JP7200985B2 - 光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器に関する。より詳しくは、特定の光学特性を有する光学フィルター、該光学フィルターを用いたカメラモジュール、および、該カメラモジュールを有する電子機器に関する。

ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置にはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されている。これら固体撮像素子は、その受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードが使用されている。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長領域の光線を選択的に透過もしくはカットする光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）を用いることが多い。

このような近赤外線カットフィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、基材として透明樹脂を用い、透明樹脂中に近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線カットフィルターが知られている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、特許文献１に記載された近赤外線カットフィルターは、近赤外線吸収特性が必ずしも充分ではない場合があった。

本出願人は、特許文献２において、特定の波長領域に吸収極大がある近赤外線吸収色素を含有する透明樹脂製基板を用いることで、入射角度を変化させても光学特性の変化が少なく、かつ、高い可視光透過率を有する近赤外線カットフィルターを提案している。また、特許文献３には、特定の構造を有するフタロシアニン系色素を用いることで、従来の課題であった優れた可視光透過率と吸収極大波長の長波長化とを高いレベルで両立した近赤外線カットフィルターを得ることができる旨が記載されている。

しかし、特許文献２および３に記載の近赤外線カットフィルターでは、適用されている基材が、７００ｎｍ付近には十分な強度の吸収帯を持っているものの、例えば９００～１２００ｎｍといった近赤外線波長領域にはほぼ吸収を持たない。そのため、近赤外線波長領域の光線は、ほぼ誘電体多層膜の反射でのみカットしているが、このような構成では光学フィルター中の内部反射や、光学フィルターとレンズ間の反射によるわずかな迷光が、暗い環境下で撮影を行う際にゴーストやフレアの原因となる場合があった。特に、近年はスマートフォンなどのモバイル機器であってもカメラの高画質化が強く求められており、従来の光学フィルターでは好適に使用できない場合があった。

一方、近赤外線波長領域に幅広い吸収をもつ基材を用いた光学フィルターとして、特許文献４のような赤外線遮蔽フィルターが提案されている。特許文献４では、主にジチオレン構造を有する化合物を適用することで近赤外線波長領域の幅広い吸収を達成しているが、７００ｎｍ付近の吸収強度は十分ではない。特に、近年のカメラモジュール低背化に伴う高入射角条件（例えば４５度入射）での使用では、色シェーディングによる画像劣化が起こる場合があった。

また、特許文献５には、近赤外線吸収ガラス基材と近赤外線吸収色素を含有する層とを有する近赤外線カットフィルターが開示されているが、特許文献５に記載の構成でも色シェーディングを十分改良することができない場合があった。例えば、特許文献５の図５には、０度入射時と３０度入射時の光学特性グラフが示されているが、３０度入射時においても可視光透過帯の裾部分の領域（６３０～７００ｎｍ）で大きな波長シフトが観測されている。

特開平６－２００１１３号公報 特開２０１１－１０００８４号公報 国際公開２０１５／０２５７７９号パンフレット 国際公開２０１４／１６８１９０号パンフレット 国際公開２０１４／０３０６２８号パンフレット

上述した課題とともに、最近では、カメラモジュールのさらなる高性能化を目的として、色素による吸収と誘電体多層膜による反射とを組み合わせた従来の光学フィルターの機能を別部材に分けた新規モジュール構成も検討されており、そのような構成にも対応可能な光学フィルターが求められている。

本発明は、従来の光学フィルターでは十分になし得なかった、カメラ画像の色シェーディング抑制とゴースト抑制を高いレベルで両立可能な光学フィルターを提供することを課題とする。

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の波長領域において、光学フィルターの垂直方向、垂直方向に対して３０度斜め方向および垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の最小値がいずれも特定の範囲であり、かつ、特定の波長領域において、光学フィルターの垂直方向、垂直方向に対して３０度斜め方向および垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値がいずれも特定の範囲である光学フィルターを用いることにより、目的とする近赤外線カット特性、可視光透過率、色シェーディング抑制効果およびゴースト抑制効果を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明の態様の例を以下に示す。

［１］ 下記要件（ａ）および（ｂ）を満たす光学フィルター：
（ａ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-60とが、いずれも５５％以上９０％未満である；
（ｂ）波長７００～７８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-60とが、いずれも１．８以上である。

［２］ さらに下記要件（ｃ）を満たす項［１］に記載の光学フィルター：
（ｃ）波長９００～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_IRが６０％以上である。

［３］ さらに下記要件（ｄ）を満たす項［１］または［２］に記載の光学フィルター：
（ｄ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-60とが、いずれも６５％以上９０％未満である。

