JP7572755B2 - ヒト誘導性制御性t細胞およびその作製方法 - Google Patents
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Description
(項目X1)
FoxP3陽性、CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも1つの特徴を有する誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1A)
NT5E陽性である誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1B)
ITGAE(CD103)陽性である誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1C)
AREG陽性である誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1D)
CD172g陽性である誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1E)
CD26陽性である誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1F)
CTLA4陽性である誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1G1)
CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも2つの特徴を有する誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1G2)
CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも3つの特徴を有する誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1G3)
CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも4つの特徴を有する誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1G4)
CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも5つの特徴を有する誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X1G5)
CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性のすべての特徴を有する誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X2)
少なくともCTLA4陽性およびFoxP3陽性である、上記項目のいずれか一項に請求項1に記載の誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X3)
少なくともCD172g陽性および/またはCD26陽性である、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X4)
FOXP3遺伝子のCNS2部位が脱メチル化されている、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X5)
CD4陽性またはCD8陽性である、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X6)
ヒトの末梢血T細胞、またはヒト組織由来T細胞から得られるか、または誘導される、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X7)
(a)ヒト末梢血中のCD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、第一の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(b)工程(a)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と、
(c)工程(b)で得られた細胞を、第二の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、(d)工程(c)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と
を含む方法によって得られる誘導性制御性ヒトT細胞。
(項目X8)
上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、FoxP3陽性、CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも1つの特徴の割合が約50%以上である、細胞集団。
(項目X8A)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、NT5E陽性の割合が約50%以上である、細胞集団。
(項目X8B)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、ITGAE(CD103)陽性の割合が約50%以上である、細胞集団。
(項目X8C)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、AREG陽性の割合が約50%以上である、細胞集団。
(項目X8D)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CD172g陽性の割合が約50%以上である、細胞集団。
(項目X8E)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CD26陽性の割合が約50%以上である、細胞集団。
(項目X8F)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CTLA4陽性の割合が約50%以上である、細胞集団。
(項目X8G1)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも2つの特徴の割合がそれぞれ約50%以上である、細胞集団。
(項目X8G2)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも3つの特徴の割合がそれぞれ約50%以上である、細胞集団。
