RU2371399C2 - Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии некоторых полимеров, статических сополимеров - Google Patents
Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии некоторых полимеров, статических сополимеров Download PDFInfo
- Publication number
- RU2371399C2 RU2371399C2 RU2007146114/04A RU2007146114A RU2371399C2 RU 2371399 C2 RU2371399 C2 RU 2371399C2 RU 2007146114/04 A RU2007146114/04 A RU 2007146114/04A RU 2007146114 A RU2007146114 A RU 2007146114A RU 2371399 C2 RU2371399 C2 RU 2371399C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- sol
- copolymers
- organic additive
- coating
- mesoporous silica
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 17
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 title abstract 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 8
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000802 evaporation-induced self-assembly Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 claims abstract 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 claims description 8
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 claims description 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 17
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000002356 single layer Substances 0.000 abstract description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 abstract 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 16
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 11
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 7
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 5
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 5
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920006301 statistical copolymer Polymers 0.000 description 3
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 butyl alcohols Chemical class 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000013335 mesoporous material Substances 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102220500397 Neutral and basic amino acid transport protein rBAT_M41T_mutation Human genes 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000469 amphiphilic block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000013401 experimental design Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
Изобретение относится к тонкопленочным интерференционным покрытиям для просветления оптических элементов. Техническая задача - разработка способа получения экономически выгодного покрытия с низким показателем преломления 1,25-1,34. Предложен способ получения тонких 50-200 нм однослойных просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния на изделиях из силикатного стекла с максимумом пропускания 97,0-98,5% в видимой области спектра, включающий в себя а) золь-гель процесс тетраалкоксида кремния в присутствии органической добавки в концентрации 0,1-5,0 вес.% к весу золя, с использованием техники самоорганизации наноструктур, вызванной испарением растворителя (EISA), б) нагревание образца с покрытиями в атмосфере воздуха при 300-600°С в течение нескольких часов с целью термического разрушения органической добавки. В качестве органической добавки, которая определяет самопроизвольное микроразделение неорганической и органической фаз при образовании твердого покрытия на стекле, используются карбоцепные полимеры, содержащие боковые простые эфирные или сложноэфирные группы или карбоцепные статистические сополимеры, содержащие простые эфирные группы и сложноэфирные группы. 7 ил.
Description
Тонкопленочные интерференционные покрытия для просветления оптических элементов широко применяются в оптической промышленности и в коммерческой индустрии (просветление экранов дисплеев, фотодетекторов, волоконных световодов и т.д.). Основным ограничением тонкопленочных просветляющих покрытий является невозможность их вакуумного напыления на оптические детали больших размеров (большеапертурная оптика на основе оптических элементов из плавленого кварца и оптических стекол различных марок, нелинейных водорастворимых кристаллов и др.).
В общем случае, отражение света происходит на границе раздела двух материалов, например силикатного стекла и воздуха. При показателе преломления стекла n≈1,51 от двух поверхностей раздела стекла и воздуха отражается около 8,6% падающего под углом 0° света. Теоретически, чтобы уменьшить до минимума в пределе (0,0%) отражение света с длиной волны λ, нужно покрыть стекло прозрачной пленкой с показателем преломления nп=√n≈1,23 и оптической толщиной λ/4.
Однако пленкообразующих материалов с таким низким показателем преломления в природе не существует.
Например, низкие показатели преломления имеют фторированные соединения дифторид магния (показатель преломления 1,38), тефлон (показатель преломления 1,33), но показатели преломления этих веществ значительно больше теоретического значения 1,23. Поэтому в практике просветления оптических деталей нашли широкое применение многослойные покрытия: двухслойные, трехслойные, четырехслойные и т.д. (Н.А. Macleod, "Thin Film Optical Filters", Adam Hilger Ltd., Bristol, 1985). Двухслойные пленочные покрытия имеют строение M/L, где М - внутреннее (примыкающее к стеклу) покрытие определенной толщины с показателем преломления от 1,6 до 1,9, L - внешнее покрытие с низким показателем преломления менее 1,6. Трехслойные пленочные покрытия имеют структуру M/H/L, где М - внутреннее покрытие с показателем преломления от 1,6 до 1,9, Н - промежуточное покрытие с показателем преломления более 1,9 и L - внешнее покрытие с показателем преломления менее 1,6. Четырехслойные пленочные покрытия имеют структуру H/L/H/L, шестислойные - H/L/H/L/H/L и т.д.
