KR20180097664A - Silicone resin composition and sealing material for semiconductor light emitting device - Google Patents
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Abstract
UV 안정성이 높은 실리콘 수지 조성물의 경화물의 제조에 유용한 실리콘 수지 조성물을 제공한다. 적어도 1개의 실리콘 수지를 포함하는 실리콘 수지 조성물로서, 하기 (ⅰ)∼(ⅲ)의 요건을 충족시키는, 실리콘 수지 조성물. (ⅰ) 함유하는 규소 원자가, A1 규소 원자 및/또는 A2 규소 원자와, A3 규소 원자로 실질적으로 이루어지고, A1 규소 원자∼A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율이 50몰% 이상 99몰% 이하이다. (ⅱ) 상기 규소 원자에 결합하는 측쇄가, 알킬기, 알콕시기 또는 수산기이고, 알콕시기의 몰비가 알킬기 100에 대하여 5 미만이며, 수산기의 몰비가 알킬기 100에 대하여 10 이상이다. (ⅲ) 금속 촉매를 실질적으로 함유하지 않고, 또한, 금속을 포함하지 않는 경화용 촉매를 함유하고, 조성물에 있어서의 경화용 촉매의 농도가 600ppm 이하이다.There is provided a silicone resin composition useful in the production of a cured product of a silicone resin composition having high UV stability. A silicone resin composition comprising at least one silicone resin, which satisfies the following requirements (i) - (iii). (I) the silicon atom contained therein is substantially composed of A1 silicon atoms and / or A2 silicon atoms and A3 silicon atoms, and the ratio of the content of A3 silicon atoms to the total content of A1 silicon atoms to A3 silicon atoms is 50 mol % Or more and 99 mol% or less. (Ii) the side chain bonded to the silicon atom is an alkyl group, an alkoxy group or a hydroxyl group, the molar ratio of the alkoxy group is less than 5 per 100 alkyl groups, and the molar ratio of hydroxyl groups is 100 or more per 100 alkyl groups. (Iii) a curing catalyst substantially containing no metal catalyst and containing no metal, and the concentration of the curing catalyst in the composition is 600 ppm or less.
Description
본 발명은 실리콘 수지 조성물 및 반도체 발광 소자용 밀봉재에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 실리콘 수지 조성물, 실리콘 수지 조성물의 경화물, 및 실리콘 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 반도체 발광 소자용 밀봉재에 관한 것이다.The present invention relates to a silicone resin composition and a sealing material for a semiconductor light emitting device. More particularly, the present invention relates to a silicone resin composition, a cured product of the silicone resin composition, and a sealing material for a semiconductor light emitting device comprising a cured product of the silicone resin composition.
근래에 UV(자외)-LED가 시장에 출회되기 시작하고 있다. UV-LED의 밀봉에는 석영 유리가 일반적으로 이용되고 있다. 그러나, 석영 유리는 고가이기 때문에, 제품 가격이 고가가 되어, 시장 경쟁력이 낮아진다는 문제가 있었다. 또한, 석영 유리를 이용하여 UV-LED의 밀봉를 행하는 경우, UV-LED와 석영 유리의 사이에는 공간(밀봉 공간)이 존재한다. 이 공간과 UV-LED의 표면과의 계면에 있어서의 굴절률차, 및 이 공간과 석영 유리의 표면과의 계면에 있어서의 굴절률차는 모두 크기 때문에, UV광이 반사되는 것에 의해, UV광의 취출 효율이 낮다는 문제가 있었다. 그래서, 실리콘 수지 조성물의 경화물을 UV-LED의 밀봉재로서 이용하는 것이 제안되어 있다.In recent years, UV (ultraviolet) -LEDs are beginning to appear on the market. Quartz glass is commonly used for the sealing of UV-LEDs. However, since quartz glass is expensive, the price of the product is high and the market competitiveness is low. Further, when the UV-LED is sealed using quartz glass, a space (sealing space) exists between the UV-LED and the quartz glass. Since the difference in refractive index between the space and the surface of the UV-LED and the refractive index difference at the interface between the space and the surface of the quartz glass are both large, the UV light is reflected, There was a problem that it was low. Therefore, it has been proposed to use a cured product of a silicone resin composition as a sealing material for UV-LED.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 파장 230∼850nm의 흡수 계수가 5cm-1 이하인 자외 투명 폴리실세스퀴옥산유리를 밀봉재에 이용하는 것이 기재되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses the use of an ultraviolet transparent polysilsesquioxane glass having an absorption coefficient of 230 cm to 850 nm of 5 cm -1 or less as a sealing material.
그러나, 상기의 실리콘 수지 조성물의 경화물은 UV광에 대한 투과율이 불충분하다. 또한, 상기의 실리콘 수지 조성물의 경화물은, 석영 유리와 비교하면 UV광에 의해 열화하기 쉬워, 열화에 의해 UV광에 대한 투과율이 더 저하된다. 그 때문에, 실리콘 수지 조성물의 경화물을 UV-LED의 밀봉재로서 이용함에 있어서, 장기에 걸쳐 UV광을 높은 투과율로 투과시키는 것이 가능한 실리콘 수지 조성물의 경화물이 요구되고 있었다.However, the cured product of the above-mentioned silicone resin composition has insufficient transmittance to UV light. Further, the cured product of the silicone resin composition is easily deteriorated by UV light as compared with quartz glass, and the transmittance to UV light is further lowered by deterioration. Therefore, there has been a demand for a cured product of a silicone resin composition capable of transmitting UV light with high transmittance over a long period of time in using a cured product of the silicone resin composition as a sealing material for UV-LED.
실리콘 수지 조성물의 경화물을 이용한 밀봉재에 있어서, UV광에 의해 열화되기 어려운 것을 「UV 안정성」이라고 언급하는 경우가 있다. 또한, 실리콘 수지 조성물의 경화물을 이용한 밀봉재에 있어서, UV광에 의해 열화되기 어려워, 장기에 걸쳐 UV광을 높은 투과율로 투과시키는 특성을 「UV 안정성이 높다」고 언급하는 경우가 있다.In a sealing material using a cured product of a silicone resin composition, what is hardly deteriorated by UV light is sometimes referred to as " UV stability ". Further, in a sealing material using a cured product of a silicone resin composition, there is a case where it is difficult to be deteriorated by UV light, and the characteristic of transmitting UV light with high transmittance over a long period of time is referred to as " high UV stability ".
본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, UV 안정성이 높은 실리콘 수지 조성물의 경화물의 제조에 유용한 실리콘 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한 당해 실리콘 수지 조성물의 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한 당해 실리콘 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 반도체 발광 소자용 밀봉재를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a silicone resin composition useful for the production of a cured product of a silicone resin composition having high UV stability. The present invention also aims to provide a cured product of the silicone resin composition. It is another object of the present invention to provide a sealing material for a semiconductor light emitting device comprising a cured product of the silicone resin composition.
본 발명은, 이하의 [1]∼[5]를 제공한다.The present invention provides the following [1] to [5].
[1][One]
적어도 1개의 실리콘 수지를 포함하는 실리콘 수지 조성물로서,A silicone resin composition comprising at least one silicone resin,
하기 (ⅰ)∼(ⅲ)의 요건을 충족시키는, 실리콘 수지 조성물.Wherein the silicone resin composition satisfies the following requirements (i) - (iii).
(ⅰ) 함유하는 규소 원자가, A1 규소 원자 및 A2 규소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 규소 원자와, A3 규소 원자로 실질적으로 이루어지고, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율이 50몰% 이상 99몰% 이하이다.(I) at least one silicon atom selected from the group consisting of A1 silicon atoms and A2 silicon atoms, and A3 silicon atoms, and the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms , The ratio of the content of A3 silicon atoms is 50 mol% or more and 99 mol% or less.
(ⅱ) 상기 규소 원자에 결합하는 측쇄가, 탄소수 1∼3의 알킬기, 탄소수 1 또는 2의 알콕시기, 또는, 수산기이고, 알콕시기의 몰비가 알킬기 100에 대하여 5 미만이며, 수산기의 몰비가 알킬기 100에 대하여 10 이상이다.(Ii) the side chain bonded to the silicon atom is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms, or a hydroxyl group, the molar ratio of the alkoxy group is less than 5 per 100 alkyl groups, 100 or more.
(ⅲ) 금속 촉매를 실질적으로 함유하지 않고, 또한, 금속을 포함하지 않는 경화용 촉매(당해 경화용 촉매는, 산 촉매 또는 염기 촉매임)를 함유하고, 실리콘 수지 조성물에 있어서의 경화용 촉매의 농도가 600ppm(질량 백만분률) 이하이다.(Iii) a curing catalyst which contains substantially no metal catalyst and which does not contain a metal (the curing catalyst is an acid catalyst or a base catalyst), and the catalyst for curing The concentration is 600 ppm (mass per million) or less.
[여기서,[here,
A1 규소 원자란, 하기 식(A1)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 1개의 산소 원자(당해 산소 원자는, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있음), 1개의 R1 및 2개의 R2와 결합하고 있는 규소 원자, 또는, 하기 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 1개의 결합손(당해 결합손은, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있는 산소 원자와 결합하고 있음), 1개의 R1 및 2개의 R2와 결합하고 있는 규소 원자이다.The A1 silicon atom is a structural unit represented by the following formula (A1) wherein one oxygen atom (the oxygen atom is bonded to a silicon atom in another structural unit), one R 1 and two R 2 Or a structural unit represented by the following formula (A1 '), one bonding hand (the bonding hand is bonded to an oxygen atom bonding with a silicon atom in another structural unit), or a structural unit represented by the following formula Is a silicon atom bonded to one R < 1 > and two R < 2 >
A2 규소 원자란, 하기 식(A2)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 1개의 산소 원자(당해 산소 원자는, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있음), 1개의 결합손(당해 결합손은, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있는 산소 원자와 결합하고 있음), 1개의 R1 및 1개의 R2와 결합하고 있는 규소 원자이다.The A2 silicon atom is a structural unit represented by the following formula (A2), wherein one oxygen atom (the oxygen atom is bonded to the silicon atom in the other structural unit) and one bonding hand Is bonded to an oxygen atom bonded to a silicon atom in another structural unit), and is a silicon atom bonded to one R 1 and one R 2 .
A3 규소 원자란, 하기 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 2개의 산소 원자(당해 산소 원자는, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있음), 1개의 결합손(당해 결합손은, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있는 산소 원자와 결합하고 있음) 및 1개의 R1과 결합하고 있는 규소 원자이다.The A3 silicon atom is a structural unit represented by the following formula (A3) wherein two oxygen atoms (the oxygen atom is bonded to a silicon atom in another structural unit) and one bonding hand Is bonded to an oxygen atom bonded to a silicon atom in the other structural unit) and a silicon atom bonded to one R < 1 >.
R1은 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, R2는 탄소수 1 또는 2의 알콕시기 또는 수산기를 나타낸다.]R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and R 2 represents an alkoxy group or a hydroxyl group having 1 or 2 carbon atoms.
[2][2]
상기 실리콘 수지로서, 하기의 제 1 실리콘 수지를 포함하는, 청구항 1에 기재된 실리콘 수지 조성물.The silicone resin composition according to claim 1, comprising the following first silicone resin as the silicone resin.
제 1 실리콘 수지 : First silicone resin:
함유하는 규소 원자가, 상기 A1 규소 원자 및 상기 A2 규소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 규소 원자와, 상기 A3 규소 원자로 실질적으로 이루어지고, 상기 A1 규소 원자, 상기 A2 규소 원자 및 상기 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, 상기 A3 규소 원자의 함유량의 비율이, 60몰% 이상 90몰% 이하이고, 또한, 중량 평균 분자량이 1500 이상 8000 이하인, 실리콘 수지.Containing silicon atom is at least one silicon atom selected from the group consisting of the A1 silicon atom and the A2 silicon atom and the A3 silicon atom, and the A1 silicon atom, the A2 silicon atom and the A3 silicon atom Wherein the ratio of the content of the A3 silicon atom to the total content of the A3 silicon atom is from 60 mol% to 90 mol%, and the weight average molecular weight is from 1,500 to 8,000.
[3][3]
상기 실리콘 수지로서, 하기의 제 2 실리콘 수지를 포함하는, 청구항 1 또는 2에 기재된 실리콘 수지 조성물.The silicone resin composition according to claim 1 or 2, wherein the silicone resin comprises the following second silicone resin.
제 2 실리콘 수지 : Second silicone resin:
5℃/분의 승온 속도로 실온으로부터 200℃까지 승온시키고, 200℃에서 5시간 공기 중에서 보지(保持)했을 때의 질량 감소율이 5% 미만인, 실리콘 수지.Wherein the mass reduction rate when the temperature is raised from room temperature to 200 占 폚 at a temperature raising rate of 5 占 폚 / min and held (held) in air at 200 占 폚 for 5 hours is less than 5%.
[4][4]
[1]∼[3] 중 어느 한 항에 기재된 실리콘 수지 조성물의 경화물.A cured product of the silicone resin composition according to any one of [1] to [3].
[5][5]
[1]∼[3] 중 어느 한 항에 기재된 실리콘 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 반도체 발광 소자용 밀봉재.A sealing material for a semiconductor light emitting device comprising a cured product of the silicone resin composition according to any one of [1] to [3].
본 발명에 의하면, UV 안정성이 높은 실리콘 수지 조성물의 경화물의 제조에 유용한 실리콘 수지 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 당해 실리콘 수지 조성물의 경화물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 당해 실리콘 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 반도체 발광 소자용 밀봉재를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a silicone resin composition useful in the production of a cured product of a silicone resin composition having high UV stability. Further, according to the present invention, a cured product of the silicone resin composition can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a sealing material for a semiconductor light emitting device comprising a cured product of the silicone resin composition.