(項目X8G3)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも4つの特徴の割合がそれぞれ約50%以上である、細胞集団。
(項目X8G4)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性からなる群より選択される少なくとも5つの特徴の割合がそれぞれ約50%以上である、細胞集団。
(項目X8G5)
誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団であって、該細胞集団は、CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、AREG陽性、CD172g陽性、及びCD26陽性のすべての特徴の割合がそれぞれ約50%以上である、細胞集団。
(項目X9)
少なくとも前記CTLA4陽性およびFoxP3陽性の割合が、それぞれ約50%以上である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目X10)
少なくとも前記CD172g陽性および/またはCD26陽性の割合が、それぞれ約50%以上である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目X11)
前記細胞集団における前記少なくとも1つ特徴の割合が約60%以上である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目X12)
前記細胞集団における前記少なくとも1つ特徴の割合が約80%以上である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目X12a)
FoxP3強陽性の割合が、約50%以上である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目X13)
前記細胞集団の約90%以上がT細胞である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目X14)
上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性ヒトT細胞または上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団を含む医薬組成物。
(項目X15)
上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性ヒトT細胞または上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団を含む再生医療用材料または製品。
(項目X16)
誘導性制御性ヒトT細胞を製造する方法であって、
(a)ヒト末梢血中のCD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、第一の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(b)工程(a)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と、
(c)工程(b)で得られた細胞を、第二の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、(d)工程(c)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と
を含む、方法。
(項目X17)
前記第一の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、CDK8/19阻害剤、及びアスコルビン酸からなる群から選択される少なくとも1つの因子を含む、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目X18)
前記第一の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、CDK8/19阻害剤、及びアスコルビン酸を含む、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目X19)
前記第二の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、及びCDK8/19阻害剤からなる群から選択される少なくとも1つの因子を含む、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目X20)
前記第二の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、及びCDK8/19阻害剤を含む、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目X21)
工程(a)が、前記CD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、前記第一の基礎培地で約3日間刺激する、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目X22)
工程(b)が、工程(a)で得られた細胞を、前記IL-2を含む培地で少なくとも約2日間休眠培養する、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目X23)
工程(c)が、工程(b)で得られた細胞を、前記第二の基礎培地で約3日間刺激する、請求項16~22のいずれか一項に記載の方法。
(項目X24)
工程(d)が、工程(c)で得られた細胞を、前記IL-2を含む培地で少なくとも約2日間休眠培養する、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目X25)
上記項目のいずれか一項に記載の方法によって生成される、誘導性制御性ヒトT細胞または前記誘導性制御性ヒトT細胞を含む細胞集団。
(項目1)
CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、及びAREG陽性からなる群より選択される少なくとも1つの特徴を有する誘導性制御性T細胞。
(項目2)
CTLA4陽性、NT5E陽性、ITGAE(CD103)陽性、及びAREG陽性からなる群より選択される少なくとも2つの特徴を有する、上記項目に記載の誘導性制御性T細胞。
