[go: up one dir, main page]

TR201819125T4 - Radyasyonla sertleştirilebilen suda dağılabilen poliüretan (met) akrilatlar. - Google Patents

Radyasyonla sertleştirilebilen suda dağılabilen poliüretan (met) akrilatlar. Download PDF

Info

Publication number
TR201819125T4
TR201819125T4 TR2018/19125T TR201819125T TR201819125T4 TR 201819125 T4 TR201819125 T4 TR 201819125T4 TR 2018/19125 T TR2018/19125 T TR 2018/19125T TR 201819125 T TR201819125 T TR 201819125T TR 201819125 T4 TR201819125 T4 TR 201819125T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
meth
urethane
acrylate
acid
preferred
Prior art date
Application number
TR2018/19125T
Other languages
English (en)
Inventor
Berger Sebastian
Thüry Peter
Shaun Tranter Kenneth
Original Assignee
Basf Se
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Basf Se filed Critical Basf Se
Publication of TR201819125T4 publication Critical patent/TR201819125T4/tr

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08—Processes
    • C08G18/0804—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups
    • C08G18/0819—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing anionic or anionogenic groups
    • C08G18/0823—Manufacture of polymers containing ionic or ionogenic groups containing anionic or anionogenic groups containing carboxylate salt groups or groups forming them
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/2805—Compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/2815—Monohydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/2805—Compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/2815—Monohydroxy compounds
    • C08G18/283—Compounds containing ether groups, e.g. oxyalkylated monohydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/32—Polyhydroxy compounds; Polyamines; Hydroxyamines
    • C08G18/3203—Polyhydroxy compounds
    • C08G18/3206—Polyhydroxy compounds aliphatic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/34—Carboxylic acids; Esters thereof with monohydroxyl compounds
    • C08G18/348—Hydroxycarboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/42—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain
    • C08G18/4205—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain containing cyclic groups
    • C08G18/4208—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain containing cyclic groups containing aromatic groups
    • C08G18/4211—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain containing cyclic groups containing aromatic groups derived from aromatic dicarboxylic acids and dialcohols
    • C08G18/4216—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain containing cyclic groups containing aromatic groups derived from aromatic dicarboxylic acids and dialcohols from mixtures or combinations of aromatic dicarboxylic acids and aliphatic dicarboxylic acids and dialcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/65—Low-molecular-weight compounds having active hydrogen with high-molecular-weight compounds having active hydrogen
    • C08G18/66—Compounds of groups C08G18/42, C08G18/48, or C08G18/52
    • C08G18/6666—Compounds of group C08G18/48 or C08G18/52
    • C08G18/667—Compounds of group C08G18/48 or C08G18/52 with compounds of group C08G18/32 or polyamines of C08G18/38
    • C08G18/6674—Compounds of group C08G18/48 or C08G18/52 with compounds of group C08G18/32 or polyamines of C08G18/38 with compounds of group C08G18/3203
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671—Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672—Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/73—Polyisocyanates or polyisothiocyanates acyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/74—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/74—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic
    • C08G18/75—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/81—Unsaturated isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/8125—Unsaturated isocyanates or isothiocyanates having two or more isocyanate or isothiocyanate groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/81—Unsaturated isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/8141—Unsaturated isocyanates or isothiocyanates masked
    • C08G18/815—Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/8158—Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/8175—Polyisocyanates or polyisothiocyanates masked with unsaturated compounds having active hydrogen with unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen with esters of acrylic or alkylacrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/102—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions other than those only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D175/16—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

Buluş, radyasyonla sertleştirilebilen, suda dağılabilen poliüretan (met)akrilatlarla, bunları içeren kaplama kompozisyonlarıyla, bunların kullanımlarıyla ve bunların üretim prosesleriyle ilgilidir.