[실리콘 수지 조성물][Silicone resin composition]
본 발명의 일 실시형태인 실리콘 수지 조성물에 대하여 설명한다.A description will be given of a silicone resin composition which is one embodiment of the present invention.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은,In the silicone resin composition of the present embodiment,
적어도 1개의 실리콘 수지를 포함하는 실리콘 수지 조성물로서,A silicone resin composition comprising at least one silicone resin,
상기 (ⅰ)∼(ⅲ)의 요건을 충족시키는 것이다.(I) to (iii) above.
상기 (ⅰ)의 요건을 「요건(ⅰ)」, 상기 (ⅱ)의 요건을 「요건(ⅱ)」, 상기 (ⅲ)의 요건을 「요건(ⅲ)」이라고 한다. 각 요건에 대하여 이하에서 순서대로 설명한다.The requirements of (i) above shall be referred to as "requirements (i)", the requirements of (ii) above shall be called "requirements (ii)" and the requirements of (iii) above shall be called "requirements (iii)". Each of the requirements will be described below in order.
(요건(ⅰ))(Requirement (i))
상기와 같이,As described above,
A1 규소 원자는, 식(A1)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 규소 원자 또는 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 규소 원자이다.The A1 silicon atom is a silicon atom in the structural unit represented by the formula (A1) or a silicon atom in the structural unit represented by the formula (A1 ').
A2 규소 원자는, 식(A2)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 규소 원자이다.The A2 silicon atom is a silicon atom in the structural unit represented by the formula (A2).
A3 규소 원자는, 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 규소 원자이다.The A3 silicon atom is a silicon atom in the structural unit represented by the formula (A3).
R1은 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, R2는 탄소수 1 또는 2의 알콕시기 또는 수산기를 나타낸다.R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 2 represents an alkoxy group or a hydroxyl group having 1 or 2 carbon atoms.
식(A1)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 R1, 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 R1, 식(A2)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 R1, 및 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 R1은, 각각 동일해도 상이해도 된다.Formula (A1) R 1, in the structural unit shown in the formula (A1 ') R 1, in the structural unit shown in the formula (A2) R 1, and expression of the structural unit represented by (A3 ) R 1 in the structural unit shown by the, respectively, may be the same different.
식(A1)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 R2, 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 R2, 및 식(A2)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 R2는, 각각 동일해도 상이해도 된다.R 2, formula (A1 ') R 2 is, identical to each of the structural units represented by R 2, and the formula (A2) in the structural unit shown in the in the structural unit shown in the formula (A1) The chart may be different.
식(A1)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 2개의 R2는, 동일해도 상이해도 된다. 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 2개의 R2는, 동일해도 상이해도 된다.The two R 2 in the structural unit represented by the formula (A1) may be the same or different. The two R 2 in the structural unit represented by the formula (A1 ') may be the same or different.
실리콘 수지에 있어서, 식(A1)로 나타내어지는 구조 단위 및 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위는, 오르가노폴리실록산쇄의 말단을 구성하고 있다. 또한, 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위는, 오르가노폴리실록산쇄에 의한 분기쇄 구조를 구성하고 있다. 즉, 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위는, 실리콘 수지에 있어서의 망목(網目) 구조나 환(還) 구조의 일부를 형성하고 있다.In the silicone resin, the structural unit represented by the formula (A1) and the structural unit represented by the formula (A1 ') constitute the terminal of the organopolysiloxane chain. Further, the structural unit represented by the formula (A3) constitutes a branched chain structure by the organopolysiloxane chain. That is, the structural unit represented by the formula (A3) forms a part of a network structure or a ring structure in the silicone resin.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 포함되는 규소 원자는, A1 규소 원자 및 A2 규소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 규소 원자와, A3 규소 원자로 실질적으로 이루어진다.The silicon atom contained in the silicone resin composition of the present embodiment is substantially composed of at least one silicon atom selected from the group consisting of A1 silicon atom and A2 silicon atom and A3 silicon atom.
여기서, 「A1 규소 원자 및 A2 규소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 규소 원자와, A3 규소 원자로 실질적으로 이루어진다」란, 실리콘 수지 조성물에 포함되는 규소 원자 중, 80몰% 이상이 A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자 중 어느 것인 것을 의미하며, 90몰% 이상이 A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자 중 어느 것인 것이 바람직하고, 95몰% 이상이 A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자 중 어느 것인 것이 보다 바람직하다.Here, "substantially composed of at least one silicon atom selected from the group consisting of A1 silicon atoms and A2 silicon atoms and A3 silicon atoms" means that at least 80 mol% of the silicon atoms contained in the silicone resin composition are A1 silicon atoms , A2 is a silicon atom and A3 silicon atom, and preferably 90 mol% or more is any of A1 silicon atom, A2 silicon atom and A3 silicon atom, and 95 mol% or more is A1 silicon atom, A2 More preferably a silicon atom or an A3 silicon atom.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 있어서, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율은 60몰% 이상 90몰% 이하인 것이 바람직하고, 65몰% 이상 85몰% 이하인 것이 보다 바람직하다.In the silicone resin composition of the present embodiment, the ratio of the content of A3 silicon atoms to the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms is preferably from 60 mol% to 90 mol%, more preferably from 65 mol% Or more and 85 mol% or less.
(요건(ⅱ))(Requirement (ii))
상기와 같이, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물이 함유하는 규소 원자는, A1 규소 원자 및 A2 규소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 규소 원자와, A3 규소 원자로 실질적으로 이루어진다. 그리고, 식(A1)로 나타내어지는 구조 단위, 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위, 식(A2)로 나타내어지는 구조 단위, 및 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위로 나타내어지는 바와 같이, 규소 원자에 결합하는 측쇄는, 탄소수 1∼3의 알킬기, 탄소수 1 또는 2의 알콕시기, 또는, 수산기이다.As described above, the silicon atom contained in the silicone resin composition of the present embodiment is substantially composed of at least one silicon atom selected from the group consisting of A1 silicon atom and A2 silicon atom, and A3 silicon atom. As represented by the structural unit represented by the formula (A1), the structural unit represented by the formula (A1 '), the structural unit represented by the formula (A2), and the structural unit represented by the formula (A3) The side chain bonded to the atom is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms, or a hydroxyl group.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 있어서, 측쇄의 알콕시기의 몰비는, 측쇄의 알킬기 100에 대하여 0.01 이상 5 미만인 것이 바람직하고, 0.1 이상 5 미만인 것이 보다 바람직하다.In the silicone resin composition of the present embodiment, the molar ratio of the alkoxy groups in the side chain is preferably from 0.01 to less than 5, more preferably from 0.1 to less than 5, per 100 alkyl groups in the side chain.
측쇄의 알콕시기의 몰비가 상기 범위(알킬기 100에 대하여 5 미만)보다 높은 경우, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물의 경화물을 UV-LED의 밀봉재로서 이용한 경우, 장기에 걸쳐 UV광을 높은 투과율로 투과시킬 수 없게 된다. 또한, 측쇄의 알콕시기의 몰비가 상기 범위(알킬기 100에 대하여 5 미만)보다 낮은 경우, 실리콘 수지 조성물의 점도가 높아지고, 조작성이 저하된다.When the molar ratio of the alkoxy groups in the side chain is higher than the above range (less than 5 per 100 alkyl groups), when the cured product of the silicone resin composition of the present embodiment is used as a sealing material for UV-LED, So that it can not be transmitted. When the molar ratio of the alkoxy groups in the side chain is lower than the above range (less than 5 per 100 alkyl groups), the viscosity of the silicone resin composition increases and the operability decreases.
규소 원자와 결합하는 알콕시기 및 수산기는, 축합 반응에 의해 실록산 결합을 발생시키는 관능기이다. 알콕시기는 수산기보다 UV광을 흡수하기 쉽다. 그 때문에, 알콕시기가 수산기보다 많이 포함되어 있는 실리콘 수지 조성물의 경화물은, UV광의 조사 시에 미반응의 알콕시기가 UV광을 흡수하기 쉽기 때문에, 반응하기 쉽다. 그 결과, UV 안정성이 낮은 경화물이 얻어진다.The alkoxy group and the hydroxyl group bonded to the silicon atom are functional groups that generate a siloxane bond by a condensation reaction. The alkoxy group is more likely to absorb UV light than the hydroxyl group. Therefore, the cured product of the silicone resin composition in which the alkoxy group is contained more than the hydroxyl group is liable to react because the unreacted alkoxy group easily absorbs the UV light upon irradiation with the UV light. As a result, a cured product having a low UV stability is obtained.
한편, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에는, 수산기가 알콕시기보다 많이 포함되어 있다. 구체적으로는, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물 중의 규소에 결합하는 측쇄의 몰비는, 알킬기 100에 대하여 알콕시기는 5 미만이고, 알킬기 100에 대하여 수산기는 10 이상이다. 그 때문에, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물의 경화물에 미반응의 관능기가 포함되어 있었다고 해도, 미반응의 관능기의 대부분은 수산기이기 때문에, UV광의 조사 시에 UV광을 흡수하기 어렵기 때문에, 반응하기 어렵다. 그 결과, UV 안정성이 높은 경화물이 얻어진다.On the other hand, the silicone resin composition of this embodiment contains more hydroxyl groups than alkoxy groups. Specifically, the molar ratio of side chains bonded to silicon in the silicone resin composition of the present embodiment is less than 5 for the alkyl group 100 and 10 or more for the alkyl group 100. Therefore, even when a functional group unreacted in the cured product of the silicone resin composition of the present embodiment is included, since most of the unreacted functional groups are hydroxyl groups, it is difficult to absorb UV light upon irradiation with UV light, It is difficult to do. As a result, a cured product having high UV stability is obtained.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물 중의 규소 원자에 결합하는 측쇄의 몰비는, 알킬기 100에 대하여 수산기는 30 미만인 것이 바람직하고, 20 미만인 것이 더 바람직하다. 측쇄의 수산기의 몰비를 상기 범위(알킬기 100에 대하여 30 미만)로 함으로써, 실리콘 수지 조성물의 경화 시의 체적 수축을 억제할 수 있고, UV광의 조사에 대한 착색을 억제할 수 있다.The molar ratio of the side chain bonded to the silicon atom in the silicone resin composition of the present embodiment is preferably less than 30, more preferably less than 20, per 100 alkyl groups. When the molar ratio of the hydroxyl groups in the side chain is in the above range (less than 30 per 100 alkyl groups), volume shrinkage during curing of the silicone resin composition can be suppressed and coloring due to irradiation with UV light can be suppressed.
규소 원자와 결합하는 알콕시기가, 축합 반응에 의해 실록산 결합을 발생시킬 때에는, 먼저, 알콕시기와 결합하는 규소 원자와 수분이 반응함으로써, 알콕시기가 수산기로 변환된다. 다음에, 규소 원자와 결합하는 수산기의 산소 원자와, 다른 규소 원자가 반응함으로써, 실록산 결합을 발생시킨다. 즉, 규소 원자와 결합하는 알콕시기와 수산기에서는, 수산기(실라놀기)쪽이 높은 반응성을 나타내기 때문에, 실록산 결합을 발생시키기 쉽다.When an alkoxy group bonded to a silicon atom generates a siloxane bond by a condensation reaction, the alkoxy group is first converted into a hydroxyl group by reacting moisture with a silicon atom bonded to the alkoxy group. Next, an oxygen atom of a hydroxyl group bonded to the silicon atom reacts with another silicon atom to generate a siloxane bond. That is, in the alkoxy group and the hydroxyl group bonded to the silicon atom, since the hydroxyl group (silanol group) shows high reactivity, siloxane bonds are easily generated.
그 때문에, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 후술하는 요건(ⅲ)과 같이, 금속을 포함하지 않는 경화용 촉매(당해 경화용 촉매는, 산 촉매 또는 염기 촉매임)를 600ppm(질량 백만분률) 이하의 농도로 함유하고 있지만, 규소 원자에 결합하는 측쇄의 몰비가 상기의 범위이기 때문에, 실록산 결합을 발생시킬 수 있기 때문에, 경화 가능하게 된다.For this reason, the silicone resin composition of the present embodiment is prepared by mixing 600 ppm (mass per million) of a curing catalyst containing no metal (the curing catalyst is an acid catalyst or a base catalyst) as in the requirement (iii) But since the siloxane bond can be generated because the molar ratio of the side chain bonded to the silicon atom is in the above range, curing becomes possible.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물 중의 규소 원자와 결합하는, 알킬기에 대한 알콕시기의 몰비, 알킬기에 대한 수산기의 몰비는, 상기의 범위를 충족시키는 한, 적절히 조합할 수 있다.The molar ratio of the alkoxy group to the alkyl group bonded to the silicon atom in the silicone resin composition of the present embodiment and the molar ratio of the hydroxyl group to the alkyl group can be appropriately combined as long as the above range is satisfied.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 포함되는 실리콘 수지는, 상술한 각 구조 단위에 대응하고, 실록산 결합을 발생시킬 수 있는 관능기를 가지는 유기 규소 화합물을 출발 원료로 하여 합성할 수 있다. 여기서, 「실록산 결합을 발생시킬 수 있는 관능기」로서는, 할로겐 원자, 수산기, 알콕시기 등을 들 수 있다. 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위에 대응하는 유기 규소 화합물로서는, 예를 들면, 오르가노트리할로실란, 오르가노트리알콕시실란 등을 들 수 있다.The silicone resin contained in the silicone resin composition of the present embodiment can be synthesized using an organosilicon compound having a functional group capable of generating a siloxane bond as a starting material, corresponding to each structural unit described above. Here, examples of the " functional group capable of generating a siloxane bond " include a halogen atom, a hydroxyl group, and an alkoxy group. Examples of the organic silicon compound corresponding to the structural unit represented by the formula (A3) include an organotin halosilane and an organotrialkoxysilane.
