JP7662541B2 - コレステリック液晶膜及びその製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、コレステリック液晶膜及びその製造方法に関する。

コレステリック液晶膜は、顕微鏡観察によって、暗部と明部とによる縞模様が観察されることが知られている。

例えば、国際公開第２０１８／０４３６７８号の図６には、ＳＥＭによるコレステリック液晶膜の断面の写真が示されており、暗部と明部とによる縞模様が確認される。

例えば、特開２００５－３７７３５号公報の図５には、コレステリック液晶偏光選択反射層の透過電子顕微鏡により撮影された断面構造の写真が示されており、暗部と明部とによる縞模様が確認される。

コレステリック液晶膜における暗部と明部との縞模様は、コレステリック液晶の配列状態を示すものである。
単層であるにも関わらず表面側と裏面側とでコレステリック液晶の配向状態が異なると、コレステリック液晶膜の用途に幅が出ることが期待される。

そこで、本開示は、上記の事情に鑑みてなされたものである。
本開示の一実施形態の課題は、表面側と裏面側とでコレステリック液晶の配向状態が異なるコレステリック液晶膜及びその製造方法を提供することにある。

課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ コレステリック液晶を含み、且つ、
顕微鏡観察した厚み方向の断面に、暗部と明部とが交互に並んだ縞模様、及び、一対の主面のうちの一方の主面の表層部にて暗部による折り返し構造を有する、コレステリック液晶膜。
＜２＞ 上記断面では、縞模様における暗部が主面に対して傾斜している、＜１＞に記載のコレステリック液晶膜。
＜３＞ 上記縞模様における暗部の主面に対する傾斜角が２０°～９０°である、＜２＞に記載のコレステリック液晶膜。
＜４＞ 上記暗部による折り返し構造が、上記一方の主面から膜厚の１／３までの領域に存在する、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のコレステリック液晶膜。
＜５＞ 上記一方の主面の表層部において、上記暗部による折り返し構造が、互いに隣り合う上記暗部２０本中に２箇所～１０箇所存在する、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載のコレステリック液晶膜。
＜６＞ 一対の主面のうちの他方の主面の表層部において、上記暗部による折り返し構造が、互いに隣り合う上記暗部２０本中に存在しない又は２箇所未満存在する、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載のコレステリック液晶膜。
＜７＞ 基材上に、溶媒、液晶化合物、及びキラル剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する第１工程と、
形成された塗膜表面にブレードにてせん断力を付与する第２工程と、
を有し、
上記第２工程でのせん断速度が１０００秒^－１以上である、コレステリック液晶膜の製造方法。

本開示の一実施形態によれば、表面側と裏面側とでコレステリック液晶の配向状態が異なるコレステリック液晶膜及びその製造方法が提供される。

本開示に係るコレステリック液晶膜の厚み方向の断面における顕微鏡観察写真の一例である。 コレステリック液晶膜の断面における棒状液晶化合物の分子配列の一例を示す模式図である。 本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法の一例を示す概略図である。 実施例１のコレステリック液晶膜の厚み方向の断面における顕微鏡観察写真である。 比較例１のコレステリック液晶膜の厚み方向の断面における顕微鏡観察写真である。

以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。本開示は、以下の実施形態に何ら制限されず、本開示の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。

本開示の実施形態について図面を参照して説明する場合、図面において重複する構成要素、及び符号については、説明を省略することがある。図面において同一の符号を用いて示す構成要素は、同一の構成要素であることを意味する。図面における寸法の比率は、必ずしも実際の寸法の比率を表すものではない。

本開示において、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ下限値及び上限値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本開示において、塗布液中の各成分の量は、塗布液中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、塗布液中に存在する複数の物質の合計量を意味する。

本開示において、「工程」との用語には、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。

本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。

本開示において、「主面」とは、対象物の表面のうち主要な面積を有する面を意味し、「一対の主面」とは、コレステリック液晶膜といった膜状物における表面及び裏面に該当する。
「一対の主面」は、製造上の観点から、互いに平行に配置されていることが好ましい。ここで、互いに平行とは、一方の主面が他方の主面とのなす角が±５°未満であることを指す。

本開示において、「分子軸」とは、分子構造の中心を分子構造の長手方向に沿って通る軸を意味する。ただし、円盤状液晶化合物に関して用いられる「分子軸」は、円盤状液晶化合物の円盤面と直角に交わる軸を意味する。

本開示において、「固形分」とは、対象物の全成分から溶媒を除いた成分を意味する。
本開示において、「固形分質量」とは、対象物の質量から溶媒の質量を除いた質量を意味する。

＜コレステリック液晶膜＞
本開示に係るコレステリック液晶膜は、コレステリック液晶を含み、且つ、顕微鏡観察した厚み方向の断面に、暗部と明部とが交互に並んだ縞模様、及び、一対の主面のうちの一方の主面の表層部に暗部による折り返し構造を有する、コレステリック液晶膜である。
つまり、本開示に係るコレステリック液晶膜の厚み方向の断面を、顕微鏡観察することで、その断面には、暗部と明部とが交互に並んだ縞模様、及び、一対の主面のうちの一方の主面の表層部にて暗部による折り返し構造が見られる。
ここで、「厚み方向の断面」とは、コレステリック液晶膜を厚み方向に沿って切断したときに得られる断面である。

本開示に係るコレステリック液晶膜は、顕微鏡観察した厚み方向の断面が、上記のように、一対の主面のうちの一方の主面の表層部の縞模様と、折り返し構造と、を有することから、表面側と裏面側とでコレステリック液晶の配向状態が異なるコレステリック液晶膜であるといえる。
このように、一方の主面の表層部にて暗部による折り返し構造が見られることから、折り返し構造が見られる一方の主面側と、他方の主面側とでは、例えば、光の散乱性能等が変わるものと推測される。
その結果、表面側と裏面側との光の散乱性能差を用いた用途に適用することができると考えられる。例えば、一方の主面の表層部にて暗部による折り返し構造が見られると、一方の主面側では特定の方向にのみ光を散乱させる機能が発現することがある。このような機能を有するコレステリック液晶膜は、透明スクリーン、照明、電子看板等に適用することができる。

既述の国際公開第２０１８／０４３６７８号及び特開２００５－３７７３５号公報に記載された顕微鏡により撮影された断面においては、暗部と明部とが交互に並んだ縞模様はみられるものの、暗部による折り返し構造は厚み方向の中央部に存在しており、本開示に係るコレステリック液晶膜の構成を有していない。

［コレステリック液晶］
本開示に係るコレステリック液晶膜は、コレステリック液晶を含む。
コレステリック液晶は、液晶化合物の分子群で構成された層が積み重なった積層構造を有する。１つ１つの層内ではそれぞれの液晶化合物の分子が一定方向に配列しており（つまり、分子軸が一定方向に並んでおり）、各層の分子の配列方向は、積層方向に進むにつれらせん状に旋回するようにずれていることで、らせん構造が形成される。
このらせん構造の軸を、コレステリック液晶のらせん軸という。

