KR20220023973A - A method for manufacturing an adhesive sheet, an intermediate laminate, an intermediate laminate, and a manufacturing method for a product laminate - Google Patents
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Abstract
점착 시트(1)는, 기재(2) 및 기재(2)의 일방면에 배치되는 점착층(3)을 구비한다. 점착층(3)은, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.The adhesive sheet 1 is provided with the base material 2 and the adhesion layer 3 arrange|positioned on one side of the base material 2 . The adhesive layer 3 is made of a pressure-sensitive adhesive composition in which the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced by an external stimulus, and the state can be irreversibly changed into a high adhesive force and a low adhesive force by an external stimulus.
Description
본 발명은 점착 시트, 중간 적층체, 중간 적층체의 제조 방법 및 제품 적층체의 제조 방법에 관한 것으로, 상세하게는 점착 시트, 그 점착 시트를 이용하여 얻어지는 중간 적층체, 그 중간 적층체를 제조하는 방법, 및 그 중간 적층체를 이용하여 얻어지는 제품 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, an intermediate laminate, an intermediate laminate, and a method for producing a product laminate, in particular, an intermediate laminate obtained by using the pressure-sensitive adhesive sheet, the intermediate laminate obtained by using the pressure-sensitive adhesive sheet, and the intermediate laminate It is related with the manufacturing method of the product laminated body obtained using the method of doing this, and the intermediate|middle laminated body.
종래, 표면 보호 및 내충격성 부여의 관점에서, 전자 디바이스의 표면에 보강 필름을 첩부하는 것이 알려져 있다.Conventionally, it is known to stick a reinforcement film on the surface of an electronic device from a viewpoint of surface protection and impact resistance provision.
이와 같은 보강 필름으로서, 광경화성 조성물로 이루어지는 점착제층을 구비하고, 피착체와의 접착 후에, 점착제층을 광경화하는 것에 의해, 피착체와의 접착력이 상승하는 보강 필름이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).As such a reinforcing film, there is known a reinforcing film in which adhesion to an adherend is increased by providing an adhesive layer made of a photocurable composition and photocuring the adhesive layer after adhesion to an adherend (for example, , see Patent Document 1).
이와 같은 보강 필름을 피착체에 첩부하면, 점착제층을 광경화시키기 전에는, 접착력이 작기 때문에, 리워크가 용이한 한편, 점착제층을 광경화시킨 후에는, 접착력이 높아지기 때문에, 피착체를 보강할 수 있다.When such a reinforcing film is attached to an adherend, rework is easy because the adhesive force is small before photocuring the pressure-sensitive adhesive layer. can
한편, 이와 같은 보강 필름의 전부를 잔존시키지 않고, 보강 필름의 일부를 박리시키고 싶다는 요망이 있다.On the other hand, there is a desire to peel a part of the reinforcement film without leaving all of the reinforcement film.
이와 같은 경우에는, 잔존시키고 싶은 부분(이하, 잔존 부분으로 한다.)에 광을 조사하고, 박리하고 싶은 부분(이하, 박리 부분으로 한다.)에는, 광을 조사하지 않는다. 그렇게 하면, 잔존 부분의 접착력은 강하기 때문에, 그대로 잔존시킬 수 있고, 박리 부분의 접착력은 낮기 때문에, 박리할 수 있다.In such a case, light is irradiated to the part to remain|survive (it is set as a residual part hereafter), and light is not irradiated to the part to peel (it is set as a peeling part hereafter). Then, since the adhesive force of a residual part is strong, it can be made to remain|survive as it is, and since the adhesive force of a peeling part is low, it can peel.
한편, 박리 부분을 박리하기 위해서는, 우선, 잔존 부분과 박리 부분의 경계를 절단하고, 박리 부분의 단(端)을 기점으로 해서, 박리 부분을 박리하지만, 잔존 부분과 박리 부분을, 육안으로 구별할 수 없기 때문에, 상기의 경계를 시각적으로 판별할 수 없다는 문제가 있다.On the other hand, in order to peel the peeling part, first, the boundary between the residual part and the peeling part is cut|disconnected, and the peeling part is peeled using the edge of the peeling part as a starting point, but a residual part and a peeling part are visually distinguished. Since this cannot be done, there is a problem that the above boundary cannot be visually determined.
본 발명은, 피착체에 첩부 후, 임의의 부분에 외부 자극을 주는 것에 의해, 임의의 부분만을 잔존 또는 제거할 수 있는 점착 시트, 그 점착 시트를 이용하여 얻어지는 중간 적층체, 그 중간 적층체를 제조하는 방법, 및 그 중간 적층체를 이용하여 얻어지는 제품 적층체의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet capable of remaining or removing only an arbitrary portion by applying an external stimulus to an arbitrary portion after affixing to an adherend, an intermediate laminate obtained using the pressure-sensitive adhesive sheet, and the intermediate laminate It is to provide the manufacturing method of the product laminated body obtained using the manufacturing method and the intermediate|middle laminated body.
본 발명[1]은, 기재 및 상기 기재의 일방면에 배치되는 점착층을 구비하고, 상기 점착층은, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어지는, 점착 시트이다.The present invention [1] includes a substrate and an adhesive layer disposed on one side of the substrate, wherein the adhesive layer can decrease visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by an external stimulus, and adhesive strength by the external stimulus It is an adhesive sheet which consists of an adhesive composition which can irreversibly change state in this high state and the state with low adhesive force.
본 발명[2]는, 상기 외부 자극이 활성 에너지선 조사인, 상기 [1]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.The present invention [2] includes the pressure-sensitive adhesive sheet according to the above [1], wherein the external stimulus is irradiation with an active energy ray.
본 발명[3]은, 상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 1 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 제 1 점착성 조성물은, 폴리머와, 제 1 광경화제와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 포함하는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.In the present invention [3], the adhesive layer can decrease the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy ray, and from a state of high adhesion to a state of low adhesion by irradiation with active energy ray, irreversibly The [ 1] or the adhesive sheet as described in [2] is included.
본 발명[4]는, 상태 변화 전의 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 6×104Pa 이상 9×104Pa 이하이고, 상태 변화 후의 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 2.00×106Pa 이상 5.00×106Pa 이하인, 상기 [3]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.In the present invention [4], the shear storage modulus G' at 25°C of the pressure-sensitive adhesive layer before state change is 6×10 4 Pa or more and 9×10 4 Pa or less, and shear storage at 25° C. of the pressure-sensitive adhesive layer after the change of state The adhesive sheet according to [3], wherein the elastic modulus G' is 2.00×10 6 Pa or more and 5.00×10 6 Pa or less, is included.
본 발명[5]는, 상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 2 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 제 2 점착성 조성물은, 폴리머와, 제 2 광경화제와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 포함하는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.In the present invention [5], the adhesive layer can reduce the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy ray, and from a state of low adhesion to a state of high adhesion by irradiation with active energy ray, irreversibly The [ 1] or the adhesive sheet as described in [2] is included.
본 발명[6]은, 상태 변화 전의 상기 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 1×104Pa 이상 1.2×105Pa 이하이고, 상태 변화 후의 상기 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 1.5×105Pa 이상 2.0×106Pa 이하인, 상기 [5]에 기재된 점착 시트를 포함하고 있다.In the present invention [6], the shear storage modulus G' at 25° C. of the pressure-sensitive adhesive layer before the change of state is 1×10 4 Pa or more and 1.2×10 5 Pa or less, and the pressure-sensitive adhesive layer at 25° C. The adhesive sheet according to [5], wherein the shear storage modulus G' is 1.5×10 5 Pa or more and 2.0×10 6 Pa or less.
본 발명[7]은, 기재 및 상기 기재의 일방면에 배치되는 점착층을 구비한 점착 시트와, 상기 점착 시트의 일방면에 배치되는 피착체를 구비하고, 상기 점착층은, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 점착층은, 점착력이 높은 상태의 점착성 조성물로 이루어지는 고점착 영역과, 점착력이 낮은 상태의 점착성 조성물로 이루어지는 저점착 영역을 구비하고, 상기 고점착 영역 및 상기 저점착 영역 중 어느 한쪽은, 다른 쪽보다도 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은, 중간 적층체이다.The present invention [7] is provided with an adhesive sheet having a substrate and an adhesive layer disposed on one side of the substrate, and an adherend disposed on one side of the adhesive sheet, wherein the adhesive layer is formed by an external stimulus. Visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced, and the adhesive composition can be irreversibly changed in a state of high adhesive force and low adhesive force by the external stimulus, and the adhesive layer is in a state of high adhesive force. A high-adhesion region made of a pressure-sensitive adhesive composition and a low-adhesion region made of a pressure-sensitive adhesive composition with low adhesive strength, wherein either one of the high-adhesion region and the low-adhesion region has a smaller visible light transmittance at a wavelength of 550 nm than the other. , is an intermediate laminate.
본 발명[8]은, 상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 1 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 고점착 영역은, 상태 변화 전의 상기 제 1 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 저점착 영역은, 상태 변화 후의 상기 제 1 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 저점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 상기 고점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작은, 상기 [7]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.In the present invention [8], the adhesive layer can reduce the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy ray, and from a state of high adhesion to a state of low adhesion by irradiation with active energy ray, irreversibly Consists of a state-changeable first adhesive composition, wherein the high-adhesion region consists of the first adhesive composition before the state change, and the low-adhesion region consists of the first adhesive composition after the state change, and the low-adhesion region and the intermediate laminate according to [7], wherein the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm in the region is smaller than the visible light transmittance in the high-adhesion region at a wavelength of 550 nm.
본 발명[9]는, 상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 2 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 저점착 영역은, 상태 변화 전의 상기 제 2 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 고점착 영역은, 상태 변화 후의 상기 제 2 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 고점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 상기 저점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작은, 상기 [7]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.In the present invention [9], the adhesive layer is capable of lowering the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy ray, and is irreversibly from a state of low adhesion to a state of high adhesion by irradiation with active energy ray. Consists of a state-changeable second adhesive composition, wherein the low-adhesion region consists of the second adhesive composition before the state change, and the high-adhesion region consists of the second adhesive composition after the state change, and the high-adhesion region and the intermediate laminate according to the above [7], wherein the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the region is smaller than the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the low adhesion region.
본 발명[10]은, 기재 및 상기 기재의 일방면에 배치되고, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어지는 점착층을 구비한 점착 시트를 준비하는 공정, 상기 점착 시트의 일방면에 피착체를 배치하는 공정, 및 상기 점착층의 일부에 상기 외부 자극을 주어, 상기 점착층에, 상기 외부 자극이 주어진 자극 부분과, 상기 외부 자극이 주어져 있지 않은 비자극 부분을 형성하는 것에 의해, 상기 자극 부분 및 상기 비자극 부분 중 어느 한쪽이, 점착력이 높은 상태의 고점착 영역이 되고, 다른 쪽이 점착력이 낮은 상태의 저점착 영역이 되며, 또한 상기 자극 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 상기 비자극 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 공정을 구비하는, 중간 적층체의 제조 방법이다.The present invention [10] is arranged on one side of a substrate and the substrate, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced by an external stimulus, and a state with high adhesion and a state with low adhesion by the external stimulus, A step of preparing an adhesive sheet having an adhesive layer made of an adhesive composition capable of irreversibly changing its state, a step of arranging an adherend on one side of the adhesive sheet, and applying the external stimulus to a part of the adhesive layer, By forming the magnetic pole portion to which the external stimulus is applied and the non-stimulation portion to which the external stimulus is not applied in the adhesive layer, either one of the magnetic pole portion and the non-stimulation portion becomes a high-adhesive region with high adhesive force , the other side becomes a low-adhesion region with low adhesive force, and further comprising a step of making the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the magnetic pole portion smaller than the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the non-stimulating portion. manufacturing method.
본 발명[11]은, 상기 점착층이, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 1 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 자극 부분이, 상기 저점착 영역이 되고, 상기 비자극 부분이, 상기 고점착 영역이 되는, 상기 [10]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.According to the present invention [11], the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the adhesive layer can be reduced by an external stimulus, and the state can be irreversibly changed from a high adhesive force to a low adhesive force by the external stimulus. and the method for producing the intermediate laminate according to the above [10], comprising the first adhesive composition, wherein the magnetic pole portion serves as the low adhesion region and the non-stimulation portion serves as the high adhesion region.
본 발명[12]는, 상기 점착층이, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 2 점착성 조성물로 이루어지고, 상기 자극 부분이, 상기 고점착 영역이 되고, 상기 비자극 부분이, 상기 저점착 영역이 되는, 상기 [10]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [12], the visible light transmittance of the adhesive layer at a wavelength of 550 nm can be decreased by an external stimulus, and the state can be irreversibly changed from a low adhesive force to a high adhesive force by the external stimulus and the method for producing the intermediate laminate according to the above [10], comprising the second adhesive composition, wherein the magnetic pole portion serves as the high adhesion region and the non-stimulation portion serves as the low adhesion region.
본 발명[13]은, 상기 [10]∼[12] 중 어느 하나에 기재된 중간 적층체의 제조 방법에 의해 제조되는 중간 적층체를 준비하는 공정과, 상기 점착층에 있어서의 상기 저점착 영역을 제거하는 공정을 구비하는, 제품 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [13], the step of preparing an intermediate laminate produced by the method for producing an intermediate laminate according to any one of [10] to [12], and the low-adhesive region in the pressure-sensitive adhesive layer The manufacturing method of the product laminated body provided with the process of removing is included.
본 발명의 점착 시트는, 점착층을 구비하고, 점착층은, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.The adhesive sheet of the present invention includes an adhesive layer, and the adhesive layer is capable of lowering visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by an external stimulus, and is irreversibly in a state of high adhesive force and low adhesive force by external stimulus. It consists of a pressure-sensitive adhesive composition that can change state.
이 점착 시트의 일부에 외부 자극을 주면, 외부 자극을 준 부분은, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하됨과 함께, 점착력이 변화한다(점착력이 높아지거나 또는 낮아진다.).When an external stimulus is applied to a part of this pressure-sensitive adhesive sheet, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm is lowered in the portion to which the external stimulus is applied, and the adhesive force is changed (adhesive force increases or decreases).
즉, 외부 자극을 준 부분과, 외부 자극을 주고 있지 않은 부분은, 서로 점착력이 상이함과 함께, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하다.That is, the portion to which the external stimulus is applied and the portion to which the external stimulus is not applied have different adhesive strength and different visible light transmittance at a wavelength of 550 nm.
외부 자극을 준 부분과, 외부 자극을 주고 있지 않은 부분은, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하기 때문에, 외부 자극을 준 부분과, 외부 자극을 주고 있지 않은 부분의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있고, 그 결과, 외부 자극을 준 부분 및 외부 자극을 주고 있지 않은 부분 중, 상대적으로 점착력이 낮은 부분을 용이하게 제거할 수 있다.Since the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm is different between the externally stimulated part and the externally non-stimulated part, the boundary between the externally stimulated part and the externally non-stimulated part can be visually easily discriminated. As a result, it is possible to easily remove a portion having a relatively low adhesive strength among the portion to which the external stimulus is applied and the portion to which the external stimulus is not applied.
본 발명의 중간 적층체에 있어서, 점착층은, 점착력이 높은 상태의 고점착 영역과, 점착력이 낮은 상태의 저점착 영역을 구비하고, 고점착 영역 및 저점착 영역 중 어느 한쪽은, 다른 쪽보다도 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작다.In the intermediate laminate of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer includes a high-adhesion region in a high-adhesive state and a low-adhesive region in a low-adhesive state, and one of the high-adhesion region and the low-adhesion region is higher than the other. The visible light transmittance at a wavelength of 550 nm is small.
이에 의해, 고점착 영역과 저점착 영역의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있고, 그 결과, 저점착 영역을 용이하게 제거할 수 있다.Thereby, the boundary between the high-adhesion region and the low-adhesion region can be visually easily discriminated, and as a result, the low-adhesion region can be easily removed.
본 발명의 중간 적층체의 제조 방법은, 점착층의 일부에 외부 자극을 주어, 점착층에, 외부 자극이 주어진 자극 부분과, 외부 자극이 주어져 있지 않은 비자극 부분을 형성하는 것에 의해, 자극 부분 및 비자극 부분 중 어느 한쪽이, 점착력이 높은 상태의 고점착 영역이 되고, 다른 쪽이 점착력이 낮은 상태의 저점착 영역이 되며, 또한 자극 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비자극 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 공정을 구비한다.In the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, an external stimulus is applied to a part of an adhesive layer to form a stimulus part to which an external stimulus is applied and a non-stimulating part to which an external stimulus is not applied, in the adhesive layer, One of the non-stimulatory parts becomes a high-adhesion region in a state of high adhesion, and the other becomes a low-adhesion region in a state of low adhesion, and the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the magnetic pole part is at a wavelength of 550 nm of the non-stimulating part. and a step of making it smaller than the visible light transmittance of
이에 의해, 서로 점착력이 상이함과 함께, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이한 고점착 영역 및 저점착 영역을 구비하는 점착층을 구비하는 중간 적층체를 제조할 수 있다.Thereby, while mutually different adhesive force, the intermediate|middle laminated body provided with the adhesive layer provided with the high-adhesion area|region and the low-adhesion area|region from which the visible light transmittance in wavelength 550nm differs can be manufactured.
본 발명의 제품 적층체의 제조 방법은, 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법에 의해 제조되는 중간 적층체에 있어서의 점착층의 저점착 영역을 제거하는 공정을 구비한다.The manufacturing method of the product laminated body of this invention is equipped with the process of removing the low-adhesion area|region of the adhesion layer in the intermediate|middle laminated body manufactured by the manufacturing method of the intermediate|middle laminated body of this invention.
저점착 영역에 있어서의 점착력은 낮기 때문에, 저점착 영역을, 대응하는 기재와 함께 중간 적층체로부터 용이하게 제거할 수 있다. 한편, 고점착 영역은, 중간 적층체에 잔존시켜, 대응하는 기재와 함께 피착체의 보강에 이용할 수 있다.Since the adhesive force in the low tack area is low, the low tack area can be easily removed from the intermediate laminate together with the corresponding substrate. On the other hand, the high-adhesion region can be used for reinforcing the adherend together with the corresponding base material by remaining in the intermediate laminate.
[도 1] 도 1은, 본 발명의 점착 시트의 일 실시형태의 개략도를 나타낸다.
[도 2] 도 2는, 점착 시트의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 2A는, 기재를 준비하는 제 1 공정을 나타내고, 도 2B는, 기재의 일방면에, 점착층을 적층하는 제 2 공정을 나타내고, 도 2C는, 점착층 일방면에, 박리 필름을 적층하는 공정을 나타낸다.
[도 3] 도 3은, 본 발명의 중간 적층체의 일 실시형태의 개략도를 나타낸다.
[도 4] 도 4는, 점착층이 제 1 점착성 조성물에 의해 형성된 경우에 있어서의 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 4A는, 점착 시트를 준비하는 제 3 공정을 나타내고, 도 4B는, 점착 시트의 일방면에 피착체를 배치하는 제 4 공정을 나타내고, 도 4C는, 점착층의 일부에 활성 에너지선을 조사하여, 고점착 영역 및 저점착 영역을 형성하는 제 5 공정을 나타낸다.
[도 5] 도 5는, 점착층이 제 2 점착성 조성물에 의해 형성된 경우에 있어서의 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 5A는, 점착 시트를 준비하는 제 3 공정을 나타내고, 도 5B는, 점착 시트의 일방면에 피착체를 배치하는 제 4 공정을 나타내고, 도 5C는, 점착층의 일부에 활성 에너지선을 조사하여, 고점착 영역 및 저점착 영역을 형성하는 제 5 공정을 나타낸다.