Description

TARIFNAME RADYASYONLA SERTLESTIRILEBILEN SUDA DAGILABILEN POLIURETAN (MET) AKRILATLAR Mevcut bulus, radyasyonla sertlestirilebilen, suda dagilabilen poli'uretan (met)akrilatlarla, bunlari içeren kaplama kompozisyonlariyla, bunlarin kullanimlariyla ve bunlarin 'uretim prosesleriyle ilgilidir. bilinmektedir. Bilinen bu sistemlerin hidrofilikligi, iyonik bölgelerin, özellikle de karsi iyonlar olarak alkali metal katyonlari ya da amonyum iyonlarina sahip olan karboksilat ya da sülfonat gruplarinin varligina dayanmaktadir. Genellikle mevcut olan aminler (nötrlestirme ya da molar kütlenin arttirilmasi için) kaplama kompozisyonlarinin sararmasina neden olabilir. Bununla birlikte, filmlerin yapiskanligini azaltmak için hedef moleküler kütleye ihtiyaç vardir.
Radyasyonla sertlestirilebilen, suda em'ülsiyon haline gelebilen poli'uretan (met)akrilatlar A1 ya da EP 1591502 A1'den bilinmektedir.
Belirtilen belgelerden elde edilen tüm 'ürünler için ortak bir faktör burada tarif edilen poli'L'iretan (met)akrilatlarin hazirlanmasinin, en az bir di- ya da poliamin ile reaksiyonu içermesidir. kaçinildigi su- emi'ilsifiye edilebilir 'üretan (met)akrilatlari tarif etmektedir. etmektedir, ki bunlar bir substrata iyi bir sekilde yapisan ve daha yüksek bir asinma direncine sahip olan kaplamalar için baglayici bilesenleri olarak kullanilabilir. Ancak, üretan (met)akrilatlarin hazirlanmasinda kullanilan polialkilen oksit polieterler en az iki hidroksi grubu seergilemektedir. kimyasal performans özelliklerine sahip olan kaplamalar için baglayici bilesenleri olarak kullanilabilen radyasyonla sertlestirilebilen, suda dagilabilen üretan (met)akrilatlari açiklamaktadir. Ancak bu üretan (met)akrilatlar, herhangi bir tek fonksiyonlu polialkilen oksit polieter alkol içermez.
Mevcut basvurunun rüçhan tarihinde hen'uz yayinlanmamis olan uluslararasi basvuru WO ikame edilmis aminler oldugu ve hidrokarbil radikallerinin birlikte en az 12 karbon atomuna sahip oldugu radyasyonla sertlestirilebilen, suda çözünebilen ya da dagilabilen 'üretan (met)akrilatlari açiklamaktadir. Bir dezavantaj, bu tür aminlerin ticari olarak mevcudiyetlerinin düsük olmasi ve uretan (met)akrilatin hedef hidrofilisitesini düsürmesidir. dispersiyonlarini ve bunlarin inkjet ve baski uygulamalari için kullanimini açiklamaktadir.
Bu iki dokümanda tarif edilen poliüretanlarin bir dezavantaji, uzun süreli depolamadan sonra özelliklerinin degismesidir. Mevcut bulusun bir amaci, dispersiyonda iyi stabilite ve iyi pigmentasyon özellikleri sergileyen radyasyonla sertlestirilebilen, suda dagilabilen üretan (met)akrilatlarin gelistirilmesidir.
Bu amaca, esasen asagidakilerden olusan, radyasyonla sertlestirilebilen, suda dagilabilen üretan (met)akrilatlar (A) ile ulasilmistir (a) en az bir (siklo) alifatik di- ve/veya poliizosiyanat, (b1) 700 g/mol'den daha az bir molar k'ütleye sahip en az bir (siklo)alifatik diol, (b2) agirlikça ortalama molar kütlesi Mw 700 ila 2000 olan en az bir polyester diol ve tercih edilen sekliyle, 20 mg KOH/g'den fazla olmayan, DIN 53240'a kadar bir asit sayisi, (0) en az bir izosiyanat- reaktif gruba ve en az bir serbest radikal olarak polimerize olabilen doymamis gruba sahip en az bir bilesik (c), (d) en az bir izosiyanat- reaktif gruba ve en az bir asit grubuna sahip en az bir bilesik, (e) bilesen (d)inin asit gruplarinin en azindan kismi nötralizasyonu için bir alkali metalin en az bir bazi, (f) istege bagli olarak, tam olarak bir hidroksil fonksiyonuna sahip en az bir monoalkol ya da en az bir mono- ve di- C1- C4- alkilamin, (9) en az bir monofonksiyonel polialkilen oksit polieter alkol.
Bulusa ait üretan (met)akrilatlar (A), gelismis depolama stabilitesi ve iyi pigmentasyon Yukarida tarif edilen üretan (met) akrilatlarin (A), istege bagli olarak diger radyasyonla sertlestirilebilen bilesiklerle (B) karisim halinde ya da kaplama bilesimlerinde ya da baski mürekkeplerinde kullanilmasi 'ozellikle avantajlidir.
Bilesen (a) en az bir, tercih edilen sekliyle bir ila dört, daha tercih edilen sekliyle bir ila 'üç, (siklo) alifatik di- ve/veya poliizosiyanattir.
Bunlar, alifatik ya da sikloalifatik diizosiyanatlarin monomerleri velveya oligomerleridir.
Bu gibi bir bilesigin NCO islevselligi genellikle en az 1.8'dir ve 8'e kadar, tercih edilen sekliyle 1.8 ila 5`e ve daha tercih edilen sekliyle 2 ila 4'e kadar olabilir.
NCO = 42 g/mol olarak hesaplanan izosiyanat gruplarinin miktari genellikle agirlikça % 5 ila Diizosiyanatlar tercih edilen sekliyle 4 ila 20 karbon atomuna sahip olan izosiyanatlardir. Tipik diizosiyanat örnekleri arasinda tetrametilen diizosiyanat, pentametilen 1,5- diizosiyanat, heksametilen diizosiyanat (1,6- diizosiyanatoheksan), oktametilen diizosiyanat, dekametilen diizosiyanat, dodekametilen diizosiyanat, tetradekametilen diizosiyanat gibi alifatik diizosiyanatlar, Iisin diizosiyanat, trimetilheksan diizosiyanat ya da tetrametilhekzan (izosiyanatosikloheksil) metan, 1- izosiyanato- 3.3,5- trimetil- 5- (izosiyanatometil) sikloheksan (izoforon diizosiyanat), 1,3- ya da 1,4- bis (izosiyanatometil) sikloheksan veya 2,4 veya 2,6- diizosiyanato- 1- metilsikloheksan gibi Sikloalifatik diizosiyanatlar ve ayrica 3 (veya 4), 8 (veya 9) - bis (izosiyanatometil) trisiklo [52.1.0215] dekan izomer karisimlari yer almaktadir.
Sözü edilen diizosiyanatlarin karisimlari da mevcut olabilir.
Heksametilen diizosiyanat, 1,3- bis (izosiyanatometil) siklohekzan, izoforon diizosiyanat ve 4,4'- ya da 2,4'- di- (izosiyanatosikloheksil) metan 'özellikle tercih edilmekte ve izoforon diizosiyanat ve heksametilen diizosiyanat çok 'özel olarak tercih edilmektedir. izoforon diizosiyanat genellikle bir karisim biçiminde, özellikle de cis ve trans izomerlerinin bir karisimi seklindedir ve cis ve trans izomerlerin birbirine orani genellikle yaklasik 60:40 ila 80:20 (a/a), tercih edilen sekliyle yaklasik 70:30 ila 75:25 ve daha tercih edilen sekliyle yaklasik 75:25'tir.
Disikloheksilmetan 4,4'- diizosiyanat benzer sekilde farkli cis ve trans izomerlerin bir karisimi formunda olabilir.
Sikloalifatik izosiyanatlar, en az bir Sikloalifatik halka sistemi içerenlerdir.
Alifatik izosiyanatlar, sadece dogrusal ya da dallanmis zincirleri, diger bir deyisle asiklik bilesikleri içerenlerdir.
Ayni zamanda, 2'den fazla izosiyanat grubu ortalamasina sahip olan daha yüksek izosiyanatlar da uygundur. Bunlarin uygun 'örnekleri triizosiyantononan gibi triizosiyanatlari içermektedir.
Kullanisli poliizosiyanatlar izosiyan'ürat gruplarina sahip poliizosiyanatlar, üretdiyon diizosiyanatlar, biuret gruplarina sahip poliizosiyanatlar, üretan gruplarina ya da allofanat gruplarina sahip poliizosiyanatlar, oksadiazinetrion gruplari içeren poliizosiyanatlar, üretonimin modifiye poliizosiyanatlar, karbodiimid, hiper dallanmis poliizosiyanatlar, poli'üretan- poliizosiyanat prepolimerleri veya poli'üre- poliizosiyanat prepolimerleri, lineer veya dallanmis C4- C20- alkilen diizosiyanatlar ve/veya toplam 6 ila 20 karbon atomuna sahip sikloalifatik diizosiyanatlari içermektedir.
Kullanilabilecek di- ve poliizosiyanatlar di- ve poliizosiyanata (karisim) dayali olarak tercih edilen sekliyle, agirlikça % 10 ila 60 oraninda, tercih edilen sekliyle agirlikça % 15 ila 60 ve daha tercih edilen sekliyle agirlikça % 20 ila 55 oraninda bir izosiyanat grubu (NCO olarak hesaplanmistir, molekül agirligi = 42) içerigine sahiptir.
Bu tarifname baglaminda toplu olarak (sikl0)alifatik olarak atifta bulunulan alifatik ve/veya sikloalifatik di- ve poliizosiyanatlar tercih edilmektedir ve bunlara 'örnekler, yukarida belirtilen alifatik ve/veya sikloalifatik diizosiyanatlar ya da bunlarin karisimlaridir.
Mevcut bulus için sadece tekabül eden aminlerin fosforlanmasi ile elde edilen di- ve poliizosiyanatlarin kullanilmasi degil ayrica fosgen kullanilmadan, yani fosgensiz proseslerle hazirlananlarin kullanilmasi da mümkündür. EP- A- , EP- A- 126 diizosiyanat (HDI), alkilen radikalinde 4 karbon atomuna sahip olan izomerik alifatik diizosiyanatlar, 4,4'- ya da 2,4'- di (izosiyantosikloheksil) metan ve 1- izosiyanato- 3- diizosiyanatlar, 'örnegin (siklo) alifatik diaminlerin, örnegin, üre ve alkollerle (siklo) alifatik biskarbamik esterler vermek ve söz konusu esterleri, termal bölünmeye karsilik gelen diizosiyanatlara ve alkollere tabi tutmak suretiyle reaksiyona sokulmasiyla hazirlanabilirler.
Sentez genellikle dolasim prosesinde sürekli olarak ve istege bagli olarak N- ikame edilmemis karbamik esterlerin, dialkil karbonatlarin ve reaksiyon sürecinden geri dönüstürülen diger yan ürünlerin varliginda gerçeklestirilmektedir. Bu sekilde elde edilen di- veya poliizosiyanatlar genellikle, Çok düsük ve hatta Ölçülemeyen klorlu bilesik fraksiyonlari içermektedir, ki bu da ürünlerde uygun renk numaralarina yol açmaktadir.
Mevcut bulusun olasi bir düzenlemesinde, di- ve poliizosiyanatlar (a), 200 ppm'den az, tercih edilen sekliyle 120 ppm'den az, daha tercih edilen sekliyle 80 ppm'den az, daha da tercih edilen sekliyle 50 ppm'den az, özellikle 15 ppm'den az ve bilhassa 10 ppm'den az toplam hidrolize edilebilir klor içerigine sahiptir. Bu, Örnegin ASTM yöntemi D4663- 98 ile blçülebilir. Elbette, daha yüksek bir klor içerigine sahip olan di- ve poliizosiyanatlarin (a) kullanilmasi da mümkündür.
Di- ve poliizosiyanatlar (a) ayrica en azindan kismen bloke formda olabilirler.
Tercih, 1) izosiyanürat gruplarina sahip olan ve aromatik, alifatik ve/veya sikloalifatik diizosiyanatlardan türetilen poliizosiyanatlara uzanmaktadir. Burada karsilik gelen alifatik ve/veya sikloalifatik izosiyanato- izosiyanatlar ve özellikle de heksametilen diizosiyanat ve izoforon diizosiyanat bazli olanlar tercih edilmektedir. Bu mevcut izosiyanüratlar, 'özellikle, diizosiyanatlarin döngüsel trimerleri olan tris- izosiyanatoalkil ve/veya tris- izosiyanatosikloalkil izosiyanatlardir ya da birden fazla izosiyanürat halkasi içeren yüksek homologlari ile karisimlardir. Izosiyanatoizosiyan'üratlar genellikle agirlikça % 10 ila % 30, 'özellikle agirlikça 2) Aromatik, alifatik ve/veya sikloalipatik olarak bagli, tercih edilen sekliyle alifatik ve/veya sikloalipatik olarak bagli izosiyanat gruplari ile üretdion diizosiyanatlar ve özellikle heksametilen diizosiyanat ya da izoforon diizosiyanattan türetilenler. Uretendion diizosiyanatlar, diizosiyanatlarin siklik dimerizasyon ürünleridir. Uretdion diizosiyanatlar tek bir bilesen olarak ya da diger poliizosiyanatlarla, özellikle de 1) altinda belirtilenlerle karisim halinde kullanilabilir. 3) Biuret gruplarina sahip olan ve aromatik, sikloalifatik ya da alifatik olarak bagli, tercih edilen sekliyle sikloalifatik veya alifatik olarak baglanmis izosiyanat gruplarina sahip olan poliizosiyanatlar, özellikle daha yüksek homologlari olan tris (6- izosiyanatoheksil) bi'üre ya da bunlarin karisimlari. Bip'L'ir gruplarina sahip olan bu poliizosiyanatlarin genel olarak NCO içerigi agirlikça % 18 ila % 22 arasindadir ve ortalama NCO islevselligi 2.8 ila 4.5 arasindadir. 4) Uretan ve/veya allofanat gruplarina sahip ve aromatik, alifatik veya sikloalifatik olarak, tercih edilen sekliyle alifatik ya da sikloalipatik olarak bagli izosiyanat gruplarina sahip olan poliizosiyanatlar, örnegin, fazla miktarlarda heksametilen diizosiyanat ya da isophoron diizosiyanatin mono- ya da polihidrik alkollerle (örnegin metanol, etanol, izo- propanol, n- propanol, n- butanol, izo- butanol, sek- bütanol, tert- butanol, n- heksanol, n- heptanol, n- oktanol, n- dekanol, n- dodekanol (Iauril alkol ), 2- etilheksanol, n- pentanol, stearil alkol, setil alkol, lauril alkol, etilen glikol monometil eter, etilen glikol monoetil eter, propan- 1,3- diol monometil eter, siklopentanol, siklohekzanol, siklooktanol, siklododekanol, trimetilolpropan, neopentil glikol, pentaeritritol, bütan- 1,4- diol, heksan- 1,6- diol, propan- 1,3- diol, 2- etilpropan- 1, 3- diol, 2- metilpropan- 1, 3- diol, etilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, tetraetilen glikol, pentaetilen glikol, gliserol, 1,2- dihidroksipropan, 2,2- dimetiletan- 1,2- diol, diethyloctane- 1,3- diol, hidroksipivalik asit neopentil glikol ester, ditrimetilolpropan, dimetanol, sikloheksan- 1,2-, - 1,3- ya da - 1,4- dioI veya bunlarin karisimlari) reaksiyona sokulmasiyla elde edilebilir. Uretan ve/veya allofanat gruplarina sahip olan bu poliizosiyanatlar genellikle agirlikça % 12 ila 20'lik bir NCO içerigine ve 2.5 ila 4.5'I'ük bir ortalama NCO islevselligine sahiptir.
) Tercih edilen sekliyle heksametilen diizosiyanat ya da izoforon diizosiyanattan elde edilen oksadiazinetrion gruplari içeren poliizosiyanatlar. Oksadiazinetrion gruplarini içeren bu tur poliizosiyanatlar, diizosiyanat ve karbon dioksitten elde edilebilir. 6) Tercih edilen sekliyle heksametilen diizosiyanat ya da izoforon diizosiyanattan elde edilen iminooksadiazindion gruplari içeren poliizosiyanatlar. Iminooksadiazindion gruplari içeren bu tür poliizosiyanatlar, spesifik katalizörler vasitasiyla diizosiyanatlardan hazirlanabilmektedir. 7) Uretonimin modifiye poliizosiyanatlar. 8) Karbodiimid modifiye poliizosiyanatlar. poliizosiyanatlar.
) Alkol ile di- ve/veya poliizosiyanatlardan poli'üretan- poliizosiyanat prepolimerleri. 11) Poliüre- poliizosiyanat prepolimerleri.
Poliizosiyanatlar 1) ila 11) bir karisim halinde, istege bagli olarak ayni zamanda diizosiyanatlarla bir karisim halinde kullanilabilir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, bilesen (a) bir sikloalifatik ya da alifatik, tercih edilen sekliyle bir alifatik, monomerik diizosiyanat (a1) karisimidir ve tercih edilen sekliyle bir alifatik, monomerik diizosiyanat 'üzerinde bir sikloalifatik ya da alifatik esasli bir poliizosiyanat (a2) karisimidir.
Bu düzenlemede, bilesen (a1) tercih edilen sekliyle heksametilen diizosiyanat, 1,3- bis (izosiyanatometil) sikloheksan, izoforon diizosiyanat ve 4,4'- veya 2,4'- di (izosiyantosikloheksil) metandan olusan gruptan ve daha tercih edilen sekliyle izoforon diizosiyanat ve heksametilen diizosiyanattan olusan gruptan seçilmektedir ve en çok tercih edilen sekliyle heksametilen 1,6- diizosiyanattir.
Poliizosiyanat (a2) tercih edilen sekliyle izosiyan'urat gruplarina sahip bir poliizosiyanat, üredion diizosiyanat, biuret gruplarina sahip poliizosiyanat, üretan gruplarina veya allofanat gruplarina sahip poliizosiyanat veya bunlarin karisimlari, daha tercih edilen sekliyle izosiyan'L'irat gruplarina sahip poliizosiyanat, allofanat gruplarina veya bunlarin karisimlarina sahip olan üredion diizosiyanat veya poliizosiyanatlar, daha da tercih edilen sekliyle izosiyan'urat gruplarina sahip poliizosiyanatlar veya allofanat gruplarina veya bunlarin karisimlarina sahip poliizosiyanatlar, ve özellikle allofanat gruplarina sahip olan poliizosiyanatlardir.
Bir olasi düzenlemede, yaratici üretan (met)akri|atlar, bu tür poli'uretanlardaki allofanat gruplarinin içerigi (CzNzHOe, = 101 g / mol olarak hesaplanir), agirlikça % 1 ila 28, tercih edilen sekliyle agirlikça % 3 ila 25 olacak sekilde allofanat gruplarini içermektedir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde, bir bilesen (a1), izosiyan'uratlar, biuretler, üretanlar ve allofanatlardan olusan gruptan seçilen, tercih edilen sekliyle izosiyanüratlar, üretanlar ve allofanatlardan olusan gruptan seçilen, daha tercih edilen sekliyle izosiyanüratlar ve allofanatlardan olusan gruptan seçilen diizosiyanat formunda heksametilen 1,6- diizosiyanat velveya buna dayanan bir poliizosiyanattir ve heksametilen 1,6- diizosiyanat bazli poliizosiyanat en çok tercih edilen sekliyle allofanat gruplarini içeren bir poliizosiyanattir.
Ozellikle tercih edilen bir düzenlemede, allofanat gruplarini içeren ve heksametilen 1,6- diizosiyanat bazli olan poliizosiyanatta (a2) tam olarak bir izosiyanat- reaktif gruba ve en az bir serbest radikal olarak polimerize olabilen doymamis gruba sahip olan bilesikler (o), en azindan kismen allofanat gruplari vasitasi ile eklenmektedir.
En çok tercih edilen sekliyle, poliizosiyanat (a2), bir allofanat grubu vasitasiyla baglanmis en az bir hidroksialkil (met)akri|at içeren bir poliizosiyanattir ve asagidaki formülü karsilamaktadir R5, 2 ila 12 karbon atomuna sahip bir iki degerlikli alkilen radikalidir ve istege bagli olarak C1- ila C4- alkil gruplariyla ikame edilebilir velveya bir veya daha fazla oksijen atomu ile kesilebilir, tercih edilen sekliyle 2 ila 10 karbon atomuna, daha tercih edilen sekliyle 2 ila 8 karbon atomuna ve en tercih edilen sekliyle 3 ila 6 karbon atomuna sahiptir, R6, 2 ila 20 karbon atomuna sahip bir iki degerlikli alkilen radikali veya sikloalkilen radikalidir ve istege bagli olarak C1- ila C4- alkil gruplariyla ikame edilebilir ve/veya bir veya daha fazla oksijen atomu ile kesilebilir, tercih edilen sekliyle 4 ila 15 karbon atomuna, daha tercih edilen sekliyle 6 ila 13 karbon atomuna sahip olabilir, R7, hidrojen ya da metil, tercih edilen sekliyle hidrojendir ve x, istatistiksel ortalamasi 2 ila 6, tercih edilen sekliyle 2 ila 4 arasinda olan bir pozitif sayidir. heksilen tercih edilmekte, 1,2- etilen, 1,2- propilen ve 1,4- bütilen özellikle tercih edilmekte ve 1,2- etilen en özellikle tercih edilmektedir.
Tercih edilen sekliyle R6, 1,6- heksilen içeren gruptan seçilmektedir, CH3 HSC ve daha tercih edilen sekliyle 1,6- heksilendir.
Mevcut bulusun 'Özellikle tercih edilen bir düzenlemesinde, R6 1,6- heksilendir ve R5 1,2- etilen, 1,2- propilen ve 1,4- bütilenden olusan gruptan, tercih edilen sekliyle 1,2- etilen ve 1,4- b'ütilenden seçilmektedir ve daha da tercih edilen sekliyle 1,2- etilendir.
