JPH09127544A - 投写型画像表示装置 - Google Patents
投写型画像表示装置Info
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- JPH09127544A JPH09127544A JP7280319A JP28031995A JPH09127544A JP H09127544 A JPH09127544 A JP H09127544A JP 7280319 A JP7280319 A JP 7280319A JP 28031995 A JP28031995 A JP 28031995A JP H09127544 A JPH09127544 A JP H09127544A
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- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/001—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes using specific devices not provided for in groups G09G3/02 - G09G3/36, e.g. using an intermediate record carrier such as a film slide; Projection systems; Display of non-alphanumerical information, solely or in combination with alphanumerical information, e.g. digital display on projected diapositive as background
- G09G3/002—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes using specific devices not provided for in groups G09G3/02 - G09G3/36, e.g. using an intermediate record carrier such as a film slide; Projection systems; Display of non-alphanumerical information, solely or in combination with alphanumerical information, e.g. digital display on projected diapositive as background to project the image of a two-dimensional display, such as an array of light emitting or modulating elements or a CRT
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/135—Liquid crystal cells structurally associated with a photoconducting or a ferro-electric layer, the properties of which can be optically or electrically varied
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2320/00—Control of display operating conditions
- G09G2320/02—Improving the quality of display appearance
- G09G2320/0209—Crosstalk reduction, i.e. to reduce direct or indirect influences of signals directed to a certain pixel of the displayed image on other pixels of said image, inclusive of influences affecting pixels in different frames or fields or sub-images which constitute a same image, e.g. left and right images of a stereoscopic display
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 明るく、均一で、残像のない大画面表示が困
難であった。 【解決手段】 空間光変調素子1が、第1の導電性透明
電極3を具備した第1のガラス基板2と、第2の導電性
透明電極3’を具備した第2のガラス基板2’とによっ
て、光導電層4と光反射層5と光変調層6を挟持した構
成であり、かつ光導電層側の第1の導電性透明電極3、
または光変調層側の第2の導電性透明電極の少なくとも
何れか一方が、複数の領域に分離されており、かつ分離
された導電性透明電極の各領域に印加される駆動電圧の
周波数が、画像の垂直走査周波数と概ね同一であって、
分離された導電性透明電極の隣接する領域間における駆
動電圧の位相差が、垂直走査期間から垂直帰線期間を除
いた垂直有効走査期間を領域の数で除した時間に概ね等
しい構成である。
難であった。 【解決手段】 空間光変調素子1が、第1の導電性透明
電極3を具備した第1のガラス基板2と、第2の導電性
透明電極3’を具備した第2のガラス基板2’とによっ
て、光導電層4と光反射層5と光変調層6を挟持した構
成であり、かつ光導電層側の第1の導電性透明電極3、
または光変調層側の第2の導電性透明電極の少なくとも
何れか一方が、複数の領域に分離されており、かつ分離
された導電性透明電極の各領域に印加される駆動電圧の
周波数が、画像の垂直走査周波数と概ね同一であって、
分離された導電性透明電極の隣接する領域間における駆
動電圧の位相差が、垂直走査期間から垂直帰線期間を除
いた垂直有効走査期間を領域の数で除した時間に概ね等
しい構成である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高品位な大画面を
表示する投写型画像表示装置に関する。
表示する投写型画像表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、大画面表示が可能な画像表示装置
の開発が盛んである。従来の直視型テレビでは大型化が
困難であること、また、CRTや薄膜トランジスタ駆動
の液晶パネル(以下、TFT−LCDと略記する)等の
液晶表示装置を用いた投写型画像表示装置では、明るく
しようとすると高解像度化が困難であるという欠点があ
る。そこで、光導電層と光変調層とを組み合わせた光書
き込み型の空間光変調素子を用いた投写型画像表示装置
が注目されている(例えば、Y.タナカ他 ジャパニー
ズ・ジャーナル・オヴ・アプライド・フィジックス第3
3巻(1994年)第3469頁から第3477頁(J
ap.J.Appl.Phys. 33(1994)p
p.3469−3477))。
の開発が盛んである。従来の直視型テレビでは大型化が
困難であること、また、CRTや薄膜トランジスタ駆動
の液晶パネル(以下、TFT−LCDと略記する)等の
液晶表示装置を用いた投写型画像表示装置では、明るく
しようとすると高解像度化が困難であるという欠点があ
る。そこで、光導電層と光変調層とを組み合わせた光書
き込み型の空間光変調素子を用いた投写型画像表示装置
が注目されている(例えば、Y.タナカ他 ジャパニー
ズ・ジャーナル・オヴ・アプライド・フィジックス第3
3巻(1994年)第3469頁から第3477頁(J
ap.J.Appl.Phys. 33(1994)p
p.3469−3477))。
【0003】従来の空間光変調素子の一般的構造を図1
5に示す。この空間光変調素子151は、導電性透明電
極3、3’付きのガラス基板2、2’により、光導電層
4、光反射層5、光変調層6を挟んだ構造である。尚、
光反射層5の間の光導電層4をエッチングし、光吸収層
7を形成している。
5に示す。この空間光変調素子151は、導電性透明電
極3、3’付きのガラス基板2、2’により、光導電層
4、光反射層5、光変調層6を挟んだ構造である。尚、
光反射層5の間の光導電層4をエッチングし、光吸収層
7を形成している。
【0004】従来の空間光変調素子151では、光導電
層4に書き込み光が入力されると、その2次元光強度分
布に応じて、光変調層6に印加される電圧が変化し、光
変調層6がスイッチングする。その結果読み出し光が変
調され、光反射層5により反射後出力される。光吸収層
7は強い読み出し光が光反射層5の間から光導電層4に
入力されるのを防ぐためのものである。
層4に書き込み光が入力されると、その2次元光強度分
布に応じて、光変調層6に印加される電圧が変化し、光
変調層6がスイッチングする。その結果読み出し光が変
調され、光反射層5により反射後出力される。光吸収層
7は強い読み出し光が光反射層5の間から光導電層4に
入力されるのを防ぐためのものである。
【0005】次にこの空間光変調素子を用いた従来の投
写型画像表示装置を図16に示す。画像源8としては、
CRT、TFT−LCD等が用いられ、これらの出力画
像を書き込み光9として書き込みレンズ10により光導
電層4に結像させることで空間光変調素子151への画
像入力を行う。光源11からの読み出し光12は空間光
変調素子151の光変調層6側から入射され、光変調層
6による変調を受け、反射層5により反射された後、再
び光変調層6を通過し出力される。出力光13は可視化
手段14を通して可視化され、投写レンズ15によりス
クリーン16上に拡大投写される。
写型画像表示装置を図16に示す。画像源8としては、
CRT、TFT−LCD等が用いられ、これらの出力画
像を書き込み光9として書き込みレンズ10により光導
電層4に結像させることで空間光変調素子151への画
像入力を行う。光源11からの読み出し光12は空間光
変調素子151の光変調層6側から入射され、光変調層
6による変調を受け、反射層5により反射された後、再
び光変調層6を通過し出力される。出力光13は可視化
手段14を通して可視化され、投写レンズ15によりス
クリーン16上に拡大投写される。
【0006】空間光変調素子151の光導電層4には、
p−i−n構造のアモルファスシリコン、光変調層6と
してはネマチック型液晶、強誘電性液晶などの液晶材料
が用いられている。可視化手段14としては、偏光ビー
ムスプリッタが、光源としてはメタルハライドランプ、
キセノンランプ等が用いられている。
p−i−n構造のアモルファスシリコン、光変調層6と
してはネマチック型液晶、強誘電性液晶などの液晶材料
が用いられている。可視化手段14としては、偏光ビー
ムスプリッタが、光源としてはメタルハライドランプ、
キセノンランプ等が用いられている。
【0007】このような投写型画像表示装置では、光源
の出力を上げ、かつ空間光変調素子への画像入力手段を
高解像度化することにより、明るくかつ高解像度な画像
表示を行うことが原理的には可能である。
の出力を上げ、かつ空間光変調素子への画像入力手段を
高解像度化することにより、明るくかつ高解像度な画像
表示を行うことが原理的には可能である。
【0008】次に従来の空間光変調素子の駆動方法につ
いて説明する。図17は空間光変調素子の一般的な駆動
電圧波形である。駆動電圧は、消去期間と、書き込み期
間からなり、映像の垂直同期信号に同期されて、空間光
変調素子全面に印加される。空間光変調素子は、書き込
み期間に入力された光強度に応じて読み出し光を変調し
光出力する。消去電圧が印加されている期間には、書き
込み光の有無にかかわらず強制的に初期化され、出力は
ゼロとなる。光変調層に応答の早い強誘電性液晶を用い
る場合には、消去電圧印加後数百マイクロ秒後に出力は
ゼロとなる。
いて説明する。図17は空間光変調素子の一般的な駆動
電圧波形である。駆動電圧は、消去期間と、書き込み期
間からなり、映像の垂直同期信号に同期されて、空間光
変調素子全面に印加される。空間光変調素子は、書き込
み期間に入力された光強度に応じて読み出し光を変調し
光出力する。消去電圧が印加されている期間には、書き
込み光の有無にかかわらず強制的に初期化され、出力は