Материалами, которые имеют высокий показатель преломления (Н), являются, например, диоксид титана (2,35 при 520 нм), пентаоксид тантала (2,25 при 520 нм), диоксид циркония (2,05÷2,08 при 520 нм), диоксид олова (2,0 при 520 нм), диоксид церия (1,95 при 520 нм) и другие.
Материалами с низким показателем преломления (L) являются, например, диоксид кремния (1,46 при 520 нм), дифторид магния (1,38 при 520 нм) и другие.
Материалами со средним показателем преломления (М) 1,6-1,9 являются Al2O3 (1,65), Sc2O3 (1,85), LaF3 (1,54), CeF3 (1,57), Dy2O3 (1,78) и другие.
Различные варианты многослойных просветляющих покрытий на силикатном стекле хорошо известны и детально рассмотрены, например, в патентах США: S. Katsube, et al., №3958042, 1976; O.Kamiya, et al., №3960441, 1976; F.Onoki, et al., №4128303, 1978; H.Tani, №4387960, 1983; J.Rijpers, et al., №4798994, 1989; Y.Iida, et al., №5073481, 1991; R. Austin, №5147125, 1992; R. Austin, №5332618; P.Boire, №5618579, 1997; S.Machol, №5719705, 1998; P.Macquart, et al., №5935702, 1999; C.Bright, et al., №5981059; 1991; C.Anderson, et al., №6238781, 2001; J.Sopko, et al., №6436541, 2002; C.Anderson, et al., № 7005188, 2006.
В практике нанесения тонкопленочных просветляющих покрытий на оптические детали используются вакуумные технологии (Н.А.Macleod, "Thin Film Optical Filters", Adam Hilger Ltd., Bristol, 1985) и золь-гель метод (Н.В.Суйковская, "Химические методы получения тонких прозрачных пленок", Издательство «Химия», 1971, 199 стр.). В вакуумных технологиях применяется дорогостоящее оборудование, цена которого возрастает при увеличении размеров оптических деталей. Размеры оптических деталей ограничиваются размерами вакуумной камеры напылительной установки.
Золь-гель процесс проще в экспериментальном исполнении и может быть использован для нанесения покрытий на оптические детали больших размеров.
В 1992 г. учеными Mobil Oil Corp. (США) сделано важное открытие в области синтеза новых наноматериалов (J.S.Beck, Пат. США №5057296, 1991 г.; J.S.Beck et al., Пат. США №5145816, 1992 г.; С.Т.Kresge et al., Nature, 1992, 359, 710). Ими разработан матричный синтез мезопористых силикатов и алюмосиликатов. Впервые получена группа мезопористых материалов M41S (МСМ-41 - гексагональная мезофаза, МСМ-48 - кубическая мезофаза, МСМ-50 - ламеллярная мезофаза) с регулярной, хорошо выраженной системой наноразмерных структур путем проведения золь-гель процесса в присутствии катионоактивного ПАВ. Ввиду относительной легкости синтеза новых мезопористых материалов и широких возможностей их практического использования в катализе, микроэлектронике, оптике, в качестве сенсоров и т.д. данное направление исследований в последующем очень бурно развивалось. В обзоре (Y.Wan, D.Zhao, Chem. Rev., 2007, 107, 2821), опубликованном в 2007 г. и посвященном только различным аспектам синтеза и свойств мезопористого диоксида кремния, приведено более 350 работ. Во всех этих работах золь-гель процесс проводится в присутствии различных классов поверхностно-активных веществ, которые играют роль матрицы, определяющей самоорганизацию неоргано-органических наноразмерных структур при образовании геля.