［厚み方向の断面の顕微鏡観察］
本開示に係るコレステリック液晶膜では、既述のように、顕微鏡観察した厚み方向の断面に、縞模様と折り返し構造とを有する。
顕微鏡観察には、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭともいう）又は偏光顕微鏡が用いられる。顕微鏡観察では、縞模様のピッチ（即ち、暗部間距離又は明部間距離）の大きさに応じて、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）と偏光顕微鏡とを使い分けてもよい。
厚さ方向の断面を得るためには、コレステリック液晶膜を、例えば、ミクロトームを切削すればよい。
また、厚さ方向の断面は、切削面を１０°刻みで回転させて１８箇所分（即ち、１８０°分）観察すればよい。１８箇所分の観察うち少なくとも１箇所にて縞模様と折り返し構造とが見られればよい。
ここで、観察する断面の面積は、例えば、少なくとも１０００μｍ^２とする。
また、本開示では、上記の顕微鏡観察にて、暗部及び明部が、少なくとも１０本ずつ（好ましくは、少なくとも２０本ずつ）交互に並んだものを「縞模様」とする。

（縞模様）
本開示に係るコレステリック液晶膜では、顕微鏡観察した厚み方向の断面に、暗部と明部とが交互に並んだ縞模様を有する。
縞模様について、図１を参照して説明する。ここで、図１は、本開示に係るコレステリック液晶膜の厚み方向の断面における顕微鏡観察写真の一例である。
図１は、配向層２を有する基材３の配向層上に、本開示に係るコレステリック液晶膜１を備えた積層体の顕微鏡観察写真であって、コレステリック液晶膜１は暗部１０と明部２０とが交互に並んだ縞模様を有する。
図１に示すコレステリック液晶膜１では、暗部１０は等間隔に並んでおり、明部２０も等間隔に並んでいる。

顕微鏡観察により見られる暗部及び明部は、らせん構造を形成する液晶化合物の分子軸の向きが、顕微鏡観察される断面に対して変化していることから現れる。
例えば、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶膜の偏光顕微鏡による観察の場合、棒状液晶化合物の分子軸の向きが顕微鏡観察される断面に対して直交（直交に近い状態も含む。以下同様。）する領域は、相対的に明るく見える。
一方、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶膜の偏光顕微鏡による観察の場合、棒状液晶化合物の分子軸の向きが顕微鏡観察される断面に対して平行（平行に近い状態も含む。以下同様。）となる領域は、相対的に暗く見える。
上記した２つの領域が交互に並ぶことで、明部と暗部とが交互に並んだ縞模様が見られる。

液晶化合物の分子軸についてより詳細に説明する。
厚み方向の断面の顕微鏡観察において暗部及び明部が見られる際には、コレステリック液晶膜中の液晶化合物の分子は、例えば、図２に示すように配列されているものと考えられる。ここで、図２は、コレステリック液晶膜の断面における棒状液晶化合物の分子配列の一例を示す模式図である。
図２に示されるコレステリック液晶膜１は、一対の主面（即ち、主面Ｆａ及びＦｂ）を有し、楕円で示される棒状液晶化合物３０を含む。棒状液晶化合物３０は、コレステリック液晶の形態をとっており、らせん軸ＨＡに沿ってらせん状に配列している。
つまり、コレステリック液晶膜１中の棒状液晶化合物３０はらせん状に配列されることから、顕微鏡観察される断面に対する分子軸３０Ａの向きがらせん軸に沿って変化する。図２では、顕微鏡観察される断面に対して分子軸３０Ａが直交する状態を、棒状液晶化合物３０を示す楕円の長軸が短い形状で示し、顕微鏡観察される断面に対して分子軸３０Ａが平行となる状態を、棒状液晶化合物３０を示す楕円の長軸が長い形状で示している。

図２に示すように棒状液晶化合物３０の分子が配列していることで、棒状液晶化合物３０の分子軸３０Ａの向きが顕微鏡観察される断面に対して平行となる領域（即ち、棒状液晶化合物３０を示す楕円の長軸が長い形状として示される領域）は、暗部として観察される。同様の理由から、棒状液晶化合物３０の分子軸３０Ａの向きが顕微鏡観察される断面に対して直交する領域（即ち、棒状液晶化合物３０を示す楕円が短い形状として示される領域）は、明部として観察される。

図２に示されるコレステリック液晶膜１において、らせん軸ＨＡは、棒状液晶化合物１３の分子軸３０Ａに対して直交しており、且つ、コレステリック液晶膜１の主面Ｆａ及びＦｂのそれぞれに対して傾斜している。
このようにらせん軸ＨＡが傾斜することで、後述するように、縞模様における暗部が主面に対して傾斜することになる。
なお、らせん軸ＨＡの主面Ｆａ及びＦｂに対する傾斜角は、縞模様における暗部の主面に対する傾斜角と直交する。

縞模様における暗部は、主面に対して傾斜していることが好ましい。
つまり、図１に示すように、縞模様における暗部１０は、主面Ｆａ及びＦｂに対して傾斜していることが好ましい。暗部が傾斜していることで、縞模様自体も傾斜することとなり、コレステリック液晶に起因する反射光を、主面の垂直方向に対して傾斜した方向に強く出射することができる。
本開示において、「暗部が主面に対して傾斜している」という態様は、顕微鏡観察した厚み方向の断面において、暗部と主面とが平行ではないことを意味する。
より具体的には、縞模様における暗部の主面に対する傾斜角は、２０°～９０°であることが好ましく、３０°～９０°であることが好ましく、４０°～９０°であることが更に好ましい。

暗部の主面に対する傾斜角は、以下の方法によって求める。
厚み方向の断面の顕微鏡観察において、任意の１本の暗部について、長手方向の両端の幅方向中央部を通る直線と主面とのなす角θを測定する。ここで、角θを測定する暗部は、折り返し構造を形成していないもののうちから選択される。また、角θが９０°である場合を除き、交差部における角度のうち小さい方（即ち、鋭角の方）を傾斜角とする。この測定を暗部１０本分について行い、得られた暗部１０本分の測定値の算術平均値を、暗部の主面に対する傾斜角とする。

縞模様における暗部間距離は、コレステリック液晶におけるらせん構造の形成のしやすさの観点から、０．０１μｍ～５００μｍであることが好ましく、０．０５μｍ～１００μｍであることがより好ましく、０．１μｍ～５μｍであることが更に好ましい。

暗部間距離は、以下の方法によって求める。
厚み方向の断面の顕微鏡観察において、５組の隣り合う暗部間の最短距離を測定する。より具体的には、まず、互いに隣り合う６本の暗部を選択して、この６本の暗部から５組の隣り合う暗部を抽出する。そして、隣り合う暗部間の最短距離として、組内の、１本の暗部の幅方向の中心と、もう１本の暗部の幅方向の中心と、の最短距離を測定する。この測定を５組分行い、５組分の測定値の算術平均値を、暗部間距離とする。

縞模様における暗部は、等間隔に並ぶことが好ましい。
ここで、「等間隔」とは、完全に等間隔でなくてもよく、暗部間距離を求める際に測定した隣り合う暗部間の最短距離５箇所の値が、暗部間距離（即ち、算術平均値）に対して±１０％以内であればよい。

