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KR101607728B1 - 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름 - Google Patents

광학용 이접착성 폴리에스테르 필름 Download PDF

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KR101607728B1
KR101607728B1 KR1020117030558A KR20117030558A KR101607728B1 KR 101607728 B1 KR101607728 B1 KR 101607728B1 KR 1020117030558 A KR1020117030558 A KR 1020117030558A KR 20117030558 A KR20117030558 A KR 20117030558A KR 101607728 B1 KR101607728 B1 KR 101607728B1
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film
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신야 히가시우라
요헤이 야마구치
나오키 미즈노
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도요보 가부시키가이샤
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Abstract

형광등 아래에서의 홍채상 색체를 억제하고, 또한, 하드코트층과의 밀착성, 고온 고습하에서의 밀착성(내습열성)이 우수한 동시에, 도포층의 내치핑성을 갖는 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름을 제공한다.
폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 폴리에스테르 수지와 입자 A와 입자 B를 함유하는 도포층을 갖는 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름으로서, 상기 폴리에스테르 수지가, 산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산과, 하기 식(1)로 표시되는 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)로 표시되는 디올 성분을 포함하고, 상기 입자 A가, 굴절률 1.7 이상 3.0 이하의 금속산화물 입자이며, 상기 입자 B가, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자인, 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름.
(1) HOOC-(CH2)n-COOH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
(2) HO-(CH2)n-OH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)

Description

광학용 이접착성 폴리에스테르 필름{Highly adhesive polyester film for optical use}
본 발명은, 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 예를 들면, 터치패널, 액정표시판(LCD), TV나 컴퓨터의 브라운관(CRT), 플라즈마 디스플레이(PDP), 유기 일렉트로루미네센스(유기 EL) 등의 표시 화면의 전면에(前面)에 장착해, 외광의 비침, 번쩍거림, 홍채상 색채 등을 억제하는 반사방지성을 부여하여, 하드코트층과의 밀착성 및 고온 고습 처리 후의 밀착성이 우수한 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
터치패널, 컴퓨터, TV, 액정표시장치 등의 디스플레이, 장식재 등의 전면에는, 투명한 하드코트층을 적층시킨 하드코트 필름이 사용되고 있다. 또한, 기재의 투명 플라스틱 필름으로서는, 투명한 이축배향 폴리에스테르 필름이 일반적으로 사용되고, 기재인 폴리에스테르 필름과 하드코트층의 밀착성을 향상시키기 위해, 이들의 중간층으로서 이접착성(易接着性)을 갖는 도포층을 설치하는 경우가 많다.
상기 하드코트 필름에는, 온도, 습도, 빛에 대한 내구성, 투명성, 내약품성, 내찰상성, 방오성 등이 요구되고 있다. 또한, 하드코트 필름에는 디스플레이나 장식재 등의 표면에 사용되는 경우가 많기 때문에, 시인성(視認性)이나 의장성이 요구되고 있다. 그 때문에, 임의의 각도에서 봤을 때의 반사광에 의해 번쩍거림이나 홍채상 색채 등을 억제하기 위해, 하드코트층의 상층에, 고굴절률층과 저굴절률층을 상호 적층한 다층 구조의 반사방지층을 설치하는 것이 일반적으로 행해지고 있다.
그러나, 디스플레이나 장식재 등의 용도에서는, 최근 들어, 추가적인 대화면화(대면적화) 및 고급성이 요구되어, 그것에 수반하여 특히 형광등 아래에서의 홍채상 색채(간섭 불균일)의 억제에 대한 요구 레벨이 높아지고 있다. 또한, 형광등은 주광색의 재현성을 위해 3파장형이 주류로 되어 오고 있어, 보다 간섭 불균일이 나타나기 쉬워져 있다. 또한, 반사방지층의 간소화에 따른 비용 절감 요구도 높아지고 있다. 그 때문에, 반사방지층을 부가하지 않는 하드코트 필름만으로도 간섭 불균일을 최대한 억제하는 것이 요구되고 있다.
하드코트 필름의 홍채상 색채(간섭 불균일)는, 기재인 폴리에스테르 필름의 굴절률(예를 들면 1.62~1.65)과 아크릴 수지로 되는 하드코트층의 굴절률(예를 들면 1.49)의 차가 크기 때문에 발생하는 것으로 알려져 있다. 적층간의 굴절률차를 작게 하여 간섭 불균일의 발생을 방지하기 위해, 기재인 폴리에스테르 필름 상에 도포층을 설치하여, 폴리에스테르 필름과 도포층의 굴절률차, 도포층과 하드코트층의 굴절률차를 작게 하도록, 도포층을 구성하는 수지와 고굴절 첨가제의 함유량으로 도포층의 굴절률을 제어하는 방법이 개시되어 있다. 이러한 방법으로서, 예를 들면, (1) 수용성 폴리에스테르 수지와 수용성 금속 킬레이트 화합물 또는 금속 아실레이트 화합물을 포함하는 것(특허문헌 1), (2) 고분자 바인더와 고굴절률의 금속산화물을 포함하는 것(특허문헌 2) 등이 제안되어 있다.
상기 (1), (2)의 방법으로 간섭 불균일의 발생을 억제하는 경우, 도포층의 두께를 제어하는 것이 중요해진다. 도포층을 설치함으로써, 하드코트층-도포층 계면에서 생기는 반사광과, 도포층-폴리에스테르 필름 계면에서 생기는 반사광이 생기는데, 이 2개의 파장이 상쇄되어 역위상으로 되기 위해서는, 광학 설계상, 특정 범위 내에서 도포층 두께를 제어할 필요가 있기 때문이다. 그 때문에, 도포층의 두께가 소정의 범위를 초과하는 경우는, 이들 반사광에 의한 간섭 불균일이 발생하게 된다. 따라서, 상기 (1), (2)의 방법에서는, 생산 관리상, 매우 엄밀하게 도포층 두께를 제어할 필요가 있었다.
일본국 특허 제3632044호 명세서 일본국 특허공개 제2004-54161호 공보
모바일 기술의 발전에 의해 휴대전화, 자동차 내비게이션이나 전자북 등 휴대기기의 옥외영역에서의 사용이 확대되고 있다. 이러한 분야에서는, 예를 들면 터치패널의 휴대전화의 아이콘 시트 등 하드코트 필름의 이면(裏面)에 의장성을 행하는 용도에서는 간섭무늬에 의한 시인성의 결점이 보다 현재화(顯在化)되고 있다.
그러나, 최근의 생산효율의 향상 관점에서, 하드코트층 형성용 도포액의 용제로서 속건성이나 레벨링이 우수한 각종 용제가 사용되어지게 되었고, 그러한 것 중에는, 폴리에스테르 필름에 설치한 도포층을 용해하는 것도 사용되어지게 되었다. 그 때문에, 상기 방법으로 특정 두께를 갖는 도포층을 설치하더라도, 하드코트층 형성용 도포액의 용제에 의해 도포층 두께가 변동되어, 간섭 불균일을 억제할 수 없는 경우가 생겼다.
또한, 상기 (2)의 방법에서는, 굴절률을 제어하기 위해 사용하고 있는 폴리에스테르 수지의 주성분이 나프탈렌디카르복실산 성분이나 단쇄의 디올 성분이기 때문에, 수지 조성의 경도가 비교적 높아, 견고한 도포층으로 되어 있다. 그 때문에, 필름 단재시에 도포층 중의 입자가 탈락(가루 떨어짐)하여, 이물질로서 부착되는 상황이 있었다.
또한, 최근 들어서의 생산성 향상을 위해, 하드코트층의 적층이나 슬릿 가공 등, 후가공처리의 고속화가 진행됨에 따라 도포층으로 강한 마찰이 가해져, 종래 문제가 되지 않았던 도포층의 치핑(chipping)에 의한 두께 변동, 품질 변동이 과제로 되고 있다. 특히, 굴절률을 높이기 위해 사용하는 수지는 비교적 경도가 높아, 깨지기 쉽기 때문에, 간섭 불균일을 억제한 도포층일수록 이 도포층의 치핑은 커지는 경향이 있다.