R5 = 1,2- etilen, R6 = 1,6- heksilen ve 7 = hidrojen oldugu ticari olarak temin edilebilen bir poliizosiyanat agirlikça % 14.5- 15.5'Iik bir NCO içerigi ile BASF SE, Ludwigshafen'den Laromer® LR 9000 ticari adiyla temin edilebilir.
Bilesen (b1) en az bir, tercih edilen sekliyle bir ila `Uç, daha tercih edilen sekliyle bir ile iki ve en çok tercih edilen sekliyle bir (siklo)alifatiktir, Özellikle de 700 g / mol'den az, tercih edilen sekliyle g/mol'den az bir molar k'ütleye sahip olan alifatik diol(ler)dir.
Bir sikloalifatik diol, en az bir doymus halka sistemi içeren dioller anlamina gelmektedir.
Alifatik dioller, sadece dogrusal ya da dallanmis zincirleri, diger bir deyisle asiklik bilesikleri içerenlerdir.
Alifatik diollere `örnekler etilen glikol, propan- 1,2- diol, propan- 1,3- diol, bütan- 1,2- diol, bütan- dietilen glikol, trietilen glikol, dipropilen glikol, tripropilen glikoldur.
Kullanimi tercih edilen dioller etilen glikol, propan- 1,2- diol, propan- 1,3- diol, neopentil glikol, heksan- 1,6- diol ve oktan- 1,8- diold'ur. Etilen glikol, propan- 1,2- diol, propan- 1,3- diol, neopentil glikol, 2- etilheksan- 1,3- diol ve 2- bütil- 2- etilpropan- 1,3- diol özellikle tercih edilmekte, etilen glikol, propan- 1,3- diol, neopentil glikol ve 2- bütil- 2- etilpropan- 1,3- diol ve (hidroksietil) sikloheksanlar ve bis (4- hidroksisikloheksan) izopropilidendir. hidroksisiklohekzan) izopropiliden tercih edilmektedir.
Tercih edilen dioller (b1) etilen glikol, propan- 1,2- diol, propan- 1,3- diol, 2,2- dimetiletan- 1,2- diol, 2,2- dimetilpropan- 1, 3- diol (neopentil glikol), bütan- 1,2- diol, bütan- I, 3- diol, bütan- 1,4- diol, heksan- 1,6- diol ya da dietilen glikold'ür.
Ozellikle tercih edilen bilesikler (b1), etilen glikol, propan- 1,2- diol, propan- 1,3- diol, neopentil glikol, bütan- 1,4- diol ve dietilen glikoldur. Çok 'özellikle tercih edilen bilesikler (b1), etilen glikol, neopentil glikol ve bütan- 1,4- diol, g/mol arasinda olan (örnegin, jel nüfuz kromatografisi (GPC) ile belirlenmistir) ve tercihan, 20 mg KOH/g'den daha fazla olmayan bir DIN 53240'a kadar bir asit sayisina sahip olan en az bir, tercih edilen sekliyle bir ile üç, daha tercih edilen sekliyle bir ile iki ve en çok tercih edilen sekliyle tam olarak bir polyester dioldür (diollerdir).
Tercih edilen sekliyle, en azindan kismen sikloalifatik diol ve / veya dikarboksilik asit birimlerinden olusturulmus, daha tercih edilen sekliyle en azindan kismen sikloalifatik diol birimlerinden olusturulmus bir polyester dioldür ve en çok tercih edilen sekliyle, istenen herhangi bir dikarboksilik asit birimi, özellikle diol birimleri olarak sikloalifatik diolleri içermektedir.
Bu türden polyester dioller, tamamen alifatik birimlerden olusturulanlara göre yüksek bir sertlige sahiptir. Buna ilaveten, alifatik ve sikloalifatik birimler, tamamen aromatik birimlere kiyasla sararmaya daha az egilimlidir.
Dikarboksilik asit birimleri, serbest asitler ya da bunlarin türevleri olabilir.
Türevler tercih edilen sekliyle su anlamlara gelmektedir . monomerik ya da baska polimerik formda karsilik gelen anhidritler, . mono- ya da dialkil esterler, tercih edilen sekliyle mono- ya da di- 01- C4- alkil esterler, daha tercih edilen sekliyle mono- ya da dimetil esterler ya da karsilik gelen mono- ya da dietil . ya da baska mono- ve divinil esterler, ve ayrica . karisik esterler, tercih edilen sekliyle farkli 01- C4- alkil bilesenleri ile karismis esterler, daha tercih edilen sekliyle karisik metil etil esterler.
Bu belge kapsaminda 01- C4- alkil, metil, etil, izo- propil, n- propil, n- bütil, izo- bütil, sek- bütil ve tert- bütil, tercih edilen sekliyle metil, etil ve n- bütil, daha tercih edilen sekliyle metil ve etil ve en çok tercih edilen sekliyle metil anlamina gelmektedir.
Alifatik birimler sadece açik zincirlere, tercih edilen sekliyle alkilen zincirlerine sahipken, sikloalifatik birimler, fonksiyonel gruplarin disinda en az bir halka sistemine sahiptir. Aromatik birimler, fonksiyonel gruplarin disinda en az bir aromatik halka sistemine sahiptir.
Alifatik diol örnekleri etilen glikol, propan- 1,2- diol, propan- 1,3- diol, bütan- 1,2- diol, bütan- dimetilheksan- 2,5- diol, 2,2,4- trimetilpentan- 1,3- diol, pinakol, dietilen glikol, trietilen glikol, dipropilen glikol, tripropilen glikol, polietilen glikoller HO(CH20H20)n- H ya da polipropilen glikoller HO(CH[CH3]CH20)n- H, ki burada n bir tamsayi ve n 2 4it'ür, polietilen- polipropilen glikoller, ki burada propilen oksit birimlerinin etilen oksit dizisi blok seklinde ya da rasgele olabilir, politetrametilen glikoller, polipropan- 1,3- dioller.
Kullanimi tercih edilen dioller etilen glikol, propan- 1,2- diol, propan- 1,3- diol, bütan- 1,4- diol, pentan- 1,5- diol, heksan- 1,6- diol ve oktan- 1,8- dioldür. (hidroksietil) sikloheksanlar ve bis (4- hidroksisikloheksan) izopropilidendir. hidroksisiklohekzan) izopropiliden tercih edilmektedir.
Alifatik dikarboksilik asitlere örnekler oksalik asit, malonik asit, maleik asit, fumarik asit, süksinik asit, glutarik asit, adipik asit, pimelik asit, suberik asit, azelaik asit, sebasik asit, undekan- 0,00- dikarboksilik asit, dodesan- 0,00- dikarboksilik asit ve bunlarin türevleridir.
Sikloalifatik dikarboksilik asitlere örnekler cis- ve trans- sikloheksan- 1,2- dikarboksilik asit (heksahidroftalik asitler), sis- ve trans- sikloheksan- 1,3- dikarboksilik asit, sis- ve trans- sikloheksan- 1,4- dikarboksilik asit, 1,2-, 1,3- veya 1,4- sikloheks- 4- enikarboksilik asit (tetrahidroftalik asitler), sis- ve trans- siklopentan- 1,2- dikarboksilik asit, sis- ve trans- siklopentan- 1,3- dikarboksilik asit ve bunlarin türevleridir.
Aromatik dikarboksilik asitlere örnekler ftalik asit, izoftalik asit, tereftalik asit ve ftalik anhidrittir, ftalik asit ve izoftalik asit tercih edilmekte, ftalik asit özellikle tercih edilmektedir.
Bilesen (0) en az bir, Örnegin bir ila 'üç, tercih edilen sekliyle bir ila iki ve daha tercih edilen sekliyle tam olarak bir izosiyanatla reaktif grup(|ar)a ve en az bir, örnegin bir ila bes, tercih edilen sekliyle bir ila üç, daha tercih edilen sekliyle bir veya iki ve en çok tercih edilen sekliyle tam olarak bir serbest radikal olarak polimerlestirilebilir doymamis gruba sahip olan en az bir, tercih edilen sekliyle 1 ila 3, daha tercih edilen sekliyle tam olarak bir ila iki ve en çok tercih edilen sekliyle tam olarak bir bilesiktir.
Izosiyanatla reaktif gruplar, örnegin, -OH, - SH, -NH2 ve -NHR8 olabilir ki burada burada R8 hidrojen veya 1 ila 4 karbon atomu içeren bir alkil grubu, örnegin metil, etil, n- propil, izo- propil, n- bütil, izo- bütil, sek- b'util veya tert- bütildir.
Izosiyanat- reaktif gruplari tercih edilen sekliyle -OH, -NH2 ya da -NHRB, daha tercih edilen sekliyle -OH ya da -NH2 ve en çok tercih edilen sekliyle -OH olabilir.
Olasi (c) bilesenlerine örnekler arasinda akrilik asit, metakrilik asit, krotonik asit, itakonik asit, fumarik asit, maleik asit, akrilamidoglikolik asit, metakrilamidoglikolik asit gibi a,ß- doymamis karboksilik asitlerin monoesterleri, etilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, 1,2- propilen glikol, 1,3- propilen glikol, 1,1- dimetiletan- 1,2- diol, dipropilen glikol, trietilen glikol, tetraetilen glikol, pentaetilen glikol, tripropilen glikol, bütan- 1,2-, - 1,3- veya - 1,4- diol, pentan- 1,5- diol, neopentil glikol, heksan- 1,6- diol, 2- metilpentan- 1,5- diol, 2 - ethylbutane- 1,4- diyol gibi tercih edilen sekliyle 2 ila 20 karbon atomuna ve en az iki hidroksil grubuna sahip dioller veya polioller ile vinil eterler, 1,4- dimetilsikloheksan, 2,2- bis (4- hidroksisikloheksil) propan, gliserol, trimetiloletan, trimetilolpropan, trimetilolbutan, pentaeritritol, ditrimetilolpropan, eritritol, arasinda olan polipropan- 1,3- diol ya da 238 ila 458 arasinda bir molar agirliga sahip olan polietilen glikol yer almaktadir. Ayrica, amino alkollerle (met)akrilik asidin esterlerini ya da amidlerini kullanmak da mümkündür ki örnekleri arasinda 2- aminoetanol, 2- (metilamino) etanol, 3- amino- 1- propanol, 1- amino- 2- propanol veya 2- (2- aminoetoksi) etanol, 2- merkaptoetanol veya poliaminoalkanlar, örnegin etilendiamin veya dietilentriamin veya vinilasetik asit yer almaktadir.
Buna ilaveten, 2 ila 10 arasinda ortaslama OH islevselligine sahip olan doymamis polieteroller ya da poliesteroller ya da poliakrilat polioller de daha az tercih edilmekle birlikte uygundur.
Amino alkollerle etilenik olarak doymamis karboksilik asitlerin amitlerinin 'Örnekleri arasinda N- hidroksimetilakrilamid, N- hidroksimetilmetakrilamid, N- hidroksietilakrilamid, N- hidroksietilmetakrilamid, 5- hidroksi- 3- 0ksapentil(met)akrilamid gibi hidroksialkil(met)akrilamidler, N- hidroksimetilkrotonamid gibi N- hidroksialkilkrotonamidler ya da N- hidroksietilmaleimit gibi N- hidroksialkilmaleimidler yer almaktadir.
Tercih edilen sekliyle 2- hidroksietil (met)akrilat, 2- ya da 3- hidroksipropil (met)akrilat, 1,4- bütandiol mono (met)akrilat, neopentil glikol mon0(met)akrilat, 1,5- pentandiol m0no(met)akrilat, 1,6- heksandiol mono(met)akrilat, gliserol mon0(met)akrilat ve di(met)akrilat, trimetilolpropan mon0(met)akrilat ve di(met)akrilat, pentaeritritol m0no(met)akrilat, di(met)akrilat ve tri(met)akrilat, ve ayrica 4- hidroksibütil vinil eter, 2- aminoetil (met)akrilat, 2- aminopropil (met)akrilat, 3- aminopropil (met)akrilat, 4- aminobütil (met) akrilat, 6- aminoheksil (met)akrilat, 2- tioetil (met)akrilat, 2- aminoetil(met) akrilamid, 2- aminopropil (met)akrilamid, 3- aminopropil (met)akrilamid, 2- hidroksietil (met)akrilamid, 2- hidroksipropil (met) akrilamid ya da 3- hidroksipropil (met)akrilamid kullanilmaktadir. 2- hidroksietil akrilat, 2- hidroksietil metakrilat, 2- ya da 3- hidroksipropil akrilat, bütan- 1,4- diol monoakrilat, 3- (akriloiloksi) - 2- hidroksipropil (met) akrilat ve 106 ila 238 arasinda bir molar kütleye sahip polietilen glikolün monoakrilatlari `Özellikle tercih edilmektedir.
Tercih edilen bir düzenlemede, bilesen (c), asagidakilerden olusan gruptan seçilmektedir: 2- hidroksietil akrilat, 2- hidroksietil metakrilat, 2- ya da 3- hidroksipropil akrilat ve bütan- 1,4- diol monoakrilat, gliserolün 1,2- veya 1,3- diakrilati, trimetilolpropan diakrilat, pentaeritrit triakrilat, ditrimetilolpropan triakrilat ve dipentaeritil pentaakrilat, tercih edilen sekliyle 2- hidroksietil akrilat ve 2- hidroksietil metakrilat ve daha tercih edilen sekliyle 2- hidroksietil akrilat.
Tercih edilen bir düzenlemede, bilesik (c)'nin en az bir kismi di- ya da poliizosiyanata (a), tercih edilen sekliyle bir poliizosiyanata (a2), daha tercih edilen sekliyle allofanat gruplari vasitasi ile baglanmistir. Bu durumda, bu bulustaki üretan (met)akrilatin hazirlanmasinda serbest formda kullanilan bir poliizosiyanat bagli (a2) bilesik (c)'nin molar orani 'örnegin 90:10 ila 10:90, tercih poliizosiyanat (a2) 'ye baglanan bilesik (c) ve bulusa ait üretan (met)akrilatin hazirlanmasinda serbest formda kullanilan bilesik (c)*nin ayni bilesik (0) olmasi tercih edilen bir durumdur, fakat ayni zamanda farkli bilesikler (c) de olabilirler.
Eger bilesen (c) trimetilolpropan, pentaeritritol, ditrimetilolpropan veya dipentaeritritol'ün asilasyonundan teknik karisimlar içeriyorsa, bunlar genellikle tamamen ve tam olarak akrilatlanmis poliollerin karisimlari seklinde kullanilmaktadir. Bu durumda, (c) bilesenleri olarak pentaeritritil triakrilat ve pentaeritritil tetraakrilattan olusan ve ayrica az miktarda pentaerittal diakrilat da icerebilen pentaeritritol'ün akrilasyonundan teknik karisimlari çok özel olarak tercih edilmektedir.
Bilesen (d) en az bir, Örnegin bir veya iki, tercih edilen sekliyle tam olarak iki izosiyanat- reaktif gruba ve en az bir asit grubuna sahip olan en az bir, tercih edilen sekliyle tam olarak bir bilesiktir.
Asit gruplarinin, karboksilik asit, sülfonik asit ya da fosfonik asit gruplari, tercih edilen sekliyle karboksilik asit ya da sülfonik asit gruplari ve daha tercih edilen sekliyle karboksilik asit gruplari oldugu anlasilmalidir.
Daha az tercih edilse de olasi (d) bilesikleri, tam olarak bir izosiyanatla reaktif grup ve anyonik olan ya da anyonik bir gruba dönüstürülebilen en az bir hidrofilik grubu içermektedir. Söz bölümlerde tarif edilenlerdir. Bu dokümanlar isbu vesile ile açiklama içeriginin bir parçasi olarak açikça referans olarak dahil edilmistir.
Olasi bilesikler (d) asagidaki genel formüle sahip olanlardir RG en az bir izosiyanat- reaktif gruptur, DG en az bir daginik gruptur ve R3, 1 ila 20 karbon atomu içeren bir alifatik, sikloalifatik ya da aromatik radikaldir.
Izosiyanat- reaktif gruplarin RG örnekleri -OH, - SH, -NH2 ya da -NHR8, ki burada ngukarida tanimlandigi gibidir, ancak burada kullanilan radikalden farkli olabilir, tercih edilen sekliyle - OH, -NH2 ya da -NHRB, daha tercih edilen sekliyle -OH ya da -NH2 ve en çok tercih edilen sekliyle -OH.
DG'ye örnekler -COOH, -803H ya da -POgH ve bunlarin anyonik formlaridir, ki bunlar bu bulusa uygun olarak bir karsi iyon olarak herhangi bir alkali metal iyonu ile iliskili olabilir, siklopentilen, 1,2- sikloheksilen, 1,3- sikloheksilen ya da 1.4- sikloheksilendir.
Bu türün bilesenleri (d), tercih edilen sekliyle, örnegin, hidroksiasetik asit, tartarik asit, Iaktik asit, 3- hidroksipropionik asit, hidroksipivalik asit, merkaptoasetik asit, merkaptopropiyonik asit, tiyolaktik asit, merkaptos'uksinik asit, glisin, iminodiasetik asit, sarkosin, alanin, ß- alanin, Iösin, izolösin, aminob'utirik asit, hidroksisukinik asit, hidroksidekanoik asit, etilendiamintriasetik asit, hidroksidodesanoik asit, hidroksiheksadekanoik asit, 12- hidroksistearik asit, aminonaftalinkarboksilik asit, hidroksietans'i'ilfonik asit, hidroksipropansülfonik asit, merkaptoetan sülfonik asit, merkaptopropansülfonik asit, aminometansulfonik asit, taurin, aminopropans'ülfonik asit, N- alkillenmis veya N- sikloalkilatlanmis aminopropansi'ilfonik ya da aminoetansülfonik asitlerdir, örnekler N- sikloheksilaminoetanesülfonik asit ya da N- sikloheksilaminopropansüIfonik asit ve ayrica bunlarin alkali metalleri, toprak alkali metalleri ya da amonyum tuzlaridir, ve özellikle tercih edilenler, belirtilen monohidroksikarboksilik ve monohidroksisülfonik asitler ve ayrica monoaminokarboksilik ve monoaminosülfonik asitlerdir.
Dispersiyonun üretilmesi için, yukarida söz edilen asitler, eger zaten tuz degillerse, bir alkali metalin bir tabani ile kismen ya da tamamen nötralize edilirler.
Bilesik (d) tercih edilen sekliyle tam olarak iki hidroksil grubuna ve tam olarak bir asit grubuna, tercih edilen sekliyle tam olarak bir karboksilik asit grubuna sahip bir olan bir bilesiktir.
Bunun örnekleri dimetilolpropiyonik asit, dimetilolbutirik asit ve dimetilolpentanoik asit, tercih edilen sekliyle dimetilolpropiyonik asit ve dimetilolbutirik asittir ve özellikle tercih edilen bir bilesik (d) dimetilolpropiyonik asittir.
Bilesik (e) bilesen (d)'nin asit gruplarinin en azindan kismi nötralizasyonu için bir alkali metalin en az bir bazidir.
Yararli bazik bilesikler (e), alkali metal hidroksitler, oksitler, karbonatlar ve hidrojenkarbonatlari içermektedir. Sodyum hidroksit ya da potasyum hidroksit ile en azindan kismen, tercih edilen sekliyle tamamen n'otralizasyon 'Özellikle tercih edilmektedir. Verilen kimyasal olarak bagli asit gruplarinin miktarlari ve asit gruplarinin nötralizasyon derecesi (genellikle esdegerler bazinda teknik alanda uzman kisilerce bilinen bir sulu ortamda poliüretanlarin dispersiyonunu saglamak için yeterli bir miktar olmalidir.
Tercih edilen sekliyle, (d)'den asit gruplarinin % 50 ila 100 molü nötralize edilmektedir. Bu, dagilmis parçaciklarin monomodal bir parçacik boyutu dagilimina sebep olmakta ve dispersiyonun stabilitesini arttirmaktadir.
Istege bagli bilesen (f) üretan (met) akrilatta mevcut olan herhangi bir serbest izosiyanat grubu için bir durdurucu görevi görebilen en az bir nükleofilik alkol ya da amin, tercih edilen sekliyle monoalkol ya da monoamindir.
Tercih edilen monoalkoller, 1 ila 20, tercih edilen sekliyle 1 ila 12, daha tercih edilen sekliyle 1 ila 6, daha da tercih edilen sekliyle 1 ila 4 ve özellikle 1 ila 2 karbon atomuna sahip olan alkanollerdir.
Bunlarin örnekleri arasinda metanol, etanol, izo- propanol, n- propanol, n- butanol, izo- butanol, sek- bütanol, tert- butanol, n- heksanol, n- heptanol, n- oktanol, n- dekanol, n- dodekanol (Iauril alkol), 2- etilheksanol, siklopentanol, sikloheksanol, siklooktanol, siklododekanol, etilen glikol monometil eter, etilen glikol monoetil eter, dietilen glikol, 1,3- propandiol monometil eter, tercih edilen sekliyle metanol, etanol, izo- propanol, n- propanol, n- bütanol, tert- butanol, n- heksanol, 2- etilheksanol, siklopentanol, siklohekzanol ve siklododekanol, daha tercih edilen sekliyle metanol, etanol, izo- propanol, ri- propanol, n- bütanol ve tert- bütanol, daha da tercih edilen sekliyle metanol ve etanol ve 'özellikle metanol yer almaktadir.
Tercih edilen bir düzenlemede, monooller belirtilen sikloalifatik alkoller, tercih edilen sekliyle siklopentanol ya da siklohekzanol, daha tercih edilen sekliyle sikloheksanol olabilir.
Tercih edilen baska bir düzenlemede, monololler, 6 ila 20 karbon atomuna sahip, daha tercih edilen sekliyle 8 ila 20 karbon atomuna sahip, en çok tercih edilen sekliyle 10 ila 20 karbon atomuna sahip olan belirtilen alifatik alkoller olabilirler.
Ozellikle tercih edilen bir düzenlemede, monooller belirtilen alifatik alkollerdir ve daha tercih edilen sekliyle 1 ila 4 karbon atomuna, özellikle metanole sahip olanlardir.
