KR20060069511A - 액체 분사 헤드와 그 제조 방법 및 액체 분사 장치 - Google Patents
액체 분사 헤드와 그 제조 방법 및 액체 분사 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060069511A KR20060069511A KR1020067007654A KR20067007654A KR20060069511A KR 20060069511 A KR20060069511 A KR 20060069511A KR 1020067007654 A KR1020067007654 A KR 1020067007654A KR 20067007654 A KR20067007654 A KR 20067007654A KR 20060069511 A KR20060069511 A KR 20060069511A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- piezoelectric element
- insulating film
- upper electrode
- electrode
- lead electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1635—Manufacturing processes dividing the wafer into individual chips
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1642—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by CVD [chemical vapor deposition]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
- B41J2002/14241—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm having a cover around the piezoelectric thin film element
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14419—Manifold
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14491—Electrical connection
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
Description
Claims (33)
- 액체 방울을 토출하는 노즐 개구에 각각 연통하는 압력 발생 챔버가 형성되는 유로 형성 기판과, 그 유로 형성 기판의 한쪽 면 측에 진동판을 통하여 설치되는 하부 전극, 압전체 층 및 상부 전극으로 이루어진 압전 소자를 구비하고, 적어도 상기 압전 소자를 구성하는 각 층의 패턴 영역이, 무기 어모퍼스(amorphous) 재료로 이루어지는 절연막에 의해 덮여져 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 1항에 있어서,상기 어모퍼스 재료가, 산화 알루미늄(Al2O3)인 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 2항에 있어서,상기 절연막의 막 두께가 30 ~ 150[nm]인 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 2항 또는 제 3항에 있어서,상기 절연막의 막 밀도가, 3.08 ~ 3.25[g/cm3]인 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 2항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 절연막의 탄성력의 영의 계수가 170 ~ 200[GPa]인 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 절연막의 응력과 상기 상부 전극의 응력과의 합이 압축 응력으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 6항에 있어서,상기 절연막 및 상기 상부 전극의 각각의 응력이 압축 응력으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 7항에 있어서,상기 상부 전극은, 적어도 Pt로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 6항에 있어서,상기 절연막의 응력이 압축 응력으로 되어 있고, 또한 상기 상부 전극의 응력이 인장 응력으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 9항에 있어서,상기 상부 전극은, 적어도 Ir로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 9항 또는 제 10항에 있어서,상기 상부 전극 및 상기 절연막의 응력(σ)이 탄성력의 영의 계수(Y), 왜(歪)(ε), 막 두께(m)의 곱(ε×Y×m)으로 나타내고, 상기 상부 전극의 응력(σ1)과 상기 절연막의 응력(σ2)과의 관계가 |σ1|<|σ2|의 조건을 만족하고 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 상부 전극으로부터 인출되는 상부 전극용 리드 전극을 더 포함하고, 적어도 상기 압전 소자를 구성하는 각 층 및 상기 상부 전극용 리드 전극의 패턴 영역이, 상기 하부 전극 및 상기 상부 전극용 리드 전극의 접속 배선과의 접속부에 대향하는 영역을 제외하여, 상기 절연막에 의해 덮여져 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12항에 있어서,상기 상부 전극용 리드 전극이, 알루미늄을 주성분으로 하는 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12 