[go: up one dir, main page]

RU2290988C2 - Устройство для подачи газа в кипящий слой и способ осуществления подачи - Google Patents

Устройство для подачи газа в кипящий слой и способ осуществления подачи Download PDF

Info

Publication number
RU2290988C2
RU2290988C2 RU2005104428/12A RU2005104428A RU2290988C2 RU 2290988 C2 RU2290988 C2 RU 2290988C2 RU 2005104428/12 A RU2005104428/12 A RU 2005104428/12A RU 2005104428 A RU2005104428 A RU 2005104428A RU 2290988 C2 RU2290988 C2 RU 2290988C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
gas
fluidized bed
swirl
sieve
diaphragm
Prior art date
Application number
RU2005104428/12A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2005104428A (ru
Inventor
Клаус КРЕЙЦИ (DE)
Клаус Крейци
Петер КАММЕРХОФЕР (DE)
Петер Каммерхофер
Ингольф МИЛЬКЕ (DE)
Ингольф МИЛЬКЕ
Уве ВЕТЕРЛИНГ (DE)
Уве Ветерлинг
Original Assignee
Финнолит Технологи Гмбх Унд Ко.Кг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Финнолит Технологи Гмбх Унд Ко.Кг filed Critical Финнолит Технологи Гмбх Унд Ко.Кг
Publication of RU2005104428A publication Critical patent/RU2005104428A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2290988C2 publication Critical patent/RU2290988C2/ru

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1818Feeding of the fluidising gas
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00654Controlling the process by measures relating to the particulate material
    • B01J2208/00699Moisture content regulation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

Настоящее изобретение касается устройства и способа для подачи газа в реактор с кипящим слоем, по меньшей мере, с одной расположенной под и/или над кипящим слоем подающей газ трубой для подачи газа в кипящий слой, в котором подающая газ труба имеет в своем устье завихряющее газ средство. Посредством реактора с кипящим слоем осуществляют способ получения 1,2-дихлорэтана, в котором этилен, кислород и/или хлористый водород подают в кипящий слой, содержащий катализатор. Технический результат - улучшение подачи газа в реактор и сокращение потери катализатора, обусловленной измельчением катализатора и выносом частиц потоками газа. 3 н. и 28 з.п. ф-лы, 2 ил.

