JPH1190301A - Surface plate with suction mechanism - Google Patents
Surface plate with suction mechanismInfo
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- JPH1190301A JPH1190301A JP25319197A JP25319197A JPH1190301A JP H1190301 A JPH1190301 A JP H1190301A JP 25319197 A JP25319197 A JP 25319197A JP 25319197 A JP25319197 A JP 25319197A JP H1190301 A JPH1190301 A JP H1190301A
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明はノズルから吐出す
る塗工液をプラズマディスプレイパネル等の基板等に塗
布する際に、基板等を吸着保持するに用いて好適な吸着
機構付定盤に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface plate with a suction mechanism suitable for holding a substrate or the like when applying a coating liquid discharged from a nozzle to a substrate such as a plasma display panel.
【0002】[0002]
【従来の技術】ガス放電パネルであるプラズマディスプ
レイパネルは、2枚の基板に挟まれた微小な放電空間と
してのセルを多数備え、セル毎に放電して発光するか、
生じた紫外線により蛍光体を発光させて、所定の色の画
素を構成するようにされている。2. Description of the Related Art A plasma display panel, which is a gas discharge panel, has a large number of cells as a minute discharge space sandwiched between two substrates, and emits light by discharging each cell.
The fluorescent material is caused to emit light by the generated ultraviolet light, so that pixels of a predetermined color are formed.
【0003】前記微小なセル間には、各セル間における
光のクロストーク(混線)を防ぐため、及び同基板間の
間隔を一定に保つために障壁が設けられている。[0003] Barriers are provided between the minute cells to prevent light crosstalk (crosstalk) between the cells and to keep the distance between the substrates constant.
【0004】プラズマディスプレイパネルでは、放電空
間をできるだけ大きくし、高輝度の発光を得るために、
前記障壁が垂直に切り立ち、幅が狭く且つ高いことが要
求される。特に高精細のディスプレイでは、高さ100
μmに対して、幅30〜50μmといった高アスペクト
比の障壁が必要とされている。In a plasma display panel, in order to make the discharge space as large as possible and obtain high-luminance light,
The barrier is required to be vertically cut, narrow and high. In particular, for a high-definition display, a height of 100
A barrier having a high aspect ratio such as 30 to 50 μm in width is required for μm.
【0005】前記のようなプラズマディスプレイパネル
における障壁の形成方法として、本出願人は、必要とさ
れるエリアのみに1回の塗布により、必要厚さで、且つ
表面に凹凸が少なく、周辺部まで膜厚が均一な塗工面が
得られるノズル塗布方法及び装置を特開平9−9213
4号により提案した。As a method of forming a barrier in a plasma display panel as described above, the present applicant has applied a single coating to only a required area, and has a required thickness, a small surface unevenness, and a peripheral portion. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-9213 discloses a nozzle coating method and apparatus capable of obtaining a coating surface having a uniform film thickness.
No. 4 proposed.
【0006】この発明は、被塗工物の平面状の塗布面に
対して離間した状態で、塗工液容器下端のノズル先端か
ら塗工液を吐出しつつ、前記塗布面に対してこれと平行
に、該ノズルを相対的に移動させて、塗布面に塗工液を
ライン状に塗布し、次の塗布ラインの幅方向の一部が先
の塗布ラインに幅方向に重なるように順次繰り返して塗
布することにより塗工面を形成することを特徴とするも
のである。According to the present invention, a coating liquid is discharged from a nozzle tip at a lower end of a coating liquid container while being separated from a flat coating surface of an object to be coated, and the coating liquid is discharged to the coating surface from the nozzle tip. In parallel, the nozzle is relatively moved, and the coating liquid is applied in a line on the application surface, and is sequentially repeated so that a part of the next application line in the width direction overlaps the previous application line in the width direction. A coating surface is formed by applying the coating solution.
【0007】上記のようなノズル塗布装置において、被
塗工物である基板は、塗工時において高い平面度が要求
されるため、例えば図7に示されるように、負圧が印加
される複数の吸着孔1が形成されたみかげ石等の定盤2
上に、基板を負圧により吸着保持して、その平面度を高
く維持するようにしている。In the above-described nozzle coating apparatus, a substrate to be coated is required to have a high flatness at the time of coating. Therefore, for example, as shown in FIG. Surface plate 2 made of granite or the like with adsorption holes 1 formed
Above, the substrate is sucked and held by the negative pressure so that its flatness is maintained at a high level.