또는 제 13항에 있어서,상기 하부 전극으로부터 인출되는 하부 전극용 리드 전극을 구비하여 그 하부 전극용 리드 전극을 통하여 상기 하부 전극이 상기 접속 배선과 접속하고, 상기 하부 전극용 리드 전극을 포함한 상기 패턴 영역이, 상기 상부 전극용 리드 전극 및 상기 하부 전극용 리드 전극의 상기 접속 배선에 대향하는 영역을 제외하여, 상기 절연막에 의해 덮여져 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12 내지 제 14항 중 어느 한 항에 있어서,상기 상부 전극과 상기 상부 전극용 리드 전극이 다른 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 있어서,상기 압전 소자를 구성하는 상기 압전체 층 및 상기 상부 전극이 상기 압력 발생 챔버에 대향하는 영역으로부터 그 바깥쪽까지 연장하여 설치되어 압전체 비능동부가 형성되고, 상기 상부 전극용 리드 전극의 상기 상부 전극 측의 단부가, 상기 압전체 비능동부 위에서 또한 상기 압력 발생 챔버의 바깥쪽에 위치하고 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 접속 배선이 접속된 상태에서, 상기 접속부가 유기 절연체로 이루어지는 봉지 재료에 의해 덮여져 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 절연막이, 제 1 절연막과 제 2 절연막을 포함하고, 상기 압전 소자가 상기 상부 전극용 리드 전극과의 접속부를 제외하여 상기 제 1 절연막에 의해 덮여지며, 또한 상기 상부 전극용 리드 전극이 상기 제 1 절연막 위에 연장되어 설치됨과 동시에 적어도 상기 압전 소자를 구성하는 각 층 및 상기 상부 전극용 리드 전극의 패턴 영역이, 상기 접속부에 대향하는 영역을 제외하여 상기 제 2 절연막에 의해 덮여져 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12항 내지 제 18항에 중 어느 한 항에 있어서,상기 접속 배선이, 상기 상부 전극용 리드 전극으로부터 인출되는 제 2 상부 전극용 리드 전극을 포함하고, 그 제 2 상부 전극용 리드 전극이 상기 절연막 위에 연장되어 설치되어 상기 접속부에서 상기 상부 전극용 리드 전극에 접속됨과 동시에 그 제 2 상부 전극용 리드 전극의 선단부 측에 구동 배선이 접속되는 단자부를 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 있어서,상기 압전 소자를 구성하는 상기 압전체 층 및 상기 상부 전극이 상기 압력 발생 챔버에 대향하는 영역으로부터 그 바깥쪽까지 연장하여 설치되어 압전체 비능동부가 형성되고, 상기 상부 전극에 접속되는 상기 상부 전극용 리드 전극의 그 상부 전극 측의 단부가, 상기 압전체 비능동부 위에서 또한 상기 압력 발생 챔버의 바깥쪽에 위치하고 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 12항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유로 형성 기판의 상기 압전 소자 측의 면에는, 그 압전 소자를 보호하는 공간인 압전 소자 유지부를 가지는 보호 기판이 접속되고, 상기 상부 전극용 리드 전극의 상기 접속부가, 상기 압전 소자 유지부의 바깥쪽에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 1항 내지 제 21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유로 형성 기판의 상기 압전 소자 측의 면에는, 그 압전 소자를 보호하는 공간인 압전 소자 유지부를 가지는 보호 기판이 접합층을 통하여 접합되고, 이 보호 기판이 상기 압력 발생 챔버에 공급되는 액체의 유로를 구비하여 상기 압전 소자 유지부의 상기 유로 측의 상기 접착층이 상기 유로 내에 노출되어 있으며, 상기 압전 소자 유지부의 상기 유로 측 이외의 영역에 그 압전 소자 유지부 내의 수분을 투과하는 투습(透濕)부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 22항에 있어서,상기 투습부가, 유기 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 22 또는 23항에 있어서,상기 투습부가 상기 보호 기판의 상기 유로 형성 기판과의 접합면의 일부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 22항 또는 제 23항에 있어서,상기 투습부가, 상기 보호 기판의 상면에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 24항 또는 제 25항에 있어서,상기 투습부가, 상기 접착층을 구성하는 접착제보다도 수분의 투과성이 높은 접착제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 22항 또는 제 25항에 있어서,상기 투습부가, 포팅(potting) 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 22항 내지 제 27항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투습부가, 상기 압전 소자 유지부의 상기 유로와의 반대 측의 영역에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 22항 내지 제 23항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투습부가, 상기 압력 발생 챔버의 열(列)의 양단부 바깥쪽에 대응하는 영역의 상기 보호 기판에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드.