Description

Изобретение касается устройства для подачи газа в кипящий слой, а также реактора с кипящим слоем, в котором имеется такое устройство для подачи газа. Кроме того, изобретение касается способа окислительного хлорирования этилена в 1,2 дихлорэтан посредством соответствующего изобретению реактора с кипящим слоем.
Реакторы с кипящим слоем (см., например, US 6199835, DE 4305001) включают в себя обычно насыпной материал тонкозернистого твердого вещества, который обычно служит в качестве катализатора для проводящейся реакции. Вещества, подающиеся в реактор для реакции, в подавляющем большинстве случаев представляют собой газы, как и продукты реакции, получаемые в реакторе. Подача и смешивание реагентов происходит в нижней части реактора, в частности выше и/или ниже кипящего слоя. Важную роль для оптимального прохождения реакции играют при этом системы подачи и распределения газа, с помощью которых реагенты смешиваются и вступают в контакт с катализатором. Кипящий слой с помощью подведенного газа или инертного газа, поддерживается во взвешенном состоянии и имеет вследствие этого свойства, близкие к жидкости. Это облегчает отвод реакционного тепла при экзотермических реакциях в охлаждающую среду, которая циркулирует в реакторе, например, в специально для этого пригодных, встроенных устройствах, как трубопроводы. С другой стороны эндотермические реакции могут поддерживаться специальными нагревающими устройствами, например, нагревательными панелями.
После того как газообразные реагенты прошли через кипящий слой, поток газа, покидающий кипящий слой, забирает с собой частицы кипящего слоя, которые из экономических и экологических соображений должны отделяться и снова направляться в кипящий слой. Подходящие устройства для сохранения частиц кипящего слоя представляют собой, например, центробежные сепараторы и фильтры. Однако, несмотря на это, в большинстве случае не удается выделить все частицы кипящего слоя, при этом в частности теряются мелкозернистые частицы (например, пылевидный катализатор). Потери катализатора, связанные с потерей частиц кипящего слоя, представляют собой ощутимый экономический ущерб. Кроме того, катализаторы очень часто обладают токсическими свойствами или причиняют вред окружающей среде, так что их отделение и изолирование от продуктов реакции могут потребовать повышенных затрат.
Из приведенных выше соображений следует, что было бы предпочтительно по возможности в большой мере воспрепятствовать образованию мелкозернистых частиц.
Известно, что образование мелкозернистых частиц главным образом связано с процессами измельчения и истирания, проходящими внутри кипящего слоя, в трубах охлаждения и стенках реактора, или обусловлены подачей газа. Усиленному образованию мелкозернистых частиц может противостоять тот факт, что частицы кипящего слоя имеют известную прочность на истирание. При катализаторе, нанесенном на носитель, прочность на истирание по существу определяется материалом носителя. Однако применение устойчивых к истиранию (твердых) частиц кипящего слоя ведет, с другой стороны, к усиленному износу охлаждающих труб и подающих газ труб для реактора. В результате этого весьма вероятны высокие затраты на ремонт и обусловленные ремонтом остановки производства.
Поэтому задачей настоящего изобретения является создание устройства для улучшенной подачи газа в реактор с кипящим слоем, в котором с минимально возможными затратами могут быть сокращены, в частности, потери катализатора, обусловленные измельчением катализатора и выносом частиц потоками газа.
Эта задача решается с помощью устройства для подачи газа в кипящий слой по меньшей мере с одной расположенной под и/или над кипящим слоем подающей газ трубой (2, 3), отличающегося тем, что подающая газ труба (2, 3) перед и/или в своем устье имеет завихряющее газ средство.
Предпочтительные варианты осуществления изобретения приведены в зависимых пунктах формулы изобретения. В частности, кипящий слой в реакторе с кипящим слоем может располагаться преимущественно в вертикальном реакторе с кипящим слоем. При этом корпус реактора может быть выполнен в виде выдерживающего давление корпуса для восприятия газа или газов и по меньшей мере одного находящегося в нем кипящего слоя, состоящего из частиц твердого вещества.
Соответствующее изобретению устройство для подачи газа отличается при этом тем, что оно или подающая газ труба способствуют созданию завихрений транспортируемого газового потока.
Поразительным оказалось то, что измельчение катализатора может быть значительно уменьшено за счет простой модификации использованной обычным образом подводящей газ трубы, посредством которой транспортируемый в подводящей газ трубе газовый поток завихряется. Такое завихрение газового потока предположительно имеет следствием то, что профиль скорости исходящего из подающей газ трубы газового потока изменяется в пользу увеличения объемного потока вблизи стенок трубы. Например, из подводящих газ труб выходят завихренные газовые потоки с примерно постоянным по поперечному сечению подающей газ трубы профилем скорости.
В случае, когда подающие газ трубы расположены под кипящим слоем с помощью завихрения газового потока и связанной с этим модификацией профиля скорости объемного потока в значительной степени или полностью предотвращается то, что частицы кипящего слоя попадают в краевые области подающей газ трубы/труб и там измельчаются до образования мелкозернистых частиц, которые могут быть вынесены из реактора. Следовательно, предпочтительным образом может достигаться сокращение выбросов пыли.
Оказывается, что и в случае, когда подающие газ трубы расположены над кипящим слоем, уменьшается образование пыли и ее выброс. В частности, благодаря этому может быть также достигнуто снижение износа подающих газ и охлаждающих труб. Причину этого предположительно следует искать в том, что пузырьки газа при выходе газового потока не сразу отклоняются вверх.
