RU2013108192A - Способ нанесения покрытия на субстрат путем химического осаждения из паровой фазы - Google Patents
Способ нанесения покрытия на субстрат путем химического осаждения из паровой фазы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2013108192A RU2013108192A RU2013108192/02A RU2013108192A RU2013108192A RU 2013108192 A RU2013108192 A RU 2013108192A RU 2013108192/02 A RU2013108192/02 A RU 2013108192/02A RU 2013108192 A RU2013108192 A RU 2013108192A RU 2013108192 A RU2013108192 A RU 2013108192A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate
- flame
- cooling
- relative
- relative velocity
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 8
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 title 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 title 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 11
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims abstract 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims abstract 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 claims 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/311—Coatings for devices having potential barriers for photovoltaic cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
- C23C16/402—Silicon dioxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/453—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/129—Flame spraying
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02S—GENERATION OF ELECTRIC POWER BY CONVERSION OF INFRARED RADIATION, VISIBLE LIGHT OR ULTRAVIOLET LIGHT, e.g. USING PHOTOVOLTAIC [PV] MODULES
- H02S40/00—Components or accessories in combination with PV modules, not provided for in groups H02S10/00 - H02S30/00
- H02S40/10—Cleaning arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F19/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one photovoltaic cell covered by group H10F10/00, e.g. photovoltaic modules
- H10F19/80—Encapsulations or containers for integrated devices, or assemblies of multiple devices, having photovoltaic cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
Abstract
1. Способ нанесения покрытия на субстрат (2), где указанный субстрат содержит на своей поверхности материал, отличающийся от силиконового каучука, или состоит из него, методом химического осаждения из паровой фазы с помощью пламени, где субстрат подвергают воздействию пламени, производимого горелкой (1), при этом поток элементов-предшественников добавляют в указанное пламя, и где субстрат подвергают относительному перемещению относительно указанного пламени, где пламя растягивается вдоль реакционной зоны (3), расположенной сзади горелки, и где относительная скорость перемещения субстрата относительно пламени выше 30 м/мин, где не осуществляют внешнее охлаждение на субстрате во время указанного относительного перемещения.2. Способ по п.1, где субстрат содержит на своей поверхности термочувствительный материал или состоит из него.3. Способ по п.1, где субстрат охлаждают периодически путем отдаления субстрата от пламени и возвращения в пламя в течение последовательных интервалов времени.4. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности материал на основе сложного полиэфира. или органический материал, либо состоит из него.5. Способ по п.1, где субстрат представляет собой металлический субстрат, окрашенный слоем краски на основе сложного полиэфира или органической пленкой.6. Способ по п.4, где применяют периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 40 м/мин до 110 м/мин.7. Способ по п.4, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 110 м/мин до 140 м/мин.8. Способ по любому �
Claims (26)
1. Способ нанесения покрытия на субстрат (2), где указанный субстрат содержит на своей поверхности материал, отличающийся от силиконового каучука, или состоит из него, методом химического осаждения из паровой фазы с помощью пламени, где субстрат подвергают воздействию пламени, производимого горелкой (1), при этом поток элементов-предшественников добавляют в указанное пламя, и где субстрат подвергают относительному перемещению относительно указанного пламени, где пламя растягивается вдоль реакционной зоны (3), расположенной сзади горелки, и где относительная скорость перемещения субстрата относительно пламени выше 30 м/мин, где не осуществляют внешнее охлаждение на субстрате во время указанного относительного перемещения.
2. Способ по п.1, где субстрат содержит на своей поверхности термочувствительный материал или состоит из него.
3. Способ по п.1, где субстрат охлаждают периодически путем отдаления субстрата от пламени и возвращения в пламя в течение последовательных интервалов времени.
4. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности материал на основе сложного полиэфира. или органический материал, либо состоит из него.
5. Способ по п.1, где субстрат представляет собой металлический субстрат, окрашенный слоем краски на основе сложного полиэфира или органической пленкой.
6. Способ по п.4, где применяют периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 40 м/мин до 110 м/мин.
7. Способ по п.4, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 110 м/мин до 140 м/мин.
8. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности стекло или состоит из него, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет выше 30 м/мин и вплоть до 80 м/мин.
9. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности полистирол или состоит из него, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 60 м/мин до 100 м/мин.
10. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности полиметилметакрилат или состоит из него, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 60 м/мин до 110 м/мин.
11. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности полипропилен или текстиль или состоит из него, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 120 м/мин до 140 м/мин.
12. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности поликарбонат или состоит из него, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 60 м/мин до 140 м/мин.
13. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности ламинат или дерево или состоит из него, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 40 м/мин до 100 м/мин.
14. Способ по любому из пп.1-3, где субстрат содержит на своей поверхности поливинилхлорид или состоит из него, где не применяют ни внешнее охлаждение, ни периодическое охлаждение, и где относительная скорость перемещения субстрата составляет от 90 м/мин до 100 м/мин.