- 제 1항 내지 제 29항 중 어느 한 항의 액체 분사 헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 분사 장치.
- 액체 방울을 토출하는 노즐 개구에 각각 연통하는 압력 발생 챔버가 형성되는 유로 형성 기판의 한쪽 면 측에 진동판을 통하여 하부 전극, 압전체 층 및 상부 전극으로 이루어지는 압전 소자를 형성하는 공정과, 그 압전 소자의 상기 상부 전극으로부터 인출되는 상부 전극용 리드 전극을 형성하는 공정과, 상기 유로 형성 기판의 상기 압전 소자 측의 전면(全面)에 무기 어모퍼스 재료로 이루어지는 절연막을 형성하는 공정과, 적어도 상기 하부 전극 및 상기 상부 전극용 리드 전극의 접속 배선과의 접속부를 노출시키고 또한 이 접속부를 제외한 상기 압전 소자를 구성하는 각 층 및 상기 상부 전극용 리드 전극의 패턴 영역의 상기 절연막을 남기도 록 그 절연막을 패터닝(patterning)하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드의 제조 방법.
- 제 31항에 있어서,상기 절연막을 패터닝하는 공정에서는, 소정 영역의 상기 절연막을 이온 밀링(ion milling)에 의해 제거하는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드의 제조 방법.
- 제 31항 또는 제 32항에 있어서,상기 절연막을 패터닝하는 공정의 후에, 상기 유로 형성 기판의 상기 압전 소자 측의 면에 그 압전 소자를 보호하는 압전 소자 유지부 및 상기 압력 발생 챔버에 공급되는 액체의 유로를 가지는 보호 기판을 접합하는 공정을 더 가지고, 또한 이 보호 기판을 접합하는 공정에서는, 상기 압전 소자 유지부 주연의 상기 유로 측을 제외한 영역의 일부에 공간부를 남겨 상기 보호 기판에 접착제를 도포하여 그 보호 기판과 상기 유로 형성 기판을 접합함과 동시에, 상기 공간부를 상기 접착제보다도 수분의 투과율이 높은 재료로 봉지(封止)하여 상기 압전 소자 유지부 내의 수분을 투과하는 투습부를 형성하는 것을 특징으로 하는 액체 분사 헤드의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2003-00332339 | 2003-09-24 | ||
| JP2003332339 | 2003-09-24 | ||
| JP2003332340 | 2003-09-24 | ||
| JPJP-P-2003-00332340 | 2003-09-24 | ||
| JP2003363158 | 2003-10-23 | ||
| JPJP-P-2003-00363158 | 2003-10-23 | ||
| JPJP-P-2003-00383916 | 2003-11-13 | ||
| JP2003383916 | 2003-11-13 | ||
| JPJP-P-2003-00419830 | 2003-12-17 | ||
| JP2003419830 | 2003-12-17 | ||
| PCT/JP2004/013916 WO2005028207A1 (ja) | 2003-09-24 | 2004-09-24 | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20060069511A true KR20060069511A (ko) | 2006-06-21 |
| KR100909100B1 KR100909100B1 (ko) | 2009-07-23 |
Family
ID=34382218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020067007654A Expired - Fee Related KR100909100B1 (ko) | 2003-09-24 | 2004-09-24 | 액체 분사 헤드와 그 제조 방법 및 액체 분사 장치 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7559631B2 (ko) |
| EP (1) | EP1671794A4 (ko) |
| JP (2) | JP4453655B2 (ko) |
| KR (1) | KR100909100B1 (ko) |
| CN (1) | CN1856403B (ko) |
| WO (1) | WO2005028207A1 (ko) |
Families Citing this family (60)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4529813B2 (ja) | 2005-06-23 | 2010-08-25 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置 |
| JP4743393B2 (ja) | 2005-06-27 | 2011-08-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| US20070076051A1 (en) * | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Liquid ejection head and manufacturing method thereof |
| JP2007149858A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Seiko Epson Corp | 圧電素子並びに圧電素子を用いた液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| JP4888647B2 (ja) * | 2006-10-12 | 2012-02-29 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| US8012848B2 (en) * | 2007-08-16 | 2011-09-06 | International Business Machines Corporation | Trench isolation and method of fabricating trench isolation |
| JP2009190247A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 |
| JP5277663B2 (ja) * | 2008-03-05 | 2013-08-28 | 富士ゼロックス株式会社 | 液滴吐出装置 |
| JP5169973B2 (ja) * | 2009-04-21 | 2013-03-27 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | インクジェットヘッド |
| JP2011044582A (ja) | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置、並びに圧電素子の製造方法 |
| JP2011142280A (ja) * | 2010-01-09 | 2011-07-21 | Seiko Epson Corp | アクチュエーター装置、アクチュエーター装置の製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置の製造方法 |
| JP5581781B2 (ja) * | 2010-04-06 | 2014-09-03 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電アクチュエーターの製造方法 |
| JP2012000873A (ja) * | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
| WO2012036103A1 (en) * | 2010-09-15 | 2012-03-22 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical transducing device and manufacturing method thereof, and liquid droplet discharging head and liquid droplet discharging apparatus |