В предпочтительных вариантах осуществления изобретения завихрение в газовом потоке, транспортируемом по подающим газ трубам, создается благодаря тому, что завихряющие газ средства, образованы сужением или расширением внутреннего канала труб, в частности на их концах со стороны выхода. Это сужение может быть, например, выполнено в форме по меньшей мере частично расположенного на внутренней окружности подающей газ трубы, например, кольцеобразного выступа. Равным образом сужение или расширение внутреннего канала может быть выполнено в форме резьбы, расположенной на внутренней поверхности трубы. В качестве особо предпочтительного варианта является то, что сужение снабжено по меньшей мере одной кромкой, в частности, одной острой кромкой, так как именно это содействует завихрению газового потока. Далее или дополнительно завихряющие газ средства могут иметь по меньшей мере одно сито, и/или по меньшей мере одну турбулентную решетку, и/или по меньшей мере одну диафрагму с отверстиями. Завихряющие газ средства могут быть расположены в устье подающей газ трубы или труб и/или перед устьем в направлении потока подающей газ трубы или труб. Газ может включать в себя этилен, кислород и/или хлористый водород.
Изобретение также относится к использованию реактора с кипящим слоем, имеющего описанное выше устройство подачи газа, в способе для получения 1,2-дихроэтана, в котором этилен, кислород и/или хлористый водород подают в кипящий слой, содержащий катализатор.
Выпуск газового потока из подающих газ труб, расположенных под кипящим слоем, осуществляется со средней скоростью в диапазоне от 0,5 до 10 м/с, предпочтительно от 3 до 6 м/с. Выпуск газового потока из подающих газ труб, расположенных над кипящим слоем, осуществляется со средней скоростью в диапазоне от 0,7 до 10 м/с, предпочтительно от 2 до 5 м/с.
Изобретение ниже более подробно поясняется с помощью описания примеров осуществления, изображенных на приложенных чертежах.
Фиг.1 - схематическое изображение реактора с кипящим слоем с традиционными подающими газ трубами для подачи газовых потоков в кипящий слой;
Фиг.2 - схематическое изображение реактора с кипящим слоем с подающими газ трубами для подачи газовых потоков в кипящий слой согласно настоящему изобретению.
На фиг.1 представлен реактор с кипящим слоем, имеющий прочный на сжатие корпус 1, кипящий слой 4 и находящееся в нем устройство для подачи газа в реактор. Устройство для подачи газа включает в себя расположенный над кипящим слоем 4 комплект подающих газ труб 3 для подачи газовых потоков сверху в кипящий слой 4, а также расположенный под кипящим слоем 4 комплект подающих газ труб 2 для подачи газовых потоков снизу в кипящий слой 4. Как схематически представлено на обоих увеличенных изображениях подающих газ труб, расположенных выше и ниже кипящего слоя 4, в соответствующих уровню техники подающих газ трубах через плоскость поперечного сечения трубы установлен по существу параболический профиль скорости газового потока. Изображенный на фиг.1 реактор имеет диаметр 28 см и высоту 2,3 м.
На фиг.2 представлен реактор с кипящим слоем с подающими газ трубами для подачи газовых потоков согласно данному изобретению, при этом отличие от реактора, изображенного на фиг.1, заключается в том, что подающие газ трубы устройства для подачи газовых потоков на фиг.2 согласно изобретению снабжены сужением внутреннего канала для завихрения газового потока. С этой целью подающие газ трубы 2, 3 на своих расположенных со стороны выхода концах имеют расположенный на внутренней окружности кольцеобразный выступ 6. Как схематически представлено на обоих увеличенных изображениях подающих газ труб, расположенных выше и ниже кипящего слоя 4, за счет кольцеобразного выступа 6 достигается уплощение известного из уровня техники параболического профиля скорости за счет увеличения скорости газового потока вблизи краев труб. В частности, профиль скорости газового потока, выходящего из трубы, становится по существу постоянным по поперечному сечению подающей газ трубы.
Реактор с кипящим слоем, представленный на фиг.2, особенно подходит, в частности, для окси-хлорирования этилена, которое описано ниже в качестве примера.
Под окси-хлорированием в общем случае понимают реакцию обмена алкена, здесь этилена, с хлористым водородом и кислородом или содержащим кислород газом, например, воздухом, при образовании насыщенного хлорированного алкена, здесь 1,2-дихлорэтана, далее EDC», по уравнению:
С2Н4+2 HCl+1/2 O2 →Cl-СН2-CH2-Cl+H2O
Для этой реакции применяется катализатор, например, в виде хлорида меди (II), нанесенного на частицы окиси алюминия. Частицы катализатора имеют, например, средний диаметр зерна около 50 μм при диапазоне от 20 до 120 μм. Плотность частиц составляет примерно 1600 кг/м3. Частицы катализатора образуют при продувке циркуляционным газом и реакционным газом кипящий слой.
В предложенный согласно изобретению реактор с кипящим слоем, представленный на фиг.2, в газообразной форме подаются нагретые до 150° реагенты. При этом смесь из 63 м3/час хлористого водорода и 17 м3/час кислорода при нормальных условиях подается в кипящий слой 4 катализатора через подающие газ трубы 3, расположенные над кипящим слоем 4. Смесь, состоящая при нормальных условиях из 32 м3/час этилена и 60 м3/час циркуляционного газа, подается в кипящий слой 4 катализатора снизу через подающие газ трубы 2 при температуре 150°С и давлении 4,7 бар. Средняя скорость потока в подающих газ трубах 2 составляет 1,3 м/сек, в подающих газ трубах 3-1,0 м/сек.
В нижней части кипящего слоя 4, в так называемой зоне смешивания, распределенные по поперечному сечению реактора реагенты смешиваются и экзотермически реагируют на катализаторе. Выделяемое при этом реакционное тепло, составляющее 238,5 кДж/мол, отводится с помощью охлаждающей трубы (не показана) в теплоноситель. Температура реакции составляет 232°С при давлении 4,2 бар.
Как показали измерения количества частиц кипящего слоя до и после реакции обмена, потери катализатора вследствие измельчения и выноса частиц катализатора отводимым газом составили примерно 7,6 г на тонну EDC.
Сравнительный пример
Для сравнения окси-хлорирование этилена для получения EDC при прочих равных условиях проводилось в традиционном реакторе с кипящим слоем согласно фиг.1. Как показали измерения количества частиц кипящего слоя, потери катализатора на тонну EDC составили примерно 48 г, т.е. превысили почти в 7 раз потери в предлагаемом согласно настоящему изобретению реакторе с кипящим слоем.