따라서, 각종 용제에서도 광범위하게 적용 가능한 간섭 불균일의 억제효과를 가지며, 또한 고속가공에 있어서도 도포층의 치핑이 적어, 안정한 간섭 불균일 저감효과를 갖는 광학 이접착성 폴리에스테르 필름이 요망되고 있다. 즉, 본 발명은, 형광등 아래에서의 홍채상 색채를 억제하고, 또한, 하드코트층과의 밀착성, 고온 고습하에서의 밀착성이 우수하며, 또한, 고속 후가공에 있어서도 도포층의 내치핑성을 갖는 광학 이접착성 폴리에스테르 필름 및 그 필름에 하드코트층을 적층해서 되는 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제에 대해, 본 발명자는 도포층 조성에 관하여 예의 검토를 행한 결과, 소정의 굴절률을 갖는 도포층에 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하라는 커다란 입자를 첨가한 결과, 두께 변동에 대해서도 안정적으로 간섭 불균일을 억제할 수 있다는 놀라운 효과를 발견하고, 또한, 특정 탄소수를 갖는 장쇄의 디카르복실산 성분 및/또는 장쇄의 디올 성분을 포함하는 폴리에스테르 수지를 사용함으로써 도포층의 치핑을 현저하게 억제할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명의 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 폴리에스테르 수지와 입자 A와 입자 B를 함유하는 도포층을 갖는 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름으로서, 상기 폴리에스테르 수지가, 산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산과, 하기 식(1)로 표시되는 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)로 표시되는 디올 성분을 포함하고, 상기 입자 A가, 굴절률 1.7 이상 3.0 이하의 금속산화물 입자이며, 상기 입자 B가, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자인, 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름이다.
(1) HOOC-(CH2)n-COOH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
(2) HO-(CH2)n-OH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
또한, 본 발명은, 상기 도포층에 가교제를 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름이다.
또한, 본 발명은, 상기 가교제가 요소계 가교제, 에폭시계 가교제, 멜라민계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 카르보디이미드계 가교제로부터 선택된 1종 이상의 가교제인 것을 특징으로 하는 상기 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름이다.
　또한, 본 발명은, 상기 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 도포층에, 전자선 또는 자외선 경화형 아크릴 수지, 또는 실록산계 열경화성 수지로 되는 하드코트층을 적층해서 되는 광학용 적층 폴리에스테르 필름이다.
본 발명의 광학용 이접착 폴리에스테르 필름은, 그 필름의 이접착층에 하드코트층을 적층했을 때, 간섭 불균일 억제가 우수하고, 또한 하드코트층과의 밀착성 및 고온 고습하에서의 밀착성(내습열성)이 우수한 동시에, 도포층의 치핑성을 현저히 억제할 수 있다. 그 때문에, 하드코트층을 적층한 광학 적층 폴리에스테르 필름의 베이스 필름으로서 매우 적합하다.
(폴리에스테르 필름)
본 발명에서 기재로서 사용하는 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 수지로 구성되는 필름으로, 주로, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트의 1종 이상을 구성 성분으로 한다. 이들 폴리에스테르 수지 중에서도, 물성과 비용의 균형면에서 폴리에틸렌테레프탈레이트가 가장 바람직하다. 또한, 이들 폴리에스테르 필름은 이축연신함으로써 내약품성, 내열성, 기계적 강도 등을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 이축연신 폴리에스테르 필름은, 단층이어도 되고 복층이어도 상관없다. 또한, 본 발명의 효과를 나타내는 범위 내라면, 이들 각 층에는, 필요에 따라, 폴리에스테르 수지 중에 각종 첨가제를 함유시킬 수 있다. 첨가제로서는, 예를 들면, 산화방지제, 내광제, 겔화방지제, 유기 습윤제, 대전방지제, 자외선흡수제, 계면활성제 등을 들 수 있다.
또한, 필름의 활성(滑性), 권성(捲性), 내블로킹성 등의 핸들링성이나, 내마모성, 내스크래치성 등의 마모 특성을 개선하기 위해, 기재인 폴리에스테르 필름 중에 불활성 입자를 함유시키는 경우가 있다. 그러나, 본 발명의 필름은 광학용 부재의 기재 필름으로서 사용하기 위해, 고도의 투명성을 유지하면서 핸들링성이 우수한 것이 요구된다. 구체적으로는, 광학용 부재로서 사용하는 경우, 투명성은 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 전광선 투과율이 85% 이상인 것이 바람직하고, 87% 이상이 보다 바람직하며, 88% 이상이 더욱 바람직하고, 89% 이상이 보다 더욱 바람직하며, 90% 이상이 특히 바람직하다.
또한, 높은 선명도를 위해서는, 기재 필름 중으로의 불활성 입자의 함유량은 가능한 적은 편이 바람직하다. 따라서, 필름의 표층에만 입자를 함유시킨 다층 구성으로 하거나, 또는, 필름 중에 실질적으로 입자를 함유시키지 않고, 도포층에만 미립자를 함유시키는 것이 바람직하다.
특히, 투명성의 관점에서, 폴리에스테르 필름 중에 불활성 입자를 사실상 함유시키지 않는 경우는, 필름의 핸들링성을 향상시키기 위해, 무기 및/또는 내열성 고분자 입자를 수계 도포액 중에 함유시켜, 도포층 표면에 요철을 형성시키는 것이 중요하다.
또한, 「불활성 입자가 실질상 함유되어 있지 않다」는 것은, 예를 들면, 무기 입자의 경우, 형광X선분석으로 입자에 유래하는 원소를 정량분석했을 때, 50 ppm 이하, 바람직하게는 10 ppm 이하, 가장 바람직하게는 검출한계 이하가 되는 함유량을 의미한다. 이는 적극적으로 입자를 기재 필름 중에 첨가시키지 않더라도, 외래 이물질 유래의 오염 성분이나, 원료 수지 또는 필름의 제조공정에 있어서의 라인이나 장치에 부착된 오염이 박리되어, 필름 중에 혼입되는 경우가 있기 때문이다.
또한, 기재 필름을 다층 구성으로 하는 경우는, 중간층에 불활성 입자를 실질적으로 함유시키지 않고, 최외층에만 불활성 입자를 함유하는 2종 3층 구성은, 투명성과 가공성을 양립할 수 있어 바람직하다.
또한, 성형성이 요구되는 용도에서는, 공중합 성분을 포함하는 폴리에스테르 수지에 의해 성형성을 부여한 기재 필름을 사용해도 된다.
(도포층)
본 발명의 광학용 이접착성 필름에는, 산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산과, 하기 식(1)로 표시되는 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)로 표시되는 디올 성분을 포함하는 폴리에스테르 수지와, 굴절률 1.7 이상 3.0 이하의 금속산화물 입자(입자 A)와, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자(입자 B)를 함유하는 도포층에 설치하는 것이 중요하다. 즉, 본 발명의 이하와 같은 달성 수단에 의한다.
(1) HOOC-(CH2)n-COOH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
(2) HO-(CH2)n-OH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
(1) 도포층의 굴절률 제어
본 발명의 광학 이접착성 필름은, 도포층의 굴절률을 하드코트층과 기재 폴리에스테르 필름의 중간 부근으로 조정할 필요가 있다. 하드코트층에 사용하는 수지의 조성에 의해, 하드코트층의 굴절률은 변동되기 때문에, 도포층의 굴절률은 그것에 대응하여 조정하는 것이 바람직하고, 구체적으로는 도포층의 굴절률을 1.6~1.7의 범위로 조정할 필요가 있다. 이와 같이 함으로써 각 계면 굴절률차를 작게 하여, 간섭 불균일을 억제한다. 일반적으로 이접착성을 갖는 도포층의 경우는 굴절률이 낮기 때문에(1.50 전후), 도포층의 굴절률을 상기 범위로 제어하기 위해 본원에서는, 도포층의 사용하는 수지를 산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산을 포함하는 폴리에스테르 수지를 사용하고, 추가로 굴절률 1.7 이상 3.0 이하의 금속산화물 입자(입자 A)를 첨가한다. 이러한 구성에 의해 밀착성을 가지면서, 굴절률이 높은 도포층으로 할 수 있다. 이들 조성의 상세에 대해서는 후술한다.
(2) 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자(입자 B)
본 발명자는 도포층 조성을 예의 검토한 결과, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자(입자 B)를 도포층에 첨가함으로써 간섭 불균일 억제효과를 발견하고 본 발명에 이르렀다. 입자 B가 이러한 효과를 나타내는 이유로서, 본 발명자는 이하와 같이 생각하고 있다. 도포층에 평균입경이 비교적 큰 입자를 첨가함으로써, 도포층과 하드코트층의 계면에 요철이 형성된다. 이러한 요철 구조에 의해, 도포층과 하드코트층의 계면에서 빛의 산란이 생긴다. 이러한 랜덤의 광산란에 의해 도포층과 기재 폴리에스테르 필름의 계면에서 생기는 반사광의 위상의 흐트러짐이 생겨, 그 결과, 간섭 불균일의 억제효과가 생기는 것으로 생각된다. 본원의 광학 이접착성 필름의 도포층은 이러한 구성을 갖기 때문에, 종래 기술과 같이 도포 두께를 고도로 제어할 필요도 없어, 각종 용제로 되는 하드코트층 형성용 도포액으로도 광범위하게 적용 가능해졌다.