| JP5768393B2 (ja) | 2011-02-10 | 2015-08-26 | 株式会社リコー | インクジェットヘッド及び画像形成装置 |
| JP5724432B2 (ja) | 2011-02-17 | 2015-05-27 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 |
| JP5644581B2 (ja) * | 2011-02-22 | 2014-12-24 | 株式会社リコー | インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
| JP5754178B2 (ja) | 2011-03-07 | 2015-07-29 | 株式会社リコー | インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 |
| JP5708098B2 (ja) | 2011-03-18 | 2015-04-30 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置および画像形成装置 |
| JP5741101B2 (ja) * | 2011-03-18 | 2015-07-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射装置の製造方法 |
| JP2012215518A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Rohm Co Ltd | 圧電薄膜構造および角速度検出装置 |
| JP5743076B2 (ja) | 2011-04-06 | 2015-07-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| US8939556B2 (en) * | 2011-06-09 | 2015-01-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejection device |
| JP5803529B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-11-04 | ブラザー工業株式会社 | 圧電アクチュエータ、液体噴射装置、圧電アクチュエータの製造方法及び液体噴射装置の製造方法 |
| US8727508B2 (en) * | 2011-11-10 | 2014-05-20 | Xerox Corporation | Bonded silicon structure for high density print head |
| JP5927866B2 (ja) | 2011-11-28 | 2016-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子 |
| JP5929264B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2016-06-01 | 株式会社リコー | 液滴吐出ヘッド、インクカートリッジおよび画像形成装置 |
| JP2014034114A (ja) * | 2012-08-07 | 2014-02-24 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、及び、液体噴射装置 |
| JP6057063B2 (ja) * | 2012-09-11 | 2017-01-11 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| JP6226121B2 (ja) * | 2012-11-12 | 2017-11-08 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエーター装置 |
| JP6060672B2 (ja) * | 2012-12-20 | 2017-01-18 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子及びその製造方法 |
| JP6115206B2 (ja) * | 2013-03-13 | 2017-04-19 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子及びその製造方法 |
| US9238367B2 (en) * | 2013-03-15 | 2016-01-19 | Ricoh Company, Ltd. | Droplet discharging head and image forming apparatus |
| JP6186784B2 (ja) * | 2013-03-22 | 2017-08-30 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子及び超音波センサー |
| JP2014188814A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 |
| JP6110182B2 (ja) | 2013-03-29 | 2017-04-05 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪素子 |
| JP6136464B2 (ja) | 2013-03-29 | 2017-05-31 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波トランスデューサー装置およびプローブ並びに電子機器および超音波画像装置 |
| JP6252279B2 (ja) | 2013-03-29 | 2017-12-27 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波トランスデューサー装置およびプローブ並びに電子機器および超音波画像装置 |
| ITTO20130312A1 (it) | 2013-04-18 | 2014-10-19 | St Microelectronics Srl | Metodo di fabbricazione di un dispositivo di eiezione di fluido e dispositivo di eiezione di fluido |
| JP6159980B2 (ja) * | 2013-04-19 | 2017-07-12 | 株式会社Joled | 酸化アルミニウム膜用のエッチング液と、当該エッチング液を用いた薄膜半導体装置の製造方法 |
| CN104708906B (zh) * | 2013-12-17 | 2017-02-08 | 珠海赛纳打印科技股份有限公司 | 液体喷射装置和打印机 |
| JP6269259B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-01-31 | ブラザー工業株式会社 | 液体噴射装置の製造方法、液体噴射装置、及び、撥液層形成方法 |
| JP6618168B2 (ja) * | 2015-02-13 | 2019-12-11 | 新科實業有限公司SAE Magnetics(H.K.)Ltd. | 薄膜圧電体基板、薄膜圧電体素子およびその製造方法 |
| JP6551773B2 (ja) * | 2015-02-16 | 2019-07-31 | 株式会社リコー | 液滴吐出ヘッドおよび画像形成装置 |
| JP6432737B2 (ja) | 2015-03-04 | 2018-12-05 | セイコーエプソン株式会社 | Memsデバイス、ヘッド及び液体噴射装置 |
| JP6447819B2 (ja) * | 2015-03-10 | 2019-01-09 | セイコーエプソン株式会社 | ヘッド及び液体噴射装置 |
| JP6597959B2 (ja) * | 2015-10-05 | 2019-10-30 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電デバイス及び圧電デバイスの駆動方法 |