【0008】図7の符号3は、前記吸着孔1に負圧を導
入するために、定盤2の裏面側から穿設された吸着孔用
下穴を示す。Reference numeral 3 in FIG. 7 denotes a pilot hole for a suction hole drilled from the back side of the platen 2 to introduce a negative pressure into the suction hole 1.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】上記のような定盤2
に、例えばプラズマディスプレイパネル用の基板4を吸
着しようとする場合、反り等を防止して直平面状にする
ために、図7に示されるように、基板4の四隅の位置で
吸着孔1により吸着するのが望ましい。The platen 2 as described above
For example, when the substrate 4 for a plasma display panel is to be sucked, as shown in FIG. It is desirable to adsorb.
【0010】しかしながら、基板のサイズが異なる場
合、特に定盤2の制作後に想定されていなかったサイズ
の基板を吸着する場合がある。例えば、図7において符
号4Aで示されるように、前記基板4よりもやや大きい
場合、該基板4Aの四隅から内側位置で吸着孔1によっ
て吸着しなければ、吸着孔1の外側の部分、特に四隅部
分に反りが発生し易い。However, when the sizes of the substrates are different, there is a case where a substrate of a size which is not expected after the production of the platen 2 is attracted. For example, as shown by reference numeral 4A in FIG. 7, if the substrate is slightly larger than the substrate 4 and if the substrate 4A is not sucked by the suction hole 1 at the inner position from the four corners, the outer portion of the suction hole 1 and particularly the four corners Warpage is likely to occur in the part.
【0011】このような場合、定盤2に予め多数の吸着
孔1を形成しておけばよいが、このようにすると、各吸
着孔1毎に径の大きい吸着孔用下穴3を形成しなければ
ならず、定盤2の剛性が低下することによって平面度が
低下するという問題点を生じる。In such a case, a large number of suction holes 1 may be formed in the surface plate 2 in advance. In this case, a large diameter suction hole preparation hole 3 is formed for each suction hole 1. Therefore, there is a problem in that the rigidity of the base 2 is reduced and the flatness is reduced.
【0012】更に、定盤2に多数の吸着孔1を設ける
と、当然基板の大きさに応じて負圧を印加する吸着孔を
変更しなければならず、この負圧のオン・オフ又は切換
えのために多数の配管を必要とし、更に、各配管の切換
えの際の操作が煩雑であり、操作ミスの原因となるとい
う問題点がある。Further, if a large number of suction holes 1 are provided in the surface plate 2, it is necessary to change the suction holes for applying a negative pressure according to the size of the substrate. For this reason, a large number of pipes are required, and furthermore, the operation for switching each pipe is complicated, which causes an operation error.
【0013】この発明は上記従来の問題点に鑑みてなさ
れたものであって、多数の吸着孔を形成することによっ
て定盤の剛性を低下したりすることなく、又、複雑な負
圧管路の配置、切換弁の操作を要することなく、基板等
のワークを容易確実に吸着保持することができるように
した吸着機構付定盤を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and does not reduce the rigidity of the platen by forming a large number of suction holes. An object of the present invention is to provide a surface plate with a suction mechanism that can easily and reliably suction and hold a work such as a substrate without requiring an operation of an arrangement and a switching valve.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】この発明は、請求項1の
ように、ワーク載置面に、ワークを負圧により吸着固定
するための複数の吸着孔を備えた吸着機構付定盤におい
て、前記ワーク載置面に複数の円形凹部を形成し、この
円形凹部に、厚さが、前記円形凹部の深さ以下の円板状
部材であって、その円形中心から偏心した位置に少なく
とも1個の吸着孔が形成された吸着体を、前記ワーク載
置面と平行な面内で回転自在に嵌合すると共に、この吸
着体の吸着孔に負圧を伝達する負圧伝達手段を設けたこ
とを特徴とする吸着機構付定盤により、上記目的を達成
するものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a surface plate with a suction mechanism having a plurality of suction holes for suction-fixing a work by negative pressure on a work mounting surface. A plurality of circular concave portions are formed on the work mounting surface, and a thickness of the circular concave portion is equal to or less than the depth of the circular concave portion. The suction body having the suction hole formed therein is rotatably fitted in a plane parallel to the work mounting surface, and negative pressure transmitting means for transmitting a negative pressure to the suction hole of the suction body is provided. The above object is achieved by a surface plate with an adsorption mechanism characterized by the following.