[도 6] 도 6은, 제 1 점착성 조성물에 의해 점착층을 형성하는 중간 적층체의 제조 방법에 의해, 중간 적층체를 준비하는 경우에 있어서의 본 발명의 제품 적층체의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 6A는, 중간 적층체를 준비하는 제 6 공정을 나타내고, 도 6B는, 점착층에 있어서의 저점착 영역을 제거하는 제 7 공정을 나타낸다.
[도 7] 도 7은, 제 2 점착성 조성물에 의해 점착층을 형성하는 중간 적층체의 제조 방법에 의해, 중간 적층체를 준비하는 경우에 있어서의 본 발명의 제품 적층체의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 7A는, 중간 적층체를 준비하는 제 6 공정을 나타내고, 도 7B는, 점착층에 있어서의 저점착 영역을 제거하는 제 7 공정을 나타낸다.1 : shows the schematic of one Embodiment of the adhesive sheet of this invention.
Fig. 2 is a schematic view showing an embodiment of a method for manufacturing an adhesive sheet, in which Fig. 2A shows a first step of preparing a base material, and Fig. 2B shows an adhesive layer on one side of the base material. 2C shows the process of laminating|stacking a peeling film on one side of an adhesion layer.
3 : shows the schematic of one Embodiment of the intermediate|middle laminated body of this invention.
Fig. 4 is a schematic view showing one embodiment of a method for producing an intermediate laminate of the present invention in a case where an adhesive layer is formed of the first adhesive composition, and Fig. 4A is a product for preparing an
Fig. 5 is a schematic view showing one embodiment of a method for producing an intermediate laminate of the present invention in a case where an adhesive layer is formed of a second adhesive composition, and Fig. 5A is a method for preparing an
[Fig. 6] Fig. 6 is an embodiment of the manufacturing method of the product laminate of the present invention in the case of preparing the intermediate laminate by the manufacturing method of the intermediate laminate in which the adhesive layer is formed with the first adhesive composition. 6A shows the 6th process of preparing an intermediate|middle laminated body, and FIG. 6B shows the 7th process of removing the low-adhesion area|region in an adhesive layer as schematic drawing which shows a form.
7 is an embodiment of the manufacturing method of the product laminate of the present invention in the case where the intermediate laminate is prepared by the manufacturing method of the intermediate laminate in which the pressure-sensitive adhesive layer is formed with the second pressure-sensitive adhesive composition. 7A shows the 6th process of preparing an intermediate|middle laminated body, and FIG. 7B shows the 7th process of removing the low-adhesion area|region in an adhesive layer as schematic diagram showing a form.
본 발명의 점착 시트의 일 실시형태를, 도 1을 참조하여 설명한다.One Embodiment of the adhesive sheet of this invention is described with reference to FIG.
1. 점착 시트1. Adhesive sheet
도 1에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)는, 소정의 두께를 갖는 필름 형상(시트 형상을 포함한다)을 갖고, 두께 방향과 직교하는 방향(면 방향)으로 연장되고, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.1 , the pressure-
구체적으로는, 점착 시트(1)는, 기재(2)와, 기재(2)의 일방면에 배치되는 점착층(3)을 구비한다.Specifically, the pressure-
이하, 점착 시트(1)를 구성하는 각 층에 대하여, 설명한다.Hereinafter, each layer which comprises the
1-1. 기재1-1. write
기재(2)는, 점착 시트(1)의 하층이다. 기재(2)는, 점착 시트(1)의 기계 강도를 확보하는 지지층(지지재)이다. 또한, 기재(2)는, 중간 적층체(5)(후술)에 있어서, 피착체(6)(후술)를 보강하기 위한 보강재이다. 또한, 기재(2)는, 면 방향으로 연장되는 필름 형상을 갖고 있고, 평탄한 평면 및 평탄한 하면을 갖는다.The
기재(2)는, 가요성의 플라스틱 재료로 이루어진다.The
이와 같은 플라스틱 재료로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스터 수지, 예를 들면, 폴리메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴 수지(아크릴 수지 및/또는 메타크릴 수지), 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 사이클로올레핀 폴리머(COP) 등의 폴리올레핀 수지, 예를 들면, 폴리카보네이트 수지, 예를 들면, 폴리에터설폰 수지, 예를 들면, 폴리아릴레이트 수지, 예를 들면, 멜라민 수지, 예를 들면, 폴리아마이드 수지, 예를 들면, 폴리이미드 수지, 예를 들면, 셀룰로스 수지, 예를 들면, 폴리스타이렌 수지, 예를 들면, 노보넨 수지의 합성 수지 등을 들 수 있다.As such a plastic material, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, for example, (meth)acrylic resins such as polymethacrylate (acrylic resins) and/or methacrylic resin), for example polyethylene, polypropylene, polyolefin resin such as cycloolefin polymer (COP), for example polycarbonate resin, for example polyethersulfone resin, for example, polyarylate resins such as melamine resins such as polyamide resins such as polyimide resins such as cellulosic resins such as polystyrene resins such as norbornene resins. A synthetic resin etc. are mentioned.
상세하게는 후술하지만, 기재(2)측으로부터 활성 에너지선(구체적으로는, 자외선)을 조사하여 점착층(3)을 경화시키는 경우에는, 바람직하게는, 기재(2)는, 활성 에너지선(구체적으로는, 자외선)에 대한 투명성을 갖는다.Although described later in detail, when the
투명성을 갖는다는 것은, 구체적으로는, 전광선 투과율(JIS K 7375-2008)이, 예를 들면, 85% 이상, 바람직하게는 90% 이상인 것을 의미한다.Specifically, having transparency means that a total light transmittance (JIS K 7375-2008) is, for example, 85% or more, preferably 90% or more.
활성 에너지선(구체적으로는, 자외선)에 대한 투명성 및 기계 강도를 양립시키는 관점에서, 플라스틱 재료로서, 바람직하게는 폴리에스터 수지, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 들 수 있다.From a viewpoint of making transparency with respect to an active energy ray (specifically, ultraviolet-ray) and mechanical strength compatible, as a plastic material, Preferably a polyester resin, More preferably, polyethylene terephthalate (PET) is mentioned.
기재(2)의 두께는, 예를 들면, 4μm 이상, 피착체(6)(후술)를 보강하는 관점에서, 바람직하게는 20μm 이상, 보다 바람직하게는 30μm 이상, 더 바람직하게는 45μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 500μm 이하, 가요성 및 핸들링성의 관점에서, 바람직하게는 300μm 이하, 보다 바람직하게는 200μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하이다.The thickness of the
1-2. 점착층1-2. adhesive layer
점착층(3)은, 기재(2)의 일방면의 전면에 배치되고, 점착층(3)은, 점착 시트(1)의 상층이다.The
점착층(3)은, 점착 시트(1)를, 피착체(6)에 접착시키기 위한 감압 접착층이다. 또한, 점착층(3)은, 면 방향으로 연장되는 필름 형상을 갖고 있고, 평탄한 평면 및 평탄한 하면을 갖는다.The pressure-
점착층(3)은, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.The
즉, 점착성 조성물은, 동일한 외부 자극에 의해서, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능하다.That is, the pressure-sensitive adhesive composition can decrease the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by the same external stimulus, and can irreversibly change its state into a state with high adhesive force and a state with low adhesive force.
외부 자극으로서는, 예를 들면, 전자선 조사, 자외선 조사 등의 활성 에너지선 조사, 예를 들면, 가열 등을 들 수 있고, 바람직하게는 활성 에너지선 조사, 보다 바람직하게는 자외선 조사를 들 수 있다.As an external stimulus, active energy ray irradiation, such as electron beam irradiation and ultraviolet irradiation, for example, heating etc. are mentioned, for example, Preferably active energy ray irradiation, More preferably, ultraviolet irradiation is mentioned.
외부 자극이, 활성 에너지선 조사이면, 후술하는 제 5 공정에 있어서, 임의의 부분에 국소적으로 활성 에너지선을 조사할 수 있다.If the external stimulus is active energy ray irradiation, an arbitrary part can be locally irradiated with an active energy ray in the 5th process mentioned later.
외부 자극이, 활성 에너지선 조사인 경우에는, 점착성 조성물로서, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 1 점착성 조성물과, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 2 점착성 조성물을 들 수 있다.When the external stimulus is active energy ray irradiation, as an adhesive composition, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be decreased by active energy ray irradiation, and from a high adhesive force to a low adhesive force by active energy ray irradiation , The first adhesive composition capable of irreversibly changing the state, and the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced by irradiation with active energy ray, and from a state of low adhesion to a state of high adhesion by irradiation with active energy ray, irreversible A second pressure-sensitive adhesive composition capable of changing the state of
제 1 점착성 조성물은, 폴리머와, 제 1 광경화제와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 포함한다.A 1st adhesive composition contains a polymer, a 1st photocuring agent, a photoinitiator, the compound which develops color by reaction with an acid, and a photo-acid generator.
상세하게는, 제 1 점착성 조성물은, 매트릭스로서의 폴리머를 포함하고, 또한, 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능으로 하기 위해서, 제 1 광경화제와, 광중합 개시제를 포함하고, 또한, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율을 저하 가능으로 하기 위해서, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 포함한다.Specifically, the first adhesive composition contains a polymer as a matrix, and in order to irreversibly change the state from a state of high adhesion to a state of low adhesion by irradiation with active energy ray, the first photocuring agent And, a photoinitiator is included, and in order to make it possible to reduce the visible light transmittance in wavelength 550nm by active energy ray irradiation, the compound which develops color by reaction with an acid, and a photo-acid generator are included.
폴리머로서는, 예를 들면, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 유레테인계 폴리머, 고무계 폴리머 등을 들 수 있고, 광학적 투명성, 접착성, 및 저장 탄성률의 제어의 관점에서, 아크릴계 폴리머를 들 수 있다.Examples of the polymer include acrylic polymers, silicone polymers, urethane polymers, and rubber polymers, and acrylic polymers are exemplified from the viewpoint of optical transparency, adhesiveness, and control of storage modulus.
아크릴계 폴리머는, (메트)아크릴산 알킬 에스터를 주성분으로서 포함하는 모노머 성분의 중합에 의해 얻어진다.The acrylic polymer is obtained by polymerization of a monomer component containing (meth)acrylic acid alkyl ester as a main component.
(메트)아크릴산 알킬 에스터는, 아크릴산 에스터 및/또는 메타크릴산 에스터이고, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 아이소프로필, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 s-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 아이소펜틸, (메트)아크릴산 네오펜틸, (메트)아크릴산 헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 아이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 아이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 아이소데실, (메트)아크릴산 운데실, (메트)아크릴산 도데실, (메트)아크릴산 아이소트라이도데실, (메트)아크릴산 테트라데실, (메트)아크릴산 아이소테트라데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 세틸, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실, (메트)아크릴산 아이소옥타데실, (메트)아크릴산 노나데실, (메트)아크릴산 에이코실 등의 직쇄상 또는 분기상의, (메트)아크릴산 C1-20 알킬 에스터 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, 보다 바람직하게는 메타크릴산 메틸, 아크릴산 뷰틸, 아크릴산 2-에틸헥실을 들 수 있다.(meth)acrylic acid alkyl ester is acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester, for example, (meth) methyl acrylate, (meth) ethyl acrylate, (meth) acrylic acid propyl, (meth) acrylic acid butyl, (meth) Isopropyl acrylate, (meth) acrylic acid isobutyl, (meth) acrylic acid s-butyl, (meth) acrylic acid t-butyl, (meth) acrylate pentyl, (meth) acrylic acid isopentyl, (meth) acrylic acid neopentyl, (meth) Acrylic acid hexyl, (meth)acrylic acid heptyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth)acrylic acid octyl, (meth)acrylic acid isooctyl, (meth)acrylic acid nonyl, (meth)acrylic acid isononyl, (meth)acrylic acid Decyl, (meth)acrylic acid isodecyl, (meth)acrylic acid undecyl, (meth)acrylic acid dodecyl, (meth)acrylic acid isotridodecyl, (meth)acrylic acid tetradecyl, (meth)acrylic acid isotetradecyl, (meth) linear or (meth)acrylic acid pentadecyl, (meth)acrylic acid cetyl, (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl, (meth)acrylic acid isooctadecyl, (meth)acrylic acid nonadecyl, (meth)acrylic acid eicosyl, etc.; Branched (meth)acrylic acid C1-20 alkyl ester, etc. are mentioned, Preferably (meth)acrylate, (meth)acrylic acid butyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, More preferably, methyl methacrylate , butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate.
(메트)아크릴산 알킬 에스터는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.(meth)acrylic acid alkyl ester can be used individually or in combination of 2 or more types.
(메트)아크릴산 알킬 에스터로서, 유리 전이 온도 및 전단 저장 탄성률 G'를 조정하는 관점에서, 바람직하게는 메타크릴산 메틸과 (메트)아크릴산 C4-12 알킬 에스터의 병용, (메트)아크릴산 뷰틸의 단독 사용, 보다 바람직하게는 메타크릴산 메틸과 아크릴산 2-에틸헥실의 병용, 아크릴산 뷰틸의 단독 사용을 들 수 있다.As the (meth)acrylic acid alkyl ester, from the viewpoint of adjusting the glass transition temperature and the shear storage modulus G', preferably methyl methacrylate and (meth)acrylic acid C4-12 alkyl ester in combination, (meth)acrylic acid butyl alone Use, More preferably, combined use of methyl methacrylate and 2-ethylhexyl acrylate, and single use of butyl acrylate are mentioned.
(메트)아크릴산 알킬 에스터로서, 메타크릴산 메틸과 (메트)아크릴산 C4-12 알킬 에스터를 병용하는 경우에는, 메타크릴산 메틸 및 (메트)아크릴산 C4-12 알킬 에스터의 총량 100질량부에 대해서, 메타크릴산 메틸의 배합 비율은, 예를 들면, 5질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 20질량부 이하이며, 또한, (메트)아크릴산 C4-12 알킬 에스터의 배합 비율은, 예를 들면, 80질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 95질량부 이하이다.As the (meth)acrylic acid alkyl ester, when methyl methacrylate and (meth)acrylic acid C4-12 alkyl ester are used together, with respect to 100 parts by mass of the total amount of methyl methacrylate and (meth)acrylic acid C4-12 alkyl ester, The blending ratio of methyl methacrylate is, for example, 5 parts by mass or more, and for example, 20 parts by mass or less, and the blending ratio of (meth)acrylic acid C4-12 alkyl ester is, for example, , 80 parts by mass or more, and for example, 95 parts by mass or less.
(메트)아크릴산 알킬 에스터의 배합 비율은, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 50질량% 이상, 바람직하게는 60질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 97질량% 이하, 바람직하게는 80질량% 이하이다.The blending ratio of the (meth)acrylic acid alkyl ester is, for example, 50 mass % or more, preferably 60 mass % or more, with respect to the monomer component, and for example, 97 mass % or less, preferably 80 mass % or less. % or less.
또한, 모노머 성분은, 바람직하게는, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 작용기 함유 바이닐 모노머를 포함하고 있다.Further, the monomer component preferably contains a vinyl monomer having a functional group copolymerizable with the (meth)acrylic acid alkyl ester.
작용기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 하이드록실기 함유 바이닐 모노머, 카복실기 함유 바이닐 모노머, 질소 함유 바이닐 모노머, 사이아노기 함유 바이닐 모노머, 글라이시딜기 함유 바이닐 모노머, 설포기 함유 바이닐 모노머, 인산기 함유 바이닐 모노머, 방향족 바이닐 모노머, 바이닐 에스터 모노머, 바이닐 에터 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the functional group-containing vinyl monomer include a hydroxyl group-containing vinyl monomer, a carboxyl group-containing vinyl monomer, a nitrogen-containing vinyl monomer, a cyano group-containing vinyl monomer, a glycidyl group-containing vinyl monomer, a sulfo group-containing vinyl monomer, and a phosphate group-containing vinyl monomer. A vinyl monomer, an aromatic vinyl monomer, a vinyl ester monomer, a vinyl ether monomer, etc. are mentioned.
하이드록실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 4-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산 8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산 10-하이드록시데실, (메트)아크릴산 12-하이드록시라우릴, (메트)아크릴산 4-(하이드록시메틸)사이클로헥실메틸 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, 보다 바람직하게는 아크릴산 2-하이드록시에틸을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing vinyl monomer, for example, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxy Hexyl, (meth)acrylic acid 8-hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 10-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 12-hydroxylauryl, (meth)acrylic acid 4-(hydroxymethyl)cyclohexylmethyl, etc. are mentioned. and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, more preferably 2-hydroxyethyl acrylate.
카복실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 2-카복시에틸, (메트)아크릴산 카복시펜틸, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산, 보다 바람직하게는 아크릴산을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing vinyl monomer include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid 2-carboxyethyl, (meth)acrylic acid carboxypentyl, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and the like, preferably is (meth)acrylic acid, more preferably acrylic acid.
또한, 카복실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머도 들 수 있다.Moreover, as a carboxyl group containing vinyl monomer, acid anhydride group containing monomers, such as maleic anhydride and itaconic anhydride, are mentioned, for example.
질소 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, N-바이닐피롤리돈, 메틸 바이닐피롤리돈, 바이닐피리딘, 바이닐피페리돈, 바이닐피리미딘, 바이닐피페라진, 바이닐피라진, 바이닐피롤, 바이닐이미다졸, 바이닐옥사졸, 바이닐모폴린, N-아크릴로일모폴린, N-바이닐카복실산 아마이드류, N-바이닐카프로락탐 등을 들 수 있고, 바람직하게는 N-바이닐피롤리돈을 들 수 있다.Examples of the nitrogen-containing vinyl monomer include N-vinylpyrrolidone, methyl vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyl. Oxazole, vinylmorpholine, N-acryloylmorpholine, N-vinylcarboxylic acid amides, N-vinylcaprolactam, etc. are mentioned, Preferably N-vinylpyrrolidone is mentioned.
사이아노기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴로나이트릴 등을 들 수 있다.As a cyano group containing vinyl monomer, (meth)acrylonitrile etc. are mentioned, for example.
글라이시딜기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 글라이시딜 등을 들 수 있다.As a glycidyl group containing vinyl monomer, (meth)acrylic-acid glycidyl etc. are mentioned, for example.
설포기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 스타이렌설폰산, 알릴설폰산 등을 들 수 있다.As a sulfo group containing vinyl monomer, styrene sulfonic acid, allyl sulfonic acid, etc. are mentioned, for example.
인산기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸아크릴로일 포스페이트 등을 들 수 있다.As a phosphoric acid group containing vinyl monomer, 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate etc. are mentioned, for example.
방향족 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 스타이렌, p-메틸스타이렌, o-메틸스타이렌, α-메틸스타이렌 등을 들 수 있다.As an aromatic vinyl monomer, styrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, (alpha)-methylstyrene etc. are mentioned, for example.
바이닐 에스터 모노머로서는, 예를 들면, 아세트산 바이닐, 프로피온산 바이닐 등을 들 수 있다.As a vinyl ester monomer, vinyl acetate, vinyl propionate, etc. are mentioned, for example.
바이닐 에터 모노머로서는, 예를 들면, 메틸 바이닐 에터 등을 들 수 있다.As a vinyl ether monomer, methyl vinyl ether etc. are mentioned, for example.