또한, 입자 B를 도포층에 첨가한 효과로서, 하드코트층과의 밀착성이 향상되는 것을 발견하였다. 이는, 도포층과 하드코트층의 계면에 요철이 형성됨으로써, 도포층과 하드코트층의 계면 면적이 증가하여, 밀착성에 유리하게 작용한 것으로 생각하고 있다.
입자 B가 상기 효과를 나타내기 위해, 도포층의 두께는 입자 B의 평균입경보다 작은 것이 바람직하고, 도포층의 두께는 입자 B의 평균입경의 1/1 미만이 바람직하며, 1/2 이하가 보다 바람직하다. 또한, 도포층의 두께는 입자 B의 평균입경의 1/15 이상이 바람직하고, 1/10 이상이 보다 바람직하며, 1/7 이상이 더욱 바람직하다. 도포층의 두께가 입자 B의 평균입경의 1/15 미만이면, 투명성이 저하되는 경우가 있다.
(3) 장쇄의 디카르복실산 성분 및/또는 디올 성분을 함유하는 폴리에스테르 수지
본 발명의 도포층은, 상기와 같이 나프탈렌디카르복실산 성분을 포함하는, 비교적 단단한 폴리에스테르 수지를 사용하면서, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 비교적 큰 입자를 사용한다. 그 때문에, 생산성 효율의 향상에 의해 후가공 처리에서의 라인 스피드가 상승된 경우, 도포층의 치핑이나 입자의 탈락이 생기는 것을 생각할 수 있다. 이에, 본 발명자는 예의 검토를 행한 결과, 폴리에스테르 수지의 성분으로서, 장쇄의 디카르복실산 성분 및/또는 디올 성분을 사용함으로써, 도포층의 현저한 내치핑성(chipping resistance)을 나타내는 것을 발견하였다.
즉, 본 발명의 도포층에 사용하는 폴리에스테르 수지는, 산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산과, 하기 식(1)로 표시되는 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)로 표시되는 디올 성분을 포함한다.
(1) HOOC-(CH2)n-COOH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
(2) HO-(CH2)n-OH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
이와 같이, 특정 길이의 탄소 성분을 갖는 산 성분 및/또는 디올 성분을 함유함으로써, 폴리에스테르 수지에 유연성을 부여하여, 비교적 커다란 입자이더라도, 보유·유지(保持)하기 쉬워, 도포층의 치핑이나 입자의 탈락을 현저히 억제할 수 있다. 한편, n이 4 미만이면, 이러한 효과는 얻어지지 않아, 도포층의 치핑성이 생기는 경우가 있다. 또한, n이 10을 초과하면, 폴리에스테르 수지가 나타내는 굴절률이 저하되어, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 불충분해지는 경우가 있다. 또한, 상기 n의 상한은 9 이하가 보다 바람직하고, 8 이하가 더욱 바람직하다.
여기서, 도포층의 내치핑성은, 후술하는 측정방법에 의해 측정할 수 있다. 즉, 후술하는 도포층의 내치핑성 시험에 있어서, 검정 대지(臺紙) 상에서 장소에 따라 약간 가루 떨어짐을 확인할 수 있는 정도 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 검정 대지 상에서 가루 떨어짐을 확인할 수 없는 것(즉, 후술하는 도포층의 내치핑성 시험에 있어서 가루 떨어짐이 없는 것)이다. 가루 떨어짐의 정도는, 육안, 형광X선분석, XMA, ESCA 등으로 확인할 수 있다. 여기서, 가루 떨어짐이 없다는 것은, 가루가 무기 입자인 경우는, 보다 구체적으로는 대지 상의 무기 입자가 형광X선분석에 있어서 검출한계 이하인 것을 말한다.
본 발명은, 상기 태양에 의해, 하드코트층과의 밀착성, 및 고온 고습하에서의 밀착성(내습열성)을 유지하면서, 형광등 아래에서의 홍채상 색채를 제어하고, 또한, 우수한 도포층의 내치핑성을 갖는다. 또한, 본 발명의 구성을 이하에 상세하게 기술한다.
본 발명에 있어서, 도포층 중에 폴리에스테르 수지를 함유시킬 필요가 있어, 상기 폴리에스테르 수지의 산 성분으로서, 나프탈렌디카르복실산을 함유시킬 필요가 있다. 나프탈렌디카르복실산을 함유시킴으로써, 굴절률이 증가하여, 형광등 아래에서의 홍채상 색채를 제어하기 쉬워진다. 또한, 내습열성을 향상시킬 수 있다.
이러한 나프탈렌디카르복실산으로서는, 2,6-나프탈렌디카르복실산이 바람직하다. 폴리에스테르 수지 중의 상기 나프탈렌디카르복실산의 비율은 산 성분으로서 20 몰% 이상이 바람직하고, 30 몰% 이상이 보다 바람직하며, 50 몰% 이상이 더욱 바람직하고, 60 몰% 이상이 보다 더욱 바람직하다. 또한, 폴리에스테르 수지 중의 상기 나프탈렌디카르복실산의 비율은 산 성분으로서 90 몰% 이하가 바람직하고, 85 몰% 이하가 보다 바람직하며, 80 몰% 이하가 더욱 바람직하다. 폴리에스테르 수지 중의 상기 나프탈렌디카르복실산의 비율은, 입자 A와 함께 도포층의 굴절률이 전술한 범위가 되도록 적절히 조정하나, 20 몰% 미만이면 입자 A의 첨가량이 많아져, 밀착성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 90 몰%를 초과하는 경우는, 수지의 밀착성이 저하되는 경우가 있다.
또한, 본 발명의 폴리에스테르 수지는, 산 성분으로서 적어도 나프탈렌디카르복실산과, 하기 식(1)의 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)의 디올 성분을 함유시키는 것이 필요하다. 폴리에스테르 수지 중의 하기 식(1)의 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)의 디올 성분은 10 몰% 이상이 바람직하고, 15 몰% 이상이 보다 바람직하며, 20 몰% 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 폴리에스테르 수지 중의 하기 식(1)의 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)의 디올 성분은 70 몰% 이하가 바람직하고, 60 몰% 이하가 보다 바람직하며, 50 몰% 이하가 더욱 바람직하다. 폴리에스테르 수지 중의 하기 식(1)의 디카르복실산 성분 및/또는 하기 식(2)의 디올 성분은 10 몰% 미만이면, 다른 성분의 비율에 따라서는, 도포층의 내치핑성이 악화되는 경우가 있고, 70 몰% 이상이면, 굴절률이 저하되어, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 불충분해지는 경우가 있다. 또한, 폴리에스테르 수지의 구성 성분에 대해서는, NMR이나 질량 분석기로도 바람직하게 행할 수 있다.
(1) HOOC-(CH2)n-COOH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
(2) HO-(CH2)n-OH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
식(1)의 디카르복실산 성분으로서는, 아디핀산, 세바신산, 아젤라인산 등을 들 수 있다. 또한, 식(2)의 디올 성분으로서는 부탄디올, 헥산디올 등을 들 수 있다.
폴리에스테르 수지는 물, 또는, 수용성의 유기 용제(예를 들면, 알코올, 알킬셀로솔브, 케톤계, 에테르계를 50 질량% 미만 포함하는 수용액) 또는, 유기 용제(예를 들면, 톨루엔, 초산에틸 등)에 대해 용해 또는 분산한 것을 사용할 수 있다.
폴리에스테르 수지를 수계 도액으로서 사용하는 경우에는, 수용성 또는 수분산성의 폴리에스테르 수지가 사용되는데, 이러한 수용성화 또는 수분산화를 위해서는, 설폰산염기를 포함하는 화합물이나, 카르복실산염기를 포함하는 화합물을 공중합시키는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 효과를 나타내는 범위라면, 폴리에스테르 수지 중의 산 성분으로서 추가로, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 무기 프탈산, 14-시클로헥산디카르복실산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 다이머산, 5-나트륨설포이소프탈산, 4-나트륨설포나프탈렌-2,7-디카르복실산 등을 사용해도 된다. 디올 성분으로서는, 에틸렌글리콜, 프로판글리콜, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올, 크실렌글리콜, 비스페놀 A의 에틸렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.
상기 폴리에스테르 수지는 도포층 중에, 전체 고형 성분 중, 30 질량% 이상 90 질량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 40% 질량% 이상 80 질량% 이하이다. 폴리에스테르 수지의 함유량이 많은 경우에는, 고온 고습하의 하드코트층과의 밀착성이 저하되고, 반대로, 함유량이 적은 경우에는, 상온, 고온 고습하의 폴리에스테르 필름과의 밀착성이 저하된다.
