JP2000141644A - インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 - Google Patents
インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置Info
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- JP2000141644A JP2000141644A JP31458598A JP31458598A JP2000141644A JP 2000141644 A JP2000141644 A JP 2000141644A JP 31458598 A JP31458598 A JP 31458598A JP 31458598 A JP31458598 A JP 31458598A JP 2000141644 A JP2000141644 A JP 2000141644A
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 圧電体層の圧電特性の低下を抑えたインクジ
ェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置を提
供する。 【解決手段】 ノズル開口に連通する圧力発生室12の
一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室12に対
応する領域に下電極60、圧電体層70及び上電極80
を有する圧電素子300を形成したインクジェット式記
録ヘッドにおいて、前記圧電素子300を構成する前記
圧電体層70の幅方向両側の端部を前記圧力発生室12
に対向する領域内に位置し、当該圧電体層70の少なく
とも幅方向両側に、引張り応力を有する引張り膜90を
連続的に設け、圧電体層70の圧電特性の低下を抑え
る。
ェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置を提
供する。 【解決手段】 ノズル開口に連通する圧力発生室12の
一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室12に対
応する領域に下電極60、圧電体層70及び上電極80
を有する圧電素子300を形成したインクジェット式記
録ヘッドにおいて、前記圧電素子300を構成する前記
圧電体層70の幅方向両側の端部を前記圧力発生室12
に対向する領域内に位置し、当該圧電体層70の少なく
とも幅方向両側に、引張り応力を有する引張り膜90を
連続的に設け、圧電体層70の圧電特性の低下を抑え
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を吐出す
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板を介して圧電素子を設け、この圧電素
子の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板を介して圧電素子を設け、この圧電素
子の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧して
ノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦
振動モードの圧電素子を使用したものと、撓み振動モー
ドの圧電素子を使用したものの2種類が実用化されてい
る。
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧して
ノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦
振動モードの圧電素子を使用したものと、撓み振動モー
ドの圧電素子を使用したものの2種類が実用化されてい
る。
【0003】前者は圧電素子の端面を振動板に当接させ
ることにより圧力発生室の容積を変化させることができ
て、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛
歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた
圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必
要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
ることにより圧力発生室の容積を変化させることができ
て、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛
歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた
圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必
要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
【0004】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作
り付けることができるものの、撓み振動を利用する関係
上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難で
あるという問題がある。
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作
り付けることができるものの、撓み振動を利用する関係
上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難で
あるという問題がある。
【0005】一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消す
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案さ
れている。
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案さ
れている。
【0006】これによれば圧電素子を振動板に貼付ける
作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、か
つ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばか
りでなく、圧電素子の厚みを薄くできて高速駆動が可能
になるという利点がある。なお、この場合、圧電材料層
は振動板の表面全体に設けたままで少なくとも上電極の
みを各圧力発生室毎に設けることにより、各圧力発生室
に対応する圧電素子を駆動することができる。
作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、か
つ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばか
りでなく、圧電素子の厚みを薄くできて高速駆動が可能
になるという利点がある。なお、この場合、圧電材料層
は振動板の表面全体に設けたままで少なくとも上電極の
みを各圧力発生室毎に設けることにより、各圧力発生室
に対応する圧電素子を駆動することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た薄膜技術およびリソグラフィ法による製造方法では、
薄膜のパターニング後に圧力発生室を形成するが、その
際、圧電体層の内部応力が緩和され、また、下電極の内
部応力の影響により圧電体層の引張応力が弱められ、圧
電特性が低下して吐出特性が低下するという問題があ
る。特に、圧電体層の両側に圧縮膜が存在する場合に圧
電特性が低下し易い。
た薄膜技術およびリソグラフィ法による製造方法では、
薄膜のパターニング後に圧力発生室を形成するが、その
際、圧電体層の内部応力が緩和され、また、下電極の内
部応力の影響により圧電体層の引張応力が弱められ、圧
電特性が低下して吐出特性が低下するという問題があ
る。特に、圧電体層の両側に圧縮膜が存在する場合に圧
電特性が低下し易い。
【0008】本発明はこのような事情に鑑み、圧電体層
の圧電特性の低下を抑えたインクジェット式記録ヘッド
及びインクジェット式記録装置を提供することを課題と
する。
の圧電特性の低下を抑えたインクジェット式記録ヘッド
及びインクジェット式記録装置を提供することを課題と
する。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室の
一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室に対応す
る領域に下電極、圧電体層及び上電極を有する圧電素子
を形成したインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記
圧電素子を構成する前記圧電体層の幅方向両側の端部が
前記圧力発生室に対向する領域内に位置し、当該圧電体
層の少なくとも幅方向両側には、引張り応力を有する引
張り膜が連続的に設けられていることを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッドにある。
