[go: up one dir, main page]

RU2019117660A - Биочипы, включающие пленку смолы и структурированный слой полимера - Google Patents

Биочипы, включающие пленку смолы и структурированный слой полимера Download PDF

Info

Publication number
RU2019117660A
RU2019117660A RU2019117660A RU2019117660A RU2019117660A RU 2019117660 A RU2019117660 A RU 2019117660A RU 2019117660 A RU2019117660 A RU 2019117660A RU 2019117660 A RU2019117660 A RU 2019117660A RU 2019117660 A RU2019117660 A RU 2019117660A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
poss
epoxy
resin
film
resin film
Prior art date
Application number
RU2019117660A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2760391C2 (ru
RU2019117660A3 (ru
Inventor
Уэйн Н. ДЖОРДЖ
Александр РИЧЕЗ
М. Шейн БОУЭН
Эндрю А. БРАУН
Дацзюнь ЮАНЬ
Одри Роуз ЗАК
Шон М. РАМИРЕС
Реймонд КАМПОС
Original Assignee
Иллюмина, Инк.
Иллюмина Кембридж Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Иллюмина, Инк., Иллюмина Кембридж Лимитед filed Critical Иллюмина, Инк.
Publication of RU2019117660A publication Critical patent/RU2019117660A/ru
Publication of RU2019117660A3 publication Critical patent/RU2019117660A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2760391C2 publication Critical patent/RU2760391C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12Q—MEASURING OR TESTING PROCESSES INVOLVING ENZYMES, NUCLEIC ACIDS OR MICROORGANISMS; COMPOSITIONS OR TEST PAPERS THEREFOR; PROCESSES OF PREPARING SUCH COMPOSITIONS; CONDITION-RESPONSIVE CONTROL IN MICROBIOLOGICAL OR ENZYMOLOGICAL PROCESSES
    • C12Q1/00—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions
    • C12Q1/68—Measuring or testing processes involving enzymes, nucleic acids or microorganisms; Compositions therefor; Processes of preparing such compositions involving nucleic acids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
    • C09D133/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Proteomics, Peptides & Aminoacids (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biotechnology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Claims (102)

1. Способ, включающий:
нанесение слоя гидрофобного полимера в виде схемы на пленку из поперечно-сшитой смолы полиэдрального олигомерного силсесквиоксана (POSS), содержащего эпоксигруппу, находящуюся на поверхности носителя, в результате чего дискретные участки пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS остаются доступными для воздействия;
нанесение полимерного покрытия, в результате которого получают присоединенную часть покрытия на доступных для воздействия дискретных участках и неприсоединенную часть покрытия на нанесенном в виде схемы гидрофобном слое; и
удаление неприсоединенной части покрытия с нанесенного в виде схемы гидрофобного слоя промывкой.
2. Способ по п. 1, дополнительно включающий образование пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS на поверхности носителя, где образование включает:
смешивание эпоксисилана и по меньшей мере одной мономерной единицы эпокси-POSS в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора, что приводит к образованию предшественника смолы;
нанесение предшественника смолы на поверхность носителя; и
отверждение предшественника смолы с образованием пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS.
3. Способ по п. 2, в котором смешивание и нанесение производят одновременно.
4. Способ по п. 2 или 3, в котором эпоксисилан представляет собой эпоксисилан, закрепленный на поверхности носителя.
5. Способ по п. 1, дополнительно включающий образование пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS на поверхности носителя, где образование включает:
смешивание эпоксисилана, эпоксициклогексилалкил-POSS и глицидил-POSS в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора, что приводит к образованию предшественника смолы;
нанесение предшественника смолы на поверхность носителя; и
отверждение предшественника смолы с образованием пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS.
6. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором перед нанесением в виде схемы слоя гидрофобного полимера способ дополнительно включает:
обработку пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS плазменным травлением или химическую обработку с целью введения -ОН групп в пленку из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS; и
присоединение функциональных групп к по меньшей мере некоторым из -ОН групп, где функциональные группы выбраны из группы, состоящей из
Figure 00000001
где n составляет от 1 до 20, и
где - представляет собой алкилсилан, полиэтиленгликоль-силан, алкил или цепочку полиэтиленгликоля.