Необходимо отметить, что в пионерских работах Mobil Oil Corp. мезопористые силикаты и алюмосиликаты были получены только в виде порошков. В 1997 г. (C.J.Brinker et al., Nature, 1997, 389, 364; C.J.Brinker, et al. Пат. США №5858457, 1999; C.J.Brinker, et al., Пат. США №6270846, 2001) разработана техника самоорганизации наноструктур, вызванной испарением растворителя [EISA (evaporation-induced self-assembly)], которая применена для нанесения нанопористых пленок диоксида кремния на подложку, и был открыт путь получения однослойных прозрачных покрытий с низким показателем преломления, обладающих практически теоретическим просветляющим эффектом. В этой работе в качестве матрицы - органического соединения, которое определяет самоорганизацию неоргано-органических наноразмерных структур в образующейся пленке, использовались катионоактивные ПАВ (цетилтриметиламмоний бромид и др.).
Нами обнаружено, что техникой EISA также можно получать просветляющие покрытия с низким показателем преломления (1,25-1,3) на основе нанопористого диоксида кремния, если вместо дорогостоящих и труднодоступных катионоактивных ПАВ в золь-гель процессе использовать дешевые и легкодоступные карбоцепные полимеры, содержащие боковые простые эфирные, боковые сложноэфирные группы, статистические сополимеры, содержащие боковые простые эфирные, боковые сложноэфирные группы, в концентрации 0,1-5,0 вес.%, лучше 0,5-3,0 вес.%, к весу композиции золя. Установлено, что имеется оптимальная концентрация полимера, статистического сополимера в золе, при которой получаются нанопористые покрытия с наименьшим показателем преломления, следовательно, наивысшим просветляющим эффектом. При уменьшении или увеличении концентрации полимера, статистического сополимера в золе от оптимального значения показатель преломления покрытия увеличивается и уменьшается просветляющий эффект. Необходимо отметить, что применение высокомолекулярных соединений в качестве порообразующих веществ при получении пленок мезопористого диоксда кремния на кремнии известно: K.R. Carter et al., Пат. США №5773197, 1998; K.R. Carter et al., Пат. США №5895263, 1999; C.J. Hawker et al., Пат. США №6107357, 2000; M. Nishikawa et al, Пат. США №6376634, 2002; A. Shiota et al., Пат. США №6406794, 2002; S. Jang et al., Пат. США №6495478, 2002; H. Wu et al., Пат. США №6495479, 2002; L.V. Interrante et al., Пат. США №6809041, 2004; M. Akiyama et al., Пат. США №2005/0096415, 2005; H. Tsuchiya et al., Пат. США №2006/0024980, 2006; H. Tsuchiya et al., Пат. США №7291567, 2007; B.K. Peterson et al., Пат. США №7294585, 2007. В этих патентах США раскрываются способы получения пленок мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии полимеров только на подложках из кремния. Пленки предлагается использовать как диэлектрические слои с низкой константой диэлектрической проницаемости (К<3,0) в микроэлектронных схемах, поэтому измерялись диэлектрические постоянные пленок. В этих патентах США подложки из силикатного стекла, кварца и других оптических материалов не изучались, не изучались и оптические свойства (пропускание света или отражение света) оптических материалов, покрытых пленками из мезопористого диоксида кремния.
В качестве карбоцепных полимеров, содержащих боковые простые эфирные группы, нами предлагаются: а) полиалкилвиниловые эфиры (поливинилметиловый эфир, поливинилэтиловый эфир, поливинилпропиловый эфир, поливинил-н-бутиловый эфир, поливинилизобутиловый эфир и другие аналогичные соединения с большим алкильным радикалом); б) поливинилацетали (поливинилформаль, поливинилэтилаль, поливинилбутираль, поливинилформальэтилаль, поливинилбутиральфурфураль).
