[go: up one dir, main page]

RU2366119C2 - Головка для аналитического газового плазматрона - Google Patents

Головка для аналитического газового плазматрона Download PDF

Info

Publication number
RU2366119C2
RU2366119C2 RU2006136978/06A RU2006136978A RU2366119C2 RU 2366119 C2 RU2366119 C2 RU 2366119C2 RU 2006136978/06 A RU2006136978/06 A RU 2006136978/06A RU 2006136978 A RU2006136978 A RU 2006136978A RU 2366119 C2 RU2366119 C2 RU 2366119C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
nozzle
power electrode
plasmatron
cooling system
head
Prior art date
Application number
RU2006136978/06A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2006136978A (ru
Inventor
Егор Михайлович Мандрик (RU)
Егор Михайлович Мандрик
Original Assignee
Общество С Ограниченной Ответственностью "Вмк-Оптоэлектроника"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество С Ограниченной Ответственностью "Вмк-Оптоэлектроника" filed Critical Общество С Ограниченной Ответственностью "Вмк-Оптоэлектроника"
Priority to RU2006136978/06A priority Critical patent/RU2366119C2/ru
Priority to EA200802031A priority patent/EA011792B1/ru
Priority to PCT/RU2007/000546 priority patent/WO2008054246A1/ru
Publication of RU2006136978A publication Critical patent/RU2006136978A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2366119C2 publication Critical patent/RU2366119C2/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/30Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

Изобретение относится к приборостроению, а именно к аналитическим приборам для проведения спектрального анализа, и может использоваться в устройствах атомизации и возбуждения атомов анализируемых проб. Головка для аналитического газового плазматрона содержит корпус с соплом и размещенный соосно с соплом силовой электрод, систему охлаждения сопла и силового электрода, а также устройство для подачи плазмообразующего газа в межэлектродную камеру, образованную силовым электродом и корпусом с соплом. Сопло и силовой электрод выполнены в виде аксиально-симметричных эквидистантных тонкостенных оболочек из материала с высокой электро- и теплопроводностью, стенки которых являются частью проточных каналов системы охлаждения. Использование изобретения позволит эффективно охлаждать силовые электроды и сопла, что обеспечивает не только надежную и продолжительную работу плазматрона, но и сохраняет высокую чистоту плазмы, в которую подается анализируемая проба. 3 з.п. ф-лы, 4 ил.