본 발명에 있어서, 도포층 중에 가교구조를 형성시키기 위해서, 가교제를 함유시켜도 된다. 가교제를 함유시킴으로써, 고온 고습하에서의 밀착성을 더욱 향상시키는 것이 가능해진다. 또한, 도포층에 가교구조를 도입함으로써 하드코트 도포액 용제에 대한 내용제성이 향상되기 때문에, 도포층 두께의 변동에 의한 간섭무늬의 발현을 보다 바람직하게 억제할 수 있다. 가교제로서는, 요소계, 에폭시계, 멜라민계, 이소시아네이트계, 옥사졸린계, 카르보디이미드계 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 도액의 경시 안정성, 고온 고습 처리하의 밀착성 향상효과로부터 멜라민계, 이소시아네이트계, 옥사졸린계, 카르보디이미드계가 바람직하다. 또한, 가교반응을 촉진시키기 위해, 촉매 등이 필요에 따라 적절히 사용된다.
가교제의 도포층 중의 함유량으로서는, 전체 고형 성분 중, 5 질량% 이상 50 질량% 이하가 바람직하다. 보다 바람직하게는 10 질량% 이상 30 질량% 이하이다. 적은 경우에는, 도포층의 수지의 강도가 저하되고, 고온 고습하에서의 밀착성이 저하되며, 많은 경우에는, 도포층의 수지의 유연성이 저하되고, 항온, 고온 고습하에서의 밀착성이 저하된다.
본 발명에 있어서, 도포층 중에 굴절률 1.7 이상 3.0 이하의 금속산화물 입자(입자 A)를 함유시킬 필요가 있다. 이러한 금속산화물로서는, TiO2(굴절률 2.7), ZnO(굴절률 2.0), Sb2O3(굴절률 1.9), SnO2(굴절률 2.1), ZrO2(굴절률 2.4), Nb2O5(굴절률 2.3), CeO2(굴절률 2.2), Ta2O5(굴절률 2.1), Y2O3(굴절률 1.8), La2O3(굴절률 1.9), In2O3(굴절률 2.0), Cr2O3(굴절률 2.5) 등, 및 이들 금속원자를 포함하는 복합 산화물 등을 들 수 있다. 본 발명의 도포층에는, 이들 금속산화물을 1종 이상 또는 2종 이상을 함유한다. 금속산화물 입자의 굴절률이 1.7 이상이면, 도포층의 굴절률을 상기 범위에서 조정하는 점에서 바람직하다. 또한, 금속산화물 입자의 굴절률이 3.0 이하이면 필름의 투명성을 유지하는 점에서 바람직하다.
금속산화물 입자의 도포층 중의 함유량으로서는, 사용하는 금속산화물 입자의 굴절률과 적용하는 하드코트층의 굴절률의 관계로 제어하는 것이 바람직하고, 구체적으로는 전체 고형 성분 중, 2 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상 70 질량% 이하가 바람직하다. 금속산화물 입자의 함유량의 하한으로서는, 7 질량% 이상이 보다 바람직하고, 8 질량% 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 금속산화물 입자의 함유량의 상한으로서는, 50 질량% 이하가 보다 바람직하고, 30 질량% 이하가 더욱 바람직하며, 20 질량% 이하가 보다 더욱 바람직하고, 15 질량% 이하가 특히 바람직하다. 하드코트층의 굴절률에 따라, 상기 범위 내에서 금속산화물 입자를 첨가하고, 도포층의 굴절률을, 1.5~1.7의 범위, 바람직하게는 1.6~1.7의 범위에서 조정한다. 금속산화물 입자의 함유량이 2 질량% 미만, 또는 5 질량% 미만이면, 도포층의 굴절률을 상기 범위로 조정하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 또한, 금속산화물 입자의 함유량이 70 질량%를 초과하면, 도포층의 밀착성이 저하되는 경우가 있기 때문에 바람직하지 못하다. 금속산화물 입자의 평균 입자경은 특별히 한정되지 않으나, 필름의 투명성을 유지하는 점에서 1~100 nm이면 바람직하다.
본 발명에 있어서, 도포층 중에 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자(입자 B)를 함유시킬 필요가 있다. 입자 B는 (1) 실리카, 카올리나이트, 탈크, 경질 탄산칼슘, 중질 탄산칼슘, 제올라이트, 알루미나, 황산바륨, 카본블랙, 산화아연, 황산아연, 탄산아연, 이산화티탄, 새틴 화이트, 규산알루미늄, 규조토, 규산칼슘, 수산화알루미늄, 가수 할로이사이트, 탄산마그네슘, 수산화마그네슘 등의 무기 입자, (2) 아크릴 또는 메타아크릴계, 염화비닐계, 초산비닐계, 나일론, 스티렌/아크릴계, 스티렌/부타디엔계, 폴리스티렌/아크릴계, 폴리스티렌/이소프렌계, 폴리스티렌/이소프렌계, 메틸메타아크릴레이트/부틸메타아크릴레이트계, 멜라민계, 폴리카보네이트계, 요소계, 에폭시계, 우레탄계, 페놀계, 디알릴프탈레이트계, 폴리에스테르계 등의 유기 입자를 들 수 있다.
상기 입자(입자 B)는, 평균입경이 200~700 nm인 것이 바람직하다. 입경이 작은 경우는 도포층과 하드코트층 계면의 요철형성이 작고, 산란효과가 감소하여, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 불충분해지기 쉬워진다. 큰 경우는, 도포층의 투명성이 나빠지는 경우가 있다.
상기 입자(입자 B)는 응집되기 어려운, 진구(眞球)형상의 것이 바람직하다. 입자가 응집되면, 산란의 효과가 감소하여, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 불충분해지기 쉬워질뿐 아니라, 광학 결점이 되는 경우가 있다. 또한, 입자에 의한 빛의 산란효과를 발휘하는 점에서도, 진구형상의 입자는 바람직하다고 생각한다. 또한, 필름의 투명성을 유지하는 점에서, 입자 B는 무색 투명한 것이 바람직하다.
본 발명의 도포층 중의 입자의 평균입경은, 투과형 전자현미경(TEM)을 사용하여, 배율 12만배로 이접착성 필름의 단면을 촬영하고, 도포층의 단면에 존재하는 10개 이상의 입자의 최대 직경을 측정하여, 그들의 평균값을 구할 수 있다. 그때는, 이물질이나 입자 A의 입자를 배제하기 위해, 100 nm 이상의 입자를 선별하여 평균을 구하는 것이 바람직하다.
입자 B의 도포층 중의 함유량으로서는, 전체 고형 성분 중, 0.5 질량% 이상 5 질량% 이하가 바람직하다. 입자 B의 도포층 중의 함유량의 상한으로서는, 4 질량% 이하가 보다 바람직하고, 3 질량% 이하가 더욱 바람직하며, 2 질량% 이하가 특히 바람직하다. 적은 경우는, 산란효과가 감소하여, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 불충분해지기 쉬워진다. 많은 경우는, 도포층의 투명성이 나빠질뿐 아니라, 막 강도가 저하된다.
도포층에는, 도포시의 레벨링성의 향상, 도포액의 탈포를 목적으로 계면활성제를 함유시키는 것도 가능하다. 계면활성제는, 양이온계, 음이온계, 비이온계 등 어느 것이어도 상관없으나, 실리콘계, 아세틸렌글리콜계 또는 불소계 계면활성제가 바람직하다. 이들 계면활성제는, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과나 밀착성을 손상시키지 않을 정도의 범위에서 도포층에 함유시키는 것이 바람직하다.
도포층에 다른 기능성을 부여하기 위해, 형광등 아래에서의 홍채상의 색채의 억제효과나 밀착성을 손상시키지 않을 정도의 범위에서, 각종 첨가제를 함유시켜도 상관없다. 상기 첨가제로서는, 예를 들면, 형광염료, 형광증백제, 가소제, 자외선흡수제, 안료분산제, 억포제, 소포제, 방부제 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서, 폴리에스테르 필름 상에 도포층을 설치하는 방법으로서는, 용매, 입자, 수지를 함유하는 도포액을 폴리에스테르 필름에 도포, 건조하는 방법을 들 수 있다. 용매로서, 톨루엔 등의 유기 용제, 물, 또는 물과 수용성 유기 용제의 혼합계를 들 수 있는데, 바람직하게는, 환경문제의 관점에서 물 단독 또는 물에 수용성 유기 용제를 혼합한 것이 바람직하다.
(광학용 적층 폴리에스테르 필름)
본 발명의 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 전술한 폴리에스테르 필름의 도포층에, 전자선 또는 자외선 경화형 아크릴 수지 또는 실록산계 열경화성 수지로 되는 하드코트층을 설치함으로써 얻어진다.
전자선 또는 자외선에 의해 경화되는 아크릴 수지로서, 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 것으로, 예를 들면, 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다관능 화합물의 (메타)아크릴레이트 등의 올리고머 또는 프리폴리머 및 반응성 희석제로서 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등의 단관능 모노머 및 다관능 모노머, 예를 들면, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트 등을 함유하는 것을 사용할 수 있다.
