TR201903049T4 - Polimer temizleme bileşimi. - Google Patents
Polimer temizleme bileşimi. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201903049T4 TR201903049T4 TR2019/03049T TR201903049T TR201903049T4 TR 201903049 T4 TR201903049 T4 TR 201903049T4 TR 2019/03049 T TR2019/03049 T TR 2019/03049T TR 201903049 T TR201903049 T TR 201903049T TR 201903049 T4 TR201903049 T4 TR 201903049T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- dmso
- polymer
- meoa
- water
- cleaning
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5009—Organic solvents containing phosphorus, sulfur or silicon, e.g. dimethylsulfoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D11/00—Special methods for preparing compositions containing mixtures of detergents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2003—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2068—Ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2093—Esters; Carbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
- C11D3/30—Amines; Substituted amines ; Quaternized amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/34—Organic compounds containing sulfur
- C11D3/3445—Organic compounds containing sulfur containing sulfino groups, e.g. dimethyl sulfoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3209—Amines or imines with one to four nitrogen atoms; Quaternized amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3218—Alkanolamines or alkanolimines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3227—Ethers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/34—Organic compounds containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/20—Industrial or commercial equipment, e.g. reactors, tubes or engines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Mevcut buluş, plastik malzemelerin dönüştürülmesinde kullanılan aparatlar üzerinde bulunan polimer, özellikle de poliüretan kalıntılarının temizlenmesine uygun olan dimetilsülfoksit bazlı bir bileşim ile ilgilidir.
Description
TARIFNAME
POLIMER TEMIZLEME BILESIMI
Mevcut bulus, plastik malzemelerin dönüstürülmesine yönelik alan, daha spesifik olarak
kallIilama, enjeksiyon, enjeksiyon-kalliîlama, kallütan çekme, kallîitan çekme-kallülama ve
diger plastik malzeme dönüstürme tekniklerinin alan [ile ilgilidir.
Daha spesifik olarak plastik malzemelerin dönüstürülmesine kullanllân çesitli aparatlar.
temizlenmesine yöneliktir. Bu aparatlar örnegin kalßlar, enjeksiyon nozullarÇlkallEtan çekme
vidalarIlElve genel bir sekilde, dönüstürülmelerine olanak saglanmasümaclýla az ya da çok
yüksek lebkllKlara çlKbrllân ve sogutulan bir ya da daha fazla plastik malzeme ile az ya da
çok uzun temas haline giren tüm parçalar, en sila olarak ancak zorunlu olmayacak sekilde,
metalik parçalardB
Plastik malzemeden yapllân ürünler veya objelerin kallülanmaslîgibi bu dönüstürme islemleri
leisIa çesitli sekillerde olan ve küçük ya da büyük boylara sahip olan polimer kallEtllârEl
kal& ile temas halinde kalabilmektedir. Özellikle kallîitan çilZlarma, kallîilarI açllüiasßlüslüda
polimer kallötllârü kallölanan objeden kopabilmektedir ve kalII duvarlar.
yaplglabilmektedir.
Kalli-atan çekme vidalarü enjeksiyon nozullarEl/e plastik malzemeler ile temasa giren tüm
dönüstürme aparatEbarçalarlZlçin aynEdurum geçerlidir. Sonradan yeni kalliîlama, kalßtan
çekme ve diger islemlerin gerçeklestirilebilmesi amaclîda kallölar, vidalar, nozullar ve
digerlerine yapElan tüm bu kallfitllârl temizlenmesi, baska bir ifadeyle giderilmesi
zorunludur.
Polimer kallEtllârII giderilmesini amaçlayan bu temizleme islemleri günümüzde lellKla, bir
ya da daha fazla çözücü veya çözücü karlglmlarüle söz konusu kallîitliârltemasa geçirilmesi
ile gerçeklestirilmektedir.