Claims (31)

1. Устройство для подачи газа в кипящий слой, по меньшей мере, с одной находящейся под и/или над кипящим слоем подающей газ трубой (2, 3), причем подающая газ труба (2, 3) в своем устье имеет завихряющее газ средство.
2. Устройство по п.1, в котором завихряющее газ средство образовано, по меньшей мере, одним сужением или расширением внутреннего канала трубы.
3. Устройство по п.2, в котором сужение имеет, по меньшей мере, одну кромку.
4. Устройство по п.1, в котором завихряющее газ средство, по меньшей мере, частично состоит из резьбы.
5. Устройство по п.2, в котором завихряющее газ средство, по меньшей мере, частично состоит из резьбы.
6. Устройство по п.3, в котором завихряющее газ средство, по меньшей мере, частично состоит из резьбы.
7. Устройство по п.1, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, один выступ (6).
8. Устройство по п.2, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, один выступ (6).
9. Устройство по п.3, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, один выступ (6).
10. Устройство по п.4, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, один выступ (6).
11. Устройство по п.5, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, один выступ (6).
12. Устройство по п.6, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, один выступ (6).
13. Устройство по п.1, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
14. Устройство по п.2, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
15. Устройство по п.3, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
16. Устройство по п.4, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
17. Устройство по п.5, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
18. Устройство по п.6, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
19. Устройство по п.7, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
20. Устройство по п.8, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
21. Устройство по п.9, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
22. Устройство по п.10, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
23. Устройство по п.11, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
24. Устройство по п.12, в котором завихряющее газ средство имеет, по меньшей мере, одно сито, по меньшей мере, одну турбулентную решетку и/или, по меньшей мере, одну диафрагму с отверстиями.
25. Устройство по одному из предыдущих пунктов, в котором газ включает в себя этилен, кислород и/или хлористый водород.
26. Реактор с кипящим слоем, который оборудован устройством по любому из пп.1-25.
27. Способ получения 1,2-дихлороэтана посредством реактора с кипящим слоем, который снабжен устройством для подачи газа по любому из пп.1-25, в котором этилен, кислород и/или хлористый водород подают в кипящий слой, содержащий катализатор.
28. Способ по п.27, в котором у расположенных под кипящим слоем (4) подающих газ труб (2) газовый поток выпускают со средней скоростью в диапазоне от 0,5 до 10 м/с.
29. Способ по п.27, в котором у расположенных под кипящим слоем (4) подающих газ труб (2) газовый поток выпускают со средней скоростью в диапазоне от 3 до 6 м/с.
30. Способ по п.27, в котором у расположенных над кипящим слоем (4) подающих газ труб (2) газовый поток выпускают со средней скоростью в диапазоне от 0,7 до 10 м/с.
31. Способ по п.27, в котором у расположенных над кипящим слоем (4) подающих газ труб (2) газовый поток выпускают со средней скоростью в диапазоне от 2 до 5 м/с.
RU2005104428/12A 2002-07-18 2003-05-26 Устройство для подачи газа в кипящий слой и способ осуществления подачи RU2290988C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10232789.0 2002-07-18
DE10232789A DE10232789A1 (de) 2002-07-18 2002-07-18 Vorrichtung zum Einleiten von Gas in ein Fließbett und Verfahren hierfür