明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室の
一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室に対応す
る領域に下電極、圧電体層及び上電極を有する圧電素子
を形成したインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記
圧電素子を構成する前記圧電体層の幅方向両側の端部が
前記圧力発生室に対向する領域内に位置し、当該圧電体
層の少なくとも幅方向両側には、引張り応力を有する引
張り膜が連続的に設けられていることを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッドにある。
【0010】かかる第1の態様では、圧電体層に引張り
膜の張力が作用し、圧電特性が維持される。
膜の張力が作用し、圧電特性が維持される。
【0011】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記引張り膜は、前記圧電体層の幅方向両端側の端
面に接触して設けられていることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッドにある。
て、前記引張り膜は、前記圧電体層の幅方向両端側の端
面に接触して設けられていることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッドにある。
【0012】かかる第2の態様では、圧電体層が、引張
り膜によって幅方向に確実に引っ張られる。
り膜によって幅方向に確実に引っ張られる。
【0013】本発明の第3の態様は、第1の態様におい
て、前記引張り膜は、前記圧電体層及び前記上電極の幅
方向両端側の端面に接触して設けられていることを特徴
とするインクジェット式記録ヘッドにある。
て、前記引張り膜は、前記圧電体層及び前記上電極の幅
方向両端側の端面に接触して設けられていることを特徴
とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0014】かかる第3の態様では、より強い引張り膜
の張力が圧電体層に作用する。
の張力が圧電体層に作用する。
【0015】本発明の第4の態様は、第3の態様におい
て、前記引張り膜は、前記上電極の上面を覆っているこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
て、前記引張り膜は、前記上電極の上面を覆っているこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0016】かかる第4の態様では、引張り膜を容易に
形成することができる。
形成することができる。
【0017】本発明の第5の態様は、第1の態様におい
て、前記引張り膜は絶縁性の材料からなることを特徴と
するインクジェット式記録ヘッドにある。
て、前記引張り膜は絶縁性の材料からなることを特徴と
するインクジェット式記録ヘッドにある。
【0018】かかる第5の態様では、上電極の絶縁を保
つことができる。
つことができる。
【0019】本発明の第6の態様は、第1〜5の何れか
の態様において、前記引張り膜は耐環境保護膜を兼ねる
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
の態様において、前記引張り膜は耐環境保護膜を兼ねる
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0020】かかる第6の態様では、圧電体能動部及び
弾性膜が外部環境から保護される。
弾性膜が外部環境から保護される。
【0021】本発明の第7の態様は、第1〜6の何れか
の態様において、前記引張り膜は層間絶縁膜を兼ねるこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
の態様において、前記引張り膜は層間絶縁膜を兼ねるこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0022】かかる第7の態様では、圧電素子とリード
電極とが圧力発生室に対向する領域のコンタクトホール
内で接続される。
電極とが圧力発生室に対向する領域のコンタクトホール
内で接続される。
【0023】本発明の第8の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、前記引張り膜は有機材料からなること
を特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
の態様において、前記引張り膜は有機材料からなること
を特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0024】かかる第8の態様では、引張り応力を有し
且つ下電極に有効に張力を与える引張り膜を形成でき
る。
且つ下電極に有効に張力を与える引張り膜を形成でき
る。
【0025】本発明の第9の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、前記引張り膜は導電性の材料からなる
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
の態様において、前記引張り膜は導電性の材料からなる
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0026】かかる第9の態様では、引張り応力を有す
る膜の材質を選択できる。
る膜の材質を選択できる。
【0027】本発明の第10の態様は、第1の態様にお
いて、前記引張り膜は上電極を兼ねることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッドにある。
いて、前記引張り膜は上電極を兼ねることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッドにある。
【0028】かかる第10の態様では、上電極は共通電
極になる。
極になる。
【0029】本発明の第11の態様は、第1〜10の何
れかの態様において、前記圧力発生室がシリコン単結晶
基板に異方性エッチングにより形成され、前記圧電素子
の各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたもの
であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドに
ある。
れかの態様において、前記圧力発生室がシリコン単結晶
基板に異方性エッチングにより形成され、前記圧電素子
の各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたもの
であることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドに
ある。
【0030】かかる第11の態様では、高密度のノズル
開口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ
比較的容易に製造することができる。
開口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ
比較的容易に製造することができる。
【0031】本発明の第12の態様は、第1〜11の何
れかの態様のインクジェット式記録ヘッドを具備するこ
とを特徴とするインクジェット式記録装置にある。
れかの態様のインクジェット式記録ヘッドを具備するこ
とを特徴とするインクジェット式記録装置にある。
【0032】かかる第12の態様では、ヘッドの吐出特
性を向上したインクジェット式記録装置を実現すること
ができる。
性を向上したインクジェット式記録装置を実現すること
ができる。
【0033】
【発明の実施の形態】以下に本発明を実施形態に基づい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【0034】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、平面図及びその1つの圧力発生室の長
手方向における断面構造を示す図である。
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、平面図及びその1つの圧力発生室の長
手方向における断面構造を示す図である。
【0035】図示するように、流路形成基板10は、本
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
【0036】流路形成基板10の一方の面は開口面とな
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ0.1〜2μmの弾性膜50が形成
されている。
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ0.1〜2μmの弾性膜50が形成
されている。
【0037】一方、流路形成基板10の開口面には、シ
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口11、圧力発生室12が形成されている。
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口11、圧力発生室12が形成されている。