（折り返し構造）
本開示に係るコレステリック液晶膜では、顕微鏡観察した厚み方向の断面に、一対の主面のうちの一方の主面の表層部に暗部による折り返し構造が有する。
折り返し構造は、隣り合う暗部同士又は近接する暗部同士が結合している構造を指す。より具体的に言えば、図１に示すように、折り返し構造１２は、隣り合う暗部同士又は近接する暗部同士が結合してＵ字に見える構造を指す。
本開示に係るコレステリック液晶膜では、一対の主面のうちの一方の主面の表層部にて上記のような折り返し構造が見られる。
なお、一対の主面のうちの一方の主面の表層部にて、折り返し構造を形成している暗部は、他方の主面の表層部では、折り返し構造を形成していないことが好ましい。

ここで、表層部とは、コレステリック液晶膜の厚み方向の中央部を除く領域を指し、具体的には、主面から膜厚の１／３までの領域を示す。つまり、本開示に係るコレステリック液晶膜において、折り返し構造（即ち、Ｕ字部）は、コレステリック液晶膜の一対の主面のうち一方の主面から膜厚の１／３までの領域に存在する。
図１を用いてより具体的に説明すれば、折り返し構造（即ち、Ｕ字部）１２は、コレステリック液晶膜１の主面Ｆｂから膜厚ｔの１／３までの領域に存在する。
なお、折り返し構造は、コレステリック液晶膜の膜厚によって変わるが、コレステリック液晶膜の一対の主面のうち一方の主面から膜厚の１／４までの領域に存在してもよいし、コレステリック液晶膜の一対の主面のうち一方の主面から膜厚の１／５までの領域に存在してもよい。

一方の主面の表層部における暗部による折り返し構造は、折り返し構造により得られる光学性能が発現しやすい観点から、互いに隣り合う暗部２０本中に、２箇所～１０箇所存在することが好ましく、３箇所～１０箇所存在することがより好ましく、５箇所～１０箇所存在することが更に好ましい。

本開示に係るコレステリック液晶膜において、一対の主面のうちの他方の主面（即ち、表層部に折り返し構造を有する一方の主面とは逆の主面）の表層部における暗部による折り返し構造は、互いに隣り合う暗部２０本中に存在しない又は２箇所未満で存在することが好ましく、存在しないことがより好ましい。
つまり、本開示に係るコレステリック液晶膜では、一対の主面のうちの他方の主面の表層部にて、上記のような折り返し構造が見られない、又は見られても非常に少ない。
図１を用いてより具体的に説明すれば、折り返し構造（即ち、Ｕ字部）１２は、コレステリック液晶膜１の主面Ｆａから膜厚ｔの１／３までの領域に存在しないことが好ましい。

折り返し構造の数は、以下の方法によって求める。
厚み方向の断面の顕微鏡観察において、表層部（即ち、主面から膜厚の１／３までの領域）中の隣り合う暗部１００本を抽出し、この暗部２０本中に折り返し構造が何箇所あるかを求める。
抽出する暗部を変え、同様に折り返し構造の数を求めることを、３回行い、得られた値の算術平均値を、折り返し構造の数とする。

［コレステリック液晶膜に含まれる成分］
以下、本開示に係るコレステリック液晶膜に含まれる成分について説明する。
本開示に係るコレステリック液晶膜は、コレステリック液晶を形成する液晶化合物を含む。
また、本開示に係るコレステリック液晶膜は、必要に応じて、他の成分（例えば、キラル剤、溶媒、配向規制剤、重合開始剤、レベリング剤、配向助剤、増感剤等）を含んでいてもよい。

（液晶化合物）
本開示に係るコレステリック液晶膜に含まれる液晶化合物は、特に制限されない。液晶化合物としては、例えば、コレステリック液晶を形成する公知の液晶化合物を利用することができる。

液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。液晶化合物は、１種単独、又は２種以上の重合性基を有していてもよい。液晶化合物が重合性基を有することで、液晶化合物を重合させることができる。液晶化合物を重合させることで、コレステリック液晶の安定性を向上させることができる。

重合性基としては、例えば、エチレン性不飽和二重結合を有する基、環状エーテル基、及び開環反応を起こすことが可能な含窒素複素環基が挙げられる。

エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルフェニル基、及びアリル基が挙げられる。

環状エーテル基としては、例えば、エポキシ基、及びオキセタニル基が挙げられる。

開環反応を起こすことが可能な含窒素複素環基としては、例えば、アジリジニル基が挙げられる。

重合性基は、エチレン性不飽和二重結合を有する基、及び環状エーテル基からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。具体的に、重合性基は、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルフェニル基、アリル基、エポキシ基、オキセタニル基、及びアジリジニル基からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、及びメタクリロイルオキシ基からなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましく、アクリロイルオキシ基、及びメタクリロイルオキシ基からなる群より選択される少なくとも１種であることが特に好ましい。

液晶化合物は、化学構造に応じて、例えば、棒状液晶化合物、及び円盤状液晶化合物に分類される。棒状液晶化合物は、棒状の化学構造を有する液晶化合物として知られている。棒状液晶化合物としては、例えば、公知の棒状液晶化合物を利用することができる。円盤状液晶化合物は、円盤状の化学構造を有する液晶化合物として知られている。円盤状液晶化合物としては、例えば、公知の円盤状液晶化合物を利用することができる。

液晶化合物は、コレステリック液晶膜の光学特性（特に光の回折特性）の調整の観点から、棒状液晶化合物であることが好ましく、棒状サーモトロピック液晶化合物であることがより好ましい。

棒状サーモトロピック液晶化合物は、棒状の化学構造を有し、かつ、特定の温度範囲で液晶性を示す化合物である。棒状サーモトロピック液晶化合物としては、例えば、公知の棒状サーモトロピック液晶化合物を利用することができる。

棒状サーモトロピック液晶化合物としては、例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７明細書、国際公開第９５／２２５８６号、国際公開第９５／２４４５５号、国際公開第９７／００６００号、国際公開第９８／２３５８０号、国際公開第９８／５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特表平１１－５１３０１９号公報、特開平１１－８００８１号公報、特開２００１－３２８９７３号公報、又は特開２００７－２７９６８８号公報に記載された化合物が挙げられる。棒状サーモトロピック液晶化合物としては、例えば、特開２０１６－８１０３５号公報において一般式１で表される液晶化合物、及び特開２００７－２７９６８８号公報において一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表される化合物も挙げられる。

棒状サーモトロピック液晶化合物は、下記一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（１）中、Ｑ^１、及びＱ^２は、それぞれ独立して、重合性基を表し、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、及びＬ^４は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の連結基を表し、Ａ^１、及びＡ^２は、それぞれ独立して、炭素原子数が２～２０である２価の炭化水素基を表し、Ｍは、メソゲン基を表す。

一般式（１）中、Ｑ^１、及びＱ^２で表される重合性基としては、例えば、既述の重合性基が挙げられる。Ｑ^１、及びＱ^２で表される重合性基の好ましい態様は、既述の重合性基と同様である。