단, 전자선 또는 자외선 경화형 수지의 경우에는, 전술한 수지 중에 광중합개시제로서, 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 테트라메틸티우람모노설파이드, 티옥산톤류나, 광증감제로서 n-부틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸포스핀 등을 혼합해서 사용할 수 있다.
또한, 실록산계 열경화성 수지는, 산 또는 염기 촉매하에 있어서 오르가노실란화합물을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 가수분해 및 축합반응시켜서 제조할 수 있다. 특히, 저반사용인 경우에 있어서 플루오로실란화합물을 1종 이상 혼합하여 가수분해 및 축합반응시키는 것이 저굴절률성, 내오염성 등의 향상에 있어서 더욱 좋다.
(광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 제조)
본 발명의 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 제조방법에 대해서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, PET로 약기한다) 필름을 예로 하여 설명하나, 당연히 이들에 한정되는 것은 아니다.
PET 수지를 충분히 진공 건조한 후, 압출기에 공급하고, T 다이로부터 약 280℃의 용융 PET 수지를 회전 냉각 롤에 시트형상으로 용융압출하여, 정전인가법에 의해 냉각 고화시켜서 미연신 PET 시트를 얻는다. 상기 미연신 PET 시트는, 단층 구성이어도 되고, 공압출법에 의한 복층 구성이어도 된다. 또한, PET 수지 중에 불활성 입자를 실질적으로 함유시키지 않는 것이 바람직하다. 또한, 복층 구성인 경우는, 중간층에 불활성 입자를 실질적으로 함유시키지 않고, 최외층에만 불활성 입자를 함유하는 2종 3층 구성은, 투명성과 가공성을 양립할 수 있어 바람직하다.
얻어진 미연신 PET 시트를, 80~120℃로 가열한 롤로 길이방향으로 2.5~5.0배로 연신하여, 일축연신 PET 필름을 얻는다. 또한, 필름의 단부를 클립으로 파지하고, 70~140℃로 가열된 열풍 존으로 유도하여, 폭방향으로 2.5~5.0배로 연신한다. 계속해서, 160~240℃의 열처리 존으로 유도하여, 1~60초간의 열처리를 행하고, 결정배향을 완료시킨다.
이 필름 제조공정의 임의의 단계에서, PET 필름의 적어도 편면에, 도포액을 도포하여, 상기 도포층을 형성한다. 도포층은 PET 필름의 양면에 형성시켜도 특별히 문제는 없다. 도포액 중의 수지 조성물의 고형분 농도는, 2~35 중량%인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 4~15 중량%이다.
이 도포액을 PET 필름에 도포하기 위한 방법은, 공지의 임의의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 리버스 롤 코트법, 그라비아 코트법, 키스 코트법, 다이 코터법, 롤 브러시법, 스프레이 코트법, 에어 나이프 코트법, 와이어 바 코트법, 파이프 닥터법, 함침 코트법, 커튼 코트법 등을 들 수 있다. 이들 방법을 단독으로, 또는 조합하여 도공한다.
본 발명에 있어서는, 도포층은 미연신 또는 일축연신 후의 PET 필름에 상기 도포액을 도포, 건조한 후, 적어도 일축방향으로 연신하고, 이어서 열처리를 행하여 형성시킨다.
본 발명에 있어서, 최종적으로 얻어지는 도포층의 두께는 20~350 nm, 건조 후의 도포량은, 0.02~0.5 g/㎡인 것이 바람직하다. 도포층의 도포량이 0.02 g/㎡ 미만이면, 접착성에 대한 효과가 거의 없어질뿐 아니라, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제성이 불충분해지기 쉬워진다. 한편, 도포량이 0.5 g/㎡를 초과하면, 동일하게 형광등 아래에서의 홍채상의 색채의 억제효과가 불충분해지기 쉬워진다.
본 발명에서 얻어진 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 도포층은, 전자선 또는 자외선 경화형 아크릴 수지 또는 실록산계 열경화성 수지로 되는 하드코트층에 대해 양호한 접착성을 갖는다. 또한, 광학용도 이외에도 양호한 접착강도가 얻어진다. 구체적으로는, 사진감광층, 디아조감광층, 매트층, 자성층, 잉크젯 잉크 수용층, 하드코트층, 자외선 경화 수지, 열경화 수지, 인쇄 잉크나 UV 잉크, 드라이 라미네이트나 압출 라미네이트 등의 접착제, 금속 또는 무기물 또는 그들의 산화물의 진공증착, 전자빔 증착, 스퍼터링, 이온 플레이팅, CVD, 플라즈마 중합 등으로 얻어지는 박막층, 유기 배리어층 등을 들 수 있다.
(광학용 적층 폴리에스테르 필름의 제조)
본 발명의 광학용 적층 폴리에스테르 필름의 제조방법에 대해서, PET 필름을 예로 하여 설명하나, 당연히 이들에 한정되는 것은 아니다.
전술한 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 도포층면에, 상기 전자선 또는 자외선 경화형 아크릴 수지 또는 실록산계 열경화성 수지를 도포한다. 도포층이 양면에 설치되어 있는 경우는, 적어도 한쪽의 도포층면에 도포한다. 도포액은 특별히 희석할 필요는 없지만, 도포액의 점도, 습윤성, 도막 두께 등의 필요에 따라 유기 용제에 의해 희석해도 특별히 문제는 없다. 도포층은, 전술한 필름에 상기 도포액을 도포 후, 필요에 따라 건조시킨 후, 도포액의 경화조건에 맞춰, 전자선 또는 자외선 조사 및 가열함으로써 도포층을 경화시켜, 하드코트층을 형성한다.
본 발명에 있어서, 하드코트층의 두께는, 1~15 ㎛인 것이 바람직하다. 하드코트층의 두께가 1 ㎛ 미만이면, 하드코트층으로서의 내약품성, 내찰상성, 방오성 등에 대한 효과가 거의 없어진다. 한편, 두께가 15 ㎛를 초과하면 하드코트층의 가요성이 저하되어, 균열 등이 발생할 가능성이 증가한다.
본 발명에서 얻어진 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 광범위한 용도로 사용할 수 있는데, 특히 추가로 상층에 반사방지층을 형성함으로써, 양호한 반사방지 필름으로 할 수 있다. 이러한 반사방지층의 형성에는, 고굴절률의 ZnO, TiO2, CeO2, SnO2, ZrO2 등 또는 저굴절률의 MgF2, SiO2 등의 무기질 재료나, 금속재료를 단층 또는 다층 설치함으로써 행해진다. 이들 층은, 증착, 스퍼터링, 플라즈마 CVD 등이나, 고굴절률 또는 저굴절률의 무기질 재료나 금속재료 등을 함유하는 수지 조성물로 되는 도포층을 단층 또는 다층으로 형성된다.
실시예
다음으로, 실시예 및 비교예를 사용하여 본 발명을 상세하게 설명하나, 본 발명은 당연히 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에서 사용한 평가방법은 이하와 같다.
(1) 고유점도
JIS K 7367-5에 준거하여, 용매로서 페놀(60 질량%)과 1,1,2,2-테트라클로로에탄(40 질량%)의 혼합용매를 사용하여, 30℃에서 측정하였다.
(2) 굴절률
하드코트층의 굴절률은, 하드코트층에 사용하는 각 수지를 경화시킨 막에 대해서, JIS K 7142에 기초하여, 아베 굴절률계를 사용하여 측정을 행하였다.
입자 A의 굴절률은, 90℃에서 건고시킨 입자 A를, 굴절률이 상이한 각종의 25℃의 액체에 현탁시켜, 현탁액이 가장 투명하게 보이는 액의 굴절률을 아베 굴절률계에 의해 측정하였다.
(3) 평균입경
광학용 적층 폴리에스테르 필름의 시료를 가시광 경화형 수지(일본전자 데이텀사 제조, D-800)에 포매(包埋)하고, 실온에서 가시광에 노출하여 경화시켰다. 얻어진 포매 블록으로부터, 다이아몬드 나이프를 장착한 울트라 미크로톰을 사용하여 70~100 nm 정도 두께의 초박 절편을 제작하고, 사산화루테늄 증기 중에서 30분간 염색하였다. 이 염색된 초박 절편을, 투과형 전자현미경(일본전자 주식회사 제조, TEM2010)을 사용하여, 하드코트층의 단면을 관찰하고, 사진을 촬영하였다. 사진의 확대배율은, 10,000~100,000배의 범위에서 적절히 설정한다. 또한, 본 실시예에서는, 확대배율을 80,000배(가속전압 200 kv)로 하였다. 입자 A의 평균입경을 구하는 경우는, 전자현미경 사진으로부터 입경이 약 100 nm 이상인 입자를 10개 이상 선별하여, 그들 입자의 최대 직경을 측정하고, 그 평균값을 구하였다. 이는, 입자 A나 이물질 등이 명확하게 본원의 입자 B가 아닌, 입자가 작은 입자를 배제하기 위함이다.