실리콘 수지는, 출발 원료인 유기 규소 화합물을, 각 구조 단위의 존재 비율에 대응한 비율로, 가수분해 축합법으로 반응시킴으로써 합성할 수 있다. 출발 원료인 유기 규소 화합물을 적절히 선택함으로써, 실리콘 수지에 함유되는 A3 규소 원자의 존재 비율을 조정할 수 있다. 이렇게 하여 합성된 실리콘 수지는, 실리콘 레진 등으로서 공업적으로 시판되고 있다.The silicone resin can be synthesized by reacting an organosilicon compound as a starting material with a hydrolysis and condensation method at a ratio corresponding to the proportion of each structural unit. By appropriately selecting an organosilicon compound as a starting material, the ratio of the presence of A3 silicon atoms contained in the silicone resin can be adjusted. The silicone resin thus synthesized is commercially available as a silicone resin or the like.
(요건(ⅲ))(Requirement (iii))
상기와 같이, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 금속 촉매를 실질적으로 함유하지 않고, 또한, 금속을 포함하지 않는 경화용 촉매(당해 경화용 촉매는, 산 촉매 또는 염기 촉매임)를 함유하고, 실리콘 수지 조성물에 있어서의 경화용 촉매의 농도가 600ppm(질량 백만분률) 이하이다.As described above, the silicone resin composition of the present embodiment contains a metal catalyst-free curing catalyst (the curing catalyst is an acid catalyst or a base catalyst) substantially containing no metal catalyst, The concentration of the curing catalyst in the silicone resin composition is 600 ppm (mass per million fraction) or less.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 함유되는 경화용 촉매의 농도는 300ppm 이하인 것이 바람직하다.The concentration of the curing catalyst contained in the silicone resin composition of the present embodiment is preferably 300 ppm or less.
실리콘 수지 조성물에는, 일반적으로, 산성 화합물(산 촉매), 염기성 화합물(염기 촉매), 금속 화합물(금속 촉매) 등의 경화용 촉매가 첨가되는 경우가 있다. 금속 촉매로서는, 예를 들면, 알루미늄아세틸아세토네이트 등의 알루미늄 화합물과 같은 전형 금속을 포함하는 촉매, 백금, 루테늄, 주석, 지르코늄, 아연, 코발트와 같은 주기율표 제3족 원소부터 제11족 원소의 사이에 존재하는 원소인 천이 금속을 포함하는 촉매가 알려져 있다. 이들 중에서도, 알루미늄, 백금 또는 주석을 포함하는 금속 촉매가 특히 알려져 있다.In general, a curing catalyst such as an acidic compound (acid catalyst), a basic compound (base catalyst), or a metal compound (metal catalyst) is sometimes added to the silicone resin composition. Examples of the metal catalyst include a catalyst containing a typical metal such as an aluminum compound such as aluminum acetylacetonate and a catalyst containing a transition metal such as platinum, ruthenium, tin, zirconium, zinc, cobalt, A transition metal which is an element present in the transition metal is known. Among them, metal catalysts containing aluminum, platinum or tin are particularly known.
한편, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 금속 촉매를 실질적으로 함유하지 않고, 또한, 금속을 포함하지 않는 경화용 촉매로서, 산 촉매 또는 염기 촉매를 함유한다. 또한, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 함유되는 산 촉매 또는 염기 촉매의 농도는 600pm 이하이고, 300ppm 이하인 것이 바람직하다.On the other hand, the silicone resin composition of the present embodiment contains an acid catalyst or a base catalyst as a curing catalyst which does not substantially contain a metal catalyst and does not contain a metal. The concentration of the acid catalyst or the base catalyst contained in the silicone resin composition of the present embodiment is preferably 600 ppm or less, and more preferably 300 ppm or less.
또한, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 있어서, 산 촉매 및 염기 촉매로서는, 규소 원자와 결합하는 알콕시기 또는 수산기의 축합 반응을 촉진하는 것이면, 브뢴스테드산 및 브뢴스테드 염기, 및 루이스산 및 루이스 염기 중 어느 것이어도 된다.In the silicone resin composition of the present embodiment, examples of the acid catalyst and the base catalyst include a Bronsted acid and a Bronsted base, and a Lewis acid and a Lewis acid, if the acid catalyst and the base catalyst promote the condensation reaction of an alkoxy group or a hydroxyl group bonded with a silicon atom. Lewis base.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 있어서, 금속 촉매를 「실질적으로 포함하지 않는다」란, 실리콘 수지 조성물에 있어서의 금속 촉매의 함유율이 50ppm(질량 백만분률) 이하인 것을 의미한다. 실리콘 수지 조성물에 있어서의 금속 촉매의 함유율은, 「실질적으로 포함하지 않는」 범위(50ppm(질량 백만분률) 이하) 중에서도, 보다 적은 쪽이 바람직하다. 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 있어서의 금속 촉매의 함유율은 10ppm 이하인 것이 바람직하고, 5ppm 이하인 것이 보다 바람직하다.In the silicone resin composition of the present embodiment, "substantially not containing" the metal catalyst means that the content of the metal catalyst in the silicone resin composition is 50 ppm (mass per million fraction) or less. The content of the metal catalyst in the silicone resin composition is preferably in the range of "not substantially containing" (less than 50 ppm (mass per million)) or less. The content of the metal catalyst in the silicone resin composition of the present embodiment is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less.
실리콘 수지 조성물은, 취급을 용이하게 하기 위하여, 용매를 포함하고 있어도 된다. 그러나, 실리콘 수지 조성물에 경화용 촉매가 포함되는 경우, 실리콘 수지 조성물의 경화가 촉진되기 때문에, 실리콘 수지 조성물에 포함되는 용매가 잔존한 상태에서, 실리콘 수지 조성물의 경화가 완료되는 경우가 있어, 실리콘 수지 조성물의 경화물이 용매를 내포하는 경우가 있다. 이와 같은 경우, UV광의 조사에 의해 용매가 변질되고, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV광의 투과율이 저하되는 경우가 있어, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 안정성이 저하되는 경우가 있다.The silicone resin composition may contain a solvent for easy handling. However, when the curing catalyst is contained in the silicone resin composition, the curing of the silicone resin composition is promoted, so that the curing of the silicone resin composition may be completed in a state where the solvent contained in the silicone resin composition remains, The cured product of the resin composition sometimes contains a solvent. In such a case, the solvent may be altered by the irradiation of UV light, and the UV transmittance of the cured product of the silicone resin composition may be lowered, and the UV stability of the cured product of the silicone resin composition may be lowered.
한편, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 금속을 포함하지 않는 경화용 촉매인 산 촉매 또는 염기 촉매의 함유량이 극히 조금이기 때문에, 실리콘 수지 조성물의 경화가 완료되기 전에 용매를 제거하는 것이 가능해지고, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV광의 투과율의 저하를 억제할 수 있다.On the other hand, in the silicone resin composition of the present embodiment, since the content of the acid catalyst or the base catalyst which is a curing catalyst containing no metal is very small, the solvent can be removed before the curing of the silicone resin composition is completed, The lowering of the transmittance of the UV light of the cured product of the silicone resin composition can be suppressed.
또한, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은 금속 촉매를 실질적으로 함유하지 않는다. 그 때문에, 실리콘 수지 조성물의 경화물은, 금속 촉매를 구성하는 금속이 UV광을 흡수하는 경우가 없어, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV광의 투과율이 저하되기 어렵다. 따라서, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, UV 안정성이 높은 실리콘 수지 조성물의 경화물의 제조에 유용하다.Further, the silicone resin composition of the present embodiment contains substantially no metal catalyst. Therefore, in the cured product of the silicone resin composition, the metal constituting the metal catalyst does not absorb UV light, and the transmittance of the UV light of the cured product of the silicone resin composition is hardly lowered. Therefore, the silicone resin composition of the present embodiment is useful for the production of a cured product of a silicone resin composition having high UV stability.
다음에, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물의 구성에 대하여 상세하게 설명한다.Next, the structure of the silicone resin composition of the present embodiment will be described in detail.
(제 1 실리콘 수지)(First silicone resin)
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은 상기의 제 1 실리콘 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The silicone resin composition of the present embodiment preferably contains the first silicone resin.
제 1 실리콘 수지에 있어서, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율은 70몰% 이상 85몰% 이하인 것이 바람직하다.In the first silicone resin, the ratio of the content of A3 silicon atoms to the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms is preferably 70 mol% or more and 85 mol% or less.
실리콘 수지에 있어서, 규소 원자에 결합하고 있는 관능기의 종류 및 존재비는, 예를 들면, 핵자기 공명 분광법(NMR법)에 의해 측정할 수 있다. 핵자기 공명 분광법(NMR법)은 각종 문헌 등에서 상세히 설명되어 있고, 전용의 측정 장치도 널리 시판되고 있다. 구체적으로는, 측정 대상의 실리콘 수지를 특정한 용매에 용해시킨 후, 실리콘 수지 중의 수소 원자핵 또는 규소 원자핵에 강력한 자장과 고주파의 라디오파를 부여하고, 원자핵 중의 핵자기 모멘트를 공명시킴으로써, 실리콘 수지 중의 각 관능기의 종류 및 존재비를 측정할 수 있다. 수소 원자핵을 측정하는 방법을 1H-NMR, 규소 원자핵을 측정하는 방법을 29Si-NMR이라고 한다. 핵자기 공명 분광법(NMR법)의 측정에 이용하는 용매로서는, 중(重)클로로포름, 중디메틸술폭시드, 중메탄올, 중아세톤, 중수(重水) 등을, 실리콘 수지 중의 각종 관능기의 종류에 따라 선택하면 된다.In the silicone resin, the kind and abundance ratio of the functional group bonded to the silicon atom can be measured by, for example, nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR). Nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR) is described in detail in various literatures and the like, and dedicated measuring apparatuses are widely available. Specifically, after dissolving the silicone resin to be measured in a specific solvent, a strong magnetic field and a high frequency radio wave are given to hydrogen nuclei or silicon nuclei in the silicone resin, and the nuclear magnetic moment in the nucleus is resonated, The kind of the functional group and the abundance ratio can be measured. The method of measuring hydrogen nuclei is referred to as 1 H-NMR and the method of measuring silicon nuclei is referred to as 29 Si-NMR. Examples of the solvent used for the measurement of nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR) include heavy chloroform, heavy dimethylsulfoxide, heavy methanol, heavy acetone, heavy water and the like depending on the type of various functional groups in the silicone resin do.
A3 규소 원자의 함유량의 비율은, 29Si-NMR 측정에 있어서 구해지는 A1 규소 원자로서 귀속되는 시그널의 면적과, A2 규소 원자로서 귀속되는 시그널의 면적과, A3 규소 원자로서 귀속되는 시그널의 면적의 합계 면적으로, A3 규소 원자로서 귀속되는 시그널의 면적을 나눔으로써 구할 수 있다.The ratio of the content of the A3 silicon atom is determined by the area of the signal attributed as the A1 silicon atom obtained in the 29 Si-NMR measurement, the area of the signal attributed as the A2 silicon atom, and the area of the signal attributed as the A3 silicon atom Can be obtained by dividing the area of the signal attributed as the A3 silicon atom by the total area.
제 1 실리콘 수지에 포함되는 구조 단위에 있어서,In the structural unit contained in the first silicone resin,
R1은 메틸기인 것이 바람직하다.R 1 is preferably a methyl group.
R2가 알콕시기인 경우, 직쇄상의 알콕시기인 것이 바람직하다. 알콕시기의 탄소수는 1∼2인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 메톡시기 또는 에톡시기인 것이 바람직하다.When R 2 is an alkoxy group, it is preferably a linear alkoxy group. The carbon number of the alkoxy group is preferably 1 to 2. Specifically, it is preferably a methoxy group or an ethoxy group.
제 1 실리콘 수지는, 하기 식(1)로 나타내어지는 오르가노폴리실록산 구조를 가지는 것이 바람직하다. 식(1) 중, R1 및 R2는 상술한 것과 동일한 의미를 나타낸다. p1, q1, a1 및 b1은 임의의 정수를 나타낸다.The first silicone resin preferably has an organopolysiloxane structure represented by the following formula (1). In the formula (1), R 1 and R 2 have the same meanings as described above. p 1 , q 1 , a 1 and b 1 represent arbitrary integers.
식(1)로 나타내어지는 오르가노폴리실록산 구조에 있어서, R1은 탄소수 1∼3의 알킬기이고, 메틸기인 것이 바람직하다. R2는 탄소수 1 또는 2의 알콕시기 또는 수산기이다. R2가 알콕시기인 경우, 알콕시기로서는 메톡시기 또는 에톡시기가 바람직하다.In the organopolysiloxane structure represented by the formula (1), R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and is preferably a methyl group. R 2 is an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms or a hydroxyl group. When R 2 is an alkoxy group, the alkoxy group is preferably a methoxy group or an ethoxy group.
식(1)로 나타내어지는 오르가노폴리실록산 구조 중의 각 구조 단위의 존재 비율은, A2 규소 원자의 수 : x1(=p1+b1×q1)과, A3 규소 원자의 수 : y1(=a1×q1)의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유 비율(=y1/(x1+y1))이 0.6∼0.9의 범위 내이다. 즉, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율이 60몰% 이상 90몰% 이하이다. 이와 같은 범위가 되도록, p1, q1, a1 및 b1의 수치를 적절히 조정할 수 있다.The existence ratio of each structural unit in the organopolysiloxane structure represented by the formula (1) is such that the number of the A2 silicon atoms: x 1 (= p 1 + b 1 x q 1 ) and the number of the A3 silicon atoms: y 1 = y 1 / (x 1 + y 1 )) of the A 3 silicon atoms with respect to the total content of the silicon atoms (= a 1 × q 1 ) is in the range of 0.6 to 0.9. That is, the ratio of the content of A3 silicon atoms to the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms is 60 mol% to 90 mol%. The numerical values of p 1 , q 1 , a 1 and b 1 can be appropriately adjusted in such a range.