Bu çözücülerden en yaygI olanlîlorganik çözücülerdir; bunlarlEl arasIan bazllârlîlkötü
kokuludur, az ya da çok toksiktir ve çevre için zararlIlEancak özellikle söz konusu polimer
kallEtllârII temizlenmesinden sorumlu olan kullanlElBr Için toksik ve zararlIlEl
U, bir kuaterner
amonyum hidroksit, bir alkanolamin, istege baglEblarak bir ilave çözücü ve bir yüzey aktif
madde barIlEhn, elektronik altlllZlarI polimer kallEtllârII temizlenmesi için bir paklama
bilesimini açllZlamaktadlÜ
diester asit sülfonat, bir glikol istege baglüilarak DMSO ve aminler içeren, inorganik altllKlarI
organik reçinelerinin temizlenmesi için bir temizleme bilesimini açlEJamaktadlE
U56367486 numarallîpatent dokümanEEDTA veya bunun tozunu, istege bagllîrblarak bir amin
veya alkanolamin, istege bagimlarak bir çözücü, istege baglüilarak bir amonyum tuzu, istege
bagllîlolarak bir selat maddesi ve su içeren, elektronik altllElarI polimer kalEtilârII
temizlenmesi için bir temizleme bilesimin aç[lZlamaktadlEl
USZOO3/0130149 numaralEpatent basvuru dokümanlZbir pirolidon ve/veya bir piperidon, bir
alkanolamin, bir sülfoksit ve/veya sülfokson içeren, elektronik altlllZlarI polimer kallEtllârII
temizlenmesi için bir paklama bilesimini açllZlamaktadE
USZOO4/0259761 numarallîbatent basvuru dokümanEbir kuaterner amonyum hidroksit, bir
potasyum hidroksit, bir amin ve/veya DMSO gibi bir çözücü, su ve korozyon önleyici içeren,
altlllZlarI polimer kallEtUâr temizlenmesi için bir temizleme bilesimini aç[lZIamaktadlB
U56475966 numaralüpatent dokümanüDMSO gibi bir çözücü bir kuaterner amonyum
hidroksit ve bir hidroksilamin ve istege bagllItblarak organik katkljinaddeleri içeren, altllElarI
polimer kallEtllârII temizlenmesi için bir temizleme bilesimini açlElamaktadlEI
USZOO3/0104960 numaralElpatent basvuru dokümanEldibazik asit diester, DMSO, bir
karbonat, bir laktik asit ester ve bir tersiyer amin içeren, polimer kallütllârIlEl temizlenmesi
için bir bilesimi açllZlamaktadE
sülfoksitler veya sülfonlar gibi bir ya da daha fazla çözücü, su, istege baglEblarak bazik
aminler, yardncEçözücüler, korozyon inhibitörleri, selat maddeleri, yüzey aktif maddeler,
asitler ve bazlar içeren, fotorezistlerin paklanmasEl/e yarEiIetken bir altlllZl üzerinde bulunan
organik ve inorganik bilesiklerin temizlenmesi için bir bilesimi açllZlamaktadlEl
Bu çözücülerin saylîElgünümüzde klîlflilß ve dogrudan devlet tarafüdan ya da dogru
endüstriyel gönüllüler tarafIan, çallglanlarl sagl[glII korunmasüçin endise duyulmaktadlEl
Örnegin poliüretan objelerin imal edilmesi için kullanüân kallElarlEl, zararID/e toksik olarak
varsayllân dimetilformamid (DMF) ile temizlendigi bilinmektedir.
stripper”) hazlEIlanmasEtlßsIa polimer katmanlarlElI çekilmesi için bilesimleri açllîlamakta
olup, bu bilesimler dördüncül amonyum hidroksit barilîilnak zorundadlE
alkilpiperidon bar lam “photoresist stripper” türünde bilesimleri açlKlamaktadEl
çözündürülmesine uygun olan bir bilesim ila bes bilesimi açlElamaktadE bes bilesim dibazik
asit esterler, DMSO, bir karbonat, bir laktik asit esteri ve bir (1) atmosfer altIda 130°C ve
370°C arasIa bulunan bir kaynama noktalela sahip olan bir tersiyer amindir.
AyrlEla mevcut bulusun bir birinci amacügünümüzde kullanüân çözücülerden daha az toksik
ve daha az zararlüblan, polimer kallEtllârII temizlenmesi için yeni ürünler, formülasyonlar,
bilesimlerin; hatta çevre için ve kullanlEllâr için toksik olmayan ve zararlüilmayan, kallEtllârI
temizlenmesine yönelik ürünler, formülasyonlar, bilesimlerin sunulmas-
Mevcut bulusun bir baska amacügünümüzde bilinen ve kullanllân çözücülerden daha etkili
olan, polimer kallEtllârII temizlenmesine yönelik ürünler, formülasyonlar, bilesimlerin
sunulmasIlEI
Diger amaçlar, mevcut bulusun asaglEllaki açlJZJamasEile birlikte ortaya çHZlacaktlB
Simdi yukarda bahsedilen amaçlara, dimetilsülfoksit (DMSO), monoetanolamin (MEoA) ve su
içeren bir karlglml polimer temizleme bilesimi olarak kullanüüiaslýla en ainan klîlnen,
hatta tamamen ulasllIhasII mümkün oldugu bulunmustur.