一般式（１）中、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、及びＬ^４で表される２価の連結基は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－Ｏ－、及びＮＲ－ＣＯ－ＮＲ－からなる群より選択される２価の連結基であることが好ましい。上記した２価の連結基におけるＲは、炭素原子数が１～７であるアルキル基、又は水素原子を表す。

一般式（１）中、Ｌ^３、及びＬ^４の少なくとも一方は、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－であることが好ましい。

一般式（１）中、Ｑ^１－Ｌ^１－、及びＱ^２－Ｌ^２－は、それぞれ独立して、ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＯ－Ｏ－、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－ＣＯ－Ｏ－、又はＣＨ_２＝Ｃ（Ｃｌ）－ＣＯ－Ｏ－であることが好ましく、ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＯ－Ｏ－であることがより好ましい。

一般式（１）中、Ａ^１、及びＡ^２で表される２価の炭化水素基は、炭素原子数が２～１２であるアルキレン基、炭素原子数が２～１２であるアルケニレン基、又は炭素原子数が２～１２であるアルキニレン基であることが好ましく、炭素原子数が２～１２であるアルキレン基であることがより好ましい。２価の炭化水素基は、鎖状であることが好ましい。２価の炭化水素基は、互いに隣接していない酸素原子、又は互いに隣接していない硫黄原子を含んでいてもよい。２価の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、及び臭素）、シアノ基、メチル基、及びエチル基が挙げられる。

一般式（１）中、Ｍで表されるメソゲン基は、液晶形成に寄与する液晶化合物の主要骨格を形成する基である。Ｍで表されるメソゲン基については、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ II」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ， Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）の記載（特に第７頁～第１６頁）、及び「液晶便覧」（液晶便覧編集委員会編、丸善、２０００年刊）の記載（特に第３章）を参照することができる。

一般式（１）中、Ｍで表されるメソゲン基の具体的な構造としては、例えば、特開２００７－２７９６８８号公報の段落［００８６］に記載された構造が挙げられる。

一般式（１）中、Ｍで表されるメソゲン基は、芳香族炭化水素基、複素環基、及び脂環式炭化水素基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を含む基であることが好ましく、芳香族炭化水素基を含む基であることがより好ましい。

一般式（１）中、Ｍで表されるメソゲン基は、２個～５個の芳香族炭化水素基を含む基であることが好ましく、３個～５個の芳香族炭化水素基を含む基であることがより好ましい。

一般式（１）中、Ｍで表されるメソゲン基は、３個～５個のフェニレン基を含み、かつ、上記フェニレン基が互いに－ＣＯ－Ｏ－によって連結された基であることが好ましい。

一般式（１）中、Ｍで表されるメソゲン基に含まれる環状構造（例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、及び脂環式炭化水素基）は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、炭素数が１～１０であるアルキル基（例えば、メチル基）が挙げられる。

一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、一般式（１）で表される化合物は、以下に示す化合物に制限されるものではない。以下に示す化合物の化学構造において、「－Ｍｅ」は、メチル基を表す。

棒状サーモトロピック液晶化合物の具体例を以下に示す。ただし、棒状サーモトロピック液晶化合物は、以下に示す化合物に制限されるものではない。

液晶化合物は、公知の方法によって合成した合成品、又は市販品であってもよい。
液晶化合物の市販品は、例えば、東京化成工業（株）、及び富士フイルム和光純薬（株）から入手可能である。

液晶化合物の含有率は、耐熱性の観点から、コレステリック液晶膜の全質量に対して、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。液晶化合物の含有率の上限は、制限されない。液晶化合物の含有率は、コレステリック液晶膜の全質量に対して、１００質量％以下の範囲で決定すればよい。コレステリック液晶膜が液晶化合物以外の成分を含む場合、液晶化合物の含有率は、コレステリック液晶膜の全質量に対して、１００質量％未満（好ましくは、９８質量％以下、又は９５質量％以下）の範囲で決定すればよい。
液晶化合物の含有率は、例えば、コレステリック液晶膜の全質量に対して、７０質量％以上１００質量％未満であることが好ましく、８０質量％～９８質量％であることがより好ましく、９０質量％～９５質量％であることが特に好ましい。

（他の成分）
コレステリック液晶膜は、液晶化合物以外の成分（以下、本段落において「他の成分」という。）を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、キラル剤、溶媒、配向規制剤、重合開始剤、レベリング剤、配向助剤、及び増感剤が挙げられる。

［コレステリック液晶膜の膜厚]
コレステリック液晶膜の膜厚は、特に制限はなく、用途に応じて決定されればよい。
コレステリック液晶膜の膜厚は、膜強度の観点から、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、２μｍ以上であることが特に好ましい。
コレステリック液晶膜の膜厚は、配向精度の観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることが特に好ましい。
コレステリック液晶膜の膜厚は、例えば、０．５μｍ～３０μｍであることが好ましく、１μｍ～２５μｍであることがより好ましく、２μｍ～２０μｍであることが特に好ましい。

コレステリック液晶膜の膜厚は、以下の方法によって求める。
厚み方向の断面の顕微鏡観察において、５箇所の膜厚を測定する。
測定値の算術平均値を、コレステリック液晶膜の膜厚とする。

［他の層］
本開示に係るコレステリック液晶膜は、コレステリック液晶膜に加えて、コレステリック液晶膜以外の層と共に積層構造を有していてもよい。
他の層の種類は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、制限されない。他の層としては、例えば、基材、及び配向層が挙げられる。

（基材）
本開示に係るコレステリック液晶膜は、基材と共に積層構造を有していてもよい。
基材としては、樹脂基材であることが好ましい。
樹脂基材としては、例えば、ポリエステル系基材（例えば、ポリエチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレート）、セルロース系基材（例えば、ジアセチルセルロース、及びトリアセチルセルロース（略称：ＴＡＣ））、ポリカーボネート系基材、ポリ（メタ）アクリル系基材（例えば、ポリ（メタ）アクリレート（例えば、ポリメチルメタクリレート））、ポリスチレン系基材（例えば、ポリスチレン、及びアクリロニトリルスチレン共重合体）、オレフィン系基材（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状構造（例えば、ノルボルネン構造）を有するポリオレフィン、及びエチレンプロピレン共重合体）、ポリアミド系基材（例えば、ポリ塩化ビニル、ナイロン、及び芳香族ポリアミド）、ポリイミド系基材、ポリスルホン系基材、ポリエーテルスルホン系基材、ポリエーテルエーテルケトン系基材、ポリフェニレンスルフィド系基材、ビニルアルコール系基材、ポリ塩化ビニリデン系基材、ポリビニルブチラール系基材、ポリオキシメチレン系基材、及びエポキシ樹脂系基材が挙げられる。基材は、２種以上の樹脂（すなわち、ブレンドポリマー）を含む基材であってもよい。基材は、セルロース系基材であることが好ましく、トリアセチルセルロースを含む基材であることがより好ましい。