Tercih edilen durdurucular (f), buna karsilik, mono- ve di- C1- C4- alkilaminler ve daha tercih edilen sekliyle mono- ya da dialkanolaminlerdir. Bunlara örnekler özellikle dietilamin, din- bütilamin, etanolamin, propanolamin, N, N- dipropanolamin ve N, N- dietanolamindir.
Uretan (met)akrilatlarin hidrofilisitesini azalttiklari için C1- C4- alkil gruplarina göre daha uzun alkil gruplarina sahip mono- ve dialkilaminler, bulusun disinda tutulmustur.
Ayni sekilde karar verilenler diaminler ve çok islevli aminlerdir, çünkü bunlar zincir uzaticilar olarak islev görmektedir ve üretan(met) akrilatin molekül agirligini arttirmaktadir, bu da dagilabilirligi ya da çözünürlügü daha zor hale getirmektedir.
Sentezlenecek poliüretan (A) esas alinarak, agirlikça % 10'a kadar durdurucu (f) kullanilmasi olasidir.
Bilesiklerin (f) fonksiyonu, üretan (met)akrilatlarin (A) hazirlanmasi sirasinda kalan herhangi bir dönüstürülmemis izosiyanat grubunu karsilamaktir.
Zorunlu bilesik (g). uygun baslatici moleküllerinin alkoksilasyonuyla elde edilebilen en az bir monofonksiyonel polialkilen oksit polieter alkolüdür.
Bu tür polialkilen oksit polieter alkollerin hazirlanmasi için uygun baslangiç molekülleri tiyol bilesikleri, asagidaki genel formüle sahip olan monohidroksil bilesikler ya da asagidaki genel formüle sahip sekonder monoaminlerdir R16R17N-H Rlß, R17 ve R18 herbiri bagimsiz olarak bir veya daha fazla oksijen ve/veya sülfür atomu ve/veya bir veya daha fazla sayida ikame edilmis veya edilmemis imino grubu ile kesilmis C1- 018- alkil, 02 - C1s- alkil; CB - C12- aril, Cs- C12- sikloalkil ya da oksijen, nitrojen velveya sülfür atomlarina sahip bes ila alti üyeli bir heterosikl, veya R16 ve R17 birlikte, bir veya daha fazla oksijen ve/veya sülfür atomu ve/veya bir veya daha fazla ikame edilmis ya da ikame edilmemis imino grubu tarafindan istege bagli olarak kesilen doymamis, doymus veya aromatik bir halka olustururlar, burada bahsedilen radikallerin her biri, fonksiyonel gruplar, aril, alkil, ariloksi, alkiloksi, halojen, heteroatomlar ve/veya heterosikller ile ikame edilebilir.
Tercih edilen sekliyle Rla, R17 ve Rlsiin her biri bagimsiz olarak C1- ila C4- alkil; daha tercih edilen sekliyle R16, R17 ve Rlsrin her biri metildir.
Ornegin, uygun tek fonksiyonlu baslatici moleküller doymus monoalkoller olabilir, yani metanol, etanol, n- propanol, izopropanol, n- butanol, izobutanol, sek- butanol, izomerik pentanoller, heksanoller, oktanoller ve nonanoller, n- dekanol, n- dodekanol, n- tetradekanol, n- heksadekanol, n- oktataanol, sikloheksanol, siklopentanol, izomerik metilsikloheksanoller veya hidroksimetilsikloheksan, 3- etil- 3- hidroksimetiloksmetan veya tetrahidrofurfuril alkol gibi 0- C veya C- heteroatom çift veya üçlü baglari olmayanlar; fenol, izomerik kresoller veya metoksifenoller gibi aromatik alkoller, benzil alkol, anisil alkol veya sinnamil alkol gibi aralifatik alkoller; dimetilamin, dietilamin, dipropilamin, diizopropilamin, di- n- bütilamin, diizobütilamin, bis (2- etilheksil) amin, N- metil- ve N- etilsikloheksilamin veya disikloheksilamin gibi ikincil monoaminler, morfolin, pirolidin, piperidin veya 1H- pirazol gibi heterosiklik sekonder aminler, ve 2- dimetilaminoetanol, 2- dietilaminoetanol, 2- diizopropilaminoetanol, 2- dibütilaminoetanol, 3- (dimetilamino)- 1- propanol veya 1- (dimetilamino)- 2- propanol gibi amino alkoller.
Tercih edilen baslangiç molekülleri, en fazla 6 karbon atomuna sahip olan alkoller, daha tercih edilen sekliyle en fazla 4 karbon atomuna sahip olan alkoller, en fazla tercih edilen sekliyle en fazla 2 karbon atomuna sahip olan alkoller ve özellikle de metanoldür.
Alkoksilasyon reaksiyonu için uygun alkilen oksitler herhangi bir sirada (blok kopolimerlerin hazirlanmasi için) ya da alkoksilasyon reaksiyonundaki bir karisimda (rastgele kopolimerlerin hazirlanmasi için) kullanilabilen etilen oksit, propilen oksit, izo- bütilen oksit, viniloksiran ve/veya stiren oksittir.
Tercih edilen alkilen oksitler etilen oksit, propilen oksit ve bunlarin karisimlaridir, `Özellikle tercih edilen etilen oksittir.
Tercih edilen polieter alkoller, baslangiç molekülleri olarak yukarida belirtilen türden doymus alifatik ya da sikloalifatik alkoller kullanilarak hazirlanan polialkilen oksit polieter alkollere dayananlardir. AIkiI radikalinde 1 ila 4 karbon atomuna sahip doymus alifatik alkoller kullanilarak hazirlanan polialkilen oksit polieter alkollere dayananlar ozellikle tercih edilmektedir. Ozellikle tercih edilen polialkilen oksit polieter alkoller, metanolden baslanarak hazirlananlardir.
Monohidrik polialkilen oksit polieter alkoller, kopolimerlestirilmis formda, molekül basina ortalama olarak en az 2 alkilen oksit birimi, tercih edilen sekliyle 5 etilen oksit birimi, daha tercih edilen sekliyle en az 7 alkilen oksit birimi ve en çok tercih edilen sekliyle en az 10 alkilen oksit birimi içermektedir.
Monohidrik polialkilen oksit polieter alkoller, genellikle 90'a kadar alkilen oksit birimi, tercih edilen sekliyle kopolimerize formda molekül basina etilen oksit birimleri, tercih edilen sekliyle 45'e kadar, daha tercih edilen sekliyle 40'a kadar ve en çok tercih edilen sekliyle 30'e kadar bir ortalama içermektedir.
Monohidrik polialkilen oksit polieter alkollerin molar kütlesi tercih edilen sekliyle 4000*e kadar, daha tercih edilen sekliyle en fazla 2000 g/mol, en çok tercih edilen sekliyle en az 500, özellikle Bu nedenle tercih edilen polieter alkoller asagidaki formüle sahip olan bilesikleridir R18-O-[-Xi-]s-H R18 yukarida tanimlandigi gibidir, edilen sekliyle 10 ila 30 arasinda bir tamsayidir ve C(CH3)2-CH2-O-, -CHz-CHVin-O-, -CHVin-CH2-0-, -CHz-CHPh-O- ve -CHPh-CHz-O-,den olusan gruptan, tercih edilen sekliyle -CH2-CH2-O-, -CH2-CH(CH3)-O- ve -CH(CH3)-CH2-O- grubundan ve daha tercih edilen sekliyle -CHz-CHz-O-'den seçilebilir. burada Ph fenil ve Vin vinildir.
Uretan (met)akrilatlarin (A) bilesimi genel olarak asagidaki gibidir: (a) (a1) ve (a2)'nin genel toplaminda % 100 mol izosiyanat fonksiyonlari, (b) (b1) ve (b2)'nin genel toplaminda % 5 ila 35 mol (tercih edilen sekliyle % 15 ila 35 mol) hidroksil fonksiyonlari ((a)'daki izosiyanat fonksiyonlarina dayanarak), (c) % 20 ila 80 mol (tercih edilen sekliyle % 30 ila 70 mol) hidroksil fonksiyonlari ((a)'daki izosiyanat fonksiyonlarina dayanarak) dayanarak), (f) izosiyanatla reaksiyona giren hidroksil ya da aminolarin % 0 ila 30 mol'u, tercih edilen sekliyle % 5 ila 30 molü, daha tercih edilen sekliyle % 10 ila 25 moI'L'i ((a)`daki izosiyanat fonksiyonlarina dayanarak), (g) % 05 ila 10 mol, tercih edilen sekliyle % 1 ila 5 mol hidroksil fonksiyonlari ((a)'daki izosiyanat fonksiyonlarina dayanarak), (b), (c), (d) ve (g) bilesenlerinde izosiyanat- reaktif gruplarin genel toplaminin, izosiyanat- edilen sekliyle % 80 ila 100 molü olmasi sartiyla ((a)'daki izosiyanat fonksiyonlarina dayanarak). (B), (c), (d) ve (g) bilesenlerinin reaksiyonu izosiyanat gruplarinin % 60 ila 100, arasindaki bir dönüsümünde tercih edilen sekliyle bilesen (f) ilavesiyle durdurulabilir.
(A) bileseninin izosiyanat gruplari iki farkli bilesen (a1) ve (a2) seklinde oldugunda, (a1)'in (a2)*ye orani (orada bulunan izosiyanat gruplarinin miktarina göre) 4:1 ila 1:4 arasinda, tercih edilen sekliyle 2:1 ila 1:4 arasinda, daha tercih edilen sekliyle 1:1 ila 1:4 arasinda ve en çok tercih edilen sekliyle 123 ila 1:4 arasindadir. Aksi halde, (a1) ve (a2) bilesenlerinin toplami için olan rakamlar elbette sadece bir bilesene (a) dayanmaktadir.
Izosiyanat gruplarini içeren bilesen (a) kullanilmasi tavsiye edilebilir, diger bir deyisle, (31) ve (a2) bilesenlerinin toplami, örnegin OH- fonksiyonel gruplara göre % 140 mol kadar, tercih edilen sekliyle °/o 130 mol ve daha tercih edilen sekliyle % 125 mol kadar. Bu özellikle kullanilan bilesenlerden en az biri, özellikle de higroskopik bilesik (b), hidroksil fonksiyonlari ile rekabet halindeki izosiyanat fonksiyonlariyla reaksiyona giren su içerdiginde tercih edilmektedir.
Poliüretanlarin örnegin jel geçirgenlik kromatografisi (GPC) vasitasiyla belirlenen moleküler az 5000 g/mol olabilir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, poliüretan (A), 10 cCldakika lik bir isitma hizinda, örnegin ASTM ile belirlenebilen, 50 cC'den daha fazla olmayan, tercih edilen sekliyle 40 CC'den fazla olmayan bir cam geçi s sicakligina sahiptir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde, poliüretan (A) herhangi bir serbest NCO grubu içermemektedir.
Bulusa göre, üretan (met)akrilat (A), ilk olarak en azindan (b) ve (c) bilesenlerini ve istege bagli olarak (d) bilesenlerini en azindan kismen, tercih edilen sekliyle tam olarak yükleyerek ve baslangiçta yüklenmis olan bilesenlerin bu karisimina izosiyanat (a) ekleyerek, (a) ila (9) bilesenlerinden hazirlanmaktadir.
Bu amaç için, tercih edilen sekliyle (b) bileseninin planlanan kullanim miktarinin en azindan yarisi, tercih edilen sekliyle en az % 651, daha tercih edilen sekliyle en az % 751 ve özellikle de tüm miktari baslangiçta yüklenmektedir.
Buna ilaveten, tercih edilen sekliyle, (c) bileseninin planlanan kullanim miktarinin en azindan yarisi, tercih edilen sekliyle en az % 651, daha tercih edilen sekliyle en az % 751 ve özellikle de tüm miktari baslangiçta yüklenmektedir.
Tercih edilen sekliyle, (d) bileseninin planlanan kullanim miktarinin en azindan yarisi, tercih edilen sekliyle en az % 651, daha tercih edilen sekliyle en az % 751 ve özellikle de tüm miktari baslangiçta yüklenmektedir.
Izosiyanat (a), daha sonra bu bilesen (b) ve (c) ve istege bagli olarak (d) karisimina eklenmektedir. Bu sürekli olarak, iki veya daha fazla bölüm halinde ya da bir ekleme seklinde yapilabilir.
Bilesenler (a1) ve (a2), olusan poliüretanda (A) yükseltilmis bir oranda (a1) veya (a2) olan alanlardan kaçinmak için tercih edilen sekliyle en azindan kismen, tercih edilen sekliyle tam olarak, eszamanli eklenmektedir. 3 ila 20 saatlik, tercih edilen sekliyle 4 ila 12 saatlik bir süre boyunca, karistirma ya da pompa sirkülasyonu ile reaksiyona sokulmaktadir.
Reaksiyon sirasinda, sicaklik ayni kalabilir ya da sürekli adim ya da adim adim arttirilabilir.
Genel olarak, (f) bileseni, reaksiyon karisiminda bulunan bilesenler esasen reaksiyona girdiginde, örnek olarak en az % 50, tercih edilen sekliyle en az % 75 derecesine kadar reaksiyona girdiklerinde ilave edilmektedir.
Reaksiyon uygun bir katalizor ilave edilerek hizlandirilmaktadir. Bu tür katalizörler Iiteratürden bilinmektedir, örnek olarak G. Oertel (ed), Polyurethane [Polyurethanes], 3rd edition 1993, Carl Hanser Verlag, Munich - Vienna, sayfa 104 ila 110, bölüm 3.4.1. “Katalisatören” aromatik aminler, Bronsted asitler ve/veya Lewis- asidik organometalik bilesikler, daha tercih edilen sekliyle Lewis- asidik organometrik bilesiklerdir. Bunlar tercih edilen sekliyle kalay bilesimlerinin bir seçenek oldugu 'örnek olarak organik karboksilik asitlerin kalay (II) tuzlari, örnek olarak kalay (II) diasetat, kalay (II) dioktoat, kalay (II) bis (etilheksanoat) ve kalay (Il) dilaurat ve organik karboksilik asitlerin dialkiltin (IV) tuzlari, örnek olarak dimetiltin diasetat, dibütiltin diasetat, dibütiltin dibutirat, dibütiltin bis (2- etilheksanoat), dibütiltin dilaurat, dibütiltin maleat, dioktiltin dilaurat ve dioktiltin diasetat gibi Lewis- asidik organik metal bilesikleridir. Ek olarak çinko (II) tuzlarinin, örnek olarak çinko (II) dioktoatin kullanilmasi da mümkündür.
Demir, titanyum, alüminyum, zirkonyum, manganez, nikel, çinko ve kobalt asetilasetonlar gibi metal kompleksleri de mümkündür.
Diger metal katalizörleri Blank ve ark. in Progress in Organic Coatings, 1999, vol. 35, sayfa 19- 29 literatüründe tarif edilmektedir.
Zirkonyumun, bizmutun, titanyumun ve alüminyumun bilesikleri dahil kalay ve çinko içermeyen alternatifler kullanilmaktadir. Bunlar örnek olarak, zirkonyum tetraasetilasetonat (örnek olarak King Industriesrden K K- KAT ® 4205); zirkonyum dionatlar (örnek olarak King Industriesrden Faydali çinko ve bizmut bilesikleri, asagidaki anyonlarin kullanildigi bilesimleri içermektedir: F' tercih edilmektedir, burada n 1 ila 20 arasindadir. Ozellikle tercih edilen tuzlar, anyonlar olarak, genel formülün (CnHZn-102)I monokarboksilatlarina sahiptir; buradaki n, 1 ila 20 arasindaki sayilari temsil etmektedir. Burada özellikle, format, asetat, propionat, heksanoat, neodekanoat ve 2- etilheksanoattan bahsedilmelidir. Çinko katalizörleri arasinda, çinko karboksilatlar, özellikle de en az alti karbon atomu olanlar, en çok tercih edilen sekliyle ise en az sekiz karbon atomu olanlar, özellikle çinko (ll) diasetat ya da çinko (II) dioktoat ya da çinko (II) neodekanoat tercih edilmektedir. Ticari olarak temin edilebilen katalizörler, örnek olarak OMG Borchers GmbH, Langenfeld, Almanyaidan Borchi ® Kat 22'dir.
Bizmut katalizorleri arasinda, bizmut karboksilatlar, tercih edilen sekliyle en az alti karbon atomu olan karboksilatlar, özellikle bizmut oktoatlar, etilheksanoatlar, neodekanoatlar ya da 789 ve ayrica 'örnek olarak OMG Borchers GmbH, Langenfeld Almanya'dan Borchi ® Kat 24; 315; 320 tercih edilmektedir.
Farkli metallerin karisimlari, örnek olarak OMG Borchers GmbH, Langenfeld, Almanya'dan Borchi ® Kat 0245ite temin edilebilir.
Titanyum bilesikleri arasindan, titanyum tetraalkoksitler Ti(OR)4, 'Özellikle 1 ila 8 karbon atomuna sahip olan ROH alkolleri, örnek olarak metanol, etanol, izo- propanol, n- propanol, n- bütanol, izo- bütanol, sek- bütanol, tert- bütanol, b- hekzanol, n- heptanol, n- oktanol, tercih edilen sekliyle metanol, etanol, izo- propanol, n- propanol, n- bütanol, tert- bütanol, daha tercih edilen sekliyle izopropanol ve n- bütanol tercih edilmektedir.
Bu kataliz'orler, çözücü bazli, su bazli ve/veya bloke sistemler için uygundur.
Molibden katalizörleri, tungsten kataliz'orleri ve vanadyum katalizörleri, özellikle bloke edilmis edilmektedir.
Tercih edilen Lewis- asidik organik metal bilesikleri, dimetiltin diasetat, dibütiltin dibütirat, dibütiltin bis(2- etilheksanoat), dibütiltin dilaurat, dioktiltin dilaurat, çinko (ll) dioktoate, zirkonyum asetilasetonat, zirkonyum 2,2,6,6- tetrametil- 3,5- heptanedionat ve bizmut 2- etilheksanoatitir.
Bununla birlikte 'özellikle dibütilin dilaurat, bizmut neodekanoat ve bizmut 2- etilheksanoat, daha da 'Özellikle bizmut neodekanoat ve bizmut 2- etilheksanoat tercih edilmektedir.
Katalizorlerin aktivitelerinin aktivitesini, örnek olarak EP 2316867 A1ide tarif edildigi gibi bir olan asitler araciligi ile daha fazla arttirmak mümkündür. Tercih edilen sekliyle 4.8iden daha fazla olmayan, daha da tercih edilen sekliyle 2.5*ten fazla olmayan bir pKaiya sahip asitlerin kullanilmasi tercih edilmektedir.
Bulusa uygun olarak reaksiyonun katalizör olmadan yapilmasi tercih edilmektedir, ancak bu durumda reaksiyon karisimi daha yüksek sicakliklara ve/veya daha uzun reaksiyon sürelerine tabi tutulmalidir.
Reaksiyon sirasinda (met)akrilat gruplarinin istenmeyen polimerizasyonunu Önlemek için, polimerizasyon inhibitörleri eklenebilir. Bu tür inhibitörler, Örnegin, WO 03/035596, 5. sayfa, satir 35 ila 10. sayfa, satir 4'te tarif edilmis, mevcut açiklama içerigine referans olarak dahil edilmistir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesi, dahil edilebilir polimerizasyon inhibitörleri, yani bir -OH veya -NH2 grubu, yani bir izosiyanat- reaktif gruba sahip olanlarin kullanilmasini içerebilir. Bunlarin tercih edilen bir 'Örnegi 4- hidroksi- 2,2,6,6- tetrametilpiperidin N- oksil'dir.
NCO degeri teorik dönüsüm degerine en az % 95 derecesine, tercih edilen sekliyle en az % 97 derecesine ve daha tercih edilen sekliyle en az % 98 derecesine kadar ulastiginda reaksiyon sona ermis olarak sayilmaktadir.
Eger dönüstürülmemis izosiyanat gruplari hala mevcutsa,reaksiyon, durdurucu (f) ile reaksiyona sokularak yukaridaki reaksiyon kosullari altinda tamamlanabilir.
Preparasyondan sonra, reaksiyon karisimi dagitilir ya da su içinde seyreltilir.
Di- ya da poliizosiyanatin (a) izosiyanat reaktif gruba sahip bilesenler ile reaksiyonunun tamamlanmasinda, örnek olarak damitma yoluyla kullanilan herhangi bir organik çözücünün çikarilmasi mümkündür.
Bu genellikle % 35 ila % 45 arasinda bir kati madde içerigi olusturur, ancak sonuncusu da % 60'e kadar olabilir.
Dispersiyondaki ortalama partikül boyutu genellikle 10 ila 150 nm arasinda, tercih edilen tercih edilen sekliyle 20 ila 90 nm arasindadir.
Bir pigment dispersiyonunda, poliüretan (A)'nin hazirlanmasini bir ya da daha fazla pigmentin ve istege bagli olarak suyun ilave edilmesi takip eder. % 10 ila % 80, tercih edilen sekliyle % 65, daha tercih edilen sekliyle % 40 ila % 60 araliginda bir kati madde içeriginin olusturulmasi tercih edilmektedir.
Poliüretan (A)'nin pigmente agirlikça orani genis sinirlar içerisinde degisebilir. Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, poliüretan (A),nin pigmente agirlikça orani 5:1 ila 1:10, tercih edilen sekliyle 3:1 ila 1:& daha tercih edilen sekliyle 1:1 ila 1:6 araligindadir.
Daha sonra, poliüretan (A) ve pigment disperse edilmektedir. Dispersiyon, dispersiyon için uygun herhangi bir aparatta gerçeklestirilebilir. Ornekler arasinda, örnek olarak Skandex gibi çalkalayici cihazlar yer almaktadir. Tercih edilen sekliyle poliüretan (A) ve pigment, örnek olarak ultrasonik cihazlarda, yüksek basinçli homojenlestiricilerde, 2-, 3-, 4- ya da 5- silindirli ögütücülerde, mini ögürütücülerde, Henschel ögütücülerde, karistirici ögütücülerde, Ang ögütücülerde, disli ögütücülerde, boncuk bilyali ögütücülerde, yas ögütücülerde, kum bgütücülerde, attritorlerde, kolloid 'Ögütücülerde, ultrasonik homojenlestiricilerde, Ultra- Turrax karistiricilari ile ve özellikle 'Örnek olarak 2-, 3-, 4- ya da 5- silindirli ögütücülerde, mini ögütücülerde, karistirici ögütücülerde, Ang Ögütücülerde, disli ögütücülerde, boncuk bilyali ögütücülerde, yas ögütücülerde, kum ögütücülerde, kolloid ögütücülerde, bilyali ögütücülerde, özellikle karistirmali bilyali ögütücüler ile Ögütülerek dagitilmaktadir.