15. Способ по любому из пп.1-3, где доля потока предшественника относительно потока газа горелки составляет от 1,9·10-6 до 2,8·10-6, и/или где температура предварительного подогрева субстрата составляет от 40°C до 75°C.
16. Способ по любому из пп.1-3, где элементы-предшественники конфигурированы так, чтобы образовывать покрытие диоксидом кремния.
17. Применение способа по п.8 или 12 при изготовлении фотоэлементов, содержащих слой стекла или поликарбоната, где слой диоксида кремния наносят на указанный слой стекла или поликарбоната.
18. Способ по п.1, где субстрат содержит на своей поверхности термочувствительный материал или состоит из него, где нанесение покрытия происходит за две или более чем две стадии нанесения покрытия на возможно предварительно подогретый субстрат, причем каждая стадия нанесения покрытия состоит из ряда последовательных проходов по одной и той же части субстрата, причем каждый проход состоит из перемещения субстрата относительно пламени со скоростью более 30 м/мин, и где после каждой стадии нанесения покрытия субстрат подвергают стадии охлаждения, где субстрат охлаждается до своей исходной температуры.
19. Способ по п.18, где субстрат отдаляют от пламени после каждой стадии в течение достаточно длительного периода времени, чтобы дать возможность субстрату охладиться в условиях окружающего воздуха до своей исходной температуры.
20. Способ по п.18, где субстрат отдаляют от пламени после каждой стадии и охлаждают до его исходной температуры путем форсированного охлаждения.
21. Способ по любому из пп.18-20, где указанный термочувствительный материал представляет собой полипропилен (PP), поливинилхлорид (PVC) или сополимер акрилонитрила, бутадиена и стирола (ABS).
22. Способ по п.21, где указанный термочувствительный материал представляет собой PP, и где:
- относительная скорость между пламенем и субстратом составляет от 80 м/мин до 200 м/мин,
- каждая стадия включает два или три прохода,
- время охлаждения между стадиями составляет по меньшей мере 2 мин,
- субстрат предварительно подогревают до температуры от 40°C до 75°C.
23. Способ по п.21, где указанный термочувствительный материал представляет собой PVC, и где;
- относительная скорость между пламенем и субстратом составляет от 60 м/мин до 80 м/мин,
- каждая стадия включает два или три прохода,
- время охлаждения между стадиями составляет по меньшей мере 10 мин,
- субстрат предварительно не подогревают.
24. Способ по п.21, где указанный термочувствительный материал представляет собой ABS, и где:
- относительная скорость между пламенем и субстратом составляет от 80 м/мин до 200 м/мин,
- каждая стадия включает два или три прохода,
- время охлаждения между стадиями составляет по меньшей мере 10 мин,
- субстрат предварительно не подогревают.
25. Способ по п.18, где:
- поток предшественника составляет от 200 мкл/мин до 600 мкл/мин,
- доля потока предшественника относительно потока газа горелки (топливный газ + воздух) составляет от 0,9·10-6 до 2,8·10-6 (литр предшественник/литр газ),
- расстояние между горелкой и субстратом составляет от 10 мм до 15 мм.
26. Способ по п.18, где число стадий составляет 3 или 4.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP10174302 | 2010-08-27 | ||
| EP10174302.9 | 2010-08-27 | ||
| EP11157010.7 | 2011-03-04 | ||
| EP11157010.7A EP2495349B1 (en) | 2011-03-04 | 2011-03-04 | Method for depositing a coating on a substrate by chemical vapour deposition |
| PCT/EP2011/064759 WO2012025627A1 (en) | 2010-08-27 | 2011-08-26 | Method for depositing a coating on a substrate by chemical vapour deposition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2013108192A true RU2013108192A (ru) | 2014-10-10 |
| RU2555273C2 RU2555273C2 (ru) | 2015-07-10 |
Family
ID=45722929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2013108192/02A RU2555273C2 (ru) | 2010-08-27 | 2011-08-26 | Способ нанесения покрытия на субстрат путем химического осаждения из паровой фазы |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20130252373A1 (ru) |
| RU (1) | RU2555273C2 (ru) |
| WO (1) | WO2012025627A1 (ru) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9228785B2 (en) | 2010-05-04 | 2016-01-05 | Alexander Poltorak | Fractal heat transfer device |
| WO2018013668A1 (en) | 2016-07-12 | 2018-01-18 | Alexander Poltorak | System and method for maintaining efficiency of a heat sink |
| CN111433549A (zh) | 2017-07-17 | 2020-07-17 | 分形散热器技术有限责任公司 | 多重分形散热器系统及方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE302863T1 (de) * | 1999-07-02 | 2005-09-15 | Ngimat Co | Verfahren zur beschichtung von keramiken mittels ccvd |
| FR2854086B1 (fr) * | 2003-04-23 | 2007-03-30 | Saint Gobain Pont A Mousson | Procede de revetement par flamme et dispositif correspondant |
| DE102004029911B4 (de) | 2003-06-20 | 2006-11-23 | Innovent E.V. Technologieentwicklung | Verfahren und Anordnung zur Herstellung anorganischer Schichten |
| JP2005246193A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 複合皮膜の製造方法、溶射用粒子、複合皮膜及びそれを用いた放射線画像変換パネル |
| DE102004019575A1 (de) * | 2004-04-20 | 2005-11-24 | Innovent E.V. Technologieentwicklung | Verfahren zur Herstellung von transmissionsverbessernden und/oder reflexionsmindernden optischen Schichten |
| EP1874978A2 (en) * | 2004-12-10 | 2008-01-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Combustion chemical vapor deposition on temperature-sensitive substrates |
| US20090232983A1 (en) * | 2004-12-10 | 2009-09-17 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Substrate temperature control for combustion chemical vapor deposition |
| US20060193982A1 (en) * | 2005-01-25 | 2006-08-31 | Magna International Inc. | Method of painting thermoplastic substrate |
| EP1882052B1 (de) * | 2005-05-19 | 2012-08-01 | Raumedic Ag | Verfahren zum modifizieren einer silikonkautschukoberfläche |
| CH697933B1 (de) * | 2005-11-03 | 2009-03-31 | Tetra Laval Holdings & Finance | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Kunststofffolien mit einer Oxidschicht. |
| US8197908B2 (en) | 2008-03-14 | 2012-06-12 | Hestia Tec, Llc | Method for preparing electrically conducting materials |
| US8231730B2 (en) * | 2008-06-09 | 2012-07-31 | Guardian Industries Corp. | Combustion deposition burner and/or related methods |
| US9637820B2 (en) * | 2009-12-28 | 2017-05-02 | Guardian Industries Corp. | Flame guard and exhaust system for large area combustion deposition line, and associated methods |
-
2011
- 2011-08-26 WO PCT/EP2011/064759 patent/WO2012025627A1/en not_active Ceased
- 2011-08-26 US US13/819,246 patent/US20130252373A1/en not_active Abandoned
- 2011-08-26 RU RU2013108192/02A patent/RU2555273C2/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20130252373A1 (en) | 2013-09-26 |
| RU2555273C2 (ru) | 2015-07-10 |
| WO2012025627A1 (en) | 2012-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2013108192A (ru) | Способ нанесения покрытия на субстрат путем химического осаждения из паровой фазы | |
| Patel et al. | Influence of power and temperature on properties of sputtered AZO films | |
| JP2015530427A5 (ru) | ||
| TW200704729A (en) | Process for producing a thin glasslike coating on substrates for reducing gas permeation | |
| JP2011528383A5 (ru) | ||
| WO2010085764A3 (en) | Method, apparatus, and compositions making anti-reflective coatings for substrates | |
| DE50307132D1 (de) | Bauteile mit kristallinen beschichtungen des systems aluminiumoxid/siliziumoxid und verfahren zu deren herstellung | |
| TW201612185A (en) | Chemically stable alkyl aluminum solution and hydrolysate composition solution, composition for aluminum oxide film coating formation, method for producing same, method for producing passivation film, passivation film, and solar cell element using same | |
| BRPI0517889A (pt) | artigo de vidro revestido resistente a arranhão incluindo camada(s) resistente(s) a gravador(es) baseado(s) em fluoreto, e processo de fabricação de artigo usando combustão cvd | |
| ATE541065T1 (de) | Verfahren zur herstellung von dünnschichten und vorrichtungen | |
| WO2006061785A3 (en) | Combustion chemical vapor deposition on temperature-sensitive substrates | |
| US20240287674A1 (en) | Composite film applied to flexible substrate, preparation method therefor, and product thereof | |
| CN201071403Y (zh) | 一种上进上出的垂直喷淋式mocvd反应器 | |
| TW201033148A (en) | Method for producing glass substrate having silicon oxide film attached thereto | |
| Theelen et al. | Localised plasma deposition of organosilicon layers on polymer substrates | |
| WO2006061784A3 (en) | Substrate temperature control for combustion chemical vapor deposition | |
| TW200725704A (en) | Method and apparatus for fabricating polycrystalline silicon film using transparent substrate | |
| TW201619702A (zh) | 感光性組合物、具圖案之基板、細胞培養支撐體及培養細胞之製造方法 | |
| TW200702302A (en) | Method of manufacturing diamond film and application thereof | |
| JP2017010967A5 (ru) | ||
| JPS5351187A (en) | Gas phase chemical evaporation apparatus | |
| Rath et al. | Dewetting of thin UHV-deposited organic films | |
| CN111081743B (zh) | 显示面板的制造方法及显示面板 | |
| CN202180624U (zh) | 环保型pet-abs光亮膜 | |
| JP6287634B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、その製造方法、およびこれを用いた電子デバイス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HZ9A | Changing address for correspondence with an applicant | ||
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20190827 |