7. Способ по п. 1, дополнительно включающий образование пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS на поверхности носителя, где образование включает:
проводимое в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора смешивание эпоксисилана, эпоксициклогексилалкил-POSS, глицидил-POSS и основной части POSS, включающей по меньшей мере одну функциональную эпоксигруппу и функциональную группу, не являющуюся эпоксигруппой, что приводит к образованию предшественника смолы;
нанесение предшественника смолы на поверхность носителя; и
отверждение предшественника смолы с образованием пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS.
8. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором промывка включает обработку ультразвуком в воде.
9. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором нанесение слоя гидрофобного полимера в виде схемы включает:
i) нанесение гидрофобного полимера на пленку из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS; и создание схемы из осажденного гидрофобного полимера с помощью по меньшей мере одной из следующих методик: наноимпринтной литографии и фотолитографии; или
ii) нанесение гидрофобного полимера в виде схемы на пленку из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS с помощью по меньшей мере одной из следующих методик: струйной печати и микроконтактной печати.
10. Способ по любому из предшествующих пунктов, дополнительно включающий прививку праймера амплификации к присоединенной части покрытия.
11. Биочип, включающий:
носитель;
пленку из поперечно-сшитой смолы полиэдрального олигомерного силсесквиоксана (POSS), содержащего эпоксигруппу, находящуюся на поверхности носителя;
слой гидрофобного полимера, нанесенный в виде схемы на пленку из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS, где нанесенный в виде схемы слой гидрофобного полимера ограничивает доступные для воздействия дискретные участки пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS; и
полимерное покрытие, присоединенное к доступным для воздействия дискретным участкам.
12. Биочип по п. 11, в котором:
материал нанесенного в виде схемы гидрофобного слоя выбран из группы, состоящей из фторполимера, негативного фоторезиста и полисилоксана; и
полимерное покрытие включает повторяющуюся единицу, имеющую Формулу (I):
Figure 00000002
где:
R1 представляет собой Н или необязательно замещенный алкил;
RA выбран из группы, состоящей из азидогруппы, необязательно замещенной аминогруппы, необязательно замещенного алкенила, необязательно замещенного гидразона, необязательно замещенного гидразина, карбоксила, гидроксигруппы, необязательно замещенного тетразола, необязательно замещенного тетразина, нитрилоксида, нитрона и тиола;
R5 выбран из группы, состоящей из Н и необязательно замещенного алкила;
каждая из групп -(СН2)p- может быть необязательно замещена;
р представляет собой целое число, составляющее от 1 до 50;
n представляет собой целое число, составляющее от 1 до 50000; и
m представляет собой целое число, составляющее от 1 до 100000.
13. Биочип по п. 11 или 12, дополнительно включающий праймер амплификации, привитый к полимерному покрытию.
14. Способ, включающий:
образование слоя гидрофобного полимера, нанесенного в виде схемы на пленку из смолы модифицированного, содержащего эпоксидные группы полиэдрального олигомерного силсесквиоксана (POSS), находящуюся на поверхности носителя, причем дискретные участки пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS остаются доступными для воздействия, и пленка из смолы модифицированного эпокси-POSS включает сайт инициирования роста полимера; и
выращивание полимерной щетки на сайте инициирования роста полимера в доступных для воздействия дискретных участках.
15. Способ по п. 14, дополнительно включающий образование пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS на поверхности носителя, где образование включает:
смешивание эпоксисилана, по меньшей мере одной мономерной единицы эпокси-POSS и функционализированного эпоксидной группой агента роста цепи в полимеризации или агента роста цепи в контролируемой радикальной полимеризации (CRP) в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора, что приводит к образованию предшественника смолы;
нанесение предшественника смолы на поверхность носителя; и
отверждение предшественника смолы с образованием пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS.
16. Способ по п. 15, в котором смешивание и нанесение производят одновременно.
17. Способ по п. 15 или 16, в котором эпоксисилан представляет собой эпоксисилан, закрепленный на поверхности носителя.
18. Способ по п. 14, дополнительно включающий образование пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS, где образование включает:
смешивание эпоксисилана, эпоксициклогексилалкил-POSS, глицидил-POSS и функционализированного эпоксидной группой агента роста цепи в полимеризации или агента роста цепи в контролируемой радикальной полимеризации (CRP) в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора, что приводит к образованию предшественника смолы;
нанесение предшественника смолы на поверхность носителя; и
отверждение предшественника смолы с образованием пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS.