작용기 함유 바이닐 모노머는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다. 가교제(후술)가 배합되는 경우에는, 폴리머에 가교 구조를 도입하는 관점에서, 바람직하게는 하이드록실기 함유 바이닐 모노머, 카복실기 함유 바이닐 모노머를 들 수 있고, 또한, 응집력의 향상의 관점에서, 바람직하게는 질소 함유 바이닐 모노머를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 하이드록실기 함유 바이닐 모노머 및/또는 카복실기 함유 바이닐 모노머와, 질소 함유 바이닐 모노머를 병용하거나, 카복실기 함유 바이닐 모노머를 단독 사용한다.The functional group-containing vinyl monomer may be used alone or in combination of two or more. When a crosslinking agent (described later) is blended, from the viewpoint of introducing a crosslinked structure to the polymer, preferably a hydroxyl group-containing vinyl monomer and a carboxyl group-containing vinyl monomer are mentioned, and from the viewpoint of improving cohesive force, it is preferable Preferably, a nitrogen-containing vinyl monomer is mentioned, More preferably, a hydroxyl group-containing vinyl monomer and/or a carboxyl group-containing vinyl monomer and a nitrogen-containing vinyl monomer are used in combination, or a carboxyl group-containing vinyl monomer is used alone.
하이드록실기 함유 바이닐 모노머 및/또는 카복실기 함유 바이닐 모노머와, 질소 함유 바이닐 모노머를 병용하는 경우에는, 하이드록실기 함유 바이닐 모노머 및/또는 카복실기 함유 바이닐 모노머와, 질소 함유 바이닐 모노머의 총량 100질량부에 대해서, 하이드록실기 함유 바이닐 모노머 및/또는 카복실기 함유 바이닐 모노머의 배합 비율은, 예를 들면, 40질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 60질량부 이하이며, 또한, 질소 함유 바이닐 모노머의 배합 비율은, 예를 들면, 40질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 60질량부 이하이다.When using a hydroxyl group containing vinyl monomer and/or a carboxyl group containing vinyl monomer, and a nitrogen containing vinyl monomer together, 100 mass of total amount of a hydroxyl group containing vinyl monomer and/or a carboxyl group containing vinyl monomer, and a nitrogen containing vinyl monomer With respect to parts, the blending ratio of the hydroxyl group-containing vinyl monomer and/or the carboxyl group-containing vinyl monomer is, for example, 40 parts by mass or more, and for example, 60 parts by mass or less, and further, nitrogen-containing vinyl The compounding ratio of the monomer is, for example, 40 parts by mass or more, and is, for example, 60 parts by mass or less.
작용기 함유 바이닐 모노머의 배합 비율은, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 5질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 15질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 30질량% 이하이다.The blending ratio of the functional group-containing vinyl monomer is, for example, 5 mass % or more, preferably 10 mass % or more, more preferably 15 mass % or more, and, for example, 30 mass % with respect to the monomer component. is below.
그리고, 아크릴계 폴리머는, 상기한 모노머 성분을 중합하여 이루어지는 중합체이다.And the acrylic polymer is a polymer formed by superposing|polymerizing the above-mentioned monomer component.
모노머 성분을 중합시키기 위해서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 알킬 에스터와, 필요에 따라, 작용기 함유 바이닐 모노머를 배합하여 모노머 성분을 조제하고, 이것을, 예를 들면, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합 등의 공지된 중합 방법에 의해 조제한다.In order to polymerize the monomer component, for example, (meth)acrylic acid alkyl ester and, if necessary, a functional group-containing vinyl monomer is blended to prepare a monomer component, and this is, for example, solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization It prepares by well-known polymerization methods, such as
중합 방법으로서는, 바람직하게는 용액 중합을 들 수 있다.As a polymerization method, Preferably solution polymerization is mentioned.
용액 중합에서는, 예를 들면, 용매에, 모노머 성분과, 중합 개시제를 배합하여, 모노머 용액을 조제하고, 그 후, 모노머 용액을 가열한다.In solution polymerization, a monomer component and a polymerization initiator are mix|blended with a solvent, for example, a monomer solution is prepared, and a monomer solution is heated after that.
용매로서는, 예를 들면, 유기 용매 등을 들 수 있다.As a solvent, an organic solvent etc. are mentioned, for example.
유기 용매로서는, 예를 들면, 톨루엔, 벤젠, 자일렌 등의 방향족 탄화수소계 용매, 예를 들면, 다이에틸 에터 등의 에터계 용매, 예를 들면, 아세톤, 메틸 에틸 케톤 등 케톤계 용매, 예를 들면, 아세트산 에틸 등의 에스터계 용매, 예를 들면, N,N-다이메틸폼아마이드 등의 아마이드계 용매를 들 수 있고, 바람직하게는 에스터계 용매, 보다 바람직하게는 아세트산 에틸을 들 수 있다.Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene, and xylene, ether solvents such as diethyl ether, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, For example, ester solvents, such as ethyl acetate, For example, amide solvents, such as N,N- dimethylformamide, are mentioned, Preferably an ester solvent is mentioned, More preferably, ethyl acetate is mentioned.
용매는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A solvent can be used individually or can use 2 or more types together.
용매의 배합 비율은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들면, 100질량부 이상, 바람직하게는 200질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 500질량부 이하, 바람직하게는 300질량부 이하이다.The mixing ratio of the solvent is, for example, 100 parts by mass or more, preferably 200 parts by mass or more, and for example, 500 parts by mass or less, preferably 300 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the monomer component. am.
중합 개시제로서는, 예를 들면, 퍼옥사이드계 중합 개시제, 아조계 중합 개시제 등을 들 수 있다.As a polymerization initiator, a peroxide type polymerization initiator, an azo type polymerization initiator, etc. are mentioned, for example.
퍼옥사이드계 중합 개시제로서는, 예를 들면, 퍼옥시카보네이트, 케톤 퍼옥사이드, 퍼옥시케탈, 하이드로퍼옥사이드, 다이알킬 퍼옥사이드, 다이아실 퍼옥사이드, 퍼옥시 에스터 등의 유기 과산화물을 들 수 있다.Examples of the peroxide-based polymerization initiator include organic peroxides such as peroxycarbonate, ketone peroxide, peroxyketal, hydroperoxide, dialkyl peroxide, diacyl peroxide, and peroxyester.
아조계 중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸뷰티로나이트릴), 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스아이소뷰티르산 다이메틸 등의 아조 화합물을 들 수 있다.As the azo polymerization initiator, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis(2, Azo compounds, such as 4-dimethylvaleronitrile) and 2,2'- azobisisobutyrate dimethyl, are mentioned.
중합 개시제로서, 바람직하게는 아조계 중합 개시제, 보다 바람직하게는 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴을 들 수 있다.As a polymerization initiator, Preferably it is an azo type polymerization initiator, More preferably, 2,2'- azobisisobutyronitrile is mentioned.
중합 개시제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A polymerization initiator can be used individually or can use 2 or more types together.
중합 개시제의 배합 비율은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.05질량부 이상, 바람직하게는 0.1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 1질량부 이하, 바람직하게는 0.5질량부 이하이다.The mixing ratio of the polymerization initiator is, for example, 0.05 parts by mass or more, preferably 0.1 parts by mass or more, and for example, 1 part by mass or less, preferably 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer component. is below.
가열 온도는, 예를 들면, 50℃ 이상 80℃ 이하이고, 가열 시간은, 예를 들면, 1시간 이상 8시간 이하이다.The heating temperature is, for example, 50°C or more and 80°C or less, and the heating time is, for example, 1 hour or more and 8 hours or less.
이에 의해, 모노머 성분을 중합하여, 아크릴계 폴리머를 포함하는 아크릴계 폴리머 용액을 얻는다.Thereby, a monomer component is superposed|polymerized and the acrylic polymer solution containing an acrylic polymer is obtained.
아크릴계 폴리머 용액의 고형분 농도는, 예를 들면, 20질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 80질량% 이하이다.The solid content concentration of the acrylic polymer solution is, for example, 20 mass% or more, and is, for example, 80 mass% or less.
아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 예를 들면, 100000 이상, 바람직하게는 300000 이상, 보다 바람직하게는 500000 이상이고, 또한, 예를 들면, 5000000 이하, 바람직하게는 3000000 이하, 보다 바람직하게는 2000000 이하이다.The weight average molecular weight of the acrylic polymer is, for example, 100000 or more, preferably 300000 or more, more preferably 500000 or more, and for example, 5000000 or less, preferably 3000000 or less, more preferably 2000000 or less. am.
한편, 상기의 중량 평균 분자량은, GPC(겔 퍼미에이션 크로마토그래프)에 의해 측정하고, 폴리스타이렌 환산에 의해 산출된 값이다.In addition, said weight average molecular weight is the value computed by polystyrene conversion by measuring by GPC (gel permeation chromatography).
아크릴계 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 예를 들면, -100℃ 이상, 바람직하게는 -80℃ 이상, 보다 바람직하게는 -40℃ 이상이고, 또한, 예를 들면, -10℃ 이하, 바람직하게는 -5℃ 이하, 보다 바람직하게는 0℃ 이하이다.The glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer is, for example, -100°C or higher, preferably -80°C or higher, more preferably -40°C or higher, and further, for example, -10°C or lower, preferably Preferably it is -5 °C or less, More preferably, it is 0 °C or less.
한편, 유리 전이 온도는, 문헌이나 카탈로그 등에 기재된 값이거나, 혹은 하기 식(1)(Fox식)에 기초하여 계산된 값이다.In addition, a glass transition temperature is a value described in literature, a catalog, etc., or is a value calculated based on following formula (1) (Fox formula).
1/Tg=W1/Tg1+W2/Tg2+···+Wn/Tgn (1)1/Tg=W 1 /Tg 1 +W 2 /Tg 2 +...+W n /Tg n (1)
상기 식(1)에 있어서, Tg는 폴리머(A)의 유리 전이 온도(단위: K)를 나타내고, Tgi(i=1, 2,···n)는, 모노머 i가 호모폴리머를 형성했을 때의 유리 전이 온도(단위: K)를 나타내고, Wi(i=1, 2,···n)는, 모노머 i의 전체 모노머 성분 중의 질량 분율을 나타낸다.In the formula (1), Tg represents the glass transition temperature (unit: K) of the polymer (A), and Tg i (i = 1, 2, ... n) is when the monomer i formed a homopolymer. The glass transition temperature (unit: K) at the time is shown, and W i (i=1, 2,...n) shows the mass fraction in all the monomer components of the monomer i.
제 1 점착성 조성물에 있어서, 폴리머의 배합 비율은, 폴리머와 제 1 광경화제와 광중합 개시제와 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과 광산 발생제의 총량에 대해서, 예를 들면, 70질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 95질량% 이하, 바람직하게는 85질량% 이하이다.In the first adhesive composition, the blending ratio of the polymer is, for example, 70% by mass or more with respect to the total amount of the compound and photoacid generator that develops color by reaction of the polymer, the first photocuring agent, the photoinitiator, and the acid, Moreover, for example, it is 95 mass % or less, Preferably it is 85 mass % or less.
제 1 광경화제로서는, 활성 에너지선 조사에 의해 점착층(3)의 점착력을 충분히 저하시키는 관점에서, 작용기수 4 이상, 바람직하게는 5 이상, 또한, 6 이하의 다작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있고, 구체적으로는, 다이트라이메틸올프로페인 테트라(메트)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트 등의 4작용 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 다이펜타에리트리톨 폴리(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트 등의 6작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있고, 바람직하게는 6작용 (메트)아크릴레이트, 보다 바람직하게는 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트를 들 수 있다.As the first photocuring agent, from the viewpoint of sufficiently reducing the adhesive force of the
제 1 광경화제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A 1st photocuring agent can be used individually or can use 2 or more types together.
또한, 제 1 광경화제의 작용기 당량은, 예를 들면, 50g/eq 이상이고, 또한, 예를 들면, 500g/eq 이하이다.In addition, the functional group equivalent of the first photocuring agent is, for example, 50 g/eq or more, and is, for example, 500 g/eq or less.
제 1 광경화제의 25℃에서의 점도는, 예를 들면, 100mPa·s 이상, 바람직하게는 400mPa·s 이상, 보다 바람직하게는 1000mPa·s 이상, 더 바람직하게는 3000mPa·s 이상, 특히 바람직하게는 4000mPa·s 이상, 가장 바람직하게는 5000mPa·s 이상, 더욱이 6000mPa·s 이상이고, 또한, 통상 8000mPa·s 이하이다.The viscosity of the first photocuring agent at 25°C is, for example, 100 mPa·s or more, preferably 400 mPa·s or more, more preferably 1000 mPa·s or more, still more preferably 3000 mPa·s or more, particularly preferably is 4000 mPa·s or more, most preferably 5000 mPa·s or more, moreover 6000 mPa·s or more, and is usually 8000 mPa·s or less.
한편, 상기의 점도는, B형 점도계에 의해 측정할 수 있고, 구체적으로는, 도키 산업 VISCOMETER(BH형)를 이용하여, 측정 온도 25℃, 로터 3호, 회전수 10rpm, 측정 시간 5분의 조건에서 측정할 수 있다.In addition, the said viscosity can be measured with a B-type viscometer, and specifically, using Toki Sangyo VISCOMETER (BH type), measurement temperature 25 degreeC, rotor No. 3, rotation speed 10rpm, measurement time of 5 minutes conditions can be measured.
제 1 광경화제의 분자량은, 상용성의 관점에서, 예를 들면, 1500 이하, 바람직하게는 1000 이하이고, 또한, 예를 들면, 100 이상이다.The molecular weight of the first photocuring agent is, from the viewpoint of compatibility, for example, 1500 or less, preferably 1000 or less, and for example, 100 or more.
또한, 제 1 광경화제는, 바람직하게는 폴리머와 상용하는 것이 선택된다.Further, the first photocuring agent is preferably selected to be compatible with the polymer.
제 1 광경화제가, 폴리머와 상용하면, 활성 에너지선이 조사되지 않는 점착층(3)의 점착력(후술)을 높게 할 수 있다.When the first photocuring agent is compatible with the polymer, it is possible to increase the adhesive force (described later) of the
구체적으로는, 폴리머의 한센 용해도 파라미터(HSP)와 제 1 광경화제의 한센 용해도 파라미터(HSP)의 차가, 예를 들면, 4 이하, 바람직하게는 3.5 이하이면, 제 1 광경화제와 폴리머가 상용하고, 그 결과, 활성 에너지선이 조사되지 않는 점착층(3)의 점착력(후술)을 높게 할 수 있다.Specifically, if the difference between the Hansen solubility parameter (HSP) of the polymer and the Hansen solubility parameter (HSP) of the first photocuring agent is, for example, 4 or less, preferably 3.5 or less, the first photocuring agent and the polymer are compatible , As a result, the adhesive force (described later) of the
한편, 폴리머의 한센 용해도 파라미터(HSP)는, 폴리머를 구성하는 모노머의 한센 용해도 파라미터(HSP)에 기초하여 산출된다.On the other hand, the Hansen solubility parameter (HSP) of the polymer is calculated based on the Hansen solubility parameter (HSP) of the monomer constituting the polymer.
제 1 광경화제의 배합 비율은, 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 10질량부 이상, 바람직하게는 20질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 50질량부 이하, 바람직하게는 40질량부 이하이다.The blending ratio of the first photocuring agent is, for example, 10 parts by mass or more, preferably 20 parts by mass or more, and for example, 50 parts by mass or less, preferably 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer. less than wealth
또한, 제 1 광경화제의 배합 비율은, 폴리머와 제 1 광경화제와 광중합 개시제와 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과 광산 발생제의 총량에 대해서, 예를 들면, 5질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 20질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 30질량% 이하이다.In addition, the mixing ratio of the first photocuring agent is, for example, 5% by mass or more, preferably 5% by mass or more, based on the total amount of the compound and photoacid generator that develops color by reaction of the polymer, the first photocuring agent, the photopolymerization initiator, and the acid. It is 10 mass % or more, More preferably, it is 20 mass % or more, For example, it is 30 mass % or less.
광중합 개시제는, 제 1 광경화제의 경화 반응을 촉진하고, 제 1 광경화제의 종류 등에 따라서 적절히 선택되고, 예를 들면, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤 등의 하이드록시케톤류, 예를 들면, 2,2-다이메톡시-1,2-다이페닐에탄-1-온 등의 벤조인 에터류, 벤질 다이메틸 케탈류, 아미노케톤류, 아실포스핀 옥사이드류, 벤조페논류, 트라이클로로메틸기 함유 트라이아진 유도체 등의 광라디칼 개시제 등을 들 수 있다.The photoinitiator accelerates the curing reaction of the first photocuring agent and is appropriately selected according to the type of the first photocuring agent, for example, hydroxyketones such as 1-hydroxycyclohexylphenylketone, for example, 2 Benzoin ethers such as ,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, benzyl dimethyl ketals, aminoketones, acylphosphine oxides, benzophenones, trichloromethyl group-containing triazine Photoradical initiators, such as derivatives, etc. are mentioned.
광중합 개시제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A photoinitiator can be used individually or can use 2 or more types together.
이와 같은 광중합 개시제 중, 제 1 광경화제로서 다작용 (메트)아크릴레이트가 이용되는 경우에는, 바람직하게는 광라디칼 개시제, 보다 바람직하게는 하이드록시케톤류가 채용된다.Among such photoinitiators, when polyfunctional (meth)acrylate is used as the first photocuring agent, preferably a photoradical initiator, more preferably hydroxyketones are employed.
광중합 개시제의 광흡수역은, 예를 들면, 300nm 이상이고, 또한, 예를 들면, 450nm 이하이다.The light absorption range of a photoinitiator is, for example, 300 nm or more, and is 450 nm or less, for example.
광중합 개시제의 배합 비율은, 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.01질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 1질량부 이하, 바람직하게는 0.5질량부 이하이다.The compounding ratio of a photoinitiator is 0.01 mass part or more with respect to 100 mass parts of polymers, and is, for example, 1 mass part or less, Preferably, it is 0.5 mass part or less.
또한, 광중합 개시제의 배합 비율은, 폴리머와 제 1 광경화제와 광중합 개시제와 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과 광산 발생제의 총량에 대해서, 예를 들면, 0.01질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 1질량% 이하, 바람직하게는 0.5질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량% 이하이다.In addition, the mixing ratio of the photoinitiator is, for example, 0.01 mass % or more with respect to the total amount of the compound and photoacid generator that develops color by reaction of the polymer, the first photocuring agent, the photoinitiator and the acid, and, further, for example For example, it is 1 mass % or less, Preferably it is 0.5 mass % or less, More preferably, it is 0.1 mass % or less.
산과의 반응에 의해 발색하는 화합물은, 산에 의해 무색(투명)으로부터 유색으로 변화하는 화합물이고, 예를 들면, 로이코계 색소, 예를 들면, p,p',p"-트리스-다이메틸아미노트라이페닐메테인 등의 트라이아릴메테인계 색소, 예를 들면, 4,4-비스-다이메틸아미노페닐벤즈하이드릴벤질 에터 등의 다이페닐메테인계 색소, 예를 들면, 3-다이에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란 등의 플루오란계 색소, 예를 들면, 3-메틸스파이로다이나프토피란 등의 스파이로피란계 색소, 예를 들면, 로다민-B-아닐리노락탐 등의 로다민계 색소 등을 들 수 있고, 바람직하게는 로이코계 색소를 들 수 있다.A compound that develops color by reaction with an acid is a compound that changes color from colorless (transparent) to colored by an acid, for example, a leuco-based dye, for example, p,p',p"-tris-dimethylamino Triarylmethane-based dyes such as triphenylmethane, for example, diphenylmethane-based dyes such as 4,4-bis-dimethylaminophenylbenzhydrylbenzyl ether, for example 3-diethylamino-6 -Fluoran-based dyes such as methyl-7-chlorofluoran, for example, spiropyran-based dyes such as 3-methylspirodynaphthopyran, for example, rhodamine such as rhodamine-B-anilinolactam Mineral dye etc. are mentioned, Preferably a leuco-type dye is mentioned.