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2005104428A RU2005104428A (ru) 2005-07-20
RU2290988C2 true RU2290988C2 (ru) 2007-01-10

Family

ID=30010205

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005104428/12A RU2290988C2 (ru) 2002-07-18 2003-05-26 Устройство для подачи газа в кипящий слой и способ осуществления подачи

Country Status (13)

Country Link
US (1) US7718138B2 (ru)
EP (1) EP1523381B1 (ru)
KR (1) KR20050025615A (ru)
CN (1) CN100534601C (ru)
AU (1) AU2003240715A1 (ru)
DE (1) DE10232789A1 (ru)
EG (1) EG25469A (ru)
HU (1) HUE025657T2 (ru)
RU (1) RU2290988C2 (ru)
TW (1) TWI329531B (ru)
UA (1) UA81768C2 (ru)
WO (1) WO2004009228A1 (ru)
ZA (1) ZA200410144B (ru)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10232789A1 (de) 2002-07-18 2004-02-05 Vinnolit Technologie Gmbh & Co.Kg Werk Gendorf Vorrichtung zum Einleiten von Gas in ein Fließbett und Verfahren hierfür
DE102005006570B4 (de) * 2005-02-11 2014-07-10 Outotec Oyj Verfahren und Vorrichtung zur Fluidisierung einer Wirbelschicht
JP2016502982A (ja) 2012-12-13 2016-02-01 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung タンパク質接着性の活性物質としての3−ヒドロキシ−4−オキソ−4h−ピランまたは3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジンの誘導体
KR102800056B1 (ko) * 2021-11-18 2025-04-23 주식회사 엘지화학 스파저 및 이를 포함하는 반응기

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4305001A1 (de) * 1993-02-18 1994-08-25 Hoechst Ag Vorrichtung zur Oxichlorierung
RU2074849C1 (ru) * 1994-09-30 1997-03-10 Акционерное общество "Саянскхимпром" Способ получения 1,2-дихлорэтана
US6199835B1 (en) * 1997-10-21 2001-03-13 Exxon Research And Engineering Company Throat and cone gas injector and gas distribution grid for slurry reactor (LAW646)