【0038】ここで、異方性エッチングは、シリコン単
結晶基板を水酸化カリウム等のアルカリ溶液に浸漬する
と、徐々に侵食されて(110)面に垂直な第1の(1
11)面と、この第1の(111)面と約70度の角度
をなし且つ上記(110)面と約35度の角度をなす第
2の(111)面とが出現し、(110)面のエッチン
グレートと比較して(111)面のエッチングレートが
約1/180であるという性質を利用して行われるもの
である。かかる異方性エッチングにより、二つの第1の
(111)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形
成される平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工
を行うことができ、圧力発生室12を高密度に配列する
ことができる。
結晶基板を水酸化カリウム等のアルカリ溶液に浸漬する
と、徐々に侵食されて(110)面に垂直な第1の(1
11)面と、この第1の(111)面と約70度の角度
をなし且つ上記(110)面と約35度の角度をなす第
2の(111)面とが出現し、(110)面のエッチン
グレートと比較して(111)面のエッチングレートが
約1/180であるという性質を利用して行われるもの
である。かかる異方性エッチングにより、二つの第1の
(111)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形
成される平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工
を行うことができ、圧力発生室12を高密度に配列する
ことができる。
【0039】本実施形態では、各圧力発生室12の長辺
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
【0040】一方、各圧力発生室12の一端に連通する
各ノズル開口11は、圧力発生室12より幅狭で且つ浅
く形成されている。すなわち、ノズル開口11は、シリ
コン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハー
フエッチング)することにより形成されている。なお、
ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行わ
れる。
各ノズル開口11は、圧力発生室12より幅狭で且つ浅
く形成されている。すなわち、ノズル開口11は、シリ
コン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハー
フエッチング)することにより形成されている。なお、
ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行わ
れる。
【0041】ここで、インク滴吐出圧力をインクに与え
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口11の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口11は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口11の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口11は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。
【0042】また、各圧力発生室12と後述する共通イ
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。
【0043】封止板20は、前述の各圧力発生室12に
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図3(a),(b)に示すように、各圧力発生室1
2のインク供給側端部の近傍を横断する一つのスリット
孔21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであっ
てもよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10
の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外
力から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板2
0は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図3(a),(b)に示すように、各圧力発生室1
2のインク供給側端部の近傍を横断する一つのスリット
孔21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであっ
てもよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10
の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外
力から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板2
0は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。
【0044】共通インク室形成基板30は、共通インク
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。
【0045】インク室側板40は、ステンレス基板から
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口11と反対側へ向かう圧力を吸収するため
のもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31を
経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。
本実施形態では、インク導入口42と外部のインク供給
手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側
板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02mm
の薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによる薄
肉壁41の形成を省略するために、インク室側板40の
厚さを初めから0.02mmとしてもよい。
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口11と反対側へ向かう圧力を吸収するため
のもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31を
経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。
本実施形態では、インク導入口42と外部のインク供給
手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側
板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02mm
の薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによる薄
肉壁41の形成を省略するために、インク室側板40の
厚さを初めから0.02mmとしてもよい。
【0046】一方、流路形成基板10の開口面とは反対
側の弾性膜50の上には、厚さが例えば、約0.5μm
の下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜
70と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子30
0を構成している。ここで、圧電素子300は、下電極
膜60、圧電体膜70、及び上電極膜80を含む部分を
いう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の電極
を共通電極とし、他方の電極及び圧電体膜70を各圧力
発生室12毎にパターニングして構成する。そして、こ
こではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体
膜70から構成され、両電極への電圧の印加により圧電
歪みが生じる部分を圧電体能動部320という。本実施
形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通電極と
し、上電極膜80を圧電素子300の個別電極としてい
るが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障は
ない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に圧電体
能動部が形成されていることになる。また、ここでは、
圧電素子300と当該圧電素子300の駆動により変位
が生じる振動板と合わせて圧電アクチュエータと称す
る。なお、本実施形態では、下電極膜60及び弾性膜5