В качестве карбоцепных полимеров, содержащих боковые сложноэфирные группы, нами предлагаются: а) полиэфиракрилаты (полиметилакрилат, полиэтилакрилат, полипропилакрилат, полибутилакрилат, полигексилакрилат, полиоктилакрилат, поли-2-этилгексилакрилат, полинонилакрилат, полидецилакрилат, полидодецилакрилат и другие полиэфиракрилаты с большим алкильным радикалом в сложноэфирной группе); б) полиэфирметакрилаты (полиметилметакрилат, полиэтилметакрилат, полипропилметакрилат, полибутилметакрилат, полиоктилметакрилат, поли-2-этилгексилметакрилат, полинонилметакрилат, полидецилметакрилат, полидодецилметакрилат и другие полиэфирметакрилаты с большим алкильным радикалом в сложноэфирной группе); в) поливинилацетат, поливинилпропионат, поливиниллаурат, поливинилстеарат.
В качестве карбоцепных статистических сополимеров, содержащих боковые простые эфирные группы, сложноэфирные группы, нами предлагаются сополимеры алкилакрилатов, сополимеры алкилметакрилатов, сополимеры винилацетата, сополимеры виниловых эфиров.
В качестве основного компонента при приготовлении золя могут быть использованы тетраалкоксисиланы: тетраметоксисилан, тетраэтоксисилан.
В качестве растворителя могут быть применены метиловый, этиловый, пропиловый, изопропиловый, бутиловый спирты, тетрагидрофуран. Перед применением растворители освобождаются от примесей по известным в литературе методикам. Вода - бидистиллат. Соотношение вода - тетраалкоксисилан (в молях) 4:1.
В качестве катализатора гидролиза тетраалкоксисиланов могут быть использованы неорганические кислоты: соляная кислота, азотная кислота, серная кислота, фосфорная кислота в концентрациях 1,5-4,0·10-3 моль на 1 моль тетраалкоксисилана.
В качестве подложки использовали предметные силикатные стекла для микроскопии, показатель преломления стекла 1,506. Толщина стекла 2,0 мм, длина 20 мм, ширина 10 мм.
Поверхность стекол очищали от загрязнений погружением в раствор щелочи с перекисью водорода, стекла промывали водой, дистиллированной водой и сушили в термостате при 150°С в течение 6-8 часов. Приведенные ниже примеры иллюстрируют предмет изобретения.
Пример 1.
В стеклянную колбу на 50 мл помещали 1,0 мл тетраэтоксисилана (ТЭОС), 5,0 мл изопропилового спирта, добавляли воду (4:1 в молях к ТЭОС) и соляную кислоту в концентрации 3,0·10-3 моль на 1 моль ТЭОС. Стеклянную колбу закрывали и содержимое колбы перемешивали при комнатной температуре с помощью магнитной мешалки в течение 1-4 часов.
В колбу вводили раствор поливинилбутираля в изопропиловом спирте, смесь перемешивали в течение 1,0 часа при комнатной температуре. Смесь разбавляли изопропиловым спиртом до концентрации 1,0 мас.% в пересчете на SiO2.
Покрытия наносили на стекло методом вращения со скоростью 500-2000 оборотов в минуту в течение нескольких минут при комнатной температуре. Стекла оставляли при комнатной температуре в течение 12 часов. Далее стекла с покрытиями помещали в термостат и нагревали со скоростью 5°С/мин от 150 до 500°С. При этой температуре образцы выдерживали 5-6 часов. После медленного охлаждения образцы вынимали из термостата и определяли их светопропускание в интервале длин волн 200-1100 нм на спектрометре Perkin-Elmer Lambda 25 с точностью ±0,1%.
Оптическую толщину пленок и их показатель преломления определяли на эллипсометре ЛЭФ-ЗМ1.
На фиг.1 представлены кривые светопропускания стекол без покрытия и с двусторонними однослойными покрытиями на основе нанопористого диоксида кремния.
Стекло без покрытия имеет максимум светопропускания 91,1% при длинах волн 515-520 нм (кривая 1), светопропускание монотонно понижается до 83,3% при смещении длин волн в ближнюю ИК-область. Стекло не пропускает УФ-излучение с длиной волны менее 325 нм. Прозрачные покрытия из нанопористого диоксида кремния увеличивают светопропускание стекла (наблюдается эффект просветления) в интервале длин волн 350-1100 нм: кривая 2, добавка - 0,35 мас.%, кривая 3 - 1,0 мас.%, кривая 4 - 1,5 мас.%, кривая 5 - 2,0 мас.%. Эффект просветления зависит от концентрации поливинилбутираля в золе, сначала увеличивается, проходит через максимум и далее уменьшается с возрастанием концентрации добавки. Максимум пропускания 97,0% (просветление 5,9%) наблюдается при длинах волн 530-540 нм (кривая 3) при оптимальной концентрации поливинилбутираля, равной 1,0 вес.%. Оптическая толщина пленки 120 нм, показатель преломления - 1,34.