［４］ 下記要件（ｅ）を満たす基材を含む項［１］～［３］のいずれか１項に記載の光学フィルター：
（ｅ）波長６５０～８００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有する。

［５］ 前記基材が、さらに下記要件（ｆ）を満たす項［４］に記載の光学フィルター：
（ｆ）波長６００～９００ｎｍにおいて、基材の垂直方向から入射する光に対する透過率が、短波長側から長波長側に向かって１０％超から１０％以下になる最も長波長側の波長Ｘ_aと、基材の垂直方向から入射する光に対する透過率が、短波長側から長波長側に向かって１０％以下から１０％超になる最も短波長側の波長Ｘ_bとの差の絶対値｜Ｘ_b－Ｘ_a｜が１００ｎｍ以上である。

［６］ 前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［４］または［５］に記載の光学フィルター。

［７］ 前記基材が、前記化合物（Ａ）として、波長６５０ｎｍ以上７１５ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ａ）、波長７１５ｎｍ超７５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ｂ）、および波長７５０ｎｍ超８００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ｃ）を含有することを特徴とする項［４］～［６］のいずれか１項に記載の光学フィルター。

［８］ 前記化合物（Ａ）を含む層が透明樹脂層である項［４］～［７］のいずれか１項に記載の光学フィルター。

［９］ 前記透明樹脂層を構成する樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂、およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする項［８］に記載の光学フィルター。

［１０］ 前記透明樹脂層を構成する樹脂の屈折率（ｎ２０ｄ）が、１．５０～１．５３である項［８］または［９］に記載の光学フィルター。

［１１］ 項［１］～［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。

［１２］ カメラモジュールの内部機構を外部から保護するカバー部材を有し、前記カバー部材が近赤外線反射機能を有することを特徴とする項［１１］に記載のカメラモジュール。

［１３］ 項［１０］に記載のカメラモジュールを有することを特徴とする電子機器。

本発明によれば、近赤外線カット特性に優れ、入射角依存性が少なく、可視光波長域での透過率特性、色シェーディング抑制効果およびゴースト抑制効果に優れた光学フィルターを提供することができる。

透過スペクトルを垂直方向、斜め３０度の方向および斜め６０度の方向から測定する構成を示した図である。 実施例および比較例で行った色シェーディング評価に用いたカメラモジュールの構成を示した模式図である。 実施例および比較例で行ったカメラ画像の色シェーディング評価を説明するための模式図である。 実施例および比較例で行ったカメラ画像のゴースト評価を説明するための模式図である。 実施例１で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例２で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例３で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例４で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例５で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例６で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例７で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例８で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例９で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例１０で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例１１で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例１５で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 実施例１６で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 比較例１で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 比較例２で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 比較例３で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 比較例４で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。

以下、本発明に係る光学フィルター、該光学フィルターを用いたカメラモジュールおよび該カメラモジュールを有する電子機器について詳細に説明する。

［光学フィルター］
本発明の光学フィルターは、下記要件（ａ）および（ｂ）を満たすことを特徴とし、さらに下記要件（ｃ）および／または（ｄ）を満たすことが好ましい。
（ａ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-60とが、いずれも５５％以上９０％未満である。
（ｂ）波長７００～７８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-60とが、いずれも１．８以上である。
（ｃ）波長９００～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_IRが６０％以上である。
（ｄ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-60とが、いずれも６５％以上９０％未満である。

以下、各要件について説明する。

＜要件（ａ）＞
前記Ｔ_b-0および前記Ｔ_b-30は、好ましくは６３％以上８６％以下、より好ましくは６７％以上８２％以下であり、前記Ｔ_b-60は、好ましくは５８％以上８０％以下、より好ましくは６０％以上７５％以下である。

要件（ａ）を満たす方法、すなわち各透過率の最小値の調整方法としては、例えば、規定の範囲の透過率の最小値が得られるように、後述する化合物（Ａ）の種類および添加量を適宜選定および調整する方法が挙げられる。

要件（ａ）を満たすことにより、入射角度３０度や６０度といった高角度入射時においてもＲＧＢバランスの変化が小さいため、高品質なカメラ画像を得ることができる。

＜要件（ｂ）＞
前記ＯＤ_a-0および前記ＯＤ_a-30は、好ましくは１．８以上４．０以下、より好ましくは１．９以上３．５以下であり、前記ＯＤ_a-60は、好ましくは２．１以上４．５以下、より好ましくは２．２以上４．０以下である。

要件（ｂ）を満たす方法、すなわち光学濃度（ＯＤ値）の平均値の調整方法としては、例えば、規定の範囲の透過率の平均値が得られるように、後述する化合物（Ａ）の種類および添加量を適宜選定および調整する方法が挙げられる。