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2191919A (en) * 1936-01-21 1940-02-27 Sinclair Refining Co Art of refining
US2507325A (en) * 1947-11-17 1950-05-09 Petro Chem Process Company Inc Bubble tower construction and method of fractionating vapors
US3466021A (en) * 1967-09-14 1969-09-09 Falconbridge Nickel Mines Ltd Thermal treatments in fluidized beds
NL7101544A (ru) * 1970-02-20 1971-08-24
US4074975A (en) * 1973-05-07 1978-02-21 Nissan Motor Company, Limited Combination exhaust-gas cleaner and muffler for an automobile engine
DE2846350A1 (de) * 1978-10-25 1980-04-30 Didier Eng Anstroemboden fuer einen wirbelschichtreaktor
US4329526A (en) * 1979-12-26 1982-05-11 Monsanto Company Chlorination method
FR2559074B1 (fr) * 1984-02-07 1988-05-20 Inst Francais Du Petrole Procede et appareil pour soutirer des particules catalytiques hors d'une zone de reaction
GB8527215D0 (en) 1985-11-05 1985-12-11 Shell Int Research Solids-fluid separation
EP0281628B1 (de) * 1986-09-16 1991-02-27 Ukrainsky Nauchno-Issledovatelsky Institut Prirodnykh Gazov 'ukrniigaz' Kontakt-trennelement
US4715996A (en) * 1986-10-31 1987-12-29 Amoco Corporation Bubble cap assembly
US4874583A (en) * 1987-11-27 1989-10-17 Texaco Inc. Bubble cap assembly in an ebullated bed reactor
US5328592A (en) * 1992-12-24 1994-07-12 Uop FCC reactor with tube sheet separation
DE19514213C2 (de) * 1995-04-15 2000-02-17 Kse Kohle Stahl Und En Ges Verfahren zur energetischen Nutzung organischer Brennstoffe
US6177599B1 (en) * 1995-11-17 2001-01-23 Oxy Vinyls, L.P. Method for reducing formation of polychlorinated aromatic compounds during oxychlorination of C1-C3 hydrocarbons
DE19753165B4 (de) * 1997-12-01 2006-10-19 Vinnolit Monomer Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan durch Oxichlorierung
DE19828884C1 (de) * 1998-06-22 1999-09-16 Informations Und Prozestechnik Hochgeschwindigkeitsstoffaustauschboden
DE10232789A1 (de) 2002-07-18 2004-02-05 Vinnolit Technologie Gmbh & Co.Kg Werk Gendorf Vorrichtung zum Einleiten von Gas in ein Fließbett und Verfahren hierfür

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4305001A1 (de) * 1993-02-18 1994-08-25 Hoechst Ag Vorrichtung zur Oxichlorierung
RU2074849C1 (ru) * 1994-09-30 1997-03-10 Акционерное общество "Саянскхимпром" Способ получения 1,2-дихлорэтана
US6199835B1 (en) * 1997-10-21 2001-03-13 Exxon Research And Engineering Company Throat and cone gas injector and gas distribution grid for slurry reactor (LAW646)

Also Published As

Publication number Publication date
ZA200410144B (en) 2006-04-26
EP1523381A1 (de) 2005-04-20
EG25469A (en) 2012-01-10
AU2003240715A1 (en) 2004-02-09
KR20050025615A (ko) 2005-03-14
HUE025657T2 (en) 2016-04-28
TW200401671A (en) 2004-02-01
UA81768C2 (ru) 2008-02-11
DE10232789A1 (de) 2004-02-05
US7718138B2 (en) 2010-05-18
RU2005104428A (ru) 2005-07-20
US20050250967A1 (en) 2005-11-10
CN100534601C (zh) 2009-09-02
TWI329531B (en) 2010-09-01
EP1523381B1 (de) 2015-09-23
CN1668371A (zh) 2005-09-14
WO2004009228A1 (de) 2004-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2213446C (en) Apparatus and its use for oxychlorination
US20060292046A1 (en) Oxidation process and reactor with modified feed system
EP1575691A1 (en) Method and plant for removing gaseous pollutants from exhaust gases
JP3124455B2 (ja) ホスゲンの製造方法
CN1784264A (zh) 带有气体冷却器的流化床反应器
JPH05248769A (ja) 流動層中で気体及び粒状固体を処理する方法及び装置
CN101165032B (zh) 氧氯化装置和方法
JP2007521126A (ja) 改良された供給システムを用いる酸化方法及び反応器
RU2290988C2 (ru) Устройство для подачи газа в кипящий слой и способ осуществления подачи
CN1729273B (zh) 生产低温焦炭的方法和设备
AU2020201953B2 (en) Centrifugal aluminum chloride generator
RU2176993C2 (ru) Способ получения 1,2-дихлорэтана и устройство для его осуществления
KR100818948B1 (ko) 유동층 반응 방법 및 장치
US20070100191A1 (en) Method and device for nozzle-jetting oxygen into a synthesis reactor
US3525590A (en) Process and apparatus for the preparation of ammonia and chlorine from ammonium chloride
JP2001322954A (ja) トリクロロエチレンおよびテトラクロロエチレンの製造方法
WO2007080374A1 (en) Process and apparatus for reducing the probability of ignition in fluid bed-catalysed oxidation reactions