ゼロとなる。光変調層に応答の早い強誘電性液晶を用い
る場合には、消去電圧印加後数百マイクロ秒後に出力は
ゼロとなる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】画像を評価する上で
は、明るさや解像度の他にも、均一性、残像の少なさ等
も重要なパラメータである。ところが図15に示したよ
うな従来の空間光変調素子を用いた投写型画像表示装置
では、明るさ、均一性及び残像の少なさ、の三つをすべ
て同時に満足することが不可能であるという課題があっ
た。
は、明るさや解像度の他にも、均一性、残像の少なさ等
も重要なパラメータである。ところが図15に示したよ
うな従来の空間光変調素子を用いた投写型画像表示装置
では、明るさ、均一性及び残像の少なさ、の三つをすべ
て同時に満足することが不可能であるという課題があっ
た。
【0010】以下、図面を参照しながらその理由を簡単
に説明する。まず、投写画像の明るさ、均一性、残像が
どの様に決定されるか説明する。図18はスクリーン上
に投写された画像の、ある一点における時間応答波形で
ある。画像の明るさは、応答波形の面積、即ちピークの
高さと、1フィールド周期(垂直走査期間)における空
間光変調素子が応答している時間の割合(以下時間開口
率と呼ぶ)の積により決定される。ピークの高さは、光
源の明るさ、集光光学系(不図示)の効率、空間光変調
素子の変調効率等に依存し、時間応答波形は、書き込み
期間に入力される書き込み光強度、及び書き込みが開始
されるタイミングに依存する。均一性を高くするために
は、同一の書き込み光強度に対して、空間光変調素子の
応答波形(ピークの高さと時間開口率)が、画面の中で
均一になればよい。また、残像を小さくするためには、
1フィールド周期毎に入力される入力画像に対して、空
間光変調素子が各フィールド周期毎に忠実に応答するこ
とが必要である。
に説明する。まず、投写画像の明るさ、均一性、残像が
どの様に決定されるか説明する。図18はスクリーン上
に投写された画像の、ある一点における時間応答波形で
ある。画像の明るさは、応答波形の面積、即ちピークの
高さと、1フィールド周期(垂直走査期間)における空
間光変調素子が応答している時間の割合(以下時間開口
率と呼ぶ)の積により決定される。ピークの高さは、光
源の明るさ、集光光学系(不図示)の効率、空間光変調
素子の変調効率等に依存し、時間応答波形は、書き込み
期間に入力される書き込み光強度、及び書き込みが開始
されるタイミングに依存する。均一性を高くするために
は、同一の書き込み光強度に対して、空間光変調素子の
応答波形(ピークの高さと時間開口率)が、画面の中で
均一になればよい。また、残像を小さくするためには、
1フィールド周期毎に入力される入力画像に対して、空
間光変調素子が各フィールド周期毎に忠実に応答するこ
とが必要である。
【0011】次に、従来の投写型画像表示装置では、明
るさ、均一性、残像の少なさをすべて同時に満足させる
ことが困難な理由を、CRTを画像源とした場合を例に
取り説明する。CRTの場合には、電子ビームによりア
ドレスされた直後に蛍光体が発光し、その発光は固有の
時定数で減衰する。すなわち、空間光変調素子のある一
点には時間的に減衰する書き込み光が入力される。
るさ、均一性、残像の少なさをすべて同時に満足させる
ことが困難な理由を、CRTを画像源とした場合を例に
取り説明する。CRTの場合には、電子ビームによりア
ドレスされた直後に蛍光体が発光し、その発光は固有の
時定数で減衰する。すなわち、空間光変調素子のある一
点には時間的に減衰する書き込み光が入力される。
【0012】いま、投写画像の上部、中部、下部の3点
における空間光変調素子の出力を考える。入力信号はN
TSC(1フィールド周期=約16.7ミリ秒)の全白
信号とする。従来の空間光変調素子では、垂直同期信号
に同期されて、消去電圧が素子全面に同時に印加されて
いた。図19は、画面上部における駆動電圧波形(図1
9(a))、書き込み光の時間変化(図19(b))、
空間光変調素子の応答波形(図19(c))である。図
19に示したように投写画面上部では、消去が行われた
後、高々数ミリ秒後には書き込み光が入力されるため
(図19(b))、ほぼ1フィールド周期に渡って空間
光変調素子は応答できる(図19(c))。すなわち時
間開口率を高くできる。
における空間光変調素子の出力を考える。入力信号はN
TSC(1フィールド周期=約16.7ミリ秒)の全白
信号とする。従来の空間光変調素子では、垂直同期信号
に同期されて、消去電圧が素子全面に同時に印加されて
いた。図19は、画面上部における駆動電圧波形(図1
9(a))、書き込み光の時間変化(図19(b))、
空間光変調素子の応答波形(図19(c))である。図
19に示したように投写画面上部では、消去が行われた
後、高々数ミリ秒後には書き込み光が入力されるため
(図19(b))、ほぼ1フィールド周期に渡って空間
光変調素子は応答できる(図19(c))。すなわち時
間開口率を高くできる。
【0013】しかしながら、図20に示したように、投
写画面中央部では消去が行われてから約8ミリ秒後に書
き込まれる(図20(b))。その直後から空間光変調
素子は応答を始めるが、次の垂直同期信号の直後に空間
光変調素子には消去電圧が印加されてしまうため、出力
がゼロとなってしまう。即ち、16.7ミリ秒の内約半
分の時間しか応答できないことになる(時間開口率が高
々50%)。さらに図21に示したように投写画像の下
部では、書き込みが行われた直後に消去が行われるた
め、16.7ミリ秒の間に応答できる時間が非常に短く
なってしまう。
写画面中央部では消去が行われてから約8ミリ秒後に書
き込まれる(図20(b))。その直後から空間光変調
素子は応答を始めるが、次の垂直同期信号の直後に空間
光変調素子には消去電圧が印加されてしまうため、出力
がゼロとなってしまう。即ち、16.7ミリ秒の内約半
分の時間しか応答できないことになる(時間開口率が高
々50%)。さらに図21に示したように投写画像の下
部では、書き込みが行われた直後に消去が行われるた
め、16.7ミリ秒の間に応答できる時間が非常に短く
なってしまう。
【0014】すなわち、書き込み光が入力される時間は
空間光変調素子の場所毎に異なるのに対して、消去電圧
は空間光変調素子全面に同時に印加されるために、書き
込みと消去のタイミングによって時間開口率が空間的に
異なってしまうことになり、均一性が著しく損なわれ、
特に投写画像の下部では暗くなってしまうのである。
空間光変調素子の場所毎に異なるのに対して、消去電圧
は空間光変調素子全面に同時に印加されるために、書き
込みと消去のタイミングによって時間開口率が空間的に
異なってしまうことになり、均一性が著しく損なわれ、
特に投写画像の下部では暗くなってしまうのである。
【0015】時間開口率の均一性を確保するためには、
(1)画面上部の書き込み光強度を弱くし、画面全体の
時間開口率を画面下部と同様に小さくする、(2)CR
Tに用いる蛍光体の残光を長くする、(3)空間光変調
素子の応答速度を遅くする、(4)駆動周波数をフィー
ルド周波数に対して高くする(10倍以上)ことが考え
られる。しかしながら、(1)の場合には画像が暗くな
り、(2)、(3)の手法では、明るくかつ均一性を確
保できても、今度は残像を小さくすることが不可能とな
り、(4)の手法では、ビートが目につき均一性の十分
な確保ができないことに加えて、書き込み光強度を著し
く増加させることが必要になるため、CRTからの原画
像の解像度が低下してしまう。
(1)画面上部の書き込み光強度を弱くし、画面全体の
時間開口率を画面下部と同様に小さくする、(2)CR
Tに用いる蛍光体の残光を長くする、(3)空間光変調
素子の応答速度を遅くする、(4)駆動周波数をフィー
ルド周波数に対して高くする(10倍以上)ことが考え
られる。しかしながら、(1)の場合には画像が暗くな
り、(2)、(3)の手法では、明るくかつ均一性を確
保できても、今度は残像を小さくすることが不可能とな
り、(4)の手法では、ビートが目につき均一性の十分
な確保ができないことに加えて、書き込み光強度を著し
く増加させることが必要になるため、CRTからの原画
像の解像度が低下してしまう。
【0016】例えば、CRTに用いる蛍光体の残光を長
くした場合の、投写画像の明るさを考える。この場合の
投写画像中央部の応答を図22に示す。発光後約8ミリ
秒で一度消去が行われるが、蛍光体の残光が長く、次の
書き込み電圧が印加された時点で十分応答できるだけの
書き込み光が与えられれば、空間光変調素子は再度出力
し、図19で示したようなパネル上部とほぼ同程度の時
間開口率を得ることも可能である。これは、パネル下部
でも同様である。すなわち、書き込まれる光の強度を調
節することにより投写画像のあらゆる場所で時間開口率
を同一にすることは原理的には可能である。
くした場合の、投写画像の明るさを考える。この場合の
投写画像中央部の応答を図22に示す。発光後約8ミリ
秒で一度消去が行われるが、蛍光体の残光が長く、次の
書き込み電圧が印加された時点で十分応答できるだけの
書き込み光が与えられれば、空間光変調素子は再度出力
し、図19で示したようなパネル上部とほぼ同程度の時
間開口率を得ることも可能である。これは、パネル下部
でも同様である。すなわち、書き込まれる光の強度を調
節することにより投写画像のあらゆる場所で時間開口率
を同一にすることは原理的には可能である。
【0017】しかしながら、全白信号に続いて、次のフ
ィールドに異なる信号(例えば全黒信号)が入力された
場合には、信号の変化に対して空間光変調素子は忠実に
応答することが不可能となる。この様子を投写画像中央
部の応答波形を表した図23により説明する。図23
(b)のようにCRTの蛍光体の残光が長いために、空
間光変調素子は応答後8ミリ秒後の消去電圧によりリセ
ットされた後に再度応答する(図23(c))。ところ
が、次の消去が行われるのはさらに16.7ミリ秒後で
あるため、本来黒を表示すべき時刻においても空間光変
調素子は応答したままとなる。すなわち、約8ミリ秒の
残像が生じてしまうことになる。その結果、白黒が1フ
ィールド周期毎に繰り返されるフリッカ信号が連続して
入力された場合には、図24に示したように空間光変調
素子の出力は白黒のフリッカではなく、中間調の繰り返
しとなるのである。
ィールドに異なる信号(例えば全黒信号)が入力された
場合には、信号の変化に対して空間光変調素子は忠実に
応答することが不可能となる。この様子を投写画像中央
部の応答波形を表した図23により説明する。図23
(b)のようにCRTの蛍光体の残光が長いために、空
間光変調素子は応答後8ミリ秒後の消去電圧によりリセ
ットされた後に再度応答する(図23(c))。ところ
が、次の消去が行われるのはさらに16.7ミリ秒後で
あるため、本来黒を表示すべき時刻においても空間光変
調素子は応答したままとなる。すなわち、約8ミリ秒の
残像が生じてしまうことになる。その結果、白黒が1フ
ィールド周期毎に繰り返されるフリッカ信号が連続して
入力された場合には、図24に示したように空間光変調
素子の出力は白黒のフリッカではなく、中間調の繰り返
しとなるのである。
【0018】このような残像は、動画像の解像度を著し
く低下させ、例えば画像の中の動く物体が尾を引くよう
に見えて、観察者に非常に大きな違和感を与えてしまう
ことになるのである。尚、空間光変調素子の応答を遅く
することも同様であり、時間開口率の均一性を確保した
場合には残像が大きくなる。
く低下させ、例えば画像の中の動く物体が尾を引くよう
に見えて、観察者に非常に大きな違和感を与えてしまう
ことになるのである。尚、空間光変調素子の応答を遅く
することも同様であり、時間開口率の均一性を確保した
場合には残像が大きくなる。
【0019】以上のように、従来の空間光変調素子を用
いた投写型画像表示装置では、明るさ、均一性、残像の
少なさを同時に満足することが不可能であった。
いた投写型画像表示装置では、明るさ、均一性、残像の
少なさを同時に満足することが不可能であった。
【0020】本発明は上記課題を解決し、明るく、かつ
均一性が高く、かつ残像のきわめて少ない画像表示が可
能な投写型画像表示装置を提供することを目的とする。
均一性が高く、かつ残像のきわめて少ない画像表示が可
能な投写型画像表示装置を提供することを目的とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の投写型画像表示装置は、少なくとも、空間