Mevcut bulus %80 ila %90 oranIa dimetilsülfoksit (DMSO), %2 ila %9 oranIa
monoetanolamin (MEoA) ve %5 ila %15 oranIa, örnegin yaklasIKl olarak %8 oranIa su
ve istege baglüilarak aglElllKl olarak birkaç ppm ila %1 oranli-nda bir korozyon inhibitöründen
olusan bir bilesim ile ilgilidir.
Bu bulusunun açllZlamasIda tüm yüzdeler, aksi belirtilmedigi takdirde aglHlllZl olarak
verilmistir.
DMSO zararllZbImayan ve toksik olmayan bir çözücü olarak varsayHEiaktadlEl AyrlEa çesitli
safliEIdereceleri mevcut olabilmektedir, yüksek safligla sahip DMSO uygulamada kokuya sahip
degildir, ya da düsük derecede kötü kokuya sahiptir. Bir varyanta göre kullanüân DMSO
avantajlßlmasßç-an en az koku verme maddesi ile kokulandiülâbilmektedir.
DMSO ve monoetanolaminin diglütla, bulusun bilesimleri içinde su miktarüiarligiia, polimer
kaliEtHârII daha etkili bir sekilde çözündürülmesine olanak saglanmaslîçin bulunmaktadiü
Öte yandan bulusun bilesimleri içinde suyun varligüsöz konusu bilesimlerin kristallenme
noktasII düsürülmesine yönelik ek avantaja sahiptir.
Son olarak mevcut bulusa göre bilesimler, katkElmaddesi olarak bir korozyon inhibitörü
içerebilmektedir.
Korozyon inhibitörleri araslîiUan örnegin katekol, sodyum tolitriazolat ve morfolinden
bahsedilebilmektedir.
Bir baska yöne göre mevcut bulusun bilesimleri, DMSO'in yerine, bir DMSO ve en az bir baska
azotsuz çözücü karlglEiiEliçerebilmektedir. Azotsuz çözücüler arasiEUan, kiîlflhylEEhitelikte
olmayan örnekler olarak alkoller, eterler, esterler ve asagi açiiZlanacaglZiJzere bilesimler ile
uyumlu olan baska azotsuz çözücülerden bahsedilebilmektedir.
Mevcut bulusun bilesimleri içinde bulunan DMSO ile karlglm olusturabilen azotsuz Ilave
çözücüler arasIan monofonksiyonel ve/veya difonksiyonel esterler ve daha özellikle alkil
esterleri tercih edilmektedir; burada “alkil" 1 ila 6 karbon atomu içeren hidrokarbonlu,
dogrusal veya dallanmS bir zinciri belirtmektedir. Bu esterler avantajllllmasüç-an, 3 ila
karbon atomu içeren, dogrusal veya dallanmigl zincirli mono- ve/veya di-karboksilik
asitlerden gelmektedir.
Özellikle formik, asetik, propiyonik, bütirik, maleik, süksinik, glutarik, Z-metilglutarik asitlerin
metilik, etilik, propilik ve bütilik esterleri ve digerlerinin yanlis& herhangi bir oranda bunlarI
karlgEhlarEiiercih edilmektedir.
DMSO/azotsuz çözücü karlgIEiiElçeren bulusa göre bilesimler içinde, DMSO/azotsuz çözücü
yaklasik] olarak 50/50 olanlar tercih edilmektedir.
Bulusun bilesimleri, alanda bilinen herhangi bir yöntem dogrultusunda ve örnegin herhangi
bir SÜ ile çesitli içeriklerin basit bir sekilde karlgtlîllBiaSMa halelanabilmektedir. Bununla
birlikte DMSO/su karlgiînilîlçin MEoA'nI eklenmesi tercih edilmektedir. Korozyon inhibitörü
avantajllîilmasüiç-an nihai DMSO/MEoA ve su karlglîrii- eklenmektedir.
Bir baska yöne göre mevcut bulus, polimerlerin klîinen veya tamamen çözündürülmesi için
ve özellikle polimer kaliEtiiârII temizlenmesi için, asagi tanIilanacagEüzere bilesimlerden
en az birisinin kullanilBiasIBmaçlamaktadB
Polimer kallEtliârII temizlenmesinden, mevcut bulusun bilesimleri ile polimerlerin kismen
veya tamamen çözündürülmesi anlasiiîhaktadiü
Klîinen veya tamamen çözünebilen polimerler herhangi bir türde, termoplastik veya @ila
sertlesen türde olabilmektedir, özellikler termoplastiklerdir.