19. Способ по любому из пп. 15-18, в котором функционализированный эпоксидной группой агент роста цепи в CRP представляет собой функционализированный эпоксидной группой агент роста цепи в полимеризации с переносом цепи посредством обратимого присоединения и фрагментирования (RAFT) или функционализированный эпоксидной группой инициатор радикальной полимеризации с переносом атома (ATRP).
20. Способ по п. 18, в котором молярное или массовое отношение количества эпоксициклогексилалкил-POSS и глицидил-POSS к количеству функционализированного эпоксидной группой агента роста цепи в CRP составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 9:1.
21. Способ по любому из пп. 14-20, дополнительно включающий:
обработку пленки смолы эпокси-POSS плазменным травлением или химическую обработку с целью введения -ОН групп в пленку смолы эпокси-POSS;
присоединение функциональных групп к по меньшей мере некоторым из -ОН групп; и
присоединение агентов роста цепи в контролируемой радикальной полимеризации (CRP) к по меньшей мере некоторым из функциональных групп.
22. Способ по п. 21, в котором функциональные группы выбраны из группы, состоящей из:
Figure 00000003
где n составляет от 1 до 20, и
где - представляет собой алкилсилан, полиэтиленгликоль-силан, алкил или цепочку полиэтиленгликоля.
23. Способ по п. 14, дополнительно включающий образование пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS, где образование включает:
проводимое в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора смешивание эпоксисилана, эпоксициклогексилалкил-POSS, глицидил-POSS и основной части POSS, включающей по меньшей мере одну функциональную эпоксигруппу и функциональную группу агента роста цепи в контролируемой радикальной полимеризации (CRP), что приводит к образованию предшественника смолы;
нанесение предшественника смолы на поверхность носителя; и
отверждение предшественника смолы с образованием пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS.
24. Способ по п. 14, дополнительно включающий образование пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS, где образование включает:
проводимое в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора смешивание эпоксисилана, эпоксициклогексилалкил-POSS, глицидил-POSS и основной части POSS, включающей по меньшей мере одну функциональную эпоксигруппу и функциональную группу, не являющуюся эпоксигруппой, что приводит к образованию предшественника смолы;
нанесение предшественника смолы на поверхность носителя;
отверждение предшественника смолы с образованием пленки из смолы первоначально модифицированного эпокси-POSS; и
введение функциональной группы агента роста цепи в контролируемой радикальной полимеризации (CRP) в пленку из смолы первоначально модифицированного эпокси-POSS, что приводит к образованию пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS.
25. Способ по любому из пп. 14-24, в котором нанесение слоя гидрофобного полимера в виде схемы включает:
i) нанесение гидрофобного полимера на пленку из смолы модифицированного эпокси-POSS; и создание схемы из осажденного гидрофобного полимера с помощью по меньшей мере одной из следующих методик: наноимпринтной литографии и фотолитографии; или
ii) нанесение гидрофобного полимера в виде схемы на пленку из смолы модифицированного эпокси-POSS с помощью структурированной печати.
26. Биочип, включающий:
носитель;
пленку из смолы модифицированного, содержащего эпоксидные группы полиэдрального олигомерного силсесквиоксана (POSS), находящуюся на поверхности носителя, где пленка из смолы модифицированного эпокси-POSS включает сайт инициирования роста полимера;
нанесенный в виде схемы на пленку из смолы модифицированного эпокси-POSS слой гидрофобного полимера, где нанесенный в виде схемы слой гидрофобного полимера ограничивает доступные для воздействия дискретные участки пленки из смолы модифицированного эпокси-POSS; и
полимерную щетку, присоединенную к сайту инициирования роста полимера в доступных для воздействия дискретных участках.
27. Биочип по п. 26, дополнительно включающий праймер амплификации, привитый к полимерной щетке.
28. Композиция, включающая:
носитель; и
пленку из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS, находящуюся на поверхности носителя.
29. Композиция по п. 28, в которой пленка из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS нанесена в виде схемы, ограничивающей дискретные участки и промежуточные области, где дискретные участки необязательно представляют собой лунки.