(項目3)
少なくともCTLA4陽性である、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞。
(項目4)
FOXP3遺伝子のCNS2部位が脱メチル化されている、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞。
(項目5)
CD4陽性またはCD8陽性である、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞。
(項目6)
ヒトの末梢血T細胞、またはヒト組織由来T細胞から得られるか、または誘導される、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞。
(項目7)
(a)末梢血中のCD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、第一の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(b)工程(a)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と、
(c)工程(b)で得られた細胞を、第二の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、(d)工程(c)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と
を含む方法によって得られる誘導性制御性T細胞。
(項目8)
T細胞を含む細胞集団であって、前記細胞集団のT細胞における約50%以上が、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞である、細胞集団。
(項目9)
前記細胞集団中のT細胞における約80%以上が、上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞である、請求項8に記載の細胞集団。
(項目10)
前記細胞集団におけるT細胞は、制御性T細胞である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目11)
前記細胞集団の約90%以上がT細胞である、上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団。
(項目12)
上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞または上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団を含む医薬組成物。
(項目13)
上記項目のいずれか一項に記載の誘導性制御性T細胞または上記項目のいずれか一項に記載の細胞集団を含む再生医療用材料または製品。
(項目A1)
誘導性制御性T細胞を製造する方法であって、
(a)末梢血中のCD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、第一の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(b)工程(a)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と、
(c)工程(b)で得られた細胞を、第二の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、(d)工程(c)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と
を含む、方法。
(項目A2)
前記第一の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、CDK8/19阻害剤、及びアスコルビン酸からなる群から選択される少なくとも1つの因子を含む、上記項目に記載の方法。
(項目A3)
前記第一の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、CDK8/19阻害剤、及びアスコルビン酸を含む、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目A4)
前記第二の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、及びCDK8/19阻害剤からなる群から選択される少なくとも1つの因子を含む、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目A5)
前記第二の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、CDK8阻害剤、CDK19阻害剤、及びCDK8/19阻害剤を含む、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目A6)
工程(a)が、前記CD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、前記第一の基礎培地で約3日間刺激する、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目A7)
工程(b)が、工程(a)で得られた細胞を、前記IL-2を含む培地で少なくとも約 2日間休眠培養する、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目A8)
工程(c)が、工程(b)で得られた細胞を、前記第二の基礎培地で約3日間刺激する、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目A9)
工程(d)が、工程(c)で得られた細胞を、前記IL-2を含む培地で少なくとも約2日間休眠培養する、上記項目のいずれか一項に記載の方法。
(項目A10)
上記項目のいずれか一項に記載の方法によって生成される、誘導性制御性T細胞または前記誘導性制御性T細胞を含む細胞集団。
以下に本開示の好ましい実施形態を説明する。以下に提供される実施形態は、本開示のよりよい理解のために提供されるものであり、本開示の範囲は以下の記載に限定されるべきでない。したがって、当業者は、本明細書中の記載を参酌して、本開示の範囲内で適宜改変を行うことができることは明らかである。また、本開示の以下の実施形態は単独でも使用されあるいはそれらを組み合わせて使用することができる。