0が振動板として作用する。
側の弾性膜50の上には、厚さが例えば、約0.5μm
の下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜
70と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子30
0を構成している。ここで、圧電素子300は、下電極
膜60、圧電体膜70、及び上電極膜80を含む部分を
いう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の電極
を共通電極とし、他方の電極及び圧電体膜70を各圧力
発生室12毎にパターニングして構成する。そして、こ
こではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体
膜70から構成され、両電極への電圧の印加により圧電
歪みが生じる部分を圧電体能動部320という。本実施
形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通電極と
し、上電極膜80を圧電素子300の個別電極としてい
るが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障は
ない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に圧電体
能動部が形成されていることになる。また、ここでは、
圧電素子300と当該圧電素子300の駆動により変位
が生じる振動板と合わせて圧電アクチュエータと称す
る。なお、本実施形態では、下電極膜60及び弾性膜5
0が振動板として作用する。
【0047】ここで、シリコン単結晶基板からなる流路
形成基板10上に、圧電体膜70等を形成するプロセス
を図4を参照しながら説明する。
形成基板10上に、圧電体膜70等を形成するプロセス
を図4を参照しながら説明する。
【0048】図4(a)に示すように、まず、流路形成
基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。
基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。
【0049】次に、図4(b)に示すように、スパッタ
リングで下電極膜60を形成する。この下電極膜60の
材料としては、白金等が好適である。これは、スパッタ
リング法やゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70
は、成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜
1000℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があ
るからである。すなわち、下電極膜60の材料は、この
ような高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければ
ならず、殊に、圧電体膜70としてチタン酸ジルコン酸
鉛を用いた場合には、酸化鉛の拡散による導電性の変化
が少ないことが望ましく、これらの理由から白金が好適
である。
リングで下電極膜60を形成する。この下電極膜60の
材料としては、白金等が好適である。これは、スパッタ
リング法やゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70
は、成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜
1000℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があ
るからである。すなわち、下電極膜60の材料は、この
ような高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければ
ならず、殊に、圧電体膜70としてチタン酸ジルコン酸
鉛を用いた場合には、酸化鉛の拡散による導電性の変化
が少ないことが望ましく、これらの理由から白金が好適
である。
【0050】次に、図4(c)に示すように、圧電体膜
70を成膜する。この圧電体膜70の成膜にはスパッタ
リング法を用いることもできるが、本実施形態では、金
属有機物を溶媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾
燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化
物からなる圧電体膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法
を用いている。圧電体膜70の材料としては、チタン酸
ジルコン酸鉛(PZT)系の材料がインクジェット式記
録ヘッドに使用する場合には好適である。
70を成膜する。この圧電体膜70の成膜にはスパッタ
リング法を用いることもできるが、本実施形態では、金
属有機物を溶媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾
燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化
物からなる圧電体膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法
を用いている。圧電体膜70の材料としては、チタン酸
ジルコン酸鉛(PZT)系の材料がインクジェット式記
録ヘッドに使用する場合には好適である。
【0051】次に、図4(d)に示すように、上電極膜
80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料で
あればよく、アルミニウム、金、ニッケル、白金等の多
くの金属や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態
では、白金をスパッタリングにより成膜している。
80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料で
あればよく、アルミニウム、金、ニッケル、白金等の多
くの金属や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態
では、白金をスパッタリングにより成膜している。
【0052】次に、図5(a)に示すように、圧電体膜
70及び上電極膜80をエッチングして圧電体能動部3
20のパターニングを行う。
70及び上電極膜80をエッチングして圧電体能動部3
20のパターニングを行う。
【0053】このとき、本実施形態では、圧電体膜70
及び上電極膜80を、圧電体能動部320の長手方向一
端部から圧力発生室12の周壁上まで連続的にパターニ
ングして、上電極膜80を各圧電体能動部320の個別
電極とし、下電極膜60を共通電極としている。
及び上電極膜80を、圧電体能動部320の長手方向一
端部から圧力発生室12の周壁上まで連続的にパターニ
ングして、上電極膜80を各圧電体能動部320の個別
電極とし、下電極膜60を共通電極としている。
【0054】次に、図5(b)に示すように、引張り膜
90を成膜する。引張り膜90は絶縁性の材料で且つ膜
形成後に引張り応力を有する材料が望ましく、ポリイミ
ド樹脂及びフッ素樹脂等の有機膜、並びに酸化チタン及
び酸化ジルコニウム等の酸化膜が使用できる。
90を成膜する。引張り膜90は絶縁性の材料で且つ膜
形成後に引張り応力を有する材料が望ましく、ポリイミ
ド樹脂及びフッ素樹脂等の有機膜、並びに酸化チタン及
び酸化ジルコニウム等の酸化膜が使用できる。
【0055】さらに、図5(c)に示すように、引張り
膜90をエッチングして圧電体能動部320の上の引張
り膜を除去する。これにより、圧電体能動部320の変
位量の向上を図っている。
膜90をエッチングして圧電体能動部320の上の引張
り膜を除去する。これにより、圧電体能動部320の変
位量の向上を図っている。
【0056】以上が膜形成プロセスである。このように
して膜形成を行った後、図5(d)に示すように、前述
したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エ
ッチングを行い、圧力発生室12等を形成する。このと
きの圧電体能動部320が受ける力の状態を以下に説明
する。なお、図6は、圧力発生室12をエッチングによ
り形成前後の各層に発生する応力の状態を模式的に示し
た図である。
して膜形成を行った後、図5(d)に示すように、前述
したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性エ
ッチングを行い、圧力発生室12等を形成する。このと
きの圧電体能動部320が受ける力の状態を以下に説明
する。なお、図6は、圧力発生室12をエッチングによ
り形成前後の各層に発生する応力の状態を模式的に示し
た図である。
【0057】図6(a)に示すように、圧力発生室12
形成前には、下電極膜60、圧電体膜70、上電極膜8
0及び引張り膜90はそれぞれ引張り応力σ3,σ2,σ
1,σ5を有し、弾性膜50は圧縮応力σ4を有してい
る。そのため、図6(b)に示すように、圧電体能動部
320の下方に圧力発生室12を形成すると、下電極膜
60、圧電体膜70上電極膜80の引張り応力σ3,