Пример 2.
Условия проведения эксперимента такие же, как и в примере 1, однако в качестве растворителя использовался тетрагидрофуран, а в качестве добавки использовался полиметилметакрилат. На фиг.2 приведены кривые светопропускания стекла без покрытия (кривая 1) и стекол с двусторонними однослойными покрытиями на основе мезопористого диоксида кремния, полученными золь-гель методом в присутствии разных концентраций полиметилметакрилата в золе: кривая 6, добавка - 1,0 мас.%, кривая 7 - 2,0 мас.%. Эффект просветления зависит от концентрации полиметилметакрилата в золе, сначала увеличивается, проходит через максимум и далее уменьшается с возрастанием концентрации полимера (фиг.2, кривые 6, 7). Максимум пропускания 98,4% (просветление 7,3%) наблюдается при длинах волн 540-550 нм (кривая 6) при оптимальной концентрации полимера, равной 1,0 вес.%. Оптическая толщина пленки 137 нм, показатель преломления 1,26.
Пример 3.
Условия проведения эксперимента такие же, как и в примере 2, однако в качестве добавки использовался статистический сополимер метилметакрилата с гидроксиэтилметакрилатом (5 мол.%). На фиг.3 приведены кривые светопропускания стекла без покрытия (кривая 1) и стекол с двусторонними однослойными покрытиями на основе нанопористого диоксида кремния, полученными золь-гель методом в присутствии разных концентраций сополимера в золе: кривая 8, добавка 0,5 мас.%, кривая 9 - 0,7 мас.%, кривая 10 - 1,0 мас.%.
Эффект просветления зависит от концентрации сополимера в золе, сначала увеличивается, проходит через максимум и далее уменьшается с возрастанием концентрации добавки (фиг.3, кривые 8-10). Максимум пропускания 98,0% (просветление 6,9%) наблюдается при длинах волн 580-590 нм (кривая 9) при оптимальной концентрации сополимера, равной 0,7 мас.%. Оптическая толщина пленки 150 нм, показатель преломления 1,285.
Пример 4.
Условия проведения эксперимента такие же, как и в примере 2, однако в качестве добавки использовался статистический сополимер метилметакрилата с метакриловой кислотой (20,0 мол.%). На фиг.4 приведены кривые светопропускания стекла без покрытия (кривая 1) и стекол с двусторонними однослойными покрытиями на основе нанопористого диоксида кремния, полученными золь-гель методом в присутствии разных концентраций сополимера в золе: кривая 11, добавка 0,5 мас.%, кривая 12 - 1,0 мас.%, кривая 13 - 1,2 мас.%, кривая 14 - 1,5 мас.%.
Эффект просветления зависит от концентрации сополимера в золе, сначала увеличивается, проходит через максимум и далее уменьшается с возрастанием концентрации добавки (фиг.4, кривые 11-14). Максимум пропускания 98,1% (просветление 7,0%) наблюдается при длинах волн 580-590 нм (кривая 12) при оптимальной концентрации, равной 1,0 вес.%. Оптическая толщина пленки 140 нм, показатель преломления 1,28.
Пример 5.
Условия проведения эксперимента такие же, как и в примере 2, однако в качестве добавки использовался статистический сополимер метилметакрилата с винилпирролидоном (10 мол.%). На фиг.5 приведены кривые светопропускания стекла без покрытия (кривая 1) и стекол с двусторонними однослойными покрытиями на основе мезопористого диоксида кремния, полученными золь-гель методом в присутствии разных концентраций сополимера в золе: кривая 15, добавка 0,5 мас.%, кривая 16 - 0,7 мас.%, кривая 17 - 1,0 мас.%, кривая 18 - 1,5 мас.%. Эффект просветления зависит от концентрации сополимера в золе, сначала увеличивается, проходит через максимум и далее уменьшается с возрастанием концентрации сополимера (фиг.5, кривые 15-18). Максимум пропускания 98,4% (просветление 7,3%) наблюдается при длинах волн 530-540 нм (кривая 17) при оптимальной концентрации сополимера, равной 1,0 вес.%. Оптическая толщина пленки 130 нм, показатель преломления 1,26.