本開示は、高機能安定型誘導性制御性T細胞(高機能安定型iTreg、HSF iTregともいう。)およびその利用に関する。
本開示は、本開示の誘導性制御性T細胞を製造する方法を提供する。本開示の方法は、高機能で、安定型の誘導性制御性T細胞を製造することができる新規の方法であり、本明細書において以下に詳細に説明する。
一実施形態において、フローサイトメトリーによる陽性率測定は以下のようにして行うことができる。
・Fixation/Permeabilization Concentrate(以下、Buffer)(eBio Science、00-5123-43)
・Fixation/Permeabilization Diluent(以下、Diluent)(eBio Science、00-5223-56)
・Permeabilization Buffer(10×)(eBio Science、00-833-56)
・FOXP3 Monoclonal Antibody (236A/E7), PE(以下、抗FOXP3抗体)(eBio Science、12-4777-42)
・Mouse IgG1 kappa Isotype Control (P3.6.2.8.1), PE(以下、PEコントロール)(eBio Science)
・BV421,Mouse,Anti-Human,CD152(以下、抗CTLA4抗体)(BD)
・BV421 Mouse IgG2a, k Isotype Control(以下、BV421コントロール)(BD)
・CD4 Monoclonal Antibody (RPA-T4), APC (以下、抗CD4抗体)(eBio Science)
・Mouse IgG1 kappa Isotype Control (P3.6.2.8.1), APC(以下、APCコントロール)(eBio Science)
・D-PBS(ナカライテスク、14249-95)
・FBS(HyClone、SH30084.03)
・0.5 mol/l-EDTA溶液(pH 8.0)(ナカライテスク、06894-14)
・MilliQ水
・遠心機
・安全キャビネット
・マイクロピペット(P200、P1000)
・5mLポリスチレン ラウンド・チューブ(以下、専用チューブ)(Falcon、352008)
・ナイロンメッシュ(65μm)(共進理工、PP-65N)
※Fixation Buffer(1サンプル当たり100μL使用)
BufferとDiluentを1:3の割合で混合する。
※Perm Buffer
Permeabilization Buffer(10×)をMilliQ水で10倍希釈する。
※FACS Bufer(500mL調製の場合)
D-PBS 489mL
FBS 10mL(終濃度2%)
0.5mol/l EDTA溶液 1mL(終濃度1mM)
以上の試薬は調製後、4℃または氷上で保管する。
(1)1.5mLチューブにFACS Buferを500μL添加する。
(2)(1)のチューブに1x106個の最終製品を添加し、マイクロピペットでやさしく懸濁する。
(3)遠心機で500×g、4℃、5分間遠心する。
(4)上清をアスピレーターで除去後、Fixation Bufferを100μL添加しやさしくピペッティングする。→泡立てないように注意する。
(5)氷上遮光で30分以上静置により固定する。→45分でもよい。
(6)固定後、チューブにPerm Bufferを1mL添加しやさしくピペッティングする。
(7)新しい1.5mLチューブをサンプル数分準備する。
(8)サンプルをコントロール用と抗体染色用に500μLずつ分注する。
(9)遠心機で500×g、4℃、5分間遠心する。
(10)遠心中に抗FOXP3抗体(原液濃度=0.05mg/ml)、抗CTLA4抗体(Lot:0030269原液濃度=0.2mg/ml)抗CD4抗体(原液濃度=0.1mg/ml)をPerm Bufferで100倍希釈で調製する(以下、抗体調製液)。コントロールサンプル用に、PEコントロール(原液濃度=0.1mg/ml)、BV421コントロール(原液濃度=0.2mg/ml)APCコントロール(原液濃度=0.1mg/ml)を対応する色素の抗体と同濃度で調整する(以下コントロール液)
*工程内管理試験においてはCTLA4の染色は実施しない。
(11)上清をアスピレーターで除去後、抗体染色サンプルに抗体調製液を、コントロールサンプルにコントロール液をそれぞれ100μL添加しやさしくピペッティングする。→泡立てないように注意する。
(12)氷上遮光で60分静置により固定する。
(13)染色中に測定機器の立ち上げを実施する。
(14)染色後、FACS Buferを1mL添加しやさしくピペッティングする。
(15)遠心機で500×g、4℃、5分間遠心する。→上清をアスピレーターで除去後、(14)及び(15)をもう一度繰り返して洗浄する。
(16)上清をアスピレーターで除去後、FACS Buferを500μL添加しやさしくピペッティングする。
(17)専用チューブにナイロンメッシュをピンセットで載せ、懸濁液をフィルトレーションする。
(18)任意のフローサイトメーター機器で解析する。データ回収細胞数は10000個以上とする。標的抗原陽性率算出においては、コントロールサンプルの陽性率が5%以下となるように基準線を引き、基準以上の抗原発現量を示す細胞の割合を陽性率とする。
・固定及び染色で使用する試薬類は「Foxp3/Transcription Factor Staining Buffer Set」(Cat.:00-5523)として3本セットでの購入も可能である。
・機器の設定等は一般的・科学的見地から明確に正常な測定を実施できていないと判断できる程度に逸脱していない限りにおいて、任意の設定で問題無い。明確な逸脱とは対象となる細胞集団の各種シグナルが設定された蛍光threshold値を下回る場合、コントロールサンプルまたは測定対象サンプルの各種シグナル値が機器で正常に測定できる限界値を下回る、または上回る場合、などである。
本開示の細胞は、免疫抑制活性を有し得る。免疫抑制活性は、種々の手法で測定することができる。