산과의 반응에 의해 발색하는 화합물은, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.The compound which develops color by reaction with an acid can be used individually or in combination of 2 or more types.
산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율은, 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.5질량부 이상, 바람직하게는, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율을 보다 저하시키는 관점에서, 1.5질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 5질량부 이하, 바람직하게는 2질량부 이하이다.The blending ratio of the compound that develops color by reaction with an acid is, for example, 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymer, preferably from the viewpoint of further lowering the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by external stimulation, It is 1.5 mass parts or more, and is 5 mass parts or less, for example, Preferably it is 2 mass parts or less.
또한, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율은, 폴리머와 제 1 광경화제와 광중합 개시제와 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과 광산 발생제의 총량에 대해서, 예를 들면, 0.1질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 5질량% 이하, 바람직하게는 1질량% 이하이다.In addition, the compounding ratio of the compound which develops color by reaction with an acid is, for example, 0.1 mass % or more with respect to the total amount of the compound and photo-acid generator which color by reaction of a polymer, a 1st photocuring agent, a photoinitiator, and an acid. and, for example, 5% by mass or less, preferably 1% by mass or less.
광산 발생제는, 활성 에너지선 조사에 의해서 산을 발생시키는 화합물이고, 예를 들면, 오늄 화합물 등을 들 수 있다.A photo-acid generator is a compound which generate|occur|produces an acid by active energy ray irradiation, For example, an onium compound etc. are mentioned.
오늄 화합물로서는, 예를 들면, 아이오도늄 및 설포늄 등의 오늄 양이온과, Cl-, Br-, I-, ZnCl3 -, HSO3 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (C6F5)4B-, (C4H9)4B- 등의 음이온으로 이루어지는 염 등을 들 수 있다.Examples of the onium compound include onium cations such as iodonium and sulfonium, Cl - , Br - , I - , ZnCl 3 - , HSO 3 - , BF 4 - , PF 6 - , AsF 6 - , SbF and salts composed of anions such as 6 - , CH 3 SO 3 - , CF 3 SO 3 - , (C 6 F 5 ) 4 B - , and (C 4 H 9 ) 4 B - .
이와 같은 오늄 화합물로서, 바람직하게는, 설포늄(오늄 양이온)과, (C6F5)4B-(음이온)로 이루어지는 염을 들 수 있다.As such an onium compound, Preferably, the salt which consists of sulfonium (onium cation) and (C 6 F 5 ) 4 B - (anion) is mentioned.
또한, 광산 발생제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, CPI-310B(설포늄과 (C6F5)4B-로 이루어지는 염, 산아프로사제) 등을 들 수 있다.Moreover, as a photo-acid generator, a commercial item can also be used, For example, CPI-310B (a salt which consists of sulfonium and (C 6 F 5 ) 4 B - , the San Apro company make) etc. are mentioned.
광산 발생제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A photo-acid generator can be used individually or can use 2 or more types together.
광산 발생제의 배합 비율은, 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 20질량부 이하, 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 5질량부 이하이다.The blending ratio of the photoacid generator is, for example, 1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymer, and for example, 20 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass. less than wealth
또한, 광산 발생제의 배합 비율은, 폴리머와 제 1 광경화제와 광중합 개시제와 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과 광산 발생제의 총량에 대해서, 예를 들면, 0.2질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 10질량% 이하, 바람직하게는 2질량% 이하이다.In addition, the compounding ratio of a photo-acid generator is 0.2 mass % or more with respect to the total amount of the compound and photo-acid generator which develop color by reaction of a polymer, a 1st photo-curing agent, a photoinitiator, and an acid, and, further, For example, it is 10 mass % or less, Preferably it is 2 mass % or less.
그리고, 제 1 점착성 조성물을 조제하기 위해서는, 폴리머(용액 중합에 의해 폴리머를 조제한 경우는, 폴리머 용액)와, 제 1 광경화제와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 상기의 비율로 배합하고, 혼합한다.Then, in order to prepare the first pressure-sensitive adhesive composition, a polymer (a polymer solution when the polymer is prepared by solution polymerization), a first photocuring agent, a photopolymerization initiator, and a compound that develops color by reaction with an acid, and photoacid generation The agent is blended in the above ratio and mixed.
제 1 점착성 조성물에는, 폴리머에 가교 구조를 도입시키는 관점에서, 바람직하게는 가교제를 배합한다.A crosslinking agent is preferably mix|blended with the 1st adhesive composition from a viewpoint of introduce|transducing a crosslinked structure into a polymer.
가교제로서는, 예를 들면, 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카보다이이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 바람직하게는 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제를 들 수 있다.Examples of the crosslinking agent include an isocyanate-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, an oxazoline-based crosslinking agent, an aziridine-based crosslinking agent, a carbodiimide-based crosslinking agent, and a metal chelate-based crosslinking agent, preferably isocyanate. A system crosslinking agent and an epoxy type crosslinking agent are mentioned.
아이소사이아네이트계 가교제로서는, 예를 들면, 뷰틸렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트 등의 지방족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 사이클로펜틸렌 다이아이소사이아네이트, 사이클로헥실렌 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트 등의 지환족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 4,4'-다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트 등의 방향족 다이아이소사이아네이트를 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, For example, aliphatic diisocyanate, such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, For example, cyclopentylene diisocyanate, cyclo Alicyclic diisocyanates such as hexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, for example 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane Aromatic diisocyanate, such as diisocyanate and xylylene diisocyanate, is mentioned.
또한, 아이소사이아네이트계 가교제로서, 상기의 아이소사이아네이트의 유도체(예를 들면, 아이소사이아누레이트 변성체, 폴리올 변성체 등)도 들 수 있다.Moreover, as an isocyanate type crosslinking agent, the derivative of said isocyanate (For example, isocyanurate modified body, polyol modified product, etc.) is also mentioned.
아이소사이아네이트계 가교제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 코로네이트 L(톨릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체), 타케네이트 D110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 미쓰이 화학제) 등을 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, a commercial item can also be used, For example, Coronate L (trimethylol propane adduct body of tolylene diisocyanate, a dosing agent), Coronate HL (hexamethylene diamond) Trimethylolpropane adduct form of isocyanate, dosing agent), Coronate HX (isocyanurate form of hexamethylene diisocyanate), Takenate D110N (trimethylolpropane adduct form of xylylene diisocyanate) A methylol propane adduct body, the Mitsui Chemicals make) etc. are mentioned.
에폭시계 가교제로서는, 예를 들면, N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일렌다이아민, 다이글라이시딜 아닐린, 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인, 1,6-헥세인다이올 다이글라이시딜 에터, 네오펜틸 글라이콜 다이글라이시딜 에터, 에틸렌 글라이콜 다이글라이시딜 에터, 프로필렌 글라이콜 다이글라이시딜 에터, 폴리에틸렌 글라이콜 다이글라이시딜 에터, 폴리프로필렌 글라이콜 다이글라이시딜 에터, 소비톨 폴리글라이시딜 에터, 글리세롤 폴리글라이시딜 에터, 펜타에리트리톨 폴리글라이시딜 에터, 폴리글리세롤 폴리글라이시딜 에터, 소비탄 폴리글라이시딜 에터, 트라이메틸올프로페인 폴리글라이시딜 에터, 아디프산 다이글라이시딜 에스터, o-프탈산 다이글라이시딜 에스터, 트라이글라이시딜-트리스(2-하이드록시에틸)아이소사이아누레이트, 레조신 다이글라이시딜 에터, 비스페놀-S-다이글라이시딜 에터 등을 들 수 있고, 바람직하게는 N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일렌다이아민을 들 수 있다.Examples of the epoxy-based crosslinking agent include N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, diglycidyl aniline, 1,3-bis(N,N-diglycidyl Dylaminomethyl) cyclohexane, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether Dill ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, polyglycerol Polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl-tris ( 2-hydroxyethyl) isocyanurate, resorcin diglycidyl ether, bisphenol-S-diglycidyl ether, etc. are mentioned, Preferably N,N,N',N'- tetraglycidyl ether, etc. are mentioned. dil-m-xylenediamine is mentioned.
에폭시계 가교제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 테트라드 C(N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일렌다이아민, 미쓰비시 가스 화학제) 등을 들 수 있다.As the epoxy-based crosslinking agent, a commercially available product may be used, and examples thereof include tetrad C (N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals). there is.
가교제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking agent can be used individually or can use 2 or more types together.
제 1 점착성 조성물에, 가교제를 배합하면, 폴리머 중의 하이드록실기, 카복실기 등의 작용기와, 가교제가 반응하여, 폴리머에 가교 구조가 도입된다.When a crosslinking agent is mix|blended with the 1st adhesive composition, functional groups, such as a hydroxyl group and a carboxyl group in a polymer, and a crosslinking agent react, and a crosslinked structure is introduce|transduced into a polymer.
가교제의 작용기 당량은, 예를 들면, 50g/eq 이상이고, 또한, 예를 들면, 500g/eq 이하이다.The functional group equivalent of the crosslinking agent is, for example, 50 g/eq or more, and is, for example, 500 g/eq or less.
가교제의 배합 비율은, 가교제가 아이소사이아네이트계 가교제인 경우에는, 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.1질량부 이상, 바람직하게는 1.0질량부 이상, 보다 바람직하게는 1.5질량부 이상, 더 바람직하게는 2.0질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 10질량부 이하, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 4질량부 이하이다.The mixing ratio of the crosslinking agent is, for example, 0.1 parts by mass or more, preferably 1.0 parts by mass or more, more preferably 1.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymer when the crosslinking agent is an isocyanate-based crosslinking agent. , More preferably, it is 2.0 mass parts or more, For example, it is 10 mass parts or less, Preferably it is 5 mass parts or less, More preferably, it is 4 mass parts or less.
또한, 가교제가 에폭시계 가교제인 경우에는, 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 2질량부 이하, 바람직하게는 1질량부 이하, 보다 바람직하게는 점착력을 향상시키는 관점에서, 0.3질량부 이하이다.In addition, when the crosslinking agent is an epoxy-based crosslinking agent, it is, for example, 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymer, and for example, 2 parts by mass or less, preferably 1 part by mass or less, more preferably is 0.3 parts by mass or less from the viewpoint of improving the adhesive force.
또한, 제 1 점착성 조성물에 가교제를 배합하는 경우에는, 가교 반응을 촉진시키기 위해서, 가교 촉매를 배합할 수도 있다.Moreover, when mix|blending a crosslinking agent with the 1st adhesive composition, in order to accelerate|stimulate a crosslinking reaction, you may mix|blend a crosslinking catalyst.
가교 촉매로서는, 예를 들면, 테트라-n-뷰틸 타이타네이트, 테트라아이소프로필 타이타네이트, 나셈 제2철, 뷰틸 주석 옥사이드, 다이옥틸 주석 다이라우레이트 등의 금속계 가교 촉매 등을 들 수 있다.Examples of the cross-linking catalyst include metal-based cross-linking catalysts such as tetra-n-butyl titanate, tetraisopropyl titanate, nashem ferric, butyl tin oxide, and dioctyl tin dilaurate.
가교 촉매는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking catalyst can be used individually or can use 2 or more types together.
가교 촉매의 배합 비율은, 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.001질량부 이상, 바람직하게는 0.01질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 0.05질량부 이하이다.The mixing ratio of the crosslinking catalyst is, for example, 0.001 parts by mass or more, preferably 0.01 parts by mass or more, and for example, 0.05 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer.
또한, 제 1 점착성 조성물에는, 필요에 따라서, 예를 들면, 실레인 커플링제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 열화 방지제, 충전제, 착색제, 형광등하 또는 자연광하에서의 안정화의 관점에서, 자외선 흡수제, 형광등하 또는 자연광하에서의 안정화의 관점에서, 산화 방지제, 계면활성제, 대전 방지제 등의 첨가제 등의 각종 첨가제를, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 함유시킬 수 있다.In addition, in the first adhesive composition, if necessary, for example, a silane coupling agent, a tackifier, a plasticizer, a softener, an inhibitor of deterioration, a filler, a colorant, from the viewpoint of stabilization under a fluorescent lamp or under natural light, a UV absorber, a fluorescent lamp From the viewpoint of stabilization under or under natural light, various additives such as additives such as antioxidants, surfactants and antistatic agents can be contained within a range that does not impair the effects of the present invention.
이에 의해, 제 1 점착성 조성물이 얻어진다.Thereby, a 1st adhesive composition is obtained.
폴리머의 배합 비율은, 제 1 점착성 조성물에 대해서, 예를 들면, 50질량% 이상, 바람직하게는 70질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 90질량% 이하, 바람직하게는 80질량% 이하이다.The blending ratio of the polymer is, for example, 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, and for example, 90% by mass or less, preferably 80% by mass or less with respect to the first adhesive composition. .
제 1 광경화제의 배합 비율은, 제 1 점착성 조성물에 대해서, 예를 들면, 10질량% 이상, 바람직하게는 20질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 40질량% 이하, 바람직하게는 30질량% 이하이다.The blending ratio of the first photocuring agent is, for example, 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, and for example, 40% by mass or less, preferably 30% by mass with respect to the first adhesive composition. % or less.
광중합 개시제의 배합 비율은, 제 1 점착성 조성물에 대해서, 예를 들면, 0.01질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 1질량% 이하, 바람직하게는 0.5질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량% 이하이다.The blending ratio of the photoinitiator is, for example, 0.01% by mass or more with respect to the first adhesive composition, and for example, 1% by mass or less, preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less. is below.
산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율은, 제 1 점착성 조성물에 대해서, 예를 들면, 0.1질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 5질량% 이하, 바람직하게는 1질량% 이하이다.The compounding ratio of the compound which develops color by reaction with an acid is, for example, 0.1 mass % or more, and for example, 5 mass % or less, preferably 1 mass % or less, with respect to the first adhesive composition.
광산 발생제의 배합 비율은, 제 1 점착성 조성물에 대해서, 예를 들면, 0.2질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 10질량% 이하, 바람직하게는 2질량% 이하이다.The compounding ratio of a photo-acid generator is 0.2 mass % or more with respect to 1st adhesive composition, and is 10 mass % or less, for example, Preferably it is 2 mass % or less.
제 2 점착성 조성물은, 상기한 폴리머와, 제 2 광경화제와, 상기한 광중합 개시제와, 상기한 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 상기한 광산 발생제를 포함한다.A 2nd adhesive composition contains the said polymer, the 2nd photocuring agent, the said photoinitiator, the compound which develops color by reaction of the said acid, and the said photo-acid generator.
상세하게는, 제 2 점착성 조성물은, 매트릭스로서의 폴리머를 포함하고, 또한, 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능으로 하기 위해서, 제 2 광경화제와, 광중합 개시제를 포함하고, 또한, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율을 저하 가능으로 하기 위해서, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 포함한다.Specifically, the second pressure-sensitive adhesive composition contains a polymer as a matrix, and is irreversibly changed from a low-adhesive state to a high-adhesive state by irradiation with an active energy ray. And, a photoinitiator is included, and in order to make it possible to reduce the visible light transmittance in wavelength 550nm by active energy ray irradiation, the compound which develops color by reaction with an acid, and a photo-acid generator are included.
폴리머로서는, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 폴리머와 마찬가지의 것을 들 수 있고, 바람직하게는 아크릴계 폴리머를 들 수 있다.As a polymer, the thing similar to the polymer mix|blended with said 1st adhesive composition is mentioned, Preferably an acrylic polymer is mentioned.
폴리머는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A polymer can be used individually or can use 2 or more types together.
폴리머의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 폴리머의 배합 비율과 마찬가지이다.The blending ratio of the polymer is the same as the blending ratio of the polymer to be blended in the above-described first adhesive composition.
제 2 광경화제는, 활성 에너지선 조사에 의해 점착층(3)의 점착력을 충분히 향상시키는 관점에서, 예를 들면, 작용기수 2 이상 3 이하의 다작용 (메트)아크릴레이트를 들 수 있고, 구체적으로는, 폴리에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌 옥사이드 변성 다이(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 프로필렌 옥사이드 변성 다이(메트)아크릴레이트, 알케인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 트라이사이클로데케인 다이메탄올 다이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 다이(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 글리세린 다이(메트)아크릴레이트 등의 2작용 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 에톡시화 아이소사이아누르산 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트 등의 3작용 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2작용 (메트)아크릴레이트, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌 글라이콜 다이아크릴레이트, 폴리프로필렌 글라이콜 다이아크릴레이트를 들 수 있다.The second photocuring agent, from the viewpoint of sufficiently improving the adhesive force of the
제 2 광경화제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다. 또한, 제 2 광경화제로서, 상이한 중합도를 갖는 폴리에틸렌 글라이콜 다이아크릴레이트를 병용(예를 들면, 중합도 2 이상 6 이하의 폴리에틸렌 글라이콜 다이아크릴레이트와, 중합도 10 이상 16 이하의 폴리에틸렌 글라이콜 다이아크릴레이트의 병용)함으로써, 점착력을 낮게 할 수 있다.A 2nd photocuring agent can be used individually or can use 2 or more types together. In addition, as the second photocuring agent, polyethylene glycol diacrylate having a different polymerization degree is used in combination (for example, polyethylene glycol diacrylate having a polymerization degree of 2 or more and 6 or less, and polyethylene glycol having a polymerization degree of 10 or more and 16 or less) By using col diacrylate together), adhesive force can be made low.
또한, 제 2 광경화제의 작용기 당량은, 예를 들면, 50g/eq 이상이고, 또한, 예를 들면, 500g/eq 이하이다.In addition, the functional group equivalent of the second photocuring agent is, for example, 50 g/eq or more, and is, for example, 500 g/eq or less.
제 2 광경화제의 25℃에서의 점도는, 예를 들면, 5mPa·s 이상이고, 또한, 예를 들면, 1000mPa·s 이하이다.The viscosity in 25 degreeC of a 2nd photocuring agent is 5 mPa*s or more, for example, and is 1000 mPa*s or less, for example.
제 2 광경화제의 분자량은, 상용성의 관점에서, 예를 들면, 200 이하이고, 또한, 예를 들면, 1000 이상이다.The molecular weight of a 2nd photocuring agent is 200 or less from a compatible viewpoint, and is 1000 or more, for example.
또한, 제 2 광경화제는, 바람직하게는, 폴리머와 상용하지 않는 것이 선택된다.Further, the second photocuring agent is preferably selected that is not compatible with the polymer.