Mevcut bulusun kullanIiII hedefledigi polimerler örnegin klîiflhylEElnitelikte olmayacak
sekilde; poli(vinil diflorür) veya PVDF gibi florlanmlgi polimerler; amid, imid, amido-amid,
üretan, nitril gruplarEtaslýanlar gibi azotlu polikondensatlar; sülfon gruplarEtasEianlar gibi
kükürtlü polikondensat ve digerleri arasIan seçilmektedir.
Bulusun bilesimleri özellikle; poliüretanlar, poliamidler, poliamid-imidler, polieter-sülfonlar,
poliakrilonitriller ve digerleri arasIan seçilen polimerlerin temizlenmesine özellikle uygundur
ve daha özellikle poliüretanlarIçözündürülmesine, temizlenmesine uygundur.
Bulusun bilesimleri daha özellikle, çözücü seçiminin günümüzde kadar, su an özellikle Avrupa
yönetmelikleri tarafIan yasaklanmiglolan DMF oldugu poliüretan kaliEtilâriEiiEi temizlenmesi
için etkilidir.
Polimer kaIlEtilârII temizlenmesi için mevcut bulusun bilesimleri, oda siEiakIiglEiIa 90°C
araleUa degisen bir lelakllElaraliglia uygulanmaktadlE SIElakllEldüstügü zaman bulusa göre
bilesimlerin verimi de düsmektedir ve oda siEiakI[giiEliEl ait. inmesi durumunda, etkili bir
temizleme için gereken zaman nispeten uzayabilmektedir. 90°C'nin üzerinde, temizleme
bilesimi rahatslîl edici buharlar üretebilmektedir ancak havalandlîllân veya kapalEbir oda
içinde çalEliiiaSD mümkündür, böylece temizleme bilesiminin kaynama siEiakligilEUa
çalEllîhasI olanak saglanmaktadE
Bununla birlikte bulusa göre bilesimlerin 30°C ve 70°C araleda, örnegin 50°C ve 65°C
arasIa bulunan bir lelaklltha kullanllîhasliliercih edilmektedir.
Bir baska yöne göre mevcut bulus, yukarlöh da açiElandigElüzere plastik malzemelerin
dönüstürülmesinde kullanHân aparatlar üzerinde bulunan polimer kallEtliârII
temizlenmesine yönelik bir yönteme ile ilgili olup; söz konusu yöntem, yukari belirtilen
slîbklilg kosullarIa, mevcut bulusa göre en az bir bilesim ile, söz konusu polimer
kallEtilârMa kirlenen söz konusu aparat. temasa geçirilmesine yönelik en az bir asama
içermektedir.
Temasa geçirme ile, karlsmlârak veya karlStlEllBiadan, temizlenecek olan aparat. klglnen
veya tamamen batlEIlB1asÇlçesitli baslöçlarda bir temizlik bilesiminin, örnegin fEa, püskürtme
tabancaslZl/eya benzer ekipmanlar aracHJgilîla temizlenecek olan aparat. üzerine yayHBiasEl
anlasllîhaktadm Varyant olarak temasa geçirme bir bez, sünger veya temizleme bilesimine
batülân absorbe/desorbe edici herhangi bir malzeme yardIilEa bir temizleme
gerçeklestirilebilmektedir.
Yukari açlElanan temasa geçirme istege baglEIolarak, örnegin spatulalar, rakleler ve
benzerleri gibi aletler yardIilýla fiziksel bir temizlemeye eslik edebilmektedir.
Mevcut bulus simdi, hiçbir sekilde klgiühylîljhitelikte olmakslîIEl, asagi yer alan ve hak talep
edildigi üzere bulusun kapsam El sülandlElEElolarak alg llânmamaslîl gereken örnekler
aracUJgilýla gösterilecektir.
Örnek 1: DMF ve DMSO yardüilýla poliüretan. (PU) çözünmesi
Bulusu gösteren testlerin gerçeklestirilmesi için, ayakkabütabanükallplarlödan gelen
poliüretan kaliEtllârERullanilBiEtlEl
Referans çözücüsü DMF'dir; kallölarI temizlenmesi için, bunlar allglâgeldigi üzere 60°C'ye
getirilen bir DMF banyosu içine birkaç saat batlEllBwaktadB
Deneyler burada 20 mL'Iik cam flakonlar içinde gerçeklestirilmektedir. Her bir flakon içine,
muhtemelen yaklasiEJ olarak 60°C'ye önceden Elîllân temizleme bilesiminden (burada bir
yandan DMF ve diger yandan sadece DMSO) 10 mL sokulmaktadlB Daha sonra paralel yüzlü
sekilli (yaklasDZJ olarak 10 X 5 x 2 mm) poliüretan (PU) numunesi her bir flakon içine
sokulmaktadE Flakonlar kapatllBwaktadlîl ve kargtülliiadan 60°C'Iik etüv içinde
bßkilfhaktadlü
Ilk olarak, yaklaslE olarak 2 ila 3 dakika batlEnadan sonra numunelerde sisme
gözlemlenmektedir. 25 dakika sonra PU ne DMF ne de DMSO içinde çözünmektedir. DMF ve
DMSO arasiaki verim farklîkaman içinde su sekilde gözlemlenmektedir: 60°C'de 18 saat
sonra, PU, DMF içinde çözünmeye baslarken DMSO içinde hiçbir sey gerçeklesmemektedir.