| US10442188B2 (en) * | 2016-02-10 | 2019-10-15 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
| JP6750279B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2020-09-02 | ブラザー工業株式会社 | 液体吐出装置 |
| IT201600118584A1 (it) | 2016-11-23 | 2018-05-23 | St Microelectronics Srl | Dispositivo microfluidico per la spruzzatura di gocce di liquidi di piccole dimensioni |
| JP2018089893A (ja) * | 2016-12-06 | 2018-06-14 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド |
| JP6992266B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2022-01-13 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
| US10611152B2 (en) * | 2017-09-19 | 2020-04-07 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric device |
| JP6921723B2 (ja) * | 2017-11-28 | 2021-08-18 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド |
| JP2019162801A (ja) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| US10974508B2 (en) * | 2018-04-27 | 2021-04-13 | Stmicroelectronics S.R.L. | Fluid ejection device with piezoelectric actuator and manufacturing process thereof |
| IT201800005824A1 (it) | 2018-05-29 | 2019-11-29 | Dispositivo microfluidico mems per l'espulsione di fluidi dotato di attuazione piezoelettrica e a ridotto effetto di rigonfiamento | |
| JP7181546B2 (ja) * | 2018-09-25 | 2022-12-01 | 株式会社サタケ | 圧電式バルブ |
| JP7707008B2 (ja) * | 2021-09-22 | 2025-07-14 | 理想テクノロジーズ株式会社 | 液体吐出ヘッド |
| CN116001447A (zh) * | 2023-01-10 | 2023-04-25 | 北京大学 | 压电式打印喷头及其制备方法 |
Family Cites Families (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0832865B2 (ja) * | 1987-05-25 | 1996-03-29 | セメダイン株式会社 | 透湿性水性接着剤組成物 |
| JPH06246914A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-06 | Brother Ind Ltd | インクジェットヘッド |
| DE4329728A1 (de) * | 1993-09-03 | 1995-03-09 | Microparts Gmbh | Düsenplatte für Fluidstrahl-Druckkopf und Verfahren zu deren Herstellung |
| JP3987139B2 (ja) * | 1995-06-27 | 2007-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド |
| JP3503386B2 (ja) * | 1996-01-26 | 2004-03-02 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 |
| JP3552013B2 (ja) | 1996-12-09 | 2004-08-11 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド |
| JP3713921B2 (ja) * | 1996-10-24 | 2005-11-09 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッドの製造方法 |
| JPH10211701A (ja) | 1996-11-06 | 1998-08-11 | Seiko Epson Corp | 圧電体素子を備えたアクチュエータ及びインクジェット式記録ヘッド、並びにこれらの製造方法 |
| JPH10173306A (ja) | 1996-12-06 | 1998-06-26 | Olympus Optical Co Ltd | 形状記憶合金薄膜アクチュエータの製造方法 |
| KR100205010B1 (ko) | 1997-05-21 | 1999-06-15 | 나문수 | 비닐하우스용 필름과 그 필름을 제조하기 위한 방법 및 장치 |
| DE69839540D1 (de) * | 1997-06-20 | 2008-07-10 | Seiko Epson Corp | Piezoelektrisches Schichtelement, Verfahren zum Herstellen und Tintenstrahldruckkopf |
| JP3384294B2 (ja) | 1997-09-17 | 2003-03-10 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド |
| JP3019845B1 (ja) * | 1997-11-25 | 2000-03-13 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
| JPH11157067A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-15 | Ricoh Co Ltd | 記録ヘッド |
| JPH11157073A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-15 | Seiko Epson Corp | インクジェット式記録ヘッドの製造方法 |
| JPH11291493A (ja) | 1998-04-06 | 1999-10-26 | Seiko Epson Corp | インクジェット式記録ヘッド |
| US6502928B1 (en) * | 1998-07-29 | 2003-01-07 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording head and ink jet recording apparatus comprising the same |
| JP2000141644A (ja) | 1998-11-05 | 2000-05-23 | Seiko Epson Corp | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
| JP3725390B2 (ja) * | 1999-02-18 | 2005-12-07 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
| US6505919B1 (en) | 1999-02-18 | 2003-01-14 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording head and ink jet recording apparatus incorporating the same |