30. Композиция по п. 28 или 29, в которой пленка из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS включает мономерные единицы, получаемые из закрепленного на носителе эпоксисилана, эпоксициклогексилалкил-POSS и глицидил-POSS.
31. Композиция по любому из пп. 28-30, дополнительно включающая слой гидрофобного полимера на пленке смолы.
32. Композиция по п. 29 или 30, дополнительно включающая слой гидрофобного полимера, находящийся на пленке смолы, где слой гидрофобного полимера нанесен в виде схемы так, что он не закрывает пленку смолы в дискретных участках или лунках, но остается на пленке смолы в промежуточных областях, находящихся на пленке смолы между дискретными участками или лунками.
33. Композиция по любому из пп. 29-32, дополнительно включающая полимерное покрытие, присоединенное к дискретным участкам пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS.
34. Способ, включающий:
образование пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS на поверхности носителя, где образование включает смешивание закрепленного на носителе эпоксисилана с одним или более функционализированными эпоксидной группой реагентами для POSS в присутствии фотокислотного генератора и необязательно сенсибилизатора, что приводит к образованию закрепленного на носителе предшественника смолы; и
отверждение предшественника смолы с образованием закрепленной на носителе пленки из поперечно-сшитой смолы эпокси-POSS.
35. Способ по п. 34, в котором один или более функционализированных эпоксидной группой реагентов для POSS включают эпоксициклогексилалкил-POSS и глицидил-POSS.
36. Способ по п. 34 или 35, дополнительно включающий реакцию поверхности носителя с эпоксисиланом, приводящую к образованию закрепленного на носителе эпоксисилана.
37. Способ по любому из пп. 34-36, дополнительно включающий образование слоя гидрофобного полимера на поперечно-сшитой, закрепленной на носителе пленке смолы эпокси-POSS, находящейся на поверхности носителя, где слой гидрофобного полимера нанесен в виде схемы так, что он не закрывает пленку смолы в дискретных участках или лунках, но остается на пленке смолы в промежуточных областях, находящихся на пленке смолы между дискретными участками или лунками.
RU2019117660A 2016-12-22 2017-12-20 Биочипы, включающие пленку смолы и структурированный слой полимера RU2760391C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662438024P 2016-12-22 2016-12-22
US62/438,024 2016-12-22
PCT/US2017/067557 WO2018119053A1 (en) 2016-12-22 2017-12-20 Arrays including a resin film and a patterned polymer layer

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2019117660A true RU2019117660A (ru) 2021-01-22
RU2019117660A3 RU2019117660A3 (ru) 2021-03-23
RU2760391C2 RU2760391C2 (ru) 2021-11-24

Family

ID=62625689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019117660A RU2760391C2 (ru) 2016-12-22 2017-12-20 Биочипы, включающие пленку смолы и структурированный слой полимера

Country Status (16)

Country Link
US (4) US11512339B2 (ru)
EP (1) EP3558511A4 (ru)
JP (1) JP7123928B2 (ru)
KR (1) KR102512186B1 (ru)
CN (1) CN110248725B (ru)
AU (1) AU2017382202B2 (ru)
CA (1) CA3046532A1 (ru)
IL (1) IL267444B2 (ru)
MX (1) MX2019006705A (ru)
MY (1) MY204003A (ru)
PH (1) PH12019501411A1 (ru)
RU (1) RU2760391C2 (ru)
SA (1) SA519402158B1 (ru)
TW (1) TWI757396B (ru)
WO (1) WO2018119053A1 (ru)
ZA (1) ZA201903898B (ru)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10831102B2 (en) * 2018-03-05 2020-11-10 International Business Machines Corporation Photoactive polymer brush materials and EUV patterning using the same
PE20220773A1 (es) 2018-06-29 2022-05-16 Illumina Inc Cubetas de lectura
MX2020014054A (es) * 2018-07-20 2021-05-27 Illumina Inc Composicion de resina y celdas de flujo que incluyen la misma.