(4) 간섭 불균일 개선성(홍채상 색채)
광학용 적층 폴리에스테르 필름을 10 ㎝(필름 폭방향)×15 ㎝(필름 길이방향)의 면적으로 잘라내, 시료 필름을 제작하였다. 얻어진 시료 필름의 하드코트층과는 반대면에, 흑색 광택 테이프(닛토 전공 제조, 비닐 테이프 No 21;검정)를 맞붙였다. 이 시료 필름의 하드코트면을 윗면으로 하여 3파장형 주백색(내셔널 파룩, F. L 15EX-N 15W)을 광원으로 하여 비스듬하게 위쪽에서 육안으로 가장 반사가 강하게 보이는 위치관계(광원으로부터의 거리 40~60 ㎝, 필름면의 수선에 대해 15~45°의 각도)에서 관찰하였다.
육안으로 관찰한 결과를, 하기의 기준으로 랭크 나누기를 한다. 또한, 관찰은 그 평가에 정통한 5명이 행하여, 가장 많은 랭크를 평가 랭크로 한다. 만일, 2개의 랭크에서 동 수가 된 경우에는, 3개로 나뉜 랭크의 중심을 채용하였다. 예를 들면, ◎와 ○가 각 2명이고 △가 1명인 경우는 ○를, ◎가 1명이고 ○와 △가 각 2명인 경우에는 ○를, ◎와 △가 각 2명이고 ○가 1명인 경우에는 ○를, 각각 채용한다.
◎:모든 각도로부터의 관찰에서도 홍채상 색채가 보이지 않는다
○:어느 각도에 따라서는 약간 홍채상 색채가 보인다
△:약간 홍채상 색채가 관찰된다
×:확실한 홍채상 색채가 관찰된다
(5) 접착성
광학용 적층 폴리에스테르 필름에, 극간 간격 2 ㎜의 컷터 가이드를 사용하여, 하드코트층을 관통하여 기재 필름에 달하는 100개의 모눈형상의 컷라인을 하드코트층면에 긋는다. 이어서, 셀로판 점착 테이프(니치반사 제조, 405번；24 ㎜폭)를 모눈형상의 컷라인면에 첩부(貼付)하고, 지우개로 문질러 완전히 밀착시켰다. 그 후, 수직으로 셀로판 점착 테이프를 광학용 적층 폴리에스테르 필름의 하드코트층면으로부터 뜯어내서, 광학용 적층 폴리에스테르 필름의 하드코트층면으로부터 박리된 모눈의 수를 육안으로 세어, 하기 식으로부터 하드코트층과 기재 필름의 밀착성을 구하였다. 또한, 모눈 중에서 부분적으로 박리되어 있는 것도 박리된 모눈으로서 세어, 하기의 기준으로 랭크 나누기를 하였다.
밀착성(%)=(1-박리된 모눈의 수/100)×100
◎:100%
○:99~90%
△:89~70%
×:69~0%
(6) 내습열성
광학용 적층 폴리에스테르 필름을, 고온 고습조 중에서 60℃, 95RH%의 환경하 500시간 방치하고, 이어서, 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 꺼내, 실온 상온에서 12시간 방치하였다. 그 후, 상기 (5)와 동일한 방법으로 하드코트층과 기재 필름의 접밀착성을 구하고, 하기 기준으로 랭크 나누기를 하였다.
◎:100%
○:99~90%
△:89~70%
×:69~0%
(7) 도포층의 내치핑성
마찰 견뢰도 시험기(다이에이 과학정기 제작소 제조, RT-200)에 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름을 3 ㎝(필름 폭방향)×20 ㎝(필름 길이방향)를 장착하고, 추(300 g)를 매단 하중 헤드부(2 ㎝×2 ㎝, 200 g)와 시료 필름의 접촉부에 알루미늄박(두께 80 ㎛, 산술적 평균 표면 조도 0.03 ㎛)을 사용하여, 10 ㎝의 거리를 1왕복 20초의 속도로 10왕복시켰다. 검정 대지 상에 얻어진 시료 필름을 올리고, 가루가 떨어져 있는지 육안으로 확인하였다.
◎:검정 대지 상에서 가루 떨어짐을 확인할 수 없다.
○:검정 대지 상에서 장소에 따라 약간의 가루 떨어짐을 확인할 수 있다.
△:검정 대지 상에서 전체적으로 약간의 가루 떨어짐을 확인할 수 있다.
×:검정 대지 상에서 가루 떨어짐을 확실히 확인할 수 있다.
또한, 상기, 산술적 평균 표면 조도는 비접촉 표면형상 계측 시스템(Vert Scan R550H-M100)을 사용하여, 하기의 조건으로 측정한 값이다.
(측정조건)
·측정모드:WAVE 모드
·대물렌즈:50배
·0.5×Tube 렌즈
·측정면적 187×139 ㎛
(8) 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 전광선 투과율
얻어진 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 전광선 투과율은 JIS K 7105 「플라스틱의 광학적 특성 시험방법」에 준거하여 측정하였다.
(폴리에스테르 수지의 중합)
교반기, 온도계, 및 부분 환류식 냉각기를 구비하는 스테인리스 스틸제 오토클레이브에, 2,6-나프탈렌디카르복실산디메틸 302.9 질량부, 디메틸-5-나트륨설포이소프탈레이트 47.4 질량부, 에틸렌글리콜 198.6 질량부, 1,6-헥산디올 118.2 질량부, 및 테트라-n-부틸티타네이트 0.4 질량부를 첨가하고, 160℃에서 220℃까지 4시간에 걸쳐 에스테르 교환반응을 행하였다. 추가로, 세바신산 121.4 중량부를 첨가하고, 에스테르화 반응을 행하였다. 이어서 255℃까지 승온하고, 반응계를 서서히 감압한 후, 30 Pa의 감압하에서 1시간 30분 반응시켜서, 공중합 폴리에스테르 수지(A-1)를 얻었다. 얻어진 공중합 폴리에스테르 수지는, 담황색 투명이었다.
동일한 방법으로, 다른 조성의 공중합 폴리에스테르 수지(A-2)~(A-11)를 얻었다. 이들 공중합 폴리에스테르 수지에 대해, 1H-NMR로 측정한 조성 및 중량 평균 분자량의 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure 112011101687728-pct00001
(폴리에스테르의 수분산액의 조제)
교반기, 온도계와 환류장치를 구비한 반응기에, 폴리에스테르 수지(A-1) 20 질량부, 에틸렌글리콜 ｔ-부틸에테르 15 질량부를 넣고, 110℃에서 가열, 교반하여 수지를 용해하였다. 수지가 완전히 용해된 후, 물 65 질량부를 상기 폴리에스테르용액에 교반하면서 서서히 첨가하였다. 첨가 후, 액을 교반하면서 실온까지 냉각하여, 고형분 20 질량%의 유백색 폴리에스테르의 수분산액(B-1)을 제작하였다. 동일하게 폴리에스테르 수지(A-1) 대신에 폴리에스테르 수지(A-2)~(A-12)를 사용하여, 수분산액을 제작해서, 수분산액(B-2)~(B-12)으로 하였다.
(블록 폴리이소시아네이트 가교제의 중합)
교반기, 온도계, 환류냉각관을 구비한 플라스크에 헥사메틸렌디이소시아네이트를 원료로 한 이소시아누레이트 구조를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물(아사히 가세이 케미컬즈 제조, 듀라네이트 TPA) 100 질량부, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 55 질량부, 폴리에틸렌글리콜 모노메틸에테르(평균 분자량 750) 30 질량부를 첨가하고, 질소분위기하, 70℃에서 4시간 유지하였다. 그 후, 반응액 온도를 50℃로 내리고, 메틸에틸케토옥심 47 질량부를 적하하였다. 반응액의 적외 스펙트럼을 측정하여, 이소시아네이트기의 흡수가 소실된 것을 확인하고, 고형분 75 질량%의 블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C)을 얻었다.