光変調素子と、前記空間光変調素子に入力する画像を時
系列な走査により表示する画像源を具備しており、前記
空間光変調素子が、第1の導電性透明電極を具備した第
1のガラス基板と、第2の導電性透明電極を具備した第
2のガラス基板とによって、少なくとも光導電層と光反
射層と光変調層を挟持した構成であり、かつ前記光導電
層側の前記第1の導電性透明電極、若しくは前記光変調
層側の前記第2の導電性透明電極の少なくとも何れか一
方が、複数の領域に分離されており、かつ分離された第
1若しくは第2の導電性透明電極の各領域に印加される
駆動電圧の周波数が、前記画像の垂直走査周波数と概ね
同一であって、分離された前記第1若しくは第2の導電
性透明電極の隣接する領域間における前記駆動電圧の位
相差が、垂直走査期間から垂直帰線期間を除いた垂直有
効走査期間を領域の数で除した時間に概ね等しいことを
特徴とする。
に、本発明の投写型画像表示装置は、少なくとも、空間
光変調素子と、前記空間光変調素子に入力する画像を時
系列な走査により表示する画像源を具備しており、前記
空間光変調素子が、第1の導電性透明電極を具備した第
1のガラス基板と、第2の導電性透明電極を具備した第
2のガラス基板とによって、少なくとも光導電層と光反
射層と光変調層を挟持した構成であり、かつ前記光導電
層側の前記第1の導電性透明電極、若しくは前記光変調
層側の前記第2の導電性透明電極の少なくとも何れか一
方が、複数の領域に分離されており、かつ分離された第
1若しくは第2の導電性透明電極の各領域に印加される
駆動電圧の周波数が、前記画像の垂直走査周波数と概ね
同一であって、分離された前記第1若しくは第2の導電
性透明電極の隣接する領域間における前記駆動電圧の位
相差が、垂直走査期間から垂直帰線期間を除いた垂直有
効走査期間を領域の数で除した時間に概ね等しいことを
特徴とする。
【0022】本発明の投写型画像表示装置では、時系列
な走査により画像を表示する画像源からの書き込み光を
空間光変調素子に入力する。空間光変調素子は、光導電
層側、若しくは光変調層側のどちらか一方の導電性透明
電極を、画像の水平走査方向と概ね平行に帯状に分離
し、複数の領域を形成している。そして、消去電圧印加
直後に書き込み光が入力されるように、各領域毎に消去
電圧印加のタイミングをずらす。
な走査により画像を表示する画像源からの書き込み光を
空間光変調素子に入力する。空間光変調素子は、光導電
層側、若しくは光変調層側のどちらか一方の導電性透明
電極を、画像の水平走査方向と概ね平行に帯状に分離
し、複数の領域を形成している。そして、消去電圧印加
直後に書き込み光が入力されるように、各領域毎に消去
電圧印加のタイミングをずらす。
【0023】その結果、全ての領域において1フィール
ド周期の大部分の期間で空間光変調素子が応答できるの
で、全ての領域において時間開口率を高くする(明るい
画像表示を行う)ことが可能となる。しかも消去電圧の
印加と書き込みが行われる時間差を全ての領域において
同一にする事ができるので均一性も高くなる。さらに残
光の短い蛍光体を用いて書き込んでも均一性は損なわれ
ないので、1フィールド周期内で空間光変調素子の閾値
以下に十分減衰する短残光の蛍光体により書き込むこと
で、残像をきわめて小さくすることが可能となる。すな
わち、本発明の投写型画像表示装置では、明るさ、均一
性、残像の少なさを同時に満足できるのである。
ド周期の大部分の期間で空間光変調素子が応答できるの
で、全ての領域において時間開口率を高くする(明るい
画像表示を行う)ことが可能となる。しかも消去電圧の
印加と書き込みが行われる時間差を全ての領域において
同一にする事ができるので均一性も高くなる。さらに残
光の短い蛍光体を用いて書き込んでも均一性は損なわれ
ないので、1フィールド周期内で空間光変調素子の閾値
以下に十分減衰する短残光の蛍光体により書き込むこと
で、残像をきわめて小さくすることが可能となる。すな
わち、本発明の投写型画像表示装置では、明るさ、均一
性、残像の少なさを同時に満足できるのである。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明の投写型画像表示装置は、
少なくとも、空間光変調素子と、前記空間光変調素子に
入力する画像を時系列な走査により表示する画像源を具
備しており、前記空間光変調素子が、第1の導電性透明
電極を具備した第1のガラス基板と、第2の導電性透明
電極を具備した第2のガラス基板とによって、少なくと
も光導電層と光反射層と光変調層を挟持した構成であ
り、かつ前記光導電層側の前記第1の導電性透明電極、
若しくは前記光変調層側の前記第2の導電性透明電極の
少なくとも何れか一方が、複数の領域に分離されてお
り、かつ分離された第1若しくは第2の導電性透明電極
の各領域に印加される駆動電圧の周波数が、前記画像の
垂直走査周波数と概ね同一であって、分離された前記第
1若しくは第2の導電性透明電極の隣接する領域間にお
ける前記駆動電圧の位相差が、垂直走査期間から垂直帰
線期間を除いた垂直有効走査期間を領域の数で除した時
間に概ね等しいことを特徴とする。
少なくとも、空間光変調素子と、前記空間光変調素子に
入力する画像を時系列な走査により表示する画像源を具
備しており、前記空間光変調素子が、第1の導電性透明
電極を具備した第1のガラス基板と、第2の導電性透明
電極を具備した第2のガラス基板とによって、少なくと
も光導電層と光反射層と光変調層を挟持した構成であ
り、かつ前記光導電層側の前記第1の導電性透明電極、
若しくは前記光変調層側の前記第2の導電性透明電極の
少なくとも何れか一方が、複数の領域に分離されてお
り、かつ分離された第1若しくは第2の導電性透明電極
の各領域に印加される駆動電圧の周波数が、前記画像の
垂直走査周波数と概ね同一であって、分離された前記第
1若しくは第2の導電性透明電極の隣接する領域間にお
ける前記駆動電圧の位相差が、垂直走査期間から垂直帰
線期間を除いた垂直有効走査期間を領域の数で除した時
間に概ね等しいことを特徴とする。
【0025】上記構成において、前記駆動電圧は、前記
空間光変調素子を初期化する消去電圧と、前記空間光変
調素子へ画像を入力する期間に印加される書き込み電圧
からなり、分離された前記第1若しくは第2の導電性透
明電極の各領域において、前記消去電圧が印加されてか
ら画像入力が開始されるまでの時間τが、垂直走査期間
の少なくとも半分以下であることが好ましい。
空間光変調素子を初期化する消去電圧と、前記空間光変
調素子へ画像を入力する期間に印加される書き込み電圧
からなり、分離された前記第1若しくは第2の導電性透
明電極の各領域において、前記消去電圧が印加されてか
ら画像入力が開始されるまでの時間τが、垂直走査期間
の少なくとも半分以下であることが好ましい。
【0026】また、前記空間光変調素子は、前記光導電
層に入力される光強度に対して閾値を有しており、前記
空間光変調素子に入力される画像の光強度は、走査後時
間とともに概ね単調に減衰し、垂直走査期間をtf、垂
直帰線期間をtb、前記導電性透明電極の分離数をnと
したとき、全白信号を表示する際の光強度が前記空間光
変調素子の閾値以下に減衰するまでの時間Tは、(数
1)を満たすことが好ましい。
層に入力される光強度に対して閾値を有しており、前記
空間光変調素子に入力される画像の光強度は、走査後時
間とともに概ね単調に減衰し、垂直走査期間をtf、垂
直帰線期間をtb、前記導電性透明電極の分離数をnと
したとき、全白信号を表示する際の光強度が前記空間光
変調素子の閾値以下に減衰するまでの時間Tは、(数
1)を満たすことが好ましい。
【0027】 (数1) T<tf−τ−(tf−tb)/n また、分離された前記第1若しくは第2の導電性透明電
極の複数の領域のうち、少なくとも一つの領域に対す
る、消去電圧、若しくは書き込み電圧、若しくは消去電
圧印加期間の少なくとも何れか一つが、他の領域と異な
ることが好ましい。
極の複数の領域のうち、少なくとも一つの領域に対す
る、消去電圧、若しくは書き込み電圧、若しくは消去電
圧印加期間の少なくとも何れか一つが、他の領域と異な
ることが好ましい。
【0028】また、前記画像源の一部にCRTもしくは
液晶表示装置を用いることが好ましい。また、前記画像
源の一部に、レーザー光発生手段、及び前記レーザー光
を走査させる走査手段を用いることが好ましい。
液晶表示装置を用いることが好ましい。また、前記画像
源の一部に、レーザー光発生手段、及び前記レーザー光
を走査させる走査手段を用いることが好ましい。
【0029】また、前記空間光変調素子の前記光反射層
が複数の画素に分離されていることが好ましい。
が複数の画素に分離されていることが好ましい。
【0030】また、前記空間光変調素子の前記第1の導
電性透明電極は、入力される画像の水平走査方向と概ね
平行に分離されていることが好ましい。
電性透明電極は、入力される画像の水平走査方向と概ね
平行に分離されていることが好ましい。
【0031】また、前記空間光変調素子の前記光反射層
が複数の画素に分離されており、かつ前記第1の導電性
透明電極が分離される境界が、前記光反射層の分離され
る境界の一部と概ね一致することが好ましい。
が複数の画素に分離されており、かつ前記第1の導電性
透明電極が分離される境界が、前記光反射層の分離され
る境界の一部と概ね一致することが好ましい。
【0032】また、前記空間光変調素子の前記第1の導
電性透明電極が分離されている境界部に第1の絶縁層を
具備することが好ましい。
電性透明電極が分離されている境界部に第1の絶縁層を
具備することが好ましい。
【0033】また、前記空間光変調素子の前記光導電層
へ入力される光の一部を遮光する遮光層を、前記第1の
導電性透明電極が分離される境界部に具備することが好
ましい。
へ入力される光の一部を遮光する遮光層を、前記第1の
導電性透明電極が分離される境界部に具備することが好
ましい。
【0034】また、前記空間光変調素子の前記遮光層が
導電性を有しており、前記遮光層と前記第1の導電性電
極を電気的に絶縁する第2の絶縁層を、前記遮光層と前
記第1の導電性透明電極の間に具備することが好まし
い。
導電性を有しており、前記遮光層と前記第1の導電性電
極を電気的に絶縁する第2の絶縁層を、前記遮光層と前
記第1の導電性透明電極の間に具備することが好まし
い。
【0035】また、前記空間光変調素子の前記光導電層
の厚さは、前記第1の導電性透明電極の厚さの100倍
以内であることが好ましい。
の厚さは、前記第1の導電性透明電極の厚さの100倍
以内であることが好ましい。
【0036】また、前記空間光変調素子の前記第1の導
電性透明電極が分離されてなる領域の数が、2以上20
00以下であることが好ましい。
電性透明電極が分離されてなる領域の数が、2以上20
00以下であることが好ましい。
【0037】また、前記空間光変調素子の分離された前
記第1の導電性透明電極に対して、入力される画像の水
平走査方向と同じ方向に位置する両端から電圧を印加す
ることが好ましい。
記第1の導電性透明電極に対して、入力される画像の水
平走査方向と同じ方向に位置する両端から電圧を印加す
ることが好ましい。
【0038】また、前記空間光変調素子において、前記
第2の導電性透明電極が、入力される画像の水平走査方
向と概ね平行に分離されていてもよい。
第2の導電性透明電極が、入力される画像の水平走査方
向と概ね平行に分離されていてもよい。
【0039】上記構成においては、前記空間光変調素子
の前記光反射層が複数の画素に分離されており、かつ前
記第2の導電性透明電極が分離される境界が、前記光反
射層の分離される境界の一部と概ね一致することが好ま
しい。
の前記光反射層が複数の画素に分離されており、かつ前
記第2の導電性透明電極が分離される境界が、前記光反
射層の分離される境界の一部と概ね一致することが好ま
しい。
【0040】また、前記空間光変調素子の前記第2の導
電性透明電極が分離されている境界部に第3の絶縁層を
具備することが好ましい。
電性透明電極が分離されている境界部に第3の絶縁層を
具備することが好ましい。
【0041】また、前記空間光変調素子の前記第3の絶
縁層が光吸収性もしくは光反射性を有することが好まし
い。
縁層が光吸収性もしくは光反射性を有することが好まし
い。
【0042】また、前記空間光変調素子の前記第2の導
電性透明電極が分離される境界部に導電層を具備してお
り、且つ、前記第2の導電性透明電極と前記導電層を電
気的に絶縁する第4の絶縁層を前記導電層と前記第2の