제 1 실리콘 수지는, A3 규소 원자의 존재 비율이 높기 때문에, 제 1 실리콘 수지를 경화시킴으로써, 오르가노폴리실록산쇄가 망목 형상으로 구성된 실리콘계 수지 경화물이 얻어진다. A3 규소 원자의 존재 비율이 상기 범위(0.6∼0.9)보다 높아진 경우, 실리콘계 수지 경화물에 크랙이 생기기 쉬워지고, 상기 범위(0.6∼0.9)보다 낮아진 경우, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 안정성이 낮아지는 경우가 있다.Since the first silicone resin has a high proportion of the A3 silicon atoms, the first silicone resin is cured to obtain a silicone-based resin cured product in which the organopolysiloxane chain is in the form of a network. When the proportion of the A3 silicon atom is higher than the above range (0.6 to 0.9), cracks easily occur in the silicone resin cured product, and when it is lower than the above range (0.6 to 0.9), the UV stability of the cured product of the silicone resin composition is low .
제 1 실리콘 수지는, 상기 식(1)에 있어서의 A3 규소 원자의 존재 비율이 상기 범위(0.6∼0.9) 내인 오르가노폴리실록산 구조를 가지는 실리콘 수지이기 때문에, 제 1 실리콘 수지를 포함하는 실리콘 수지 소세물의 경화물은, UV 안정성도 높은 경향이 있다. 제 1 실리콘 수지에 있어서, A3 규소 원자의 함유 비율(=y1/(x1+y1))은 0.7∼0.85의 범위 내인 것이 바람직하다.The first silicone resin is a silicone resin having an organopolysiloxane structure in which the ratio of the presence of A3 silicon atoms in the formula (1) is within the above range (0.6 to 0.9). Therefore, The cured product of water tends to have high UV stability. First in the silicone resin, the content of the silicon atoms A3 (= y 1 / (x 1 + y 1)) is preferably within a range of 0.7 to 0.85.
제 1 실리콘 수지의 1분자당의 A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 수는, 상기 식(1)로 나타내어지는 오르가노폴리실록산 구조를 가지는 수지의 분자량을 제어함으로써 조정할 수 있다. 본 실시형태에 있어서는, 제 1 실리콘 수지의 1분자당의 A2 규소 원자의 수와 A3 규소 원자의 수의 합은 5 이상인 것이 바람직하다.The number of A2 silicon atoms and A3 silicon atoms per molecule of the first silicone resin can be adjusted by controlling the molecular weight of the resin having an organopolysiloxane structure represented by the formula (1). In the present embodiment, the sum of the number of A2 silicon atoms per molecule of the first silicone resin and the number of A3 silicon atoms is preferably 5 or more.
제 1 실리콘 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 1500 이상 8000 이하이다. 제 1 실리콘 수지의 중량 평균 분자량이 너무 작은 경우에는, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 안정성이 낮아지는 경향이 있다. 제 1 실리콘 수지의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내인 것에 의해, UV 안정성이 보다 우수한 경화물이 얻어진다. 제 1 실리콘 수지의 중량 평균 분자량은 2000 이상 5000 이하인 것이 보다 바람직하다.The first silicone resin has a weight average molecular weight (Mw) of 1,500 to 8,000. When the weight average molecular weight of the first silicone resin is too small, the UV stability of the cured product of the silicone resin composition of the present embodiment tends to be lowered. When the weight average molecular weight of the first silicone resin is within the above range, a cured product having better UV stability is obtained. The weight average molecular weight of the first silicone resin is more preferably 2,000 or more and 5,000 or less.
실리콘 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 일반적으로, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정한 값을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 실리콘 수지를 가용성의 용매에 녹인 후, 얻어진 용액을 세공(포어)이 수많이 존재하는 충전제를 이용한 칼럼 내에 이동상(移動相) 용매와 함께 통액(通液)하여, 칼럼 내에서 분자량의 대소에 따라 분리시키고, 분리된 분자량 성분의 함유량을 시차 굴절률계, UV계, 점도계, 광산란 검출기 등을 검출기로서 이용하여 검출한다. GPC 전용 장치는 널리 시판되고 있고, 중량 평균 분자량(Mw)은, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 측정하는 것이 일반적이다. 본 명세서에 있어서의 중량 평균 분자량(Mw)은 이 표준 폴리스티렌 환산에 의해 측정된 것을 의미한다.The weight average molecular weight (Mw) of the silicone resin can generally be a value measured by gel permeation chromatography (GPC). Specifically, the silicone resin is dissolved in a soluble solvent, and the resulting solution is passed through a column containing a filler containing a large number of pores (pores) together with a mobile phase solvent to obtain a polymer having a molecular weight And the content of the separated molecular weight components is detected using a differential refractive index meter, UV meter, viscometer, light scattering detector or the like as a detector. GPC-dedicated devices are widely available, and the weight average molecular weight (Mw) is generally measured in terms of standard polystyrene. The weight average molecular weight (Mw) in the present specification means that measured by this standard polystyrene conversion.
GPC법에 의한 중량 평균 분자량의 측정에 있어서, 실리콘 수지를 용해시키기 위하여 사용하는 용매는, GPC 측정에 이용하는 이동상 용매와 동일한 용매인 것이 바람직하다. 용매로서는, 구체적으로는, 테트라히드로푸란, 클로로포름, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 등을 들 수 있다. GPC 측정에 사용하는 칼럼은 시판되고 있고, 상정되는 중량 평균 분자량에 따라 적절한 칼럼을 이용하면 된다.In the measurement of the weight average molecular weight by the GPC method, the solvent used for dissolving the silicone resin is preferably the same solvent as the mobile phase solvent used for the GPC measurement. Specific examples of the solvent include tetrahydrofuran, chloroform, toluene, xylene, dichloromethane, dichloroethane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol and the like. Columns used for GPC measurement are commercially available, and an appropriate column may be used depending on the assumed weight average molecular weight.
제 1 실리콘 수지는, 제 1 실리콘 수지를 구성하는 상술한 각 구조 단위에 대응하고, 실록산 결합을 발생시킬 수 있는 관능기를 가지는 유기 규소 화합물을 출발 원료로 하여 합성할 수 있다. 여기서, 「실록산 결합을 발생시킬 수 있는 관능기」는, 상술한 것과 동일한 의미를 나타낸다. 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위에 대응하는 유기 규소 화합물로서는, 예를 들면, 오르가노트리할로실란, 오르가노트리알콕시실란 등을 들 수 있다. 제 1 실리콘 수지는, 이와 같은 출발 원료인 유기 규소 화합물을, 각 구조 단위의 존재 비율에 대응한 비율로, 가수분해 축합법으로 반응시킴으로써 합성할 수 있다. 이렇게 하여 합성된 실리콘 수지는, 실리콘 레진 등으로서 공업적으로 시판되고 있다.The first silicone resin can be synthesized using an organosilicon compound having a functional group capable of generating a siloxane bond as a starting material, corresponding to each structural unit constituting the first silicone resin. Here, the "functional group capable of generating a siloxane bond" has the same meaning as described above. Examples of the organic silicon compound corresponding to the structural unit represented by the formula (A3) include an organotin halosilane and an organotrialkoxysilane. The first silicone resin can be synthesized by reacting such an organosilicon compound as a starting material with a hydrolysis and condensation method at a ratio corresponding to the presence ratio of each structural unit. The silicone resin thus synthesized is commercially available as a silicone resin or the like.
(제 2 실리콘 수지)(Second silicone resin)
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 증기의 제 2 실리콘 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 상기의 제 1 실리콘 수지와 상기의 제 2 실리콘 수지를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 제 2 실리콘 수지는, 5℃/분의 승온 속도로 실온으로부터 200℃까지 승온시키고, 200℃에서 5시간 공기 중에서 보지했을 때의 질량 감소율이 5% 미만인 실리콘 수지이다. 여기서, 5℃/분의 승온 속도로 실온으로부터 200℃까지의 승온 공정은, 통상 공기 중에서 행해진다.The silicone resin composition of the present embodiment preferably contains a second silicone resin of steam and more preferably contains the first silicone resin and the second silicone resin. The second silicone resin is a silicone resin having a mass reduction rate of less than 5% when heated from room temperature to 200 DEG C at a temperature raising rate of 5 DEG C / min and held in air at 200 DEG C for 5 hours. Here, the step of raising the temperature from room temperature to 200 占 폚 at a heating rate of 5 占 폚 / min is usually performed in air.
제 2 실리콘 수지는, 미반응의 관능기가 적고, 열적으로 안정된 것이다. 그 때문에, 제 2 실리콘 수지를 포함하는 실리콘 수지 조성물의 경화물에 있어서, 제 2 실리콘 수지는 필러로서 기능한다. 그 때문에, 제 2 실리콘 수지는, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 기계적 강도의 향상에 기여한다.The second silicone resin has less unreacted functional groups and is thermally stable. Therefore, in the cured product of the silicone resin composition containing the second silicone resin, the second silicone resin functions as a filler. Therefore, the second silicone resin contributes to the improvement of the mechanical strength of the cured product of the silicone resin composition.
또한, 제 2 실리콘 수지는, 미반응의 관능기가 적고, UV광을 조사한 경우에 있어서도 변질되기 어렵다. 따라서, 제 2 실리콘 수지를 배합함으로써, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 안정성을 더 향상시킬 수 있다.In addition, the second silicone resin has a small number of unreacted functional groups and is hardly deteriorated even when irradiated with UV light. Therefore, by blending the second silicone resin, the UV stability of the cured product of the silicone resin composition can be further improved.
제 2 실리콘 수지로서는, 열적으로 안정된 것이면 특별히 한정되지 않으나, 구체적으로는, 실리콘 고무 파우더 또는 실리콘 레진 파우더라고 불리는 미립자상(微粒子狀)의 구조의 실리콘 수지를 이용할 수 있다.The second silicone resin is not particularly limited as long as it is thermally stable, and specifically, a silicone resin having a fine particle structure called a silicone rubber powder or a silicone resin powder can be used.
미립자상의 구조의 실리콘 수지 중에서도, 실록산 결합이 (RSiO3/2)로 나타내어지는 삼차원 망목 구조를 가지는 폴리실세스퀴옥산 수지로 이루어지는 구 형상의 실리콘 레진 파우더가 바람직하다. (RSiO3/2)에 있어서, R는 메틸기인 것이 바람직하다.Of the silicone resin having a fine particle structure, a spherical silicone resin powder composed of a polysilsesquioxane resin having a three-dimensional network structure in which a siloxane bond is represented by (RSiO 3/2 ) is preferable. (RSiO 3/2 ), R is preferably a methyl group.
제 2 실리콘 수지가 구 형상의 실리콘 레진 파우더인 경우, 실리콘 레진 파우더의 평균 입경은 0.1㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 2㎛ 이상 20㎛ 이하인 것이 더 바람직하다.When the second silicone resin is a spherical silicone resin powder, the average particle diameter of the silicone resin powder is preferably from 0.1 to 50 μm, more preferably from 1 to 30 μm, more preferably from 2 to 20 μm desirable.
실리콘 레진 파우더의 평균 입경이 상기의 범위 내(0.1㎛ 이상 50㎛ 이하)이면, 실리콘 수지 조성물의 경화물과 기판과의 계면에 있어서의 박리의 발생, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 백탁, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 광 투과성의 저하를 억제하기 쉬운 경향이 있다.If the average particle diameter of the silicone resin powder is within the above range (0.1 탆 or more and 50 탆 or less), peeling of the cured product of the silicone resin composition at the interface with the substrate, clouding of the cured product of the silicone resin composition, The lowering of the light transmittance of the cured product of the cured product tends to be suppressed.
실리콘 레진 파우더의 평균 입경은, 예를 들면, 「레이저 회절·산란법」을 측정 원리로 하는 입도 분포 측정 장치에 의해 측정할 수 있다. 이 방법은, 입자에 레이저빔(단색광)을 조사하면, 그 입자의 크기에 따라 여러 방향으로 회절광, 산란광이 발생하는 것을 이용하여, 입자의 입경 분포를 측정하는 방법이며, 평균 입경을 회절광 및 산란광의 분포 상태로부터 구할 수 있다. 「레이저 회절·산란법」을 측정 원리로 하는 장치는, 많은 메이커로부터 시판되고 있다.The average particle diameter of the silicone resin powder can be measured by, for example, a particle size distribution measuring apparatus using the "laser diffraction / scattering method" as a measurement principle. This method is a method of measuring the particle diameter distribution of particles by using diffraction light and scattering light generated in various directions depending on the size of the particles when a laser beam (monochromatic light) is irradiated to the particles, And the distribution state of scattered light. A device using the "laser diffraction / scattering method" as a measurement principle is commercially available from many manufacturers.
제 2 실리콘 수지로서는 시판품을 이용할 수 있다. 예를 들면, KMP-710, KMP-590, X-52-854 및 X-52-1621(신에츠화학공업주식회사 제), 토스펄 120, 토스펄 130, 토스펄 145, 토스펄 2000B, 토스펄 1110 및 토스펄(모멘티브 퍼포먼스사 제), 및 MSP-N050, MSP-N080 및 MSP-S110(닛코리카주식회사 제)을 이용할 수 있다.As the second silicone resin, a commercially available product can be used. For example, KMP-710, KMP-590, X-52-854 and X-52-1621 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Tospel 120, Tospel 130, Tospel 145, Tospearl 2000B, And MSP-N050, MSP-N080 and MSP-S110 (manufactured by Nikkorika Kogyo Co., Ltd.) can be used.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물이, 제 1 실리콘 수지와, 제 2 실리콘 수지와, 이들 실리콘 수지를 용해 또는 분산시키는 용매를 포함하는 실리콘 수지 조성액인 경우, 실리콘 수지 조성액 중에 포함되는, 제 1 실리콘 수지, 제 2 실리콘 수지 및 용매의 합계 함유량은 80질량% 이상인 것이 바람직하고, 90질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.When the silicone resin composition of the present embodiment is a silicone resin composition liquid containing a first silicone resin, a second silicone resin and a solvent for dissolving or dispersing these silicone resins, the first silicone resin , The second silicone resin and the solvent is preferably 80 mass% or more, and more preferably 90 mass% or more.
