RU2003200C1 - Способ получени алмазных и алмазоподобных пленок из газовой фазы - Google Patents
Способ получени алмазных и алмазоподобных пленок из газовой фазыInfo
- Publication number
- RU2003200C1 RU2003200C1 SU5007516A RU2003200C1 RU 2003200 C1 RU2003200 C1 RU 2003200C1 SU 5007516 A SU5007516 A SU 5007516A RU 2003200 C1 RU2003200 C1 RU 2003200C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- diamond
- substrate
- film
- production
- gaseous phase
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
через плазменный поток со скоростью 0,10- 10 м/мин (в зависимости от материала подложки ). Количество прохождений подложки через зону реакции выбираетс равным или большим единице.
Пример. Подложку из кремни устанавливают на перемещающемс столике, расположенном на определенном рассто нии от плазмотронов. Газова смесь метана с водородом, формируема путем смешени газов, поступающих из баллонов, с помощью устройства ввода подаетс в плазменный поток, образованный четырьм сход щимис стру ми инертного газа, в место их сли ни . Подвижный столик, на котором установлена подложка, может быть снабжен системой охлаждени . При пересечении подложкой плазменного потока на ее поверхности осаждаетс поликристаллическа алмазна или аморфна алмазоподоб- на пленка - в зависимости от процентного содержани метана в водороде.
Установлено, что при содержании 1-2% метана в водороде на подложке наблюдаетс рост алмазоподобной пленки гидрогени- зированного углерода, а при содержании 5-10% метана в водороде растет поликри0
сталлическа алмазна пленка. Скорость роста в обоих случа х составл ет 1 мкм/с. При этом наблюдаетс высока адгези пленки к подложке.
В качестве подложки могут быть использованы различные материалы: металлы, включа алюминий, сталь, титан и молибден; полупроводниковые материалы типа кремни и германи ; диэлектрики, такие как двуокись кремни , различные стекла, нитрид титана, оксид алюмини ; различные полимеры, включа полиэтилен, полиуретан , кремний- или фторорганические полимеры и другие материалы.
Дл оптических окон могут быть использованы временные подложки из меди, золота и т.д.
По сравнению с известными данный способ позвол ет при высокой адгезии зна- 0 чительно (приблизительно на два пор дка) увеличить производительность процесса.
(56) J.Appl. Phys. 1991. v.68. № 11. р.5941- 5943.
5 J.Appl. Phys. 1990, v.68, № 12, p.6187- 6190.
5
Claims (1)
- Формула изобретениСПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АЛМАЗНЫХ И АЛМАЗОПОДОБНЫХ ПЛЕНОК ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ, включающий формирование зоны реакции потоком плазмы, подачу в нее смеси углеводородов с водородом и осаждение на подложку пленки, отличающийс тем, что, с целью увеличени скорости роста пленок, формируют поток плазмы по меньшей мере трем осесим- метрично расположенными сход щимис стру ми низкотемпературной плазмы атмосферного давлени , при этом осаждение пленки провод т при прохождении подложки через зону реакции не менее одного раза.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU5007516 RU2003200C1 (ru) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | Способ получени алмазных и алмазоподобных пленок из газовой фазы |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU5007516 RU2003200C1 (ru) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | Способ получени алмазных и алмазоподобных пленок из газовой фазы |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2003200C1 true RU2003200C1 (ru) | 1993-11-15 |
Family
ID=21587950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU5007516 RU2003200C1 (ru) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | Способ получени алмазных и алмазоподобных пленок из газовой фазы |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2003200C1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9506143B2 (en) | 2009-09-11 | 2016-11-29 | Imott Inc. | Protective film and method for producing same |
-
1991
- 1991-11-01 RU SU5007516 patent/RU2003200C1/ru active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9506143B2 (en) | 2009-09-11 | 2016-11-29 | Imott Inc. | Protective film and method for producing same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0676484B1 (en) | Transparent diamond films and method for making | |
| JPH0333641B2 (ru) | ||
| EP0559329A2 (en) | Method for producing uniform cylindrical tubes of CVD diamond | |
| Schmidt et al. | Low temperature diamond growth using fluorinated hydrocarbons | |
| US4910163A (en) | Method for low temperature growth of silicon epitaxial layers using chemical vapor deposition system | |
| RU2003200C1 (ru) | Способ получени алмазных и алмазоподобных пленок из газовой фазы | |
| Hall | The thermal decomposition of germane | |
| US5381755A (en) | Method of synthesizing high quality, doped diamond and diamonds and devices obtained therefrom | |
| US5667852A (en) | Plasma jet CVD method of depositing diamond or diamond-like films | |
| Allendorf | From Bunsen to VLSI | |
| Zhu et al. | Diamond thin films synthesized by a multinozzle oxy-acetylene chemical vapour deposition method | |
| EP0423884A1 (en) | Method for deposition of silicon nitride layers on glass substrates | |
| EP0413974B1 (en) | Method of making a single crystal CVD diamond | |
| López et al. | ArF-excimer laser induced chemical vapour deposition of amorphous hydrogenated SiGeC films | |
| JP2645867B2 (ja) | ダイヤモンド膜の析出方法 | |
| JPH04300291A (ja) | ダイヤモンド膜作製方法 | |
| Komanduri et al. | Polycrystalline Diamond films and single crystal Diamonds grown by combustion synthesis | |
| JP2584485B2 (ja) | 気相法ダイヤモンドの合成法 | |
| Zhu et al. | Uniformity and Surface Properties of Diamond Films made by Tilted Oxyacetylene Combustion Flames | |
| Kim et al. | Diamond film synthesis in low pressure premixed flames of different fuel types | |
| JP2649430B2 (ja) | ダイヤモンド単結晶膜の製造方法及びそれにより得られたダイヤモンド単結晶膜 | |
| Wolden et al. | 3. Combustion Flame Deposition | |
| JPH04219337A (ja) | ダイヤモンドの合成方法および装置 | |
| JPH02184023A (ja) | 多層構造体のグロー放電析出法 | |
| JPH01305896A (ja) | ダイヤモンド気相合成方法 |