DMF sadece DMSO'ten daha performansIIlEl
Örnek 2: Bir DMSO/azotsuz çözücü karßüilîiçin poliüretan. (PU) çözünmesi
Örnek 1'deki ile aynElprotokol bir DMSO (%95,5) ve alkol diaseton (%4,5) karlgühü
kullanilârak tekrarlanmaktadEl DMSO'te oldugu gibi, DMSO/alkol diaseton karlglmüçinde bir
PU sismesi gözlemlenmektedir ancak numunenin 18 saat sonra batlEIIBialeljan sonra
herhangi bir çözünme gözlemlenmemektedir.
Karsuâstlîllâbilir bir deney, bir DMSO/glikol heksilen karlgîillilile gerçeklestirilmistir. AynEl
sekilde glikol heksilenin herhangi bir ek verim saglamad[glügiözlemlenmistih Bu karlglm DMSO
olarak gibi davranmaktadßve DMF'den daha az etkilidir.
Oksijenli, azotsuz olan bir çözücünün DMSO'e eklenmesi, sadece DMSO'in veriminin
iyilestirilmesine olanak saglamamaktadß ve DMF ile çözünmeye göre daha düsük
performansllîbir çözelti kalmaktadB
Örnek 3: Bir DMSO/MEoA karlSllBiEiçin poliüretan. (PU) çözünmesi
Örnek 1'deki ile aynEbrotokoI, 60°C'de 18 saat boyunca batlîilnayla, bir DMSO (%95,5) ve
monoetanolamin (%4,5) karlglEliERullanllârak tekrarlanmaktadlE
SaslEllEEbir sekilde PU numunesinin, DMSO/MEoA karElmEiçinde, ayrü DMF içinde tamamen
çözündügü, numunenin hemen çözünmeye baslad@gözlemlenmektedin
Bir DMSO/MEoA karmßadece DMF'den açllZl bir sekilde daha etkilidir.
Örnek 4: Su eklenerek ve su eklenmeden, bir DMSO/MEoA karlSllBiEliçin
poliüretanI (PU) çözünmesi
Örnek 1'deki ile aynlIilJrotokol bir DMSO/MEoA (%95.5/%4.5) bilesimi ve bir DMSO/MEoA/Su
(0/087,5/%4,5/%8) bilesimi kullanllârak tekrarlanmaktadlB
60°C'de 4 saatten sonra PU, DMSO/MEoA/su karlglmlîliçinde tamamen çözünmekteyken
DMSO/MEoA (%95,5/%4,5) karlglîrliia ise çözünmemektedir.
Bir DMSO/MEoA/su karlglînllîliiir DMSO/MEoA karlgüian açiIZl bir sekilde daha etkilidir.
Örnek 5: DMSO içindeki azotlu çözücü miktarII poliüretanI (PU) çözünmesi
üzerine etkisi
Yine örnek 1'de açllZlanan protokole göre, PU numunesi çözündürme testleri, DMSO içindeki
MEoA konsantrasyonunun %1 ila 5 araleUa degistirilmesiyle gerçeklestirilmektedir.
DMSO içindeki MEoA miktarüie kadar artarsa PU'I çözünmesi o kadar hlîlIE
Ayrlîla DMSO + %1 MEoA karmüsadece DMF'den daha etkilidir; çünkü 60°C'de 1 saatten
sonra, karlglm içinde süspansiyon halinde bulunan PU taneleri görülmeye baslanlElken, ne
DMF ne de DMSO içinde (numunenin sismesi dlglEUa) herhangi bir etki göstermektedir.
60°C'de 48 saatten sonra PU, DMSO + %1 MEoA karlglElEiçinde tamamen çözünmektedir.
DMSO içine (%1 ila %5 oranIa) MEoA'nI eklenmesi, sadece DMSO'e göre PU çözünmesini
açilZl bir sekilde arttlElnaktadlÜ DMSO + MEoA karlgliîliElDMF'den daha etkilidir.