要件（ｂ）を満たすことにより、光学フィルターは、垂直方向で透過する近赤外線のみでなく、高入射角で透過する近赤外線も十分にカットすることができるため、色シェーディングがない若しくは低減されたカメラ画像を得ることができる。

ここで、ＯＤ値は透過率の常用対数値であり、下記式（１）にて算出できる。指定の波長範囲の平均ＯＤ値が高いと、光学フィルターはその波長領域の光のカット特性が高いことを表す。

ある波長域における平均ＯＤ値＝－Ｌｏｇ₁₀（ある波長域における平均透過率（％）／１００）・・・式（１）
＜要件（ｃ）＞
前記Ｔ_IRは、好ましくは７０％～９８％、より好ましくは８０％～９５％、さらに好ましくは８５％～９４％、特に好ましくは８９％～９３％である。

要件（ｃ）を満たす方法、すなわち光の透過率の平均値の調整方法としては、例えば、規定の範囲の透過率が得られるように後述する化合物（Ａ）の種類および添加量を適宜選定および調整する方法が挙げられる。

要件（ｃ）を満たすことにより、近赤外線領域の透過率が高く、近赤外線領域の反射光を低減させることができるため、ゴーストが低減されたカメラ画像を得ることができる。

＜要件（ｄ）＞
前記Ｔ_a-0は、好ましくは７３％以上８８％以下、より好ましくは７６％以上８６％以下であり、前記Ｔ_a-30は、好ましくは７２％以上８７％以下、より好ましくは７５％以上８５％以下であり、前記Ｔ_a-60は、好ましくは６８％以上８５％以下、より好ましくは７０％以上８０％以下である。

要件（ｄ）を満たす方法、すなわち各透過率の平均値の調整方法としては、例えば、規定の範囲の透過率の平均値が得られるように、後述する化合物（Ａ）の種類および添加量を適宜選定および調整する方法が挙げられる。

要件（ｄ）を満たすことにより、入射角度３０度や６０度といった高角度入射時においてもＲＧＢバランスの変化が小さいため、高品質なカメラ画像を得ることができる。

＜光学フィルターの厚み＞
本発明の光学フィルターの厚みは、好ましくは２１０μｍ以下、より好ましくは１９０μｍ以下、さらに好ましくは１６０μｍ以下、特に好ましくは１３０μｍ以下であり、下限は特に制限されないが、２０μｍ以上であることが好ましい。

［基材］
本発明の光学フィルターの構成は、上述した光学特性を示す光学フィルターが得られる限り特に限定されないが、下記要件（ｅ）を満たす基材を含むことが好ましく、該基材は、さらに下記要件（ｆ）を満たすことが好ましい。
（ｅ）波長６５０～８００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有する。
（ｆ）波長６００～９００ｎｍにおいて、基材の垂直方向から入射する光に対する透過率が、短波長側から長波長側に向かって１０％超から１０％以下になる最も長波長側の波長Ｘ_aと、基材の垂直方向から入射する光に対する透過率が、短波長側から長波長側に向かって１０％以下から１０％超になる最も短波長側の波長Ｘ_bとの差の絶対値｜Ｘ_b－Ｘ_a｜が１００ｎｍ以上である。

以下、各要件について説明する。

＜要件（ｅ）＞
要件（ｅ）において、化合物（Ａ）を含む層を構成する成分は特に限定されないが、例えば、透明樹脂、ゾルゲル材料、低温硬化ガラス材料などが挙げられるが、取扱いが容易であることや化合物（Ａ）との相溶性の観点から透明樹脂であることが好ましい。

前記基材は、化合物（Ａ）を含む層を有していれば、単層であっても多層であってもよい。

＜要件（ｆ）＞
前記波長Ｘ_aとＸ_bとの差｜Ｘ_b－Ｘ_a｜は、好ましくは１１０ｎｍ以上、より好ましくは１１５ｎｍ以上、さらに好ましくは１２０ｎｍ以上、特に好ましくは１２５ｎｍ以上である。上限は特に限定されないが、化合物（Ａ）やその他の近赤外線吸収剤の特性によっては値が大きすぎると可視光透過率が低下する場合があるため、例えば３００ｎｍ以下であることが好ましい。前記差｜Ｘ_b－Ｘ_a｜が上記のような範囲にあると、可視光領域に近い近赤外線波長領域において十分な強度（幅）の吸収帯を有することとなり、例えば入射角度３０度や６０度などのような入射角度が大きい条件においても色シェーディングを抑制できるため好ましい。