US11884976B2 (en) 2018-07-20 2024-01-30 Illumina, Inc. Resin composition and flow cells incorporating the same
BR112020026320A2 (pt) * 2018-12-17 2021-03-30 Illumina, Inc. Células de fluxo, kits de sequenciamento e método
TWI857000B (zh) * 2019-01-29 2024-10-01 美商伊路米納有限公司 流體槽以及將複合物引入至流體槽之方法
TWI857001B (zh) 2019-01-29 2024-10-01 美商伊路米納有限公司 定序套組
TWI873119B (zh) 2019-01-29 2025-02-21 美商伊路米納有限公司 流通槽及製備其之方法
US20230061438A1 (en) 2019-12-18 2023-03-02 Roche Sequencing Solutions, Inc. Methods of sequencing by synthesis using a consecutive labeling scheme
BR112021026592A2 (pt) * 2019-12-20 2022-06-21 Illumina Inc Células de fluxo
US20240011975A1 (en) * 2020-09-15 2024-01-11 3M Innovative Properties Company Nanopatterned Films with Patterned Surface Chemistry
US20220170918A1 (en) * 2020-11-30 2022-06-02 Palamedrix, Inc. Substrate for single molecule organization
US12060448B2 (en) 2021-01-05 2024-08-13 Illumina, Inc. Compositions including functional groups coupled to substrates, and methods of making the same
BR112023022509A2 (pt) * 2021-04-30 2024-01-02 Illumina Cambridge Ltd Célula de fluxo e métodos
US20240033738A1 (en) * 2022-07-27 2024-02-01 Illumina, Inc. Flow cell based motion system calibration and control methods
KR20250068552A (ko) * 2022-09-19 2025-05-16 일루미나, 인코포레이티드 핵산 시퀀싱 시스템에서 입자 클러스터링을 위한 이중 작용성 및 온도 반응성을 갖는 나노겔 입자
WO2025122370A1 (en) * 2023-12-04 2025-06-12 W.R. Grace & Co.-Conn. Polyol functionalized colloidal silica and methods of production

Family Cites Families (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1991006678A1 (en) 1989-10-26 1991-05-16 Sri International Dna sequencing
RU2041261C1 (ru) 1993-08-11 1995-08-09 Институт молекулярной биологии им.В.А.Энгельгардта РАН Способ изготовления матрицы для детектирования мисматчей
FR2729406B1 (fr) 1995-01-16 1997-04-18 Rhone Poulenc Chimie Utilisation a titre d'antiadherent et/ou d'hydrofugeant de polyorganosiloxanes fonctionnalises, greffes
US6391937B1 (en) 1998-11-25 2002-05-21 Motorola, Inc. Polyacrylamide hydrogels and hydrogel arrays made from polyacrylamide reactive prepolymers
US6372813B1 (en) 1999-06-25 2002-04-16 Motorola Methods and compositions for attachment of biomolecules to solid supports, hydrogels, and hydrogel arrays
US6664061B2 (en) 1999-06-25 2003-12-16 Amersham Biosciences Ab Use and evaluation of a [2+2] photoaddition in immobilization of oligonucleotides on a three-dimensional hydrogel matrix
JP2004513619A (ja) 2000-07-07 2004-05-13 ヴィジゲン　バイオテクノロジーズ　インコーポレイテッド リアルタイム配列決定
WO2002044425A2 (en) 2000-12-01 2002-06-06 Visigen Biotechnologies, Inc. Enzymatic nucleic acid synthesis: compositions and methods for altering monomer incorporation fidelity
US7057026B2 (en) 2001-12-04 2006-06-06 Solexa Limited Labelled nucleotides
SI3363809T1 (sl) 2002-08-23 2020-08-31 Illumina Cambridge Limited Modificirani nukleotidi za polinukleotidno sekvenciranje
JP2004189840A (ja) 2002-12-10 2004-07-08 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物
TWI310119B (en) 2003-02-26 2009-05-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Silsequioxane resin, positive photoresist composition, resist laminar body and resist pattern formation method
US20040202622A1 (en) 2003-03-14 2004-10-14 L'oreal S.A. EPOSS containing cosmetics and personal care products