基材の厚さは、製造適性、製造原価、及び光学特性の観点から、３０μｍ～１５０μｍの範囲であることが好ましく、４０μｍ～１００μｍの範囲であることがより好ましい。

（配向層）
本開示に係るコレステリック液晶膜は、基材とコレステリック液晶膜との間に、配向層を設け、積層構造を有していてもよい。

配向層としては、例えば、液晶化合物に対して配向規制力を与える機能を有する公知の配向層を利用することができる。配向層は、電場の付与、磁場の付与、又は光照射によって配向機能が生じる配向層であってもよい。

配向層の膜厚は、０．１μｍ～１０μｍの範囲であることが好ましく、１μｍ～５μｍの範囲であることがより好ましい。

配向層の形成方法としては、例えば、有機化合物（好ましくは重合体）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、及びマイクログルーブを有する層の形成が挙げられる。

［用途］
本開示に係るコレステリック液晶膜は、透明スクリーン、照明、電子看板等への適用が期待される。

＜コレステリック液晶膜の製造方法＞
本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、既述のような、顕微鏡観察した厚み方向の断面に、暗部と明部とが交互に並んだ縞模様、及び、一対の主面のうちの一方の主面の表層部に暗部による折り返し構造を有するコレステリック液晶膜を製造可能な方法であれば制限されない。
以下、本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法の一例を説明するが、この製造方法に限定されるものではない。

本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、基材上に、溶媒、液晶化合物、及びキラル剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する第１工程と、形成された塗膜表面にブレードにてせん断力を付与する第２工程と、を有し、第２工程でのせん断速度が１０００秒^－１以上である。
以下、各工程について具体的に説明する。

［第１工程］
第１工程では、基材上に、溶媒、液晶化合物、及びキラル剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する。

（基材）
第１工程において用いられる基材としては、例えば、上記「基材」の項において説明した基材が挙げられる。第１工程において用いられる基材の好ましい態様は、上記「基材」の項において説明した基材と同様である。第１工程において用いられる基材の表面に、予め配向層が配置されていてもよい。

（液晶化合物）
第１工程で用いる塗布液に含まれる液晶化合物としては、例えば、上記「液晶化合物」の項において説明した液晶化合物を利用することができる。塗布液に含まれる液晶化合物の好ましい態様は、上記「液晶化合物」の項において説明した液晶化合物と同様である。

塗布液は、１種単独、又は２種以上の液晶化合物を含んでいてもよい。

液晶化合物の含有率は、塗布液の固形分質量に対して、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。液晶化合物の含有率の上限は、液晶化合物以外の成分の含有量に応じて決定すればよい。液晶化合物の含有率は、塗布液の固形分質量に対して、１００質量％未満（好ましくは、９８質量％以下、又は９５質量％以下）の範囲で決定すればよい。

（キラル剤）
キラル剤の種類は、制限されない。
キラル剤としては、例えば、公知のキラル剤（例えば、「液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第一４２委員会編、１９８９」に記載されたキラル剤）を利用することができる。

キラル剤の多くは、不斉炭素原子を含む。ただし、キラル剤は、不斉炭素原子を含む化合物に制限されない。キラル剤としては、例えば、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物、及び面性不斉化合物も挙げられる。軸性不斉化合物、又は面性不斉化合物としては、例えば、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、及びこれらの誘導体が挙げられる。

キラル剤は、重合性基を有していてもよい。例えば、重合性基を有するキラル剤と、重合性基を有する液晶化合物との反応により、上記キラル剤に由来する構成単位と、上記液晶化合物に由来する構成単位とを有する重合体が得られる。

キラル剤における重合性基としては、例えば、上記「液晶化合物」の項において説明した重合性基が挙げられる。キラル剤における重合性基の好ましい態様は、上記「液晶化合物」の項において説明した重合性基と同様である。キラル剤における重合性基の種類は、液晶化合物における重合性基の種類と同じであることが好ましい。

強いねじれ力を示すキラル剤としては、例えば、特開２０１０－１８１８５２号公報、特開２００３－２８７６２３号公報、特開２００２－８０８５１号公報、特開２００２－８０４７８号公報、又は特開２００２－３０２４８７号公報に記載されているキラル剤が挙げられる。上記のような文献に記載されているイソソルビド化合物類については、対応する構造のイソマンニド化合物類をキラル剤として用いることもできる。また、上記のような文献に記載されているイソマンニド化合物類については、対応する構造のイソソルビド化合物類をキラル剤として用いることもできる。

キラル剤の含有率は、塗布液の固形分質量に対して、０．５質量％～１０．０質量％であることが好ましく、０．８質量％～３．０質量％であることがより好ましく、１．０質量％～３．０質量％であることが特に好ましい。

（溶媒）
溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、例えば、アミド溶媒（例えば、Ｎ、Ｎ－ジメチルホルムアミド）、スルホキシド溶媒（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素溶媒（例えば、ベンゼン、及びヘキサン）、ハロゲン化アルキル溶媒（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル溶媒（例えば、酢酸メチル、及び酢酸ブチル）、ケトン溶媒（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、及びシクロヘキサノン）、及びエーテル溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、及び１、２－ジメトキシエタン）が挙げられる。有機溶媒は、ハロゲン化アルキル溶媒、及びケトン溶媒からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、ケトン溶媒であることがより好ましい。

塗布液は、１種単独、又は２種以上の溶媒を含んでいてもよい。

塗布液中の固形分の含有率は、塗布液の全質量に対して、２５質量％～４０質量％であることが好ましく、２５質量％～３５質量％であることがより好ましい。

（他の成分）
第１工程で用いられる塗布液は、上記した成分以外の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、配向規制剤、重合開始剤、レベリング剤、配向助剤、及び増感剤が挙げられる。

－配向規制剤－
配向規制剤としては、例えば、特開２０１２－２１１３０６号公報の段落［００１２］～段落［００３０］に記載された化合物、特開２０１２－１０１９９９号公報の段落［００３７］～段落［００４４］に記載された化合物、特開２００７－２７２１８５号公報の段落［００１８］～段落［００４３］に記載された含フッ素（メタ）アクリレートポリマー、及び特開２００５－０９９２５８号公報に合成方法と共に詳細に記載された化合物が挙げられる。特開２００４－３３１８１２号公報に記載されている、フルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位を全重合単位の５０質量％超で含むポリマーを配向規制剤として用いてもよい。

配向規制剤としては、垂直配向剤も挙げられる。垂直配向剤としては、例えば、特開２０１５－３８５９８号公報に記載されたボロン酸化合物及び／又はオニウム塩、並びに特開２００８－２６７３０号公報に記載されたオニウム塩が挙げられる。