Description

Изобретение относится к приборостроению, а именно к аналитическим приборам для проведения спектрального анализа, и может использоваться в устройствах атомизации и возбуждения атомов анализируемых проб (далее по тексту устройства атомизации).
Устройство атомизации испаряет анализируемую пробу, обеспечивает атомизацию ее молекул, а также осуществляет возбуждение атомов пробы. Для этого оно разогревает пробу до температуры несколько тысяч градусов. Анализ пробы сводится к количественному определению содержания элементов таблицы Менделеева путем, например, измерения интенсивности аналитических спектральных линий элементов пробы в атомно-эмиссионном спектре с использованием ранее полученных градуировочных зависимостей. Устройство атомизации должно при этом отвечать ряду жестких требований:
- гарантировать отсутствие в составе плазмы атомов материала силовых электродов;
- обеспечивать стабильность параметров плазмы, что сказывается на воспроизводимости результатов анализов проб, проводимых в разное время;
- иметь высокую надежность, простоту конструкции и высокую технологичность при изготовлении.
Известна конструкция плазматрона для нагрева материалов электрической дугой, образующейся между двумя электродами (см. а.с. СССР №503601, МКИ В05В 7/00, 1976 г.), содержащего катод, сопло-анод и расположенную между ними межэлектродную камеру, а также коммуникации для подвода плазмообразующего газа. Анализируемая проба подается в межэлектродную камеру и затем вместе с потоком плазмы истекает через сопло-анод.
Основным недостатком известного устройства является попадание элементов пробы на катод и сопло-анод, что приводит к влиянию на результаты текущего анализа состава ранее анализируемых проб, т.е. наблюдается эффект «памяти».
Наиболее близким к заявляемому устройству (прототипом) является конструкция двухструйного дугового плазматрона, содержащего разделенные в пространстве анодный и катодный узлы, каждый из которых содержит корпус с соплом, образованным несколькими электрически изолированными диафрагмами с соосными отверстиями, силовой электрод с тугоплавкой вставкой, размещенной на оси сопла, а также устройство для подачи плазмообразующего газа в межэлектродную камеру, образованную силовым электродом и корпусом с соплом (см. Ж.Ж. Жеенбаев и В.С. Энгельшт, «Двухструйный плазматрон», Фрунзе: «Илим», 1983, с.12-15). Анодный и катодный узлы располагаются так, чтобы между плазменными струями был угол около 60°. Зона слияния анодной и катодной плазменных струй обладает максимальной температурой, что позволяет эффективно использовать ее для атомизации и возбуждения пробы.
Двухструйный плазматрон по сравнению с одноструйным плазматроном имеет существенное преимущество. Зона ввода пробы находится на пересечении плазменных струй, т.е. вне анодного и катодного узлов, поэтому элементы анализируемой пробы не попадают на электроды анодного и катодного узлов и не оказывают влияния на результаты последующих анализов, а наличие на силовом электроде тугоплавкой вставки позволяет минимизировать наличия в пробе материала силовых электродов.
Основным недостатком известного двухструйного плазматрона является конструкция плазмообразующей головки, используемой в качестве анодного и катодного узлов. Во-первых, это связано с наличием тугоплавкой вставки, размещенной на оси сопла. Известно, что тугоплавкая вставка имеет низкую электро- и теплопроводность и может быть подвержена эрозии.
Во-вторых, конструкция корпуса с соплом образована несколькими электрически изолированными диафрагмами с соосными отверстиями. Для обеспечения герметичности головки в качестве электрических изоляторов используют резиновые прокладки, которые при постоянном нагреве подвержены быстрому старению, что может приводить к преждевременному неожиданному выходу головки из строя.
В-третьих, изготовление диафрагм и резиновых прокладок требует высокой точности и предъявляет особые требования к качеству используемых материалов. Даже незначительные технологические нарушения при сборке набора диафрагм могут приводить к их локальному перегреву и к загрязнению плазмы материалом диафрагм.
Задачей заявленного технического решения является разработка простой и надежной конструкции головки, пригодной для использования в аналитическом газовом плазматроне и свободной от указанных недостатков.
Эта задача в головке для аналитического газового плазматрона, содержащей корпус с соплом, размещенный соосно с соплом силовой электрод, систему охлаждения сопла и силового электрода, а также устройство для подачи плазмообразующего газа в межэлектродную камеру, образованную силовым электродом и корпусом с соплом, решена тем, что сопло и силовой электрод выполнены в виде аксиально-симметричных эквидистантных тонкостенных оболочек из материала с высокой электро- и теплопроводностью, стенки которых являются частью проточных каналов системы охлаждения.
Выполнение сопла и силового электрода в виде тонкостенных оболочек из материала с высокой электро- и теплопроводимостью, например из меди, позволяет отказаться от тугоплавкой вставки и эффективно отводить тепло непосредственно из зон разогрева головки за счет более эффективного контакта материала оболочки с охлаждающей жидкостью, что исключает разогрев сопла и силового электрода до температуры, при которой возможно их испарение и попадание в пробу. При этом выполнение силового электрода и сопла в форме аксиально-симметричных эквидистантных оболочек, выполненных, например, в виде фрагментов шара или эллипсоида вращения, позволяет исключить места локального пробоя, а следовательно, неконтролируемого локального разогрева.
Для эффективного охлаждения силового электрода внутри тонкостенной оболочки силового электрода вблизи сопла установлено отверстие канала системы охлаждения.
Для эффективного охлаждения сопла внутри тонкостенной оболочки сопла вблизи его продольной оси установлено отверстие канала системы охлаждения.
Выполнение сопла и силового электрода в виде охлаждаемых тонкостенных оболочек позволяет эффективно отводить тепло из зон максимального разогрева головки, «изобретательский уровень».
На фиг.1 представлен общий вид заявляемой головки плазматрона.
На фиг.2 и 3 представлены варианты выполнения заявляемой головки плазматрона.
На фиг.4 представлена схема образования плазменных потоков при работе двухструйного плазматрона.
Представленное на фиг.2 и 3 заявляемое устройство включает: сопло 1, состоящее из тонкостенной оболочки 2 с проточным каналом 3, образованным отверстиями 4 и 5;
силовой электрод 6, состоящий из тонкостенной оболочки 7 с проточным каналом 8, образованным отверстиями 9 и 10; устройство для подачи плазмообразующего газа, включающее газовый патрубок 11, соединенный с газовой полостью 12, охватывающей силовой электрод 6, электрически изолированный с помощью изолятора 13 от сопла 1.
Представленная на фиг.4 схема образования плазменных потоков при работе двухструйного плазматрона включает анодную головку 14 и катодную головку 15, между которыми расположена зона слияния 16 плазменных струй головок, в которую вводят анализируемую пробу 17.
Плазматрон работает следующим образом. Между силовым электродом 6 и соплом 1 в анодной 14 и катодной 15 головках возбуждают разряд поджига. С помощью плазмообразующего газа, поступающего в газовую полость 12 через газовый патрубок 11 и выходящего из сопла 1 каждой головки, формируют плазменные струи, в зоне слияния 16 которых происходит замыкание тока дуги между силовыми электродами 6 анодной и катодной головок 14 и 15, в результате чего достигается температура, достаточная для испарения, атомизации и возбуждения анализируемой пробы 17. Для исключения попадания в анализируемую пробу материала силовых электродов 6 или сопел 1 головок обеспечивается их интенсивное охлаждение, для чего вовнутрь тонкостенной оболочки 7 силового электрода 6 через проточный канал 8, образованный отверстиями 9 и 10, подается охлаждающая жидкость и отводится нагретая жидкость, возникающая в зоне контакта охлаждающей жидкости с поверхностью силового электрода 6. Аналогичным образом осуществляется охлаждение сопла 1. Для этого через проточный канал 3, образованный отверстиями 4 и 5, подается охлаждающая жидкость и отводится нагретая жидкость из зоны нагрева сопла 1.
Таким образом, заявляемое устройство позволяет эффективно охлаждать силовые электроды и сопла, что обеспечивает не только надежную и продолжительную работу плазматрона, но и сохраняет высокую чистоту плазмы, в которую подается анализируемая проба.

Claims (4)

1. Головка для аналитического газового плазматрона, содержащая корпус с соплом и размещенный соосно с соплом силовой электрод, систему охлаждения сопла и силового электрода, а также устройство для подачи плазмообразующего газа в межэлектродную камеру, образованную силовым электродом и корпусом с соплом, отличающаяся тем, что сопло и силовой электрод выполнены в виде аксиально-симметричных эквидистантных тонкостенных оболочек из материала с высокой электро- и теплопроводностью, стенки которых являются частью проточных каналов системы охлаждения.
2. Головка по п.1, отличающаяся тем, что внутри тонкостенной оболочки силового электрода вблизи сопла установлено отверстие канала системы охлаждения.
3. Головка по п.1, отличающаяся тем, что внутри тонкостенной оболочки сопла вблизи его продольной оси установлено отверстие канала системы охлаждения.
4. Головка по п.1, отличающаяся тем, что аксиально-симметричные эквидистантные оболочки выполнены в виде фрагментов шара или эллипсоида вращения.
RU2006136978/06A 2006-10-18 2006-10-18 Головка для аналитического газового плазматрона RU2366119C2 (ru)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006136978/06A RU2366119C2 (ru) 2006-10-18 2006-10-18 Головка для аналитического газового плазматрона
EA200802031A EA011792B1 (ru) 2006-10-18 2007-10-09 Головка для аналитического газового плазматрона
PCT/RU2007/000546 WO2008054246A1 (fr) 2006-10-18 2007-10-09 Tête de générateur de plasma gazeux analytique

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006136978/06A RU2366119C2 (ru) 2006-10-18 2006-10-18 Головка для аналитического газового плазматрона

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2006136978A RU2006136978A (ru) 2008-04-27
RU2366119C2 true RU2366119C2 (ru) 2009-08-27

Family

ID=39344504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2006136978/06A RU2366119C2 (ru) 2006-10-18 2006-10-18 Головка для аналитического газового плазматрона

Country Status (3)

Country Link
EA (1) EA011792B1 (ru)
RU (1) RU2366119C2 (ru)
WO (1) WO2008054246A1 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2677223C2 (ru) * 2017-06-06 2019-01-16 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" (ФГАОУ ВО КФУ) Способ изготовления плазмообразующих головок шестиструйного плазматрона

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2053076C1 (ru) * 1991-04-08 1996-01-27 Российский институт технологии машиностроения "Сириус" Горелка для плазменной обработки
SU1669382A1 (ru) * 1988-06-29 1996-12-10 Г.И. Щербаков Электродуговой плазмотрон
US6121571A (en) * 1999-12-16 2000-09-19 Trusi Technologies Llc Plasma generator ignition circuit
RU55525U1 (ru) * 2006-02-17 2006-08-10 Общество С Ограниченной Ответственностью "Вмк-Оптоэлектроника" Двухструйный дуговой плазматрон для атомно-эмиссионного спектрального анализа

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1588592B1 (en) * 2003-01-31 2009-12-09 Dow Corning Ireland Limited Plasma generating electrode assembly

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1669382A1 (ru) * 1988-06-29 1996-12-10 Г.И. Щербаков Электродуговой плазмотрон
RU2053076C1 (ru) * 1991-04-08 1996-01-27 Российский институт технологии машиностроения "Сириус" Горелка для плазменной обработки
US6121571A (en) * 1999-12-16 2000-09-19 Trusi Technologies Llc Plasma generator ignition circuit
RU55525U1 (ru) * 2006-02-17 2006-08-10 Общество С Ограниченной Ответственностью "Вмк-Оптоэлектроника" Двухструйный дуговой плазматрон для атомно-эмиссионного спектрального анализа

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Жеенбаев Ж.Ж.и Энгельшт B.C. Двухструйный плазматрон. - Фрунзе: Илим, 1983, с.12-15. *

Also Published As

Publication number Publication date
RU2006136978A (ru) 2008-04-27
WO2008054246A1 (fr) 2008-05-08
EA011792B1 (ru) 2009-06-30
EA200802031A1 (ru) 2009-02-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8637812B2 (en) Sample excitation apparatus and method for spectroscopic analysis
US20050258358A1 (en) Electrospray ion source apparatus
US20120104248A1 (en) Combined Ion Source for Electrospray and Atmospheric Pressure Chemical Ionization
US11056330B2 (en) Apparatus and system for active heat transfer management in ESI ion sources
US4009413A (en) Plasma jet device and method of operating same
US9704699B2 (en) Hybrid ion source and mass spectrometric device
CN111316088B (zh) 火花发射光谱仪及其操作方法
KR102279358B1 (ko) 고농도, 저온 산화질소를 생성하기 위한 장치 및 방법
CA1077125A (en) Metastable argon stabilized arc devices for spectroscopic analysis
JP4963360B2 (ja) 携帯型大気圧プラズマ発生装置
RU2366119C2 (ru) Головка для аналитического газового плазматрона
CN109979797A (zh) 一种用于质谱仪的离子源装置及其使用方法
JPH0210700A (ja) プラズマトーチ
RU61974U1 (ru) Головка для аналитического газового плазматрона
JP2014512000A (ja) 誘電体絶縁式のエレクトロスプレーイオン化法によって液状試料をイオン化し、次いで当該生成された試料イオンの質量スペクトルを分析するための方法
CN215116025U (zh) 样品离子生成设备和质谱检测系统
Kiontke et al. The requirements for low-temperature plasma ionization support miniaturization of the ion source
Li et al. Spatial–temporal evolution and plasma parameters’ diagnosis of a transverse glow discharge in atmospheric pressure air
RU2007147155A (ru) Способ и устройство плазмохимического синтеза нанообъектов
JP4829734B2 (ja) イオン移動度計およびイオン移動度計測方法
RU2298889C1 (ru) Двухструйный дуговой плазматрон для атомно-эмиссионного спектрального анализа
RU2458489C1 (ru) Двухструйный дуговой плазматрон
RU55525U1 (ru) Двухструйный дуговой плазматрон для атомно-эмиссионного спектрального анализа
RU2285358C2 (ru) Устройство для генерации плазменного потока
Fandino et al. Plasma regime transition in a needle-FAPA desorption/ionization source

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20161019