제 1 실리콘 수지 및 제 2 실리콘 수지의 합계 함유량에 대한, 제 2 실리콘 수지의 함유량의 함유율(수지분 함유율)은 20질량% 이상 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 40질량% 이상 80질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 제 2 실리콘 수지의 수지분 함유율이 상기 범위 내인 경우, 크랙 내성 및 UV 안정성이 밸런스 좋게 우수한, 실리콘 수지 조성물의 경화물을 얻을 수 있는 경향이 있다.(Content of resin component) of the content of the second silicone resin relative to the total content of the first silicone resin and the second silicone resin is preferably 20 mass% or more and 90 mass% or less, more preferably 40 mass% or more and 80 mass% or less More preferable. When the content ratio of the second silicone resin to the resin is within the above range, there is a tendency to obtain a cured product of the silicone resin composition having excellent balance resistance against crack resistance and UV stability.
본 명세서에 있어서, 「크랙 내성」이란, 실리콘 수지 조성물의 경화물에 있어서 크랙이 발생하기 어려운 것을 의미한다. 또한, 실리콘 수지 조성물의 경화물을 이용한 밀봉재에 있어서 크랙이 발생하기 어려운 것을, 「크랙 내성이 높다」고 나타내는 경우가 있다.In the present specification, "crack resistance" means that the cured product of the silicone resin composition is hardly cracked. In addition, a sealant using a cured product of a silicone resin composition that is hardly cracked may be sometimes indicated as " crack resistance is high ".
여기서, 실리콘 수지 조성물의 경화물에 있어서의 크랙 발생의 원인으로서는, 실리콘 수지 조성물의 경화 시의 체적 수축, 경화물을 저온 환경으로부터 고온 환경에 급격하게 노출한 경우에 생기는 열 충격, UV광 조사에 의한 경화물의 변질 등을 생각할 수 있다. 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물이 제 2 실리콘 수지를 포함하는 경우, 상기의 원인에 의한 크랙 발생을 모두 억제할 수 있다.Cracks in the cured product of the silicone resin composition are caused by volumetric shrinkage at the time of curing of the silicone resin composition, heat shock generated when the cured product is suddenly exposed to a high temperature environment from a low temperature environment, And deterioration of the cured product due to heat. When the silicone resin composition of the present embodiment contains the second silicone resin, all cracks caused by the above-described causes can be suppressed.
(용매)(menstruum)
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 취급을 용이하게 하기 위하여, 용매를 포함하고 있어도 된다.The silicone resin composition of the present embodiment may contain a solvent in order to facilitate handling.
용매로서는, 상압에서 비등점이 100℃ 이상인 유기 용매가 바람직하다. 비등점이 100℃ 미만인 유기 용매는 증발하기 쉽기 때문에, 실리콘 수지 조성물의 농도가 변동하기 쉽고, 실리콘 수지 조성물의 취급이 곤란해지기 쉽다. 반면, 비등점이 100℃ 이상인 유기 용매를 포함하는 실리콘 수지 조성물에서는, 이와 같은 문제가 억제되는 경향이 있다.As the solvent, an organic solvent having a boiling point of 100 ° C or higher at normal pressure is preferable. Since an organic solvent having a boiling point of less than 100 占 폚 is liable to evaporate, the concentration of the silicone resin composition is liable to fluctuate and handling of the silicone resin composition tends to be difficult. On the other hand, in a silicone resin composition containing an organic solvent having a boiling point of 100 ° C or higher, such a problem tends to be suppressed.
유기 용매로서는, 구체적으로는,As the organic solvent, specifically,
아세트산 2-에톡시에틸(비등점:156℃) 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노에틸헥실에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 에틸렌글리콜모노벤질에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸헥실에테르, 디에틸렌글리콜모노페닐에테르, 디에틸렌글리콜모노벤질에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노이소프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노헥실에테르, 프로필렌글리콜모노에틸헥실에테르, 프로필렌글리콜모노페닐에테르, 프로필렌글리콜모노벤질에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노이소프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노헥실에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸헥실에테르, 디프로필렌글리콜모노페닐에테르, 디프로필렌글리콜모노벤질에테르 등의 글리콜에테르계 용매; 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노헥실에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸헥실에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노페닐에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노벤질에테르아세테이트 등의 글리콜에스테르계 용매 등(상기 기재의 글리콜에테르계 용매에 아세트산기를 부가시킨 것)이 바람직하다.Esters such as 2-ethoxyethyl acetate (boiling point: 156 占 폚); Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monoethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monoethylhexyl ether, diethylene glycol monophenyl ether , Diethylene glycol monobenzyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, propylene glycol monoethylhexyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoisopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monohexyl ether, dipropylene glycol Glycol ether solvents such as monoethylhexyl ether, dipropylene glycol monophenyl ether and dipropylene glycol monobenzyl ether; Ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monohexyl ether acetate, ethylene glycol monoethylhexyl ether acetate, ethylene glycol monophenyl ether acetate, ethylene glycol monobenzyl ether acetate And the like (those obtained by adding an acetic acid group to the glycol ether solvent described above).
(그 밖의 첨가물)(Other additives)
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 실란 커플링제, 그 밖의 첨가제를 포함하고 있어도 된다.The silicone resin composition of the present embodiment may contain a silane coupling agent and other additives.
《실란 커플링제》&Quot; Silane coupling agent "
실란 커플링제는, 실리콘 수지 조성물의 경화물과 반도체 발광 소자 또는 기판과의 밀착성을 향상시키는 효과를 가진다. 실란 커플링제로서는, 비닐기, 에폭시기, 스티릴기, 메타크릴기, 아크릴기, 아미노기, 우레이도기, 메르캅토기, 술파이드기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개 이상을 가지는 실란 커플링제가 바람직하고, 에폭시기 또는 메르캅토기를 가지는 실란 커플링제가 보다 바람직하다.The silane coupling agent has the effect of improving the adhesion between the cured product of the silicone resin composition and the semiconductor light emitting element or the substrate. As the silane coupling agent, a silane coupling agent having at least one or more groups selected from the group consisting of a vinyl group, an epoxy group, a styryl group, a methacrylic group, an acrylic group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, a sulfide group and an isocyanate group And a silane coupling agent having an epoxy group or a mercapto group is more preferable.
실란 커플링제로서는, 구체적으로는, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.Specific examples of the silane coupling agent include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and the like.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 실란 커플링제가 포함되는 경우, 실란 커플링제에 포함되는 규소 원자도 29Si-NMR의 시그널로서 검출된다. 그 때문에, 본 명세서에 있어서는, 실리콘 수지 조성물의 시그널 면적(A1 규소 원자로서 귀속되는 시그널 면적, A2 규소 원자로서 귀속되는 시그널 면적 및 A3 규소 원자로서 귀속되는 시그널 면적)의 계산 시에 실란 커플링제의 시그널도 포함하는 것으로 한다.When the silane coupling agent is contained in the silicone resin composition of the present embodiment, the silicon atoms contained in the silane coupling agent are also detected as a 29 Si-NMR signal. Therefore, in the present specification, in calculating the signal area (the signal area attributed as A1 silicon atom, the signal area attributed as A2 silicon atom, and the signal area attributed as A3 silicon atom) of the silicone resin composition, Signals shall also be included.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 있어서의 실란 커플링제의 함유량은, 예를 들면, 제 1 실리콘 수지의 함유량 100질량부, 또는, 제 1 실리콘 수지 및 제 2 실리콘 수지의 합계 함유량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.0001질량부 이상 1.0질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.001질량부 이상 0.1질량부 이하이다. 실란 커플링제의 함유량이 상기 범위보다 높으면, 실란 커플링제 자신이 광을 흡수함으로써, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 투명성을 저하시키는 경우가 있다.The content of the silane coupling agent in the silicone resin composition of the present embodiment is, for example, about 100 parts by mass of the first silicone resin or about 100 parts by mass of the total content of the first silicone resin and the second silicone resin , Preferably 0.0001 mass part or more and 1.0 mass part or less, and more preferably 0.001 mass part or more and 0.1 mass part or less. If the content of the silane coupling agent is higher than the above range, the silane coupling agent itself absorbs light, which may lower the transparency of the cured product of the silicone resin composition.
실란 커플링제는, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 반도체 발광 소자 또는 기판의 표면에 미리 실란 커플링제를 코팅 또는 침지 처리에 의해 부착시켜 두고, 그 후, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물을 포팅(potting) 등으로 형성하여, 경화시켜도 된다.The silane coupling agent may be mixed with the silicone resin composition of the present embodiment. In addition, a silane coupling agent may be previously attached to the surface of the semiconductor light emitting element or the substrate by coating or immersion treatment, and then the silicone resin composition of the present embodiment may be formed by potting or the like and then cured.
《그 밖의 첨가제》"Other additives"
그 밖의 첨가제로서는, 제 1 실리콘 수지 및 제 2 실리콘 수지와는 상이한, 실리콘 수지, 실리콘 올리고머, 실리콘 화합물 등을 들 수 있다. 그 밖의 첨가제의 구체예로서는, 공업적으로 시판되고 있는 일반적인 개질용 실리콘 화합물을 들 수 있다. 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물이 당해 개질용 실리콘 화합물을 포함함으로써, 실리콘 수지 조성물의 경화물에 유연성을 부여할 수 있다. 개질용 실리콘 화합물로서는, 예를 들면, R2SiO2/2(여기서, R는 알킬기를 나타냄.)를 주쇄로 하는 디알킬실록산 구조를 가지는 폴리머, 올리고머 등을 들 수 있다.Other additives include silicone resins, silicone oligomers, silicone compounds and the like, which are different from the first silicone resin and the second silicone resin. Specific examples of other additives include general commercially available silicon compounds for modification. When the silicone resin composition of the present embodiment contains the silicone compound for modification, flexibility can be imparted to the cured product of the silicone resin composition. Examples of the modifying silicone compound include polymers and oligomers having a dialkylsiloxane structure having R 2 SiO 2/2 (wherein R represents an alkyl group) as a main chain.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 실리콘 화합물이 포함되는 경우, 실리콘 화합물에 포함되는 규소 원자도 29Si-NMR의 시그널로서 검출된다. 그 때문에, 본 명세서에 있어서는, 실리콘 수지 조성물의 시그널 면적(A1 규소 원자로서 귀속되는 시그널 면적, A2 규소 원자로서 귀속되는 시그널 면적 및 A3 규소 원자로서 귀속되는 시그널 면적)의 계산 시에 실리콘 화합물의 시그널도 포함하는 것으로 한다.When containing the silicon compound in the silicone resin composition of the present embodiment, is detected as a signal of 29 Si-NMR is also a silicon atom contained in the silicone compound. Therefore, in the present specification, when calculating the signal area (signal area attributed as A1 silicon atom, signal area attributed as A2 silicon atom, and signal area attributed as A3 silicon atom) of the silicone resin composition, .
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물에 있어서의 실리콘 화합물의 함유량은, 제 1 실리콘 수지의 함유량 100질량부, 또는, 제 1 실리콘 수지 및 제 2 실리콘 수지의 합계 함유량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부 이상 20질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5질량부 이상 10질량부 이하이다. 실리콘 화합물의 함유량이 상기 범위보다 높으면, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 투명성이 손상되는 경우가 있다.The content of the silicone compound in the silicone resin composition of the present embodiment is preferably 0.1 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the first silicone resin or 100 parts by mass of the total content of the first silicone resin and the second silicone resin. Not less than 20 parts by mass, and more preferably not less than 0.5 parts by mass and not more than 10 parts by mass. If the content of the silicone compound is higher than the above range, the transparency of the cured product of the silicone resin composition may be impaired.
상기의 첨가제의 다른 예로서는, 예를 들면, 실리콘 수지 조성물의 혼합 시에 발생하는 기포를 억제시키기 위한 소포제 등을 들 수 있다.Other examples of the above-mentioned additives include a defoaming agent for suppressing bubbles generated during mixing of the silicone resin composition.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, 상술한 실리콘 수지, 유기 용매 등을, 통상 행해지는 공지의 방법으로 혼합함으로써 얻을 수 있다.The silicone resin composition of the present embodiment can be obtained by mixing the above-mentioned silicone resin, organic solvent and the like by a commonly known method.
[실리콘 수지 조성물의 경화물][Cured product of silicone resin composition]
본 발명의 일 실시형태인 실리콘 수지 조성물의 경화물에 대하여 설명한다.A cured product of a silicone resin composition which is one embodiment of the present invention will be described.
본 실시형태의 실리콘 수지 조성물을, 예를 들면, 120℃ 이상 200℃ 이하에서 경화시킴으로써, 실리콘 수지 조성물의 경화물(이하, 「본 실시형태의 경화물」이라고도 함.)을 얻을 수 있다. 경화 시간은 1시간 이상 100시간 이하인 것이 바람직하고, 5시간 이상 70시간 이하인 것이 보다 바람직하며, 5시간 이상 50시간 이하가 더 바람직하다.By curing the silicone resin composition of the present embodiment at, for example, 120 deg. C or higher and 200 deg. C or lower, a cured product of the silicone resin composition (hereinafter also referred to as " cured product of the present embodiment ") can be obtained. The curing time is preferably from 1 hour to 100 hours, more preferably from 5 hours to 70 hours, further preferably from 5 hours to 50 hours.
본 실시형태의 경화물은, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물을, 예를 들면, 160℃에서 10시간 경화시킴으로써 얻을 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 경화물은, 예를 들면, JIS K6253-3:2012에 따라 측정되는 쇼어 경도가 D70 정도이다.The cured product of the present embodiment can be obtained by, for example, curing the silicone resin composition of the present embodiment at 160 DEG C for 10 hours. The cured product thus obtained has a Shore hardness of about D70 as measured, for example, according to JIS K6253-3: 2012.