Пример 6.
Условия проведения эксперимента такие же, как и в примере 2, однако в качестве добавок использовались статистический сополимер метилметакрилата с акриламидом (5 мол.%) (фиг.6, кривая 19) и статистический сополимер метилметакрилата с малеиновым ангидридом (фиг.6, кривая 20). Максимумы пропускания 98,4% (просветление 7,3%) и 98,5% (просветление 7,4%) наблюдаются при длинах волн 540-550 нм при концентрации сополимеров, равной 1,0 вес.%. Оптическая толщина пленки 132 нм, показатель преломления 1,26.
Пример 7.
Условия проведения эксперимента такие же, как и в примере 1, однако в качестве добавки использовался поливинилацетат. На фиг.7 приведены кривые светопропускания стекла без покрытия (кривая 1) и стекол с двусторонними однослойными покрытиями на основе мезопористого диоксида кремния, полученными золь-гель методом в присутствии разных концентраций поливинилацетата в золе: кривая 21, добавка 1,0 мас.%, кривая 22 - 1,5 мас.%. Максимум пропускания 98,6% (просветление 7,5%) наблюдается при длине волны 530 нм (кривая 22) при концентрации полимера, равной 1,5 вес.%. Оптическая толщина пленки 136 нм, показатель преломления 1,25.
Таким образом, из приведенных примеров следует, что предлагаемые в качестве органических соединений, которые определяют самоорганизацию неоргано-органических наноразмерных структур в образующейся пленке, добавки карбоцепных полимеров, статистических сополимеров в золь-гель процессе по технологии EISA при оптимальной концентрации соединений, приводят к образованию нанопористых покрытий на основе диоксида кремния с низким показателем преломления 1,25-1,34. Данные однослойные пленочные покрытия на силикатном стекле дают высокий просветляющий эффект.
Ранее (C.J.Brinker et al., Nature, 1997, 389, 364; C.J.Brinker et al., Пат. США №5858457, 1999; C.J.Brinker et al., Пат. США №6270846, 2001; Y.Wan, D.Zhao, Chem. Rev., 2007, 107, 2821) подобные нанопористые пленочные покрытия с низким показателем преломления на основе мезопористого диоксида кремния получались золь-гель процессом по технологии EISA только в присутствии труднодоступных и дорогих поверхностно-активных веществ, например катионоактивных ПАВ, амфифильных блок-сополимеров.
