KR20160082680A

KR20160082680A - 의학적 상태와 질환을 치료하도록 플라즈마 상태의 일산화질소를 이용하는 방법

Info

Publication number: KR20160082680A
Application number: KR1020167005030A
Authority: KR
Inventors: 하워드 넬슨; 알렉산더 돌고폴스키; 마이클 디 프레스턴; 마이클 폴; 빅터 엔 바실렛
Original assignee: 오리진, 아이엔씨.
Priority date: 2013-10-31
Filing date: 2014-10-30
Publication date: 2016-07-08
Also published as: CN105473166A; RU2016106303A3; ZA201604187B; IL243668A0; EP3398618B8; EP3398618B1; JP2018027933A; JP2019142862A; EP2999489A4; MX2016005532A; TW201521805A; US20160193336A1; RU2016106303A; JP2016529231A; AU2014342242A1; EP2999489A1; EP3398618A1; WO2015066278A1; AR098280A1; CA2917170A1

Abstract

플라즈마 상태의 일산화질소(NO)를 치료 부위에 투여하는 방법을 개시한다. 물질의 이산적 스트림을 플라즈마 상태에 두고, 이러한 상태에서는, 그 스트림이, NO의 원하는 농도를 함량의 일부로서 갖는다. 물질의 이산적 스트림은 치료 결과를 얻도록 작용 부위로 향한다.

Description

의학적 상태와 질환을 치료하도록 플라즈마 상태의 일산화질소를 이용하는 방법{METHODS FOR USING NITRIC OXIDE IN A PLASMA STATE TO TREAT MEDICAL CONDITIONS AND DISEASES}

관련 출원에 대한 상호 참조

본 출원은, 2013년 10월 13일자로 "Methods for Using Nitric Oxide in a Plasma State to Treat Medical Conditions and Diseases"라는 명칭으로 가출원되어 계류중인 미국 특허 가출원 제61/898,390호에 기초한 우선권을 주장하는 정규 출원이며, 그 우선권의 전문은 본 명세서에 참고로 원용된다.

본 개시 내용은, 일반적으로, 의학적 치료 분야에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는, 의학적 상태와 질환의 치료시 일산화질소를 효과적으로 투여하는 방법에 관한 것이다.

일산화질소(NO) 가스는, 신체의 내외에서 일반적으로 기체 상태로 발견되는 수명이 짧은 분자이다. NO는, 많은 조절 특성, 보호 특성, 및 치료 특성을 갖는 것으로 알려져 있는 신호 전달 분자이다. 내인성 NO의 생산 증가를 자극하거나 외인성 생산된 NO를 신체 내에 도입하여 신체의 자연적인 NO 발생을 강화함으로써, 손상, 고통, 침입 유기체에 대한 신체의 응답성을 개선할 수 있다. 그러나, NO를 생체 조직 내에 전달하는 것은 어려우며, NO는, 기체 상태에서, 진피를 관통하지 못한다. NO가 임상적으로 유용하려면, NO가 작용 부위에 충분한 양으로 존재해야 한다.

치료를 목적으로 NO를 전달하는 기존의 방법들은, NO를 신체 내에 화학적으로 배출하는 화학적 화합물을 투여하는 것을 포함한다. 다른 방법들은 NO 경로 작용제와 NO 대항제를 채택한다. 또 다른 방법들은 고압 NO 가스 및 스프레이를 채택한다. 또 다른 방법은 기체 NO가 도입되는 밀봉된 진공 컨테이너로 신체를 둘러싸는 것을 포함한다. 또한, 가압된 일산화질소를 조직과 피부를 통해 도입하고자 하는 시도도 이루어지고 있다. 여러 이유로 인해, 이러한 방법들은 제한된 결과를 야기하였다. 예를 들어, 기체 NO는, 고 반응성이며, 낮은 확산 상수를 갖고, 조직 배지에 있어서 극히 짧은 수명을 갖는다,

임상적 성공을 거두지 못한 또 다른 방법은 분자 도너를 투여하는 것을 포함하는데, 이는 페이로드 배출 제어를 조절할 수 없거나 도너의 관통/포화를 신뢰성 있게 조절할 수 없기 때문에 문제가 있다고 입증되었다.

NO에 관련하여 특정한 임상적 결과를 목표로 하는 여러 해결책들이 있다. 예를 들어, (VIAGRA라는 상품명으로 판매되는) 시트르산 실데나필(Sildenafil citrate)은, 발기 부전 증후군에 있어서 NO의 하향 조절에 간섭한다. 예를 들어, (ENBRIL이라는 상품명으로 판매되는) 에타너셉트(Etanercept)는, 관절의 염증 질환에 있어서 NO의 기능을 행하도록 항-TNF 알파 항체를 사용한다. 대부분의 해결책들은, 작용 부위에서 NO 생산을 직접 자극하는 데 어려움으로 인해 NO 경로에 영향을 끼치는 것을 포함한다. 이러한 NO 경로 약리의 부위 특이성이 부족함으로 인해, 부정적인 부작용이 심각할 수 있다.