제 2 광경화제가, 폴리머와 상용하지 않으면, 활성 에너지선이 조사되지 않는 점착층(3)의 점착력(후술)을 낮게 할 수 있다.If the second photocuring agent is not compatible with the polymer, it is possible to lower the adhesive force (described later) of the
구체적으로는, 폴리머의 한센 용해도 파라미터(HSP)와 제 2 광경화제의 한센 용해도 파라미터(HSP)의 차가, 예를 들면, 3 이상, 바람직하게는 4 이상이면, 제 2 광경화제와 폴리머가 상용하지 않고, 그 결과, 활성 에너지선이 조사되지 않는 점착층(3)의 점착력(후술)을 낮게 할 수 있다.Specifically, if the difference between the Hansen solubility parameter (HSP) of the polymer and the Hansen solubility parameter (HSP) of the second photocuring agent is, for example, 3 or more, preferably 4 or more, the second photocuring agent and the polymer are not compatible As a result, the adhesive force (described later) of the
제 2 광경화제의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 제 1 광경화제의 배합 비율과 마찬가지이다.The blending ratio of the second photocuring agent is the same as the blending ratio of the first photocuring agent to be blended with the above-described first adhesive composition.
광중합 개시제로서는, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 광중합 개시제와 마찬가지의 것을 들 수 있고, 제 2 광경화제로서 다작용 (메트)아크릴레이트가 이용되는 경우에는, 바람직하게는 광라디칼 개시제, 보다 바람직하게는 하이드록시케톤류, 벤조인 에터류가 채용된다.Examples of the photopolymerization initiator include those similar to those of the photopolymerization initiator blended with the first adhesive composition described above, and when a polyfunctional (meth)acrylate is used as the second photocuring agent, preferably a photoradical initiator, more preferably Hydroxyketones and benzoin ethers are preferably employed.
광중합 개시제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A photoinitiator can be used individually or can use 2 or more types together.
광중합 개시제의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 광중합 개시제의 배합 비율과 마찬가지이다.The compounding ratio of the photoinitiator is the same as that of the photoinitiator mix|blended with the above-mentioned 1st adhesive composition.
산과의 반응에 의해 발색하는 화합물로서는, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과 마찬가지의 것을 들 수 있고, 바람직하게는 로이코계 색소를 들 수 있다.As a compound which develops color by reaction with an acid, the thing similar to the compound which develops color by reaction with the acid mix|blended with the above-mentioned 1st adhesive composition is mentioned, Preferably a leuco-type pigment|dye is mentioned.
산과의 반응에 의해 발색하는 화합물은, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.The compound which develops color by reaction with an acid can be used individually or in combination of 2 or more types.
산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율과 마찬가지이다.The blending ratio of the compound that develops color by reaction with an acid is the same as the blending ratio of the compound that develops color by reaction with the acid to be blended in the first adhesive composition described above.
광산 발생제로서는, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 광산 발생제와 마찬가지의 것을 들 수 있고, 바람직하게는 설포늄(오늄 양이온)과, (C6F5)4B-(음이온)로 이루어지는 염을 들 수 있다.Examples of the photo-acid generator include those similar to those of the photo-acid generator blended in the first adhesive composition, preferably composed of sulfonium (onium cation) and (C 6 F 5 ) 4 B − (anion). salts may be mentioned.
광산 발생제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A photo-acid generator can be used individually or can use 2 or more types together.
광산 발생제의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 광산 발생제의 배합 비율과 마찬가지이다.The compounding ratio of a photo-acid generator is the same as the compounding ratio of the photo-acid generator mix|blended with an above-mentioned 1st adhesive composition.
그리고, 제 2 점착성 조성물을 조제하기 위해서는, 폴리머(용액 중합에 의해 폴리머를 조제한 경우는, 폴리머 용액)와, 제 2 광경화제와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를, 상기의 비율로 배합하고, 혼합한다.Then, in order to prepare the second adhesive composition, a compound that develops color by reaction of a polymer (a polymer solution when a polymer is prepared by solution polymerization), a second photocuring agent, a photoinitiator, and an acid, and photoacid generation The agent is blended in the above ratio and mixed.
제 2 점착성 조성물에는, 폴리머에 가교 구조를 도입시키는 관점에서, 바람직하게는 가교제를 배합한다.A crosslinking agent is preferably mix|blended with the 2nd adhesive composition from a viewpoint of introduce|transducing a crosslinked structure into a polymer.
가교제로서는, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 가교제와 마찬가지의 것을 들 수 있고, 바람직하게는 아이소사이아네이트계 가교제를 들 수 있다.As a crosslinking agent, the thing similar to the crosslinking agent mix|blended with said 1st adhesive composition is mentioned, Preferably an isocyanate type crosslinking agent is mentioned.
가교제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking agent can be used individually or can use 2 or more types together.
가교제의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 가교제의 배합 비율과 마찬가지이다.The blending ratio of the crosslinking agent is the same as the blending ratio of the crosslinking agent blended in the above-described first adhesive composition.
또한, 제 2 점착성 조성물에 가교제를 배합하는 경우에는, 가교 반응을 촉진시키기 위해서, 가교 촉매를 배합할 수도 있다.Moreover, when mix|blending a crosslinking agent with the 2nd adhesive composition, in order to accelerate|stimulate a crosslinking reaction, you may mix|blend a crosslinking catalyst.
가교 촉매로서는, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 가교 촉매와 마찬가지의 것을 들 수 있다.As a crosslinking catalyst, the thing similar to the crosslinking catalyst mix|blended with the above-mentioned 1st adhesive composition is mentioned.
가교 촉매는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking catalyst can be used individually or can use 2 or more types together.
가교 촉매의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 가교 촉매의 배합 비율과 마찬가지이다.The blending ratio of the crosslinking catalyst is the same as the blending ratio of the crosslinking catalyst blended with the above-described first adhesive composition.
또한, 제 2 점착성 조성물에는, 필요에 따라서, 상기한 제 1 점착성 조성물에 배합되는 각종 첨가제를, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 함유시킬 수 있다.In addition, the 2nd adhesive composition can contain various additives mix|blended with said 1st adhesive composition as needed in the range which does not impair the effect of this invention.
이에 의해, 제 2 점착성 조성물이 얻어진다.Thereby, a 2nd adhesive composition is obtained.
제 2 점착성 조성물에 대한 폴리머의 배합 비율, 제 2 광경화제의 배합 비율, 광중합 개시제의 배합 비율, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율 및 광산 발생제의 배합 비율은, 상기한 제 1 점착성 조성물에 대한 폴리머의 배합 비율, 제 1 광경화제의 배합 비율, 광중합 개시제의 배합 비율, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율 및 광산 발생제의 배합 비율과 마찬가지이다.The blending ratio of the polymer to the second adhesive composition, the blending ratio of the second photocuring agent, the blending ratio of the photopolymerization initiator, the blending ratio of the compound that develops color by reaction with an acid, and the blending ratio of the photo-acid generator are the above-described first adhesiveness The blending ratio of the polymer to the composition, the blending ratio of the first photocuring agent, the blending ratio of the photoinitiator, the blending ratio of the compound that develops color by reaction with an acid, and the blending ratio of the photo-acid generator are the same.
즉, 점착성 조성물(제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물)은, 폴리머와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물의 배합 비율과, 광산 발생제와, 필요에 따라 배합되는 가교제, 가교 촉매 및 각종 첨가제를 포함하는 점에서 공통되고, 제 1 점착성 조성물은, 작용기수 4 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트인 제 1 광경화제를 포함하는 한편, 제 2 점착성 조성물은, 작용기수 3 이하의 다작용 (메트)아크릴레이트인 제 2 광경화제를 포함하는 점에서 상이하다.That is, the pressure-sensitive adhesive composition (the first pressure-sensitive adhesive composition or the second pressure-sensitive adhesive composition) includes a blending ratio of a polymer, a photopolymerization initiator, and a compound that develops color by reaction with an acid, a photoacid generator, and a crosslinking agent blended as needed, crosslinking It is common in that it includes a catalyst and various additives, and the first adhesive composition includes a first photocuring agent that is a polyfunctional (meth)acrylate having 4 or more functional groups, while the second adhesive composition has 3 or less functional groups. It differs in that it contains the 2nd photocuring agent which is a polyfunctional (meth)acrylate.
즉, 제 1 광경화제 및 제 2 광경화제 중, 어느 것을 배합하는지에 따라, 제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물을 선택적으로 조제할 수 있다.That is, the first pressure-sensitive adhesive composition or the second pressure-sensitive adhesive composition can be selectively prepared depending on which one of the first photocuring agent and the second photocuring agent is blended.
그리고, 후술하는 방법에 의해, 제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물로부터 점착층(3)을 형성한다.And the
점착층(3)의 두께는, 점착성의 관점에서, 예를 들면, 5μm 이상, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 15μm 이상, 더 바람직하게는 20μm 이상이고, 또한, 핸들링성의 관점에서, 예를 들면, 300μm 이하, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 50μm 이하, 더 바람직하게는 40μm 이하, 특히 바람직하게는 30μm 이하이다.The thickness of the
2. 점착 시트의 제조 방법2. Manufacturing method of adhesive sheet
다음으로, 점착 시트(1)를 제조하는 방법을, 도 2를 참조하여 설명한다.Next, the method of manufacturing the
이 점착 시트(1)를 제조하는 방법은, 기재(2)를 준비하는 제 1 공정과, 기재(2)의 일방면에, 점착층(3)을 배치하는 제 2 공정을 구비한다.The method of manufacturing this
제 1 공정에서는, 도 2A에 나타내는 바와 같이, 기재(2)를 준비한다.In a 1st process, as shown to FIG. 2A, the
제 2 공정에서는, 도 2B에 나타내는 바와 같이, 기재(2)의 일방면에, 점착층(3)을 배치한다.At a 2nd process, as shown in FIG. 2B, the
기재(2)의 일방면에, 점착층(3)을 배치하기 위해서는, 예를 들면, 기재(2)의 일방면에, 상기의 제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물을 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 제거한다.In order to arrange the pressure-
제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비어 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어 나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 다이 코팅 등을 들 수 있다.As a coating method of the 1st adhesive composition or 2nd adhesive composition, for example, roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brush, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating , curtain coating, lip coating, die coating, and the like.
건조 조건으로서, 건조 온도는, 예를 들면, 50℃ 이상, 바람직하게는 70℃ 이상, 보다 바람직하게는 100℃ 이상이고, 또한, 예를 들면, 200℃ 이하, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 150℃ 이하이며, 건조 시간은, 예를 들면, 5초 이상, 바람직하게는 10초 이상이고, 또한, 예를 들면, 20분 이하, 바람직하게는 15분 이하, 보다 바람직하게는 10분 이하이다.As the drying conditions, the drying temperature is, for example, 50°C or higher, preferably 70°C or higher, more preferably 100°C or higher, and for example, 200°C or lower, preferably 180°C or lower, more Preferably it is 150 degrees C or less, and drying time is, for example, 5 second or more, Preferably it is 10 second or more, For example, it is 20 minutes or less, Preferably, it is 15 minutes or less, More preferably, 10 minutes or less. less than a minute
이에 의해, 기재(2)의 일방면에, 점착층(3)이 형성되고, 기재(2)와, 기재(2)의 일방면에 배치되는 점착층(3)을 구비한 점착 시트(1)가 얻어진다.Thereby, the
한편, 제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물이 가교제를 포함하는 경우에는, 건조 제거와 동시, 또는 용매의 건조 후(점착층(3)의 일방면에, 박리 필름(4)(후술)을 적층한 후)에, 바람직하게는 에이징에 의해 가교를 진행시킨다.On the other hand, when the first pressure-sensitive adhesive composition or the second pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent, a release film 4 (described later) is laminated on one side of the pressure-
에이징 조건은, 가교제의 종류에 따라 적절히 설정되고, 에이징 온도는, 예를 들면, 20℃ 이상이고, 또한, 예를 들면, 160℃ 이하, 바람직하게는 50℃ 이하이며, 또한, 에이징 시간은, 1분 이상, 바람직하게는 12시간 이상, 보다 바람직하게는 1일 이상이고, 또한, 예를 들면, 7일 이하이다.Aging conditions are appropriately set according to the type of crosslinking agent, and the aging temperature is, for example, 20 ° C. or higher, and for example, 160 ° C. or lower, preferably 50 ° C. or lower, and the aging time is, 1 minute or longer, preferably 12 hours or longer, more preferably 1 day or longer, and for example, 7 days or shorter.
상기한 바와 같이, 점착 시트(1)에 있어서의 점착층(3)은, 제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물 중 어느 것에 의해 형성되어 있다.As described above, the pressure-
제 1 점착성 조성물은, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능하다.The first adhesive composition can decrease the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy ray, and can irreversibly change state from a state of high adhesion to a state of low adhesion by irradiation with active energy ray.
즉, 이와 같은 제 1 점착성 조성물로 형성되는 점착층(3)에 활성 에너지선을 조사하면, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물이 발색(착색)하는 것에 의해, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아지고, 또한 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 점착력이, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 점착력보다도 작아진다.That is, when an active energy ray is irradiated to the pressure-
그 때문에, 후술하는 제 5 공정에 있어서, 점착층(3)의 일부에 활성 에너지선을 조사하면, 활성 에너지선을 조사하지 않는 제 1 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3)이, 고점착 영역(10)이 되고, 활성 에너지선을 조사한 제 1 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3)이, 저점착 영역(11)이 된다. 또한, 저점착 영역(11)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 고점착 영역(10)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아진다.Therefore, in the fifth step to be described later, when a part of the
이에 의해, 점착층(3)은, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고점착 영역(10)과, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저점착 영역(11)을 구비한다.Accordingly, the
그리고, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 점착력(고점착 영역(10)의 점착력)은, 예를 들면, 5N/25mm 이상, 바람직하게는 8N/25mm 이상, 보다 바람직하게는 10N/25mm 이상, 더 바람직하게는 12N/25mm 이상이다.And, the adhesive force of the adhesive layer 3 (adhesive force of the high adhesive region 10) before irradiation with active energy rays (before change of state) is, for example, 5N/25mm or more, preferably 8N/25mm or more, More preferably, it is 10 N/25 mm or more, More preferably, it is 12 N/25 mm or more.
한편, 상태 변화 전의 점착층(3)은, 활성 에너지선을 조사하지 않아, 상태 변화시키지 않는 부분을 포함한다(이하 마찬가지).On the other hand, the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 점착력(저점착 영역(11)의 점착력)은, 예를 들면, 4N/25mm 이하, 바람직하게는 3N/25mm 이하이다.Moreover, the adhesive force of the adhesive layer 3 (adhesive force of the low adhesive region 11) after irradiating an active energy ray (after a change of state) is, for example, 4N/25mm or less, Preferably, it is 3N/25mm or less.
고점착 영역(10)의 점착력이, 상기 하한 이상이면, 고점착 영역(10)을 피착체(6)에 첩착한 그대로 잔존시켜, 대응하는 기재(2)와 함께 피착체(6)의 보강에 이용할 수 있다.If the adhesive force of the high-
또한, 저점착 영역(11)의 점착력이, 상기 상한 이하이면, 저점착 영역(11)을 대응하는 기재(2)와 함께 중간 적층체(5)로부터 용이하게 제거할 수 있다.In addition, if the adhesive force of the low-
한편, 상기의 점착력은, 상세하게는, 후술하는 실시예에서 기술하지만, 점착 시트(1)를 폴리이미드 필름에 25℃에서 첩착하고, 박리 속도 300mm/분으로 180도 필(peel) 시험하는 것에 의해 측정된다.On the other hand, the above adhesive force is described in detail in Examples to be described later, but the
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 예를 들면, 6×104Pa 이상, 바람직하게는 7×104Pa 이상이고, 또한, 예를 들면, 9×104Pa 이하, 바람직하게는 8×104Pa 이하이다.Moreover, the shear storage modulus G' at 25 degreeC of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 예를 들면, 2.00×106Pa 이상, 바람직하게는 2.50×106Pa 이상, 보다 바람직하게는 3.0×106Pa 이상이고, 또한, 예를 들면, 5.00×106Pa 이하이다.Moreover, the shear storage modulus G' at 25 degreeC of the
한편, 상기의 전단 저장 탄성률 G'는, 주파수 1Hz, 승온 속도 5℃/분, 온도 범위 -50℃∼150℃의 조건에 있어서의 동적 점탄성 측정에 의해 측정된다.In addition, said shear storage modulus G' is measured by the dynamic viscoelasticity measurement in the conditions of a frequency of 1 Hz, a temperature increase rate of 5 degreeC/min, and the temperature range of -50 degreeC - 150 degreeC.
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 85% 이상이고, 또한, 예를 들면, 99% 이하이다.Moreover, the visible light transmittance in wavelength 550nm of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이하이고, 또한, 예를 들면, 30% 이상이다.Moreover, the visible light transmittance in wavelength 550nm of the
그리고, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율과, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율의 차(활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율-활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율)는, 예를 들면, 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상이다.And the visible light transmittance at wavelength 550nm of the
상기의 차가, 상기 하한 이상이면, 고점착 영역(10)과 저점착 영역(11)의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있고, 그 결과, 저점착 영역(11)을 용이하게 제거할 수 있다.If the difference is equal to or greater than the lower limit, the boundary between the high-
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 300nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 80% 이상이고, 또한, 예를 들면, 99% 이하이다.Moreover, the average transmittance|permeability in 300 nm - 700 nm of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 300nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 75% 이하이고, 또한, 예를 들면, 30% 이상이다.Moreover, the average transmittance|permeability in 300 nm - 700 nm of the
한편, 상기의 투과율의 측정 방법에 대해서는, 후술하는 실시예에서 상세히 기술한다(이하 마찬가지).On the other hand, the method for measuring the transmittance will be described in detail in the Examples to be described later (hereinafter the same).
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 헤이즈치는, 예를 들면, 3% 이하, 바람직하게는 1% 이하이다.Moreover, the haze value of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 헤이즈치는, 예를 들면, 5% 이하, 바람직하게는 3% 이하이다.Moreover, the haze value of the
한편, 제 2 점착성 조성물은, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능하다.On the other hand, the second pressure-sensitive adhesive composition can decrease the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy rays, and can be irreversibly changed from a state of low adhesion to a state of high adhesion by irradiation with active energy rays. .
즉, 이와 같은 제 2 점착성 조성물로 형성되는 점착층(3)에 활성 에너지선 조사를 조사하면, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물이 발색(착색)하는 것에 의해, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아지고, 또한 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 점착력이, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 점착력보다도 커진다.That is, when the pressure-
그 때문에, 후술하는 제 5 공정에 있어서, 점착층(3)의 일부에 활성 에너지선 조사를 조사하면, 활성 에너지선을 조사하지 않는 제 2 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3)이, 저점착 영역(11)이 되고, 활성 에너지선을 조사한 제 2 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3)이, 고점착 영역(10)이 된다. 또한, 고점착 영역(10)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 저점착 영역(11)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아진다.Therefore, in the fifth step to be described later, when a part of the
이에 의해, 점착층(3)은, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 고점착 영역(10)과, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 저점착 영역(11)을 구비한다.Accordingly, the
그리고, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 점착력(저점착 영역(11)의 점착력)은, 예를 들면, 4N/25mm 이하, 바람직하게는 1N/25mm 이하이다.And the adhesive force of the adhesive layer 3 (adhesive force of the low adhesive region 11) before irradiation with an active energy ray (before change of state) is, for example, 4N/25mm or less, preferably 1N/25mm or less .