본 실시형태의 경화물은, UV 안정성에도 우수하기 때문에, 반도체 발광 소자(LED), 포토다이오드, CCD, CMOS 등의 밀봉재로서 유용하고, 특히 UV광을 발하는 UV-LED용 밀봉재로서 유용하다.The cured product of the present embodiment is useful as a sealing material for a semiconductor light emitting device (LED), a photodiode, a CCD, and a CMOS, because it is excellent in UV stability, and is particularly useful as a sealing material for UV-LEDs emitting UV light.
상술과 같이, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물은, UV 안정성이 높은 실리콘 수지 조성물의 경화물의 제조에 유용하다.As described above, the silicone resin composition of the present embodiment is useful for the production of a cured product of a silicone resin composition having high UV stability.
[반도체 발광 소자용 밀봉재][Seal material for semiconductor light emitting device]
본 발명의 일 실시형태인 반도체 발광 소자용 밀봉재에 대하여 설명한다.A sealing material for a semiconductor light emitting element according to an embodiment of the present invention will be described.
본 실시형태의 반도체 발광 소자용 밀봉재는, 본 실시형태의 실리콘 수지 조성물의 경화물로 이루어지기 때문에, UV 안정성이 높은 반도체 발광 소자용 밀봉재가 된다.Since the sealing material for a semiconductor light emitting element of the present embodiment is made of a cured product of the silicone resin composition of the present embodiment, it becomes a sealing material for a semiconductor light emitting element having high UV stability.
(실시예)(Example)
이하, 실시예를 나타냄으로써 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
본 실시예에 있어서, 실리콘 수지 조성물에 있어서의 규소 원자의 종류 및 치환기의 존재 비율을 측정하기 위한 수단으로서는, 용액 1H-NMR법, 용액 29Si-NMR법 또는 고체 29Si-NMR법을 이용하였다. 또한, 실리콘 수지의 분자량 측정에 대해서는 GPC법을 이용하였다. 각 측정법에 있어서의 조건은 이하와 같다.In the present embodiment, as a means for measuring the kind of the silicon atom and the ratio of the substituent in the silicone resin composition, it is preferable to use solution 1 H-NMR, solution 29 Si-NMR or solid 29 Si-NMR Respectively. The molecular weight of the silicone resin was measured by the GPC method. Conditions for each measurement method are as follows.
<용액 1H-NMR 측정 조건>≪ Solution 1 H-NMR Measurement Conditions >
장치명 : JEOL RESONANCE사 제 ECA-500Device name: ECA-500 made by JEOL RESONANCE
관측핵 : 1HObservation nucleus: 1 H
관측 주파수 : 500.16MHzObservation frequency: 500.16MHz
측정 온도 : 실온Measuring temperature: room temperature
측정 용매 : DMSO-d6Measurement solvent: DMSO-d6
펄스폭 : 6.60μsec(45°)Pulse width: 6.60 mu sec (45 DEG)
펄스 반복 시간 : 7.0secPulse repetition time: 7.0 sec
적산 횟수 : 16회Accumulated count: 16
시료 농도(시료/측정 용매) : 300mg/0.6mlSample concentration (sample / measurement solvent): 300 mg / 0.6 ml
<용액 29Si-NMR 측정 조건><Solution 29 Si-NMR measurement conditions>
장치명 : Agilent사 제 400-MRDevice name: 400-MR manufactured by Agilent
관측핵 : 29SiObservation nucleus: 29 Si
관측 주파수 : 79.42MHzObserved frequency: 79.42MHz
측정 온도 : 실온Measuring temperature: room temperature
측정 용매 : CDCl3 Measurement solvent: CDCl 3
펄스폭 : 8.40μsec(45°)Pulse width: 8.40 mu sec (45 DEG)
펄스 반복 시간 : 15.0secPulse repetition time: 15.0 sec
적산 횟수 : 4000회Accumulated count: 4000 times
시료 농도(시료/측정 용매) : 300mg/0.6mlSample concentration (sample / measurement solvent): 300 mg / 0.6 ml
<고체 29Si-NMR 측정 방법><Solid state 29 Si-NMR measurement method>
장치명 : Bruker사 제 AVANCE300 400-MRDevice name: AVANCE300 400-MR made by Bruker
관측핵 : 29SiObservation nucleus: 29 Si
관측 주파수 : 59.6MHzObservation frequency: 59.6MHz
측정 온도 : 실온Measuring temperature: room temperature
측정법 : DDMAS법Measuring method: DDMAS method
기준 물질 : 헥사메틸시클로트리실록산Reference substance: hexamethylcyclotrisiloxane
(-9.66ppm으로 설정, TSM 0ppm 설정에 상당) (Set to -9.66ppm, equivalent to TSM 0ppm setting)
MAS 조건 : 3.5kHzMAS condition: 3.5 kHz
펄스폭 : π/6(1.4ms)Pulse width: π / 6 (1.4 ms)
대기 시간 : 20.0secStandby time: 20.0sec
적산 횟수 : 4096회Accumulated count: 4096
시료량 : 180mgSample volume: 180 mg
<GPC 측정 조건>≪ GPC measurement condition >
장치 : 토소사 제 HLC-8220Apparatus: Tosoh Corporation HLC-8220
칼럼 : TSKgel Multipore HXL-M×3+Guard column-MP(XL)Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3 + Guard column-MP (XL)
유량 : 1.0mL/minFlow rate: 1.0 mL / min
검출 조건 : RI(극성+)Detection condition: RI (polarity +)
농도 : 100mg+5mL(THF)Concentration: 100 mg + 5 mL (THF)
주입량 : 100μLInjection amount: 100 μL
칼럼 온도 : 40℃Column temperature: 40 DEG C
용리액 : THFEluent: THF
본 실시예에 있어서, 실리콘 수지 조성물 중에 존재하는 규소 원자에 결합하는, 메틸기, 메톡시기 및 수산기의 몰비는, 용액 1H-NMR 또는 고체 13C-NMR 측정에 의해 구하였다. 각 측정법에 있어서의 조건은 이하와 같다.In the present embodiment, the molar ratio of the methyl group, the methoxy group and the hydroxyl group, which is bonded to the silicon atom present in the silicone resin composition, was determined by solution 1 H-NMR or solid 13 C-NMR measurement. Conditions for each measurement method are as follows.
본 실시예에 있어서, 측정 대상물(실리콘 수지 조성물)이 측정 용매에 용해되지 않는 실리콘 수지를 포함하는 경우에는, 다음과 같이 하여, 측정 대상물(실리콘 수지 조성물) 중에 존재하는 메틸기, 메톡시기 및 수산기의 몰비를 측정한다.In the present embodiment, when the object to be measured (silicone resin composition) contains a silicone resin which is not soluble in the measurement solvent, the amount of the methyl group, methoxy group and hydroxyl group present in the measurement object The molar ratio is measured.
먼저, 실리콘 수지 조성물에 원심 분리 처리 또는 여과 처리를 실시하고, 측정 용매에 용해되는 실리콘 수지와, 측정 용매에 용해되지 않는 실리콘 수지로 분리한다. 그 후, 측정 용매에 용해되는 실리콘 수지에는 용액 NMR 측정을 행하고, 측정 용매에 용해되지 않는 실리콘 수지에 대해서는 고체 NMR 측정을 행함으로써, 규소 원자에 결합하는 메틸기, 메톡시기 및 수산기의 몰비를 각각 측정한다. 그 후, 각각 측정한 측정값을 합산시킴으로써, 실리콘 수지 조성물 중에 존재하는 메틸기, 메톡시기 및 수산기의 몰비를 구할 수 있다.First, the silicone resin composition is subjected to centrifugal separation or filtration to separate the silicone resin dissolved in the measurement solvent and the silicone resin not dissolved in the measurement solvent. Thereafter, solution NMR measurement is performed on the silicone resin dissolved in the measurement solvent, and solid NMR measurement is performed on the silicone resin which is not dissolved in the measurement solvent, whereby the molar ratio of the methyl group, methoxy group and hydroxyl group bonded to the silicon atom is measured do. Thereafter, the molar ratio of the methyl group, the methoxy group and the hydroxyl group present in the silicone resin composition can be obtained by summing the measured values respectively.
또한, 실리콘 수지 조성물에 포함되는 실리콘 수지를 분리하는 대신에, 실리콘 수지 조성물의 원료인 실리콘 수지 단체(單體)에 대하여, 규소 원자에 결합하는 메틸기, 메톡시기 및 수산기의 몰비를 측정하고, 실리콘 수지 조성물에 포함되는 실리콘 수지의 배합 비율에 기초하여, 실리콘 수지 조성물 중에 존재하는 메틸기, 메톡시기 및 수산기의 몰비를 구할 수도 있다.Further, instead of separating the silicone resin contained in the silicone resin composition, the molar ratio of the methyl group, the methoxy group and the hydroxyl group bonded to the silicon atom is measured for a silicon resin as a raw material of the silicone resin composition, The molar ratio of the methyl group, the methoxy group and the hydroxyl group present in the silicone resin composition may be determined based on the compounding ratio of the silicone resin contained in the resin composition.
그 때, 얻어진 NMR 스펙트럼에 있어서, 3.0ppm∼4.0ppm의 화학 시프트의 사이에 메톡시기와 같은 알콕시기에 유래하는 피크가 검출되지만, 용매 성분의 구조에 유래하는 피크, 실라놀기의 피크 등도 유사한 화학 시프트로서 검출되어, 복수의 피크가 겹치는 경우가 있다. 그 경우, 얻어진 NMR 스펙트럼과, 용매 단독의 NMR 스펙트럼과의 스펙트럼 차를 구하는 처리, 측정 환경 온도를 변경함으로써 알콕시기와 실라놀기의 피크를 분리시키는 처리 등을 행하면 된다. 이와 같은 처리를 행함으로써, 메톡시기 단독의 몰비를 구할 수 있다.At this time, in the obtained NMR spectrum, peaks derived from alkoxy groups such as methoxy groups were detected during chemical shifts of 3.0 ppm to 4.0 ppm, but peaks derived from the structure of the solvent component and peaks of the silanol groups and the like were similar chemical shifts So that a plurality of peaks may overlap each other. In this case, a process of obtaining a spectrum difference between the obtained NMR spectrum and the solvent-only NMR spectrum, and a process of separating the alkoxy group from the silanol group peak by changing the measurement environment temperature may be performed. By performing such a treatment, the molar ratio of the methoxy group alone can be obtained.
<용액 1H-NMR 측정 조건>≪ Solution 1 H-NMR Measurement Conditions >
장치명 : Agilent사 제 400-MRDevice name: 400-MR manufactured by Agilent
관측핵 : 1HObservation nucleus: 1 H
관측 주파수 : 399.78MHzObservation frequency: 399.78MHz
측정 온도 : 실시예 및 비교예에 기재Measurement temperature: Described in Examples and Comparative Examples
측정 용매 : 실시예 및 비교예에 기재Measurement solvent: Described in Examples and Comparative Examples
펄스폭 : 6.00μsec(45°)Pulse width: 6.00 mu sec (45 DEG)
펄스 반복 시간 : 30.0secPulse repetition time: 30.0 sec
적산 횟수 : 16회Accumulated count: 16
시료 농도(시료/측정 용매) : 100mg/0.8mlSample concentration (sample / measurement solvent): 100 mg / 0.8 ml
<고체 13C-NMR 측정 조건><Conditions for measuring solid 13 C-NMR>
장치명 : Bruker사 제 AVANCE300 400-MRDevice name: AVANCE300 400-MR made by Bruker
관측핵 : 13CObservation nucleus: 13 C
관측 주파수 : 75.4MHzObservation frequency: 75.4MHz
측정 온도 : 실온Measuring temperature: room temperature
측정법 : DDMAS법Measuring method: DDMAS method
기준 물질 : 아다만탄(29.47ppm으로 설정, TMS 0ppm 설정에 상당)Reference substance: adamantane (set at 29.47 ppm, equivalent to TMS 0 ppm setting)
MAS 조건 : 10kHzMAS condition: 10 kHz
펄스폭 : π/6(1.5ms)Pulse width: π / 6 (1.5 ms)
대기 시간 : 10.0secStandby time: 10.0sec
적산 횟수 : 8192회(레퍼런스의 측정)Accumulated count: 8192 times (measurement of reference)
16384회(= 214회)(수지(C)의 측정)16384 times (= 2 14 times) (Measurement of Resin (C)) [
시료량 : 85mgSample volume: 85 mg
본 실시예에 있어서, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 경화 직후의 UV 투과율, 및 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 조사 시험 후의 UV 투과율을 각각 측정하였다. UV 투과율 측정의 조건은 이하와 같다.In this example, the UV transmittance immediately after curing of the cured product of the silicone resin composition and the UV transmittance of the cured product of the silicone resin composition after the UV irradiation test were respectively measured. The conditions of UV transmittance measurement are as follows.
실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 조사 시험은, 실리콘 수지 조성물의 경화물을 핫플레이트 상에서 가열하면서 행하였다. UV 조사 시험의 조건은 이하와 같다.The UV irradiation test of the cured product of the silicone resin composition was carried out while heating the cured product of the silicone resin composition on a hot plate. The conditions of the UV irradiation test are as follows.
이러한 측정 결과에 의해, 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 안정성을 평가하였다.Based on these measurement results, the UV stability of the cured product of the silicone resin composition was evaluated.
