JPH1190301A - 吸着機構付定盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ワーク載置面の吸着孔の数を増大することな
く、異なるサイズのワークを確実に吸着させる。 【解決手段】 吸着機構付定盤１０における定盤本体１
１のワーク載置面１２に複数の円形凹部１４を形成し、
ここに各々が負圧が印加される吸着孔１６を有する吸着
体１８Ａ〜１８Ｆを回転自在に配置し、各吸着孔１６は
吸着体の円形中心から偏心させて、吸着体の回転角度に
よってワーク３６（３６Ａ、３６Ｂ）を吸引する位置が
変更できるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はノズルから吐出す
る塗工液をプラズマディスプレイパネル等の基板等に塗
布する際に、基板等を吸着保持するに用いて好適な吸着
機構付定盤に関する。

【０００２】

【従来の技術】ガス放電パネルであるプラズマディスプ
レイパネルは、２枚の基板に挟まれた微小な放電空間と
してのセルを多数備え、セル毎に放電して発光するか、
生じた紫外線により蛍光体を発光させて、所定の色の画
素を構成するようにされている。

【０００３】前記微小なセル間には、各セル間における
光のクロストーク（混線）を防ぐため、及び同基板間の
間隔を一定に保つために障壁が設けられている。

【０００４】プラズマディスプレイパネルでは、放電空
間をできるだけ大きくし、高輝度の発光を得るために、
前記障壁が垂直に切り立ち、幅が狭く且つ高いことが要
求される。特に高精細のディスプレイでは、高さ１００
μｍに対して、幅３０〜５０μｍといった高アスペクト
比の障壁が必要とされている。

【０００５】前記のようなプラズマディスプレイパネル
における障壁の形成方法として、本出願人は、必要とさ
れるエリアのみに１回の塗布により、必要厚さで、且つ
表面に凹凸が少なく、周辺部まで膜厚が均一な塗工面が
得られるノズル塗布方法及び装置を特開平９−９２１３
４号により提案した。

【０００６】この発明は、被塗工物の平面状の塗布面に
対して離間した状態で、塗工液容器下端のノズル先端か
ら塗工液を吐出しつつ、前記塗布面に対してこれと平行
に、該ノズルを相対的に移動させて、塗布面に塗工液を
ライン状に塗布し、次の塗布ラインの幅方向の一部が先
の塗布ラインに幅方向に重なるように順次繰り返して塗
布することにより塗工面を形成することを特徴とするも
のである。

【０００７】上記のようなノズル塗布装置において、被
塗工物である基板は、塗工時において高い平面度が要求
されるため、例えば図７に示されるように、負圧が印加
される複数の吸着孔１が形成されたみかげ石等の定盤２
上に、基板を負圧により吸着保持して、その平面度を高
く維持するようにしている。

【０００８】図７の符号３は、前記吸着孔１に負圧を導
入するために、定盤２の裏面側から穿設された吸着孔用
下穴を示す。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記のような定盤２
に、例えばプラズマディスプレイパネル用の基板４を吸
着しようとする場合、反り等を防止して直平面状にする
ために、図７に示されるように、基板４の四隅の位置で
吸着孔１により吸着するのが望ましい。

【００１０】しかしながら、基板のサイズが異なる場
合、特に定盤２の制作後に想定されていなかったサイズ
の基板を吸着する場合がある。例えば、図７において符
号４Ａで示されるように、前記基板４よりもやや大きい
場合、該基板４Ａの四隅から内側位置で吸着孔１によっ
て吸着しなければ、吸着孔１の外側の部分、特に四隅部
分に反りが発生し易い。

【００１１】このような場合、定盤２に予め多数の吸着
孔１を形成しておけばよいが、このようにすると、各吸
着孔１毎に径の大きい吸着孔用下穴３を形成しなければ
ならず、定盤２の剛性が低下することによって平面度が
低下するという問題点を生じる。

【００１２】更に、定盤２に多数の吸着孔１を設ける
と、当然基板の大きさに応じて負圧を印加する吸着孔を
変更しなければならず、この負圧のオン・オフ又は切換
えのために多数の配管を必要とし、更に、各配管の切換
えの際の操作が煩雑であり、操作ミスの原因となるとい
う問題点がある。