導電性透明電極の間に具備することが好ましい。
電性透明電極が分離される境界部に導電層を具備してお
り、且つ、前記第2の導電性透明電極と前記導電層を電
気的に絶縁する第4の絶縁層を前記導電層と前記第2の
導電性透明電極の間に具備することが好ましい。
【0043】また、前記空間光変調素子の前記導電層が
光吸収性もしくは光反射性を有することが好ましい。ま
た、前記空間光変調素子の前記導電層及び前記第4の絶
縁層が透明であり、かつ隣接する第2の導電性透明電極
のどちらか一方と同電位の駆動電圧を印加されることが
好ましい。
光吸収性もしくは光反射性を有することが好ましい。ま
た、前記空間光変調素子の前記導電層及び前記第4の絶
縁層が透明であり、かつ隣接する第2の導電性透明電極
のどちらか一方と同電位の駆動電圧を印加されることが
好ましい。
【0044】また、前記空間光変調素子の前記第2の導
電性透明電極が分離される領域の数が、2以上2000
以下であることが好ましい。
電性透明電極が分離される領域の数が、2以上2000
以下であることが好ましい。
【0045】また、前記空間光変調素子の分離された前
記第2の導電性透明電極の各領域に対して、前記光導電
層に入力される光信号の水平走査方向と同じ方向に位置
する両端から電圧を印加することが好ましい。
記第2の導電性透明電極の各領域に対して、前記光導電
層に入力される光信号の水平走査方向と同じ方向に位置
する両端から電圧を印加することが好ましい。
【0046】本発明の投写型画像表示装置では、時系列
な走査により画像を表示する画像源からの書き込み光を
空間光変調素子に入力する。空間光変調素子は、光導電
層側、若しくは光変調層側のどちらか一方の導電性透明
電極を、画像の水平走査方向と概ね平行に帯状に分離
し、複数の領域を形成している。そして、消去電圧印加
直後に書き込み光が入力されるように、各領域毎に消去
電圧印加のタイミングをずらす。
な走査により画像を表示する画像源からの書き込み光を
空間光変調素子に入力する。空間光変調素子は、光導電
層側、若しくは光変調層側のどちらか一方の導電性透明
電極を、画像の水平走査方向と概ね平行に帯状に分離
し、複数の領域を形成している。そして、消去電圧印加
直後に書き込み光が入力されるように、各領域毎に消去
電圧印加のタイミングをずらす。
【0047】その結果、全ての領域において1フィール
ド周期の大部分の期間で空間光変調素子が応答できるの
で、全ての領域において時間開口率を高くする(明るい
画像表示を行う)ことが可能となる。しかも消去電圧の
印加と書き込みが行われる時間差を全ての領域において
同一にする事ができるので均一性も高くなる。さらに残
光の短い蛍光体を用いて書き込んでも均一性は損なわれ
ないので、1フィールド周期内で空間光変調素子の閾値
以下に十分減衰する短残光の蛍光体により書き込むこと
で、残像をきわめて小さくすることが可能となる。すな
わち、本発明の投写型画像表示装置では、明るさ、均一
性、残像の少なさを同時に満足できるのである。
ド周期の大部分の期間で空間光変調素子が応答できるの
で、全ての領域において時間開口率を高くする(明るい
画像表示を行う)ことが可能となる。しかも消去電圧の
印加と書き込みが行われる時間差を全ての領域において
同一にする事ができるので均一性も高くなる。さらに残
光の短い蛍光体を用いて書き込んでも均一性は損なわれ
ないので、1フィールド周期内で空間光変調素子の閾値
以下に十分減衰する短残光の蛍光体により書き込むこと
で、残像をきわめて小さくすることが可能となる。すな
わち、本発明の投写型画像表示装置では、明るさ、均一
性、残像の少なさを同時に満足できるのである。
【0048】以下、本発明の実施の形態を図面を参照し
ながら説明する。 (実施の形態1)図1に本発明の一実施の形態で構成し
た投写型画像表示装置に用いた空間光変調素子1の断面
図を示す。この空間光変調素子1では、ガラス基板2に
導電性透明電極3、光導電層4、光反射層5を形成し、
光反射層5間の光導電層4をエッチングして溝構造を形
成した後、光吸収層7を形成している。尚、光反射層5
の間の溝間に遮光層(不図示)を形成することで、読み
出し光の一部が空間光変調素子1の裏面へ貫通すること
を防いだ構造も考えられる。さらに、本実施の形態の空
間光変調素子1は導電性透明電極3’を形成したガラス
基板2’により光変調層6を挟持している。導電性透明
電極3、3’としては、ITO、ZnO、SnO2など
を用いることができる。
ながら説明する。 (実施の形態1)図1に本発明の一実施の形態で構成し
た投写型画像表示装置に用いた空間光変調素子1の断面
図を示す。この空間光変調素子1では、ガラス基板2に
導電性透明電極3、光導電層4、光反射層5を形成し、
光反射層5間の光導電層4をエッチングして溝構造を形
成した後、光吸収層7を形成している。尚、光反射層5
の間の溝間に遮光層(不図示)を形成することで、読み
出し光の一部が空間光変調素子1の裏面へ貫通すること
を防いだ構造も考えられる。さらに、本実施の形態の空
間光変調素子1は導電性透明電極3’を形成したガラス
基板2’により光変調層6を挟持している。導電性透明
電極3、3’としては、ITO、ZnO、SnO2など
を用いることができる。
【0049】光導電層4としては、CdS,CdTe,
CdSe,ZnS,ZnSe,GaAs,GaN,Ga
P,GaAlAs,InP等の化合物半導体、Se,S
eTe,AsSeなどの非晶質半導体、Si,Ge,S
i1-xCx,Si1-xGex,Ge1-xCx(0<x<1)の多結晶
または非晶質半導体、また、(1)フタロシアニン顔料
(Pcと略す)例えば無金属Pc,XPc(X=Cu,
Ni,Co,TiO,Mg,Si(OH)2など),A
lClPcCl,TiOClPcCl,InClPcC
l,InClPc,InBrPcBrなど、(2)モノ
アゾ色素,ジスアゾ色素等のアゾ系色素、(3)ペニレ
ン酸無水化物およびペニレン酸イミド等のペニレン系顔
料、(4)インジゴイド染料、(5)キナクリドン顔
料、(6)アントラキノン類、ピレンキノン類などの多
環キノン類、(7)シアニン色素、(8)キサンテン染
料、(9)PVK/TNFなどの電荷移動錯体、(1
0)ビリリウム塩染料とポリカーボネイト樹脂から形成
される共晶錯体、(11)アズレニウム塩化合物など有
機半導体を用いることができる。
CdSe,ZnS,ZnSe,GaAs,GaN,Ga
P,GaAlAs,InP等の化合物半導体、Se,S
eTe,AsSeなどの非晶質半導体、Si,Ge,S
i1-xCx,Si1-xGex,Ge1-xCx(0<x<1)の多結晶
または非晶質半導体、また、(1)フタロシアニン顔料
(Pcと略す)例えば無金属Pc,XPc(X=Cu,
Ni,Co,TiO,Mg,Si(OH)2など),A
lClPcCl,TiOClPcCl,InClPcC
l,InClPc,InBrPcBrなど、(2)モノ
アゾ色素,ジスアゾ色素等のアゾ系色素、(3)ペニレ
ン酸無水化物およびペニレン酸イミド等のペニレン系顔
料、(4)インジゴイド染料、(5)キナクリドン顔
料、(6)アントラキノン類、ピレンキノン類などの多
環キノン類、(7)シアニン色素、(8)キサンテン染
料、(9)PVK/TNFなどの電荷移動錯体、(1
0)ビリリウム塩染料とポリカーボネイト樹脂から形成
される共晶錯体、(11)アズレニウム塩化合物など有
機半導体を用いることができる。
【0050】また、非晶質のSi,Ge,Si1-xCx,
Si1-xGex,Ge1-xCx(以下、a−Si,a−G
e,a−Si1-xCx,a−Si1-xGex,a−Ge1-x
Cxのように略す)を光導電層に使用する場合、水素ま
たはハロゲン元素を含めてもよく、誘電率を小さくし抵
抗率の増加のため酸素または窒素を含めてもよい。抵抗
率の制御にはp型不純物であるB,Al,Gaなどの元
素を、またはn型不純物であるP,As,Sbなどの元
素を添加してもよい。このように不純物を添加した非晶
質材料を積層してp/n,p/i,i/n、p/i/
n、p/i/n/iなどの接合を形成し、光導電層内に
空乏層を形成するようにして誘電率および暗抵抗あるい
は動作電圧極性を制御してもよい。このような非晶質材
料だけでなく、上記の材料を2種類以上積層してヘテロ
接合を形成して光導電層内に空乏層を形成してもよい。
本実施の形態ではp/i/nダイオード構造のa−Si
を4μm成膜して光導電層4とした。
Si1-xGex,Ge1-xCx(以下、a−Si,a−G
e,a−Si1-xCx,a−Si1-xGex,a−Ge1-x
Cxのように略す)を光導電層に使用する場合、水素ま
たはハロゲン元素を含めてもよく、誘電率を小さくし抵
抗率の増加のため酸素または窒素を含めてもよい。抵抗
率の制御にはp型不純物であるB,Al,Gaなどの元
素を、またはn型不純物であるP,As,Sbなどの元
素を添加してもよい。このように不純物を添加した非晶
質材料を積層してp/n,p/i,i/n、p/i/
n、p/i/n/iなどの接合を形成し、光導電層内に
空乏層を形成するようにして誘電率および暗抵抗あるい
は動作電圧極性を制御してもよい。このような非晶質材
料だけでなく、上記の材料を2種類以上積層してヘテロ
接合を形成して光導電層内に空乏層を形成してもよい。
本実施の形態ではp/i/nダイオード構造のa−Si
を4μm成膜して光導電層4とした。
【0051】尚、本実施の形態では、透明導電性電極3
をパターニングした後光導電層4を成膜している。一般
に光導電層を形成する下地に段差があると光導電層の成
膜後にその段差はさらに大きくなる。また、光導電層の
膜厚が厚くなるほど段差は大きくなる。本実施の形態に
おける段差は、導電性透明電極3の厚さ約1000Å
(オングストローム)である。光導電層の膜厚が、下地
の段差の100倍以内であれば、成膜後の段差はあまり
目立たないことから、光導電層の厚さは少なくとも10
μm以下が望ましい。
をパターニングした後光導電層4を成膜している。一般
に光導電層を形成する下地に段差があると光導電層の成
膜後にその段差はさらに大きくなる。また、光導電層の
膜厚が厚くなるほど段差は大きくなる。本実施の形態に
おける段差は、導電性透明電極3の厚さ約1000Å
(オングストローム)である。光導電層の膜厚が、下地
の段差の100倍以内であれば、成膜後の段差はあまり
目立たないことから、光導電層の厚さは少なくとも10
μm以下が望ましい。
【0052】光反射層5としてはAl、Ag等の高反射
率金属薄膜、誘電体を積層して形成される誘電体ミラー
等を用いることができる。本実施の形態では溝構造を形
成した場合の強度を向上させるためにCrを成膜した後
Alを成膜して光反射層5とした。
率金属薄膜、誘電体を積層して形成される誘電体ミラー
等を用いることができる。本実施の形態では溝構造を形
成した場合の強度を向上させるためにCrを成膜した後
Alを成膜して光反射層5とした。
【0053】光吸収層7は、光導電層4の感度の高い波
長に対して吸収能を有しておればよく、アクリル系、ポ
リイミド系、ポリアミド系等の高分子材料の母材に対し
て、炭素粒子等の黒色顔料や色素分子を分散させてなる
光吸収材等を用いることができる。
長に対して吸収能を有しておればよく、アクリル系、ポ
リイミド系、ポリアミド系等の高分子材料の母材に対し
て、炭素粒子等の黒色顔料や色素分子を分散させてなる
光吸収材等を用いることができる。
【0054】光変調層6としては、強誘電性液晶、反強
誘電性液晶、TN液晶、STN液晶等の液晶材料を用い
ることができる。本実施の形態では高速応答が可能な強
誘電性液晶を用いた。
誘電性液晶、TN液晶、STN液晶等の液晶材料を用い
ることができる。本実施の形態では高速応答が可能な強
誘電性液晶を用いた。
【0055】尚、本実施の形態の空間光変調素子1で
は、導電性透明電極3は、入力される画像の水平走査方
向に対して平行な帯状の領域に分離されている(図では
3分割)。実際には、32分割の空間光変調素子を作成
した。
は、導電性透明電極3は、入力される画像の水平走査方
向に対して平行な帯状の領域に分離されている(図では
3分割)。実際には、32分割の空間光変調素子を作成
した。
【0056】本実施の形態の空間光変調素子1を用いて
構成した投写型画像表示装置を図2に示す。基本的な構
成は、図16に示した従来例と同じであり、画像源8か
らの出力光を、書き込み光9として書き込みレンズ10
により光導電層4に結像させることで空間光変調素子1
への画像入力を行っている。光源11からの読み出し光
12は空間光変調素子1の光変調層6側から入射され、