Ｘ_aとＸ_bの中間にあたる波長の値（Ｘ_a＋Ｘ_b）／２は、可視光領域に近い近赤外線波長領域における吸収帯の中心波長ということができ、好ましくは６５０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下、より好ましくは６８０ｎｍ以上８２０ｎｍ以下、さらに好ましくは７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。（Ｘ_a＋Ｘ_b）／２で表される波長の値が上記範囲にあると、可視光領域の長波長端付近の波長領域の光をより効率的にカットできるため好ましい。

前記Ｘ_aは、好ましくは波長６１０ｎｍ以上７２０ｎｍ以下、より好ましくは波長６２５ｎｍ以上７１０ｎｍ以下、さらに好ましくは波長６３０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である。Ｘ_aがこのような範囲にあると、ノイズが少なく色再現性に優れたカメラ画像を得られる傾向にあるため好ましい。

＜基材の厚み＞
基材の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、好ましくは１０～２００μｍ、より好ましくは２０～１８０μｍ、さらに好ましくは２５～１５０μｍである。基材の厚みが前記範囲にあると、該基材を用いた光学フィルターを薄型化および軽量化することができ、固体撮像装置等の様々な用途に好適に用いることができる。特に、前記透明樹脂製基板からなる基材をカメラモジュール等のレンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化、軽量化を実現することができるため好ましい。

≪化合物（Ａ）≫
化合物（Ａ）は、波長６５０～８００ｎｍの領域に吸収極大があれば特に限定されないが、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、特にスクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物が好ましい。なお、化合物（Ａ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

スクアリリウム系化合物は、優れた可視光透過性、急峻な吸収特性および高いモル吸光係数を有するが、光線吸収時に散乱光の原因となる蛍光を発生させる場合がある。そのような場合、スクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ａ）とを組み合わせて使用することにより、散乱光が少なくカメラ画質がより良好な光学フィルターを得ることができる。

化合物（Ａ）の吸収極大波長は、好ましくは６６０ｎｍ以上７９５ｎｍ以下、より好ましくは６８０ｎｍ以上７９０ｎｍ以下である。

化合物（Ａ）は、波長６５０～８００ｎｍの領域に吸収極大を有すれば特に限定されないが、光学フィルターの耐熱性の観点から、波長６５０ｎｍ以上７１５ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ａ）、波長７１５ｎｍ超７５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ｂ）、および波長７５０ｎｍ超８００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ｃ）をそれぞれ１種以上含むことがより好ましい。化合物（Ａ）がこのような構成の場合、可視光透過率の低下を最小限に留めつつ近赤外線吸収帯を効率的に広くできる他、化合物（Ａ）同士の分子間相互作用により耐熱性や耐候性を向上できる傾向にあり好ましい。

化合物（Ａ）が２種以上の化合物の組み合わせである場合、適用する化合物（Ａ）のうち最も吸収極大波長が短いものと最も吸収極大波長の長いものの吸収極大波長の差は、好ましくは２０～１００ｎｍ、より好ましくは３０～９０ｎｍ、さらに好ましくは４０～８０ｎｍである。吸収極大波長の差が上記範囲にあると、蛍光による散乱光を十分低減できるとともに、７００ｎｍ付近の幅広い吸収帯と優れた可視光透過率を両立できるため好ましい。

化合物（Ａ）全体の含有量は、前記基材として、例えば、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０４～２．０質量部、より好ましくは０．０６～１．５質量部、さらに好ましくは０．０８～１．０質量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を用いる場合には、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．４～５．０質量部、より好ましくは０．６～４．０質量部、さらに好ましくは０．８～３．５質量部である。

（スクアリリウム系化合物）
前記スクアリリウム系化合物としては、特に限定されるものではないが、下記式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物および下記式（ＩＩ）で表されるスクアリリウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。以下、それぞれ「化合物（Ｉ）」および「化合物（ＩＩ）」ともいう。