【００１３】この発明は上記従来の問題点に鑑みてなさ
れたものであって、多数の吸着孔を形成することによっ
て定盤の剛性を低下したりすることなく、又、複雑な負
圧管路の配置、切換弁の操作を要することなく、基板等
のワークを容易確実に吸着保持することができるように
した吸着機構付定盤を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】この発明は、請求項１の
ように、ワーク載置面に、ワークを負圧により吸着固定
するための複数の吸着孔を備えた吸着機構付定盤におい
て、前記ワーク載置面に複数の円形凹部を形成し、この
円形凹部に、厚さが、前記円形凹部の深さ以下の円板状
部材であって、その円形中心から偏心した位置に少なく
とも１個の吸着孔が形成された吸着体を、前記ワーク載
置面と平行な面内で回転自在に嵌合すると共に、この吸
着体の吸着孔に負圧を伝達する負圧伝達手段を設けたこ
とを特徴とする吸着機構付定盤により、上記目的を達成
するものである。

【００１５】請求項２のように、前記吸着体における前
記吸着孔を上端が前記ワーク載置面よりも低い栓体によ
り閉塞自在としてもよい。

【００１６】更に、請求項３のように、前記円形凹部
は、前記吸着穴の下方位置で、定盤本体に、その裏面側
から穿設された下穴と同軸的、且つ、下穴径よりも大き
い内径で形成するようにしてもよい。

【００１７】更に又、請求項４のように、前記吸着体
を、これを回転駆動するモータと共に前記円形凹部内に
配置し、前記モータを制御することにより前記吸着体の
円形凹部内における回転方向の位置決め自在としてもよ
い。

【００１８】この発明においては、吸着孔が、ワーク載
置面で回転自在の吸着体に偏心して設け、この吸着体を
回転自在とすることによって吸着孔の位置を変更するこ
とができ、これによって、多数の吸着孔を設けることな
く、サイズの異なるワークを確実に吸着保持することが
できる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態の例を図
面を参照して詳細に説明する。

【００２０】図１に示されるように、本発明の実施の形
態の例に係る吸着機構付定盤１０は、そのワーク載置面
１２に、６個の円形凹部１４が形成されてなり、これら
円形凹部１４内に、各々、円板状部材であって、その円
形中心から偏心した位置に１個の吸着孔１６が形成され
た吸着体１８Ａ〜１８Ｆがワーク載置面１２と平行な面
内で回転自在に嵌合され、各吸着体の吸着孔１６には、
負圧源２０からの負圧が負圧管路２２を介して選択的に
伝達され得るように構成されている。

【００２１】図２に拡大して示されるように、吸着体１
８（吸着体１８Ａ〜１８Ｆを総称する場合は吸着体１８
と表示する）前記円形凹部１４内に、ステップモータ２
４と共に取り付けられ、取付状態で、吸着体１８の上面
が、前記ワーク載置面１２と面一又はワーク載置面１２
よりもわずかに下方位置となるようにされている。

【００２２】図２の符号２６は定盤本体１１の裏面１１
Ａ側から穿設された下穴であり、この下穴２６の上端は
前記円形凹部１４に連通され、且つ該下穴２６の下端
は、前記負圧管路２２に接続されている。又、円形凹部
１４の内径は下穴２６の内径よりも大きくされている。

【００２３】前記ステップモータ２４は、ゴムあるいは
テフロン（商標）からなるリーク防止用パッキン２８を
介して、前記円形凹部１４の底面１４Ａ上に配置されて
いる。このステップモータ２４の出力軸２５は、上端及
び下端が解放された中空形状であって、下端は前記下穴
２６に連通し、上端は吸着体１８を支持すると共に、吸
着体１８内に形成された連通孔１６Ａを介して前記吸着
孔１６に連通され、下穴２６に導入された負圧を、前記
吸着孔１６に伝達できるようにされている。

【００２４】図１及び図２に示されるように、各下穴２
６には、バルブ３０Ａ〜３０Ｆを介して負圧管路２２が
接続され、これらバルブ３０Ａ〜３０Ｆを選択的に開閉
することによって、吸着孔１６に印加される負圧をオン
・オフできるようにされている。