光変調層6による変調を受け、光反射層5により反射さ
れた後、再び光変調層6を通過し出力される。出力光1
3は可視化手段14を通して可視化され、投写レンズ1
5によりスクリーン16上に拡大投写される。可視化手
段14としては、PBSを、光源としては高輝度キセノ
ンランプを用いた。
構成した投写型画像表示装置を図2に示す。基本的な構
成は、図16に示した従来例と同じであり、画像源8か
らの出力光を、書き込み光9として書き込みレンズ10
により光導電層4に結像させることで空間光変調素子1
への画像入力を行っている。光源11からの読み出し光
12は空間光変調素子1の光変調層6側から入射され、
光変調層6による変調を受け、光反射層5により反射さ
れた後、再び光変調層6を通過し出力される。出力光1
3は可視化手段14を通して可視化され、投写レンズ1
5によりスクリーン16上に拡大投写される。可視化手
段14としては、PBSを、光源としては高輝度キセノ
ンランプを用いた。
【0057】尚、画像源8としては、表示画像の垂直同
期期間内において時系列に画像を表示する画像表示素子
であればよく、CRT、TFT−LCD等の液晶表示装
置、プラズマディスプレイ等の自発光型ディスプレイ、
若しくはレーザーと、レーザー光を偏向するポリゴンミ
ラー等の走査手段を備えたレーザー光スキャン型画像表
示装置等を用いることができるが、本実施の形態におい
てはCRTを用いた。
期期間内において時系列に画像を表示する画像表示素子
であればよく、CRT、TFT−LCD等の液晶表示装
置、プラズマディスプレイ等の自発光型ディスプレイ、
若しくはレーザーと、レーザー光を偏向するポリゴンミ
ラー等の走査手段を備えたレーザー光スキャン型画像表
示装置等を用いることができるが、本実施の形態におい
てはCRTを用いた。
【0058】空間光変調素子の駆動電圧波形は、図17
に示したように、消去期間と書き込み期間からなる一般
的な波形を用いたが、本実施の形態の投写画像表示装置
においては、空間光変調素子1への印加電圧の位相を領
域毎にずらし、各領域において消去電圧が印加された直
後に書き込み光が入力されるように調整している(駆動
電圧の周波数は映像信号の垂直走査周波数すなわちフィ
ールド周波数と同一とした)。以下、空間光変調素子の
駆動電圧波形、CRTの出力、空間光変調素子の出力を
図面を参照しながら説明する。
に示したように、消去期間と書き込み期間からなる一般
的な波形を用いたが、本実施の形態の投写画像表示装置
においては、空間光変調素子1への印加電圧の位相を領
域毎にずらし、各領域において消去電圧が印加された直
後に書き込み光が入力されるように調整している(駆動
電圧の周波数は映像信号の垂直走査周波数すなわちフィ
ールド周波数と同一とした)。以下、空間光変調素子の
駆動電圧波形、CRTの出力、空間光変調素子の出力を
図面を参照しながら説明する。
【0059】図3に空間光変調素子1の導電性透明電極
3の配置を示す。図に示すように、導電性透明電極3
は、入力される光信号の水平走査方向に対して平行な帯
状の領域に分離されており、各領域の両端から駆動電圧
を印加される。尚、本実施の形態では光導電層5を六角
形の画素に分離しており、図に示したように導電性透明
電極3の分離された領域の境界を、光反射層5の溝間
(境界部)と一致させている。
3の配置を示す。図に示すように、導電性透明電極3
は、入力される光信号の水平走査方向に対して平行な帯
状の領域に分離されており、各領域の両端から駆動電圧
を印加される。尚、本実施の形態では光導電層5を六角
形の画素に分離しており、図に示したように導電性透明
電極3の分離された領域の境界を、光反射層5の溝間
(境界部)と一致させている。
【0060】今、CRTからの書き込み画像が入力され
る順に1から32まで領域に番号を付ける。図4に各領
域毎の駆動電圧波形の位相のズレを示す。ここでは、N
TSC信号としており、1フィールド周期は約16.7
ミリ秒、フィールド周期から垂直帰線期間約1.5ミリ
秒を除いた垂直有効走査周期は約15.2ミリ秒であ
る。すなわち第1番目の領域から順次書き込み(すなわ
ち光信号の入力)が開始され、約15.2ミリ秒後に第
32番目の領域に対する書き込みを終える。従って、一
つの領域の書き込みに要する時間は、概ね約475マイ
クロ秒(=15.2ミリ秒/32)である。従って、各
領域では、約475マイクロ秒ずつ消去電圧を印加する
タイミングをずらしている。
る順に1から32まで領域に番号を付ける。図4に各領
域毎の駆動電圧波形の位相のズレを示す。ここでは、N
TSC信号としており、1フィールド周期は約16.7
ミリ秒、フィールド周期から垂直帰線期間約1.5ミリ
秒を除いた垂直有効走査周期は約15.2ミリ秒であ
る。すなわち第1番目の領域から順次書き込み(すなわ
ち光信号の入力)が開始され、約15.2ミリ秒後に第
32番目の領域に対する書き込みを終える。従って、一
つの領域の書き込みに要する時間は、概ね約475マイ
クロ秒(=15.2ミリ秒/32)である。従って、各
領域では、約475マイクロ秒ずつ消去電圧を印加する
タイミングをずらしている。
【0061】図5にn番目の領域における駆動電圧(図
5(a))、書き込み光強度(図5(b))、空間光変
調素子の出力の時間応答波形(図5(c))を示す。領
域の上部では、消去電圧印加後一定期間τ後に書き込み
が開始され、空間光変調素子が出力し始める。領域の下
部では最大約475マイクロ秒遅れて書き込みが開始さ
れる。つまり一つの領域内においては空間光変調素子の
立ち上がりは、高々475マイクロ秒程度遅れるだけで
あるため、領域内部でのむらは殆ど検知されない。しか
も、図4に示したように駆動電圧の位相(消去電圧の印
加時期)を475マイクロ秒ずつずらして各領域に印加
するので、消去電圧と、書き込み光のタイミングのずれ
τは全ての領域においてほぼ同一となる。すなわち、全
ての領域において図5に示した応答をさせることが可能
になり、全ての領域において時間開口率を殆ど同一にす
ることができる。また、消去電圧と、書き込み光のタイ
ミングのずれτを小さくすることで、均一性を損なうこ
となく時間開口率を高くすることができる。
5(a))、書き込み光強度(図5(b))、空間光変
調素子の出力の時間応答波形(図5(c))を示す。領
域の上部では、消去電圧印加後一定期間τ後に書き込み
が開始され、空間光変調素子が出力し始める。領域の下
部では最大約475マイクロ秒遅れて書き込みが開始さ
れる。つまり一つの領域内においては空間光変調素子の
立ち上がりは、高々475マイクロ秒程度遅れるだけで
あるため、領域内部でのむらは殆ど検知されない。しか
も、図4に示したように駆動電圧の位相(消去電圧の印
加時期)を475マイクロ秒ずつずらして各領域に印加
するので、消去電圧と、書き込み光のタイミングのずれ
τは全ての領域においてほぼ同一となる。すなわち、全
ての領域において図5に示した応答をさせることが可能
になり、全ての領域において時間開口率を殆ど同一にす
ることができる。また、消去電圧と、書き込み光のタイ
ミングのずれτを小さくすることで、均一性を損なうこ
となく時間開口率を高くすることができる。
【0062】さらに、均一性を確保するために残光の長
い蛍光体により書き込みを行う必要がないので、フィー
ルド周期に対して十分残光の短い蛍光体を用いることが
可能になり、残像をゼロにできる。
い蛍光体により書き込みを行う必要がないので、フィー
ルド周期に対して十分残光の短い蛍光体を用いることが
可能になり、残像をゼロにできる。
【0063】本発明の投写型画像表示装置によれば、あ
らゆる映像信号に対しても明るさ、均一性の高さ、残像
の少なさの3点を同時に満足することが可能となる。こ
れを図6を用いて説明する。映像信号のフィールド周期
をtf、垂直帰線期間をtb、導電性透明電極の分離数を
n、各領域に於て消去信号が印加されてから書き込みが
開始されるまでに要する時間をτとする。また、空間光
変調素子が出力し始める入力光強度すなわち閾値をθ、
全白信号を表示する際に、CRTの蛍光体の残光がθ以
下に減衰するまでに要する時間をTとする。
らゆる映像信号に対しても明るさ、均一性の高さ、残像
の少なさの3点を同時に満足することが可能となる。こ
れを図6を用いて説明する。映像信号のフィールド周期
をtf、垂直帰線期間をtb、導電性透明電極の分離数を
n、各領域に於て消去信号が印加されてから書き込みが
開始されるまでに要する時間をτとする。また、空間光
変調素子が出力し始める入力光強度すなわち閾値をθ、
全白信号を表示する際に、CRTの蛍光体の残光がθ以
下に減衰するまでに要する時間をTとする。
【0064】本発明の空間光変調素子の原理ではまず、
第1番目の領域において消去電圧印加τ後に書き込みが
開始されるようにする。一つの領域に対してCRTが書
き込みを行うのに要する時間tは、(数2)で表される
ので、各領域に印加する駆動電圧の位相を順次tだけず
らして各領域を駆動する。
第1番目の領域において消去電圧印加τ後に書き込みが
開始されるようにする。一つの領域に対してCRTが書
き込みを行うのに要する時間tは、(数2)で表される
ので、各領域に印加する駆動電圧の位相を順次tだけず
らして各領域を駆動する。
【0065】(数2) t=(tf−tb)/n このように各領域の駆動電圧に位相差を与えることで各
領域には常に消去電圧印加τ後に書き込みが開始される
ようになるので、領域毎の不均一性は原理上全くなくな
るのである。
領域には常に消去電圧印加τ後に書き込みが開始される
ようになるので、領域毎の不均一性は原理上全くなくな
るのである。
【0066】次に領域内の不均一性について考える。各
領域の上部では、消去電圧印加τ後に書き込みが開始さ
れるが、下部ではさらにtだけ遅れて書き込まれる。し
かしながら、分離数nを大きくすることで書き込み遅れ
tはtfに対してかなり小さくなるので領域内の不均一
性は非常に目立ち難くなる。尚、領域の上部から下部に
かけて書き込み光強度を徐々に強くすることにより、空
間光変調素子の応答速度を徐々に速くできるので、不均
一性をさらに小さくすることも可能である。このように
して、画面全体での均一性を確保することができる。
領域の上部では、消去電圧印加τ後に書き込みが開始さ
れるが、下部ではさらにtだけ遅れて書き込まれる。し
かしながら、分離数nを大きくすることで書き込み遅れ
tはtfに対してかなり小さくなるので領域内の不均一
性は非常に目立ち難くなる。尚、領域の上部から下部に
かけて書き込み光強度を徐々に強くすることにより、空
間光変調素子の応答速度を徐々に速くできるので、不均
一性をさらに小さくすることも可能である。このように
して、画面全体での均一性を確保することができる。
【0067】この時、τをできるだけ小さくすれば、時
間開口率を100%に近づけることが可能となるので、
明るい画像表示が実現できるのである。尚、τは少なく
とも(数3)を満たすことが望ましい。
間開口率を100%に近づけることが可能となるので、
明るい画像表示が実現できるのである。尚、τは少なく
とも(数3)を満たすことが望ましい。
【0068】(数3) τ<tf/2 以上の原理により、明るさと均一性を同時に確保でき
る。その際残像が発生することが懸念されるが、これ
は、蛍光体の残光を小さくすることで解決できる。すな
わち全白信号を表示する場合に、蛍光体の残光がθ以下
に減衰するのに要する減衰時間Tが、(数1)T<tf
−τ−(tf−tb)/nを満足すれば、前のフィールド
の信号が次のフィールドに影響を与えることがなくなる
ので残像はゼロとなる。
る。その際残像が発生することが懸念されるが、これ
は、蛍光体の残光を小さくすることで解決できる。すな
わち全白信号を表示する場合に、蛍光体の残光がθ以下
に減衰するのに要する減衰時間Tが、(数1)T<tf
−τ−(tf−tb)/nを満足すれば、前のフィールド
の信号が次のフィールドに影響を与えることがなくなる
ので残像はゼロとなる。
【0069】以上の原理により、本発明の投写型画像表
示装置によれば、明るさ、均一性、残像の少なさを同時
に満足できる。
示装置によれば、明るさ、均一性、残像の少なさを同時
に満足できる。
【0070】また、分離された各領域は各々独立した空
間光変調素子とみなすことができるが、必ずしも均一な
インピーダンスを持つとは限らない。すなわち同一の電
圧波形で駆動しても、光導電層、光変調層に実効的に印
加される電圧は若干異なることがある。また、光反射層
の反射率、開口率がバラ付く可能性もある。その結果、