σ2,σ1が解放されて圧縮方向に作用する力F3,F2,
F1となり、弾性膜50の圧縮応力σ4は解放されて引張
り方向に作用する力F4、すなわち、圧電体膜70を引
っ張る方向に作用する力となる。また、引張り膜90の
引張り応力σ5も解放されて圧縮方向に作用する力F5と
なるが、引張り膜90は、圧電体膜70の幅方向両側に
設けられているため、圧力発生室12に対向する領域で
は、実質的に圧電体膜70を引っ張る方向に作用する力
となる。このように、圧電体膜70には、従来よりも引
張り方向の力が強く作用するため、圧電体膜70の圧電
特性の低下を抑えることができる。また、好適な条件で
は、圧電体膜70の本来の圧電特性を維持することがで
きる。
形成前には、下電極膜60、圧電体膜70、上電極膜8
0及び引張り膜90はそれぞれ引張り応力σ3,σ2,σ
1,σ5を有し、弾性膜50は圧縮応力σ4を有してい
る。そのため、図6(b)に示すように、圧電体能動部
320の下方に圧力発生室12を形成すると、下電極膜
60、圧電体膜70上電極膜80の引張り応力σ3,
σ2,σ1が解放されて圧縮方向に作用する力F3,F2,
F1となり、弾性膜50の圧縮応力σ4は解放されて引張
り方向に作用する力F4、すなわち、圧電体膜70を引
っ張る方向に作用する力となる。また、引張り膜90の
引張り応力σ5も解放されて圧縮方向に作用する力F5と
なるが、引張り膜90は、圧電体膜70の幅方向両側に
設けられているため、圧力発生室12に対向する領域で
は、実質的に圧電体膜70を引っ張る方向に作用する力
となる。このように、圧電体膜70には、従来よりも引
張り方向の力が強く作用するため、圧電体膜70の圧電
特性の低下を抑えることができる。また、好適な条件で
は、圧電体膜70の本来の圧電特性を維持することがで
きる。
【0058】なお、引張り膜90が形成されていない場
合には、図7(a)に示すように、圧力発生室12の形
成前に、下電極膜60、圧電体膜70及び上電極膜80
はそれぞれ引張り応力σ3,σ2,σ1を有しているの
で、圧力発生室12を形成すると、図7(b)に示すよ
うに、引張り応力σ3,σ2,σ1は解放されて圧縮力
F3,F2,F1となる。すなわち、圧電体膜70には、
強い圧縮方向の力が作用し、圧電特性が低下してしま
う。
合には、図7(a)に示すように、圧力発生室12の形
成前に、下電極膜60、圧電体膜70及び上電極膜80
はそれぞれ引張り応力σ3,σ2,σ1を有しているの
で、圧力発生室12を形成すると、図7(b)に示すよ
うに、引張り応力σ3,σ2,σ1は解放されて圧縮力
F3,F2,F1となる。すなわち、圧電体膜70には、
強い圧縮方向の力が作用し、圧電特性が低下してしま
う。
【0059】以上説明した一連の膜形成及び異方性エッ
チングは、一枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成
し、プロセス終了後、図1に示すような一つのチップサ
イズの流路形成基板10毎に分割する。また、分割した
流路形成基板10を、封止板20、共通インク室形成基
板30、及びインク室側板40と順次接着して一体化
し、インクジェット式記録ヘッドとする。
チングは、一枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成
し、プロセス終了後、図1に示すような一つのチップサ
イズの流路形成基板10毎に分割する。また、分割した
流路形成基板10を、封止板20、共通インク室形成基
板30、及びインク室側板40と順次接着して一体化
し、インクジェット式記録ヘッドとする。
【0060】このように構成したインクジェットヘッド
は、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導
入口42からインクを取り込み、共通インク室31から
ノズル開口11に至るまで内部をインクで満たした後、
図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、上電
極膜80と下電極膜60との間に電圧を印加し、弾性膜
50、下電極膜60及び圧電体膜70を撓み変形させる
ことにより、圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開
口11からインク滴が吐出する。
は、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導
入口42からインクを取り込み、共通インク室31から
ノズル開口11に至るまで内部をインクで満たした後、
図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、上電
極膜80と下電極膜60との間に電圧を印加し、弾性膜
50、下電極膜60及び圧電体膜70を撓み変形させる
ことにより、圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開
口11からインク滴が吐出する。
【0061】なお、本実施形態では、圧電体能動部32
0上の引張り膜90を除去して、圧電体膜70の幅方向
両側のみに設けるようにしたが、これに限定されず、例
えば、引張り膜90を各圧電体能動部320に亘って、
連続的に設けるようにしてもよい。この場合には、引張
り膜90が耐環境(耐湿)保護膜を兼ねるようにしても
よく、これにより、圧電体層70の圧電特性の低下を抑
えることができる。
0上の引張り膜90を除去して、圧電体膜70の幅方向
両側のみに設けるようにしたが、これに限定されず、例
えば、引張り膜90を各圧電体能動部320に亘って、
連続的に設けるようにしてもよい。この場合には、引張
り膜90が耐環境(耐湿)保護膜を兼ねるようにしても
よく、これにより、圧電体層70の圧電特性の低下を抑
えることができる。
【0062】また、引張り膜90が層間絶縁膜を兼ねる
ようにしてもよく、この場合には、引張り膜90の各圧
電体能動部320の一端部に対応する部分の上面を覆う
部分の一部に、外部と接続するために上電極膜80の一
部を露出させる図示しないコンタクトホールを形成し、
このコンタクトホールを介して各上電極膜80に駆動信
号を供給できるようにしてもよい。
ようにしてもよく、この場合には、引張り膜90の各圧
電体能動部320の一端部に対応する部分の上面を覆う
部分の一部に、外部と接続するために上電極膜80の一
部を露出させる図示しないコンタクトホールを形成し、
このコンタクトホールを介して各上電極膜80に駆動信
号を供給できるようにしてもよい。
【0063】(実施形態2)図8は、実施形態2に係る
インクジェット式記録ヘッドの要部平面図及び断面図で
ある。
インクジェット式記録ヘッドの要部平面図及び断面図で
ある。
【0064】本実施形態では、図8に示すように、下電
極膜60は、その幅方向両端部が圧力発生室12に対向
する領域内に位置するようにパターニングされ、また、
圧力発生室12の長手方向一端部から周壁上まで延設さ
れて、各圧電体能動部320の個別電極となっている。
また、この下電極膜60上には、下電極膜60の幅方向
両端部を覆って圧電体膜70が形成され、その幅方向両
側には、実施形態1と同様に、引張り応力を有する引張
り膜90が上電極膜80とは接触することなく形成され
ている。
極膜60は、その幅方向両端部が圧力発生室12に対向
する領域内に位置するようにパターニングされ、また、
圧力発生室12の長手方向一端部から周壁上まで延設さ
れて、各圧電体能動部320の個別電極となっている。
また、この下電極膜60上には、下電極膜60の幅方向
両端部を覆って圧電体膜70が形成され、その幅方向両
側には、実施形態1と同様に、引張り応力を有する引張
り膜90が上電極膜80とは接触することなく形成され
ている。
【0065】一方、上電極膜80は、圧電体能動部32
0の長手方向一端部から圧力発生室12の周壁上まで延
設され、各圧電体能動部320から延設され上電極膜と
連結されて共通電極となっている。
0の長手方向一端部から圧力発生室12の周壁上まで延
設され、各圧電体能動部320から延設され上電極膜と
連結されて共通電極となっている。
【0066】なお、本実施形態では、下電極膜60をパ
ターニングしているため、振動板を弾性膜50及び絶縁
体膜55で構成するようにし、振動板の強度を保持する
ようにしている。
ターニングしているため、振動板を弾性膜50及び絶縁
体膜55で構成するようにし、振動板の強度を保持する
ようにしている。
【0067】このような本実施形態のインクジェット式
記録ヘッドの製造方法は、特に限定されないが、本実施
形態では、以下のように形成した。
記録ヘッドの製造方法は、特に限定されないが、本実施
形態では、以下のように形成した。
【0068】まず、図9(a)に示すように、実施形態
1と同様に流路形成基板10上に形成した弾性膜50上
に絶縁体膜55を形成する。この絶縁体膜55は、圧電
体膜70との密着性の良好な材料、例えば、圧電体膜7
0の構成元素から選択される少なくとも一種の元素の酸
化物又は窒化物で形成されることが好ましい。本実施形
態では、弾性膜50上にジルコニウム層を形成後、例え
ば、約1150℃の拡散炉で熱酸化して二酸化ジルコニ
ウムからなる絶縁体膜55とした。
1と同様に流路形成基板10上に形成した弾性膜50上
に絶縁体膜55を形成する。この絶縁体膜55は、圧電