Örnek 6: DMSO bazlütemizleme bilesimleri içinde su varIEgIda kristallenme
noktasII düsürülmesi
DMSO kristallenme noktasü8,5°C'dir ve bu kgdöneminde depolama ve kullanIi için sllZIlIZIa
problemlere neden olmaktadlü
DMSO (%95) + MEA (%5) karlgiînilElI kristallenme noktasElyaklasilZl olarak 15°C'dir. Bu
kristallenme noktasElbiIesim içine suyun eklenmesi ile daha da düsürülebilmektedir.
DMSO içine aglîliüîl olarak %8 oranla suyun eklenmesi, daha sonra MEoA'nI (önceki
karlglm Içine aglElilE olarak %5 oranIa) eklenmesi ile deney gerçeklestirilmektedir. Bu
karlgEiiI kristallenme noktasl karlSEiElD°C'ye
yakI bir kristallenme noktasi sahiptir.
karlglEiiEüzerinde çözünme deneyleri gerçeklestirilmektedir.
60°C'de 3 saat sonra, PU numunesi bu karlglm içinde tamamen çözünmekteyken,
DMSO/MEoA (%95/%5) karElüiEliçinde hemen çözünmeye baslamaktadlîl ve DMF içinde
herhangi bir çözünme gözlemlenmemektedir: DMSO/MEA karlSlEiEiçine suyun eklenmesi PU
çözünmesini hlîlandlElnaktadlE
Örnek 7: Su içeriginin bir DMSO/MEoA/su karlgüilîliçinde poliüretanI (PU)
çözünmesi üzerine etkisi
Örnek 1'deki ile ayni] protokol, degisken oranlar ile DMSO/MEoA/su bilesimlerinin
karllâstliîllüiaslýla gerçeklestirilmektedir.
60°C'de 7 saat sonra sonuçlar asag-ki sekildedir:
- %91,5 DMSO / %4,5 MEoA / %4 su: polimer tamamen çözünmemektedir;
- %87,5 DMSO / %4,5 MEoA / %8 su: polimer tamamen çözünmektedir;
- %80,5 DMSO / %4,5 MEoA/ %15 su: polimer hemen çözünmeye baslamaktadlîi
- %70,5 DMSO / %4,5 MEoA / %25 su: polimer çözünmemektedir;
- %45,5 DMSO / %4,5 MEoA/ %50 su: polimer çözünmemektedir.
iyilestirdigi görülebilmektedir.
Örnek 8: Bir DMSO/azotsuz çözücü/MEoA/su karlglüilîliçin poliüretanI (PU)
çözünmesi
Örnek 1'deki ile aynlîprotokol bir DMSO (aglHlÜZl olarak %50) ve dimetil glutarat (aglEllllZl olarak
glutarat karlglmlîlçinde bir PU sismesi gözlemlenmektedir ancak numunenin 18 saat sonra
batßlüialeUan sonra herhangi bir çözünme gözlemlenmemektedir.
KarsHâstlEllâbilir bir deney, bir DMSO/Z-dimetil metil glutarat//MEoA/su (aglEllllZl olarak %44,5
- %44,5 - %3 - %8) karlglîniüle gerçeklestirilmistir. PU numunesinin 18 saat batlîlllîhasIan
sonra numune tamamen çözünmektedir.
Bulus kosullar-a MEoA ve suyun DMSO/azotsuz çözücü karlglm- eklenmesi, yalnEta
DMSO/azotsuz çözücü karlglînl. göre açllZl bir sekilde performanslari iyilestirilmesine olanak
saglamaktadEl
Claims (1)
- ISTEMLER . Bilesim olup, %80 ila %90 oranlElda dimetilsülfoksit (DMSO), %2 ila %9 oranIa monoetanolamin (MEoA) ve %5 ila %15 oranIda, örnegin yaklasllîl olarak %8 oranIda su ve istege baglüolarak agElllE olarak birkaç ppm ila %1 oranIa bir korozyon inhibitöründen olusmaktadlEl . DMSO'in; DMSO ve alkoller, eterler, esterler arasIdan seçilen en az bir baska azotsuz çözücü ve söz konusu bilesimler ile uyumlu olan, tercihen monofonksiyonel ve/veya difonksiyonel esterler arasian seçilen baska azotsuz çözücülerin bir karElEliEbldugu, Istem 1'e göre bilesim. . DMSO'in; DMSO ve en az bir baska azotsuz çözücünün karlglînilîbldugu; DMSO/azotsuz bulundugu, örnegin 50/50 civarIa oldugu, önceki istemlerden birine göre bilesim. . Polimerlerin klîmen veya tamamen çözündürülmesi için, Istemler 1 ila 3'ten herhangi birine göre en az bir bilesimin kullanüBiaslZl . Polimerin termoplastik veya Elîcla sertlesen, tercihen termoplastik bir polimer oldugu; florlanmlglpolimerler, kükürtlü polikondensatlar ve azotlu polikondensatlar; tercihen