【0015】請求項2のように、前記吸着体における前
記吸着孔を上端が前記ワーク載置面よりも低い栓体によ
り閉塞自在としてもよい。According to a second aspect of the present invention, the suction hole of the suction body may be closed by a stopper whose upper end is lower than the work mounting surface.
【0016】更に、請求項3のように、前記円形凹部
は、前記吸着穴の下方位置で、定盤本体に、その裏面側
から穿設された下穴と同軸的、且つ、下穴径よりも大き
い内径で形成するようにしてもよい。Further, the circular recess is formed at a position below the suction hole in the base of the platen body, coaxially with a prepared hole formed from the back side thereof, and having a diameter smaller than that of the prepared hole. May be formed with a large inner diameter.
【0017】更に又、請求項4のように、前記吸着体
を、これを回転駆動するモータと共に前記円形凹部内に
配置し、前記モータを制御することにより前記吸着体の
円形凹部内における回転方向の位置決め自在としてもよ
い。Further, as in claim 4, the adsorbing body is disposed in the circular recess together with a motor for rotating the adsorbing body, and the rotation direction of the adsorbing body in the circular recess is controlled by controlling the motor. May be freely positioned.
【0018】この発明においては、吸着孔が、ワーク載
置面で回転自在の吸着体に偏心して設け、この吸着体を
回転自在とすることによって吸着孔の位置を変更するこ
とができ、これによって、多数の吸着孔を設けることな
く、サイズの異なるワークを確実に吸着保持することが
できる。In the present invention, the suction hole is provided eccentrically on the rotatable suction body on the work mounting surface, and the position of the suction hole can be changed by making the suction body rotatable. Thus, works having different sizes can be reliably held by suction without providing a large number of suction holes.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態の例を図
面を参照して詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0020】図1に示されるように、本発明の実施の形
態の例に係る吸着機構付定盤10は、そのワーク載置面
12に、6個の円形凹部14が形成されてなり、これら
円形凹部14内に、各々、円板状部材であって、その円
形中心から偏心した位置に1個の吸着孔16が形成され
た吸着体18A〜18Fがワーク載置面12と平行な面
内で回転自在に嵌合され、各吸着体の吸着孔16には、
負圧源20からの負圧が負圧管路22を介して選択的に
伝達され得るように構成されている。As shown in FIG. 1, a surface plate 10 with a suction mechanism according to an embodiment of the present invention has six circular recesses 14 formed on a work mounting surface 12 thereof. In the circular concave portion 14, adsorbers 18 </ b> A to 18 </ b> F each of which is a disc-shaped member and has one adsorbing hole 16 formed at a position eccentric from the center of the circle are parallel to the workpiece mounting surface 12. And is rotatably fitted in the suction holes 16 of each suction body.
The negative pressure from the negative pressure source 20 can be selectively transmitted through the negative pressure line 22.
【0021】図2に拡大して示されるように、吸着体1
8(吸着体18A〜18Fを総称する場合は吸着体18
と表示する)前記円形凹部14内に、ステップモータ2
4と共に取り付けられ、取付状態で、吸着体18の上面
が、前記ワーク載置面12と面一又はワーク載置面12
よりもわずかに下方位置となるようにされている。As shown in FIG.
8 (the adsorbents 18A to 18F are collectively referred to as adsorbents 18A to 18F).
Step motor 2 is provided in circular recess 14.
4 and, in the mounted state, the upper surface of the adsorbent 18 is flush with the work mounting surface 12 or the work mounting surface 12
Slightly lower than the position.
【0022】図2の符号26は定盤本体11の裏面11
A側から穿設された下穴であり、この下穴26の上端は
前記円形凹部14に連通され、且つ該下穴26の下端
は、前記負圧管路22に接続されている。又、円形凹部
14の内径は下穴26の内径よりも大きくされている。Reference numeral 26 in FIG.
The pilot hole is a drilled hole from the A side. The upper end of the pilot hole 26 communicates with the circular recess 14, and the lower end of the pilot hole 26 is connected to the negative pressure pipeline 22. The inner diameter of the circular recess 14 is larger than the inner diameter of the pilot hole 26.