本明細書において用いられる分子生物学的手法、生化学的手法、微生物学的手法は、当該分野において周知であり慣用されるものであり、例えば、Sambrook J. et al.(1989). Molecular Cloning: A Laboratory Manual, Cold Spring Harborおよびその3rd Ed.(2001); Ausubel, F.M.(1987).Current Protocols in Molecular Biology, Greene Pub. Associates and Wiley-Interscience; Ausubel, F.M.(1989). Short Protocols in Molecular Biology: A Compendium of Methods from Current Protocols in Molecular Biology, Greene Pub. Associates and Wiley-Interscience; Innis, M.A.(1990).PCR Protocols: A Guide to Methods and Applications, Academic Press; Ausubel, F.M.(1992).Short Protocols in Molecular Biology: A Compendium of Methods from Current Protocols in Molecular Biology, Greene Pub. Associates; Ausubel, F.M. (1995).Short Protocols in Molecular Biology: A Compendium of Methods from Current Protocols in Molecular Biology, Greene Pub. Associates; Innis, M.A. et al.(1995).PCR Strategies, Academic Press; Ausubel, F.M.(1999).Short Protocols in Molecular Biology: A Compendium of Methods from Current Protocols in Molecular Biology, Wiley, and annual updates; Sninsky, J.J. et al.(1999). PCR Applications: Protocols for Functional Genomics, Academic Press、別冊実験医学「遺伝子導入&発現解析実験法」羊土社、1997などに記載されており、これらは本明細書において関連する部分(全部であり得る)が参考として援用される。
本明細書において引用された、科学文献、特許、特許出願などの参考文献は、その全体が、各々具体的に記載されたのと同じ程度に本明細書において参考として援用される。
誘導された細胞よりゲノムDNAを取得し、MethylEasy Xceed Rapid DNA Bisulphite Modification Kit (Human Genetic Signatures)を用いて処理後、制御性T細胞に特徴的な遺伝子の脱メチル化について、調べた。各遺伝子の脱メチル化の解析は、既知の方法およびプライマーを用いた(Floess et al.(2007) PloS Biology Volume 5, Issue 2, e38、およびOhkura et al.(2012) Immunity 37(5) 785-799)。
ヒトCD4 +T細胞を健常人のPBMCより単離した。濃縮したPBMCから、CliniMACS CD4 GMP MicroBeadsを用いて製品プロトコルに従い精製した。
CD4陽性T細胞を、抗CD3抗体(10μg/ml濃度の抗体をウェル当たり100μL添加し、室温で60分間静置することで容器へ固相化)、hIL-2(100U/ml)、hTGFβ1(10ng/ml)、レチノイン酸(1μM)、SenexinA(5μM)を含む基礎培地で3日間刺激した。その後hIL-2(100U/ml)を含む基礎培地で2日間休眠培養した。2日後に同様に培地交換し、さらに2日間休眠培養した。2日後に再度抗CD3抗体(10μg/ml濃度の抗体をウェル当たり100μL添加し、室温で60分間静置することで容器へ固相化)、hIL-2(100U/ml)、h TGFβ1(10ng/ml)、レチノイン酸(1μM)、SenexinA(5μM)、アスコルビン酸(10μg/ml)を含む基礎培地で2日間刺激した。その後hIL-2(100U/ml)を含む基礎培地で2日間休眠培養した。2日後に同様に培地交換し、さらに2日間休眠培養した。2日後に得られた制御性T細胞のFoxP3、CTLA4、Heliosの発現をフローサイトメトリー法により解析した(図1)。
実施例1と同じ実験系により制御性T細胞を得た。Cell Trace Violet標識したレスポンダーT細胞(5x104)、作製した制御性T細胞(5x104)を、Treg Suppression Inspector(Miltenyi Biotec)(5μL/well)存在下で3日間混合培養し、Cell Trace Violet強度をフローサイトメトリー法で解析した。レスポンダーT細胞が免疫反応を起こすと細胞増殖のためにCell Trace Violet強度は複数の弱いピークを示すが、この免疫反応が抑制されるとCell Trace Violet強度は単独の強いピークのまま保持される。本開示の作成法で得られた制御性T細胞は、レスポンダーT細胞の免疫反応を強く抑制することが確認された。したがって、得られた制御性T細胞は既存の制御性T細胞集団に比べて高い抑制機能を持つことが確認された(図3)。
実施例1の方法で作製した制御性T細胞の遺伝子発現パターンをRNAシーケンス法により確認した(図4)。RNAシーケンスは既知の方法を用いて行った(Kitagawa et al.(2017) Nat. Immunol. 18, 173-183)。FOXP3、IL-2RA(CD25)、およびTregの主要な抑制性分子(CTLA4など)の遺伝子は、既存の誘導性制御性T細胞および活性化Tconv細胞に比較して、本開示の作製法で得られた誘導性制御性T細胞およびnTreg細胞で高い発現が確認できた。また、誘導性制御性T細胞ではnTreg細胞のマーカーであるIKZF2の発現が低いことを確認した。本開示の作製法で得られた誘導性制御性T細胞は他の制御性T細胞集団と比較して、ENTPD1、NT5E、AREGなどいくつかの抑制性分子発現が高いことが確認できる。また、ITGAEなどの接着分子、CCR4などのケモカイン受容体発現が高いことが確認できる(図4)。