(옥사졸린계 가교제의 중합)
온도계, 질소가스 도입관, 환류냉각기, 적하 깔때기, 및 교반기를 구비한 플라스크에 수성 매체로서의 이온 교환수 58 질량부와 이소프로판올 58 질량부의 혼합물, 및 중합개시제(2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)·이염산염) 4 질량부를 투입하였다. 한편, 적하 깔때기에, 옥사졸린기를 갖는 중합성 불포화 단량체로서의 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 16 질량부, 메톡시폴리에틸렌글리콜 아크릴레이트(에틸렌글리콜의 평균 부가 몰 수·9 몰, 신나카무라 화학 제조) 32 질량부, 및 메타크릴산메틸 32 질량부의 혼합물을 투입하고, 질소분위기하, 70℃에서 1시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 종료 후, 반응용액을 9시간 교반하고, 냉각함으로써 고형분 농도 40 질량%의 옥사졸린기를 갖는 수용성 수지(D)를 얻었다.
(카르보디이미드계 가교제의 중합)
교반기, 온도계, 환류냉각관을 구비한 플라스크에 헥사메틸렌디이소시아네이트 168 질량부와 폴리에틸렌글리콜 모노메틸에테르(M400, 평균 분자량 400) 220 질량부를 첨가하여, 120℃에서 1시간 교반하고, 추가로 4,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 26 질량부와 카르보디이미드화 촉매로서 3-메틸-1-페닐-2-포스포렌-1-옥시드 3.8 질량부(전체 이소시아네이트에 대해 2 중량%)를 첨가하고, 질소기류하 185℃에서 추가로 5시간 교반하였다. 반응액의 적외 스펙트럼을 측정하고, 파장 2200~2300 ㎝-1의 흡수가 소실된 것을 확인하였다. 60℃까지 방랭하고, 이온 교환수를 567 질량부 첨가하여, 고형분 40 질량%의 카르보디이미드 수용성 수지(E)를 얻었다.
실시예 1
(1) 도포액의 조제
하기 도제를 혼합하여 도포액을 제작하였다. 입자 A는 굴절률 2.1의 SnO2, 입자 B는 평균 1차입경 약 500 nm의 실리카 입자이다.
물 40.16 질량%
이소프로판올 30.00 질량%
폴리에스테르 수분산액(B-1) 18.19 질량%
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C) 2.08 질량%
입자 A 9.37 질량%
(다키 화학 제조 세라메스 S-8, 고형분 농도 8 질량%)
입자 B 0.17 질량%
(닛폰 쇼쿠바이 제조 시호스타 KEW50, 고형분 농도 15 질량%)
실리콘계 계면활성제 0.03 질량%
(고형분 농도 100%)
(2) 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 제조
필름 원료 폴리머로서, 고유점도가 0.62 ㎗/g이고, 또한 입자를 실질상 함유하고 있지 않은 PET 수지 펠릿을, 133 Pa의 감압하, 135℃에서 6시간 건조하였다. 그 후, 압출기에 공급하고, 약 280℃에서 시트형상으로 용융압출하여, 표면온도 20℃로 유지한 회전 냉각 금속 롤 상에서 정전 인가법에 의해 급랭 밀착 고화시켜, 미연신 PET 시트를 얻었다.
이 미연신 PET 시트를 가열된 롤군 및 적외선 히터로 100℃로 가열하고, 그 후 주속차가 있는 롤군으로 길이방향으로 3.5배 연신하여, 일축연신 PET 필름을 얻었다.
이어서, 상기 도포액을 롤 코트법으로 PET 필름의 편면에 도포한 후, 80℃에서 20초간 건조하였다. 또한, 최종(이축연신 후) 건조 후의 도포량이 0.15 g/㎡가 되도록 조정하였다. 계속해서 텐터로, 120℃에서 폭방향으로 4.0배로 연신하고, 필름의 폭방향의 길이를 고정한 상태에서, 230℃에서 0.5초간 가열하고, 추가로 230℃에서 10초간 3%의 폭방향의 이완처리를 행하여, 두께 100 ㎛의 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름을 얻었다. 전자현미경으로 관찰한 바, 도포층의 두께는 120 nm였다. 평가결과를 표 2에 나타낸다.
(3) 광학용 적층 폴리에스테르 필름의 제조
상기 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 도포층면에, 하기 조성의 하드코트층 형성용 도포액(C-1)을 #10 와이어 바를 사용하여 도포하고, 70℃에서 1분간 건조하여, 용제를 제거하였다. 이어서, 하드코트층을 도포한 필름에 고압수은등을 사용해서 300 mJ/㎠의 자외선을 조사하여, 두께 5 ㎛의 하드코트층을 갖는 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 하드코트층의 굴절률은 1.55였다.
하드코트층 형성용 도포액(C-1)
이소프로판올 48.47 질량%
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 21.25 질량%
(신나카무라 화학 제조 A-DPH)
폴리에틸렌디아크릴레이트 5.67 질량%
(신나카무라 화학 제조 A-400)
ZrO2 졸 23.61 질량%
(닛산 화학 공업 제조 OZ-30M, 고형분 농도 30 질량%)
광중합개시제 1.00 질량%
(씨바 스페셜티 케미컬즈사 제조 이루가큐어 184)
비교예 1
폴리에스테르 수분산액을 B-10으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 2
입자 A를 굴절률 1.46의 SiO2(닛산 화학 공업 제조 스노우텍스 ZL, 고형분 농도 40 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 3
입자 B를 제외한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 4
입자 B를 제외하고, 하드코트층 형성용 도포액(C-2)으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다. 하드코트층의 굴절률은 1.55였다.
하드코트층 형성용 도포액(C-2)
메틸에틸케톤 39.00 질량%
톨루엔 9.47 질량%
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 21.25 질량%
(신나카무라 화학 제조 A-DPH)
폴리에틸렌디아크릴레이트 5.67 질량%
(신나카무라 화학 제조 A-400)
SnO2 졸 23.61 질량%
(이사하라 산업 제조 FSS-10T, 고형분 농도 30 질량%)
광중합개시제 1.00 질량%
(씨바 스페셜티 케미컬즈사 제조 이루가큐어 184)
비교예 5
입자 B를 평균입경 100 nm의 실리카 입자(닛산 화학 공업 제조 스노우텍스 ZL, 고형분 농도 40 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 6
입자 B를 평균입경 2000 nm의 유기 입자(닛폰 쇼쿠바이 제조 에포스타 MS)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 7
폴리에스테르 수분산액을 B-11로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
비교예 8
폴리에스테르 수분산액을 B-12로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 2
도포액을 하기로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
물 44.54 질량%
이소프로판올 30.00 질량%
폴리에스테르 수분산체(B-1) 12.21 질량%
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C) 3.67 질량%
입자 A 9.38 질량%
(다키 화하 제조 세라메스 S-8, 고형분 농도 8 질량%)
입자 B 0.17 질량%
(닛폰 쇼쿠바이 제조 시호스타 KEW50, 고형분 농도 15 질량%)
실리콘계 계면활성제 0.03 질량%
(고형분 농도 100 질량%)
실시예 3
도포액을 하기로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
물 37.29 질량%
이소프로판올 30.00 질량%
폴리에스테르 수분산체(B-1) 22.09 질량%
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C) 1.04 질량%
입자 A 9.38 질량%
(다키 화학 제조 세라메스 S-8, 고형분 농도 8 질량%)
입자 B 0.17 질량%
(닛폰 쇼쿠바이 제조 시호스타 KEW50, 고형분 농도 15 질량%)
실리콘계 계면활성제 0.03 질량%
(고형분 농도 100 질량%)
실시예 4
도포액을 하기로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
물 35.76 질량%
이소프로판올 30.00 질량%
폴리에스테르 수분산체(B-1) 24.17 질량%
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C) 0.49 질량%
입자 A 9.38 질량%
(다키 화학 제조 세라메스 S-8, 고형분 농도 8 질량%)
입자 B 0.17 질량%
(닛폰 쇼쿠바이 제조 시호스타 KEW50, 고형분 농도 15 질량%)
실리콘계 계면활성제 0.03 질량%
(고형분 농도 100 질량%)
실시예 5
입자 B를 평균입경 230 nm의 실리카 입자(후소 화학 공업 제조 쿼트론 PL-20, 고형분 농도 24 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 6
입자 B를 평균입경 300 nm의 아크릴 입자(간츠 화성 제조 간츠팔 PM-030, 고형분 농도 41 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 7
입자 B를 평균입경 450 nm의 실리카 입자(닛산 화학 공업 제조 MP4540M, 고형분 농도 40 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 8
입자 B를 평균입경 700 nm의 가교 폴리스티렌 입자(미쯔이 화학 제조 그로스델 207-S, 고형분 농도 53 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 9
입자 A를 굴절률 2.4의 ZrO2(닛산 화학 공업 제조 ZR-40BL, 고형분 농도 40 질량%), 입자 B를 평균입경 230 nm의 실리카 입자(후소 화학 공업 제조 쿼트론 PL-20, 고형분 농도 24 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 10
입자 A를 굴절률 2.4의 ZrO2(닛산 화학 공업 제조 ZR-40BL, 고형분 농도 40 질량%), 입자 B를 평균입경 300 nm의 아크릴 입자(간츠 화성 제조 간츠 펄 PM-030, 고형분 농도 41 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 11
입자 A를 굴절률 2.4의 ZrO2(닛산 화학 공업 제조 ZR-40BL, 고형분 농도 40 질량%), 입자 B를 평균입경 450 nm의 실리카 입자(닛산 화학 공업 제조 MP4540M, 고형분 농도 40 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 12
입자 A를 굴절률 2.4의 ZrO2(닛산 화학 공업 제조 ZR-40BL, 고형분 농도 40 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 13
입자 A를 굴절률 2.4의 ZrO2(닛산 화학 공업 제조 ZR-40BL, 고형분 농도 40 질량%), 입자 B를 평균입경 700 nm의 가교 폴리스티렌 입자(미쯔이 화학 제조 그로스델 207-S, 고형분 농도 53 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 14