【0023】前記ステップモータ24は、ゴムあるいは
テフロン(商標)からなるリーク防止用パッキン28を
介して、前記円形凹部14の底面14A上に配置されて
いる。このステップモータ24の出力軸25は、上端及
び下端が解放された中空形状であって、下端は前記下穴
26に連通し、上端は吸着体18を支持すると共に、吸
着体18内に形成された連通孔16Aを介して前記吸着
孔16に連通され、下穴26に導入された負圧を、前記
吸着孔16に伝達できるようにされている。The step motor 24 is disposed on the bottom surface 14A of the circular recess 14 via a leak-proof packing 28 made of rubber or Teflon (trademark). The output shaft 25 of the step motor 24 has a hollow shape with an upper end and a lower end opened. The lower end communicates with the pilot hole 26, and the upper end supports the adsorbent 18 and is formed in the adsorbent 18. The suction hole 16 is communicated with the suction hole 16 through the communication hole 16A so that the negative pressure introduced into the pilot hole 26 can be transmitted to the suction hole 16.
【0024】図1及び図2に示されるように、各下穴2
6には、バルブ30A〜30Fを介して負圧管路22が
接続され、これらバルブ30A〜30Fを選択的に開閉
することによって、吸着孔16に印加される負圧をオン
・オフできるようにされている。As shown in FIGS. 1 and 2, each pilot hole 2
6 is connected to a negative pressure line 22 via valves 30A to 30F. By selectively opening and closing these valves 30A to 30F, the negative pressure applied to the suction hole 16 can be turned on and off. ing.
【0025】これらバルブ30A〜30Fは、図3に示
されるように、制御装置32によってオン・オフ制御さ
れるようになっている。又、制御装置32は、前記各吸
着体18A〜18Fの回転角度を変更するためのステッ
プモータ24A〜24Fを制御し、更に、負圧源20か
らの負圧を負圧管路22全体への負圧の供給をオン・オ
フするためのバルブ34及び負圧源20を制御できるよ
うにされている。As shown in FIG. 3, these valves 30A to 30F are controlled on / off by a control device 32. The control device 32 controls the step motors 24A to 24F for changing the rotation angles of the adsorbers 18A to 18F. The valve 34 for turning on / off the supply of pressure and the negative pressure source 20 can be controlled.
【0026】この吸着機構付定盤10のワーク載置面1
2に例えば基板からなるワーク36を吸着する場合、こ
れが標準サイズのときは、図1において実線で示される
ように、各吸着体18A〜18Fの吸着孔16が、ワー
ク36の下側面となり、特に四隅の吸着体18A、18
B、18E、18Fの吸着孔16がワーク36の四隅で
その下側となる位置にセットする。The work mounting surface 1 of the platen 10 with the suction mechanism
For example, when a workpiece 36 made of a substrate is attracted to the workpiece 2, when the workpiece 36 is of a standard size, as shown by a solid line in FIG. Adsorbers 18A, 18 at four corners
The suction holes 16 of B, 18E, and 18F are set at positions below the four corners of the work 36.
【0027】これに対してワーク36よりも僅かに大き
いワーク36Aを吸着する場合は、制御装置32により
各ステップモータ24A〜24Fを制御して、吸着体1
8A〜18Fの吸着孔16が、前記ワーク36の外形線
よりも外側で、且つワーク36Aの外形線よりも内側位
置となるように約180°回転してセットする。On the other hand, when adsorbing a work 36A slightly larger than the work 36, the controller 32 controls each of the stepping motors 24A to 24F so that the adsorbent 1
The suction holes 16 of 8A to 18F are set by being rotated by about 180 ° so that they are located outside the outline of the work 36 and inside the outline of the work 36A.
【0028】図1の符号17は、ワーク載置面12の中
心位置に形成された固定吸着孔を示す。この固定吸着孔
17は、ワークのサイズに関係無く、常に負圧が印加さ
れなければならないので、その位置を変更する必要がな
い。Reference numeral 17 in FIG. 1 denotes a fixed suction hole formed at the center of the work mounting surface 12. A negative pressure must always be applied to the fixed suction hole 17 irrespective of the size of the work, so that its position does not need to be changed.
【0029】なお、例えば標準サイズのワーク36の半
分程度の面積のワーク36Bの場合は、図1において2
つの吸着体18E及び18Fの吸着孔16に印加される
負圧をオフとし、残りの4つの吸着体18A〜18Dの
吸着孔16にのみ負圧を印加して、ここにワーク36B
を吸着するようにセットする。For example, in the case of a work 36B having an area about half of that of the standard-sized work 36, in FIG.