各領域毎に閾値、γ特性、光変調効率、コントラストが
異なる可能性がある。その場合には、各領域毎に消去電
圧、書き込み電圧、消去電圧期間を最適化することによ
り前記領域毎のばらつきを検知限以下に抑えることが可
能である。
間光変調素子とみなすことができるが、必ずしも均一な
インピーダンスを持つとは限らない。すなわち同一の電
圧波形で駆動しても、光導電層、光変調層に実効的に印
加される電圧は若干異なることがある。また、光反射層
の反射率、開口率がバラ付く可能性もある。その結果、
各領域毎に閾値、γ特性、光変調効率、コントラストが
異なる可能性がある。その場合には、各領域毎に消去電
圧、書き込み電圧、消去電圧期間を最適化することによ
り前記領域毎のばらつきを検知限以下に抑えることが可
能である。
【0071】以上の原理により、本実施の形態の空間光
変調素子1を用いて投写型画像表示装置を構成すること
により、明るく、均一性が高く、残像のない画像表示を
実現することができた。
変調素子1を用いて投写型画像表示装置を構成すること
により、明るく、均一性が高く、残像のない画像表示を
実現することができた。
【0072】尚、図2に示した投写型画像表示装置に、
光源11を除いた投写型画像表示装置をさらに2台加
え、読み出し光12を3原色に分離する色分離手段を付
加し、合計3台の出力光をスクリーン上で合成すること
により、フルカラーの画像表示も可能となる。また、上
記構成において色合成手段を付加すれば、1本の投写レ
ンズ15だけでフルカラー画像の表示が可能である。
光源11を除いた投写型画像表示装置をさらに2台加
え、読み出し光12を3原色に分離する色分離手段を付
加し、合計3台の出力光をスクリーン上で合成すること
により、フルカラーの画像表示も可能となる。また、上
記構成において色合成手段を付加すれば、1本の投写レ
ンズ15だけでフルカラー画像の表示が可能である。
【0073】(実施の形態2)以下図7に、本発明の他
の実施の形態における空間光変調素子71の断面図を示
す。本実施の形態の空間光変調素子71においては、導
電性透明電極3の分離された境界に絶縁層17を形成す
ることによって、領域間の電気的クロストークを小さく
している。絶縁層としては、酸化ケイ素(SiOx)、
酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化タンタル(TaO
x)、窒化ケイ素(SiNx)等の無機酸化物や、無機窒
化物や、ポリイミド系、ポリアミド系、アクリル系等の
高分子材料を用いることができる。
の実施の形態における空間光変調素子71の断面図を示
す。本実施の形態の空間光変調素子71においては、導
電性透明電極3の分離された境界に絶縁層17を形成す
ることによって、領域間の電気的クロストークを小さく
している。絶縁層としては、酸化ケイ素(SiOx)、
酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化タンタル(TaO
x)、窒化ケイ素(SiNx)等の無機酸化物や、無機窒
化物や、ポリイミド系、ポリアミド系、アクリル系等の
高分子材料を用いることができる。
【0074】本実施の形態の空間光変調素子71を用い
て、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、実施の
形態1と同様に、消去電圧の位相を領域毎にずらして、
消去電圧印加直後に書き込み光が入力されるようにして
駆動したところ、明るさを損なわず、均一で、残像のな
い画像表示を実現することができた。
て、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、実施の
形態1と同様に、消去電圧の位相を領域毎にずらして、
消去電圧印加直後に書き込み光が入力されるようにして
駆動したところ、明るさを損なわず、均一で、残像のな
い画像表示を実現することができた。
【0075】(実施の形態3)以下、図8に本発明の他
の実施の形態における空間光変調素子81の断面図を示
す。本実施の形態の空間光変調素子においては、分割さ
れた導電性透明電極3の境界に絶縁層17を形成し、か
つ光導電層4を深くエッチングすることで、領域間の電
気的クロストークを小さくしている。このような構成に
する事により、光反射層5の間の溝に遮光層(不図示)
を形成し、読み出し光の一部が空間光変調素子81の裏
面へ貫通することを防いだ構造とした場合にも、領域間
の電気的クロストークを小さくできる。
の実施の形態における空間光変調素子81の断面図を示
す。本実施の形態の空間光変調素子においては、分割さ
れた導電性透明電極3の境界に絶縁層17を形成し、か
つ光導電層4を深くエッチングすることで、領域間の電
気的クロストークを小さくしている。このような構成に
する事により、光反射層5の間の溝に遮光層(不図示)
を形成し、読み出し光の一部が空間光変調素子81の裏
面へ貫通することを防いだ構造とした場合にも、領域間
の電気的クロストークを小さくできる。
【0076】本実施の形態の空間光変調素子81を用い
て投写型画像表示装置を構成し、消去電圧の位相を領域
毎にずらして、消去電圧印加直後に書き込み光が入力さ
れるようにして駆動したところ、明るく、均一で、残像
のない画像表示を実現することができた。
て投写型画像表示装置を構成し、消去電圧の位相を領域
毎にずらして、消去電圧印加直後に書き込み光が入力さ
れるようにして駆動したところ、明るく、均一で、残像
のない画像表示を実現することができた。
【0077】(実施の形態4)以下、図9に本発明の他
の実施の形態における空間光変調素子91の断面図を示
す。本実施の形態の空間光変調素子においては、分割さ
れた導電性透明電極3の境界に絶縁層17を形成し、か
つ光反射層5間の光導電層4をすべてエッチングするこ
とで、領域間の電気的クロストークをきわめて小さくし
ている。このような構成にする事により、光反射層5の
間の溝に遮光層(不図示)を形成し、読み出し光の一部
が空間光変調素子1の裏面へ貫通することを防いだ構造
とした場合にも、領域間の電気的クロストークをきわめ
て小さくできる。ただし、その場合には全ての光反射層
5の溝間に絶縁層17を形成することが必要である。
の実施の形態における空間光変調素子91の断面図を示
す。本実施の形態の空間光変調素子においては、分割さ
れた導電性透明電極3の境界に絶縁層17を形成し、か
つ光反射層5間の光導電層4をすべてエッチングするこ
とで、領域間の電気的クロストークをきわめて小さくし
ている。このような構成にする事により、光反射層5の
間の溝に遮光層(不図示)を形成し、読み出し光の一部
が空間光変調素子1の裏面へ貫通することを防いだ構造
とした場合にも、領域間の電気的クロストークをきわめ
て小さくできる。ただし、その場合には全ての光反射層
5の溝間に絶縁層17を形成することが必要である。
【0078】本実施の形態の空間光変調素子を用いて投
写型画像表示装置を構成し、消去電圧の位相を領域毎に
ずらして、消去電圧印加直後に書き込み光が入力される
ようにして駆動したところ、明るく、均一で、残像のな
い画像表示を実現することができた。
写型画像表示装置を構成し、消去電圧の位相を領域毎に
ずらして、消去電圧印加直後に書き込み光が入力される
ようにして駆動したところ、明るく、均一で、残像のな
い画像表示を実現することができた。
【0079】(実施の形態5)以下、図10に本発明の
他の実施の形態で構成した空間光変調素子101の断面
図を示す。本実施の形態の空間光変調素子101におい
ては、分離される導電性透明電極3間の境界部に光反射
性または光吸収性の遮光層18を形成している。遮光層
18が導電性を有する場合には、導電性透明電極3と遮
光層18を電気的に分離するための絶縁層17’を形成
後導電性透明電極3を成膜し、分離する。
他の実施の形態で構成した空間光変調素子101の断面
図を示す。本実施の形態の空間光変調素子101におい
ては、分離される導電性透明電極3間の境界部に光反射
性または光吸収性の遮光層18を形成している。遮光層
18が導電性を有する場合には、導電性透明電極3と遮
光層18を電気的に分離するための絶縁層17’を形成
後導電性透明電極3を成膜し、分離する。
【0080】このような構成とすることにより、分離し
た境界部の光導電層4が、書き込み光の照射により低抵
抗となることに起因する領域間の電気的クロストークを
小さくすることができる。尚、遮光層としては、アルミ
ニウム、クロム、チタン等の金属若しくはそれらの酸化
物若しくは窒化物等、若しくは誘電体を積層した誘電体
ミラー、あるいは、光導電層4の感度の高い波長に対し
て吸収能を有するアクリル系、ポリイミド系、ポリアミ
ド系等の高分子材料の母材に対して、炭素粒子等の黒色
顔料や色素分子を分散させてなる光吸収材等を用いるこ
とができる。
た境界部の光導電層4が、書き込み光の照射により低抵
抗となることに起因する領域間の電気的クロストークを
小さくすることができる。尚、遮光層としては、アルミ
ニウム、クロム、チタン等の金属若しくはそれらの酸化
物若しくは窒化物等、若しくは誘電体を積層した誘電体
ミラー、あるいは、光導電層4の感度の高い波長に対し
て吸収能を有するアクリル系、ポリイミド系、ポリアミ
ド系等の高分子材料の母材に対して、炭素粒子等の黒色
顔料や色素分子を分散させてなる光吸収材等を用いるこ
とができる。
【0081】また、絶縁層17’はガラス基板2の全面
に形成する場合には、書き込み光に対して透明であるこ
とが望ましいが、導電性透明電極の境界部にのみ形成し
てもよい。
に形成する場合には、書き込み光に対して透明であるこ
とが望ましいが、導電性透明電極の境界部にのみ形成し
てもよい。
【0082】(実施の形態6)以下、図11に本発明の
一実施の形態で構成した空間光変調素子111の断面図
を示す。この空間光変調素子では、ガラス基板2に導電
性透明電極3、光導電層4、光反射層5を形成し、光反
射層5間の光導電層4をエッチングして溝構造を形成し
た後、光吸収層7を形成している。なお、光反射層5の
間の溝間に遮光層(図示せず)を形成することで、読み
出し光の一部が空間光変調素子111の裏面へ貫通する
ことを防いだ構造も考えられる。さらに、本実施の形態
の空間光変調素子はガラス基板2と導電性透明電極3’
を形成したガラス基板2’により光変調層6を挟持させ
ている。
一実施の形態で構成した空間光変調素子111の断面図
を示す。この空間光変調素子では、ガラス基板2に導電
性透明電極3、光導電層4、光反射層5を形成し、光反
射層5間の光導電層4をエッチングして溝構造を形成し
た後、光吸収層7を形成している。なお、光反射層5の
間の溝間に遮光層(図示せず)を形成することで、読み
出し光の一部が空間光変調素子111の裏面へ貫通する
ことを防いだ構造も考えられる。さらに、本実施の形態
の空間光変調素子はガラス基板2と導電性透明電極3’
を形成したガラス基板2’により光変調層6を挟持させ
ている。
【0083】尚、本実施の形態の空間光変調素子111
では、導電性透明電極3’は、入力される光信号の水平
走査方向に対して平行な32個の帯状の領域に分離され
ており、各領域の両端から駆動電圧を印加される。尚、
本実施の形態では光導電層5を六角形の画素に分離して
おり、(実施の形態1)と同様に電性透明電極3’の分
離された領域の境界を、光反射層5の溝間(境界部)と
一致させている。
では、導電性透明電極3’は、入力される光信号の水平
走査方向に対して平行な32個の帯状の領域に分離され
ており、各領域の両端から駆動電圧を印加される。尚、
本実施の形態では光導電層5を六角形の画素に分離して
おり、(実施の形態1)と同様に電性透明電極3’の分
離された領域の境界を、光反射層5の溝間(境界部)と
一致させている。
【0084】本実施の形態の空間光変調素子111を用
いて投写型画像表示装置を構成し、(実施の形態1)と
同様に消去電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印
加直後に書き込み光が入力されるようにして駆動したと
ころ、明るく、均一で、残像のない画像表示を実現する
ことができた。
いて投写型画像表示装置を構成し、(実施の形態1)と
同様に消去電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印
加直後に書き込み光が入力されるようにして駆動したと
ころ、明るく、均一で、残像のない画像表示を実現する
ことができた。
【0085】(実施の形態7)以下、図12に本発明の