Claims (1)
- Способ получения тонких 50-200 нм однословных просветляющих покрытий с низким показателем преломления 1,25-1,34 на основе мезопористого диоксида кремния на изделиях из силикатного стекла с максимумом пропускания 97-98,6% в видимой области спектра, включающий в себя а) золь-гель процесс тетраалкоксида кремния в присутствии органической добавки в концентрации 0,1-5,0 вес.%, лучше 0,5-3,0 вес.% к весу золя, с использованием техники самоорганизации наноструктур, вызванной испарением растворителя (EISA), б) нагревание образца с покрытиями в атмосфере воздуха при 300-600°С в течение нескольких часов с целью термического разрушения органической добавки, отличающийся тем, что
1) в качестве органической добавки, которая определяет самопроизвольное микроразделение неорганической и органической фаз при образовании твердого покрытия на стекле, используются полимеры, выбранные из группы:
карбоцепные полимеры, содержащие боковые простые эфирные группы (полиалкилвиниловые эфиры, поливинилацетали), карбоцепные полимеры, содержащие боковые сложноэфирные группы (полиэфиракрилаты, полиэфирметакрилаты, поливинилацетат), карбоцепные статистические сополимеры, содержащие простые эфирные группы, сложноэфирные группы (сополимеры алкилакрилатов, алкилметакрилатов, сополимеры винилацетата, сополимеры виниловых эфиров);
2) органическая добавка имеет оптимальную концентрацию в золе, при которой в золь-гель процессе с последующим нагреванием образца с покрытием образуется прозрачная пленка из мезопористого диоксида кремния с максимальным просветляющим эффектом.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007146114/04A RU2371399C2 (ru) | 2007-12-11 | 2007-12-11 | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии некоторых полимеров, статических сополимеров |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007146114/04A RU2371399C2 (ru) | 2007-12-11 | 2007-12-11 | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии некоторых полимеров, статических сополимеров |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2007146114A RU2007146114A (ru) | 2009-06-20 |
| RU2371399C2 true RU2371399C2 (ru) | 2009-10-27 |
Family
ID=41025468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2007146114/04A RU2371399C2 (ru) | 2007-12-11 | 2007-12-11 | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии некоторых полимеров, статических сополимеров |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2371399C2 (ru) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2466948C2 (ru) * | 2010-11-08 | 2012-11-20 | Учреждение Российской академии наук Институт металлоорганической химии им. Г.А. Разуваева РАН | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии синергической бинарной системы: неионогенное пав-олигоэфиры на основе окиси этилена или окиси пропилена |
| RU2518612C1 (ru) * | 2013-03-12 | 2014-06-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университете им. Д.И. Менделеева (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Способ получения покрытий на основе диоксида кремния |
| RU2713004C1 (ru) * | 2018-11-27 | 2020-02-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлоорганической химии им. Г.А. Разуваева Российской академии наук | Способ получения покрытий из диоксида кремния на силикатном стекле при пониженной температуре отверждения 60-90C, обладающих повышенной твёрдостью |
| US10723890B2 (en) | 2014-11-25 | 2020-07-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Curable film-forming sol-gel compositions and anti-glare coated articles formed from them |
| RU2839768C1 (ru) * | 2024-12-06 | 2025-05-12 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова Российской академии наук" (ИПФ РАН) | Способ изготовления пленки просветляющего покрытия для водорастворимых кристаллов |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3066499A1 (fr) * | 2017-05-19 | 2018-11-23 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Dispositif electriquement conducteur, transparent ou semi-transparent, a base de polymeres poly(thio- ou seleno-)pheniques et de nanoparticules de silice poreuse |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5858457A (en) * | 1997-09-25 | 1999-01-12 | Sandia Corporation | Process to form mesostructured films |
| US6270846B1 (en) * | 2000-03-02 | 2001-08-07 | Sandia Corporation | Method for making surfactant-templated, high-porosity thin films |
| RU2204153C2 (ru) * | 1997-01-27 | 2003-05-10 | Питер Д. ХААЛАНД | Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек |
| US7291567B2 (en) * | 2004-07-23 | 2007-11-06 | Jsr Corporation | Silica-based film, method of forming the same, composition for forming insulating film for semiconductor device, interconnect structure, and semiconductor device |
-
2007
- 2007-12-11 RU RU2007146114/04A patent/RU2371399C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2204153C2 (ru) * | 1997-01-27 | 2003-05-10 | Питер Д. ХААЛАНД | Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек |
| US5858457A (en) * | 1997-09-25 | 1999-01-12 | Sandia Corporation | Process to form mesostructured films |
| US6270846B1 (en) * | 2000-03-02 | 2001-08-07 | Sandia Corporation | Method for making surfactant-templated, high-porosity thin films |
| US7291567B2 (en) * | 2004-07-23 | 2007-11-06 | Jsr Corporation | Silica-based film, method of forming the same, composition for forming insulating film for semiconductor device, interconnect structure, and semiconductor device |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| YUNFENG Lu, RAHUL Ganguli, CELESTE A. Drewien et al. Continuous formation of supported cubic and hexagonal mesoporous films by sol-gel dip-coating. Nature, 1997, vol.389, p.364-368. * |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2466948C2 (ru) * | 2010-11-08 | 2012-11-20 | Учреждение Российской академии наук Институт металлоорганической химии им. Г.А. Разуваева РАН | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии синергической бинарной системы: неионогенное пав-олигоэфиры на основе окиси этилена или окиси пропилена |
| RU2518612C1 (ru) * | 2013-03-12 | 2014-06-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университете им. Д.И. Менделеева (РХТУ им. Д.И. Менделеева) | Способ получения покрытий на основе диоксида кремния |
| US10723890B2 (en) | 2014-11-25 | 2020-07-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Curable film-forming sol-gel compositions and anti-glare coated articles formed from them |
| RU2713004C1 (ru) * | 2018-11-27 | 2020-02-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлоорганической химии им. Г.А. Разуваева Российской академии наук | Способ получения покрытий из диоксида кремния на силикатном стекле при пониженной температуре отверждения 60-90C, обладающих повышенной твёрдостью |
| RU2839768C1 (ru) * | 2024-12-06 | 2025-05-12 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова Российской академии наук" (ИПФ РАН) | Способ изготовления пленки просветляющего покрытия для водорастворимых кристаллов |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2007146114A (ru) | 2009-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2371399C2 (ru) | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии некоторых полимеров, статических сополимеров | |
| CA2635132C (en) | Process for coating a glass plate | |
| KR100602076B1 (ko) | 다층 광학시스템의 제조방법 | |
| EP0708929B1 (fr) | Materiau composite a indice de refraction eleve, procede de fabrication de ce materiau composite et materiau optiquement actif comprenant ce materiau composite | |
| RU2466948C2 (ru) | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии синергической бинарной системы: неионогенное пав-олигоэфиры на основе окиси этилена или окиси пропилена | |
| US20130196140A1 (en) | Coated article with antireflection coating including porous nanoparticles, and/or method of making the same | |
| US20130194668A1 (en) | Method of making coated article including anti-reflection coating with double coating layers including mesoporous materials, and products containing the same | |
| EP1979770A2 (fr) | Article comportant un revetement mesoporeux presentant un profil d'indice de refraction et ses procedes de fabrication | |
| JP4955551B2 (ja) | メソポーラス層を被覆した基材の生産方法およびその眼科用光学部品への利用 | |
| RU2368575C2 (ru) | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии органических кислот, функциональных производных органических кислот, сложных эфиров органических кислот | |
| Geng et al. | Fabrication of superhydrophilic and antireflective silica coatings on poly (methyl methacrylate) substrates | |
| US20150109655A1 (en) | Functional multilayer system | |
| Yan et al. | Preparation of broadband antireflective coatings with ultra-low refractive index layer by sol-gel method | |
| EA028716B1 (ru) | Прозрачная подложка, плакированная пакетом минеральных слоев, один из которых является пористым и покрытым | |
| RU2368576C2 (ru) | Способ получения тонких просветляющих покрытий на основе мезопористого диоксида кремния золь-гель методом в присутствии олигомеров окиси этилена, олигомеров окиси пропилена | |
| JP4073624B2 (ja) | 反射防止処理方法及び反射防止性を有する材料 | |
| Barton et al. | Properties of silica and silica-titania layers fabricated from silica sols containing fumed silica | |
| US20070141854A1 (en) | Fabrication of nanoporous antireflection film | |
| Schulz et al. | Ultraviolet-transparent low-index layers for antireflective coatings | |
| CN117070895A (zh) | 一种超低折射率薄膜、器件及其制作方法 | |
| Troitskii et al. | Deposition of thin antireflection coatings based on mesoporous silicon dioxide by the sol-gel method in the presence of carbochain polymers and statistical copolymers | |
| CN1975465A (zh) | 低温二氧化锗－有机改性硅酸盐复合材料的制备方法 | |
| RU2626105C1 (ru) | Способ получения просветляющего золь-гель покрытия на основе диоксида кремния | |
| Troitskii et al. | Preparation of antireflection coatings from silicon dioxide on glass and quartz by the sol-gel method with oligoethers | |
| WO2025142141A1 (ja) | 液状組成物、膜、光学部品、光学装置、及び光学装置の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20121212 |