体膜70との密着性の良好な材料、例えば、圧電体膜7
0の構成元素から選択される少なくとも一種の元素の酸
化物又は窒化物で形成されることが好ましい。本実施形
態では、弾性膜50上にジルコニウム層を形成後、例え
ば、約1150℃の拡散炉で熱酸化して二酸化ジルコニ
ウムからなる絶縁体膜55とした。
【0069】次に、図9(b)に示すように、スパッタ
リングで下電極膜60を形成し、圧力発生室12に対応
する領域に、少なくとも幅方向両側の端部が圧力発生室
12に対向する領域内に位置するようにパターニングす
る。
リングで下電極膜60を形成し、圧力発生室12に対応
する領域に、少なくとも幅方向両側の端部が圧力発生室
12に対向する領域内に位置するようにパターニングす
る。
【0070】次に、図9(c)に示すように、圧電体膜
70及び上電極膜80を成膜及びパターニングして圧電
体能動部320を形成する。このとき、圧電体膜70が
少なくとも下電極膜60の幅方向両端の側面を覆い且つ
圧電体膜70の幅方向両端が圧力発生室12に対向する
領域内に位置するようにパターニングする。
70及び上電極膜80を成膜及びパターニングして圧電
体能動部320を形成する。このとき、圧電体膜70が
少なくとも下電極膜60の幅方向両端の側面を覆い且つ
圧電体膜70の幅方向両端が圧力発生室12に対向する
領域内に位置するようにパターニングする。
【0071】次いで、図9(d)に示すように、引張り
膜90を成膜後、圧電体能動部320上の引張り膜90
を除去して、圧電体膜70の幅方向両側のみに上電極膜
80に接触しないようにパターニングする。
膜90を成膜後、圧電体能動部320上の引張り膜90
を除去して、圧電体膜70の幅方向両側のみに上電極膜
80に接触しないようにパターニングする。
【0072】その後、流路形成基板10をエッチングし
て圧力発生室12を形成するが、そのとき本実施形態の
圧電体能動部320にかかる力の状態を以下に示す。
て圧力発生室12を形成するが、そのとき本実施形態の
圧電体能動部320にかかる力の状態を以下に示す。
【0073】図10(a)に示すように、圧力発生室1
2形成前には、下電極膜60、圧電体膜70、上電極膜
80及び引張り膜90はそれぞれ引張り応力σ3,σ2,
σ1,σ5を有し、弾性膜50及び絶縁体膜55は圧縮応
力σ4及びσ6を有している。そのため、図10(b)に
示すように、圧電体能動部320の下方に圧力発生室1
2を形成すると、実施形態1と同様に、弾性膜50、絶
縁体膜55及び引張り膜90の応力が解放された力が、
圧電体膜70を引っ張る方向に作用する。
2形成前には、下電極膜60、圧電体膜70、上電極膜
80及び引張り膜90はそれぞれ引張り応力σ3,σ2,
σ1,σ5を有し、弾性膜50及び絶縁体膜55は圧縮応
力σ4及びσ6を有している。そのため、図10(b)に
示すように、圧電体能動部320の下方に圧力発生室1
2を形成すると、実施形態1と同様に、弾性膜50、絶
縁体膜55及び引張り膜90の応力が解放された力が、
圧電体膜70を引っ張る方向に作用する。
【0074】したがって、本実施形態においても、実施
形態1と同様、圧電体膜70の圧電特性の低下を抑える
ことができる。また、本実施形態では、下電極膜60の
幅方向両側は圧電体膜70によって覆われているため、
引張り膜90と下電極膜60との間は絶縁されている。
そのため、引張り膜90は、本実施形態のように上電極
膜80に接触しないように形成すれば、絶縁性を有する
材料だけでなく、導電性を有する材料も用いることがで
き、引張り膜90の材料の選択範囲が広がる。
形態1と同様、圧電体膜70の圧電特性の低下を抑える
ことができる。また、本実施形態では、下電極膜60の
幅方向両側は圧電体膜70によって覆われているため、
引張り膜90と下電極膜60との間は絶縁されている。
そのため、引張り膜90は、本実施形態のように上電極
膜80に接触しないように形成すれば、絶縁性を有する
材料だけでなく、導電性を有する材料も用いることがで
き、引張り膜90の材料の選択範囲が広がる。
【0075】なお、本実施形態では、下電極膜60を各
圧電体能動部320の個別電極とし、上電極膜80を共
通電極としたが、これに限定されず、勿論、下電極膜6
0を共通電極として、上電極膜80を個別電極としても
よいことは言うまでもない。
圧電体能動部320の個別電極とし、上電極膜80を共
通電極としたが、これに限定されず、勿論、下電極膜6
0を共通電極として、上電極膜80を個別電極としても
よいことは言うまでもない。
【0076】(実施形態3)図11は、実施形態3に係
るインクジェット式記録ヘッドの要部平面図及び断面図
である。
るインクジェット式記録ヘッドの要部平面図及び断面図
である。
【0077】本実施形態は、引張り膜90が上電極膜8
0を兼ねるようにした例であり、図11に示すように、
本実施形態では、引張り膜90(上電極膜80)を幅方
向に並設された圧電体能動部320上に連続して形成す
ると共に、圧電体能動部320の共通電極とした以外、
実施形態2と同様である。
0を兼ねるようにした例であり、図11に示すように、
本実施形態では、引張り膜90(上電極膜80)を幅方
向に並設された圧電体能動部320上に連続して形成す
ると共に、圧電体能動部320の共通電極とした以外、
実施形態2と同様である。
【0078】なお、この構成は、圧電体膜70をパター
ニング後に引張り膜90(上電極膜80)を成膜し、そ
の後、引張り膜90(上電極膜80)のみをパターニン
グすることにより形成することができる。
ニング後に引張り膜90(上電極膜80)を成膜し、そ
の後、引張り膜90(上電極膜80)のみをパターニン
グすることにより形成することができる。
【0079】また、このような構成においても、図12
(a)に示すように、圧力発生室12形成前には、下電
極膜60、圧電体膜70は及び引張り膜90(上電極膜
80)は、それぞれ引張り応力σ3,σ2,σ5を有し、
弾性膜50及び絶縁体膜55は圧縮応力σ4及びσ6を有
している。そのため、図12(b)に示すように、圧電
体能動部320の下方に圧力発生室12を形成すると、
本実施形態では、下電極膜60及び圧電体膜70の応力
が解放された力が、圧電体膜70を圧縮する方向に作用
するのに対し、弾性膜50、絶縁体膜55及び引張り膜
90(上電極膜80)の応力が解放された力が、圧電体
膜70を引っ張る方向に作用する。
(a)に示すように、圧力発生室12形成前には、下電
極膜60、圧電体膜70は及び引張り膜90(上電極膜
80)は、それぞれ引張り応力σ3,σ2,σ5を有し、
弾性膜50及び絶縁体膜55は圧縮応力σ4及びσ6を有
している。そのため、図12(b)に示すように、圧電
体能動部320の下方に圧力発生室12を形成すると、
本実施形態では、下電極膜60及び圧電体膜70の応力
が解放された力が、圧電体膜70を圧縮する方向に作用
するのに対し、弾性膜50、絶縁体膜55及び引張り膜
90(上電極膜80)の応力が解放された力が、圧電体
膜70を引っ張る方向に作用する。
【0080】このように、本実施形態の構成では、引張
り膜90が上電極膜80を兼ねるようにしたので、圧電
体膜70を圧縮する方向に作用する力が減少し、すなわ
ち、相対的に、圧電体膜70を引っ張る方向に作用する
力が増加するため、圧電体膜70の圧電特性の低下をさ
らに抑えることができる。
り膜90が上電極膜80を兼ねるようにしたので、圧電
体膜70を圧縮する方向に作用する力が減少し、すなわ
ち、相対的に、圧電体膜70を引っ張る方向に作用する
力が増加するため、圧電体膜70の圧電特性の低下をさ
らに抑えることができる。
【0081】(他の実施形態)以上、本発明の各実施形
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。
【0082】例えば、上述した封止板20の他、共通イ
ンク室形成板30をガラスセラミックス製としてもよ
く、さらには、薄肉膜41を別部材としてガラスセラミ
ックス製としてもよく、材料、構造等の変更は自由であ
る。
ンク室形成板30をガラスセラミックス製としてもよ
く、さらには、薄肉膜41を別部材としてガラスセラミ
ックス製としてもよく、材料、構造等の変更は自由であ
る。
【0083】また、上述した実施形態では、ノズル開口
を流路形成基板10の端面に形成しているが、面に垂直
な方向に突出するノズル開口を形成してもよい。
を流路形成基板10の端面に形成しているが、面に垂直
な方向に突出するノズル開口を形成してもよい。
【0084】このように構成した実施形態の分解斜視図
を図13、その流路の断面を図14にそれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口11が圧電素子とは反対の
ノズル基板45に穿設され、これらノズル開口11と圧
力発生室12とを連通するノズル連通口22が、封止板
20,共通インク室形成板30及び薄肉板41A及びイ
ンク室側板40Aを貫通するように配されている。
を図13、その流路の断面を図14にそれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口11が圧電素子とは反対の
ノズル基板45に穿設され、これらノズル開口11と圧
力発生室12とを連通するノズル連通口22が、封止板
20,共通インク室形成板30及び薄肉板41A及びイ
ンク室側板40Aを貫通するように配されている。