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 점착력(고점착 영역(10)의 점착력)은, 예를 들면, 5N/25mm 이상, 바람직하게는 8N/25mm 이상, 보다 바람직하게는 10N/25mm 이상, 더 바람직하게는 12N/25mm 이상이다.In addition, the adhesive force (adhesive force of the high adhesive region 10) of the
저점착 영역(11)의 점착력이, 상기 상한 이하이면, 저점착 영역(11)을 대응하는 기재(2)와 함께 중간 적층체(5)로부터 용이하게 제거할 수 있다.When the adhesive force of the low-
또한, 고점착 영역(10)의 점착력이, 상기 하한 이상이면, 고점착 영역(10)을 피착체(6)에 첩착한 그대로 잔존시켜, 대응하는 기재(2)와 함께 피착체(6)의 보강에 이용할 수 있다.In addition, if the adhesive force of the high-
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 예를 들면, 1×104Pa 이상, 바람직하게는 5×104Pa 이상이고, 또한, 예를 들면, 1.2×105Pa 이하, 바람직하게는 1×105Pa 이하이다.Moreover, the shear storage modulus G' at 25 degreeC of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 예를 들면, 1.00×105Pa 이상, 바람직하게는 1.5×105Pa 이상이고, 또한, 예를 들면, 2.0×106Pa 이하, 바람직하게는 1.0×106Pa 이하이다.Moreover, the shear storage modulus G' at 25 degreeC of the
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 85% 이상이고, 또한, 예를 들면, 99% 이하이다.Moreover, the visible light transmittance in wavelength 550nm of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이하이고, 또한, 예를 들면, 30% 이상이다.Moreover, the visible light transmittance in wavelength 550nm of the
그리고, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율과, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율의 차(활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율-활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율)는, 예를 들면, 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상이다.And the visible light transmittance at wavelength 550nm of the
상기의 차가, 상기 하한 이상이면, 고점착 영역(10)과 저점착 영역(11)의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있고, 그 결과, 저점착 영역(11)을 용이하게 제거할 수 있다.If the difference is equal to or greater than the lower limit, the boundary between the high-
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 300nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 80% 이상이고, 또한, 예를 들면, 99% 이하이다.Moreover, the average transmittance|permeability in 300 nm - 700 nm of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 300nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 75% 이하이고, 또한, 예를 들면, 30% 이상이다.Moreover, the average transmittance|permeability in 300 nm - 700 nm of the
또한, 활성 에너지선을 조사하기 전의(상태 변화 전의) 점착층(3)의 헤이즈치는, 예를 들면, 3% 이하, 바람직하게는 1% 이하이다.Moreover, the haze value of the
또한, 활성 에너지선을 조사한 후의(상태 변화 후의) 점착층(3)의 헤이즈치는, 예를 들면, 5% 이하, 바람직하게는 3% 이하이다.Moreover, the haze value of the
또한, 도 2C에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)는, 필요에 따라, 점착층(3)의 일방면에, 박리 필름(4)을 적층해도 된다.In addition, as shown in FIG. 2C, the
이와 같은 경우에는, 점착 시트(1)는, 기재(2)와, 점착층(3)과, 박리 필름(4)을 순서대로 구비한다.In such a case, the
박리 필름(4)으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에스터 필름 등의 가요성의 플라스틱 필름을 들 수 있다.As the release film 4, flexible plastic films, such as polyethylene, a polypropylene, a polyethylene terephthalate, and a polyester film, are mentioned, for example.
박리 필름(4)의 두께는, 예를 들면, 3μm 이상, 바람직하게는 10μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 200μm 이하, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 50μm 이하이다.The thickness of the release film 4 is, for example, 3 µm or more, preferably 10 µm or more, and for example, 200 µm or less, preferably 100 µm or less, more preferably 50 µm or less.
박리 필름(4)에는, 바람직하게는 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계, 지방산 아마이드계 등의 이형제에 의한 이형 처리, 또는 실리카 분말에 의한 이형 처리가 실시되어 있다.The release film 4 is preferably subjected to a release treatment with a release agent such as silicone, fluorine, long-chain alkyl or fatty acid amide, or a release treatment with silica powder.
3. 중간 적층체3. Intermediate laminate
도 3에 나타내는 바와 같이, 중간 적층체(5)는, 소정의 두께를 갖는 필름 형상(시트 형상을 포함한다)을 갖고, 두께 방향과 직교하는 방향(면 방향)으로 연장되고, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.3 , the
구체적으로는, 중간 적층체(5)는, 기재(2) 및 기재(2)의 일방면에 배치되는 점착층(3)을 구비한 점착 시트(1)와, 점착 시트(1)의 일방면에 배치되는 피착체(6)를 구비한다.Specifically, the
상세하게는 후술하지만, 중간 적층체(5)는, 상기한 점착 시트(1)를 피착체(6)에 첩부하는 것에 의해 얻어진다.Although described later in detail, the intermediate|middle
또한, 중간 적층체(5)는, 제품 적층체(12)(후술)의 중간 부품이다.In addition, the intermediate|middle
이하, 각 층에 대하여 상세히 기술한다.Hereinafter, each layer will be described in detail.
3-1. 점착 시트3-1. adhesive sheet
상기한 바와 같이, 점착 시트(1)는, 기재(2)와, 기재(2)의 일방면에 배치되는 점착층(3)을 구비한다.As described above, the pressure-
그리고, 점착 시트(1)에 있어서의 점착층(3)은, 점착력이 높은 상태의 점착성 조성물로 이루어지는 고점착 영역(10)과, 점착력이 낮은 상태의 점착성 조성물로 이루어지는 저점착 영역(11)을 구비한다.In addition, the pressure-
또한, 상세하게는 후술하지만, 고점착 영역(10) 및 저점착 영역(11) 중 어느한쪽은, 다른 쪽보다도 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작다(환언하면, 고점착 영역(10) 및 저점착 영역(11)은, 서로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하다).In addition, as will be described in detail later, either of the
이와 같은 고점착 영역(10) 및 저점착 영역(11)은, 상세하게는 후술하지만, 점착층(3)의 일부에 외부 자극(구체적으로는, 활성 에너지선)을 주는 것에 의해 얻어진다.The
3-2. 피착체3-2. adherend
피착체(6)는, 점착 시트(1)에 의해 보강되는 피보강체이고, 예를 들면, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그 구성 부품 등을 들 수 있다.The to-
한편, 도 3에 있어서, 피착체(6)는, 평판 형상을 갖지만, 피착체(6)의 형상은, 특별히 한정되지 않고, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그 구조 부품의 종류에 따라, 여러 가지 형상이 선택된다.On the other hand, in FIG. 3 , the
4. 중간 적층체의 제조 방법4. Manufacturing method of intermediate laminate
중간 적층체(5)의 제조 방법의 일 실시형태에 대하여, 도 4 및 도 5를 참조해서 설명한다.One Embodiment of the manufacturing method of the intermediate|middle
이 중간 적층체(5)의 제조 방법은, 점착 시트(1)를 준비하는 공정(제 3 공정), 점착 시트(1)의 일방면에 피착체(6)를 배치하는 공정(제 4 공정), 및 점착층(3)의 일부에 외부 자극을 주어, 점착층(3)에, 외부 자극이 주어진 자극 부분(7)과, 외부 자극이 주어져 있지 않은 비자극 부분(8)을 형성하는 것에 의해, 자극 부분(7) 및 비자극 부분(8) 중 어느 한쪽이, 점착력이 높은 상태의 고점착 영역(10)이 되고, 다른 쪽이 점착력이 낮은 상태의 저점착 영역(11)이 되며, 또한 자극 부분(7)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비자극 부분(8)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 공정(제 5 공정)을 구비한다.In the manufacturing method of this intermediate
제 5 공정에서는, 자극 부분(7) 및 비자극 부분(8) 중, 한쪽이 고점착 영역(10)이 되고, 다른 쪽이 저점착 영역(11)이 되지만, 점착층(3)이, 제 1 점착성 조성물 또는 제 2 점착성 조성물 중 어느 것에 의해 형성되었는지에 따라, 자극 부분(7) 및 비자극 부분(8) 중, 어느 것이 고점착 영역(10) 또는 저점착 영역(11)이 될지가 정해진다.In the fifth step, one of the
그래서, 제 1 점착성 조성물에 의해 점착층(3)이 형성된 경우와, 제 2 점착성 조성물에 의해 점착층(3)이 형성된 경우로 나누어, 이하 설명한다.Then, it divides into the case where the
또한, 이하의 설명에서는, 외부 자극이 활성 에너지선 조사인 경우에 대하여 설명한다.In addition, in the following description, the case where an external stimulus is active energy ray irradiation is demonstrated.
4-1. 제 1 점착성 조성물에 의해 점착층을 형성하는 중간 적층체의 제조 방법(제법 1)4-1. Method for producing an intermediate laminate for forming a pressure-sensitive adhesive layer with the first pressure-sensitive adhesive composition (Method 1)
첫 번째로, 제 1 점착성 조성물에 의해 점착층(3)을 형성하는 중간 적층체(5)의 제조 방법(제법 1)에 대하여, 도 4를 참조해서 설명한다.First, the manufacturing method (manufacturing method 1) of the intermediate|middle
제 3 공정에서는, 도 4A에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)를 준비한다.In a 3rd process, as shown to FIG. 4A, the
이어서, 제 4 공정에서는, 도 4B에 나타내는 바와 같이, 기재(2)의 일방면에 배치된 점착층(3)과, 피착체(6)가 접촉하도록, 피착체(6)에 점착 시트(1)를 첩착한다.Next, in a 4th process, as shown in FIG. 4B, the
이어서, 제 5 공정에서는, 도 4C에 나타내는 바와 같이, 점착층(3)의 일부에 활성 에너지선을 조사하는 것에 의해, 고점착 영역(10)과 저점착 영역(11)을 형성한다.Next, in the fifth step, as shown in FIG. 4C , the high-
한편, 이하의 설명에서는, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중의 양 단 부분의 2개소를 비자극 부분(8)(환언하면, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중의 중앙분의 1개소만이 자극 부분(7))으로 해서, 설명한다.On the other hand, in the following description, the non-stimulating portion 8 (in other words, the
제 5 공정에서는, 점착 시트(1)에 있어서, 자극 부분(7)에는, 활성 에너지선을 조사하고, 비자극 부분(8)에는, 활성 에너지선을 조사하지 않는다.In the fifth step, in the pressure-
구체적으로는, 자극 부분(7)에는, 마스크(9)를 배치하지 않고, 비자극 부분(8)에, 활성 에너지선을 차단하는 마스크(9)를 배치한다.Specifically, the mask 9 is not placed on the
상기한 바와 같이, 제 1 점착성 조성물로 형성된 점착층(3)에 활성 에너지선을 조사하면, 활성 에너지선을 조사한 후의 점착층(3)의 점착력이, 활성 에너지선을 조사하기 전의 점착층(3)의 점착력보다도 작아진다.As described above, when the
즉, 자극 부분(7)에 있어서의 점착층(3)은, 점착력이 저하되는 한편, 비자극 부분(8)에 있어서의 점착층(3)에는, 점착력의 저하가 일어나지 않아, 점착력은 강한 그대로 남는다.That is, while the adhesive force of the
그렇게 하면, 자극 부분(7)은, 비자극 부분(8)에 대해서, 상대적으로 점착력이 낮아지기 때문에, 자극 부분(7)(구체적으로는, 상태 변화 후의 제 1 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3))은, 저점착 영역(11)이 되고, 비자극 부분(8)(구체적으로는, 상태 변화 전의 제 1 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3))은, 고점착 영역(10)이 된다.Then, the
또한, 자극 부분(7)(저점착 영역(11))에 있어서의 점착층(3)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물이 발색(착색(구체적으로는, 흑색))한다. 그 결과, 자극 부분(7)(저점착 영역(11))에 있어서의 점착층(3)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.). 그렇게 하면, 자극 부분(7)(저점착 영역(11))의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비자극 부분(8)(고점착 영역(10))의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아져(구체적으로는, 자극 부분(7)(저점착 영역(11))이, 비자극 부분(8)(고점착 영역(10))보다도 검어져), 자극 부분(7)(저점착 영역(11))과 비자극 부분(8)(고점착 영역(10))의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있다.In addition, in the pressure-
이에 의해, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고점착 영역(10)과, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저점착 영역(11)을 구비하는 점착층(3)이 얻어진다. 또한, 점착 시트(1)와 피착체(6)를 순서대로 구비하는(환언하면, 기재(2)와 점착층(3)과 피착체(6)를 순서대로 구비하는) 중간 적층체(5)가 얻어진다.Thereby, the
4-2. 제 2 점착성 조성물에 의해 점착층을 형성하는 중간 적층체의 제조 방법(제법 2)4-2. Method for producing an intermediate laminate for forming a pressure-sensitive adhesive layer with the second pressure-sensitive adhesive composition (Method 2)
두 번째로, 제 2 점착성 조성물에 의해 점착층(3)을 형성하는 중간 적층체(5)의 제조 방법(제법 2)에 대하여, 도 5를 참조해서 설명한다.Second, the manufacturing method (manufacturing method 2) of the intermediate|middle
제 3 공정에서는, 도 5A에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(1)를 준비한다.In a 3rd process, as shown to FIG. 5A, the
이어서, 제 4 공정에서는, 도 5B에 나타내는 바와 같이, 기재(2)의 일방면에 배치된 점착층(3)과, 피착체(6)가 접촉하도록, 피착체(6)에 점착 시트(1)를 첩착한다.Next, in the fourth step, as shown in FIG. 5B , the pressure-
이어서, 제 5 공정에서는, 도 5C에 나타내는 바와 같이, 점착층(3)의 일부에 활성 에너지선을 조사하는 것에 의해, 고점착 영역(10)과 저점착 영역(11)을 형성한다.Next, in the fifth step, as shown in FIG. 5C , a part of the
한편, 이하의 설명에서는, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중의 양 단 부분의 2개소를 자극 부분(7)(환언하면, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중의 중앙분의 1개소만이 비자극 부분(8))으로 해서, 설명한다.On the other hand, in the following description, the magnetic pole part 7 (in other words, the
제 5 공정에서는, 점착 시트(1)에 있어서, 자극 부분(7)에는, 활성 에너지선을 조사하고, 비자극 부분(8)에는, 활성 에너지선을 조사하지 않는다.In the fifth step, in the pressure-
구체적으로는, 자극 부분(7)에는, 마스크(9)를 배치하지 않고, 비자극 부분(8)에, 활성 에너지선을 차단하는 마스크(9)를 배치한다.Specifically, the mask 9 is not placed on the
상기한 바와 같이, 제 2 점착성 조성물로 형성된 점착층(3)에 활성 에너지선을 조사하면, 활성 에너지선을 조사한 후의 점착층(3)의 점착력이, 활성 에너지선을 조사하기 전의 점착층(3)의 점착력보다도 커진다.As described above, when the
즉, 자극 부분(7)에 있어서의 점착층(3)은, 점착력이 향상되는 한편, 비자극 부분(8)에 있어서의 점착층(3)에는, 점착력의 향상이 일어나지 않는다.That is, while the adhesive force of the
그렇게 하면, 자극 부분(7)은, 비자극 부분(8)에 대해서, 상대적으로 점착력이 높아지기 때문에, 자극 부분(7)(구체적으로는, 상태 변화 후의 제 2 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3))은, 고점착 영역(10)이 되고, 비자극 부분(8)(구체적으로는, 상태 변화 전의 제 2 점착성 조성물로 이루어지는 점착층(3))은, 저점착 영역(11)이 된다.Then, the
또한, 자극 부분(7)(고점착 영역(10))에 있어서의 점착층(3)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물이 발색(착색(구체적으로는, 흑색))한다. 그 결과, 자극 부분(7)(고점착 영역(10))에 있어서의 점착층(3)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.). 그렇게 하면, 자극 부분(7)(고점착 영역(10))의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비자극 부분(8)(저점착 영역(11))의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아져(구체적으로는, 자극 부분(7)(고점착 영역(10))이, 비자극 부분(8)(저점착 영역(11))보다도 검어져), 자극 부분(7)(고점착 영역(10))과 비자극 부분(8)(저점착 영역(11))의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있다.In addition, in the pressure-
이에 의해, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 고점착 영역(10)과, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 저점착 영역(11)을 구비하는 점착층(3)이 얻어진다. 또한, 점착 시트(1)와 피착체(6)를 순서대로 구비하는(환언하면, 기재(2)와 점착층(3)과 피착체(6)를 순서대로 구비하는) 중간 적층체(5)가 얻어진다.Thereby, the
상기의 제법 1 및 상기의 제법 2는, 자극 부분(7)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비자극 부분(8)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아지는(환언하면, 자극 부분(7)이 유색이고, 비자극 부분(8)이 투명하다.) 점에서 공통되는 한편, 제법 1에서는, 자극 부분(7)이 저점착 영역(11)이 되고, 제법 2에서는, 비자극 부분(8)이 저점착 영역(11)이 되는 점에서 상이하다.In the
또한, 후술하는 제품 적층체(12)의 제조 방법에서는, 우선, 중간 적층체(5)를 제조하고, 그 후, 그 중간 적층체(5)로부터 저점착 영역(11)을 제거하고, 고점착 영역(10)을 잔존시키는 것에 의해 제품 적층체(12)(후술)를 제조하지만, 제법 1에 의해 중간 적층체(5)를 제조하면, 투명의 고점착 영역(10)이 잔존하고, 제법 2에 의해 중간 적층체(5)를 제조하면, 유색의 고점착 영역(10)이 잔존하는 점에서 상이하다.Moreover, in the manufacturing method of the product laminated
즉, 제법 1 및 제법 2 중, 어느 것을 선택하는지에 따라, 유색 또는 투명의 고점착 영역(10)을 잔존시킬지 선택할 수 있다.That is, depending on which one of the
5. 점착 시트, 중간 적층체 및 중간 적층체의 제조 방법의 작용 효과5. Effects of adhesive sheets, intermediate laminates and methods for producing intermediate laminates
점착 시트(1)에 있어서, 점착층(3)은, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.In the pressure-
이 점착 시트(1)의 일부에 활성 에너지선을 조사하면, 활성 에너지선을 조사한 부분은, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하됨과 함께, 점착력이 변화한다(점착력이 높아지거나 또는 낮아진다.).When a part of the pressure-
즉, 활성 에너지선을 조사한 부분과, 활성 에너지선을 조사하고 있지 않은 부분은, 서로 점착력이 상이함과 함께, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하다.That is, the part irradiated with an active energy ray and the part which is not irradiated with an active energy ray differ in adhesive force mutually, and the visible light transmittance in wavelength 550nm differs.
활성 에너지선을 조사한 부분과, 활성 에너지선을 조사하고 있지 않은 부분은, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하기 때문에, 활성 에너지선을 조사한 부분과, 활성 에너지선을 조사하고 있지 않은 부분의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있고, 그 결과, 활성 에너지선을 조사한 부분과, 활성 에너지선을 조사하고 있지 않은 부분 중, 상대적으로 점착력이 낮은 부분을 용이하게 제거할 수 있다.Since the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm is different between the part irradiated with the active energy ray and the part not irradiated with the active energy ray, the boundary between the part irradiated with the active energy ray and the part not irradiated with the active energy ray It can discriminate|determine visually easily, and as a result, among the part irradiated with an active energy ray, and the part which is not irradiated with an active energy ray, the part with relatively low adhesive force can be easily removed.
중간 적층체(5)에 있어서, 점착층(3)은, 점착력이 높은 상태의 고점착 영역(10)과, 점착력이 낮은 상태의 저점착 영역(11)을 구비한다.In the intermediate laminate (5), the pressure-sensitive adhesive layer (3) includes a high-adhesive region (10) in a high-adhesive state and a low-adhesive region (11) in a low-adhesive state.