<투과율 측정><Measurement of transmittance>
장치명 : 시마즈제작소사 제 UV-3600Device name: UV-3600 made by Shimazu Corporation
어태치먼트 : 적분구 ISR-3100Attachment: Integral sphere ISR-3100
측정 파장 : 220∼800nmMeasured wavelength: 220 to 800 nm
백그라운드 측정 : 대기Background measurement: wait
측정 속도 : 중속Measuring speed: medium speed
<UV 조사 시험><UV irradiation test>
장치명 : 우시오전기사 제 SP9-250DVDevice name: Wuxi morning article SP9-250DV
UV 조사 파장 : 254nm∼420nmUV irradiation wavelength: 254 nm to 420 nm
UV 조사 강도 : 150mW/cm2 UV irradiation intensity: 150 mW / cm 2
수지 가열 온도 : 50℃(핫플레이트에 따름)Resin heating temperature: 50 캜 (according to hot plate)
UV 조사 시간 : 300시간UV irradiation time: 300 hours
(실시예 1)(Example 1)
제 1 실리콘 수지로서, 상기 식(1)로 나타내어지는 오르가노폴리실록산 구조를 가지는 실리콘 수지 1(Mw=3500, 상기 식(1) 중, R1=메틸기, R2=메톡시기 또는 수산기)을 이용하였다. 실리콘 수지 1의 각 구조 단위의 존재 비율을 표 1에 나타낸다.As the first silicone resin, a silicone resin 1 having an organopolysiloxane structure represented by the formula (1) (Mw = 3500, in the formula (1), R 1 = methyl group, R 2 = methoxy group or hydroxyl group) Respectively. The abundance ratio of each structural unit of the silicone resin 1 is shown in Table 1.
실리콘 수지 1을, 5℃/분의 승온 속도로 실온으로부터 200℃까지 승온시키고, 공기 중에 있어서 200℃에서 5시간 보지했을 때의 질량 감소율은 10.3%였다.When the silicone resin 1 was heated from room temperature to 200 ° C at a temperature raising rate of 5 ° C / minute and held at 200 ° C for 5 hours in the air, the mass reduction rate was 10.3%.
제 2 실리콘 수지로서, MSP-S110(닛코리카주식회사 제)을 이용하였다. MSP-S110을, 5℃/분의 승온 속도로 실온으로부터 200℃까지 승온시키고, 공기 중에 있어서 200℃에서 5시간 보지했을 때의 질량 감소율은 3.5%였다. MSP-S110의 각 구조 단위의 존재 비율을 표 2에 나타낸다.As the second silicone resin, MSP-S110 (manufactured by Nikkorika Co., Ltd.) was used. MSP-S110 was raised from room temperature to 200 占 폚 at a temperature raising rate of 5 占 폚 / minute, and the mass reduction rate when kept at 200 占 폚 for 5 hours in air was 3.5%. The presence ratio of each structural unit of MSP-S110 is shown in Table 2.
실리콘 수지 1을 35.04g과, 제 2 실리콘 수지인 MSP-S110을 23.36g과, 아세트산 2-에톡시에틸 21.60g을 혼합하여, 실리콘 수지 조성물을 얻었다.35.04 g of silicone resin 1, 23.36 g of MSP-S110 as the second silicone resin, and 21.60 g of 2-ethoxyethyl acetate were mixed to obtain a silicone resin composition.
얻어진 실리콘 수지 조성물에 있어서, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율은 72%였다.In the obtained silicone resin composition, the ratio of the content of A3 silicon atoms to the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms was 72%.
얻어진 실리콘 수지 조성물에 있어서, 규소 원자에 결합하는 메틸기(알킬기) 100에 대한, 규소 원자에 결합하는 수산기(실라놀기)의 몰비를 측정하고, 규소 원자에 결합하는 메틸기(알킬기) 100에 대한, 규소 원자에 결합하는 메톡시기(알콕시기)의 몰비를 측정하였다.In the obtained silicone resin composition, the molar ratio of the hydroxyl group (silanol group) bonded to the silicon atom relative to 100 of the methyl group (alkyl group) bonded to the silicon atom was measured, and the ratio of the methyl group (alkyl group) The mole ratio of the methoxy group (alkoxy group) bonded to the atom was measured.
그 때의 1H-NMR 측정에 있어서의 측정 온도는 실온이고, 측정 용매는 DMSO-d6이었다.The measurement temperature in the 1 H-NMR measurement at that time was room temperature and the measurement solvent was DMSO-d 6 .
측정 결과를 후술하는 표 3에 나타낸다.The measurement results are shown in Table 3 below.
얻어진 실리콘 수지 조성물 100질량부에 대하여, 인산 15%를 포함하는 경화용 촉매를 첨가하고, 충분히 교반 혼합함으로써, 실시예 1의 실리콘 수지 조성물을 얻었다. 실시예 1의 실리콘 수지 조성물을, 알루미늄컵 상에서, 160℃에서 10시간 보온하는 경화 조건으로 경화시킴으로써, 두께 1mm의 경화물을 얻었다. 얻어진 경화물은, 점착성(택성)을 가지고 있지 않았다. 또한, 얻어진 경화물에 크랙은 보이지 않았다.A curing catalyst containing 15% phosphoric acid was added to 100 parts by mass of the obtained silicone resin composition, and the mixture was stirred sufficiently to obtain a silicone resin composition of Example 1. The silicone resin composition of Example 1 was cured in an aluminum cup under a curing condition of keeping at 160 캜 for 10 hours to obtain a cured product having a thickness of 1 mm. The resulting cured product had no stickiness (tackiness). No cracks were observed in the obtained cured product.
경화용 촉매의 첨가량을 후술하는 표 3에 나타낸다.The addition amount of the curing catalyst is shown in Table 3 to be described later.
얻어진 경화물의 UV 투과율을 측정하였다. 그 후, 얻어진 경화물의 UV 조사 시험을 행하고, UV 조사 시험 후의 경화물의 UV 투과율을 측정하였다.The UV transmittance of the resulting cured product was measured. Thereafter, the obtained cured product was subjected to a UV irradiation test, and the UV transmittance of the cured product after the UV irradiation test was measured.
UV 조사 시험 전후의 UV 투과율의 측정값으로부터, 하기 식에 기초하여 UV 투과율의 유지율을 구하였다. 산출된 유지율은, 실리콘 수지 경화물의 UV 안정성의 지표로서 이용한다.From the measured values of the UV transmittance before and after the UV irradiation test, the retention of the UV transmittance was determined based on the following formula. The calculated retention ratio is used as an index of UV stability of the silicone resin cured product.
(UV 투과율의 유지율)=(B/A)×100(Retention rate of UV transmittance) = (B / A) x 100
A : UV 조사 시험 전의 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 투과율A: UV transmittance of the cured product of the silicone resin composition before UV irradiation test
B : UV 조사 시험 후의 실리콘 수지 조성물의 경화물의 UV 투과율B: UV transmittance of the cured product of the silicone resin composition after the UV irradiation test
UV 조사 시험 전후의 UV 투과율, 및 UV 투과율의 유지율을 후술하는 표 3에 나타낸다.The UV transmittance before and after the UV irradiation test and the retention rate of the UV transmittance are shown in Table 3 described later.
(실시예 2)(Example 2)
실시예 1의 실리콘 수지 조성물의 경화용 촉매의 양을, 후술하는 표 3에 나타내는 양으로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 실리콘 수지 조성물과, 실시예 2의 실리콘 수지 조성물의 경화물을 얻었다.The silicone resin composition of Example 2 and the silicone resin of Example 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the curing catalyst of the silicone resin composition of Example 1 was changed to that shown in Table 3 to be described later A cured product of the composition was obtained.
얻어진 실리콘 수지 조성물의 경화물에 대하여, 실시예 1과 동일하게 하여, UV 조사 시험 전후의 UV 투과율, 및 UV 투과율의 유지율을 측정하였다.The cured product of the obtained silicone resin composition was measured for UV transmittance before and after the UV irradiation test and retention of the UV transmittance in the same manner as in Example 1.
측정 결과를 후술하는 표 3에 나타낸다.The measurement results are shown in Table 3 below.
(비교예 1)(Comparative Example 1)
실시예 1의 실리콘 수지 조성물의 경화용 촉매의 양을, 후술하는 표 3에 나타내는 양으로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 실리콘 수지 조성물과, 비교예 1의 실리콘 수지 조성물의 경화물을 얻었다.The silicone resin composition of Comparative Example 1 and the silicone resin of Comparative Example 1 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the curing catalyst of the silicone resin composition of Example 1 was changed to that shown in Table 3 described later A cured product of the composition was obtained.
얻어진 실리콘 수지 조성물의 경화물에 대하여, 실시예 1과 동일하게 하여, UV 조사 시험 전후의 UV 투과율, 및 UV 투과율의 유지율을 측정하였다.The cured product of the obtained silicone resin composition was measured for UV transmittance before and after the UV irradiation test and retention of the UV transmittance in the same manner as in Example 1.
측정 결과를 후술하는 표 3에 나타낸다.The measurement results are shown in Table 3 below.
(비교예 2)(Comparative Example 2)
에틸트리메톡시실란 0.75몰에 산 촉매로서 희질산을 이용하여, 3관능 규소알콕시드:물:질산의 몰비를 1:3:0.002로 한 혼합물을 제작하였다. 얻어진 혼합물을 밀폐 용기 중에서 20℃에서 3시간 교반하고, 이어서, 60℃에서 24시간 방치시킴으로써, 가수분해 중축합을 행하였다. 얻어진 반응액은, 축중합 반응액을 많이 포함하는 하층과, 부생성물인 메탄올을 많이 포함하는 상층으로 분리했기 때문에, 분액 깔때기에 의해 하층측 반응액을 취출하였다.A mixture of 0.75 mol of ethyltrimethoxysilane and dilute acid as an acid catalyst was used to make a molar ratio of trifunctional silicon alkoxide: water: nitric acid to 1: 3: 0.002. The obtained mixture was stirred in a sealed container at 20 占 폚 for 3 hours and then left at 60 占 폚 for 24 hours to carry out hydrolytic polycondensation. The obtained reaction solution was separated into a lower layer containing a large amount of the condensation polymerization reaction liquid and an upper layer containing a large amount of methanol as a by-product, so that the lower reaction solution was taken out by a separating funnel.
얻어진 하층측 반응액을, 공기 중에서 60℃에서 2시간 건조시키고, 이어서, 진공 하에서 40℃에서 2시간 건조시킴으로써, 비교예 2의 실리콘 수지 조성물을 얻었다.The obtained lower layer side reaction liquid was dried in air at 60 占 폚 for 2 hours and then dried under vacuum at 40 占 폚 for 2 hours to obtain a silicone resin composition of Comparative Example 2.
비교예 2의 실리콘 수지 조성물은, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량이 58.7%였다.The silicone resin composition of Comparative Example 2 had a content of A3 silicon atoms of 58.7% based on the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms.
또한, 비교예 2의 실리콘 수지 조성물 중의 질산 농도는 128ppm이었다.The nitric acid concentration in the silicone resin composition of Comparative Example 2 was 128 ppm.
비교예 2의 실리콘 수지 조성물에 있어서, 규소 원자에 결합하는 메틸기(알킬기) 100에 대한, 규소 원자에 결합하는 수산기(실라놀기)의 몰비를 측정하고, 규소 원자에 결합하는 메틸기(알킬기) 100에 대한, 규소 원자에 결합하는 메톡시기(알콕시기)의 몰비를 측정하였다.In the silicone resin composition of Comparative Example 2, the molar ratio of the hydroxyl group (silanol group) bonded to the silicon atom to 100 of the methyl group (alkyl group) bonded to the silicon atom was measured, and the ratio of the methyl group (alkyl group) The molar ratio of the methoxy group (alkoxy group) bonded to the silicon atom was measured.
그 때의 1H-NMR 측정에 있어서의 측정 온도는 60℃이고, 측정 용매는 DMSO-d6이었다.The 1 H-NMR measurement at that time was 60 ° C, and the measurement solvent was DMSO-d 6 .
측정 결과를 후술하는 표 4에 나타낸다.The measurement results are shown in Table 4 below.
비교예 2의 실리콘 수지 조성물을, 160℃에서 24시간 보온하는 경화 조건으로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 경화물을 얻었다.A cured product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicone resin composition of Comparative Example 2 was cured at 160 占 폚 for 24 hours.
얻어진 경화물에 대하여, 실시예 1과 동일하게 하여 UV 투과율을 측정하였다. 그 결과, 얻어진 경화물은, 파장 280nm의 UV광의 투과율이 72%이고, UV-LED용의 밀봉재로서 사용하기에는 불충분한 것이었다. 그 후, 얻어진 경화물의 UV 조사 시험을 행하고, UV 조사 시험 후의 경화물의 투과율을 측정하였다. 그 결과, UV 투과율의 유지율은 55%이고, UV 조사 시험 전의 UV광의 투과율로부터 크게 감소하였다.The UV transmittance of the obtained cured product was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the obtained cured product had a transmittance of UV light having a wavelength of 280 nm of 72%, which was insufficient for use as a sealing material for UV-LED. Thereafter, the obtained cured product was subjected to a UV irradiation test, and the transmittance of the cured product after the UV irradiation test was measured. As a result, the retention ratio of the UV transmittance was 55%, which was greatly reduced from the transmittance of UV light before the UV irradiation test.
(비교예 3)(Comparative Example 3)
상기 실리콘 수지 1을 354g을 이소프로필알코올 190g에 추가하고, 내부 온도가 85℃가 될 때까지 가열 교반함으로써, 실리콘 수지 1을 용해시켰다. 그 후, 거기에 하기 식(2)로 나타내어지는 오르가노폴리실록산 구조를 가지는 올리고머 35g을 추가하였다.354 g of the silicone resin 1 was added to 190 g of isopropyl alcohol and the mixture was heated and stirred until the internal temperature reached 85 캜 to dissolve the silicone resin 1. Thereafter, 35 g of an oligomer having an organopolysiloxane structure represented by the following formula (2) was added thereto.