전술한 바를 고려할 때, 치료 이점을 용이하게 하는 방식으로 작용 부위에 NO를 투여하는 방법을 제공하는 것이 유리하다.

본 개시 내용에 따르면, 치료 이점을 달성하도록 NO를 투여하는 치료 방법을 개시한다. 일부 실시형태에서, 방법들은, 공기의 고온 플라즈마 변환에 의한 NO의 외인성 생산 및 NO 도포를 포함한다. 다른 실시형태들에서, NO는 동물, 사람, 및 식물의 생체 조직의 복구와 성장이 용이해지도록 치료 부위에 도포된다.

이러한 본 개시 내용의 방법은, 세포 및 조직 환경에 연관된 NO 레벨이 명백하게 증가하는 유익한 효과를 위해 NO를 치료 부위에 선택적으로 도포하도록 기능한다. 더욱 구체적으로, 방법은, NO를 포함하는 원하는 조성을 갖는 플라즈마 상태에서 물질을 생산할 수 있는 장치를 채택하는 것을 포함한다. 이 장치는, NO의 원하는 레벨을 플라즈마 상태의 물질을 통해 치료 부위에 도포하는 데 사용될 수 있다.

도 1은 본 개시 내용에 따라 NO를 생산하기 위한 예시적인 제1 디바이스를 도시하는 도.
도 2는 본 개시 내용에 따라 NO를 생산하기 위한 예시적인 제2 디바이스를 도시하는 도.
도 3은 본 개시 내용에 따라 NO를 생산하기 위한 예시적인 제3 디바이스를 도시하는 도.
도 4는 본 발명의 일 실시형태에 따라 예시적인 제1 방법을 도시하는 흐름도.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태들이 도시되어 있는 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 그러나, 본 발명은, 서로 다른 많은 형태로 실시될 수 있고, 본 명세서에서 설명하는 실시형태들로 한정되는 것으로 해석해서는 안 된다. 오히려, 이러한 실시형태들은, 본 개시 내용이 완전하고도 철저해지도록 그리고 본 발명의 범위를 통상의 기술자에게 충분히 전달하도록 제공된 것이다. 도면에서, 유사한 번호들은 도면 전체에 걸쳐 유사한 요소들을 가리킨다.

본 개시 내용에 따르면, 물질의 이산적 스트림이 NO를 자신의 함량의 일부로서 갖는 플라즈마 상태에서 그 물질의 이산적 스트림을 생성하고, 치료 결과를 얻도록 이러한 스트림을 유기체에 투여하기 위한 방법과 장치를 제공한다. 일부 실시형태들에서, 표면 레벨에서의(즉, 피부나 개방된 상처를 향하는) NO 도포는, 징후(indications) 부위 및 징후 부위 주위에서 치료 효과를 얻을 수 있도록 신체의 고유한 NO 생산을 자극하는 것으로 여겨진다. 대안으로, 개시된 방법은, 플라즈마 상태에 있는 NO가 충분히 높은 에너지와 속도를 갖고 있어서 세포 성막을 관통할 수 있고 세포 성막 주위를 관통할 수 있다는 사실을 이용할 수 있다. 일부 경우에, NO는 연관된 조직에서의 치료 결과를 얻도록 균막과 각질층을 통과할 수 있다.

NO를 함유하는 플라즈마 상태의 물질은 여러 방법을 통해 생성될 수 있다. 대기는 질소와 산소를 함유하며, 따라서, 정확한 형태의 충분한 에너지가 기체 혼합물로부터 일산화질소를 생산할 수 있다. 에너지를 추가하여 기체 N₂와 O₂를 플라즈마 상태로 천이시킬 수 있다. 비제한적인 예시적인 일 실시형태에서, N₂-O₂혼합물 내의 미리 형성된 기체는, 플라즈마 상태의 NO 생산을 위한 충분한 에너지를 전달하는 플라즈마 에너지 아크를 통해 생성 및 전달될 수 있다.

도 1은, 개시된 방법들 중 하나 이상을 실행하는 데 사용하기 위한 NO 생산 디바이스(1)의 예시적인 생성기 부분을 도시한다. 도시한 바와 같이, 공기는 디바이스(1)의 제1 단부에서 도입되고, 한 쌍의 전극, 즉, 서로 절연되어 있는 캐소드(2)와 애노드(4) 사이에서 채널화된다. 정지형 DC 아크 방전을 생성하여 전극들(2, 4) 사이에서 유지한다. NO 함유 가스 흐름은, 아크 방전의 영향 하에서 전극들(2, 4) 사이의 영역에서 공기로부터 형성되며, NO 함유 가스 흐름(8) 내에 NO가 고정될 수 있게 하는 (냉각제 루프(6)에 의해 냉각된) 냉각 채널을 통해 회수된다. 그 흐름의 온도와 NO 함량은, 치료 부위에 치료 이점을 제공하기 위한 원하는 값들로 될 수 있다. 도시한 예시적인 NO 생산 디바이스(1)에 관한 추가 상세는, 예를 들어, 그 전문이 본 명세서에 참고로 원용되는 Pekshev의 미국 특허 제7,498,000호에서 알 수 있다.