또한, 고점착 영역(10) 및 저점착 영역(11) 중 어느 한쪽은, 다른 쪽보다도 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작아진다.In addition, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm is smaller in either one of the high-
상세하게는, 상기의 중간 적층체(5)의 제조 방법에 있어서, 제 1 점착성 조성물에 의해 점착층을 형성하는 경우에는, 저점착 영역(11)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 고점착 영역(10)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아지고, 제 2 점착성 조성물에 의해 점착층을 형성하는 경우에는, 고점착 영역(10)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 저점착 영역(11)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아진다.Specifically, in the above-described method for producing the
이에 의해, 고점착 영역(10)과, 저점착 영역(11)의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있다. 그 결과, 저점착 영역(11)을 대응하는 기재(2)와 함께 피착체(6)로부터 제거할 수 있는 한편, 고점착 영역(10)을, 피착체(6)에 첩착한 그대로 잔존시켜, 대응하는 기재(2)와 함께 피착체(6)의 보강에 이용할 수 있다.Thereby, the boundary between the high-
그 결과, 피착체(6)가 보강된 제품 적층체(12)(후술)를 얻을 수 있다.As a result, the product laminate 12 (described later) in which the
또한, 이 중간 적층체(5)에 의하면, 동일한 외부 자극(구체적으로는, 활성 에너지선 조사)에 의해, 서로 점착력이 상이함과 함께, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이한 고점착 영역(10) 및 저점착 영역(11)을 형성하는 것에 의해, 이들을 병유시킬 수 있다.Moreover, according to this intermediate
또한, 이 중간 적층체(5)에 의하면, 점착력이 높은 점착성 조성물로 고점착 영역(10)을 형성하고, 점착력이 낮은 점착성 조성물로 저점착 영역(11)을 형성하는 것에 의해, 고점착 영역(10)과 저점착 영역(11)을 병유시키는 것이 아니라, 동일 조성의 점착성 조성물로, 고점착 영역(10) 및 저점착 영역(11)을 형성하는 것에 의해, 이들을 병유시킬 수 있다.Further, according to this
중간 적층체(5)의 제조 방법은, 점착층(3)의 일부에 활성 에너지선을 조사하여, 점착층(3)에, 활성 에너지선을 조사한 자극 부분(7)과, 활성 에너지선을 조사하지 않는 비자극 부분(8)을 형성하는 것에 의해, 자극 부분(7) 및 비자극 부분(8) 중 어느 한쪽이, 점착력이 높은 상태의 고점착 영역(10)이 되고, 다른 쪽이 점착력이 낮은 상태의 저점착 영역(11)이 되며, 또한 자극 부분(7)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비자극 부분(8)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 공정을 구비한다.In the manufacturing method of the intermediate|middle
이에 의해, 서로 점착력이 상이함과 함께, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이한 고점착 영역(10) 및 저점착 영역(11)을 구비하는 점착층(3)을 구비하는 중간 적층체(5)를 제조할 수 있다.Thereby, the intermediate
6. 제품 적층체 및 제품 적층체의 제조 방법6. Product laminate and manufacturing method of product laminate
제품 적층체(12)는, 최종 형태의 디바이스 또는 그 디바이스의 구성 부품이다.The product stacked
다음으로, 제품 적층체(12)의 제조 방법의 일 실시형태에 대하여, 도 6 및 도 7을 참조해서 설명한다.Next, one Embodiment of the manufacturing method of the product laminated
제품 적층체(12)는, 상기의 중간 적층체(5)로부터, 저점착 영역(11)을 제거하는 것에 의해 제조된다.The
구체적으로는, 제품 적층체(12)는, 상기한 중간 적층체(5)의 제조 방법에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하는 제 6 공정과, 점착층(3)에 있어서의 저점착 영역(11)을 제거하는 제 7 공정을 구비하는 제품 적층체의 제조 방법에 의해 제조된다.Specifically, the
제 6 공정에서는, 상기한 중간 적층체(5)의 제조 방법에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하지만, 상기한 바와 같이, 제법 1 및 제법 2 중, 어느 것을 선택하는지에 따라, 잔존하는 고점착 영역(10)이 유색인지 투명인지가 정해진다.In the sixth step, the
그래서, 제법 1에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하는 경우와, 제법 2에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하는 경우로 나누어, 이하 설명한다.Then, it divides into the case where the intermediate
6-1. 제법 1에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하는 경우6-1. When preparing the
첫 번째로, 제법 1에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하는 경우의 제품 적층체(12)의 제조 방법에 대하여, 도 6을 참조해서 설명한다.First, the manufacturing method of the product laminated
제 6 공정에서는, 도 6A에 나타내는 바와 같이, 제 1 점착성 조성물에 의해 점착층(3)을 형성하는 중간 적층체(5)의 제조 방법(제법 1)에 의해 중간 적층체(5)를 제조하여, 중간 적층체(5)를 준비한다.In the sixth step, as shown in Fig. 6A, the
제 7 공정에서는, 도 6B에 나타내는 바와 같이, 중간 적층체(5)로부터 저점착 영역(11)을 제거한다.In the seventh step, as shown in FIG. 6B , the low-
구체적으로는, 고점착 영역(10) 및 그것과 대응하는 기재(2)로 이루어지는 잔존 부분(13)과, 저점착 영역(11) 및 그것과 대응하는 기재(2)로 이루어지는 제거 부분(14)의 경계를, 예를 들면, CO2 레이저 등으로 절단하고, 그 후, 제거 부분(14)만을, 제거 부분(14)의 단을 기점으로 해서, 박리한다.Specifically, a
이때, 고점착 영역(10)(잔존 부분(13)) 및 저점착 영역(11)(제거 부분(14))은, 서로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하기 때문에(구체적으로는, 고점착 영역(10)(잔존 부분(13))이 투명하고, 저점착 영역(11)(제거 부분(14))이 유색이다.), 상기의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있다.At this time, since the high adhesion region 10 (residual portion 13) and the low adhesion region 11 (removed portion 14) have different visible light transmittance at a wavelength of 550 nm (specifically, the high adhesion region) (10) (residual portion 13) is transparent, and low-adhesion region 11 (removed portion 14) is colored), and the above boundary can be visually easily determined.
그리고, 제거 부분(14)에 있어서의 저점착 영역(11)의 점착력은 저하되어 있기 때문에, 중간 적층체(5)로부터 제거 부분(14)을 용이하게 박리할 수 있다.And since the adhesive force of the low-adhesion area|
한편, 잔존 부분(13)에 있어서의 고점착 영역(10)의 점착력은 저하되어 있지 않고, 상기한 높은 점착력을 갖기 때문에, 잔존 부분(13)은, 중간 적층체(5)에 잔존한다.On the other hand, the adhesive force of the high-
또한, 고점착 영역(10)은, 상기한 높은 점착력을 갖기 때문에, 제거 부분(14)을 박리하더라도, 제거 부분(14)에 접하는 잔존 부분(13)의 단부가 떠오르는 것을 억제할 수 있다.In addition, since the high-
그리고, 잔존 부분(13)은, 그대로 피착체(6)의 보강에 이용할 수 있다.And the remaining
이에 의해, 제품 적층체(12)가 얻어진다.Thereby, the product laminated
제품 적층체(12)에 있어서, 잔존 부분(13)은, 투명하기 때문에, 투명성이 요구되는 광 디바이스 및 그 구성 부품에 적합하게 이용할 수 있다.In the
6-2. 제법 2에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하는 경우6-2. When preparing the intermediate
두 번째로, 제법 2에 의해 제조되는 중간 적층체(5)를 준비하는 경우의 제품 적층체(12)의 제조 방법에 대하여, 도 7을 참조해서 설명한다.Second, the manufacturing method of the product laminated
제 6 공정에서는, 도 7A에 나타내는 바와 같이, 제 2 점착성 조성물에 의해 점착층(3)을 형성하는 중간 적층체(5)의 제조 방법(제법 2)에 의해 중간 적층체(5)를 제조하여, 중간 적층체(5)를 준비한다.In the sixth step, as shown in Fig. 7A, the
제 7 공정에서는, 도 7B에 나타내는 바와 같이, 중간 적층체(5)로부터 저점착 영역(11)을 제거한다.In the seventh step, as shown in FIG. 7B , the low-
구체적으로는, 고점착 영역(10) 및 그것과 대응하는 기재(2)로 이루어지는 잔존 부분(13)과, 저점착 영역(11) 및 그것과 대응하는 기재(2)로 이루어지는 제거 부분(14)의 경계를, 예를 들면, CO2 레이저 등으로 절단하고, 그 후, 제거 부분(14)만을, 제거 부분(14)의 단을 기점으로 해서, 박리한다.Specifically, a
이때, 고점착 영역(10)(잔존 부분(13)) 및 저점착 영역(11)(제거 부분(14))은, 서로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하기 때문에(구체적으로는, 고점착 영역(10)(잔존 부분(13))이 유색이고, 저점착 영역(11)(제거 부분(14))이 투명하다.), 상기의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있다.At this time, since the high adhesion region 10 (residual portion 13) and the low adhesion region 11 (removed portion 14) have different visible light transmittance at a wavelength of 550 nm (specifically, the high adhesion region) (10) (residual portion 13) is colored, and low-adhesion region 11 (removed portion 14) is transparent), and the above boundary can be visually easily determined.
그리고, 제거 부분(14)에 있어서의 저점착 영역(11)의 점착력은 저하되어 있기 때문에, 중간 적층체(5)로부터 제거 부분(14)을 용이하게 박리할 수 있다.And since the adhesive force of the low-adhesion area|
한편, 잔존 부분(13)에 있어서의 고점착 영역(10)의 점착력은 저하되어 있지 않고, 상기한 높은 점착력을 갖기 때문에, 잔존 부분(13)은, 중간 적층체(5)에 잔존한다.On the other hand, the adhesive force of the high-
또한, 고점착 영역(10)은, 상기한 높은 점착력을 갖기 때문에, 제거 부분(14)을 박리하더라도, 제거 부분(14)에 접하는 잔존 부분(13)의 단부가 떠오르는 것을 억제할 수 있다.In addition, since the high-
그리고, 잔존 부분(13)은, 그대로 피착체(6)의 보강에 이용할 수 있다.And the remaining
이에 의해, 제품 적층체(12)가 얻어진다.Thereby, the product laminated
제품 적층체(12)에 있어서, 잔존 부분(13)은, 유색이기 때문에, 반사 방지층으로서 이용할 수도 있다.In the
7. 제품 적층체의 제조 방법의 작용 효과7. Effects of the manufacturing method of the product laminate
제품 적층체(12)의 제조 방법은, 상기의 중간 적층체의 제조 방법(제 1 점착성 조성물에 의해 점착층(3)을 형성하는 중간 적층체(5)의 제조 방법(제법 1) 또는 제 2 점착성 조성물에 의해 점착층(3)을 형성하는 중간 적층체(5)의 제조 방법(제법 2))에 의해 제조되는 중간 적층체(5)에 있어서의 점착층(3)의 저점착 영역(11)을 제거하는 제 7 공정을 구비한다.The manufacturing method of the product laminated
저점착 영역(11)에 있어서의 점착력은 낮기 때문에, 제거 부분(14)을 중간 적층체(5)로부터 용이하게 제거할 수 있다.Since the adhesive force in the low-
또한, 고점착 영역(10)(잔존 부분(13)) 및 저점착 영역(11)(제거 부분(14))은, 서로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 상이하기 때문에, 잔존 부분(13)과 제거 부분(14)의 경계를 시각적으로 용이하게 판별할 수 있다. 그 결과, 제거 부분(14)을 피착체(6)로부터 확실히 제거할 수 있다.Further, since the high-adhesion region 10 (remaining portion 13) and the low-adhesion region 11 (removed portion 14) have different visible light transmittance at a wavelength of 550 nm from each other, the remaining
한편, 잔존 부분(13)은, 중간 적층체(5)에 잔존시켜, 피착체(6)를 보강할 수 있다.On the other hand, the remaining
또한, 잔존 부분(13)에 의해, 적당한 강성이 부여되기 때문에, 핸들링성이 향상된다.Moreover, since moderate rigidity is provided by the
특히, 피착체(6)가 전자 디바이스인 경우에 대하여, 전자 디바이스는, 고도 집적화, 소형 경량화 및 구성 부품의 박형화에 수반하여, 전자 디바이스의 구성 부품의 두께가 작아지는 경향이 있다. 이 박형화에 의해, 구성 부품의 적층 계면에서 응력에 기인하는 만곡이나 컬이 생기기 쉬워진다. 또한, 박형화에 의해 자중에 의한 휨이 생기기 쉬워진다.In particular, with respect to the case where the
이와 같은 경우에 있어서도, 이 점착 시트(1)에 의하면, 잔존 부분(13)에 의해, 전자 디바이스에 강성을 부여할 수 있기 때문에, 응력이나 자중 등에 의한 만곡, 컬, 휨 등을 억제하고, 핸들링성을 향상시킬 수 있다.Also in such a case, according to this
또한, 전자 디바이스의 제조 공정에 있어서, 자동화된 장치에 의한 반송이나 가공이 이루어지는 경우에는, 전자 디바이스의 구성 부품이, 반송 암 및 핀 등 부재와 접촉하여, 구성 부품이 파손되는 경우가 있다.Moreover, in the manufacturing process of an electronic device, when conveyance or processing by an automated apparatus is performed, the component of an electronic device may come into contact with members, such as a conveyance arm and a pin, and a component may be damaged.
특히, 고도 집적화, 소형 경량화 및 박형화된 디바이스에서는, 반송 장치 등의 접촉이나 절단 가공 시에, 국소적인 응력의 집중에 의한 파손이나 치수 변화가 생기는 경우가 있다.In particular, in highly integrated, compact, lightweight, and thin devices, damage or dimensional change may occur due to local stress concentration during contact with a conveying device or the like or cutting processing.
이와 같은 경우에 있어서도, 이 점착 시트(1)에 의하면, 잔존 부분(13)에 의해, 적당한 강성이 부여됨과 함께, 응력이 완화·분산되어, 크랙, 깨짐, 벗겨짐, 치수 변화 등을 억제할 수 있다.Even in such a case, according to this
8. 변형예8. Variants
상기한 설명에서는, 외부 자극이 활성 에너지선 조사인 경우에 대하여 설명했지만, 외부 자극은 가열이어도 된다.Although the above description demonstrated the case where an external stimulus was active energy ray irradiation, heating may be sufficient as an external stimulus.
외부 자극이 가열인 경우에는, 점착층(3)은, 가열에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 가열에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어진다.When the external stimulus is heating, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced by heating, and the state of the
이와 같은 점착성 조성물로서는, 가열에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 가열에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 3 점착성 조성물을 들 수 있다.Examples of such a pressure-sensitive adhesive composition include a third pressure-sensitive adhesive composition in which the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced by heating and can be irreversibly changed from a low adhesive strength to a high adhesive strength state by heating.
제 3 점착성 조성물은, 상기한 폴리머와, 오가노실록세인 함유 성분과, 상기한 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 열산 발생제를 포함한다.The third pressure-sensitive adhesive composition contains the above-described polymer, the organosiloxane-containing component, and a compound that develops color by reaction of the above-described acid, and a thermal acid generator.
오가노실록세인 함유 성분으로서는, 예를 들면, 오가노실록세인 골격을 갖는 아크릴 폴리머, 유레테인계 폴리머, 폴리에터계 폴리머, 폴리에스터계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머, 폴리뷰타다이엔계 폴리머 등을 들 수 있고, 점착력의 제어의 관점에서는, 바람직하게는 오가노실록세인 골격을 갖는 아크릴 폴리머를 들 수 있다.As the organosiloxane-containing component, for example, an acrylic polymer having an organosiloxane skeleton, a urethane polymer, a polyether polymer, a polyester polymer, a polycarbonate polymer, a polybutadiene polymer, etc. From a viewpoint of control of adhesive force, Preferably, the acrylic polymer which has organosiloxane frame|skeleton is mentioned.
열산 발생제는, 가열에 의해 산을 발생시키는 화합물이고, 예를 들면, 아릴설포늄염, 아릴아이오도늄염 등을 들 수 있다.A thermal acid generator is a compound which generate|occur|produces an acid by heating, For example, an arylsulfonium salt, an aryliodonium salt, etc. are mentioned.
실시예Example
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 한편, 본 발명은, 실시예 및 비교예로 전혀 한정되지 않는다. 또한, 이하의 기재에 있어서 이용되는 배합 비율(함유 비율), 물성치, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기의 「발명을 실시하기 위한 구체적인 내용」에 있어서 기재되어 있는, 그들에 대응하는 배합 비율(함유 비율), 물성치, 파라미터 등 해당 기재의 상한치(「이하」, 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한치(「이상」, 「초과」로서 정의되어 있는 수치)로 대체할 수 있다.Examples and comparative examples are shown below, and the present invention will be described more specifically. In addition, this invention is not limited at all to an Example and a comparative example. In addition, specific numerical values, such as a compounding ratio (content ratio), physical property value, parameter, etc. used in the following description are described in the above "Specific contents for carrying out the invention", and the corresponding compounding ratio (contains) ratio), physical properties, parameters, etc., may be substituted with the upper limit (the numerical value defined as “less than” or “less than”) or the lower limit (the numerical value defined as “more than” or “exceed”) of the description.
한편, 「부」 및 「%」는, 특별히 언급이 없는 한, 질량 기준이다.In addition, unless otherwise indicated, "part" and "%" are based on mass.
1. 성분의 상세1. Details of ingredients
각 실시예 및 각 비교예에서 이용한 각 성분을 이하에 기재한다.Each component used in each Example and each comparative example is described below.
타케네이트 D110N: 자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체의 75% 아세트산 에틸 용액, 미쓰이 화학제Takenate D110N: 75% ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals
테트라드 C: N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일릴렌다이아민(4작용의 에폭시 화합물, 미쓰비시 가스 화학제)Tetrad C: N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine (tetrafunctional epoxy compound, manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals)
A-DPH: 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트; 작용기 당량 96g/eqA-DPH: dipentaerythritol hexaacrylate; functional group equivalent 96 g/eq
APG700: 폴리프로필렌 글라이콜 #700(n=12) 다이아크릴레이트; 작용기 당량 404g/eqAPG700: polypropylene glycol #700 (n=12) diacrylate; functional group equivalent 404 g/eq
A200: 폴리에틸렌 글라이콜 #200(n=4) 다이아크릴레이트; 작용기 당량 154g/eqA200: polyethylene glycol #200 (n=4) diacrylate; functional group equivalent 154 g/eq
A600: 폴리에틸렌 글라이콜 #600(n=14) 다이아크릴레이트; 작용기 당량 354g/eqA600: polyethylene glycol #600 (n=14) diacrylate; functional group equivalent 354 g/eq
이르가큐어 184: 1-하이드록시사이클로헥실 페닐 케톤, BASF제Irgacure 184: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone from BASF
이르가큐어 651: 2,2-다이메톡시-1,2-다이페닐에탄-1-온Irgacure 651: 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one
BLACK ND1: 로이코 염료, 야마다 화학공업제BLACK ND1: leuco dye, made by Yamada Chemical Industries, Ltd.