US7282241B2 (en) * 2003-04-22 2007-10-16 International Business Machines Corporation Patterned, high surface area substrate with hydrophilic/hydrophobic contrast, and method of use
US7223517B2 (en) * 2003-08-05 2007-05-29 International Business Machines Corporation Lithographic antireflective hardmask compositions and uses thereof
US20050136538A1 (en) * 2003-12-17 2005-06-23 Srikant Pathak Lithographic method for attaching biological cells to a solid substrate using a small molecule linker
JP2007525571A (ja) 2004-01-07 2007-09-06 ソレクサ リミテッド 修飾分子アレイ
US20050192409A1 (en) 2004-02-13 2005-09-01 Rhodes Larry F. Polymers of polycyclic olefins having a polyhedral oligosilsesquioxane pendant group and uses thereof
WO2006044078A2 (en) 2004-09-17 2006-04-27 Pacific Biosciences Of California, Inc. Apparatus and method for analysis of molecules
US7405281B2 (en) 2005-09-29 2008-07-29 Pacific Biosciences Of California, Inc. Fluorescent nucleotide analogs and uses therefor
SG170802A1 (en) 2006-03-31 2011-05-30 Solexa Inc Systems and devices for sequence by synthesis analysis
US8795782B2 (en) 2006-08-18 2014-08-05 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Polymeric coatings and methods for forming them
AU2007309504B2 (en) 2006-10-23 2012-09-13 Pacific Biosciences Of California, Inc. Polymerase enzymes and reagents for enhanced nucleic acid sequencing
US8597630B2 (en) 2007-04-19 2013-12-03 University Of Massachusetts Thermal-responsive polymer networks, compositions, and methods and applications related thereto
US8293354B2 (en) 2008-04-09 2012-10-23 The Regents Of The University Of Michigan UV curable silsesquioxane resins for nanoprint lithography
US8114301B2 (en) 2008-05-02 2012-02-14 Micron Technology, Inc. Graphoepitaxial self-assembly of arrays of downward facing half-cylinders
US8198028B2 (en) 2008-07-02 2012-06-12 Illumina Cambridge Limited Using populations of beads for the fabrication of arrays on surfaces
JP4793603B2 (ja) 2009-02-06 2011-10-12 信越化学工業株式会社 撥水性微粒子及びその製造方法
KR101104224B1 (ko) * 2009-06-15 2012-01-10 주식회사 이그잭스 유-무기 하이브리드 접착제
KR101295858B1 (ko) 2009-07-23 2013-08-12 다우 코닝 코포레이션 더블 패터닝 방법 및 물질
US20120219793A1 (en) 2009-11-10 2012-08-30 Nathan Fritz Polyhedral oligomeric silsesquioxane compositions, methods of using these compositions, and structures including these compositions
EP2718465B1 (en) 2011-06-09 2022-04-13 Illumina, Inc. Method of making an analyte array
EP2566311A1 (en) 2011-09-02 2013-03-06 Atotech Deutschland GmbH Direct plating method
US8778849B2 (en) * 2011-10-28 2014-07-15 Illumina, Inc. Microarray fabrication system and method
SG11201402261SA (en) 2011-12-07 2014-08-28 Georgia Tech Res Inst Packaging compatible wafer level capping of mems devices
US9012022B2 (en) 2012-06-08 2015-04-21 Illumina, Inc. Polymer coatings
KR20140004960A (ko) 2012-07-03 2014-01-14 한국전자통신연구원 광경화성 폴리에틸렌글리콜 실세스퀴옥산, 이로부터 제조된 폴리에틸렌글리콜 실세스퀴옥산 네트워크, 이를 포함하는 항생물부착성 장치 및 나노 패턴의 제조방법
US9139739B2 (en) 2012-07-13 2015-09-22 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Method for preparing micro-patterned superhydrophobic/superhydrophilic coatings
CN103146146B (zh) 2013-01-24 2015-06-17 厦门大学 一种基于poss的具有可控相结构的环氧纳米复合材料
US9512422B2 (en) 2013-02-26 2016-12-06 Illumina, Inc. Gel patterned surfaces
IL273519B2 (en) 2013-07-01 2023-04-01 Illumina Inc Surface activation and polymer assembly without a catalyst