Dispersiyon için uygun bir süre, örnek olarak 10 dakika ila 48 saat arasinda bulunmakta, ancak daha uzun bir süre de düsünülmektedir. Dispersiyon için tercih edilen süre 15 dakika ila 24 saat arasindadir.
Dispersiyon islemindeki basinç ve sicaklik kosullari genellikle kritik degildir; örnek olarak standart basincin uygun oldugu bulunmustur. Uygun sicakliklarin, örnek olarak 10 C ila 10 0 °C arasindaki sicakliklarda, tercih edilen sekliyle 80 °C oldu gu bulunmustur.
Pigmentin dispersiyonu pigmentli sulu dispersiyonlar saglamaktadir. Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, bulusun sulu dispersiyonlari % 10 ila % 80, tercih edilen sekliyle % 65, daha tercih edilen sekliyle % 40 ila % 60 arasinda bir kati içerigine sahiptir.
Dispersiyon isleminin çalismasi sirasinda, geleneksel 'ögütücü yardimcilarinin ilave edilmesi mümkündür.
Radyasyon ile sertlestirilebilen kaplama kompozisyonlarinin ya da baski mürekkeplerinin formülasyonu için, üretan (met)akrilat (A)'nin, (A)'dan farkli olan, en az bir baska, tercih edilen sekliyle düsük molekül agirlikli (met)akrilat (B) ile karistirilmasi düsünülmekte ve tercih edilmektedir. Bu (met)akrilat (B) tercih edilen sekliyle, üretan (met)akrilat (A)'nin sulu bir dispersiyonunda çözünebilen ya da dagilabilen (met)akrilatlari içermektedir.
Düsük molekül agirlikli (met)akrilatlar (B) tercih edilen sekliyle en az iki, tercih edilen sekliyle en az üç, daha tercih edilen sekliyle üç ila dört (met)akrilat fonksiyonuna ve 1000 g/mol'e kadar, tercih edilen sekliyle 750 g/moI'e kadar ortalama bir molekül agirligina sahiptir.
Tercih edilen bir düzenlemede, düsük molekül agirlikli (met)akrilatlar (B), (siklo)alifatik, daha tercih edilen sekliyle alifatik, glisidil eterlerin (meth)akrilik asit ile reaksiyonunun ürünleri olabilir.
Faydali `Örnekler alifatik poliollerin glisidil eterleridir. Bu türden çok sayida ürün ticari olarak temin edilmektedir. Tamamen hidrojenlenmis bisfenol A, F ya da B tipi poliglisidil bilesikleri ve en çok tercih edilen sekliyle 'Örnek olarak bütan- 1,4- di0I, sikloheksan- 1,4- dimetanol, neopentil glikol, heksan- 1,6- dioI, gliserol, trimetilolpropan ve pentaeritritol gibi polihidrik alkollerin glisidil esterleri tercih edilmektedir.
Ozellikle tercih edilen, akrilik asitin bütan- 1,4- diol diglisidil eter ile reaksiyon ürünüdür.
Tercih edilen baska bir düzenlemede, bilesikler (B), çok fonksiyonlu (met)akrilatlar, tercih edilen sekliyle alkoksillenmis, tercih edilen sekliyle propoksilatlanmis ve/veya etoksillenmis, daha tercih edilen sekliyle etoksillenmis, çok fonksiyonlu alkollerin akrilatlaridir.
Bunlarin 'örnekleri (met)akrilatlar, tercih edilen sekliyle formül (VIIIa) ila (VIIId) bilesiklerinin R4 R2 K' OixikH (Villa) (viiibi Hfx' q O/?çûix niH R1 /[rX *H TXT TXI HTXGÜ amfi akrilatlaridir.
R1 ve Rz'nin her biri bagimsiz olarak hidrojen ya da C1- 03- alkil, tercih edilen sekliyle C1- C4- aIkiIdir, istege bagli olarak aril, alkil, ariloksi, alkiloksi, heteroatomlar ve/veya heterosikller ile ikame edilmistir. k, I, m, qtnin her biri bagimsiz olarak 1 ila 10, tercih edilen sekliyle 1 ila 5 ve daha tercih edilen sekliyle 1 ila 3 arasinda bir tamsayidir ve CHPh-CHz-O- grubundan, tercih edilen sekliyle -CH2-CH2-O-, -CH2-CH(CH3)-O- ve -CH(CH3)- CHz-O- grubundan ve daha tercih edilen sekliyle -CHz-CHz-O- grubundan, bagimsiz bir biçimde seçilebilir, burada Ph fenil ve Vin vinildir.
Aril, alkil, ariloksi, alkiloksi, heteroatomlar ve/veya heterosiklikler ile ikame edilmemis ya da ikame edilmis C1- 013- alkil, örnek olarak metil, etil, propil, izopropil, n- bütil, sek- bütil, tert- bütil, pentil, heksil, heptil, oktil, e- etilheksil, 2,4,4- trimetilpentil, desil, dodesil, tetradesil, heksadesil, oktadesil, 1,1- dimetilpropil, 1,1- dimetilbütil, 1,1,3,3- tetrametilbütil, tercih edilen sekliyle metil, etil ya da n- propil, en çok tercih edilen sekliyle metil ya da etildir.
Tek basina vigintup olarak ve daha tercih edilen sekliyle üçlü - onlu etoksilatlanmis, propoksilatlanmis ya da karisik etoksilatlanmis ve propoksilatlanmis (met)akrilatlar ve özellikle de sadece etoksilatlanmis neopentil glikol, gliserol, trimetilolpropan, trimetiloletan ya da pentaeritritol tercih edilmektedir.
Düsük molekül agirlikli (met)akrilat (B), üretan (met)akrilat (A) miktarinin 3 kati kadar, tercih edilen sekliyle 0.1 ila 2 kati kadar, daha tercih edilen sekliyle 0.1 ila 0.5 kati kadardir.
Tercih edilen sekliyle, (A) ve (B)'nin bu gibi bir formülasyonu, kati maddelerin ((A) ve (B)=nin toplami) her bir kilogrami basina, en az 1.0 mol, tercih edilen sekliyle en az 1.5 mol ve daha tercih edilen sekliyle en az 2.0 mol (met)akrilat fonksiyonlarina sahiptir.
Bu kaplama kompozisyonlari, baska bilesenler içerebilir: Kaplama kompozisyonlarinin sertlestirilmesi, elektron isinlariyla degil, UV radyasyonuyla gerçeklestirilirse, etilen bakimindan doymamis çift baglarin polimerizasyonunu baslatabilen en az bir foto- baslatici tercih edilen sekliyle mevcuttur.
Foto- baslaticilar, örnek olarak, teknik alanda uzman çalisan tarafindan bilinen foto- baslaticilar olabilir, örnekler "Advances in Polymer Science", Volume 14, Springer Berlin 1974 ya da K. K. Dietliker, Chemistry and Technology of UV and EB Formulation for Coatings, Inks and Paints, Volume 3; Photoinitiators for Free Radical and Cationic Polymerization, P. K. T.
Oldring (Eds.), SlTA Technology Ltd, London literatürlerinde belirtilenlerdir.
TPO), etil , bis(2,4,6- trimetilbenzoil) fenilfosfin oksit (BASF SEtden Irgacure® 819), benzofenonlar, hidroksiasetofenonlar, fenilglioksilik asit ave türevleri, ya da bu foto baslaticilarin karisimlarinin tarif edildigi gibi mono- ya da bisasilfosfin oksitlerdir. Ornekler benzofenon, asetofenon, asetonaftokinon, metil etil keton, valerofenon, heksanophenon, d- fenilbütirofenon, p- morfolinopropiofenon, dibenzosüpron, 4- morfolinobenzofenon, 4- morfolinodeoksibenzoin, p- diasetilbenzen, 4- aminobenzofenon, 4'- metoksiasetofenon, ß- metilantrakinon, tert- bütilantrakinon, antrakinon karboksilik esterler, benzaldehid, oi- tetralon, 9- asetilfenantren, 2- asetilmenantenren, 10- tioksantenon, 3- asetilfenantren, 3- asetilindolat, 9- fluorenon, 1- indanon, 1,3,4- triasetilbenzen, tioksanten- 9- on, ksantan- 9- on, 2,4- dimetiltioksanton, 2,4- dietiltioksanton, 2,4- di- izo- propiltioksanton, 2,4- diklorothioksanthone, benzoin, benzoin izo- bütil eter, kloroksantenon, benzoin tetrahidropiranil eter, benzoin metil eter, benzoin etil eter, benzoin bütil eter, benzoin izo- propil eter, 7H- benzoin metil eter, benz[de]antrasen- 7- on, 1- naftaldehit, 4,4'- bis (dimetilamino) benzofenon, 4- fenilbenzofenon, 4- klorobenzofenon, Michler ketonu, 1- asetonafon, 2- asetonafon, 1- benzoilsikloheksan- 1- ol, 2- hidroksi- 2,2- dimetilasetofenon, 2,2- dimetoksi- 2- fenilasetofenon, 2,2- dietoksi- 2- fenilasetofenon, 1,1- dikloroasetofenon, 1- hidroksiasetofenon, asetofenon dimetil ketal, 0- metoksibenzofenon, trifenilfosfin, tri-O- tolilfosfin, benz[a]antrasen- 7, 12- dion, 2,2 dietoksiasetofenon, benzil dimetil ketal, 2- metil- 1- [4- (metiltiyo) fenil]- 2- morfolinopropan- 1- en gibi benzil ketaller, 2- metilanthrakuinon, 2- etilanthrakuinon, 2- tert- bütilanthrakuinon, 1-CHIoroanthrakuin0n, 2- amylanthrakuinon ve butane- 2,3- dione gibi antrakinonlari içermektedir. fenilglikoksalik ester tipinin sararma olmayan ya da düsük sararma foto- baslaticilari da uygundur.
Benzer sekilde, foto- baslaticilar olarak düsünülebilenler, 'Örnek olarak tercih edilen sekliyle ile karboksimetoksibenzofenonun diesteri ya da örnek olarak, Rahn AG, Isviçre'den Omnipol ® BP ticari ismi altindaki gibi ticari olarak temin edilebilen türden diger polimerik benzofenon türevleri gibi polimerik foto- baslaticilardir, sayfada satir 21 ila 43. sayfada satir 9 arasinda tarif edilen türden, baslatma aktivitesine sahip en az bir gruba sahip olan siliskioksan bilesikleridir; burada, mevcut tarifnamenin içeriginin bir parçasi olarak, referans olarak dahil edilmis, tercih edilen sekliyle 2. sayfa satir 21iden 30.
Tipik karisimlar, örnek olarak 2- hidroksi- 2- metil- 1- fenilpropan- 2- en ve1- hidroksisikloheksil fenil keton, bis(2,6- dimetoksibenzoil)- 2,4,4- trimetilpentilfosfin oksit ve 2- hidroksi- 2- metil- 1- fenilpropan- 1- on, benzofenon ve 1- hidroksisikloheksil fenil keton, bis(2,6- dimetoksibenzoil)- 2,4,4- trimetilpentilfosfin oksit ve 1- hidroksisikloheksil fenil keton, 2,4,6- trimetilbenzoildifenilfosfin oksit ve 2- hidroksi- 2- metil- 1 fenilpropan- 1- on, 2,4,6- trimetilbenzopfenon ve 4- metilbenzofenon ya da 2,4,6- trimetilbenzofenon, ve 4- metilbenzofenon ve 2,4,6 trimetiIbenzoildifenilfosfin oksit içermektedir.
Bu foto baslaticilar arasindan 2,4,6- trimetilbenzoildifenilfosfin oksit, etil 2,4,6- trimetiIbenzoilfenilfosfinat, bis(2,4,6- trimetilbenzoil) fenilfosfin oksit, benzofenon, 1- benzoilsikloheksan- 1- ol, 2- hidroksi- 2,2- dimetilasetofenon, ve 2,2- dimetoksi- 2- fenilasetofenon tercih edilmektedir.
Kaplama kompozisyonlari, üretan (met)akrilat (A) toplam miktarina göre. tercih edilen sekliyle agirlikça % 0.05 ila % 10, daha tercih edilen sekliyle agirlikça % 0.1 ila % 8, 'Özellikle agirlikça Kaplama kompozisyonlari, akis kontrol ajanlari, k'opük gidericiler, UV absorbe ediciler, boyalar, pigmentler ve/veya dolgu maddeleri gibi daha baska geleneksel kaplama katkilari içerebilir.
Uygun dolgu maddeleri, örnek olarak Degussa'dan Aerosil ® gibi silikon tetrahidroklorürün hidrolizi ile elde edilen silikatlar, silisli toprak, talk, alüminyum silikatlar, magnezyum silikatlar ve kalsiyum silikatlar ve benzerleri gibi silikatlari içermektedir. Uygun stabilizörler, oksanilitler, triazinler ve benzotriazol (Ciba- Spezialitatenchemie'den Tinuvin ® ürünleri olarak elde edilebilen) ve benzofenonlar gibi tipik UV absorbe edicileri içermektedir. Tek basina ya da uygun serbest radikal toplayicilarla birlikte kullanilabilirler, 'örnek olarak 226,6- tetrametilpiperidin, 2,6- di- tert- bütilpiperidin ya da örnek olarak bis(2,2,6,6- tetrametil- 4- piperidil) sebasat gibi bunlarin türevleri gibi sterik olarak engellenmis aminlerdir. Stabilizat'orler, tipik olarak, preparatta bulunan «kati» bilesenlere göre agirlikça % 0.1 ila % 5.0 miktarlarinda kullanilmaktadir.
Pigmentler, DIN 55944'te tanimlandigi gibi, suda çözünmeyen, ince bölünmüs organik ya da inorganik renklendiricilerdir. Bulusa ait sulu dispersiyonlarin üretimi için prosedür tercih edilen sekliyle karbon siyahi dahil olmak üzere organik pigmentlerden ilerlemektedir Ek olarak, beyaz pigmentler esit olarak tercih edilir, özellikle titanyum dioksit. Ozellikle iyi uygunluktaki pigmentlerinin ornekleri asagida verilmektedir.
Organik pigmentler: - Monoazo pigmentler: - Disazo pigmentler: - Anthanthron pigmentler: - Antrakinon pigmentler: - Antrakinon pigmentler: - Anthrapirimidin pigmentler: - Kuinakridon pigmentler: - Kuinoftalon pigmentler: - Dioksazin pigmentler: - Flavantron pigmentler: - Indantron pigmentler: - Izoindolin pigmentler: - Izoindolinon pigmentler: C.I. Pigment Kahverengi 25; C.I. Pigment Turuncu 5, 13, C.I. Pigment Turuncu 16, 34 ve 44; C.I. Pigment Kirmizi C.l. Pigment Kirmizi ; C.I. Pigment Sari 147 ve 177; C.I. Pigment Menekse 31; C.I. Pigment Sari 147 ve 177; C.I. Pigment Menekse 31; C.I. Pigment Sari ; C.I. Pigment Kirmizi 122, 202 ve 206; C.I. Pigment C.I. Pigment Sari 138; C.I. Pigment Sari 24 (C.I. Vat Sari 1); C.I. Pigment Mavi 60 (C.I. Vat Mavi 4) ve 64 (C.I. Vat Mavi C.I. Pigment Turuncu 69; C.I. Pigment Kirmizi 260; C.I.
Pigment Sari 139 ve 185; C.I. Pigment Turuncu 61; C.I. Pigment Kirmizi 257 ve 260; - Izoviolantron pigmentler: - Metal kompleks pigmentler: - Perinon pigmentler: - Perilen pigmentler: - Ftalosiyanin pigmentler: - Pirantron pigmentler: - Tiyoindigo pigmentler: Inorganik pigmentler: C.I. Pigment Menekse 31 (C.I. Vat Menekse 1); C.I. Pigment Turuncu 43 (C.I. Vat Turuncu 7); C.I. Pigment 178, ve 224; C.I. Pigment Menekse 29; C.l. Pigment Yesil 7 ve 36; C.I. Pigment Portakal 51; C.l. Pigment Kirmizi 216 (C.I. Vat C.I. Pigment Kirmizi 88 ve ; C.I.
Pigment Menekse 38 (C.I. Vat Menekse 3); - Triarilkarbonyum pigmentler: C.I. Pigment Mavi 1, 61 ve 62; C.I. Pigment Yesil 1; C.I. Pigment Kirmizi 81, 81:1 ve 169; C.I. Pigment Menekse 1, 2, 3 ve 27; C.I. Pigment Siyah 1 (Anilin Siyahi); C.I. Pigment Sari 101 (aldazin sari); C.I. Pigment Kahverengi 22; - Beyaz pigmentler: titanyum dioksit (C.I. Pigment Beyaz 6), çinko beyazi, pigment dereceli çinko oksit, baryum sülfat, çinko sülfit; kursun beyaz; kalsiyum karbonat; - Siyah pigmentler: demir oksit siyah (C.I. Pigment Black 11), demir- manganez siyahi, spinel siyahi (C.I. Pigment Siyah 27); karbon siyah (C.I.
Pigment Siyah 7); - Kromatik pigmentler: krom oksit, krom oksit hidrat yesili; krom yesili (C.I. Pigment Yesil 48); kobalt yesili (C.I. Pigment Yesil 50); ultramarin yesili; kobalt mavisi (C.I. Pigment Mavisi 28 ve 36); ultramarin mavisi; demir mavisi (C.I. Pigment Mavisi 27); manganez mavisi; ultramarin menekse; kobalt menekse ve manganez menekse; demir oksit kirmizisi (C.l. Pigment Kirmizi 101); kadmiyum sülfoselenid (C.l. Pigment Kirmizi 108); molibdat kirmizisi (C.l.
Pigment Kirmizi 104); ultramarin kirmizisi; demir oksit kahverengi, karisik kahverengi, spinel ve korindon fazlari (C.I. Pigment Kahverengi 24, 29 ve 31), krom turuncusu; demir oksit sarisi (C.l. Pigment Sari 42); nikel titanyum sarisi (C.I. Pigment Sari 53; C.I. Pigment Sari 157 ve 164); krom titanyum sarisi; kadmiyum sülfür ve kadmiyum çinko sülfür (C.I.
Pigment Sarisi 37 ve 35); krom sarisi (C.I. Pigment Sari 34), çinko sarisi, alkali toprak metal kromatlar; naplar sari; bizmut vanadat (C.I. Pigment Sari 184); -Interferans pigmentler: kaplanmis metal Ievhaciklara dayali metal etki pigmentleri; metal oksit kapli mika Ievhaoiklara dayali sedef pigmentler; sivi kristal pigmentler.
Bu baglamda tercih edilen pigmentler arasinda monoazo pigmentler (özellikle BONS pigmentleri, naftol AS pigmentleri), disazo pigmentleri (ozellikle diaril sari pigmentler, bisasetoasetanilid pigmentleri, disazopirazolon pigmentleri), kinakridon pigmentleri, kinofitalon pigmentleri, perinon pigmentleri, fitalosiyanin pigmentleri, triarilkarbonyum pigmentleri (alkali mavi pigmentler, alasmis rodaminler, kompleks anyonlar ile boya tuzlari), izoindolin pigmentleri, beyaz pigmentler ve karbon siyahlari yer almaktadir.
Ozellikle tercih edilen pigmentlerin spesifik örnekleri sunlardir: karbon siyahi, titanyum dioksit, Bulusa ait dispersiyonlar, bir sulu kaplama kompozisyonu olarak ya da sulu kaplama kompozisyonu içinde, daha tercih edilen sekliyle ahsap, kagit, tekstil, deri, keçe, plastik yüzeyler, cam, seramik, çimento bloklari ve fiber çimento bloklari gibi mineral yapi malzemeleri ve 'özellikle metaller ya da kaplanmis metaller gibi substratlarin kaplanmasi için 'özellikle uygundur.
Substratlar istege bagli olarak ön isleme tabi tutulmus ve/veya önceden kaplanmis olabilir; primer ile önceden kaplanabilir.
Plastikler arasinda, polikarbonat, polietilen, örnek olarak PE, HDPE, LDPE, polipropilen, 'örnek olarak PP, ybnlendirilmis PP (OPP), bisaksiyal olarak ybnlendirilmis PP (BOPP), poliamid, Tercih edilen substratlar kagit, 'Özellikle gazete kagidi, mukavva, karton, poliester içeren filmler, polietilen içeren filmler ve polipropilen içeren filmler ve ayrica camdir. Plastik filmler istege bagli olarak metalize edilebilir.
Ozellikle avantajli olarak, bulus dispersiyonlari, ahsap ve ahsap temelli malzemelerin ve fiber levha gibi ahsap içeren substratlarin kaplanmasi için kullanilabilir. Ayni zamanda, örnek olarak kagit, mukavva ya da karton gibi selüloz fiber içeren substratlarin kaplanmasi da düsünülebilir.
En çok tercih edilen sekliyle, dispersiyonlar mese, ladin, çam, kayin, akçaagaç, ceviz, makore, kestane, çinar, akasya, disbudak, hus, fistik çami ve karaagaç ve ayrica mantar kaplamasi için uygundur.
Bulus dispersiyonlari, tek baslarina ya da karisim olarak kullanilabilir ve daha sonra formülasyonun pigmentabilitesini arttirirlar.
Substratlar, teknik alanda uzman kisiler tarafindan bilinen geleneksel yöntemler ile, istenilen kalinlikta kaplanacak olan substrata en az bir kaplama bilesimi uygulanarak ve uçucu bilesenler kaplama bilesimlerinden uzaklastirilarak kaplanmaktadir. Bu islem istenirse bir ya da birkaç defa tekrarlanabilir. Substrata uygulama, bilinen bir sekilde, 'Örnek olarak püskürtme, malalama, biçakla kaplama, firçalama, silindirleme, silindirik kaplama ya da dökme yoluyla gerçeklestirilebilir. Kaplama kalinligi genellikle yaklasik 3 ila 400 g/m2, tercih edilen sekliyle 10 ila 200 g/m2 ve daha tercih edilen sekliyle 10 ila 80 g/m2 arasindadir.
Istege bagli olarak, kaplama kompozisyonunun birçok tabakasi bir digerinin üzerine uygulandiginda, her bir kaplama islemini radyasyonla sertlestirme ve bir ara ögutme islemi takip edilebilir.
Radyasyon ile sertlestirme, yüksek enerjili radyasyona, yani UV radyasyonuna ya da gün isigina, tercih edilen sekliyle 250 ila 600 nm dalga boyuna sahip olan isiga ya da yüksek enerjili elektronlarla (elektron isinlari; 150 ila 300 keV) isinlamaya maruz birakilarak gerçeklestirilir.
Kullanilan radyasyon kaynaklarinin örnekleri arasinda yüksek basinçli civa buhar lambalari, lazerler, atimli lambalar (el feneri), halojen lambalar ya da eksimer lambalar yer almaktadir.
UV kurutma durumunda normalde çapraz baglama için yeterli radyasyon dozu 80 ila 3000 mJ/cm2 araligindadir. Düsük basinçli civa lambalari, istege bagli olarak galyum veya demir ile takviye edilmis olabilen yüksek basinçli ampüllere sahip orta basinçli lambalar ve ayrica LED lambalar tercih edilmektedir. gerçeklestirilebilir. Uygun inert gazlar tercih edilen sekliyle nitrojen, asil gazlar, karbon dioksit ya da yanma gazlaridir. Buna ilaveten, Isinlama, kaplama kompozisyonunun seffaf bir ortam ile kaplanmasiyla da gerçeklestirilebilir. Seffaf ortamlar, örnegin, polimerik filmler, cam veya sivilar, örnegin sudur. DE- A1 199 57 900'de açiklandigi sekilde, Isinlama özellikle tercih edilmektedir.
Tercih edilen bir proseste, sertlestirme islemi kaplama kompozisyonu ile muamele edilen substrati bir radyasyon kaynagindan sabit hizda geçirerek, sürekli bir biçimde gerçeklestirilmektedir. Bunun için de kaplama kompozisyonunun sertlesme hizinin yeterince yüksek olmasi gereklidir.
Zamanla kürlenmenin bu çesidi, özellikle ürünün kaplanmasini baska bir islem adiminin takip ettigi ve söz konusu islem adiminda film yüzeyinin baska bir esya ile dogrudan temas ettigi ya da üstünde mekanik bir çalismanin yapildigi durumlarda zarar görebilir.
Mevcut bulus ayrica en az bir bulusa ait üretan (met)akrilat (A) ve tercih edilen sekliyle en az bir pigment içeren baski mürekkepleri saglamaktadir.
Mevcut bulusun bir baska yönü, baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkepleri üretmek üzere bir islemdir. Baski yöntemleri için baski mürekkepleri üretmek üzere gerçeklestirilen bulus sürecinde, en az bir bulusa ait sulu dispersiyon, su, istege bagli olarak en az bir pigment ve istege bagli olarak en az bir katki maddesi, örnegin bir veya daha fazla adimda birbiriyle karistirilmaktadir.
Baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkepleri özellikle sulu baski mürekkepleri için ve baski ve kaplama endüstrilerinde geleneksel olarak baska katki maddeleri içerebilir. Ornekler, örnegin 1,2- benzisotiazolin- 3- on (Avecia Lim. firmasindan Proxel markalari olarak ticari olarak temin edilebilir) ve bunun alkali metal tuzlari, glutaraldehid ve/veya tetrametil- asetetilenediüre, Protectols®, antioksidanlar gibi koruyuculari, örnegin asetilenedioller ve asetilenediol molü basina 20 ila 40 mol etilen oksit içeren ve ayni zamanda bir dagilma etkisine sahip olabilen etoksillenmis asetilenedioller gibi gaz ve köpürme önleyicileri, viskozite düzenleyicileri, akis kontrol yardimcilari, islaticilar, (örnegin etoksile veya propoksillenmis yagli alkollere veya okso alkollere dayanan islatici yüzey aktif maddeler, propilen oksit- etilen oksit blok kopolimerleri, oleik asit veya alkilfenollerin etoksilatlari, alkilfenol eter sülfatlar, alkil poliglikozitler, alkil fosfonatlar, alkilfenil fosfonatlar, alkil fosfatlar, alkilfenil fosfatlar veya tercih edilen sekliyle polietersiloksan kopolimerleri, özellikle alkoksile 2-(3-hidroksipropil) heptametiltrisiloksanlar, ki bunlar genellikle 7 ila 20 ve tercih edilen sekliyle 7 ila 12 etilen oksit bir blok ve 2 ila 20 ve tercih edilen sekliyle 2 ila 10 propilen oksit birimi içeren bir blok içermekte ve renklendiricilerde agirlikça % 0.05 ila % 1 miktarlarinda mevcut olabilirler) antisettling ajanlari, parlaklik gelistiriciler, kayganlastiricilar, yapisma arttiricilari, soyulmayi önleyici ajanlari, yag gidericiler, emülgatörler, stabilizatörler, hidrofozucular, isik stabilize edici katki maddeleri, el gelistiriciler, antistatlari, bazlar, örnegin trietanolamin veya asitler, özellikle de pH'yi düzenlemek için Iaktik asit veya sitrik asit gibi karboksilik asitleri içermektedir. Bu ajanlarin baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkeplerinin bir parçasi olmasi halinde bunlarin toplam miktari, bulusa ait renklendirme preparatlarinin ve özellikle baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkeplerinin agirligina dayali olarak, genellikle agirlikça % 2, Özellikle agirlikça % 1 oranindadir.
Baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkepleri ayrica bir baska foto baslatici içerebilir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkepleri, 23 arasinda bir dinamik viskoziteye sahiptir.
Viskoziteyi ayarlamak için baski mürekkebine bir koyulastirici eklemek gerekli olabilir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkeplerinin 25 Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, baski yöntemleri için bulus baski mürekkeplerinin pHii 5 ila 10, tercih edilen sekliyle 7 ila 10 arasindadir.
Baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkepleri hepbirlikte avantajli uygulama özellikleri ve iyi kuruma özellikleri sergilemekte ve yüksek kalitede, yüksek parlaklik ve gölge derinligine sahip ve sürtünme, isik, su ve islak sürtünmeye karsi yüksek hasliga sahip basilmis görüntüler üretmektedir. Kaplanmis ve kaplanmamis kagitlara ve ayrica karton ve PE/PP/PET filmlere baski için özellikle uygundur. Bulusa ait baski mürekkeplerinin özel bir avantaji, baski rulolarina ya da baski Ievhalarina yapisan baski mürekkebi kalintilarinin gelistirilmis bir biçimde yeniden çözünmesini saglamasidir, ki söz konusu kalintilar daha önceki bir baski isleminden kaynaklanmakta ve baski isleminin bitmesinden sonra kismen kurumaktadir. Bu gelistirilmis yeniden çözünme, sadece bununla sinirli olmamak üzere, özellikle kabartma baski yöntemiyle baski yapilmasi durumunda avantajlidir.
Mevcut bulusun baska bir yönü, bulusa ait en az bir baski mürekkebi kullanarak, mürekkep püskürtmeli baskidan baska bir baski yöntemiyle düz ya da üç boyutlu, tercih edilen sekliyle düz, substratlar basmak için bir yöntemdir. Bulusa ait baski yönteminin tercih edilen bir varyasyonunda, bulusa ait en az bir baski mürekkebi bir substrat üzerine basilmakta ve daha sonra aktinik radyasyon ile muamele edilmektedir.
Bulusa ait baski mürekkeplerinin kullanilabildigi baski yöntemleri tercih edilen sekliyle ofset baski, kabartma baski, fleksografik baski, gravür baski ve gravür baski, daha tercih edilen sekliyle fleksografik baski ve gravür baskidir.
Ofset baski, kabartma baski, fleksografik baski ya da gravür baski gibi mekanik baski yöntemlerinde, baski mürekkebi baski stoguna, baski stogu ve baski mürekkebi ile mürekkeplenmis bir baski plakasinin ya da baski formunun temasi ile aktarilmaktadir. Bu uygulamalar için baski mürekkepleri tipik olarak çözücü, renklendirici, baglayici ve istege bagli olarak çesitli katki maddeleri içermektedir. Baglayicilar mürekkep filmini olusturmaya ve mürekkep filmindeki bilesenlerin, örnegin pigmentlerin ya da dolgu maddelerinin baglanmasina hizmet etmektedir. Tutarliliga göre, bu uygulamalar için baski mürekkepleri tipik olarak agirlikça % 10 ila% 50 baglayici içermektedir.
Baski vernikleri, baski stoguna bir astar olarak ya da baski isleminden sonra basili baski stoguna bir kaplama olarak uygulanmaktadir. Baski vernikleri örnegin basili görüntüyü korumak, baski mürekkebinin baski stoguna yapismasini gelistirmek ya da estetik amaçli olarak kullanilmaktadir. Uygulama tipik olarak, baski makinesinde bir vernik ünitesi araciligiyla sirali bir biçimde gerçeklestirilmektedir.
Baski vernikleri herhangi bir renklendirici içermemesi disinda genellikle baski mürekkeplerine benzer bir kompozisyona sahiptir.
Mekanik baski yöntemleri için baski mürekkepleri, ofset ve kabartma baski için yüksek viskoziteye sahip hamurlu baski mürekkepleri denen ve fleksografik ve gravür baski için nispeten düsük viskoziteye sahip sivi baski mürekkepleri denen mürekkepleri içermektedir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde, fleksografik baski islemi örnegin istege bagli olarak önceden islemden geçirilmis substrati, farkli pigmentli bulus bastirma mürekkepleri ile tek tek baski istasyonlarinda ardi ardina kaplanacak sekilde basmak suretiyle gerçeklestirilebilir. Birbirinden ayri baski istasyonlari arasinda, tercih edilen sekliyle en azindan kismi kurutma, daha tercih edilen sekliyle tam kurutma gerçeklestirilmektedir.
Kurutma istasyonlari ile birlikte ayri baski istasyonlari tercih edilen sekliyle merkezi bir rulo etrafinda düzenlenmistir ancak ubstrati, her bir baski istasyonunda, saptirici araçlar kullanilarak bir rulo üzerine nakletmek de mümkündür.
Tüm baski istasyonlarindan geçtikten sonra, bitmis basili görüntü kurutulur ve elektron isinlari ile tamamen sertlestirilir.
Bulusa ait baski mürekkepleri ve baski vernikleri istege bagli olarak baska katki maddeleri ve yardimci maddeler içerebilir. Katki maddeleri ve yardimci maddelere örnek olarak kalsiyum karbonat, alüminyum oksit hidrat ya da alüminyum silikat ya da magnezyum silikat gibi dolgu maddeleri verilebilir. Mumlar asinma direncini ve yaglamayi arttirir.
Ornekler özellikle polietilen mumlar, oksitlenmis polietilen mumlar, petrol mumlari ya da serezin mumlaridir. Yüzey pürüzsüzlügüni arttirmak için yag asidi amidleri kullanilabilir.
Plastiklestiriciler kurutulmus filmin esnekligini arttirmak için kullanilmaktadir. Plastiklestiricilere örnekler, dibütil ftalat, diizobütil fitalat, dioktil ftalat, sitrik esterler ya da adipik asit esterleri gibi ftalik esterlerdir. Pigmentleri dagitmak için dagitma yardimcilarini kullanmak mümkündür.
Bulusa ait akiskanli baski mürekkeplerinde veya baski verniklerinde, her ne kadar yapisma promotörlerinin kullanimini dislamak gibi bir niyet mevcut olmasa da, yapisma promotörleri ile dagitmak avantajlidir. Tipik olarak tüm katki maddeleri ve yardimci maddelerin toplam miktari, tüm bilesenlerin toplam miktarina dayanarak, agirlikça % 20'yi geçmez ve tercih edilen sekliyle Bulusa ait baski mürekkeplerinin substrata uygulandigi tabaka kalinligi baski yöntemine göre farklilik göstermekte ve örnegin en çok 10 um, tercih edilen sekliyle 0.1 ila 8 pm, daha tercih edilen sekliyle 0.2 ila 7 um, daha da tercih edilen sekliyle 1 ila 5 pm ve özellikle 1 ila 4 um arasinda olabilmektedir.
Kabartma baski/fleksografik baski için tipik baski mürekkep tabakasi kalinliklari 2- 4 um, ofset baski için 1- 2 um, gravür baski için 2- 8 pm ve ekran baskisi için 20- 30 um arasindadir.
Baski yöntemleri için bulusa ait baski mürekkepleri aktinik radyasyonla sertlestirilebilir; örnegin dalga boyu 200 nm ila 450 nm arasinda degisen aktinik radyasyon uygundur. Örnegin, 70 m] /cm2 ila 2000 mJ/cm2 araliginda bir enerjiye sahip olan aktinik radyasyon uygundur. Aktinik radyasyon, örnegin sürekli olarak ya da parlama seklinde, uygun bir biçimde verilebilir.
Bu bulusun tercih edilen bir düzenlemesi, uygun elektron flas ünitelerinde elektron isinlari ile, mürekkeplerinin sertlestirilmesini içermektedir. Sertlestirmenin elektron isinlari ile gerçeklestirilmesi avantajlidir çünkü bu sekilde sertlestirilen baski mürekkepleri genellikle, UV isigi ile sertlestirilen baski mürekkeplerinden daha iyi sürtünme hasligina sahiptir.
Sertlestirmenin elektron demetleri ile yapilmasi durumunda, bulusa ait baski mürekkebi tercih edilen sekliyle herhangi bir foto baslaticisini (E) içermez. Bunun avantaji, isinlama yoluyla ortaya çikan foto- baslaticilarin hiç bir tasinamaz bileseninin kaplama içerisinde kalmamasidir.
Bu durum, kaplamalar yiyecek ve içecek ile temas etmek üzere tasarlandiginda özellikle avantajlidir.
Elektron flas birimlerinde baski yüzeyine olan uzaklik 1 ila 100 cm arasinda, tercih edilen sekliyle 5 ila 50 cm arasindadir.
Tabi ki, en uygun sertlesme için gerekli olan radyasyon dozunu elde etmek için sertlestirme islemi için çok sayida radyasyon kaynagi kullanmak da mümkündür.
Mevcut bulusun bir düzenlemesinde, baski islemini ve aktinik radyasyon ile islemi bir kurutma islemi, örnegin termal olarak ya da IR radyasyonuyla, takip edebilir. Uygun kosullar, Örnegin, saniye ila 24 saat, tercih edilen sekliyle 30 dakikaya kadar, daha tercih edilen sekliyle 5 dakikaya kadar bir süre boyunca 30 ila 120 T) arali gindaki sicakliklardir. Uygun IR radyasyonu, örnegin, 800 nm'nin 'üzerindeki bir dalga boyu araligindaki IR radyasyonudur. Ara kurutma için uygun cihazlar örnegin termal ara kurutma için kurutma dolaplari ya da vakumlu kurutma dolaplari ve ayrica IR Iambalaridir.
Ayrica aktinik radyasyona maruz kalma sirasinda ortaya çikan isi da bir ara kurutma etkisine sahip olabilir.
Bulusa ait baski mürekkepleri kullanilarak üretilen bulusa ait baski mürekkepleri ve baskilari, bununla birlikte, ayni zamanda termal olarak, aktinik radyasyona maruz kalinarak ya da kalinmadan da sertlestirilebilir. Ornegin bulusun baski mürekkepleri kullanilarak üretilen sekliyle 120 ila 150 cC arasindaki sicakliklarda kur utma ile mümkündür.
Tercih edilen bir düzenlemede, isinlama ayrica oksijenin dislanmasiyla ya da oksijeni tükenmis bir atmosfer altinda, örnegin, 18 kPa'dan daha az bir kismi oksijen basincinda, tercih edilen sekliyle 0.5- 18 kPa'da, daha tercih edilen sekliyle 1- 15 kPa'da, daha da tercih edilen sekliyle 1 ila 10 kPa'da ve özellikle 1- 5 kPa'da veya bir inert gaz atmosferi altinda da gerçeklestirilebilir.
Uygun inert gazlar tercih edilen sekliyle nitrojen, asil gazlar, karbon dioksit, su buhari veya yanma gazlaridir. Kismi oksijen basinci, ortam basincini düsürerek de azaltilabilir.
Sulu kaplama kompozisyonlarinin avantaji, dagilmis üretan (met) akrilatlarin yüksek bir stabiliteye sahip olmasi ve pigmentlerle birlikte iyi pigmentasyon özellikleri sergilemesidir.
Bulus asagidaki örnekler ile detayli olarak açiklanmaktadir. 350 kisim aseton içerisinde, karistirilmakta olan bir tankta 69 kisim dimetilolpropiyonik asit, 19 kisim neopentil glikol, 144 kisim Lupraphen® VP 9327 (BASF SE; adipik asit, izoftalik asit ve sikloheksandimetanole dayali polyester diol, ortalama OH sayisi , 29 kisim 2- hidroksietil akrilat, 62 ölçü PIurioI®A1020E (BASF SE; ortalama OH sayisi 50 mgKOH /9 olan metanol- baslatilmis polietilen glikol) ve 1 kisim Kerobit® TBK (BASF SE; 2,6- di- t- bütilsikol) homojenize edilmis ve ardindan 20 dakika içinde, 463 kisim Laromer® LR 9000 (BASF SE; yaklasik 290 g/mol'lük bir izosiyanat esdeger agirligina sahip 2- hidroksietil akrilat ve heksametilen diizosiyanat bazli doymamis poliizosiyanat) ve 35 kisim heksametilen diizosiyanat, paralel ölçülü bir biçimde eklenmistir. Reaksiyon karisimi 65 °C'ye isitilmis ve NCO'nun agirligina göre % 0.9'Iuk bir kalinti izosiyanat içerigine sahip olana dek reaksiyona birakilmistir. 300 kisim aseton ile elde edilen prepolimer seyreltildikten sonra, kalinti izosiyanat içerigi 25 kisim dietanolamin ile reaksiyona sokularak dbnüstürülmüstür. Reaksiyon karisiminin su içinde 203 kisim % 10 sodyum hidroksit çözeltisi ile nötrlestirilmesi ve 1200 kisim su ilavesi ile dispersiyonundan sonra, aseton agirlikça % 39 kati, 7.5 pH, 300 mPa'Iik bir viskozite ve agirlikça 12 000 g/mollük bir ortalama molekül agirligina sahip olacak sekilde bir dispersiyon elde etmek üzere damitilmistir.
Karsilastirmali 'örnek1 (trietilamin nbtrlestirme) 210 kisim aseton içerisinde, karistirilmakta olan bir tankta 41 kisim dimetilolpropiyonik asit, 11 kisim neopentil glikol, 86 kisim Lupraphen® VP 9327 (BASF SE; adipik asit, izoftalik asit ve sikloheksandimetanole dayali polyester diol, ortalama OH sayisi , 17 kisim 2- hidroksietil akrilat, 37 ölçü PIurioI®A1020E (BASF SE; ortalama OH sayisi 50 mgKOH lg olan metanol- baslatilmis polietilen glikol) ve homojenize edilmis ve ardindan 20 dakika içinde, 278 kisim Laromer® LR 9000 (BASF SE; yaklasik 290 g/mol'lük bir izosiyanat esdeger agirligina sahip 2- hidroksietil akrilat ve heksametilen diizosiyanat bazli doymamis poliizosiyanat) ve 21 kisim heksametilen diizosiyanat, paralel 'ölçülü bir biçimde eklenmistir. Reaksiyon karisimi 65 “C'ye isitilmis ve NCO'nun agirligina göre % 0.9'Iuk bir kalinti izosiyanat içerigine sahip olana dek reaksiyona birakilmistir. 200 kisim aseton ile elde edilen prepolimerin seyreltilmesinden sonra, kalinti izosiyanat içerigi 14 kisim dietanolamin ile reaksiyona sokulmustur. Reaksiyon karisiminin su içinde 32 kisim trietilamin ile n'otralize edilmesinden ve 810 birim su eklenerek dispersiyondan bir agirlik- ortalama molekül agirligina sahip bir dispersiyon elde etmek üzere distile edilmistir.
Karsilastirmali 'örnek 2 ( PIurioI A1020E ve trietilamin n'ötralizasyonu olmadan) 210 kisim aseton içerisinde, karistirilmakta olan bir tankta 44 kisim dimetilolpropiyonik asit, 12 kisim neopentil glikol, 92 kisim Lupraphen® VP 9327 (BASF SE; adipik asit, izoftalik asit ve sikloheksandimetanole dayali polyester diol, ortalama OH sayisi , 23 kisim 2- hidroksietil akrilat ve homojenize g/mol'lük bir izosiyanat esdeger agirligina sahip 2- hidroksietil akrilat ve heksametilen diizosiyanat bazli doymamis poliizosiyanat) ve 22 kisim heksametilen diizosiyanat, paralel ölçülü bir biçimde eklenmistir. Reaksiyon karisimi 65 °C`ye isitilmi s ve NCO'nun agirligina göre aseton ile elde edilen prepolimerin seyreltilmesinden sonra, kalinti izosiyanat içerigi 17 kisim dietanolamin ile reaksiyona sokulmustur. Reaksiyon karisiminin 33 kisim trietilamin ile nötralize edilmesinden ve 810 birim su eklenerek dispersiyondan sonra aseton, agirlikça % 39 agirligina sahip bir dispersiyon elde etmek üzere distile edilmistir.
Viskozite, mPa-sm (t = 30 d, T = 40 "0) 210 ”l Uretilen dispersiyonun özelligi Ozellikleri: Ornek 1 Karsilastirmali Karsilastirmali Viskozite, mPa-sl” (t = 30 d, T = 25 cC) 260 le1) 7.0 jellesmis jellesmis Görülebilecegi gibi, bulusun dispersiyonu, uzun bir süre boyunca saklandiktan sonra bile, stabilitesini korurken, karsilastirmali 'örneklere göre olan dispersiyonlar Özelliklerini kaybetmektedir.

Claims (14)

ISTEMLER
1. Radyasyonla sertlestirilebilen, suda dagilabilen üretan (met)akrilat (A) olup, özelligi; (a) en az bir (siklo)alifatik di- ve/veya poliizosiyanat, (b1) 700 g/mol'den daha az bir molar kütleye sahip en az bir (sikl0)alifatik diol, (b2) agirlikça ortalama molar kütlesi Mw 700 ila 2000 olan en az bir polyester diol ve tercih edilen sekliyle, 20 mg KOH/g'den fazla olmayan, DIN 53240'a göre bir asit sayisi, (0) en az bir izosiyanat- reaktif gruba ve en az bir serbest radikal olarak polimerize olabilen doymamis gruba sahip en az bir bilesik (c), (d) en az bir izosiyanat- reaktif gruba ve en az bir asit grubuna sahip en az bir bilesik, (e) bilesen (d)inin asit gruplarinin en azindan kismi nötralizasyonu için bir alkali metalin en az bir bazi, (f) istege bagli olarak, tam olarak bir hidroksil fonksiyonuna sahip en az bir monoalkol ya da en az bir mono- ve di- C1-C4- alkilamin, (9) en az bir monofonksiyonel polialkilen oksit polieter alkolden olusmasidir.
2. Istem 1'e göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; bilesen (a)'nin bir sikloalifatik ya da alifatik monomerik diizosiyanat (a1) ve bir sikloalifatik ya da alifatik monomerik diizosiyanata dayanan bir poliizosiyanatin (a2) bir karisimi olmasidir.
3. istem ?ye göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; bilesen (a1)iin heksametilen diizosiyanat, 1,3-bis(izosiyanatometiI)sikloheksan, izoforon diizosiyanat ve 4,4'- ya da 2,4'- di (izosiyantosikloheksil) metandan olusan gruptan seçilmesidir.
4. Istem 2 ya da 3'e göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; poliizosiyanatin (a2) izosiyan'urat gruplarina sahip bir poliizosiyanat, üretdion diizosiyanat, biuret gruplarina sahip poliizosiyanat, üretan ya da allofanat gruplarina sahip poliizosiyanat olmasidir.
5. istem 2 ila 4'ten herhangi birine göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; poliizosiyanatin (a2) asagidaki formüle sahip bir bilesik olmasi R5 degiskeninin 2 ila 12 karbon atomuna sahip bir iki degerlikli alkilen radikali olmasi ve istege bagli olarak C1- ila C4- alkil gruplariyla ikame edilebilmesi ve/veya bir veya daha fazla oksijen atomu ile kesilebilmesi, tercih edilen sekliyle 2 ila 10 karbon atomuna, daha tercih edilen sekliyle 2 ila 8 karbon atomuna ve en tercih edilen sekliyle 3 ila 6 karbon atomuna sahip olmasi, R'3 degiskeninin 2 ila 20 karbon atomuna sahip bir iki degerlikli alkilen radikali veya sikloalkilen radikali olmasi ve istege bagli olarak C1- ila C4- alkil gruplariyla ikame edilebilmesi ve/veya bir veya daha fazla oksijen atomu ile kesilebilmesi, tercih edilen sekliyle 4 ila 15 karbon atomuna, daha tercih edilen sekliyle 6 ila 13 karbon atomuna sahip olmasi, R7 degiskeninin hidrojen ya da metil, tercih edilen sekliyle hidrojen olmasi, ve X degiskeninin istatistiksel ortalamasi 2 ila 6'ya kadar, tercih edilen sekliyle 2 ila 4 arasinda olan bir pozitif sayi olmasidir.
6. Onceki istemlerden herhangi birine göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; bilesen (b1)'in 1, 3-di0l, pinakol, dietilen glikol, trietilen glikol, dipropilen glikol, tripropilen glikolden olusan gruptan seçilmesidir.
7. Onceki istemlerden herhangi birine göre üretan (met)akrilat olup, Özelligi; bilesen (c)'nin 2- hidroksietil akrilat, 2-hidr0ksietil metakrilat, 2- ya da 3-hidroksipr0pil akrilat ve bütan- 1,4- diol monoakrilat, gliserolün 1,2- veya 1,3- diakrilati, trimetilolpropan diakrilat, pentaeritiritil triakrilat, ditrimetilolpropan triakrilat ve dipentaeritil pentaakrilattan olusan gruptan seçilmesidir.
8. Onceki istemlerden herhangi birine göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; bilesen (d)°nin dimetilolpropiyonik asit olmasidir.
9. Onceki istemlerden herhangi birine göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; bilesen (f)*nin bir mono-, di-Ci-C4-alkilamin, mono- ya da dialkanolamin olmasidir.
10. Onceki istemlerden herhangi birine göre üretan (met)akrilat olup, özelligi; bilesen (f)°nin dietilamin, di-n-bütilamin, etanolamin, propanolamin, N,N-dipropanolamin ve N, N- dietanolaminden olusan gruptan seçilmesidir.
11. Bir sulu kaplama kompozisyonu olup, özelligi: - istem 1 ila 10'dan herhangi birine göre en az bir üretan (met)akrilat, - istege bagli olarak, üretan (met)akrilatin (A) sulu bir dispersiyonunda çözünebilen ya da dagilabilen en az bir düsük molekül agirlikli (met)akrilat (B), - istege bagli olarak en az bir pigment, ve - istege bagli olarak en az bir foto- baslatici içermesidir.
12. Istem 11'e göre kaplama kompozisyonlarinin kullanimi olup, özelligi; ahsap, kagit, tekstil, deri, keçe, plastik yüzeyler, cam, seramik, mineral yapi malzemeleri, çimento bloklari, fiber çimento levhalari, metaller ve kaplanmis metallerin kaplanmasi için kullanilmasidir.
13. Istem 11'e göre kaplama kompozisyonlarinin kullanimi olup, özelligi; baski mürekkebi olarak kullanilmasidir.
14. Bir yöntem olup, özelligi; polikarbonat, polietilen, polipropilen, poliamid, polietilen tereftalat (PET) ve kagidin istem 13'e göre bir baski mürekkebi ile basilmasina yönelik olmasidir.
TR2018/19125T 2013-08-26 2014-08-22 Radyasyonla sertleştirilebilen suda dağılabilen poliüretan (met) akrilatlar. TR201819125T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13181721 2013-08-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201819125T4 true TR201819125T4 (tr) 2019-01-21

Family

ID=49029019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2018/19125T TR201819125T4 (tr) 2013-08-26 2014-08-22 Radyasyonla sertleştirilebilen suda dağılabilen poliüretan (met) akrilatlar.

Country Status (10)

Country Link
US (1) US10131814B2 (tr)
EP (1) EP3039048B1 (tr)
JP (1) JP6436996B2 (tr)
KR (1) KR20160051814A (tr)
CN (1) CN105683235B (tr)
CA (1) CA2922235A1 (tr)
ES (1) ES2707369T3 (tr)
RU (1) RU2673466C2 (tr)
TR (1) TR201819125T4 (tr)
WO (1) WO2015028397A1 (tr)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3212721A1 (en) * 2014-10-31 2017-09-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Radiation curable binder dispersion for an inkjet ink
WO2016173872A1 (en) * 2015-04-29 2016-11-03 Tarkett Gdl Polyvinyl chloride-free decorative surface coverings
CN107922762B (zh) 2015-10-28 2021-02-05 惠普发展公司，有限责任合伙企业 基于可辐射固化聚氨酯的粘合剂分散体
WO2017108124A1 (en) 2015-12-23 2017-06-29 Kronoplus Technical Ag Floor panel having drainage protrusions
CN108603024B (zh) * 2016-02-05 2021-06-08 富士胶片株式会社 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法
US11028281B2 (en) * 2016-07-27 2021-06-08 Sun Chemical Corporation Free radical polymerizable water-based inkjet compositions
EP3538584B1 (de) * 2016-11-14 2020-08-26 Covestro Deutschland AG Verfahren zur herstellung eines gegenstandes aus einem vorläufer und verwendung eines radikalisch vernetzbaren harzes in einem additiven fertigungsverfahren
US11180604B2 (en) 2016-12-20 2021-11-23 Prc-Desoto International, Inc. Polyurethane prepolymers incorporating nonlinear short chain diols and/or soft diisocyanates compositions, and uses thereof
KR101854429B1 (ko) 2016-12-29 2018-05-03 한화케미칼 주식회사 지방족 이소시아네이트의 제조 방법
US10640599B2 (en) 2017-01-31 2020-05-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Reactive polyurethane dispersions
WO2018143919A1 (en) 2017-01-31 2018-08-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Reactive polyurethane dispersions
WO2018143922A1 (en) * 2017-01-31 2018-08-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Reactive polyurethane dispersions
EP3507318B1 (en) 2017-01-31 2022-11-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Reactive polyurethane dispersions
EP3608376B1 (en) * 2017-04-03 2024-09-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, production method therefor, and image formation method
CN110475830B (zh) * 2017-04-03 2022-03-25 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
WO2019017270A1 (ja) * 2017-07-21 2019-01-24 Dic株式会社 組成物及び印刷インキ
WO2019078827A1 (en) * 2017-10-17 2019-04-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. UV-CURABLE INK JET INKS
CN107629189A (zh) * 2017-10-27 2018-01-26 天津久日新材料股份有限公司 一种低粘度聚氨酯丙烯酸酯的制备和应用
WO2020053543A1 (en) * 2018-09-10 2020-03-19 Sun Chemical Corporation Energy curable compositions comprising reaction products of poly(alkylene oxide)-containing glycidyl ethers and acrylic acid
EP3959372A1 (en) * 2019-04-23 2022-03-02 BASF Coatings GmbH Method for printing on non-woven textile substrates using radiation-curing inks
CN111253547A (zh) * 2020-01-21 2020-06-09 武汉工程大学 一种磺酸盐型紫外光固化水性聚氨酯及其制备方法
KR102123279B1 (ko) * 2020-03-02 2020-06-16 표상현 부분(메트)아크릴레이트화 폴리올의 분리 방법 및 이를 이용하여 제조된 (메트)아크릴레이트로 관능화된 우레탄-계 물질
US20230279613A1 (en) 2020-07-10 2023-09-07 Basf Se Resin-Impregnated Fibrous Material in the Form of a Sheet or a Web
MX2023013450A (es) * 2021-05-14 2024-02-27 Red Spot Paint & Varnish Co Inc Reticuladores, composiciones, sistemas, procesos y artículos de recubrimiento en el molde.
EP4373894A1 (en) * 2021-07-23 2024-05-29 Basf Se Water-based binder composition and its application in water-based printing ink
JP7452598B2 (ja) * 2021-10-14 2024-03-19 荒川化学工業株式会社 水系エマルジョン組成物、硬化物及び積層体
KR102436029B1 (ko) * 2022-01-27 2022-08-25 (주)유경화성 코르크용 표면 코팅제 조성물, 이의 제조 방법, 이를 이용하여 코팅된 코르크칩 및 친환경 바닥포장재 시공 방법
EP4493608A1 (en) * 2022-03-18 2025-01-22 Basf Se Re-dispersible or re-soluble aqueous ethylenically unsaturated aqueous polyurethane compositions with improved water-resistance
KR102736016B1 (ko) * 2022-05-10 2024-12-05 유림특수화학 주식회사 광경화형 수용성 코팅 조성물 및 이를 이용한 다층 도막 코팅물
CN117511387B (zh) * 2023-11-22 2024-04-30 江苏众立生包装科技有限公司 含有聚（氨酯-丙烯酸酯）的印刷光油的制备方法

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2909994A1 (de) 1979-03-14 1980-10-02 Basf Ag Acylphosphinoxidverbindungen, ihre herstellung und verwendung
DE2965566D1 (en) 1978-07-14 1983-07-07 Basf Ag Acylphosphinoxide compounds, their preparation and their use
DE2936039A1 (de) 1979-09-06 1981-04-02 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Wasserdispergierbare, durch strahlen vernetzbare bindemittel aus urethanacrylaten, ein verfahren zu ihrer herstellung sowie die verwendung dieser bindemittel in waessriger dispersion auf dem anstrich-, druckfarben- und textilsektor
IT1153000B (it) 1982-07-01 1987-01-14 Resem Spa Dispersioni acquose di poliuretani da oligouretani aventi gruppi terminali insaturi
DE3314790A1 (de) 1983-04-23 1984-10-25 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Mehrstufenverfahren zur herstellung von 3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethyl-cyclohexylisocyanat
DE3314788A1 (de) 1983-04-23 1984-10-25 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Mehrstufenverfahren zur herstellung von hexamethylendiisocyanat-1,6 und/oder isomeren aliphatischen diisocyanaten mit 6 kohlenstoffatomen im alkylenrest
DE3828033A1 (de) 1988-08-18 1990-03-08 Huels Chemische Werke Ag Kreislaufverfahren zur herstellung von (cyclo)aliphatischen diisocyanaten
DE4010783C2 (de) 1990-04-04 1994-11-03 Bayer Ag Duromere transparente Terpolymerisate und ihre Verwendung zur Herstellung von optischen Formteilen
EP0495751A1 (de) 1991-01-14 1992-07-22 Ciba-Geigy Ag Bisacylphosphine
DE4113160A1 (de) 1991-04-23 1992-10-29 Bayer Ag Polyisocyanatgemische, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE4142275A1 (de) 1991-12-20 1993-06-24 Bayer Ag Isocyanatocarbonsaeuren, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihrer verwendung
ZA941879B (en) 1993-03-18 1994-09-19 Ciba Geigy Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators
AT401524B (de) 1994-07-27 1996-09-25 Vianova Kunstharz Ag Verfahren zur herstellung von wasserverdünnbaren urethanharzen und deren verwendung
DE4433929A1 (de) 1994-09-23 1996-03-28 Basf Ag Wasseremulgierbare Polyisocyanate
DE19618720A1 (de) 1995-05-12 1996-11-14 Ciba Geigy Ag Bisacyl-bisphosphine, -oxide und -sulfide
DE19525489A1 (de) 1995-07-13 1997-01-16 Wolff Walsrode Ag Strahlenhärtbare, wäßrige Dispersionen, deren Herstellung und Verwendung
AU718619B2 (en) 1997-01-30 2000-04-20 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Non-volatile phenylglyoxalic esters
DE19724199A1 (de) 1997-06-09 1998-12-10 Basf Ag Emulgatoren
DE19810793A1 (de) 1998-03-12 1999-09-16 Basf Ag Härtbares Polyurethanpolymerisat, Dispersion auf Basis dieses Polymerisats, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE19826712A1 (de) 1998-06-16 1999-12-23 Basf Ag Strahlungshärtbare Massen, enthaltend Phenylglyoxylate
DE19913353A1 (de) 1999-03-24 2000-09-28 Basf Ag Verwendung von Phenylglyoxalsäureestern als Photoinitiatoren
DE19933012A1 (de) 1999-07-14 2001-01-18 Basf Ag Härtbares Polyurethanpolymerisat
DE19957604A1 (de) 1999-11-30 2001-05-31 Bayer Ag Polyurethan-Emulsionen
DE19957900A1 (de) 1999-12-01 2001-06-07 Basf Ag Lichthärtung von strahlungshärtbaren Massen unter Schutzgas
DE10013186A1 (de) 2000-03-17 2001-09-20 Basf Ag Polyisocyanate
DE10013187A1 (de) 2000-03-17 2001-10-11 Basf Ag Hochfunktionelle Polyisocyanata
AU2002346923A1 (en) 2001-10-19 2003-05-06 Basf Aktiengesellschaft Inhibitor mixture for (meth)acrylic acid and (meth)acrylic acid ester
DE10226932A1 (de) * 2002-06-17 2003-12-24 Bayer Ag Strahlenhärtende Beschichtungsmittel
DE10244142A1 (de) 2002-09-23 2004-04-01 Henkel Kgaa Stabile Polyurethansysteme
DE10308104A1 (de) 2003-02-26 2004-09-09 Bayer Ag Polyurethan-Beschichtungssysteme
DE10308105A1 (de) 2003-02-26 2004-09-09 Bayer Aktiengesellschaft Polyurethan-Beschichtungssysteme
US20050238815A1 (en) 2004-04-27 2005-10-27 Dvorchak Michael J UV curable coating composition
US20080182080A1 (en) * 2005-02-24 2008-07-31 Basf Aktiengesellschaft Pigments That Are At Least Partially Sheathed In Radiation-Curable Polyurethane, Their Production And Use
WO2006089935A1 (de) 2005-02-24 2006-08-31 Basf Aktiengesellschaft Strahlungshärtbare wässrige polyurethandispersionen
DE102005019430A1 (de) * 2005-04-25 2006-10-26 Bayer Materialscience Ag N-Methylpyrrolidon-freie Polyurethan-Dispersionen auf Basis von Dimethylolpropionsäure
DE102005057683A1 (de) * 2005-12-01 2007-06-06 Basf Ag Strahlungshärtbare wasserelmulgierbare Polyisocyanate
CN101616946B (zh) 2007-02-15 2012-07-18 巴斯夫欧洲公司 聚氨酯分散体及其制备和用途
ES2474943T3 (es) * 2008-04-28 2014-07-10 Bayer Intellectual Property Gmbh Lámina conformable con revestimiento curable por radiación y cuerpos de conformado producidos a partir de la misma
PL2313451T3 (pl) 2008-08-12 2013-02-28 Basf Se Zastosowanie wodnych dyspersji poliuretanowych w farbach drukarskich i odpowiedni sposób drukowania
EP2370449B1 (en) 2008-12-01 2013-08-14 Basf Se Silsesquioxane photoinitiators
DE102010001956A1 (de) * 2009-02-17 2010-08-19 Basf Se Verfahren zur Herstellung wasseremulgierbarer Polyurethanacrylate
DE102010003308A1 (de) 2009-03-31 2011-01-13 Basf Se Strahlungshärtbare wasseremulgierbare Polyurethan(meth)acrylate
ES2385441T3 (es) 2009-10-31 2012-07-24 Bayer Materialscience Ag Dispersiones de poliuretano acuosas exentas de estaño
JP5945902B2 (ja) * 2010-12-27 2016-07-05 セイコーエプソン株式会社 インクジェット用インク組成物
KR20150080537A (ko) * 2012-10-24 2015-07-09 바스프 에스이 방사선 경화성, 수분산성 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160051814A (ko) 2016-05-11
JP2016529366A (ja) 2016-09-23
CA2922235A1 (en) 2015-03-05
CN105683235A (zh) 2016-06-15
CN105683235B (zh) 2019-08-23
ES2707369T3 (es) 2019-04-03
JP6436996B2 (ja) 2018-12-12
EP3039048A1 (en) 2016-07-06
EP3039048B1 (en) 2018-10-24
RU2016111153A (ru) 2017-10-04
WO2015028397A1 (en) 2015-03-05
RU2016111153A3 (tr) 2018-05-29
US20160200938A1 (en) 2016-07-14
RU2673466C2 (ru) 2018-11-27
US10131814B2 (en) 2018-11-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TR201819125T4 (tr) Radyasyonla sertleştirilebilen suda dağılabilen poliüretan (met) akrilatlar.
JP6284539B2 (ja) ポリウレタン、その分散液、それらの製造及び使用
KR101251244B1 (ko) 방사선 경화성 수성 폴리우레탄 분산액
ES2362044T3 (es) Láminas deformables impresas.
US9752056B2 (en) Radiation-curing, water-dispersible polyurethane (meth)acrylates
US20100010113A1 (en) Radiation-curable compounds
US7943682B2 (en) Radiation-curable water-emulsifiable polyisocyanates
US8163390B2 (en) Radiation-curable compounds
US10703929B2 (en) Aqueous polymer compositions comprising polyurethane (meth)acrylates
MX2011001277A (es) Uso de dispersiones acuosas de poliuretano en tintas de impresion y proceso de impresion correspondiente.
CN107001570B (zh) 基于链增长和交联的聚氨酯的可辐射固化的涂料组合物
CN1637094A (zh) 涂料组合物
JP2008521981A (ja) 耐引掻性放射線硬化性塗料
MX2014014619A (es) Compuestos curables por radiacion.
US20080275155A1 (en) Radiation-Curable Water-Emulsifiable Polyisocyanates
EP3820927B1 (en) Water-dispersible polyurethane (meth)acrylates for actinic radiation curable coatings
WO2015169688A1 (en) Grain enhancement with surfactants in water-based uv-radiation curable polyurethane dispersions