他の実施の形態における空間光変調素子121の断面図
を示す。本実施の形態の空間光変調素子においては、分
割された導電性透明電極3’の境界に絶縁層19を形成
し、領域間の電気的クロストークを小さくしている。絶
縁層19としては、酸化ケイ素(SiOx)、酸化アル
ミニウム(Al2O3)、酸化タンタル(TaOx)、窒
化ケイ素(SiNx)等の無機酸化物や、無機窒化物を
用いてもよく、炭素粒子等の黒色顔料や色素分子を分散
されてなるアクリル系、ポリイミド系、ポリアミド系等
の高分子材料等の光吸収性絶縁層、若しくは酸化プラセ
オジウムマンガン等の光反射性絶縁層を用いることが好
ましい。
他の実施の形態における空間光変調素子121の断面図
を示す。本実施の形態の空間光変調素子においては、分
割された導電性透明電極3’の境界に絶縁層19を形成
し、領域間の電気的クロストークを小さくしている。絶
縁層19としては、酸化ケイ素(SiOx)、酸化アル
ミニウム(Al2O3)、酸化タンタル(TaOx)、窒
化ケイ素(SiNx)等の無機酸化物や、無機窒化物を
用いてもよく、炭素粒子等の黒色顔料や色素分子を分散
されてなるアクリル系、ポリイミド系、ポリアミド系等
の高分子材料等の光吸収性絶縁層、若しくは酸化プラセ
オジウムマンガン等の光反射性絶縁層を用いることが好
ましい。
【0086】本実施の形態の空間光変調素子121を用
いて、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、消去
電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印加直後に書
き込み光が入力されるようにして駆動したところ、明る
く、均一で、残像のない画像表示を実現することができ
た。
いて、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、消去
電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印加直後に書
き込み光が入力されるようにして駆動したところ、明る
く、均一で、残像のない画像表示を実現することができ
た。
【0087】(実施の形態8)以下、図13に本発明の
他の実施の形態における空間光変調素子131の断面図
を示す。本実施の形態の空間光変調素子131において
は、光変調層側のガラス基板2’と、分割された導電性
透明電極3’の間に透明絶縁層を形成し、さらに領域の
境界部には透明絶縁層20とガラス基板2’の間に光吸
収性若しくは光反射性の導電層21を形成しており、境
界が黒く表示されるようにしている。
他の実施の形態における空間光変調素子131の断面図
を示す。本実施の形態の空間光変調素子131において
は、光変調層側のガラス基板2’と、分割された導電性
透明電極3’の間に透明絶縁層を形成し、さらに領域の
境界部には透明絶縁層20とガラス基板2’の間に光吸
収性若しくは光反射性の導電層21を形成しており、境
界が黒く表示されるようにしている。
【0088】本実施の形態の空間光変調素子131を用
いて、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、消去
電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印加直後に書
き込み光が入力されるようにして駆動したところ、明る
く、均一で、残像のない画像表示を実現することができ
た。
いて、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、消去
電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印加直後に書
き込み光が入力されるようにして駆動したところ、明る
く、均一で、残像のない画像表示を実現することができ
た。
【0089】(実施の形態9)以下、図14に本発明の
他の実施の形態における空間光変調素子141の断面図
を示す。本実施の形態の空間光変調素子においては、光
変調層側のガラス基板2’と、分割された導電性透明電
極3’の間に透明絶縁層20を形成し、さらに領域の境
界部には、読み出し光に対して透明な導電層21を形成
しており、この導電層21を隣接する一方の領域の導電
性透明電極3’と同電位にすることによって、境界の光
変調層を駆動する。こうした構造とすることにより、境
界部の光変調層6が隣接する一方の領域と同様の動作を
するので、境界部を目立ち難くすることができる。
他の実施の形態における空間光変調素子141の断面図
を示す。本実施の形態の空間光変調素子においては、光
変調層側のガラス基板2’と、分割された導電性透明電
極3’の間に透明絶縁層20を形成し、さらに領域の境
界部には、読み出し光に対して透明な導電層21を形成
しており、この導電層21を隣接する一方の領域の導電
性透明電極3’と同電位にすることによって、境界の光
変調層を駆動する。こうした構造とすることにより、境
界部の光変調層6が隣接する一方の領域と同様の動作を
するので、境界部を目立ち難くすることができる。
【0090】本実施の形態の空間光変調素子141を用
いて、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、消去
電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印加直後に書
き込み光が入力されるようにして駆動したところ、明る
く、均一で、残像のない画像表示を実現することができ
た。尚、本発明は、発明の主旨に基づいて種々の変形が
可能であり、上記構成に限定されるものではない。
いて、図2に示した投写型画像表示装置を構成し、消去
電圧の位相を領域毎にずらして、消去電圧印加直後に書
き込み光が入力されるようにして駆動したところ、明る
く、均一で、残像のない画像表示を実現することができ
た。尚、本発明は、発明の主旨に基づいて種々の変形が
可能であり、上記構成に限定されるものではない。
【0091】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、明るく、
均一性が高く、残像がきわめて少ない画像表示が可能な
投写型画像表示装置を提供することができる。
均一性が高く、残像がきわめて少ない画像表示が可能な
投写型画像表示装置を提供することができる。
【図1】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の断面図
子の断面図
【図2】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子を用いた投写型画像表示装置の構成図
子を用いた投写型画像表示装置の構成図
【図3】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の平面及び光反射層の拡大部分を示す図
子の平面及び光反射層の拡大部分を示す図
【図4】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の駆動電圧波形の説明図
子の駆動電圧波形の説明図
【図5】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時間応
答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波形
(c)を示す図
子の駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時間応
答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波形
(c)を示す図
【図6】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時間応
答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波形
(c)を示す図
子の駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時間応
答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波形
(c)を示す図
【図7】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の断面図
子の断面図
【図8】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の断面図
子の断面図
【図9】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調素
子の断面図
子の断面図
【図10】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調
素子の断面図
素子の断面図
【図11】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調
素子の断面図
素子の断面図
【図12】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調
素子の断面図
素子の断面図
【図13】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調
素子の断面図
素子の断面図
【図14】本発明の一実施の形態で構成した空間光変調
素子の断面図
素子の断面図
【図15】従来の空間光変調素子の断面図
【図16】従来の空間光変調素子を用いて構成した投写
型画像表示装置の構成図
型画像表示装置の構成図
【図17】従来の空間光変調素子の駆動電圧波形図
【図18】従来の空間光変調素子の光出力波形図
【図19】従来の投写型画像表示装置のスクリーン上部
における駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時
間応答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波
形(c)を示す図
における駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時
間応答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波
形(c)を示す図
【図20】従来の投写型画像表示装置のスクリーン中央
部における駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の
時間応答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答
波形(c)を示す図
部における駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の
時間応答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答
波形(c)を示す図
【図21】従来の投写型画像表示装置のスクリーン下部
における駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時
間応答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波
形(c)を示す図
における駆動電圧波形(a)、書き込まれる蛍光体の時
間応答波形(b)、及び空間光変調素子の出力の応答波
形(c)を示す図
【図22】残光の長いCRTを用いた従来の投写型画像
表示装置のスクリーン中央部における駆動電圧波形
(a)、書き込まれる蛍光体の時間応答波形(b)、及
び空間光変調素子の出力の応答波形(c)を示す図
表示装置のスクリーン中央部における駆動電圧波形
(a)、書き込まれる蛍光体の時間応答波形(b)、及
び空間光変調素子の出力の応答波形(c)を示す図
【図23】残光の長いCRTを用いた従来の投写型画像
表示装置のスクリーン中央部における駆動電圧波形
(a)、書き込まれる蛍光体の時間応答波形(b)、及
び空間光変調素子の出力の応答波形(c)を示す図
表示装置のスクリーン中央部における駆動電圧波形
(a)、書き込まれる蛍光体の時間応答波形(b)、及
び空間光変調素子の出力の応答波形(c)を示す図
【図24】残光の長いCRTを用いた従来の投写型画像
表示装置のスクリーン中央部における駆動電圧波形
(a)、書き込まれる蛍光体の時間応答波形(b)、及