配向規制剤の含有率は、塗布液の固形分質量に対して、０質量％を超えて５．０質量％以下であることが好ましく、０．３質量％～２．０質量％であることがより好ましい。

－重合開始剤－
重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、及び熱重合開始剤が挙げられる。
重合開始剤は、熱による基材の変形、及び塗布液の変質を抑制する観点から、光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（例えば、米国特許第２３６７６６１号明細書、又は米国特許第２３６７６７０号明細書に記載された化合物）、アシロインエーテル（例えば、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載された化合物）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載された化合物）、多核キノン化合物（例えば、米国特許第３０４６１２７号明細書、又は米国特許第２９５１７５８号明細書に記載された化合物）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載された化合物）、アクリジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報、又は米国特許第４２３９８５０号明細書に記載された化合物）、フェナジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報、又は米国特許第４２３９８５０号明細書に記載された化合物）、オキサジアゾール化合物（例えば、米国特許第４２１２９７０号明細書記載の化合物）、及びアシルフォスフィンオキシド化合物（例えば、特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、又は特開平１０－２９９９７号公報に記載された化合物）が挙げられる。

重合開始剤の含有率は、塗布液の固形分質量に対して、０．５質量％～５．０質量％であることが好ましく、１．０質量％～４．０質量％であることがより好ましい。

（塗布液の調製方法）
第１工程に用いられる塗布液の調製方法は、制限されない。
塗布液の調製方法としては、例えば、上記各成分を混合する方法が挙げられる。混合方法としては、公知の混合方法を利用することができる。塗布液の調製方法においては、上記各成分を混合した後、得られた混合物をろ過してもよい。

［塗布方法］
塗布液の塗布方法は、制限されない。
塗布液の塗布方法としては、例えば、エクストルージョンダイコータ法、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、及びワイヤーバー法が挙げられる。

［塗膜の厚さ］
塗膜の厚さ（即ち、塗布液の塗布量）は、制限されない。
塗膜の厚さは、例えば、目的とするコレステリック液晶膜の厚さ、又は下記「第２工程」の項において説明するせん断力が与えられる前の塗膜の厚さに応じて決定すればよい。

〔第２工程〕
第２工程では、第１工程で形成された塗膜表面にブレードにてせん断力を付与する。そして、第２工程でのせん断速度が１０００秒^－１以上である。

（ブレードによるせん断力の付与）
ブレードを用いて塗膜の表面にせん断力を与える方法においては、ブレードによって塗膜の表面を掻き取ることが好ましい。上記方法においては、せん断力を付与する前後で塗膜の厚さが変化する場合がある。ブレードによってせん断力が与えられた後の塗膜の厚さは、せん断力が与えられる前の塗膜の厚さに対して、１／２以下、又は１／３以下であってもよい。ブレードによってせん断力が与えられた後の塗膜の厚さは、せん断力が与えられる前の塗膜の厚さに対して、１／４以上であることが好ましい。

ブレードの材料は、制限されない。ブレードの材料としては、例えば、金属（例えば、ステンレス）、及び樹脂（例えば、テフロン（登録商標）、及びポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ））が挙げられる。

ブレードの形状は、制限されない。ブレードの形状としては、例えば、板状が挙げられる。

ブレードは、塗膜に対してせん断力を与えやすいという観点から、金属製の板状部材であることが好ましい。

塗膜に接触するブレードの先端部の厚さは、塗膜に対してせん断力を与えやすいという観点から、０．１ｍｍ以上であることが好ましく、１ｍｍ以上であることがより好ましい。ブレードの厚さの上限は、制限されない。ブレードの厚さは、例えば、１０ｍｍ以下の範囲で決定すればよい。

（せん断速度）
第２工程におけるせん断速度は、１０００秒^－１以上であり、１００００秒^－１以上であることがより好ましく、３００００秒^－１以上であることが特に好ましい。せん断速度の上限は、制限されない。せん断速度は、例えば、１．０×１０^６秒^－１以下の範囲で決定すればよい。

以下、せん断速度の求め方について説明する。例えば、ブレードを用いてせん断力を与える場合、せん断速度は、ブレードと基材との最短距離を「ｄ」とし、ブレードに接触する塗膜の搬送速度（すなわち、塗膜とブレードとの相対速度）を「Ｖ」としたとき、「Ｖ／ｄ」によって求められる。

（塗膜の表面温度）
せん断力が与えられる塗膜の表面温度は、塗膜に含まれる液晶化合物の相転移温度に応じて決定すればよい。せん断力が与えられる塗膜の表面温度は、５０℃～１２０℃であることが好ましく、６０℃～１００℃であることがより好ましい。塗膜の表面温度を上記範囲に調整することで、配向精度が高いコレステリック液晶膜を得ることができる。塗膜の表面温度は、非接触式温度計で測定した温度値によって放射率が校正された放射温度計を用いて測定する。塗膜の表面温度は、測定面とは反対側（すなわち、裏側）の表面から１０ｃｍ以内に反射物がない状態で測定する。

（塗膜の厚さ）
せん断力が与えられる前の塗膜の厚さは、配向精度が高いコレステリック液晶膜を形成するという観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ～２５μｍの範囲であることがより好ましい。

せん断力が与えられた後の塗膜の厚さは、配向精度が高いコレステリック液晶膜を形成するという観点から、１０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以下であることがより好ましい。せん断力が与えられた後の塗膜の厚さの下限は、制限されない。せん断力が与えられた後の塗膜の厚さは、５μｍ以上の範囲であることが好ましい。

［第３工程］
本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、第１工程と第２工程との間に、塗布された塗膜中の溶媒の含有率を塗膜の全質量に対して５０質量％以下の範囲に調整する第３工程を有することが好ましい。
塗膜中の溶媒の含有率を５０質量％以下の範囲に調整することで、配向精度が高いコレステリック液晶膜を形成することができる。

第３工程において、塗膜中の溶媒の含有率は、塗膜の全質量に対して、４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。塗膜中の溶媒の含有率の下限は、制限されない。塗膜中の溶媒の含有率は、上記塗膜の全質量に対して、０質量％であってもよく、又は０質量％を超えてもよい。塗布された塗膜中の溶媒の含有率は、塗布された塗膜の表面状態の悪化を抑制しやすいという観点から、１０質量％以上であることが好ましい。

塗膜中の溶媒の含有率は、絶乾法によって測定する。以下、測定方法の具体的な手順を説明する。塗膜から採取した試料を、６０℃で２４時間乾燥した後、乾燥前後の試料の質量変化（すなわち、乾燥後の試料の質量と乾燥前の試料の質量との差）を求める。上記操作を３回行うことで得られた値の算術平均を、溶媒の含有率とする。

第３工程において、塗膜中の溶媒の含有率を調整する方法としては、例えば、乾燥が挙げられる。

塗膜の乾燥手段としては、公知の乾燥手段を利用することができる。乾燥手段として、例えば、オーブン、温風機、及び赤外線（ＩＲ）ヒーターが挙げられる。

温風機を用いる乾燥においては、塗膜に対して温風を直接当ててもよく、又は基材の塗膜が配置された面とは反対側の面に対して温風を当ててもよい。また、塗膜の表面が温風によって流動することを抑制するために、拡散板を設置してもよい。

乾燥は、吸気によって行ってもよい。吸気による乾燥においては、例えば、排気機構を有する減圧室を用いることができる。塗膜の周囲の気体を吸気することで、塗膜中の溶媒の含有率を低減することができる。