amid, imid, amido-amid, üretan, nitril ve digerlerini taslýlanlar arasßtlan seçildigi, Istem 4'e göre kullanIi. . Polimerin bir poliüretan oldugu Istem 4 veya Istem 5'e göre kullan!. . Plastik malzemelerin dönüstürülmesinde kullanan aparatlar üzerinde bulunan polimer kallEtllârII temizlenmesine yönelik yöntem olup; söz konusu yöntem, oda lethglÜ/e bulunan bir lelakllKta, Istemler 1 ila 3'ten herhangi birine göre en az bir bilesim ile, söz konusu polimer kallEtllârlýla kirlenen söz konusu aparatI temas haline geçirilmesine yönelik en az bir asama içermektedir. . Plastik malzemelerin dönüstürülmesinde kullanüân aparatlE bir kallîil, bir enjeksiyon nozulu veya bir kaliptan çekme vidaslîbldugu, Istem 7'ye göre yöntem.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1058050A FR2965567B1 (fr) | 2010-10-05 | 2010-10-05 | Composition de nettoyage de polymeres |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201903049T4 true TR201903049T4 (tr) | 2019-03-21 |
Family
ID=44122673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2019/03049T TR201903049T4 (tr) | 2010-10-05 | 2011-10-04 | Polimer temizleme bileşimi. |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9212340B2 (tr) |
| EP (1) | EP2625258B1 (tr) |
| JP (1) | JP5823524B2 (tr) |
| KR (2) | KR20130060323A (tr) |
| CN (1) | CN103119148B (tr) |
| AU (1) | AU2011311433B2 (tr) |
| BR (1) | BR112013008332A2 (tr) |
| CA (1) | CA2809850C (tr) |
| FR (1) | FR2965567B1 (tr) |
| PL (1) | PL2625258T3 (tr) |
| SI (1) | SI2625258T1 (tr) |
| TR (1) | TR201903049T4 (tr) |
| WO (1) | WO2012045971A1 (tr) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5937504B2 (ja) * | 2012-12-26 | 2016-06-22 | 株式会社カネコ化学 | 樹脂除去用溶剤組成物 |
| JP6122333B2 (ja) * | 2013-04-12 | 2017-04-26 | コーデックケミカル株式会社 | 洗浄剤組成物及び該組成物を含有する洗浄剤並びにそれらを用いた洗浄方法 |
| DE102014206875A1 (de) | 2014-04-09 | 2015-10-15 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Reinigung von technischen Anlagenteilen von Metallhalogeniden |
| CN106434044A (zh) * | 2015-08-06 | 2017-02-22 | 盛德罗宝节能材料科技股份有限公司 | 一种用于装饰保温一体化板表面的聚氨酯污染清洗剂 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6492311B2 (en) * | 1990-11-05 | 2002-12-10 | Ekc Technology, Inc. | Ethyenediaminetetraacetic acid or its ammonium salt semiconductor process residue removal composition and process |
| US6475966B1 (en) * | 2000-02-25 | 2002-11-05 | Shipley Company, L.L.C. | Plasma etching residue removal |
| KR100764888B1 (ko) * | 2000-07-10 | 2007-10-09 | 이케이씨 테크놀로지, 인코포레이티드 | 반도체 장치용의 유기 및 플라즈마 식각된 잔사의 세척을위한 조성물 |
| US7456140B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-11-25 | Ekc Technology, Inc. | Compositions for cleaning organic and plasma etched residues for semiconductor devices |
| JP2004538503A (ja) * | 2001-07-13 | 2004-12-24 | イーケーシー テクノロジー,インコーポレイティド | スルホキシド−ピロリドン(ピロリジノン)−アルカノールアミン系剥離および洗浄組成物 |
| US20030104960A1 (en) * | 2001-11-30 | 2003-06-05 | Opre James E. | Liquid cleaning composition for polymer reactor scale |
| US7442675B2 (en) * | 2003-06-18 | 2008-10-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Cleaning composition and method of cleaning semiconductor substrate |
| US20070243773A1 (en) * | 2005-10-28 | 2007-10-18 | Phenis Michael T | Dynamic multi-purpose composition for the removal of photoresists and method for its use |
| US20100104824A1 (en) * | 2006-10-23 | 2010-04-29 | Phenis Michael T | Dynamic multi-purpose composition for the removal of photoresists |