입자 A를 굴절률 2.7의 TiO2(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%), 입자 B를 평균입경 230 nm의 실리카 입자(후소 화학 공업 제조 쿼트론 PL-20, 고형분 농도 24 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 15
입자 A를 굴절률 2.7의 TiO2(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%), 입자 B를 평균입경 300 nm의 아크릴 입자(간츠 화성 제조 간츠 펄 PM-030, 고형분 농도 41 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 16
입자 A를 굴절률 2.7의 TiO2(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%), 입자 B를 평균입경 450 nm의 실리카 입자(닛산 화학 공업 제조 MP4540M, 고형분 농도 40 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 17
입자 A를 굴절률 2.7의 TiO2(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 18
입자 A를 굴절률 2.7의 TiO2(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%), 입자 B를 평균입경 700 nm의 가교 폴리스티렌 입자(미쯔이 화학 제조 그로스델 207-S, 고형분 농도 53 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 19
하드코트층 형성용 도포액(C-2)으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 20
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C)을 옥사졸린기를 갖는 수용성 수지(D)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 21
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C)을 카르보디이미드 수용성 수지(E)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 22
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C)을 멜라민 수지(다이닛폰 잉크 제조 베카민 M-3, 고형분 농도 60 질량%)로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 23
폴리에스테르 수분산액을 B-2로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 24
폴리에스테르 수분산액을 B-3로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 25
폴리에스테르 수분산액을 B-4로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 26　
폴리에스테르 수분산액을 B-5로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 27
폴리에스테르 수분산액을 B-6로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 28
폴리에스테르 수분산액을 B-7로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 29
폴리에스테르 수분산액을 B-8로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 30
폴리에스테르 수분산액을 B-9로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
실시예 31
도포액을 하기로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
물 40.16 질량%
이소프로판올 30.00 질량%
폴리에스테르 수분산체(B-1) 24.27 질량%
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C) 2.78 질량%
입자 A 2.59 질량%
(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%)
입자 B 0.17 질량%
(닛폰 쇼쿠바이 제조 시호스타 KEW50, 고형분 농도 15 질량%)
실리콘계 계면활성제 0.03 질량%
(고형분 농도 100 질량%)
실시예 32
도포액을 하기로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
물 40.16 질량%
이소프로판올 30.00 질량%
폴리에스테르 수분산체(B-1) 24.97 질량%
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C) 2.86 질량%
입자 A 1.81 질량%
(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%)
입자 B 0.17 질량%
(닛폰 쇼쿠바이 제조 시호스타 KEW50, 고형분 농도 15 질량%)
실리콘계 계면활성제 0.03 질량%
(고형분 농도 100 질량%)
실시예 33
도포액을 하기로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 적층 폴리에스테르 필름을 얻었다.
물 40.16 질량%
이소프로판올 30.00 질량%
폴리에스테르 수분산체(B-1) 25.91 질량%
블록 폴리이소시아네이트 수분산액(C) 2.96 질량%
입자 A 0.77 질량%
(이시하라 산업 제조 TTO-W-5, 고형분 농도 30 질량%)
입자 B 0.17 질량%
(닛폰 쇼쿠바이 제조 시호스타 KEW50, 고형분 농도 15 질량%)
실리콘계 계면활성제 0.03 질량%
(고형분 농도 100 질량%)
비교예 1의 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 수지에 산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산이 포함되어 있지 않다. 따라서, 도포층의 굴절률이 저하되기 때문에, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 불충분하다.
비교예 2의 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 입자 A로서 굴절률이 낮은 실리카가 사용되고 있다. 따라서, 도포층의 굴절률이 저하되기 때문에, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 불충분하다.
비교예 3의 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자 B가 포함되어 있지 않다. 따라서, 하드코트층/도포층 계면에서의 광산란효과가 없기 때문에, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 떨어진다. 또한, 입자 B에 의한 계면 요철 형성이 없기 때문에, 하드코트층과의 접촉면적이 저하되어, 접착성, 내습열성이 떨어진다.
비교예 4의 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자 B가 포함되어 있지 않다. 또한, 하드코트층 형성용 도포액(C-2)으로 변경하였다. C-2에 의해, 도포 계면의 일부가 용해 또는 팽윤되어, 하드코트층/도포층 계면의 설계를 흐트러뜨릴뿐 아니라, 하드코트층/도포층 계면에서의 광산란효과가 없기 때문에, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 떨어진다. 또한, 입자 B에 의한 계면 요철 형성이 없기 때문에, 하드코트층과의 접촉면적이 저하되어, 접착성, 내습열성이 떨어진다.
비교예 5의 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 입자 B로서 평균입경 100 nm의 입자가 포함되어 있다. 따라서, 하드코트층/도포층 계면에서의 광산란효과가 없기 때문에, 형광등 아래에서의 홍채상 색채의 억제효과가 떨어진다. 또한, 입자 B에 의한 계면 요철 형성이 적기 때문에, 하드코트층과의 접촉면적이 저하되어, 접착성, 내습열성이 떨어진다.
비교예 6의 광학용 적층 폴리에스테르 필름은, 입자 B로서 평균입경 2000 nm의 입자가 포함되어 있으나, 밀착성이 저하되었다.
비교예 7의 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 수지의 조성 성분으로서, 장쇄의 디카르복실산 성분 및 장쇄의 디올 성분을 포함하지 않는다. 따라서, 도포층의 내치핑성이 떨어진다.
비교예 8의 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 수지의 조성 성분으로서, 식(1) 및 식(2)에 있어서 n이 10을 초과하는 디카르복실산 성분 및 디올 성분을 포함한다. 따라서, 하드코트층을 적층했을 때 간섭 불균일의 억제효과가 떨어진다.
Figure 112011101687728-pct00002
본 발명의 광학용 이접착 폴리에스테르 필름은, 가공성이 양호하여, 그 필름의 도포층에 하드코트층을 적층했을 때, 외광의 비침, 번쩍거림, 홍채상 색채 등을 억제하는 반사방지성이 우수하며, 또한 하드코트층과의 밀착성 및 고온 고습하에서의 밀착성(내습열성)이 우수하기 때문에, 터치패널, 액정 디스플레이(LCD), TV나 컴퓨터의 브라운관(CRT), 플라즈마 디스플레이(PDP), 유기 일렉트로루미네센스(유기 EL) 등의 표시 화면의 전면(前面)이나 아이콘 시트로서 장착해, 외광의 비침, 번쩍거림, 홍채상 색채 등을 억제하는 반사방지성을 부여하는 반사방지 필름의 기재 필름으로서 매우 적합하다.

Claims (4)

  1. 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 폴리에스테르 수지와 입자 A와 입자 B를 함유하는 도포층을 갖는 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름으로서,
    상기 폴리에스테르 수지가, 산 성분으로서 나프탈렌디카르복실산과, 하기 식(1)로 표시되는 디카르복실산 성분 및 하기 식(2)로 표시되는 디올 성분 중 하나 이상을 포함하고,
    상기 입자 A가, 굴절률 1.7 이상 3.0 이하의 금속산화물 입자이며, 상기 금속산화물 입자의 평균입경이 1~100 nm이고,
    상기 입자 B가, 평균입경 200 nm 이상 700 nm 이하의 입자인, 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름.
    (1) HOOC-(CH2)n-COOH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
    (2) HO-(CH2)n-OH(식 중, n은 4≤n≤10의 정수)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 도포층이 가교제를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 가교제가 요소계 가교제, 에폭시계 가교제, 멜라민계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 카르보디이미드계 가교제로부터 선택된 1종 이상의 가교제인 것을 특징으로 하는 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 광학용 이접착성 폴리에스테르 필름의 도포층에, 전자선 또는 자외선 경화형 아크릴 수지, 또는 실록산계 열경화성 수지로 되는 하드코트층을 적층해서 되는 광학용 적층 폴리에스테르 필름.
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