CPI-310B: 설포늄과 (C6F5)4B-로 이루어지는 염, 광산 발생제, 산아프로제CPI-310B: salt consisting of sulfonium and (C 6 F 5 ) 4 B - , photoacid generator, acid aprose
2. 폴리머의 조제2. Preparation of polymer
합성예 1 Synthesis Example 1
온도계, 교반기, 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 반응 용기에, 모노머로서, 메틸 메타크릴레이트(MMA) 9중량부, 2-에틸헥실 아크릴레이트(2EHA) 63중량부, 하이드록시에틸 아크릴레이트(HEA) 13중량부, N-바이닐피롤리돈(NVP) 15중량부, 중합 개시제로서 아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.2중량부, 및 용매로서 아세트산 에틸 233중량부를 투입하고, 질소 가스를 흘려보내고, 교반하면서 약 1시간 질소 치환했다. 그 후, 60℃로 가열하고, 7시간 반응시켜, 중량 평균 분자량(Mw)이 1200000인 아크릴계 폴리머의 용액을 얻었다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux cooling tube and a nitrogen gas introduction tube, as monomers, 9 parts by weight of methyl methacrylate (MMA), 63 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), and
합성예 2 Synthesis Example 2
온도계, 교반기, 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 반응 용기에, 모노머 성분으로서, n-뷰틸 아크릴레이트(BA) 95부 및 아크릴산(AA) 5부를 투입하고, 질소 가스를 도입하면서, 질소 가스를 흘려보내고, 교반하면서 2시간 질소 치환했다. 그 후, 중합 개시제로서 0.2부의 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴(AIBN)을 가하고, 60℃에서 8시간 용액 중합하여, 중량 평균 분자량(Mw)이 600000인 아크릴계 폴리머의 용액을 얻었다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux cooling tube, and a nitrogen gas introduction tube, 95 parts of n-butyl acrylate (BA) and 5 parts of acrylic acid (AA) as monomer components are charged, and nitrogen gas is introduced while nitrogen is introduced. The gas was discharged and nitrogen substituted for 2 hours while stirring. Then, 0.2 parts of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added as a polymerization initiator, and solution polymerization was carried out at 60° C. for 8 hours to obtain a solution of an acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of 600000. .
3. 점착성 조성물의 조제3. Preparation of adhesive composition
조제예 1(제 1 점착성 조성물의 조제) Preparation Example 1 (Preparation of the first adhesive composition)
합성예 1의 아크릴계 폴리머 용액에, 가교제로서, 타케네이트 D110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체의 75% 아세트산 에틸 용액, 미쓰이 화학제)을 폴리머의 고형분 100중량부에 대해서 2.5질량부, 광경화제로서, A-DPH(다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트)를, 폴리머의 고형분 100중량부에 대해서 30질량부, 광중합 개시제로서, 이르가큐어 184(1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, BASF사제)를, 폴리머의 고형분 100중량부에 대해서 0.1질량부, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물로서, BLACK ND1(로이코 염료)을, 폴리머의 고형분 100중량부에 대해서 1질량부, 광산 발생제로서, CP-310B를, 폴리머의 고형분 100중량부에 대해서 2질량부를 첨가하고, 균일하게 혼합하여, 점착성 조성물(제 1 점착성 조성물)을 조제했다.To the acrylic polymer solution of Synthesis Example 1, as a crosslinking agent, Takenate D110N (75% ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals) was added 100 parts by weight of polymer solid content to 2.5 parts by mass, A-DPH (dipentaerythritol hexaacrylate) as a photocuring agent, 30 parts by mass based on 100 parts by weight of polymer solid content, as a photopolymerization initiator, Irgacure 184 (1-hydroxycyclo Hexylphenyl ketone, manufactured by BASF), 0.1 parts by mass based on 100 parts by weight of the polymer solid content, as a compound that develops color by reaction with an acid, BLACK ND1 (leuco dye), 1 part by mass based on 100 parts by weight of the polymer solid content , As a photoacid generator, 2 parts by mass of CP-310B was added with respect to 100 parts by weight of solid content of the polymer, and the mixture was uniformly mixed to prepare an adhesive composition (first adhesive composition).
조제예 2(제 2 점착성 조성물의 조제) Preparation Example 2 (Preparation of the second adhesive composition)
광경화제를, APG700(폴리프로필렌 글라이콜 #700(n=12) 다이아크릴레이트)으로 변경한 것 이외에는, 조제예 1과 마찬가지로 해서, 점착성 조성물(제 2 점착성 조성물)을 조제했다.Except having changed the photocuring agent into APG700 (polypropylene glycol #700 (n=12) diacrylate), it carried out similarly to Preparation Example 1, and prepared the adhesive composition (2nd adhesive composition).
조제예 3∼조제예 10 Preparation Example 3 - Preparation Example 10
배합 처방을, 표 1의 기재에 따라 변경한 것 이외에는, 조제예 1과 마찬가지로 처리하여, 점착성 조성물을 제조했다.Except having changed the formulation formulation according to description of Table 1, it processed similarly to Preparation Example 1, and the adhesive composition was manufactured.
4. 점착 시트의 제조4. Preparation of adhesive sheet
실시예 1 Example 1
기재로서의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(두께 75μm)의 상면에, 조제예 1의 점착성 조성물을, 건조 후의 두께가 25μm가 되도록, 파운틴 롤에 의해 도포했다. 이어서, 130℃에서 1분간 건조하여 용매를 제거했다. 이에 의해, 기재의 일방면에 점착층을 형성했다. 추가로, 점착층의 일방면에, 박리 필름(표면이 실리콘 이형 처리된 두께 25μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름)의 이형 처리면을 첩합(貼合)했다. 그 후, 25℃의 분위기에서 4일간의 에이징 처리를 하여, 폴리머와 가교제의 가교 반응을 진행시켰다. 이에 의해, 점착 시트를 제조했다.On the upper surface of the polyethylene terephthalate film (thickness 75 micrometers) as a base material, the adhesive composition of Preparation Example 1 was apply|coated with the fountain roll so that the thickness after drying might be set to 25 micrometers. Then, it dried at 130 degreeC for 1 minute, and the solvent was removed. Thereby, the adhesive layer was formed in one side of a base material. Furthermore, the release-treated surface of the peeling film (the 25-micrometer-thick polyethylene terephthalate film by which the surface was silicone release-processed) was pasted together by one side of the adhesion layer. Thereafter, an aging treatment was performed for 4 days in an atmosphere of 25° C. to advance a crosslinking reaction between the polymer and the crosslinking agent. Thereby, the adhesive sheet was manufactured.
실시예 2∼실시예 7, 비교예 1∼비교예 3 Examples 2 to 7, Comparative Examples 1 to 3
점착성 조성물을, 표 1의 기재에 따라 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 처리하여, 점착 시트를 제조했다.Except having changed the adhesive composition according to description of Table 1, it processed similarly to Example 1, and produced the adhesive sheet.
5. 평가5. Evaluation
(투과율)(transmittance)
각 실시예 및 각 비교예의 점착 시트에 대하여, LED(365nm, 4000mJ/□)를 조사하기 전후에서의 550nm에 있어서의 투과율, 및 300nm∼700nm에 있어서의 평균 투과율을 측정했다.About the adhesive sheet of each Example and each comparative example, the transmittance|permeability in 550 nm before and behind irradiating LED (365 nm, 4000 mJ/□), and the average transmittance|permeability in 300 nm - 700 nm were measured.
그 결과를 표 1에 나타낸다.The results are shown in Table 1.
(점착력)(adhesiveness)
두께 25μm의 폴리이미드 필름을, 양면 접착 테이프(닛토 전공제 「No. 531」)를 개재시켜 유리판에 첩부하여, 측정용 폴리이미드 필름 기판을 얻었다. 이어서, 각 실시예 및 각 비교예의 점착 시트로부터 박리 필름을 제거하고, 점착 시트와, 측정용 폴리이미드 필름 기판을, 핸드 롤러를 이용하여, 25℃에서 첩합하여, 측정용 시료를 조제했다.The polyimide film with a thickness of 25 micrometers was affixed to the glass plate through the double-sided adhesive tape ("No. 531" manufactured by Nitto Electric Co., Ltd.), and the polyimide film board|substrate for a measurement was obtained. Next, the peeling film was removed from the adhesive sheet of each Example and each comparative example, the adhesive sheet and the polyimide film board|substrate for a measurement were bonded together at 25 degreeC using the hand roller, and the sample for a measurement was prepared.
이어서, 이 측정용 시료를, 25℃, 상대습도 50%에 있어서, 30분간 방치한 후, 점착력(UV 조사 전 점착력)을 측정했다.Next, after leaving this sample for a measurement to stand for 30 minutes in 25 degreeC and 50% of relative humidity, the adhesive force (adhesive force before UV irradiation) was measured.
별도, 상기와 마찬가지의 수순으로, 측정용 시료를 조제하고, 이 측정용 시료를, 25℃, 상대습도 50%에 있어서, 30분간 방치한 후, 점착 시트의 기재측으로부터, LED(365nm, 4000mJ/□)를 조사하고, 추가로 25℃, 상대습도 50%에 있어서, 30분간 방치한 후, 점착력(UV 조사 후 점착력)을 측정했다.Separately, in the same procedure as above, a sample for measurement is prepared, and this sample for measurement is left to stand for 30 minutes at 25°C and 50% relative humidity, and then LED (365 nm, 4000 mJ) from the base side of the pressure-sensitive adhesive sheet. /□), and further, after leaving it to stand for 30 minutes in 25 degreeC and 50% of relative humidity, the adhesive force (adhesive force after UV irradiation) was measured.
점착력의 측정은, 측정용 시료의 단부(점착 시트의 단부)를 척으로 보지하고, 인장 속도 300mm/분으로, 보강 필름의 180° 필을 실시하여, 필 강도를 측정했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.The measurement of adhesive force held the edge part (end part of an adhesive sheet) of the sample for a measurement with a chuck|zipper, performed 180 degree peel of a reinforcement film at 300 mm/min of tensile speed|rate, and measured peeling strength. The results are shown in Table 1.
한편, 상기 발명은, 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공했지만, 이는 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석해서는 안 된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는, 후기 청구의 범위에 포함되는 것이다.In addition, although the said invention was provided as embodiment of the illustration of this invention, this is only a mere illustration and should not be interpreted limitedly. Modifications of the present invention that are obvious to those skilled in the art are included in the following claims.
본 발명의 점착 시트는, 광학 디바이스나 전자 디바이스 등 각종 디바이스의 표면에 첩합되는 보강용 점착 시트로서 적합하게 이용된다.The adhesive sheet of this invention is used suitably as an adhesive sheet for reinforcement bonded to the surface of various devices, such as an optical device and an electronic device.
또한, 본 발명의 중간 적층체, 중간 적층체의 제조 방법 및 제품 적층체의 제조 방법은, 광학 디바이스나 전자 디바이스 등 각종 디바이스에 있어서, 적합하게 이용된다.In addition, the intermediate laminated body of this invention, the manufacturing method of an intermediate laminated body, and the manufacturing method of a product laminated body are various devices, such as an optical device and an electronic device, WHEREIN: It is used suitably.
1 점착 시트
2 기재
3 점착층
5 중간 적층체
6 피착체
7 자극 부분
8 비자극 부분
10 고점착 영역
11 저점착 영역
12 제품 적층체1 adhesive sheet
2 description
3 adhesive layer
5 Intermediate Laminate
6 adherend
7 stimulus part
8 non-irritating part
10 High adhesion area
11 Low tack area
12 product stack
Claims (13)
상기 점착층은, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 점착 시트.A substrate and an adhesive layer disposed on one side of the substrate,
The adhesive layer is characterized in that the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced by an external stimulus, and the adhesive composition can be irreversibly changed into a high adhesive force and a low adhesive force by the external stimulus. which is an adhesive sheet.
상기 외부 자극이 활성 에너지선 조사인 것을 특징으로 하는, 점착 시트.The method of claim 1,
The pressure-sensitive adhesive sheet, characterized in that the external stimulus is active energy ray irradiation.
상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 1 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 제 1 점착성 조성물은, 폴리머와, 제 1 광경화제와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 점착 시트.The method of claim 1,
A first adhesive composition in which the adhesive layer is capable of reducing the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy rays, and irreversibly changing its state from a state of high adhesion to a state of low adhesion by irradiation with active energy rays is made of,
The said 1st adhesive composition contains a polymer, a 1st photocuring agent, a photoinitiator, the compound which develops color by reaction with an acid, and a photo-acid generator, The adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상태 변화 전의 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 6×104Pa 이상 9×104Pa 이하이고,
상태 변화 후의 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 2.00×106Pa 이상 5.00×106Pa 이하인 것을 특징으로 하는, 점착 시트.4. The method of claim 3,
The shear storage modulus G' at 25° C. of the pressure-sensitive adhesive layer before the change of state is 6×10 4 Pa or more and 9×10 4 Pa or less,
Shear storage elastic modulus G' at 25 degreeC of the adhesive layer after a state change is 2.00x10 6 Pa or more and 5.00x10 6 Pa or less, The adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 2 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 제 2 점착성 조성물은, 폴리머와, 제 2 광경화제와, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산 발생제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 점착 시트.The method of claim 1,
A second adhesive composition in which the adhesive layer can reduce the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy ray, and irreversibly change the state from a low adhesive force to a high adhesive force by active energy ray irradiation is made of,
The said 2nd adhesive composition contains a polymer, a 2nd photocuring agent, a photoinitiator, the compound which develops color by reaction with an acid, and a photo-acid generator, The adhesive sheet characterized by the above-mentioned.
상태 변화 전의 상기 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 1×104Pa 이상 1.2×105Pa 이하이고,
상태 변화 후의 상기 점착층의 25℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가, 1.5×105Pa 이상 2.0×106Pa 이하인 것을 특징으로 하는, 점착 시트.6. The method of claim 5,
The shear storage modulus G' at 25° C. of the pressure-sensitive adhesive layer before the change of state is 1×10 4 Pa or more and 1.2×10 5 Pa or less,
Shear storage elastic modulus G' at 25°C of the pressure-sensitive adhesive layer after the state change is 1.5×10 5 Pa or more and 2.0×10 6 Pa or less, The pressure-sensitive adhesive sheet.
상기 점착층은, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태와 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 점착층은, 점착력이 높은 상태의 점착성 조성물로 이루어지는 고점착 영역과, 점착력이 낮은 상태의 점착성 조성물로 이루어지는 저점착 영역을 구비하고,
상기 고점착 영역 및 상기 저점착 영역 중 어느 한쪽은, 다른 쪽보다도 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.A pressure-sensitive adhesive sheet having a base material and an adhesive layer disposed on one side of the base material, and an adherend disposed on one side of the pressure-sensitive adhesive sheet,
The adhesive layer is made of an adhesive composition capable of reducing visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by an external stimulus, and irreversibly changing the state into a high adhesive force and a low adhesive force by the external stimulus,
The pressure-sensitive adhesive layer includes a high-adhesive region made of a pressure-sensitive adhesive composition with high adhesive strength and a low-adhesive region made of a low-adhesive composition comprising a low-adhesive composition,
An intermediate laminate, characterized in that either one of the high adhesion region and the low adhesion region has a smaller visible light transmittance at a wavelength of 550 nm than the other.
상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 1 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 고점착 영역은, 상태 변화 전의 상기 제 1 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 저점착 영역은, 상태 변화 후의 상기 제 1 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 저점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 상기 고점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작은 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.8. The method of claim 7,
A first adhesive composition in which the adhesive layer is capable of reducing the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy rays, and irreversibly changing its state from a state of high adhesion to a state of low adhesion by irradiation with active energy rays is made of,
The high-adhesive region consists of the first adhesive composition before the change of state,
The low-adhesive region consists of the first adhesive composition after the change of state,
An intermediate laminate, characterized in that a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm in the low adhesion region is smaller than a visible light transmittance in the high adhesion region at a wavelength of 550 nm.
상기 점착층이, 활성 에너지선 조사에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 활성 에너지선 조사에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 2 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 저점착 영역은, 상태 변화 전의 상기 제 2 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 고점착 영역은, 상태 변화 후의 상기 제 2 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 고점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 상기 저점착 영역의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작은 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.8. The method of claim 7,
A second adhesive composition in which the adhesive layer can reduce the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by irradiation with active energy ray, and irreversibly change the state from a low adhesive force to a high adhesive force by active energy ray irradiation is made of,
The low-adhesive region consists of the second adhesive composition before the change of state,
The high-adhesive region consists of the second adhesive composition after the change of state,
The intermediate laminate according to claim 1, wherein a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm in the high adhesion region is smaller than a visible light transmittance in the low adhesion region at a wavelength of 550 nm.
상기 점착 시트의 일방면에 피착체를 배치하는 공정, 및
상기 점착층의 일부에 상기 외부 자극을 주어, 상기 점착층에, 상기 외부 자극이 주어진 자극 부분과, 상기 외부 자극이 주어져 있지 않은 비자극 부분을 형성하는 것에 의해, 상기 자극 부분 및 상기 비자극 부분 중 어느 한쪽이, 점착력이 높은 상태의 고점착 영역이 되고, 다른 쪽이 점착력이 낮은 상태의 저점착 영역이 되며, 또한 상기 자극 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 상기 비자극 부분의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.Adhesiveness that is arranged on one side of the substrate and the substrate, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm can be reduced by an external stimulus, and the state can be irreversibly changed into a state with high adhesion and a state with low adhesion by the external stimulus A step of preparing an adhesive sheet provided with an adhesive layer made of a composition,
disposing an adherend on one side of the pressure-sensitive adhesive sheet; and
The external stimulus is applied to a part of the adhesive layer to form, in the adhesive layer, a stimulus part to which the external stimulus is applied and a non-stimulation part to which the external stimulus is not applied. One side is a high adhesion region with high adhesive force, and the other is a low adhesion region with low adhesive force, and the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the magnetic pole portion is visible light at a wavelength of 550 nm of the non-stimulating portion A method for producing an intermediate laminate, comprising the step of making the transmittance smaller than the transmittance.
상기 점착층이, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 높은 상태로부터 점착력이 낮은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 1 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 자극 부분이, 상기 저점착 영역이 되고,
상기 비자극 부분이, 상기 고점착 영역이 되는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.11. The method of claim 10,
The adhesive layer is composed of a first adhesive composition capable of reducing visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by an external stimulus, and irreversibly changing the state from a high adhesive force to a low adhesive force by the external stimulus, ,
The magnetic pole portion becomes the low-adhesive region,
The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by the said non-stimulation part becoming the said high-adhesion area|region.
상기 점착층이, 외부 자극에 의해서 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 저하 가능하고, 또한 상기 외부 자극에 의해서 점착력이 낮은 상태로부터 점착력이 높은 상태로, 불가역적으로 상태 변화 가능한 제 2 점착성 조성물로 이루어지고,
상기 자극 부분이, 상기 고점착 영역이 되고,
상기 비자극 부분이, 상기 저점착 영역이 되는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.11. The method of claim 10,
The adhesive layer is composed of a second adhesive composition capable of reducing visible light transmittance at a wavelength of 550 nm by an external stimulus, and irreversibly changing the state from a low adhesive force to a high adhesive force by the external stimulus, ,
The magnetic pole portion becomes the high-adhesive region,
The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by the said non-stimulation part becoming the said low-adhesion area|region.
상기 점착층에 있어서의 상기 저점착 영역을 제거하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는, 제품 적층체의 제조 방법.The process of preparing the intermediate laminated body manufactured by the manufacturing method of the intermediate laminated body of Claim 10;
The manufacturing method of the product laminated body characterized by comprising the process of removing the said low adhesive area|region in the said adhesive layer.
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