| US8309502B2 (en) * | 2009-03-27 | 2012-11-13 | Eastman Chemical Company | Compositions and methods for removing organic substances |
-
2010
- 2010-10-05 FR FR1058050A patent/FR2965567B1/fr active Active
-
2011
- 2011-10-04 PL PL11779790T patent/PL2625258T3/pl unknown
- 2011-10-04 BR BR112013008332A patent/BR112013008332A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2011-10-04 CN CN201180047709.1A patent/CN103119148B/zh active Active
- 2011-10-04 EP EP11779790.2A patent/EP2625258B1/fr active Active
- 2011-10-04 CA CA2809850A patent/CA2809850C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2011-10-04 KR KR1020137009532A patent/KR20130060323A/ko not_active Ceased
- 2011-10-04 WO PCT/FR2011/052309 patent/WO2012045971A1/fr not_active Ceased
- 2011-10-04 AU AU2011311433A patent/AU2011311433B2/en not_active Ceased
- 2011-10-04 SI SI201131683T patent/SI2625258T1/sl unknown
- 2011-10-04 TR TR2019/03049T patent/TR201903049T4/tr unknown
- 2011-10-04 US US13/877,548 patent/US9212340B2/en active Active
- 2011-10-04 KR KR1020157014417A patent/KR101660199B1/ko active Active
- 2011-10-04 JP JP2013532246A patent/JP5823524B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2809850A1 (fr) | 2012-04-12 |
| JP2014500161A (ja) | 2014-01-09 |
| JP5823524B2 (ja) | 2015-11-25 |
| CN103119148A (zh) | 2013-05-22 |
| CN103119148B (zh) | 2016-04-06 |
| EP2625258A1 (fr) | 2013-08-14 |
| BR112013008332A2 (pt) | 2016-06-14 |
| EP2625258B1 (fr) | 2019-01-16 |
| FR2965567B1 (fr) | 2013-12-27 |
| AU2011311433A1 (en) | 2013-06-20 |
| KR20130060323A (ko) | 2013-06-07 |
| US9212340B2 (en) | 2015-12-15 |
| CA2809850C (fr) | 2017-07-25 |
| KR101660199B1 (ko) | 2016-09-26 |
| AU2011311433B2 (en) | 2015-09-17 |
| WO2012045971A1 (fr) | 2012-04-12 |
| FR2965567A1 (fr) | 2012-04-06 |
| US20130310297A1 (en) | 2013-11-21 |
| SI2625258T1 (sl) | 2019-07-31 |
| KR20150070414A (ko) | 2015-06-24 |
| PL2625258T3 (pl) | 2019-05-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002038197A5 (tr) | ||
| WO2005043250B1 (en) | Process for the use of bis-choline and tris-choline in the cleaning of quartz-coated polysilicon and other materials | |
| JPH0426352B2 (tr) | ||
| TR201903049T4 (tr) | Polimer temizleme bileşimi. | |
| JPS63258974A (ja) | 低い毒性を有する塗料剥離剤組成物 | |
| ES2386384T3 (es) | Composiciones para el desengrasado de superficies metálicas | |
| CN105556392B (zh) | 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 | |
| JP2010513404A5 (tr) | ||
| CN103804980A (zh) | 胶版印刷用凹版清洗液组合物及使用该组合物的清洗方法 | |
| TW201100979A (en) | Resist remover composition and method for removing resist using same | |
| JP4290486B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| AU2005284871B2 (en) | Paint & ink remover two-phase system | |
| CN101412863A (zh) | 低挥发低毒脱漆剂 | |
| CA2432742A1 (en) | Flushing solutions for coatings removal | |
| WO2014071689A1 (zh) | 一种去除光阻残留物的清洗液 | |
| JPH10292138A (ja) | 塗膜剥離用組成物 | |
| JP4104715B2 (ja) | 付着水除去用溶剤組成物 | |
| CA1320675C (en) | Paint stripping composition containing five membered ring lactone | |
| JPH0425597A (ja) | はんだフラックス除去用洗浄剤 | |
| CN1729269A (zh) | 清洗半导体装置的磷酸组合物水溶液 | |
| JP4966517B2 (ja) | 光学部品用樹脂洗浄液組成物 | |
| JP3942244B2 (ja) | 洗浄剤 | |
| PE20060421A1 (es) | Procedimiento para preparar un compuesto de pirrolotriazina anilina como inhibidores de cinasa | |
| JP2024043477A (ja) | 金属残渣除去液、金属残渣の除去方法、及び金属配線の製造方法 | |
| CN117720972A (zh) | 金属残渣去除液、金属残渣的去除方法及金属配线的制造方法 |