CD8陽性T細胞を、抗CD3抗体(10μg/ml濃度の抗体をウェル当たり100μL添加し、室温で60分間静置することで容器へ固相化)、hIL-2(100U/ml)、hTGFβ1(10ng/ml)、レチノイン酸(1μM)、SenexinA(5μM)を含む基礎培地で3日間刺激した。その後hIL-2(100U/ml)を含む基礎培地で2日間休眠培養した。2日後に同様に培地交換し、さらに2日間休眠培養した。2日後に再度抗CD3抗体(10μg/ml濃度の抗体をウェル当たり100μL添加し、室温で60分間静置することで容器へ固相化)、hIL-2(100U/ml)、hTGFβ1(10ng/ml)、レチノイン酸(1μM)、SenexinA(5μM)、アスコルビン酸(10μg/ml)を含む基礎培地で2日間刺激した。その後hIL-2(100U/ml)を含む基礎培地で2日間休眠培養した。2日後に同様に培地交換し、さらに2日間休眠培養した。2日後に得られた制御性T細胞のFoxP3、CTLA4、Heliosの発現をフローサイトメトリー法により解析した(図6)。
ヒト末梢T細胞を用いて、実施例1と同じようにして誘導性制御性T細胞またはその細胞集団を得る。この誘導性制御性T細胞またはその細胞集団と担体とを含む医薬を製造する。この医薬は誘導性制御性T細胞またはその細胞集団として約2x105個の細胞を含み、炎症疾患患者に投与してから1ヶ月後に回収した組織における炎症の程度から、有効性を確認することができる。
実施例1と同じようにして誘導性制御性T細胞またはその細胞集団を得る。この誘導性制御性T細胞またはその細胞集団を担体とを含む医薬を製造する。
実施例1で製造した誘導性制御性T細胞の細胞集団について、CD25とFOXP3の発現強度をBD FACSLyric フローサイトメーターを用いたフローサイトメトリー法により解析した。結果を図7に示す。
試験したすべての細胞において、FOXP3Hiの誘導性制御性T細胞の細胞集団が高い割合で存在していることが確認できた。
実施例1で製造した誘導性制御性T細胞における細胞表面マーカーを網羅的に解析するため、抗体パネル解析を行った。BioLegendのLEGENDScreen Human PE Kitを用いて、実施例1で製造した誘導性制御性T細胞を染色し、本開示の誘導性制御性T細胞に反応する抗体をフローサイトメトリー法により解析した。結果の一部(明確かつ有意義な発現を確認できたもの)を表1~4に示す。
400種類弱を含む抗体パネルによって染色したところ、少なくとも185種類の表面マーカー分子によって本開示の誘導性制御性T細胞における細胞表面マーカーの陽性/陰性の特徴を確認することができた。
実施例8で実施した抗体スクリーニングの結果のうち特徴的なものを図8に示す。
本開示の誘導性制御性T細胞では、CD172g及びCD26など特有の細胞表面マーカーが陽性となっていることがわかった。
以上のように、本開示の好ましい実施形態を用いて本開示を例示してきたが、本開示は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願及び他の文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。本願は、日本国特許庁に2021年11月24日に出願された特願2021-190127に対して優先権主張をするものであり、その内容はその全体があたかも本願の内容を構成するのと同様に参考として援用される。
配列番号2:実施例において用いたリバースプライマー
Claims (9)
- 誘導性制御性ヒトT細胞を製造する方法であって、
(a)ヒト末梢血中のCD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、第一の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(b)工程(a)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と、
(c)工程(b)で得られた細胞を、第二の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(d)工程(c)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と
を含む、方法であって、
前記第一の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β、IL-2、レチノイン酸、およびCDK8/19阻害剤を含み、
前記第二の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β、IL-2、レチノイン酸、アスコルビン酸、およびCDK8/19阻害剤を含む、方法。 - 前記第一の基礎培地に含まれるCDK8/19阻害剤がSenexinAまたはAS2863619を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第一の基礎培地および前記第二の基礎培地に含まれるTGF-βが、TGF-β1を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第二の基礎培地に含まれるCDK8/19阻害剤がSenexin AまたはAS2863619を含む、請求項1に記載の方法。
- 誘導性制御性ヒトT細胞を製造する方法であって、
(a)ヒト末梢血中のCD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、第一の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(b)工程(a)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と、
(c)工程(b)で得られた細胞を、第二の基礎培地で約1~約5日間刺激する工程と、
(d)工程(c)で得られた細胞を、IL-2を含む培地で少なくとも約1~約3日間休眠培養する工程と
を含む、方法であって、
前記第一の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、およびSelexinA、を含み、
前記第二の基礎培地が、抗CD3抗体、TGF-β1、IL-2、レチノイン酸、SelexinA、およびアスコルビン酸を含む、方法。 - 工程(a)が、前記CD4陽性T細胞またはCD8陽性T細胞を、前記第一の基礎培地で約3日間刺激する、請求項1に記載の方法。
- 工程(b)が、工程(a)で得られた細胞を、前記IL-2を含む培地で少なくとも約2日間休眠培養する、請求項6に記載の方法。
- 工程(c)が、工程(b)で得られた細胞を、前記第二の基礎培地で約3日間刺激する、請求項7に記載の方法。
- 工程(d)が、工程(c)で得られた細胞を、前記IL-2を含む培地で少なくとも約2日間休眠培養する、請求項8に記載の方法。
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