AU2014312043A1 (en) * 2013-08-30 2016-02-25 Illumina France Manipulation of droplets on hydrophilic or variegated-hydrophilic surfaces
EP3084523B1 (en) 2013-12-19 2019-07-03 Illumina, Inc. Substrates comprising nano-patterning surfaces and methods of preparing thereof
KR102383005B1 (ko) * 2014-06-27 2022-04-05 코닝 인코포레이티드 에폭시/옥세테인 화합물에 기초한 유리용 uv-경화 코팅 조성물, 에폭시 관능화된 실세스퀴옥산 및 에폭시 관능화된 나노입자
CN114805710B (zh) 2014-10-31 2023-11-17 伊鲁米纳剑桥有限公司 聚合物以及dna共聚物涂层
TWI529207B (zh) 2014-12-04 2016-04-11 財團法人工業技術研究院 光壓印樹脂組成物溶液、光壓印樹脂薄膜與圖案化的方法
JP6516459B2 (ja) 2014-12-05 2019-05-22 東京応化工業株式会社 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20250369034A1 (en) 2025-12-04
US20240209412A1 (en) 2024-06-27
EP3558511A4 (en) 2020-11-25
US20230109614A1 (en) 2023-04-06
BR112019013076A2 (pt) 2020-02-04
CA3046532A1 (en) 2018-06-28
WO2018119053A1 (en) 2018-06-28
SA519402158B1 (ar) 2023-03-14
US12398416B2 (en) 2025-08-26
RU2760391C2 (ru) 2021-11-24
IL267444B1 (en) 2024-08-01
JP2020503854A (ja) 2020-02-06
CN110248725B (zh) 2022-08-02
KR20190099489A (ko) 2019-08-27
KR102512186B1 (ko) 2023-03-20
NZ754278A (en) 2024-08-30
US11932900B2 (en) 2024-03-19
CN110248725A (zh) 2019-09-17
MY204003A (en) 2024-07-31
ZA201903898B (en) 2023-12-20
EP3558511A1 (en) 2019-10-30
PH12019501411A1 (en) 2020-06-08
JP7123928B2 (ja) 2022-08-23
IL267444B2 (en) 2024-12-01
TWI757396B (zh) 2022-03-11
US11512339B2 (en) 2022-11-29
MX2019006705A (es) 2019-11-08
AU2017382202B2 (en) 2022-06-09
US20180179575A1 (en) 2018-06-28
TW201840665A (zh) 2018-11-16
AU2017382202A1 (en) 2019-06-20
IL267444A (en) 2019-08-29
RU2019117660A3 (ru) 2021-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2019117660A (ru) Биочипы, включающие пленку смолы и структурированный слой полимера
JP6756729B2 (ja) 新規シロキサンポリマー組成物及びそれらの使用
US9169421B2 (en) Method of producing structure containing phase-separated structure, method of forming pattern, and top coat material
CN102754034B (zh) 具有含氮环的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物
CN1737685B (zh) 用于浸渍光刻技术的组合物和工艺
KR101764259B1 (ko) 설파이드 결합을 갖는 실리콘 함유 레지스트 하층막 형성 조성물
US6258506B1 (en) Ultraviolet-curable polysiloxane composition and method for the formation of cured patterns therefrom
JP2006504785A5 (ru)
KR20140138881A (ko) 자기조직화막의 하층막 형성 조성물
WO1999009457A1 (en) Resist resin, resist resin composition, and process for patterning therewith
RU2019117478A (ru) Устройство для выдавливания рельефа
KR20140103857A (ko) 패턴 형성 방법 및 패턴 반전막 재료
WO2002046841A1 (en) Active components and photosensitive resin compositions containing the same
JP6394042B2 (ja) パターン形成用組成物及びパターン形成方法
JP2012511619A5 (ru)
JP2015501296A (ja) メルカプト基を含有する多官能基の多面体オリゴマーシルセスキオキサン化合物及びその組成物、並びにインプリント用ソフトテンプレート
US9567477B2 (en) Undercoat agent and method of producing structure containing phase-separated structure
US20160293408A1 (en) Composition for pattern formation, pattern-forming method, and block copolymer
JPWO2013073505A1 (ja) パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法
TW200938591A (en) Silsesquioxane resins
KR102231829B1 (ko) 상 분리 구조를 함유하는 구조체의 제조 방법, 패턴 형성 방법 및 미세 패턴 형성 방법
KR20140097202A (ko) 패턴-형성 방법
WO2006121150A1 (ja) （メタ）アクリルアミド誘導体、重合体、化学増幅型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法
JP2008024920A5 (ja) エポキシ化合物、エポキシ樹脂、光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物、微細構造体、その製造方法および液体吐出ヘッド
KR20080075797A (ko) 전자 장비 제조