【0085】なお、本実施形態は、その他、薄肉板41
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40に開口40bを形成した以外は、基本的に上述した
実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40に開口40bを形成した以外は、基本的に上述した
実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
【0086】この実施形態においても、上述した実施形
態と同様に、引張り膜90を設けることにより圧電体膜
70の圧電特性の低下が抑えられ、良好なインク吐出を
実現することができる。
態と同様に、引張り膜90を設けることにより圧電体膜
70の圧電特性の低下が抑えられ、良好なインク吐出を
実現することができる。
【0087】また、勿論、共通インク室を流路形成基板
内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも
同様に応用できる。
内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも
同様に応用できる。
【0088】さらに、例えば、圧電素子とリード電極と
の間に絶縁体層を設けたり、絶縁体層を設けないで、各
上電極に異方性導電膜を熱溶着し、この異方性導電膜を
リード電極と接続したり、その他、ワイヤボンディング
等の各種ボンディング技術を用いて接続したりする構成
としてもよい。
の間に絶縁体層を設けたり、絶縁体層を設けないで、各
上電極に異方性導電膜を熱溶着し、この異方性導電膜を
リード電極と接続したり、その他、ワイヤボンディング
等の各種ボンディング技術を用いて接続したりする構成
としてもよい。
【0089】このように、本発明は、その趣旨に反しな
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。
【0090】また、これら各実施形態のインクジェット
式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するイン
ク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成し
て、インクジェット式記録装置に搭載される。図15
は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図
である。
式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するイン
ク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成し
て、インクジェット式記録装置に搭載される。図15
は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図
である。
【0091】図15に示すように、インクジェット式記
録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、
インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが
着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び
1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付け
られたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられてい
る。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、
それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物
を吐出するものとしている。
録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、
インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが
着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び
1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付け
られたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられてい
る。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、
それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物
を吐出するものとしている。
【0092】そして、駆動モータ6の駆動力が図示しな
い複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリ
ッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及
び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿っ
て移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ3に沿
ってプラテン8が設けられている。このプラテン8は図
示しない紙送りモータの駆動力により回転できるように
なっており、給紙ローラなどにより給紙された紙等の記
録媒体である記録シートSがプラテン8に巻き掛けられ
て搬送されるようになっている。
い複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリ
ッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及
び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿っ
て移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ3に沿
ってプラテン8が設けられている。このプラテン8は図
示しない紙送りモータの駆動力により回転できるように
なっており、給紙ローラなどにより給紙された紙等の記
録媒体である記録シートSがプラテン8に巻き掛けられ
て搬送されるようになっている。
【0093】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、圧電
体膜の幅方向両側に引張り膜を設けるようにしたので、
圧力発生室を形成する際に、引張り膜の応力が解放され
る力が圧電体膜を引っ張る方向に作用し、圧電体膜の圧
電特性の低下が抑えられ、実質的に、インク吐出性能を
向上することができる。
体膜の幅方向両側に引張り膜を設けるようにしたので、
圧力発生室を形成する際に、引張り膜の応力が解放され
る力が圧電体膜を引っ張る方向に作用し、圧電体膜の圧
電特性の低下が抑えられ、実質的に、インク吐出性能を
向上することができる。
【図1】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの分解斜視図である。
録ヘッドの分解斜視図である。
【図2】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドを示す図であり、図1の平面図及び断面図であ
る。
録ヘッドを示す図であり、図1の平面図及び断面図であ
る。
【図3】図1の封止板の変形例を示す斜視図である。
【図4】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す断面
図である。
図である。
【図5】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す断面
図である。
図である。
【図6】本発明の実施形態1の圧電体能動部が圧力発生
室形成時に受ける力の状態を示す断面図である。
室形成時に受ける力の状態を示す断面図である。
【図7】従来の圧電体能動部が圧力発生室形成時に受け
る力の状態を示す断面図である。
る力の状態を示す断面図である。
【図8】本発明の実施形態2に係るインクジェット式記
録ヘッドの要部平面図及び断面図である。
録ヘッドの要部平面図及び断面図である。
【図9】本発明の実施形態2の薄膜製造工程を示す断面
図である。
図である。
【図10】本発明の実施形態2の圧電体能動部が圧力発
生室形成時に受ける力の状態を示す断面図である。
生室形成時に受ける力の状態を示す断面図である。
【図11】本発明の実施形態3に係るインクジェット式
記録ヘッドの要部平面図及び断面図である。
記録ヘッドの要部平面図及び断面図である。
【図12】本発明の実施形態3の圧電体能動部が圧力発
生室形成時に受ける力の状態を示す断面図である。
生室形成時に受ける力の状態を示す断面図である。
【図13】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドの分解斜視図である。
式記録ヘッドの分解斜視図である。
【図14】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドの要部断面図である。