플라즈마 상태의 공기의 열역학적 평형의 조성 분석에 의해 확인된 전형적인 열역학은, 2000 미만의 온도에서 가스 내의 NO의 농도가 1%를 초과하지 않음을 나타낸다. 플라즈마 온도를 증가시킴으로써, NO 농도가 3500 내지 4000에서 최대값(-5%)까지 증가하게 된다. 도시한 디바이스(1)의 플라즈마 아크의 방전 온도는 4000보다 약간 낮다. NO를 형성하게 되는 플라즈마-화학 반응은 다음의 화학식으로 표현될 수 있다.

N₂ + O₂ 2NO - 180.9 킬로-주울(kJ)

고온에서의 NO 분자의 수명은, 재결합((2NO + O₂ = 2NO₂)+)의 빠른 반응 때문에 합성 시간에 비교될만하다. 재결합을 방지하고 의학적 도포를 위한 NO의 치료 농도를 유지하기 위해, 반응 혼합물의 급속 냉각, 즉, 담금질을 달성하는 것이 바람직하다. NO 담금질은, 둘러싸고 있는 냉기에 있어서(즉, 냉각제 루프(6)로부터) 탈출하는 흐름을 제동함으로써 발생한다. 도시한 디바이스(1)는, 대기압에서 주변 공기를 이용하여 직류 플라즈마 아크가 생성될 수 있게 한다. 디바이스(1)는, 예시적인 일 실시형태에서 NO의 약 2,500만분율(ppm)인 의학적으로 상당량의 NO를 함유하는 플라즈마 종들의 조성을 갖는 고온 공기의 스트림(8)을 생산한다.

도 1에 도시한 디바이스(1)는 배타적이지 않으며, 플라즈마 생성 NO의 대체 소스를 사용하여 개시된 방법들 중 하나 이상을 실시할 수도 있다. 도 2는, 개시된 방법들 중 하나 이상을 실시하는 데 사용하기 위한 플라즈마 상태의 NO 함유 물질(12)을 생산하기 위한 이러한 대체 디바이스(10)를 도시한다. 이 디바이스(10)는, 원하는 조성(즉, NO의 약 2000 ppm)을 갖는 플라즈마 상태의 물질(12)을 생산하기 위한 마이크로파 방전 기술을 채택한다. 도시한 디바이스(10)는, p < 1 킬로와트(kW)의 전력과 2.45 기가헤르츠(GHz) 주파수를 갖는 마그네트론(14)을 포함한다. 공기는, 마그네트론(14)에 의해 전달되며, 플라즈마 상태의 물질(12)의 스트림이 생성되어 목표로 하는 치료 부위에 도포되도록 출력되는 토치 본체(18)의 코어 부분(16)으로 향한다.

도 3은, 개시된 방법들 중 하나 이상을 실시하는 데 사용하기 위한 플라즈마 상태의 NO 함유 물질을 생산하기 위한 다른 디바이스(20)를 도시한다. 도시한 디바이스(20)는, 원하는 조성(역시, NO의 약 2000 ppm)을 갖는 플라즈마 상태의 물질(22)을 생산하도록 자기적으로 안정화된 글라이딩 아크 방전 기술을 채택한다.

글라이딩 아크는, 대기압의 공기 내에서, 적절한 전력 레벨(통상적으로 50 내지 300와트)에서 동작한다. 전원(24) 및 애노드/캐소드(26, 28)를 채택하고, 외부 밸러스트 저항(30)을 사용하여 전류를 제한한다. 이는, 방전의 비평형성(Te>Tg)을 유지하면서 방전(즉, 플라즈마 제트(22))을 적절한 온도(2000 내지 3000°K)까지 가열한다. 이처럼, 높은 농도의 NO(예를 들어, 1600 내지 1800 ppm)를 낮은 전력 입력에서 얻을 수 있다. 그래프(32)는, 플라즈마 상태의 물질(22)의 NO 농도(ppm) 대 방전 전류(mA) 간의 관계를 도시한다.

이해할 수 있듯이, 플라즈마 상태의 NO는 다양한 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 플라즈마 상태의 NO는 항균제로서 사용될 수 있다. 또한, 플라즈마 상태의 NO는, 머리카락 성장을 용이하게 하는 데 사용될 수 있고, 주름 개선제로서 사용될 수 있고, 염증을 줄이거나, 혈관확장을 용이하게 하는 데 사용될 수 있다. 플라즈마 상태의 NO는, 또한, 골관절염과 류마티스 관절염에 연관된 통증을 줄이도록 채택될 수 있다. 이것은, 또한, 그람 양성 미생물, 그람 음성 미생물, (손발톱 진균증을 포함한) 곰팡이, 및 바이러스와 싸우는 데 효과적일 수 있다. 이것은, 또한, 골다공증 치료, 콜라겐 형성, 줄기세포 신호 전달, 위성세포 분화, 상처의 치유, 상처의 관리, 흉터 조직의 감소, 활동 관련 부상 및 여드름의 개선에 있어서 도움이 될 수 있다. 또한, 플라즈마 상태의 NO는, 신경 재생에 도움을 줄 수 있고, 암 세포 증식을 억제할 수 있고, 세포 자멸을 촉진할 수 있고, 내인성 일산화질소 생산을 자극할 수 있고, iNOS 경로를 자극할 수 있다.