The negative pressure applied to the suction holes 16 of the four adsorbers 18E and 18F is turned off, and a negative pressure is applied only to the suction holes 16 of the remaining four adsorbers 18A to 18D.
Is set to adsorb.
【0030】ここで、前記各吸着体18A〜18Fの円
形中心に対する吸着孔16の偏心量は、予想される最大
サイズ及び最小サイズのワークと、標準サイズのワーク
36との寸法差に応じて選択する。この場合、吸着孔1
6の偏心量が大きいほど、多種サイズのワークを吸着す
ることができる。Here, the amount of eccentricity of the suction hole 16 with respect to the circular center of each of the suction bodies 18A to 18F is selected according to the dimensional difference between the expected maximum size and minimum size work and the standard size work 36. I do. In this case, the suction hole 1
The larger the amount of eccentricity of 6, the more the work of various sizes can be sucked.
【0031】又、この吸着機構付定盤10においては、
本来各吸着孔に対応して定盤本体11の裏面11A側か
ら穿設された下穴26に連通して円形凹部14を設けて
いるので、多数の吸着孔及びこれに対応する下穴を形成
する場合のように、定盤本体11の強度を低下すること
がない。In the surface plate 10 with the suction mechanism,
Originally, the circular concave portion 14 is provided so as to communicate with the prepared hole 26 formed from the back surface 11A side of the platen body 11 corresponding to each of the suction holes, so that a large number of suction holes and the corresponding prepared holes are formed. In this case, the strength of the platen body 11 does not decrease.
【0032】又、従来と比較して、吸着孔16の数が実
質的に同一であるので、該吸着孔に負圧を印加する負圧
制御系を複雑にすることがない。Further, since the number of the suction holes 16 is substantially the same as in the conventional case, the negative pressure control system for applying a negative pressure to the suction holes is not complicated.
【0033】上記実施の形態の例において、各吸着体1
8A〜18Fにつき1個の吸着孔16のみが設けられて
いるが、これは複数個設けるようにしてもよい。In the example of the above embodiment, each adsorbent 1
Although only one suction hole 16 is provided for each of 8A to 18F, a plurality of suction holes 16 may be provided.
【0034】この場合、例えば図4に示されるように、
吸着体38の円形中心から偏心量の異なる複数の吸着孔
40A〜40Iを形成し、且つ、各吸着孔40A〜40
Iにはめねじ41を形成し、負圧を印加しない吸着孔に
は、おねじ42を螺着して閉塞して用いるようにする。In this case, for example, as shown in FIG.
A plurality of suction holes 40A to 40I having different amounts of eccentricity are formed from the circular center of the suction body 38, and each of the suction holes 40A to 40I is formed.
A female screw 41 is formed in I, and a male screw 42 is screwed into a suction hole to which a negative pressure is not applied to be used.
【0035】従って、吸着体38の直径を予め大きめに
しておけば、より広い範囲のサイズのワークを吸着する
ことができる。Therefore, if the diameter of the suction body 38 is made large in advance, it is possible to suction a work in a wider range.
【0036】図4において、前記吸着孔40A〜40I
は、吸着体38に螺旋状に配列しているが、これは、例
えば図5に示されるように、異なる半径の仮想円上に多
数の吸着孔44を設けた吸着体46としてもよい。In FIG. 4, the suction holes 40A to 40I
Are spirally arranged on the adsorbing body 38, but may be an adsorbing body 46 in which a large number of suction holes 44 are provided on virtual circles having different radii as shown in FIG. 5, for example.
【0037】この吸着体46の場合は、複数の吸着孔4
4A〜44Cによりワークを吸着することができる。In the case of this adsorbent 46, a plurality of adsorption holes 4
The work can be sucked by 4A to 44C.
【0038】前記ステップモータ24及び吸着体18
は、円形凹部14の底面14Aに対してリーク防止用パ
ッキン28を介して固定的に取り付けられているが、こ
の構成では、ステップモータ24及び吸着体18から構
成される回転機構にガタが生じたとき、吸着体18の上
端がワーク載置面12から飛び出して、ワークの正確な
吸着を阻害する場合がある。Step motor 24 and adsorbent 18
Is fixedly attached to the bottom surface 14A of the circular concave portion 14 through a leak-preventing packing 28. In this configuration, the rotation mechanism constituted by the step motor 24 and the adsorbent 18 has looseness. At this time, the upper end of the adsorbent 18 may protrude from the work mounting surface 12 and hinder accurate suction of the work.
【0039】このような場合は、図6に示されるよう
に、前記ステップモータ24を、円形凹部14の深さ方
向に弾力的に変形可能なリーク防止用パッキン48を介
して円形凹部14の底面14Aに取り付けるとよい。図
6の符号49はステップモータ24と底面14Aの間に
配置され、ステップモータ24の一定以上の下方への変
形を抑制するストッパである。In such a case, as shown in FIG. 6, the step motor 24 is connected to the bottom surface of the circular recess 14 via a leak-preventing packing 48 which can be elastically deformed in the depth direction of the circular recess 14. It is good to attach to 14A. Reference numeral 49 in FIG. 6 is a stopper that is disposed between the step motor 24 and the bottom surface 14A and that suppresses downward deformation of the step motor 24 beyond a certain level.
【0040】このリーク防止用パッキン48は、前記下
穴26内に負圧が導入されたとき、該負圧によってステ
ップモータ24及び吸着体18が図において下方に吸引
されて、弾力的に変形され、吸着体18の上面(吸着
面)がワーク載置面12と面位置又はここからわずかに
沈む程度となるように、ストッパ49を設定しておく。When a negative pressure is introduced into the pilot hole 26, the stepping motor 24 and the adsorbent 18 are sucked downward in FIG. The stopper 49 is set so that the upper surface (adsorbing surface) of the adsorbing member 18 is located at a position relative to the work mounting surface 12 or slightly below it.
【0041】又、上記実施の形態の例において、ステッ
プモータ24はその出力軸25が回転する構成である
が、本発明はこれに限定されるものでなく、これはドラ
ムモータとして、軸を定盤本体11側に固定し、吸着体
18と一体のケーシング(ドラム)が回転するようにし
てもよい。In the above embodiment, the step motor 24 has a configuration in which the output shaft 25 rotates. However, the present invention is not limited to this. The casing (drum) integrated with the adsorbent 18 may be fixed to the board body 11 side so as to rotate.
【0042】又、上記実施の形態ではモータにより吸着
体の回転方向の角度位置を変更するようにしているが、
これは手動により変更するようにしてもよい。In the above embodiment, the angular position of the adsorbent in the rotation direction is changed by the motor.
This may be changed manually.
【0043】[0043]
【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、ワ
ーク載置面に多数の吸着孔を形成することなく、複数種
類の寸法のワークを確実に吸着することができるという
優れた効果を有する。As described above, the present invention has an excellent effect that a plurality of types of workpieces can be reliably sucked without forming a large number of suction holes on the workpiece mounting surface. Have.
【図1】本発明の実施の形態に係る吸着機構付定盤を示
す一部ブロック図を含む斜視図FIG. 1 is a perspective view including a partial block diagram showing a surface plate with a suction mechanism according to an embodiment of the present invention.
【図2】同吸着機構付定盤の要部を拡大して示す断面図FIG. 2 is an enlarged sectional view showing a main part of the surface plate with the suction mechanism.
【図3】同吸着機構付定盤の制御系を示すブロック図FIG. 3 is a block diagram showing a control system of the surface plate with the suction mechanism.
【図4】同吸着機構付定盤に用いる吸着体の変形例を示
す斜視図FIG. 4 is a perspective view showing a modification of the adsorbent used in the surface plate with the adsorption mechanism.
【図5】吸着体の他の変形例を示す平面図FIG. 5 is a plan view showing another modification of the adsorbent.
【図6】本発明の他の実施の形態の例に係る吸着機構付
定盤の要部を示す図2と同様の断面図FIG. 6 is a sectional view similar to FIG. 2, showing a main part of a surface plate with a suction mechanism according to another embodiment of the present invention;
【図7】従来の吸着機構付定盤を示す平面図FIG. 7 is a plan view showing a conventional surface plate with a suction mechanism.
10…吸着機構付定盤 11…定盤本体 11A…裏面 12…ワーク載置面 14…円形凹部 16…吸着孔 18、18A〜18F、38、40…吸着体 20…負圧源 22…負圧管路 24、(24A〜24F)…ステップモータ 26…下穴 32…制御装置 36、36A、36B…ワーク 40A〜40I、44A〜44C…吸着孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Surface plate with an adsorption mechanism 11 ... Surface plate main body 11A ... Back surface 12 ... Work mounting surface 14 ... Circular recessed part 16 ... Suction hole 18, 18A-18F, 38, 40 ... Adsorbent 20 ... Negative pressure source 22 ... Negative pressure tube Road 24, (24A to 24F) Step motor 26 Prepared hole 32 Control device 36, 36A, 36B Work 40A to 40I, 44A to 44C Suction hole
Claims (4)
固定するための複数の吸着孔を備えた吸着機構付定盤に
おいて、前記ワーク載置面に複数の円形凹部を形成し、
この円形凹部に、厚さが、前記円形凹部の深さ以下の円
板状部材であって、その円形中心から偏心した位置に少
なくとも1個の吸着孔が形成された吸着体を、前記ワー
ク載置面と平行な面内で回転自在に嵌合すると共に、こ
の吸着体の吸着孔に負圧を伝達する負圧伝達手段を設け
たことを特徴とする吸着機構付定盤。1. A platen with a suction mechanism having a plurality of suction holes for suction-fixing a work by negative pressure on the work mounting surface, wherein a plurality of circular concave portions are formed on the work mounting surface.
An adsorber, which is a disc-shaped member having a thickness equal to or less than the depth of the circular recess and having at least one suction hole formed at a position eccentric from the center of the circular recess, is mounted on the workpiece mounting portion. A platen with a suction mechanism, characterized in that the platen is fitted rotatably in a plane parallel to the mounting surface and is provided with negative pressure transmitting means for transmitting a negative pressure to a suction hole of the suction body.
記吸着孔を上端が前記ワーク載置面よりも低い栓体によ
り閉塞自在としたことを特徴とする吸着機構付定盤。2. A platen with a suction mechanism according to claim 1, wherein said suction hole in said suction body is freely closed by a stopper whose upper end is lower than said work mounting surface.
は、前記吸着穴の下方位置で、定盤本体に、その裏面側
から穿設された下穴と同軸的、且つ、下穴径よりも大き
い内径で形成されたことを特徴とする吸着機構付定盤。3. The hole according to claim 1, wherein the circular recess is formed at a position below the suction hole, coaxially with a pilot hole drilled from the back side of the platen body, and having a diameter smaller than that of the pilot hole. A platen with a suction mechanism characterized by having a large inner diameter.
を、これを回転駆動するモータと共に前記円形凹部内に
配置し、前記モータを制御することにより前記吸着体の
円形凹部内における回転方向の位置決め自在としたこと
を特徴とする吸着機構付定盤。4. The adsorbent according to claim 1, 2 or 3, wherein the adsorbent is arranged in the circular recess together with a motor for rotating the adsorber, and the motor is controlled to rotate the adsorbent in the circular recess. A surface plate with a suction mechanism characterized in that it can be freely positioned in any direction.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25319197A JPH1190301A (en) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | Surface plate with suction mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25319197A JPH1190301A (en) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | Surface plate with suction mechanism |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1190301A true JPH1190301A (en) | 1999-04-06 |
Family
ID=17247824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25319197A Pending JPH1190301A (en) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | Surface plate with suction mechanism |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1190301A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010231216A (en) * | 2010-04-23 | 2010-10-14 | Dainippon Printing Co Ltd | Color filter manufacturing method and color filter manufacturing apparatus |
| JP2012033640A (en) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | Chuck table |
| CN109893343A (en) * | 2019-03-26 | 2019-06-18 | 广州市兴世机械制造有限公司 | A kind of transfer deviator of amenities |
| JP2020529741A (en) * | 2017-08-04 | 2020-10-08 | 株洲悍威磁電科技有限公司Hvr Magnetics Co., Ltd | Electric permanent magnet chuck |
-
1997
- 1997-09-18 JP JP25319197A patent/JPH1190301A/en active Pending
Cited By (6)
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| US11728079B2 (en) | 2017-08-04 | 2023-08-15 | Hvr Magnetics Co., Ltd | Electric permanent magnet chuck |
| CN109893343A (en) * | 2019-03-26 | 2019-06-18 | 广州市兴世机械制造有限公司 | A kind of transfer deviator of amenities |
| CN109893343B (en) * | 2019-03-26 | 2023-07-07 | 广州市兴世机械制造有限公司 | Transfer turning device of sanitary articles |
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