式記録ヘッドの要部断面図である。
【図15】本発明の一実施形態に係るインクジェット式
記録装置の概略図である。
記録装置の概略図である。
10 流路形成基板 11 ノズル開口 12 圧力発生室 50 弾性膜 60 下電極膜 70 圧電体膜 80 上電極膜 90 引張り膜 300 圧電素子 320 圧電体能動部
Claims (12)
- 【請求項1】 ノズル開口に連通する圧力発生室の一部
を構成する振動板を介して前記圧力発生室に対応する領
域に下電極、圧電体層及び上電極を有する圧電素子を形
成したインクジェット式記録ヘッドにおいて、 前記圧電素子を構成する前記圧電体層の幅方向両側の端
部が前記圧力発生室に対向する領域内に位置し、当該圧
電体層の少なくとも幅方向両側には、引張り応力を有す
る引張り膜が連続的に設けられていることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項2】 請求項1において、前記引張り膜は、前
記圧電体層の幅方向両端側の端面に接触して設けられて
いることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項3】 請求項1において、前記引張り膜は、前
記圧電体層及び前記上電極の幅方向両端側の端面に接触
して設けられていることを特徴とするインクジェット式
記録ヘッド。 - 【請求項4】 請求項3において、前記引張り膜は、前
記上電極の上面を覆っていることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッド。 - 【請求項5】 請求項1において、前記引張り膜は絶縁
性の材料からなることを特徴とするインクジェット式記
録ヘッド。 - 【請求項6】 請求項1〜5の何れかにおいて、前記引
張り膜は耐環境保護膜を兼ねることを特徴とするインク
ジェット式記録ヘッド。 - 【請求項7】 請求項1〜6の何れかにおいて、前記引
張り膜は層間絶縁膜を兼ねることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッド。 - 【請求項8】 請求項1〜4の何れかにおいて、前記引
張り膜は有機材料からなることを特徴とするインクジェ
ット式記録ヘッド。 - 【請求項9】 請求項1〜4の何れかにおいて、前記引
張り膜は導電性の材料からなることを特徴とするインク
ジェット式記録ヘッド。 - 【請求項10】 請求項1において、前記引張り膜は上
電極を兼ねることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッド。 - 【請求項11】 請求項1〜10の何れかにおいて、前
記圧力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチング
により形成され、前記圧電素子の各層が成膜及びリソグ
ラフィ法により形成されたものであることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項12】 請求項1〜11の何れかのインクジェ
ット式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジ
ェット式記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31458598A JP2000141644A (ja) | 1998-11-05 | 1998-11-05 | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31458598A JP2000141644A (ja) | 1998-11-05 | 1998-11-05 | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000141644A true JP2000141644A (ja) | 2000-05-23 |
Family
ID=18055075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31458598A Pending JP2000141644A (ja) | 1998-11-05 | 1998-11-05 | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000141644A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7380318B2 (en) | 2003-11-13 | 2008-06-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing liquid discharge head |
| US7559631B2 (en) | 2003-09-24 | 2009-07-14 | Seiko Epson Corporation | Liquid-jet head, method for manufacturing the same, and liquid-jet apparatus |
| JP2010194872A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Brother Ind Ltd | 圧電アクチュエータ及び圧電アクチュエータの製造方法 |
| JP2010253691A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Konica Minolta Holdings Inc | インクジェットヘッド |
| WO2011007645A1 (ja) * | 2009-07-15 | 2011-01-20 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 薄膜アクチュエータ、及びインクジェットヘッド |
| JPWO2010150610A1 (ja) * | 2009-06-24 | 2012-12-10 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 薄膜アクチュエータ、及びインクジェットヘッド |
| US9522536B2 (en) | 2014-09-19 | 2016-12-20 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric device, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus and manufacturing method of piezoelectric device |
| US9714651B2 (en) | 2007-10-16 | 2017-07-25 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Vibrating device and piezoelectric pump |
-
1998
- 1998-11-05 JP JP31458598A patent/JP2000141644A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7559631B2 (en) | 2003-09-24 | 2009-07-14 | Seiko Epson Corporation | Liquid-jet head, method for manufacturing the same, and liquid-jet apparatus |
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| US9714651B2 (en) | 2007-10-16 | 2017-07-25 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Vibrating device and piezoelectric pump |
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| JPWO2010150610A1 (ja) * | 2009-06-24 | 2012-12-10 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 薄膜アクチュエータ、及びインクジェットヘッド |
| WO2011007645A1 (ja) * | 2009-07-15 | 2011-01-20 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 薄膜アクチュエータ、及びインクジェットヘッド |
| US9522536B2 (en) | 2014-09-19 | 2016-12-20 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric device, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus and manufacturing method of piezoelectric device |
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