실제로, 플라즈마 상태의 NO는, 원하는 효과를 얻도록 생체 조직에 직접 또는 생체 조직에 인접하여 직접 도포될 수 있다. 이것은, 심장혈관계통과 호흡계통에 있어서 항상성을 유지하도록 효과적으로 기능할 수 있다. 신호 전달 분자인 NO는, 혈관 유연성을 촉진하고, 혈압을 낮추고, 혈액을 정화하고, 죽경화증을 전환하고, 심장혈관 질환을 효과적으로 방지하고 그 회복을 돕는 혈관확장을 야기할 수 있다. NO의 다른 중요한 기능은 혈관벽 상의 죽경화판 침착을 느리게 하는 것이다. 또한, NO는 면역계통에 있어서 능동적인 방어 역할을 수행한다. 이것은, 강력한 항산화제이며, 박테리아 감염, 바이러스 및 기생충 공격을 억제할 수 있다. 이것은 소정의 유형의 암 세포 성장을 억제할 수 있다. 중간 정도 내지 심각한 정도의 당뇨병이 있는 환자에 있어서, NO는 공통된 많은 심각한 합병증을 방지할 수 있다. 또한, NO는 관절염의 관절 팽창에 연관된 통증을 상당히 감소시킬 수 있다. NO는, 암, 당뇨병, 심근경색증, 및 뇌졸중의 위험성을 효과적으로 감소시킬 수 있다.

신경계통과 내분비계통에 있어서, NO는 다양한 신체 장기들의 정상적 기능을 유도할 수 있다. NO는, 생물학적 신호 전달을 위해 세포 성막을 자유롭게 투과할 수 있고, 세포 활동을 조절할 수 있고, 폐, 간, 신장, 위, 심장, 뇌, 및 생식기를 포함한 모든 장기를 완벽한 기능으로 적절히 이끌 수 있다. NO는 정상적인 성 기 능을 유지하도록 생식 기관으로의 혈류를 증가시킬 수 있다. 뇌는, 회음부에 충분한 NO를 제공하여 혈관확장을 야기하여 발기 기능을 향상시키기 위한 혈류를 증가시키도록 뇌를 둘러싸고 있는 신경들을 통해 신호를 회음부에 전달할 수 있다. 소정의 조건 하에서, 약한 발기는 신경 종말에 의한 불충분한 NO 생산의 결과이다.

또한, NO는, 노화 프로세스를 느리게 할 수 있고 기억력을 개선할 수 있다. 면역계통에 의해 생산되는 NO 분자는, 침입하는 미생물을 파괴할 수 있을 뿐만 아니라 뇌 세포들을 활성화하고 양분을 공급하여 노화를 상당히 느리게 하고 기억력을 개선할 수도 있다.

예시적인 징후

개시된 플라즈마 상태의NO 함유 물질이 치료에 유익하게 사용될 수 있는 예시적인 징후의 비 제한적인 리스트는 아래와 같다.

피부 감염 및 상처의 치유

피부 감염

만성 상처

그람 양성

그람 음성

급성 상처

그람 양성

그람 음성

아급성 상처

그람 양성

그람 음성

곰팡이 감염

족부 백선

손발톱 진균증

발가락

손가락

상처의 치유

만성

당뇨병성 족 궤양

욕창 궤양

급성

아급성

화상

1도

2도

3도

통증과 염증

골관절염

무릎

손

발목

어깨

팔꿈치

발가락

척추 및 목

엉덩이

손가락

류마티스 관절염

무릎

손

발목

어깨

팔꿈치

발가락

척추 및 목

엉덩이

손가락

플라즈마 상태에 있는 물질의 예시적인 베이스라인 조성은 아래의 표 1에 도시되어 있다. 이러한 물질의 베이스라인 조성은, 더욱 상세히 후술할 다음에 따르는 예시적인 치료 기법들 중 임의의 것과 함께 채택될 수 있다. 그러나, 이 조성 항목화는 예시일 뿐이며, 유익한 효과를 위해 다른 조성을 이용할 수도 있음을 이해할 것이다.

표 1

베이스라인 플라즈마 조성

예시적인 베이스라인 치료 기법은 아래의 표 2에 도시되어 있다. 이 베이스라인 치료 기법은 다음에 따르는 예시적인 치료 기법들 중 임의의 것과 함께 채택될 수 있다. 이하의 다수의 예들에 관하여 설명하듯이, 특정한 징후에 응답하여 그리고 환부에 원하는 치료 계획을 제공하도록, 이러한 베이스라인 기법을 조절할 수도 있음을 이해할 것이다.

표 2에 나타낸 바와 같이, 치료 변수들은, "배출구부터 부위까지의 거리", "도포 시간", "치료 횟수", "치료 간격의 시간 길이", "부위와의 접촉시 플라즈마 스트림의 온도", 및 "치료 부위와의 접촉시 플라즈마 스트림의 속도"를 포함한다.

"배출구부터 부위까지의 거리"는, 플라즈마 디바이스(예를 들어, 디바이스 1, 10, 20)의 배출구부터 치료 부위까지 센티미터로 표현되는 스탠드오프(standoff) 거리로 이해된다. "도포 시간"은, 플라즈마 상태에 있는 NO 함유 물질이 플라즈마 디바이스로부터 치료 부위로 향하는, 부위 영역의 제곱 센티미터당 초로 표현되는 시간 양으로 이해된다. 따라서, 도포 시간은 치료되는 영역의 크기에 의존한다. "치료 횟수"는 부위에 적용될 개별적인 치료 횟수로 이해된다. "치료 간격의 시간 길이"는, 치료 부위에서 플라즈마 상태에 있는 NO 함유 물질의 도포 사이에 경과된 시간 양으로 이해된다. "치료 부위와의 접촉시 플라즈마 스트림의 온도"는 치료 부위에서 플라즈마 상태에 있는 NO 함유 물질의 로 표현되는 온도로 이해된다. "치료 부위와의 접촉시 플라즈마 스트림의 속도"는 치료 부위에서 플라즈마 상태에 있는 NO 함유 물질의 초당 미터로 표현되는 속도로 이해된다. 최소값과 최대값이 각각 제공되며, 특정한 징후를 위한 개별적인 치료 명세가 표시된 범위 내에서 가변됨을 인식할 수 있다.

표 2

베이스라인 치료 기법

이제, 다양한 징후에 관한 일련의 예시적인 치료 기법들을 설명한다. 달리 표시되는 경우를 제외하고는, 이러한 치료 기법들에서는, 표 1에서 식별된 조성을 갖는 플라즈마 상태의 물질을 사용하는 것으로 가정한다.

예 1

치료 기법 - 그람 양성 박테리아

그람 양성 병원체들의 부분 리스트에 대해서는 이하의 표 1b를 참조한다. 표 1b의 병원체와 함께 존재하는 상태들의 부분 리스트에 대해서는 이하의 표 1c를 참조한다.

아래에 식별되어 있는 최소 치료값과 최대 치료값은 그람 양성 박테리아 감염의 중증도에 기초한 것이다. 감염의 중증도는, 표면적, 깊이, 집락 수, 및 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 집락 제거(decolonization) 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 1 - 표 1a

예 1 - 표 1b

예 1 - 표 1c

예 2

치료 기법 - 그람 음성 박테리아

그람 음성 병원체들 중 일부에 대해서는 표 2b를 참조한다. 표 2b의 병원체들과 함께 존재하는 상태들 중 부분 리스트에 대해서는 표 2c를 참조한다.

최소 치료값과 최대 치료값은 그람 음성 박테리아 감염의 중증도에 기초한 것이다. 감염의 중증도는, 표면적, 깊이, 집락 수, 및 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 집락 제거 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다. 그람 음성 박테리아는 그람 양성보다 죽이는 것이 어려우며, 따라서, 집락 제거에 더욱 긴 치료가 필요하다.

예 2 - 표 2a

예 2 - 표 2b

예 2 - 표 2c

예 3

치료 기법 - 상처 - 압력 궤양

중증도 분류는 표 3b와 같다. 임상 증례는 표 3c와 같다.

최소 치료값과 최대 치료값은 압력 궤양 상처의 중증도에 기초한 것이다. 감염의 중증도는, 표면적, 깊이, 및 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 상처 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 3 - 표 3a

예 3- 표 3b

예 3 - 표 c

예 4

치료 기법 - 상처 - 신경성 궤양

중증도 분류는 표 4b와 같다. 임상 증례는 표 4c와 같다.

최소 치료값과 최대 치료값은 신경성 궤양 상처의 중증도에 기초한 것이다. 상처의 중증도는, 표면적, 깊이, 및 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 상처 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 4 - 표 4a

예 4 - 표 4b

예 4 - 표 4c

예 5

치료 기법 - 상처 - 정맥 궤양

중증도 분류는 표 5b와 같다. 임상 증례는 표 5c와 같다.

최소 치료값과 최대 치료값은 압력 정맥 상처의 중증도에 기초한 것이다. 상처의 중증도는, 표면적, 깊이, 및 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 상처 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다. 치료는, 순환계통 문제로 인해 최대 4 cm까지인 상처 부위 둘레의 경계를 포함한다.

예 5 - 표 5a

예 5 - 표 5b

예 5 - 표 5c

예 6

치료 기법 - 상처 - 화상

중증도 분류는 표 6b와 같다.

최소 치료값과 최대 치료값은 화상의 중증도에 기초한 것이다. 화상의 중증도는, 표면적, 깊이, 및 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 화상 부위로부터의 거리는 환자의 통증 임계값에 의존한다. 최소 치료 파라미터들은 화상 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 6 - 표 6a

예 6 - 표 6b

예 7

치료 기법 - 골관절염 - 작은 관절

작은 관절 치료 프로토콜이 적용되는 신체 위치들의 리스트에 대해서는 표 7b를 참조한다.

최소 치료값과 최대 치료값은 염증, 이동성, 및 통증의 중증도에 기초한 것이다. 관절염의 중증도는, 염증의 레벨, 이동성, 및 통증 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 골관절염 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다. 치료는, 순환계통 문제로 인해 최대 1cm까지인 상처 부위 둘레의 경계를 포함한다.

예 7 - 표 7a

예 7 - 표 7b

예 8

치료 기법 - 골관절염 - 큰 관절

큰 관절 치료 프로토콜이 적용되는 신체 위치들의 리스트에 대해서는 표 8b를 참조한다.

최소 치료값과 최대 치료값은 염증, 이동성, 및 통증의 중증도에 기초한 것이다. 시간 길이는, 피부의 표면 아래의 관절의 깊이와 둘러싸고 있는 연조직의 양으로 인해 작은 관절과는 다르다. 골관절염의 중증도는, 염증의 레벨, 이동성, 및 통증 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 골관절염 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다. 치료는, 순환계통 문제로 인해 최대 1cm까지인 상처 부위 둘레의 경계를 포함한다.

예 8 - 표 8a

예 8 - 표 8b

예 9

치료 기법 - 류마티스 관절염 - 작은 관절

작은 관절 치료 프로토콜이 적용되는 신체 위치들의 리스트에 대해서는 표 9b를 참조한다.

최소 치료값과 최대 치료값은 염증, 이동성, 및 통증의 중증도에 기초한 것이다. 류마티스 관절염의 중증도는, 염증의 레벨, 이동성, 및 통증 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 류마티스 관절염 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다. 치료는, 순환계통 문제로 인해 최대 3cm까지인 상처 부위 둘레의 경계를 포함한다.

예 9 - 표 9a

예 9 - 표 9b

예 10

치료 기법 - 류마티스 관절염 - 큰 관절

큰 관절 치료 프로토콜이 적용되는 신체 위치들의 리스트에 대해서는 표 10b를 참조한다.

최소 치료값과 최대 치료값은 염증, 이동성, 및 통증의 중증도에 기초한 것이다. 시간 길이는, 피부의 표면 아래의 관절의 깊이와 둘러싸고 있는 연조직의 양으로 인해 작은 관절과는 다르다. 류마티스 관절염의 중증도는, 염증의 레벨, 이동성, 및 통증 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 류마티스 관절염 치료 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다. 치료는, 순환계통 문제로 인해 최대 1 cm까지인 상처 부위 둘레의 경계를 포함한다.

예 10 - 표 10a

예 10 - 표 10b

예 11

치료 기법 - 모낭 자극

모낭 자극에 사용하기 위한 플라즈마 상태에 있는 물질의 예시적인 베이스라인 조성은 아래의 표 11a에 도시되어 있다. 이 조성 항목화는 예시일 뿐이며, 유익한 효과를 위해 다른 조성을 이용할 수도 있음을 이해할 것이다. 표 11a와 표 11b의 최소 치료값과 최대 치료값은 피부 유형과 연령에 기초한 것이다. 최소 치료 파라미터들은 모낭 자극 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 11 - 표 11a

플라즈마 조성

예 11 - 표 11b

예 12

치료 기법 - 손상 후 흉터종증

이 예에서 개시된 NO 사용은, 손상 부위의 흉터종증 덩어리를 줄이도록 손상 후에 발생한 흉터종증(흉터 조직)을 치료하기 위한 것이다. 손상 후 흉터종증의 치료에 사용하기 위한 플라즈마 상태에 있는 물질의 예시적인 조성은 아래의 표 12a에 도시되어 있다. 이 조성 항목화는 예시일 뿐이며, 유익한 효과를 위해 다른 조성을 이용할 수도 있음을 이해할 것이다. 표 12a와 표 12b의 최소 치료값과 최대 치료값은 흉터종증 조직의 깊이와 폭에 기초한 것이다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 흉터종증 조직 전환 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 12 - 표 12a

플라즈마 조성

예 12 - 표 12b

예 13

치료 기법 - 손상 전 흉터종증

이 예에서 개시한 NO 사용은, 후속 손상 부위에서의 흉터종증 덩어리를 감소시키도록 (외과수술 절개 등의) 손상 전에 발생할 것으로 예상되는 치료 대상인 흉터종증(흉터 조직)을 감소시키기 위한 것이다. 손상 전 흉터종증의 치료에 사용하기 위한 플라즈마 상태의 물질의 예시적인 조성은 아래의 표 13a에 도시되어 있다. 이 조성 항목화는 예시일 뿐이며, 유익한 효과를 위해 다른 조성을 이용할 수도 있음을 이해할 것이다. 표 13a와 표 13b의 최소 치료값과 최대 치료값은 흉터종증 조직의 깊이와 폭에 기초한 것이다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 흉터종증 조직 전환 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 13 - 표 13a

플라즈마 조성

예 13 - 표 13b

예 14

치료 기법 - 천식

이 예에서 개시한 NO 사용은, 발작에 대한 구조 요법이나 유지 요법으로서 천식의 증상과 징후를 치료하도록 NO를 흡입하기 위한 것이다. 천식 치료에 사용하기 위한 플라즈마 상태의 물질의 예시적인 조성은 아래의 표 14a에 도시되어 있다. 이 조성 항목화는 예시일 뿐이며, 유익한 효과를 위해 다른 조성을 이용할 수도 있음을 이해할 것이다. 표 14a와 표 14b의 최소 치료값과 최대 치료값은 천식 우발의 중증도에 기초한 것이다. 천식의 중증도는 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 천식 관리 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예 14 - 표 14a

플라즈마 조성

예 14 - 표 14b

예 15

치료 기법 - 호흡계통 감염

이 예에서 개시한 NO 사용은, 폐와 부비강이나 기타 기도의 그람 양성 또는 그람 음성 감염의 박테리아 로드(load)를 치료하도록 NO를 흡입하기 위한 것이다. 이러한 감염 치료에 사용하기 위한 플라즈마 상태의 물질의 예시적인 조성은 아래의 표 15a에 도시되어 있다. 이 조성 항목화는 예시일 뿐이며, 유익한 효과를 위해 다른 조성을 이용할 수도 있음을 이해할 것이다. 표 15a와 표 15b의 최소 치료값과 최대 치료값은 감염의 중증도에 기초한 것이다. 감염의 중증도는 증상에 의해 결정된다. 치료요법 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속 시간, 및 빈도를 증가시킨다.

예시적인 병원체들은 표 15c에 포함되어 있는 한편, 예시적인 상태들은 표 15d에 포함되어 있다.

예 15 - 표 15a

플라즈마 조성

예 15 - 표 15b

예 15 - 표 15c

예 15 - 표 15d

예 16

치료 기법 - 바이러스

이 예에서 개시된 NO 사용은, 바이러스 감염을 치료하도록 NO를 흡입하기 위한 것이다. 이러한 바이러스를 치료하는 데 사용하기 위한 플라즈마 상태의 물질의 예시적인 조성은 아래의 표 16a에 도시되어 있다. 이러한 조성 항목화는 예시일 뿐이며, 기타 조성도 유익한 효과를 위해 사용할 수 있음을 이해할 것이다. 표 16a와 표 16b의 최소 치료값과 최대 치료값은 감염의 중증도에 기초한 것이다. 감염의 중증도는 증상, 표면적, 깊이, 집락 수에 의해 결정된다. 치료요법의 적용은, 중증도가 증가함에 따라 강도, 지속시간, 및 빈도를 증가시킨다. 최소 치료 파라미터들은 집락 제거 프로세스의 개시를 위한 요건들을 정의한다.

예시적인 병원체들은 표 16c에 포함되어 있는 한편, 표 16c의 병원체들과 함께 존재하는 상태들의 예시적인 리스트는 표 16d에 포함되어 있다.

예 16 - 표 16a

플라즈마 조성

예 16 - 표 16b

예 16 - 표 16c

예 16 - 표 16d

이제, 도 4를 참조해 보면, 본 개시 내용에 따라 플라즈마 상태의 NO를 치료 부위에 투여하는 예시적인 방법을 도시하는 흐름도가 도시되어 있다. 예시적인 방법의 제1 단계(100)에서는, 플라즈마 상태에 둔 물질의 이산적 스트림을 생성할 수 있으며, 이 스트림은, 약 200ppm 내지 1000ppm 농도의 NO를 함량의 일부로서 갖는다. 단계(110)에서는, 플라즈마 상태의 물질의 스트림은, 도포 시간, 플라즈마 상태의 물질의 온도, 플라즈마 상태의 물질을 생성하는 데 사용되는 디바이스와 징후 부위 간의 거리, 및 징후 부위에서의 플라즈마 상태의 물질의 속도 중 적어도 하나에 따라 스트림이 제어되는 생물체의 징후 부위로 향한다. 단계(120)에서는, 징후 부위를 평가한다. 단계(130)에서는, 징후의 유형에 의존하는 소정의 기법에 따라, 상술한 생성 단계 및 상술한 향하게 하는 단계를 반복한다.

본 명세서에서 사용하는 바와 같이, 단수 형태로 언급되며 "한" 또는 "하나" 등의 단어가 선행되는 요소 또는 단계는, 다수의 요소나 다수의 단계를 배제하는 것이 명시적으로 언급되지 않는 한, 이러한 복수의 요소나 복수의 단계를 배제하지 않는다는 점을 이해하기 바란다. 게다가, 본 발명의 "일 실시형태"에 언급하는 것은, 언급된 특징부들을 역시 포함하고 있는 추가 실시형태들의 존재를 배제하는 것으로 해석해서는 안 된다.

본 발명을 소정의 실시형태들에 관하여 개시하였지만, 청구범위에서 정의한 바와 같이 본 발명의 사상과 범위로부터 벗어나지 않고서 전술한 실시형태들에 대한 많은 수정, 변경, 변화가 가능하다. 이에 따라, 본 발명은, 전술한 실시형태들로 한정하려는 것이 아니라, 다음에 따르는 청구범위 및 그 균등물에 의해 정의되는 전체 범위를 가지려는 것이다.

Claims

플라즈마 상태의 일산화질소를 유기체에 투여하는 방법으로서,
플라즈마 상태에 둔 물질의 이산적 스트림을 생성하는 단계로서, 상기 스트림은 약 200 ppm 내지 1000 ppm 농도의 일산화질소(NO)를 함량의 일부로서 갖는, 생성 단계, 및
NO의 피하 생산 자극, 진피에 걸친 및 상기 진피를 통한 플라즈마 상태의 NO의 이동화, 및 병원체에 대한 플라즈마 상태의 NO의 직접적 영향 중 적어도 하나에 의해 치료 결과를 얻도록 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계를 포함하는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는, 상기 물질의 이산적 스트림을 생성하는 데 사용되는 디바이스를 상기 디바이스와 상기 작용 부위 사이의 1 cm 내지 25 cm에 위치시키는 단계를 포함하는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는, 부위 면적인 각 제곱 센티미터마다 5 내지 45초 동안 상기 물질의 이산적 스트림을 향하게 하는 단계를 포함하는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는, 소정의 호흡 횟수 동안 상기 물질의 이산적 스트림을 흡입하는 단계를 포함하는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림은 복수의 이산적 도포 프로시저에 걸쳐 상기 작용 부위로 향하고, 상기 복수의 이산적 도포 프로시저는 1번 내지 24번의 이산적 도포인, 방법.
제1항에 있어서, 다수의 이산적 기간에 걸쳐 상기 물질의 이산적 스트림을 상기 작용 부위로 향하게 하는 단계를 더 포함하고, 상기 이산적 기간들은 3시간 내지 168시간만큼 분리되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 스트림의 상기 작용 부위와의 접촉시 온도는 10 내지 60인, 방법.
제1항에 있어서, 상기 스트림의 상기 작용 부위와의 접촉시 속도는 초당 0.5 미터 내지 200 미터인, 방법.
제1항에 있어서, 상기 플라즈마의 스트림은 전기 아크 방전 디바이스를 사용하여 생성되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 일산화질소 플라즈마의 스트림은 마이크로파 방전 디바이스를 사용하여 생성되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 일산화질소 플라즈마의 스트림은 글라이딩 아크 방전 디바이스를 사용하여 생성되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 치료 결과는, 머리카락 성장을 용이하게 함, 주름 감소, 혈관확장을 용이하게 함, 골관절염과 류마티스 관절염에 관련된 통증 경감, 그람 양성 미생물과의 전투, 그람 음성 미생물과의 전투, 곰팡이균 및 바이러스와의 전투, 천식과의 전투, 호흡계통 감염과의 전투, 손상 전 흉터종증과의 전투, 손상 후 흉터종증과의 전투로 이루어지는 리스트에서 선택되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 치료 결과는, 골다공증 치료, 콜라겐 형성, 줄기 세포 신호전달, 위성세포 분화, 상처 치유, 상처 관리, 여드름, 신경 재생, 암세포 증식 억제, 세포 자멸 촉진, 내인성 일산화질소 생산 자극, 및 iNOS 경로 자극으로 이루어지는 리스트에서 선택되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 치료 결과는, 심장혈관계통과 호흡계통에서의 항상성 유지, 혈관확장 유발, 혈압 경감, 혈액 정화, 죽경화증 전환, 심장혈관 질환 방지, 혈관 벽 상의 죽경화판 침착의 느려짐, 박테리아 감염 억제, 바이러스와 기생충 공격 억제, 암세포 성장 억제, 관절염의 관절 팽창에 관련된 통증 경감, 암, 당뇨, 심근경색증, 및 뇌졸중의 위험성 감소로 이루어지는 리스트에서 선택되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 치료 결과는, 머리카락 성장을 용이하게 함, 주름 감소, 혈관확장을 용이하게 함, 골관절염과 류마티스 관절염에 관련된 통증 경감, 그람 양성 미생물과의 전투, 그람 음성 미생물과의 전투, 곰팡이균 및 바이러스와의 전투로 이루어지는 리스트에서 선택되는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림을 작용 부위로 향하게 하는 단계는 이하의 기준에 따라 행해지는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림은 아래의 파라미터들을 포함하는, 방법.
제1항에 있어서, 상기 물질의 이산적 스트림은 아래의 파라미터들을 포함하는, 방법.