乾燥条件は、塗膜中の溶媒の含有率を５０質量％以下の範囲に調整することができれば制限されない。乾燥条件は、例えば、塗膜に含まれる成分、塗膜の塗布量、及び搬送速度に応じて決定すればよい。

［第４工程］
本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、塗布液が重合性化合物（例えば、重合性基を有する液晶化合物、又は重合性基を有するキラル剤）を含む場合、第２工程の後に、せん断力を与えられた塗膜を硬化させる第４工程を有することが好ましい。
第４工程において塗膜を硬化させることで、液晶化合物の分子配列を固定することができる。

塗膜を硬化させる方法としては、例えば、加熱、及び活性エネルギー線の照射が挙げられる。第４工程においては、製造適性の観点から、せん断力を与えられた塗膜に活性エネルギー線を照射することによって、塗膜を硬化させることが好ましい。

活性エネルギー線としては、例えば、α線、γ線、Ｘ線、紫外線、赤外線、可視光線、及び電子線が挙げられる。活性エネルギー線は、硬化感度、及び装置の入手容易性の観点から、紫外線であることが好ましい。

紫外線の光源としては、例えば、ランプ（例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、及びカーボンアークランプ）、レーザー（例えば、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、及びＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ Ａｌｕｍｉｎｕｍ Ｇａｒｎｅｔ）レーザー）、発光ダイオード、及び陰極線管が挙げられる。

紫外線の光源から発せられる紫外線のピーク波長は、２００ｎｍ～４００ｎｍであることが好ましい。

紫外線の露光量（積算光量ともいう。）は、１００ｍＪ／ｃｍ^２～５００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましい。

［他の工程］
本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、上記した工程以外の工程を有していてもよい。
本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、例えば、基材上に配向層を形成する工程を有していてもよい。基材上に配向層を形成する工程は、第１工程の前に実施されることが好ましい。

本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、ロールトゥロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式によって実施してもよい。ロールトゥロール方式においては、例えば、長尺の基材を連続搬送しながら各工程を実施する。
本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法は、１つずつ搬送される枚葉の基材を用いて実施してもよい。

本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法について、図３を参照して説明する。図３は、本開示に係るコレステリック液晶膜の製造方法の一例を示す概略図である。

図３において、コレステリック液晶膜は、ロールトゥロール方式によって製造される。ロール状に巻回された長尺の基材Ｆは、搬送ロール５００によって矢印の方向へ搬送される。基材Ｆの搬送速度は、１０ｍ／分～１００ｍ／分であることが好ましい。

搬送ロール５００を通過した基材Ｆに対して、塗布装置１００によって塗布液を塗布する（第１工程）。
塗布液は、液晶化合物、キラル剤、及び溶媒を含む。
塗布装置１００による塗布液の塗布は、基材Ｆがバックアップロール６００上に巻き掛けられた領域で行われる。以下、バックアップロール６００の好ましい態様について説明する。

バックアップロール６００の表面は、例えば、ハードクロムメッキが施されていてもよい。メッキの厚さは、４０μｍ～６０μｍであることが好ましい。

バックアップロール６００の表面粗Ｒａは、０．１μｍ以下であることが好ましい。

バックアップロール６００の表面温度は、温度制御手段によって任意の温度範囲に制御されていてもよい。バックアップロール６００の表面温度は、塗布液の組成、塗布液の硬化性能、及び基材の耐熱性に応じて決定すればよい。バックアップロール６００の表面温度は、例えば、４０℃～１２０℃であることが好ましく、４０℃～１００℃であることがより好ましい。バックアップロール６００の温度制御手段としては、例えば、加熱手段、及び冷却手段が挙げられる。加熱手段としては、例えば、誘導加熱、水加熱、及び油加熱が挙げられる。冷却手段としては、例えば、冷却水による冷却が挙げられる。

バックアップロール６００の直径は、１００ｍｍ～１，０００ｍｍであることが好ましく、１００ｍｍ～８００ｍｍであることがより好ましく、２００ｍｍ～７００ｍｍであることが特に好ましい。

バックアップロール６００に対する基材Ｆのラップ角は、６０°以上であることが好ましく、９０°以上であることがより好ましい。また、ラップ角の上限は、例えば、１８０°に設定することができる。「ラップ角」とは、基材がバックアップロールに接触する際の基材の搬送方向と、バックアップロールから基材が離間する際の基材の搬送方向とのなす角を意味する。

塗布装置１００によって基材Ｆに塗布液を塗布し、塗膜を形成した後、乾燥装置２００によって塗膜を乾燥する（第３工程）。
塗膜を乾燥することで、塗膜中の溶媒の含有率を調整する。

乾燥装置２００によって塗膜を乾燥した後、搬送ロール５１０を通過した塗膜の上面を、ブレード３００を用いて掻き取ることによって、塗膜の表面にせん断力を与える（第２工程）。
せん断力は、塗膜の搬送方向（すなわち、基材の搬送方向）に沿って与えられる。ブレード３００によるせん断力の付与は、基材Ｆがバックアップロール６１０上に巻き掛けられた領域で行われる。

バックアップロール６１０の好ましい態様は、バックアップロール６００と同様である。バックアップロール６１０の表面温度は、例えば、５０℃～１２０℃であることが好ましく、６０℃～１００℃であることがより好ましい。

塗膜にせん断力を与えた後、塗膜に対して光源４００から活性エネルギー線を照射することによって、塗膜を硬化させる（第４工程）。
塗膜を硬化させることで、基材上にコレステリック液晶膜を形成する。

以下、実施例により本開示を詳細に説明する。ただし、本開示は、以下の実施例に制限されるものではない。

＜実施例１＞
［基材の用意］
基材として、長尺のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム（株）、屈折率：１．４８、厚さ：８０μｍ、幅：３００ｍｍ）を用意した。

［配向層の形成］
８０℃で保温された容器中で、純水（９６質量部）、及びＰＶＡ－２０５（４質量部、（株）クラレ、ポリビニルアルコール）を含む混合物を撹拌することによって、配向層形成用塗布液を調製した。バー（番手：６）を用いて、基材（トリアセチルセルロースフィルム）上に上記配向層形成用塗布液を塗布し、次いで、１００℃のオーブン内で１０分間乾燥した。以上の手順によって、基材の上に膜厚２μｍの配向層を形成した。

［コレステリック液晶膜の形成］
以下の手順によって、配向層の上に、８μｍのコレステリック液晶膜を形成した。

（液晶層形成用塗布液（１）の調製）
下記に示す各成分を混合した後、ポリプロピレン製フィルター（孔径：０．２μｍ）を用いてろ過することによって、液晶層形成用塗布液（１）を調製した。

－成分－
（１）棒状サーモトロピック液晶化合物（下記化合物（Ａ））：１００質量部
（２）キラル剤（下記化合物（Ｂ）、Ｐａｌｉｃｏｌｏｒ（登録商標） ＬＣ７５６、ＢＡＳＦ社）：１．２質量部
（３）光重合開始剤１（２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社）：３質量部
（４）光重合開始剤２（ＰＭ７５８、日本化薬（株））：１質量部
（５）配向規制剤（下記化合物（Ｃ））：０．５質量部
（６）溶媒（メチルエチルケトン）：１８４質量部
（７）溶媒（シクロヘキサノン）：３１質量部

