構 橫截面。 該過濾結構具有小於該等入口 通道（2)之過道 13. ’其特徵在於該等入 同的較佳為環形的供 如前述請求項中任一項之渴旋喷嘴 口通道（2)在其入口端處附著至一共 應通道（6)，且特別係被其包圍。 14.如請求項12及13之渦旋 貝角/、特域在於该供應通道（6) 係配置於該過濾結構與該等入口通道⑺之間。

   h求項12至14中任_項之渦旋喷嘴，其特徵在於該等 L C (2)及該過濾結構與/或該供應通道（6)均位於一 共同平面中。 16. 如二迷請求項中任_項之渦旋喷嘴，其特徵在於該渴旋 +' ()在構^上至少大體上為平坦或板形的，同時特別 係A出口通道（3)係橫向，較佳為垂直於該渴旋喷嘴⑴ 之主延伸平面而延伸，及/或該流體可僅僅藉由該等 入口通道（2)而供應至該出口通道（3)。 17. 如丽述請求項中任一項之渦旋噴嘴，其特徵在於該等入 口通道（2)及該出口通道（3)，較佳還有該共同供應通道 (6)及/或該過濾結構，係形成於一單件構造或多部分構 造之噴嘴體（7)中，特別係藉由蝕刻、鑄造、壓印、雷射 處理及/或機械處理而形成。 18· —種如前述請求項中任一項之渦旋喷嘴（1)之用途，該用 返在於務化一液體藥劑調配物，其中使該藥劑調配物在 南壓下通過該渴旋喷嘴（〗），以致將自該出口通道（3)出 來之該藥劑調配物霧化成一霧劑。 I19030.doc 200800403 19.如喷求項18之用途，其特徵在於將該藥劑調配物至少主 要霧化成預定用料部之微粒或小液滴，其特別係且有 一小於1〇御，較佳為1至―，特別為大約或更小 之平均直徑。

   2〇. 一種渦旋噴嘴⑴之製造方法，該渦旋噴嘴⑴具有至少 一個入口通道⑺及-出口通道（3)，該出口通道（3)係横 向’尤其係垂直於該至少一個入口通道（2)而延伸， 其中使該至少-個入口通道（2)凹陷為一第一 板形組件（8)中之一凹逐，兮$丨、^ 日Q该至少-個入口通道(2)係自 一平坦侧開始且特別係平行於該平坦側而延伸， 其中使該出口通道（3)至少部分地凹陷為一第二板形組 件(9)中之一凹區，該出口通道(3)係自一平坦侧開始且 特別係相對於該平坦侧而橫向延伸， 其中在使該出口通道（3)凹陷於該第二組件（9)中之前 及/或之後，將該第一組件（8)與該第二組件（9)結合在一 起，以使得該第二組件（9)至少部分地覆蓋該第一組件 (8)之具備該入口通道（2)之該平坦側。 .如請求項20之方法，其特徵在於：在將該等兩個組件 (8，9)結合在一起之前，起初特別藉由蝕刻而在一側上 係敞開的情況下使該出口通道（3)僅凹陷於該第二組件 (9)中；隨後將該等兩個組件、9)結合在一起，以使得 該出口通道（3)之開口朝向該第一組件;及，在將該 等兩個組件（8、9)結合在一起之後，在遠離該第一組件 (8)之該平坦側上對該第二組件進行機械加工，特別係研 119030.doc -4- 200800403 磨除去’結果在此側上打開該出口通道（3)。 22. —種渦旋噴嘴（1)之製造方法，該渦旋噴嘴（1)具有至少 一個入口通道（2)及一出口通道（3)，該出口通道（3)係橫 白尤其係垂直於该至少一個入口通道（2)而延伸， 其中使該至少一個入口通道（2)凹陷於一第一板形組件 (8)中，該至少一個入口通道（2)自一平坦側開始且特別 係平行於该平坦側而延伸，並且，使該出口通道凹陷為

   一侧封閉之-凹區，該出口通道自該平坦侧開始且特別 係相對於該平坦側而橫向延伸， 、較佳為板形之組 第 隨後將該第一組件（8)結合至 件（9)，以使得該第二組件（9)至少部分地覆蓋該第一組 件（8)之具備該入口通道（2)之該平坦侧，及 在將該等兩個組件（8、9)結合在一起之後，於遠㈣ 第二組件⑺之該平坦側上對該第—組件⑻進行機❹ 工’特別係研磨除去而在此側上打開該出口通道 (3)〇 23·如請求項至μ中任一舊 項之方法，其特徵在於複數個入 口通道（2)係直接及/或成切線地通向該出口通道⑺且 因此而形成該出口通道（3)之_人口區域，該人口區域特 別係形成於該第一組件（8)中。 、 24· —種霧化器（1 〇)，用於霧化一 務化級體（12)，特別係一 調配物，該霧化器⑽具有—如請求項⑴？項中住1 之渦旋噴嘴（1)。 項 25 .如清求項24之霧化器，盆转科六 ，、特敛在於該霧化器(1〇)係攜帶 119030.doc 200800403 型的及/或經設計為手動操作的。 26.如請求項24或25之霧化器，其特徵在於該霧化器（10)包 含一裝有該流體（12)之儲集器，特別係一容器（13)。

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