【００２５】これらバルブ３０Ａ〜３０Ｆは、図３に示
されるように、制御装置３２によってオン・オフ制御さ
れるようになっている。又、制御装置３２は、前記各吸
着体１８Ａ〜１８Ｆの回転角度を変更するためのステッ
プモータ２４Ａ〜２４Ｆを制御し、更に、負圧源２０か
らの負圧を負圧管路２２全体への負圧の供給をオン・オ
フするためのバルブ３４及び負圧源２０を制御できるよ
うにされている。

【００２６】この吸着機構付定盤１０のワーク載置面１
２に例えば基板からなるワーク３６を吸着する場合、こ
れが標準サイズのときは、図１において実線で示される
ように、各吸着体１８Ａ〜１８Ｆの吸着孔１６が、ワー
ク３６の下側面となり、特に四隅の吸着体１８Ａ、１８
Ｂ、１８Ｅ、１８Ｆの吸着孔１６がワーク３６の四隅で
その下側となる位置にセットする。

【００２７】これに対してワーク３６よりも僅かに大き
いワーク３６Ａを吸着する場合は、制御装置３２により
各ステップモータ２４Ａ〜２４Ｆを制御して、吸着体１
８Ａ〜１８Ｆの吸着孔１６が、前記ワーク３６の外形線
よりも外側で、且つワーク３６Ａの外形線よりも内側位
置となるように約１８０°回転してセットする。

【００２８】図１の符号１７は、ワーク載置面１２の中
心位置に形成された固定吸着孔を示す。この固定吸着孔
１７は、ワークのサイズに関係無く、常に負圧が印加さ
れなければならないので、その位置を変更する必要がな
い。

【００２９】なお、例えば標準サイズのワーク３６の半
分程度の面積のワーク３６Ｂの場合は、図１において２
つの吸着体１８Ｅ及び１８Ｆの吸着孔１６に印加される
負圧をオフとし、残りの４つの吸着体１８Ａ〜１８Ｄの
吸着孔１６にのみ負圧を印加して、ここにワーク３６Ｂ
を吸着するようにセットする。

【００３０】ここで、前記各吸着体１８Ａ〜１８Ｆの円
形中心に対する吸着孔１６の偏心量は、予想される最大
サイズ及び最小サイズのワークと、標準サイズのワーク
３６との寸法差に応じて選択する。この場合、吸着孔１
６の偏心量が大きいほど、多種サイズのワークを吸着す
ることができる。

【００３１】又、この吸着機構付定盤１０においては、
本来各吸着孔に対応して定盤本体１１の裏面１１Ａ側か
ら穿設された下穴２６に連通して円形凹部１４を設けて
いるので、多数の吸着孔及びこれに対応する下穴を形成
する場合のように、定盤本体１１の強度を低下すること
がない。

【００３２】又、従来と比較して、吸着孔１６の数が実
質的に同一であるので、該吸着孔に負圧を印加する負圧
制御系を複雑にすることがない。

【００３３】上記実施の形態の例において、各吸着体１
８Ａ〜１８Ｆにつき１個の吸着孔１６のみが設けられて
いるが、これは複数個設けるようにしてもよい。

【００３４】この場合、例えば図４に示されるように、
吸着体３８の円形中心から偏心量の異なる複数の吸着孔
４０Ａ〜４０Ｉを形成し、且つ、各吸着孔４０Ａ〜４０
Ｉにはめねじ４１を形成し、負圧を印加しない吸着孔に
は、おねじ４２を螺着して閉塞して用いるようにする。

【００３５】従って、吸着体３８の直径を予め大きめに
しておけば、より広い範囲のサイズのワークを吸着する
ことができる。

【００３６】図４において、前記吸着孔４０Ａ〜４０Ｉ
は、吸着体３８に螺旋状に配列しているが、これは、例
えば図５に示されるように、異なる半径の仮想円上に多
数の吸着孔４４を設けた吸着体４６としてもよい。