化合物（Ａ）は、以下に示す３つの化合物の混合物である。混合物中の各化合物の含有率は、上から順に、８４質量％、１４質量％、及び２質量％である。

化合物（Ｂ）の化学構造を以下に示す。

化合物（Ｃ）の化学構造を以下に示す。

（塗布）
配向層を有する基材を７０℃で加熱し、次いで、バー（番手：１８）を用いて、配向層の上に液晶層形成用塗布液（１）を塗布した。

（乾燥）
配向層の上に塗布された液晶層形成用塗布液（１）を、７０℃のオーブン内で１分間乾燥することによって、膜厚１０μｍの塗膜を形成した。

（せん断力の付与）
塗膜を７０℃に加熱した状態で、７０℃に加熱したステンレス製ブレードを塗膜に接触させ、次いで、上記塗膜に接触させたまま、上記ブレードを１．５ｍ／分の速度で移動させることによって、上記塗膜に対して、せん断速度２５００秒^－１のせん断力を与えた。上記ブレードの移動距離は、３０ｍｍであった。
せん断力の付与後の塗膜の膜厚は、８μｍであった。

（硬化）
せん断力を与えた塗膜に対して、メタルハライドランプを用いて紫外線（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射することによって、上記塗膜を硬化させた。
以上のようにして得られた、実施例１のコレステリック液晶膜の厚み方向の断面における顕微鏡観察写真の図４に示す。

＜実施例２＞
棒状サーモトロピック液晶化合物を下記化合物（Ｄ）に変更した液晶層形成用塗布液（２）を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順によって、実施例２のコレステリック液晶膜を製造した。

化合物（Ｄ）の化学構造を以下に示す。

＜実施例３＞
下記各成分を用いた以外は、実施例１と同様にして、液晶層形成用塗布液（３）を調製した。

－成分－
（１）棒状サーモトロピック液晶化合物（上記化合物（Ａ））：１００質量部
（２）キラル剤（下記化合物（Ｅ））：１．２質量部
（３）光重合開始剤２（ＰＭ７５８、日本化薬（株））：３質量部
（４）光重合開始剤３（ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標） １０１０、ＢＡＳＦ社）：１質量部
（５）配向規制剤（上記化合物（Ｃ））：０．５質量部
（６）溶媒（メチルエチルケトン）：１８４質量部
（７）溶媒（シクロヘキサノン）：３１質量部

化合物（Ｅ）の化学構造を以下に示す。

続いて、得られた液晶層形成用塗布液（３）を用い、以下に示す硬化を行った以外は、実施例１と同様の手順によって、実施例３のコレステリック液晶膜を製造した。

（硬化）
せん断力を与えた塗膜に対して、長波長カットフィルター（朝日分光（株）、ＳＨ０３２５）を介して高圧水銀ランプ（ＨＯＹＡ（株）、ＵＬ７５０）の紫外線（露光量：５ｍＪ・ｃｍ^２）を照射することによって、塗膜を硬化させた。

＜比較例１＞
乾燥を経て得られた塗膜の厚み（即ち、せん断力の付与前の塗膜の厚み）を２５μｍへと変え、続いて、以下に示すせん断力の付与を行った以外は、実施例１と同様の手順によって、比較例１のコレステリック液晶膜を製造した。
比較例１のコレステリック液晶膜の厚み方向の断面における顕微鏡観察写真の図５に示す。

（せん断力の付与）
塗膜を１１０℃に加熱した状態で、１１０℃に加熱したステンレス製ブレードを塗膜に接触させ、次いで、上記塗膜に接触させたまま、上記ブレードを０．９ｍ／分の速度で移動させることによって、上記塗膜に対して、せん断速度６００秒^－１のせん断力を与えた。上記ブレードの移動距離は、３０ｍｍであった。
せん断力の付与後の塗膜の膜厚は、２２μｍであった。

［厚さ方向の断面の顕微鏡観察］
得られたコレステリック液晶膜をミクロトームで切削し、ニコン（株）製の偏光顕微鏡ＮＶ１００ＬＰＯＬを用いて厚さ方向の断面写真を撮影し、写真画像から縞模様及び折り返し構造を観察した。
また、縞模様における暗部の傾斜角、暗部間距離、及び等間隔性（暗部が等間隔に並んでいるか否か）を求めた。
結果を表１に示す。

表１に明らかなように、実施例のコレステリック液晶膜は、厚み方向の断面の顕微鏡観察により、暗部と明部とが交互に並んだ縞模様、及び、一対の主面のうちの一方の主面の表層部にて暗部による折り返し構造が見られる。

［符号の説明］
１ コレステリック液晶膜
２ 配向層
３ 基材
１０ 暗部
１２ 暗部による折り返し構造
２０ 明部
３０ 棒状液晶化合物
３０Ａ 分子軸
Ｆａ 主面（一対の主面における他方の主面の例）
Ｆｂ 主面（一対の主面における一方の主面の例）
ＨＡ らせん軸
１００ 塗布装置
２００ 乾燥装置
３００ ブレード
４００ 光源
５００、５１０ 搬送ロール
６００、６１０ バックアップロール
Ｆ 基材

２０２０年１月３１日に出願された日本国特許出願２０２０－０１５７４８号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記載された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。

Claims (6)

1. コレステリック液晶を含み、且つ、
   顕微鏡観察した厚み方向の断面において、一方向に暗部と明部とが交互に並んだ縞模様、及び、前記縞模様の末端に、一対の主面のうちの一方の主面の表層部にて暗部による折り返し構造を有し、他方の主面の表層部にて暗部による折り返し構造を有さず、
   前記断面では、前記縞模様における暗部が主面に対して傾斜し、等間隔に配向しており、前記等間隔は、暗部間距離の算術平均値を求める際に測定した隣り合う暗部間の最短距離５箇所の値が、前記暗部間距離の算術平均値に対して±１０％以内である、コレステリック液晶膜。
2. 前記縞模様における暗部の主面に対する傾斜角が２０°～９０°である、請求項１に記載のコレステリック液晶膜。
3. 前記暗部による折り返し構造が、前記一方の主面から膜厚の１／３までの領域に存在する、請求項１又は請求項２に記載のコレステリック液晶膜。
4. 前記一方の主面の表層部において、前記暗部による折り返し構造が、互いに隣り合う前記暗部２０本中に２箇所～１０箇所存在する、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のコレステリック液晶膜。
5. 一対の主面のうちの他方の主面の表層部において、前記暗部による折り返し構造が、互いに隣り合う前記暗部２０本中に存在しない又は２箇所未満で存在する、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載のコレステリック液晶膜。
6. 基材上に、溶媒、液晶化合物、及びキラル剤を含む塗布液を塗布し、塗膜を形成する第１工程と、
   形成された塗膜表面にブレードにてせん断力を付与する第２工程と、
   を有し、
   前記第２工程でのせん断速度が２５００秒^－１以上である、コレステリック液晶膜の製造方法。