び空間光変調素子の出力の応答波形(c)を示す図
表示装置のスクリーン中央部における駆動電圧波形
(a)、書き込まれる蛍光体の時間応答波形(b)、及
び空間光変調素子の出力の応答波形(c)を示す図
1 空間光変調素子 2、2’ ガラス基板 3、3’ 透明導電性電極 4 光導電層 5 光反射層 6 光変調層 7 光吸収層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 筒井 博司 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 川上 俊勝 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 武藤 泰明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 宮井 宏 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (27)
- 【請求項1】少なくとも、空間光変調素子と、前記空間
光変調素子に入力する画像を時系列な走査により表示す
る画像源を具備しており、前記空間光変調素子が、第1
の導電性透明電極を具備した第1のガラス基板と、第2
の導電性透明電極を具備した第2のガラス基板とによっ
て、少なくとも光導電層と光反射層と光変調層を挟持し
た構成であり、かつ前記光導電層側の前記第1の導電性
透明電極、若しくは前記光変調層側の前記第2の導電性
透明電極の少なくとも何れか一方が、複数の領域に分離
されており、かつ分離された第1若しくは第2の導電性
透明電極の各領域に印加される駆動電圧の周波数が、前
記画像の垂直走査周波数と概ね同一であって、分離され
た前記第1若しくは第2の導電性透明電極の隣接する領
域間における前記駆動電圧の位相差が、垂直走査期間か
ら垂直帰線期間を除いた垂直有効走査期間を領域の数で
除した時間に概ね等しいことを特徴とする投写型画像表
示装置。 - 【請求項2】駆動電圧は、空間光変調素子を初期化する
消去電圧と、前記空間光変調素子へ画像を入力する期間
に印加される書き込み電圧からなり、分離された第1若
しくは第2の導電性透明電極の各領域において、前記消
去電圧が印加されてから画像入力が開始されるまでの時
間τが、垂直走査期間の少なくとも半分以下であること
を特徴とする請求項1記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項3】空間光変調素子は、光導電層に入力される
光強度に対して閾値を有しており、前記空間光変調素子
に入力される画像の光強度は、走査後時間とともに概ね
単調に減衰し、垂直走査期間をtf、垂直帰線期間を
tb、前記導電性透明電極の分離数をnとしたとき、全
白信号を表示する際の光強度が前記空間光変調素子の閾
値以下に減衰するまでの時間Tは、T<tf−τ−(tf
−tb)/nを満たすことを特徴とする請求項1または
2記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項4】分離された前記第1若しくは第2の導電性
透明電極の複数の領域のうち、少なくとも一つの領域に
対する、消去電圧、若しくは書き込み電圧、若しくは消
去電圧印加期間の少なくとも何れか一つが、他の領域と
異なることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載
の投写型画像表示装置。 - 【請求項5】画像源の一部にCRTを用いることを特徴
とする請求項1〜4のいずれかに記載の投写型画像表示
装置。 - 【請求項6】画像源の一部に液晶表示装置を用いること
を特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の投写型画
像表示装置。 - 【請求項7】画像源の一部に、レーザー光発生手段、及
び前記レーザー光を走査させる走査手段を用いることを
特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の投写型画像
表示装置。 - 【請求項8】空間光変調素子の光反射層が複数の画素に
分離されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれ
かに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項9】空間光変調素子の第1の導電性透明電極
は、入力される画像の水平走査方向と概ね平行に分離さ
れていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記
載の投写型画像表示装置。 - 【請求項10】空間光変調素子の光反射層が複数の画素
に分離されており、かつ第1の導電性透明電極が分離さ
れる境界が、前記光反射層の分離される境界の一部と概
ね一致することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに
記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項11】空間光変調素子の第1の導電性透明電極
が分離されている境界部に第1の絶縁層を具備すること
を特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の投写型
画像表示装置。 - 【請求項12】空間光変調素子の光導電層へ入力される
光の一部を遮光する遮光層を、第1の導電性透明電極が
分離される境界部に具備することを特徴とする請求項1
〜11のいずれかに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項13】空間光変調素子の遮光層が導電性を有し
ており、前記遮光層と第1の導電性電極を電気的に絶縁
する第2の絶縁層を、前記遮光層と前記第1の導電性透
明電極の間に具備することを特徴とする請求項1〜12
のいずれかに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項14】空間光変調素子の光導電層の厚さは、第
1の導電性透明電極の厚さの100倍以内であることを
特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の投写型画
像表示装置。 - 【請求項15】空間光変調素子の第1の導電性透明電極
が分離されてなる領域の数が、2以上2000以下であ
ることを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載の
投写型画像表示装置。 - 【請求項16】空間光変調素子の分離された第1の導電
性透明電極に対して、入力される画像の水平走査方向と
同じ方向に位置する両端から電圧を印加することを特徴
とする請求項1〜15のいずれかに記載の投写型画像表
示装置。 - 【請求項17】空間光変調素子の第2の導電性透明電極
は、入力される画像の水平走査方向と概ね平行に分離さ
れていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記
載の投写型画像表示装置。 - 【請求項18】空間光変調素子の光反射層が複数の画素
に分離されており、かつ第2の導電性透明電極が分離さ
れる境界が、前記光反射層の分離される境界の一部と概
ね一致することを特徴とする請求項1〜8若しくは17
のいずれかに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項19】空間光変調素子の第2の導電性透明電極
が分離されている境界部に第3の絶縁層を具備すること
を特徴とする請求項1〜8若しくは17、18のいずれ
かに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項20】空間光変調素子の第3の絶縁層が光吸収
性を有することを特徴とする請求項1〜8若しくは17
〜19に記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項21】空間光変調素子の第3の絶縁層が光反射
性を有することを特徴とする請求項1〜8若しくは17
〜20のいずれかに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項22】空間光変調素子の第2の導電性透明電極
が分離される境界部に導電層を具備しており、且つ、前
記第2の導電性透明電極と前記導電層を電気的に絶縁す
る第4の絶縁層を前記導電層と前記第2の導電性透明電
極の間に具備することを特徴とする請求項1〜8若しく
は17〜21のいずれかに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項23】空間光変調素子の導電層が光吸収性を有
することを特徴とする請求項1〜8若しくは17〜22
のいずれかに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項24】空間光変調素子の導電層が光反射性を有
することを特徴とする請求項1〜8若しくは17〜23
のいずれかに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項25】空間光変調素子の導電層及び第4の絶縁
層が透明であり、かつ隣接する第2の導電性透明電極の
どちらか一方と同電位の駆動電圧を印加されることを特
徴とする請求項1〜8若しくは17〜24のいずれかに
記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項26】空間光変調素子の第2の導電性透明電極
が分離される領域の数が2以上2000以下であること
を特徴とする請求項1〜8若しくは17〜25のいずれ
かに記載の投写型画像表示装置。 - 【請求項27】空間光変調素子の分離された第2の導電
性透明電極の各領域に対して、光導電層に入力される光
信号の水平走査方向と同じ方向に位置する両端から電圧
を印加することを特徴とする請求項1〜8若しくは17
〜26に記載の投写型画像表示装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7280319A JPH09127544A (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 投写型画像表示装置 |
| EP96935462A EP0803759A4 (en) | 1995-10-27 | 1996-10-28 | Projection image display device |
| US08/875,198 US5990853A (en) | 1995-10-27 | 1996-10-28 | Projection type image displaying apparatus |
| PCT/JP1996/003140 WO1997015862A1 (fr) | 1995-10-27 | 1996-10-28 | Dispositif de presentation d'images projetees |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7280319A JPH09127544A (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 投写型画像表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09127544A true JPH09127544A (ja) | 1997-05-16 |
Family
ID=17623345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7280319A Pending JPH09127544A (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 投写型画像表示装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5990853A (ja) |
| EP (1) | EP0803759A4 (ja) |
| JP (1) | JPH09127544A (ja) |
| WO (1) | WO1997015862A1 (ja) |
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