【００３７】この吸着体４６の場合は、複数の吸着孔４
４Ａ〜４４Ｃによりワークを吸着することができる。

【００３８】前記ステップモータ２４及び吸着体１８
は、円形凹部１４の底面１４Ａに対してリーク防止用パ
ッキン２８を介して固定的に取り付けられているが、こ
の構成では、ステップモータ２４及び吸着体１８から構
成される回転機構にガタが生じたとき、吸着体１８の上
端がワーク載置面１２から飛び出して、ワークの正確な
吸着を阻害する場合がある。

【００３９】このような場合は、図６に示されるよう
に、前記ステップモータ２４を、円形凹部１４の深さ方
向に弾力的に変形可能なリーク防止用パッキン４８を介
して円形凹部１４の底面１４Ａに取り付けるとよい。図
６の符号４９はステップモータ２４と底面１４Ａの間に
配置され、ステップモータ２４の一定以上の下方への変
形を抑制するストッパである。

【００４０】このリーク防止用パッキン４８は、前記下
穴２６内に負圧が導入されたとき、該負圧によってステ
ップモータ２４及び吸着体１８が図において下方に吸引
されて、弾力的に変形され、吸着体１８の上面（吸着
面）がワーク載置面１２と面位置又はここからわずかに
沈む程度となるように、ストッパ４９を設定しておく。

【００４１】又、上記実施の形態の例において、ステッ
プモータ２４はその出力軸２５が回転する構成である
が、本発明はこれに限定されるものでなく、これはドラ
ムモータとして、軸を定盤本体１１側に固定し、吸着体
１８と一体のケーシング（ドラム）が回転するようにし
てもよい。

【００４２】又、上記実施の形態ではモータにより吸着
体の回転方向の角度位置を変更するようにしているが、
これは手動により変更するようにしてもよい。

【００４３】

【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、ワ
ーク載置面に多数の吸着孔を形成することなく、複数種
類の寸法のワークを確実に吸着することができるという
優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る吸着機構付定盤を示
す一部ブロック図を含む斜視図

【図２】同吸着機構付定盤の要部を拡大して示す断面図

【図３】同吸着機構付定盤の制御系を示すブロック図

【図４】同吸着機構付定盤に用いる吸着体の変形例を示
す斜視図

【図５】吸着体の他の変形例を示す平面図

【図６】本発明の他の実施の形態の例に係る吸着機構付
定盤の要部を示す図２と同様の断面図

【図７】従来の吸着機構付定盤を示す平面図

【符号の説明】

１０…吸着機構付定盤 １１…定盤本体 １１Ａ…裏面 １２…ワーク載置面 １４…円形凹部 １６…吸着孔 １８、１８Ａ〜１８Ｆ、３８、４０…吸着体 ２０…負圧源 ２２…負圧管路 ２４、（２４Ａ〜２４Ｆ）…ステップモータ ２６…下穴 ３２…制御装置 ３６、３６Ａ、３６Ｂ…ワーク ４０Ａ〜４０Ｉ、４４Ａ〜４４Ｃ…吸着孔

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ワーク載置面に、ワークを負圧により吸着
   固定するための複数の吸着孔を備えた吸着機構付定盤に
   おいて、前記ワーク載置面に複数の円形凹部を形成し、
   この円形凹部に、厚さが、前記円形凹部の深さ以下の円
   板状部材であって、その円形中心から偏心した位置に少
   なくとも１個の吸着孔が形成された吸着体を、前記ワー
   ク載置面と平行な面内で回転自在に嵌合すると共に、こ
   の吸着体の吸着孔に負圧を伝達する負圧伝達手段を設け
   たことを特徴とする吸着機構付定盤。
2. 【請求項２】請求項１において、前記吸着体における前
   記吸着孔を上端が前記ワーク載置面よりも低い栓体によ
   り閉塞自在としたことを特徴とする吸着機構付定盤。
3. 【請求項３】請求項１又は２において、前記円形凹部
   は、前記吸着穴の下方位置で、定盤本体に、その裏面側
   から穿設された下穴と同軸的、且つ、下穴径よりも大き
   い内径で形成されたことを特徴とする吸着機構付定盤。
4. 【請求項４】請求項１、２又は３において、前記吸着体
   を、これを回転駆動するモータと共に前記円形凹部内に
   配置し、前記モータを制御することにより前記吸着体の
   円形凹部内における回転方向の位置決め自在としたこと
   を特徴とする吸着機構付定盤。