| JP2000246896A (ja) | 1999-03-02 | 2000-09-12 | Seiko Epson Corp | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
| US6431690B1 (en) * | 1999-03-26 | 2002-08-13 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Ink jet head and producing process therefor |
| WO2001023185A1 (en) * | 1999-09-27 | 2001-04-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ink jet head, method of manufacturing ink jet head and ink jet recorder |
| JP2002086725A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-03-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | インクジェットヘッド、その製造方法及びインクジェット式記録装置 |
| JP3582475B2 (ja) * | 2000-10-27 | 2004-10-27 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子 |
| JP2002319715A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-31 | Denso Corp | 圧電体素子及びこれを用いたインジェクタ |
| JP4129614B2 (ja) * | 2001-08-28 | 2008-08-06 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
| JP2003094648A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Ricoh Co Ltd | 液滴吐出ヘッド |
| JP2003110160A (ja) | 2001-10-02 | 2003-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 強誘電体素子およびそれを用いたアクチュエータ、インクジェットヘッドならびにインクジェット記録装置 |
| JP3849767B2 (ja) | 2001-11-01 | 2006-11-22 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット式記録ヘッド |
| JP3817729B2 (ja) * | 2001-11-08 | 2006-09-06 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電アクチュエータ及び液体吐出ヘッド |
| JP2003197812A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Seiko Epson Corp | 配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 |
| JP3902023B2 (ja) | 2002-02-19 | 2007-04-04 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電アクチュエータ、液滴噴射ヘッド、およびそれを用いた液滴噴射装置 |
| US7618130B2 (en) * | 2003-05-06 | 2009-11-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid jet head and liquid jet apparatus |
| JP4450238B2 (ja) * | 2004-07-02 | 2010-04-14 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| KR100615237B1 (ko) * | 2004-08-07 | 2006-08-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터 및 그의 제조방법 |
| JP2006231909A (ja) * | 2005-01-26 | 2006-09-07 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| US7524038B2 (en) * | 2005-03-01 | 2009-04-28 | Seiko Epson Corporation | Liquid-jet head and liquid-jet apparatus |
-
2004
- 2004-09-24 WO PCT/JP2004/013916 patent/WO2005028207A1/ja not_active Ceased
- 2004-09-24 CN CN2004800275386A patent/CN1856403B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-24 US US10/573,356 patent/US7559631B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-09-24 JP JP2005514116A patent/JP4453655B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-24 KR KR1020067007654A patent/KR100909100B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-24 EP EP04788075A patent/EP1671794A4/en not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-11-17 JP JP2009261574A patent/JP4735755B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010042683A (ja) | 2010-02-25 |
| US20060290747A1 (en) | 2006-12-28 |
| CN1856403B (zh) | 2010-06-02 |
| JP4735755B2 (ja) | 2011-07-27 |
| US7559631B2 (en) | 2009-07-14 |
| EP1671794A4 (en) | 2009-04-08 |
| CN1856403A (zh) | 2006-11-01 |
| JPWO2005028207A1 (ja) | 2007-11-15 |
| JP4453655B2 (ja) | 2010-04-21 |
| EP1671794A1 (en) | 2006-06-21 |
| KR100909100B1 (ko) | 2009-07-23 |
| WO2005028207A1 (ja) | 2005-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100909100B1 (ko) | 액체 분사 헤드와 그 제조 방법 및 액체 분사 장치 | |
| JP2006044083A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッド | |
| JP4639724B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2006231909A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
| JP4930678B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP4591019B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP4614068B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