(식 중,(Wherein,
R1 및 R2는 상술한 것과 동일한 의미를 나타낸다.R 1 and R 2 have the same meanings as described above.
p2, q2, r2, a2 및 b2은, [a2×q2]/[(p2+b2×q2)+a2×q2+(r2+q2)]=0∼0.3이 되는 임의의 0 이상의 수를 나타낸다.) p 2, q 2, r 2 , a 2 and b 2 are, [a 2 × q 2] / [(p 2 + b 2 × q 2) + a 2 × q 2 + (r 2 + q 2)] = 0 to 0.3).
상기의 올리고머의 각 구조 단위의 존재 비율을 표 3에 나타낸다.The presence ratio of each structural unit of the above oligomer is shown in Table 3.
그 후, 상기 실리콘 수지 1 및 상기 올리고머와는 상이한, 시판의 실리콘 화합물 3.8g을 추가하고, 1시간 이상 교반하여 용해시켰다. 시판의 실리콘 화합물은, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자와의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율이 0% 이상 30% 미만이고, 또한, 중량 평균 분자량이 8000을 넘고, 15000 이하인 실리콘 수지였다.Thereafter, 3.8 g of a commercially available silicone compound different from the silicone resin 1 and the oligomer was added and dissolved by stirring for 1 hour or more. The commercially available silicone compound has a ratio of the content of A3 silicon atoms to the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms of 0% or more and less than 30%, and has a weight average molecular weight of more than 8,000, Lt; / RTI >
그 후, 얻어진 혼합물에, 아세트산 2 부톡시에틸 123g과 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(실란 커플링제) 0.1g을 추가하였다. 얻어진 혼합물로부터, 이배퍼레이터를 이용하여, 온도가 70℃, 압력이 4kPaA인 조건에서, 이소프로필알코올 농도가 1질량% 이하가 될 때까지 이소프로필알코올을 증류 제거하고, 상기 실리콘 수지 1과 상기 올리고머와 상기 시판의 실리콘 화합물의 혼합비가 90:9:1인, 실리콘 수지 조성물을 얻었다.Then, 123 g of 2-ethoxyethyl acetate and 0.1 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (silane coupling agent) were added to the obtained mixture. From the obtained mixture, isopropyl alcohol was distilled off under a condition of a temperature of 70 DEG C and a pressure of 4 kPaA until the isopropyl alcohol concentration became 1 mass% or less by using an expander, A silicone resin composition was obtained in which the mixing ratio of the oligomer and the commercially available silicone compound was 90: 9: 1.
얻어진 실리콘 수지 조성물의 29Si-NMR 측정의 결과, 규소 원자 유래의 전체 시그널 중, A3 규소 원자에 유래하는 시그널의 면적은 65%였다.As a result of 29 Si-NMR measurement of the obtained silicone resin composition, the area of the signal derived from the A3 silicon atom in the entire silicon-derived signal was 65%.
얻어진 실리콘 수지 조성물에 있어서, 규소 원자에 결합하는 메틸기(알킬기) 100에 대한, 규소 원자에 결합하는 수산기(실라놀기)의 몰비를 측정하고, 규소 원자에 결합하는 메틸기(알킬기) 100에 대한, 규소 원자에 결합하는 메톡시기(알콕시기)의 몰비를 측정하였다. 그 결과, 수산기의 몰비는 23.1이고, 메톡시기의 몰비는 16.1이었다.In the obtained silicone resin composition, the molar ratio of the hydroxyl group (silanol group) bonded to the silicon atom relative to 100 of the methyl group (alkyl group) bonded to the silicon atom was measured, and the ratio of the methyl group (alkyl group) The mole ratio of the methoxy group (alkoxy group) bonded to the atom was measured. As a result, the molar ratio of the hydroxyl group was 23.1 and the molar ratio of the methoxy group was 16.1.
그 때의 1H-NMR 측정에 있어서의 측정 온도는 60℃이고, 측정 용매는 DMSO-d6이었다.The 1 H-NMR measurement at that time was 60 ° C, and the measurement solvent was DMSO-d 6 .
얻어진 실리콘 수지 조성물 100질량부에 대하여, 인산 15%를 포함하는 경화용 촉매 2질량부 첨가하고, 충분히 교반함으로써, 비교예 3의 실리콘 수지 조성물을 얻었다. 비교예 3의 실리콘 수지 조성물에 있어서의 인산 농도는 2870ppm이었다. 비교예 3의 실리콘 수지 조성물을 알루미늄제 컵 내에 약 5g 투입하고, 오븐 내에서 5℃/분의 속도로 실온으로부터 160℃까지 승온하고, 160℃에서 3시간 방치함으로써, 두께 1mm의 경화물을 얻었다. 얻어진 경화물은 점착성(택성)을 가지고 있지 않았다. 또한, 경화물에 크랙은 보이지 않았다.2 parts by mass of a curing catalyst containing 15% phosphoric acid was added to 100 parts by mass of the obtained silicone resin composition and sufficiently stirred to obtain a silicone resin composition of Comparative Example 3. The phosphoric acid concentration in the silicone resin composition of Comparative Example 3 was 2870 ppm. About 5 g of the silicone resin composition of Comparative Example 3 was put in an aluminum cup and the temperature was raised from room temperature to 160 캜 at a rate of 5 캜 / minute in an oven and left at 160 캜 for 3 hours to obtain a cured product having a thickness of 1 mm . The resulting cured product had no tackiness (tackiness). Also, cracks were not observed in the cured product.
얻어진 실리콘 수지 경화물에 대하여, 실시예 1과 동일하게 하여, UV 조사 시험 전후의 UV 투과율, 및 UV 투과율의 유지율을 측정하였다. 그 결과, UV 조사 시험 전의 UV 투과율은 80%이고, UV 투과율의 유지율은 45%였다.The cured silicone resin thus obtained was measured for UV transmittance before and after the UV irradiation test and retention of the UV transmittance in the same manner as in Example 1. As a result, the UV transmittance before the UV irradiation test was 80%, and the retention rate of the UV transmittance was 45%.
하기 표 4에 있어서는, 「UV 조사 시험 전의 실리콘 수지 경화물의 UV 투과율」을 「초기 UV 투과율」로서 나타내고 있다. 초기 UV 투과율에 대해서는 75% 이상이 되는 것을 합격으로 하고, 판정란에 「○」로 나타내고 있다. 또한, 초기 UV 투과율이 75% 미만인 것을 불합격으로 하고, 판정란에 「×」로 나타내고 있다.In Table 4, "UV transmittance of the silicone resin cured product before UV irradiation test" is shown as "initial UV transmittance". The initial UV transmittance is determined to be at least 75%, and the determination is indicated by "? &Quot;. In addition, those having an initial UV transmittance of less than 75% were rejected and indicated by "X" in the determination column.
또한, 하기 표 4에 있어서는, 「UV 투과율의 유지율」이 90% 이상이 되는 것을 합격으로 하고, 판정란에 「○」로 나타내고 있다. 또한, 「UV 투과율의 유지율」이 90% 미만인 것을 불합격으로 하고, 판정란에 「×」로 나타내고 있다.In the following Table 4, it is accepted that the "retention ratio of the UV transmittance" is 90% or more, and the judgment column shows "○". The case where the "retention ratio of the UV transmittance" is less than 90% is rejected, and the judgment column shows "x".
이상의 결과로부터, 본 발명의 실리콘 수지 조성물이 유용한 것을 알 수 있었다.From the above results, it was found that the silicone resin composition of the present invention is useful.
(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)
본 발명에 의하면, UV 안정성이 높은 실리콘 수지 조성물의 경화물의 제조에 유용한 실리콘 수지 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 당해 실리콘 수지 조성물의 경화물을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 당해 실리콘 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 반도체 발광 소자용 밀봉재를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a silicone resin composition useful in the production of a cured product of a silicone resin composition having high UV stability. Further, according to the present invention, a cured product of the silicone resin composition can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a sealing material for a semiconductor light emitting device comprising a cured product of the silicone resin composition.
Claims (5)
하기 (ⅰ)∼(ⅲ)의 요건을 충족시키는, 실리콘 수지 조성물.
(ⅰ) 함유하는 규소 원자가, A1 규소 원자 및 A2 규소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 규소 원자와, A3 규소 원자로 실질적으로 이루어지고, A1 규소 원자, A2 규소 원자 및 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, A3 규소 원자의 함유량의 비율이 50몰% 이상 99몰% 이하이다.
(ⅱ) 상기 규소 원자에 결합하는 측쇄가, 탄소수 1∼3의 알킬기, 탄소수 1 또는 2의 알콕시기, 또는, 수산기이고, 알콕시기의 몰비가 알킬기 100에 대하여 5 미만이며, 수산기의 몰비가 알킬기 100에 대하여 10 이상이다.
(ⅲ) 금속 촉매를 실질적으로 함유하지 않고, 또한, 금속을 포함하지 않는 경화용 촉매(당해 경화용 촉매는, 산 촉매 또는 염기 촉매임)를 함유하고, 실리콘 수지 조성물에 있어서의 경화용 촉매의 농도가 600ppm(질량 백만분률) 이하이다.
[여기서,
A1 규소 원자란, 하기 식(A1)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 1개의 산소 원자(당해 산소 원자는, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있음), 1개의 R1 및 2개의 R2와 결합하고 있는 규소 원자, 또는, 하기 식(A1')로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 1개의 결합손(당해 결합손은, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있는 산소 원자와 결합하고 있음), 1개의 R1 및 2개의 R2와 결합하고 있는 규소 원자이다.
A2 규소 원자란, 하기 식(A2)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 1개의 산소 원자(당해 산소 원자는, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있음), 1개의 결합손(당해 결합손은, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있는 산소 원자와 결합하고 있음), 1개의 R1 및 1개의 R2와 결합하고 있는 규소 원자이다.
A3 규소 원자란, 하기 식(A3)으로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 2개의 산소 원자(당해 산소 원자는, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있음), 1개의 결합손(당해 결합손은, 다른 구조 단위 중의 규소 원자와 결합하고 있는 산소 원자와 결합하고 있음) 및 1개의 R1과 결합하고 있는 규소 원자이다.
R1은 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, R2는 탄소수 1 또는 2의 알콕시기 또는 수산기를 나타낸다.]
A silicone resin composition comprising at least one silicone resin,
Wherein the silicone resin composition satisfies the following requirements (i) - (iii).
(I) at least one silicon atom selected from the group consisting of A1 silicon atoms and A2 silicon atoms, and A3 silicon atoms, and the total content of A1 silicon atoms, A2 silicon atoms and A3 silicon atoms , The ratio of the content of A3 silicon atoms is 50 mol% or more and 99 mol% or less.
(Ii) the side chain bonded to the silicon atom is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms, or a hydroxyl group, the molar ratio of the alkoxy group is less than 5 per 100 alkyl groups, 100 or more.
(Iii) a curing catalyst which contains substantially no metal catalyst and which does not contain a metal (the curing catalyst is an acid catalyst or a base catalyst), and the catalyst for curing The concentration is 600 ppm (mass per million) or less.
[here,
The A1 silicon atom is a structural unit represented by the following formula (A1) wherein one oxygen atom (the oxygen atom is bonded to a silicon atom in another structural unit), one R 1 and two R 2 Or a structural unit represented by the following formula (A1 '), one bonding hand (the bonding hand is bonded to an oxygen atom bonding with a silicon atom in another structural unit), or a structural unit represented by the following formula Is a silicon atom bonded to one R < 1 > and two R < 2 >
The A2 silicon atom is a structural unit represented by the following formula (A2), wherein one oxygen atom (the oxygen atom is bonded to the silicon atom in the other structural unit) and one bonding hand Is bonded to an oxygen atom bonded to a silicon atom in another structural unit), and is a silicon atom bonded to one R 1 and one R 2 .
The A3 silicon atom is a structural unit represented by the following formula (A3) wherein two oxygen atoms (the oxygen atom is bonded to a silicon atom in another structural unit) and one bonding hand Is bonded to an oxygen atom bonded to a silicon atom in the other structural unit) and a silicon atom bonded to one R < 1 >.
R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and R 2 represents an alkoxy group or a hydroxyl group having 1 or 2 carbon atoms.
상기 실리콘 수지로서, 하기의 제 1 실리콘 수지를 포함하는, 실리콘 수지 조성물.
제 1 실리콘 수지 :
함유하는 규소 원자가, 상기 A1 규소 원자 및 상기 A2 규소 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 규소 원자와, 상기 A3 규소 원자로 실질적으로 이루어지고, 상기 A1 규소 원자, 상기 A2 규소 원자 및 상기 A3 규소 원자의 합계 함유량에 대한, 상기 A3 규소 원자의 함유량의 비율이 60몰% 이상 90몰% 이하이며, 또한, 중량 평균 분자량이 1500 이상 8000 이하인, 실리콘 수지.The method according to claim 1,
A silicone resin composition comprising the following first silicone resin as the silicone resin.
First silicone resin:
Containing silicon atom is at least one silicon atom selected from the group consisting of the A1 silicon atom and the A2 silicon atom and the A3 silicon atom, and the A1 silicon atom, the A2 silicon atom and the A3 silicon atom Wherein the ratio of the content of the A3 silicon atom to the total content of the A3 silicone atom is from 60 mol% to 90 mol%, and the weight average molecular weight is from 1,500 to 8,000.
상기 실리콘 수지로서, 하기의 제 2 실리콘 수지를 포함하는, 실리콘 수지 조성물.
제 2 실리콘 수지 :
5℃/분의 승온 속도로 실온으로부터 200℃까지 승온시키고, 200℃에서 5시간 공기 중에서 보지했을 때의 질량 감소율이 5% 미만인, 실리콘 수지.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the silicone resin comprises the following second silicone resin.
Second silicone resin:
Wherein the silicone resin is heated from room temperature to 200 占 폚 at a temperature raising rate of 5 占 폚 / min, and the mass reduction rate when held at 200 占 폚 in the air for 5 hours is less than 5%.
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
Patent event date: 20180718 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination |