SU1452194A1 - Method of applying polymwr coatings in vacuum - Google Patents
Method of applying polymwr coatings in vacuum Download PDFInfo
- Publication number
- SU1452194A1 SU1452194A1 SU864059324A SU4059324A SU1452194A1 SU 1452194 A1 SU1452194 A1 SU 1452194A1 SU 864059324 A SU864059324 A SU 864059324A SU 4059324 A SU4059324 A SU 4059324A SU 1452194 A1 SU1452194 A1 SU 1452194A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- text
- vacuum
- coatings
- flow
- cathode
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 6
- -1 Polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 2
- 241000283707 Capra Species 0.000 claims 1
- 229920006359 Fluoroplast Polymers 0.000 claims 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 241000554155 Andes Species 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение может быть использовано дл получени покрытий, стойких к воздествию окружащей среды. Окружающей среды. Цель изобретени - повышение эффективности использовани исходного материала за счет уменьшени непроизводительных потерь. Насыщенные пары из парогенератора 1 ввод т в область тлеющего разр да плоской конфигурации. Это приводит к образованию плоского фронта потока рабочего вещества в плоскости сетчатого катода 4. На подложке 5 формируетс полимерное покрытие, рост которого определ етс как осаждением сформированного потока исходного материала, так и воздействием активно действующих излучений плазмы тлеющего разр да. 1 табл., 1 ил.The invention can be used to produce coatings that are resistant to environmental influences. The environment. The purpose of the invention is to increase the efficiency of use of the source material by reducing unproductive losses. Saturated vapors from steam generator 1 are introduced into a glow discharge area of a flat configuration. This leads to the formation of a flat front of the flow of the working substance in the plane of the mesh cathode 4. On the substrate 5 a polymer coating is formed, the growth of which is determined both by the deposition of the formed flow of the starting material and by the effect of actively acting glow-discharge plasma. 1 tab., 1 Il.
Description
I I
Изобретение относитс к технологии получени полимерных покрытий в вакууме на издели дл повышени стойкости к Воздействию окружающей среды с высокими механическими, диэлектрическими , фрикционными и зионными свойствами поверхности и может быть использовано дл нанесени покрытий на носитель информации и конструктивные злементы микрозлектро- ники.The invention relates to a technology for producing polymer coatings in vacuum on products to increase the resistance to environmental exposure with high mechanical, dielectric, friction and zionic properties of the surface and can be used to apply coatings on the information carrier and microelectronics design elements.
Целью изобретени вл етс повьппе- . ние зффективности использовани .исход - Ного материала за счет уменьгаени непроизводительных потерь.The aim of the invention is to repeat. improvement in the efficiency of use of the source material by reducing unproductive losses.
На чертеже представлена схема установки j по сн юща предложенный способ нанесени полимерных покрытий в вакууме.The drawing shows an installation diagram j explaining the proposed method for applying polymer coatings in vacuum.
Установка содержит парогенератор 1, паропровод 2, соедин ющий парогенератор 1 с анодом 3, сетчатый плбский катод 4, за которым расположена подложка 5. Анод 3 и катод 4 выполнены плоскопараллельными.The installation includes a steam generator 1, a steam pipe 2 connecting the steam generator 1 with the anode 3, the mesh plba cathode 4, behind which the substrate 5 is located. The anode 3 and the cathode 4 are plane-parallel.
Введение насыщенных паров исходного .материала в область тлеющего разр да плоской конфигурации приводит к образованию плоского фронта потока рабочего вещества в плоскости .сетчатого катода 4. При зтом на подложке 5, расположенной за плоским сетчатым, катодом 4,формируетс поликернЬе пЬк-; рытие с практически ПОЛРГЫМ использованием вводимого исходного потока вещества,.причем в отличие от известных в предложенном способе рост поли мерной пленки определ етс как осажО1 Is5The introduction of saturated vapors of the source material into the glow discharge region of a flat configuration leads to the formation of a flat flow front of the working substance in the plane of the grid cathode 4. At the same time, on the substrate 5, located behind the flat mesh, cathode 4, polychernia pqc- forms; digging with almost LITERAL use of the input source material stream, and in contrast to the polymer film known in the proposed method, the growth of a polymer film is defined as precipitated O1 Is5
(to(to
314314
дением сформированного потока рабочего вещества на поверхность подложки , так и воздействием активно дейетву1йщих излучений плазмы тлеющего разр да на обрабатьгоаемую поверхность .by the formation of the generated flux of the working substance on the surface of the substrate, as well as by the effect of actively acting glow radiation of the plasma on the treated surface.
Прим е р. В полость парогене- рптора 1 помещают полипропиленовое волокно (ТУ 6-06-535-76, 0,33 текс.). В качестве подложки 5 устанавливают магнитньгй диск пам ти. В вакуумной камере создают разрежение пор дка 0,1 торр Производ т нагрев парогенератора I и паропровода 2, Парогене- ратбр термостатируют при 250 С. Паропровод 2 разогревают пропусканием переменного тока до температуры на 5- выше,температуры парогенератора ). После установлени теплового режи- ма парогенератора I между ансдом 3 и катодом 4 подают напр жение посто нного тока 2,0 кВ, обеспечивающее возбуждение в разр дном промежутке самосто тельного тлеющего разр да. Note A polypropylene fiber is placed into the cavity of the steam generator 1 (TU 6-06-535-76, 0.33 tex.). A magnetic disk is installed as substrate 5. A vacuum in the vacuum chamber is created in the order of 0.1 Torr. The heating of the steam generator I and the steam line 2 is performed. The steam generator is heated to 250 ° C. The steam pipe 2 is heated by passing an alternating current to a temperature 5 to higher (the temperature of the steam generator). After the thermal mode of the steam generator I is established between the andes 3 and the cathode 4, a DC voltage of 2.0 kV is applied, which provides for the initiation of a self-glowing discharge in the discharge gap.
Прн ионизации в плазме газового разр да направл емые в разр дный промежуток жидкофазные частицы зар жаютс положительно, в результате зтого они ускор ютс из области газораз- р дной плазмы к катоду 4, проход зону катодного па дени . Принима во внимание, что поток рабочего вещества вл етс в зкостным, ускор ющее / действие в разр дном промежутке испы- тьгаают и незар женные частицы. Следовательно , в плоскости катода имеетс нормально направленный, ускоренный до энергии, соответствующей нап- .р жению на разр дном промежутке- (обмчноч1-5 кВ), noTQK рабочего вещества с достаточно высокой степенью ионизации. Параметры разр да выбираютс из услови обеспечени необходимой степени ионизации потока ра- бочего вещества без значительной дополнительной деструкции ных осколков. Такие услови выполн ютс в тлеющем разр де, где температура газа значительно ниже элскт ронной..Plasma ionization in a gas-discharge plasma, liquid-phase particles directed into the discharge gap positively charge, as a result of which they are accelerated from the region of the gas-discharge plasma to cathode 4, passing through the cathode fall zone. Taking into account that the flow of the working substance is viscous, the accelerated / action in the discharge gap is also tested by uncharged particles. Consequently, in the plane of the cathode there is a normally directed, accelerated to an energy corresponding to the voltage on the discharge gap- (obmchnach1-5 kV), noTQK of the working substance with a sufficiently high degree of ionization. The discharge parameters are selected from the condition of providing the necessary degree of ionization of the working substance flow without significant additional degradation fragments. Such conditions are fulfilled in a glow discharge where the gas temperature is significantly lower than the electrical temperature.
Электроды выполнены плоскими размером I2 X I2 см и расположены наThe electrodes are made flat with a size of I2 X I2 cm and are located on
4four
ассто нии 10 см. Анод 3 выполнен из нержавеющего листа, а катод 4 представл ет собой рамку, на которой с шагом I см намотана сетка из вольфрамовой проволоки 80 мкм. В процессе нанесени покрыти магнитный диск вращают. Образование полимерного сло и его рост визуально контролируют по по влению интерференционного окрашивани и по чередованию его цвета.A distance of 10 cm. The anode 3 is made of stainless steel sheet, and the cathode 4 is a frame in which a grid of 80 µm tungsten wire is wound with a step of I cm. During the coating process, the magnetic disk is rotated. The formation of the polymer layer and its growth are visually monitored by the appearance of interference staining and the alternation of its color.
Предложенна совокупность приемов и технологические особенности способа позвол т повысить скорость нанесени покрыти по сравнению с известными в 8-12 раз и улучшат контролируемость процесса за счет снижени рабочего вакуума с 10 до 0,5-1 тор, формировани потока рабочего вещества , что обеспечит практически полное осаждение рабочего потока на подложку и трансформирование его в поли- MepiHoe покрытие и совмещени операций ионизации, формировани потока и его ускорени в одном плоском разр дном промежутке.The proposed set of techniques and technological features of the method will increase the speed of coating compared to the known 8-12 times and improve the process controllability by reducing the working vacuum from 10 to 0.5-1 Torr, forming a flow of the working substance, which will provide almost complete deposition of the working flow on the substrate and its transformation into a poly-MepiHoe coating and combining the ionization operations, forming the flow and accelerating it in one flat discharge gap.
В таблице представлены рабочие услови при нанесении различных полимерных покрытий на магнитные диски пам ти ф 355 мм. ,The table shows the working conditions when applying various polymeric coatings on magnetic disks 355 mm in memory. ,
Ф о рмула изобретени F o rmula of the invention
Способ нанесени полимерных покрытий в вакууме, включающий формирование электрического пол между анодом и катодом, введение в межзлектродный промежуток паров исходного материала , ускорение зар женных частиц, осаждение покрыти на подложку и его полимеризацию , отличающийс тем, что, с целью повышени эффективности использовани исходного материала , анод и катод выполн ют плоскопараллельными , причем катод в виде сетки, перед введением паров провод т их насыщение, а введение насыщенных паров осуществл ют через анод в иап рзвлеиии электрического пол , ускорение зар женных частиц осуществл ют в зоне тлеющего разр да, а осаждение покрыти - вне зоны тлеющего разр да.The method of applying polymer coatings in vacuum, including the formation of an electric field between the anode and the cathode, the introduction of vapors of the starting material into the inter-electrode gap, the acceleration of charged particles, the deposition of the coating on the substrate and its polymerization, in order to increase the efficiency of using the starting material, the anode and the cathode are plane-parallel, and the cathode is in the form of a grid, prior to the introduction of the vapors, they are saturated, and the introduction of saturated vapors is carried out through the anode in a hole The electrical field, the acceleration of charged particles is carried out in the region of the glow discharge, and depositing the coating - is a glow discharge zone.
ОABOUT
°f°t °t° f ° t ° t
A/A /
a СЭ- fa SE-f
о Q о о О О Оo Q o o o o o o o
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU864059324A SU1452194A1 (en) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | Method of applying polymwr coatings in vacuum |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU864059324A SU1452194A1 (en) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | Method of applying polymwr coatings in vacuum |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU1452194A1 true SU1452194A1 (en) | 1990-09-15 |
Family
ID=21234704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU864059324A SU1452194A1 (en) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | Method of applying polymwr coatings in vacuum |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU1452194A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2429312C1 (en) * | 2007-10-12 | 2011-09-20 | Арселормитталь Франс | Industrial steam generator for application of coating out of alloy on metal tape |
-
1986
- 1986-04-22 SU SU864059324A patent/SU1452194A1/en active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Патент DE № 3112604, кл. С 23 С J3/04, 1983. Авторское свидетельство СССР 1123745, кл. В 05 D 3/06, 1984. * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2429312C1 (en) * | 2007-10-12 | 2011-09-20 | Арселормитталь Франс | Industrial steam generator for application of coating out of alloy on metal tape |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Grigoriev et al. | Broad fast neutral molecule beam sources for industrial-scale beam-assisted deposition | |
| US4382100A (en) | Application of a layer of carbonaceous material to a surface | |
| US6193853B1 (en) | Magnetron sputtering method and apparatus | |
| US4461689A (en) | Method and apparatus for coating a graphite member | |
| EA020763B1 (en) | Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition | |
| EP0041850B1 (en) | A method of vacuum depositing a layer on a plastics film substrate | |
| CN102308358A (en) | Closed drift magnetic field ion source device with self-cleaning anode and substrate modification modification method | |
| DE3852357T2 (en) | Thin film carbon material and method of application. | |
| RU2058429C1 (en) | Method for film spraying | |
| SU1452194A1 (en) | Method of applying polymwr coatings in vacuum | |
| JP2000068227A (en) | Method for processing surface and device thereof | |
| JP2007126742A (en) | System and method for power function ramping of microwave liner discharge source | |
| US4320716A (en) | Ultra-high frequency device for depositing thin films on solids | |
| CN1656244A (en) | Sputter method or device for the production of natural voltage optimized coatings | |
| KR100501044B1 (en) | Large area deposition system and method for magnesium oxide thin film | |
| CN100395371C (en) | Device and process of microwave plasma enhanced arc glow coating coating | |
| JPS5874701A (en) | Formation of thin polymer film | |
| JP4682387B2 (en) | Insulator surface treatment method | |
| JPH04228566A (en) | Conductive fiber coating method and apparatus by sputter ion plating | |
| JPS6350463A (en) | Method and apparatus for ion plating | |
| JPS58161774A (en) | Sputtering method | |
| US3344055A (en) | Apparatus for polymerizing and forming thin continuous films using a glow discharge | |
| JPH11195397A (en) | Low energy heavy ion three-dimensional radiation method | |
| KR100267886B1 (en) | Coating layer forming method of shield and sputtering apparatus utilizing the shield and thin layer forming method utilizing the sputtering apparatus | |
| JPH01234397A (en) | Method and apparatus for producing diamond-like thin film |