| JP4591005B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| US20050134654A1 (en) | Liquid jet head and liquid jet apparatus | |
| JP4442486B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2005219243A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッド | |
| JP4623287B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
| JP4821982B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP4433787B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
| JP4985943B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2006123212A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッド | |
| JP2007050673A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2008062451A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 | |
| JP2005254622A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2005223159A (ja) | アクチュエータ装置及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置 | |
| JP2007190776A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| KR20070015905A (ko) | 액체 분사 헤드 및 액체 분사 장치 | |
| JP2005231263A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッド | |
| JP2006142717A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2006181826A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0105 | International application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A15-nap-PA0105 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| AMND | Amendment | ||
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| E801 | Decision on dismissal of amendment | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
St.27 status event code: N-2-6-B10-B15-exm-PE0601 |
|
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| PJ0201 | Trial against decision of rejection |
St.27 status event code: A-3-3-V10-V11-apl-PJ0201 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
St.27 status event code: A-6-3-E10-E12-rex-PB0901 |
|
| B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
| E801 | Decision on dismissal of amendment | ||
| PB0601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial |
St.27 status event code: N-3-6-B10-B17-rex-PB0601 |
|
| J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20080624 Effective date: 20090416 |
|
| PJ1301 | Trial decision |
St.27 status event code: A-3-3-V10-V15-crt-PJ1301 Decision date: 20090416 Appeal event data comment text: Appeal Kind Category : Appeal against decision to decline refusal, Appeal Ground Text : 2006 7007654 Appeal request date: 20080624 Appellate body name: Patent Examination Board Decision authority category: Office appeal board Decision identifier: 2008101005960 |
|
| PS0901 | Examination by remand of revocation |
St.27 status event code: A-6-3-E10-E12-rex-PS0901 |
|
| S901 | Examination by remand of revocation | ||
| GRNO | Decision to grant (after opposition) | ||
| PS0701 | Decision of registration after remand of revocation |
St.27 status event code: A-3-4-F10-F13-rex-PS0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U12-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130618 Year of fee payment: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140626 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150619 Year of fee payment: 7 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 7 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160617 Year of fee payment: 8 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170616 Year of fee payment: 9 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180628 Year of fee payment: 10 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 10 |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 20190717 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20190717 |