式（Ｉ）中、Ｒ^a、Ｒ^bおよびＹａは、下記条件（α）または（β）を満たす。

条件（α）：
複数あるＲ^aはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ¹または－ＮＲ^eＲ^f基を表し；
複数あるＲ^bはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ¹または－ＮＲ^gＲ^h基を表し；
複数あるＹａはそれぞれ独立に、－ＮＲ^jＲ^k基を表し；
Ｌ¹は、Ｌ^a、Ｌ^b、Ｌ^c、Ｌ^d、Ｌ^e、Ｌ^f、Ｌ^gまたはＬ^hを表し；
Ｒ^eおよびＲ^fはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌ^a、－Ｌ^b、－Ｌ^c、－Ｌ^dまたは－Ｌ^eを表し；
Ｒ^gおよびＲ^hはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌ^a、－Ｌ^b、－Ｌ^c、－Ｌ^d、－Ｌ^eまたは－Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基（Ｒⁱは、－Ｌ^a、－Ｌ^b、－Ｌ^c、－Ｌ^dまたは－Ｌ^eを表す。）を表し；
Ｒ^jおよびＲ^kはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌ^a、－Ｌ^b、－Ｌ^c、－Ｌ^dまたは－Ｌ^eを表し；
Ｌ^aは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基を表し；
Ｌ^bは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基を表し；
Ｌ^cは、置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の脂環式炭化水素基を表し；
Ｌ^dは、置換基Ｌを有してもよい炭素数６～１４の芳香族炭化水素基を表し；
Ｌ^eは、置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の複素環基を表し；
Ｌ^fは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシ基を表し；
Ｌ^gは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアシル基を表し；
Ｌ^hは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシカルボニル基を表し；
Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数３～１４の複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を表す。

条件（β）：
１つのベンゼン環上の２つのＲ^aのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環を形成する；
前記複素環は置換基を有していてもよく、Ｒ^bおよび前記複素環の形成に関与しないＲ^aは、それぞれ独立に前記条件（α）のＲ^bおよびＲ^aと同義である。

前記Ｌ^a～Ｌ^hは、置換基を含めた炭素数の合計が、それぞれ５０以下であることが好ましく、炭素数４０以下であることがさらに好ましく、炭素数３０以下であることが特に好ましい。炭素数がこの範囲よりも多いと、化合物の合成が困難となる場合があるとともに、単位質量あたりの光の吸収強度が小さくなる傾向がある。

前記Ｌ^aおよびＬにおける炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基（Ｍｅ）、エチル基（Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（ｎ－Ｐｒ）、イソプロピル基（ｉ－Ｐｒ）、ｎ－ブチル基（ｎ－Ｂｕ）、ｓｅｃ－ブチル基（ｓ－Ｂｕ）、ｔｅｒｔ－ブチル基（ｔ－Ｂｕ）、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基およびドデシル基等のアルキル基；ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、ブテニル基、１，３－ブタジエニル基、２－メチル－１－プロペニル基、２－ペンテニル基、ヘキセニル基およびオクテニル基等のアルケニル基；ならびに、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、２－メチル－１－プロピニル基、ヘキシニル基およびオクチニル基等のアルキニル基を挙げることができる。

前記Ｌ^bおよびＬにおける炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基としては、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１－ジクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタクロロプロピル基およびヘプタフルオロプロピル基を挙げることができる。

前記Ｌ^cおよびＬにおける炭素数３～１４の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基等のシクロアルキル基；ノルボルナン基およびアダマンタン基等の多環脂環式基を挙げることができる。

前記Ｌ^dおよびＬにおける炭素数６～１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、アセナフチル基、フェナレニル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基およびビフェニリル基を挙げることができる。

前記Ｌ^eおよびＬにおける炭素数３～１４の複素環基としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、アクリジン、モルホリンおよびフェナジン等の複素環からなる基を挙げることができる。

前記Ｌ^fにおける炭素数１～１２のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基を挙げることができる。

前記Ｌ^gにおける炭素数１～９のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基およびベンゾイル基を挙げることができる。

前記Ｌ^hにおける炭素数１～９のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基およびオクチルオキシカルボニル基を挙げることができる。

前記Ｌ^aとしては、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、４－フェニルブチル基、２－シクロヘキシルエチルであり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基である。

前記Ｌ^bとしては、好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、５－シクロヘキシル－２，２，３，３－テトラフルオロペンチル基であり、より好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。

前記Ｌ^cとしては、好ましくはシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４－エチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、４－フェニルシクロヘプチル基であり、より好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、４－エチルシクロヘキシル基である。

前記Ｌ^dとしては、好ましくはフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、４－シクロペンチルフェニル基、２，３，６－トリフェニルフェニル基、２，３，４，５，６－ペンタフェニルフェニル基であり、より好ましくはフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、２，３，４，５，６－ペンタフェニルフェニル基である。

前記Ｌ^eとしては、好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、モルホリンからなる基であり、より好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、モルホリンからなる基である。

前記Ｌ^fとしては、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、２－フェニルエトキシ基、３－シクロヘキシルプロポキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基であり、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基である。

前記Ｌ^gとしては、好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、４－プロピルベンゾイル基、トリフルオロメチルカルボニル基であり、より好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基である。

前記Ｌ^hとしては、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、２－トリフルオロメチルエトキシカルボニル基、２－フェニルエトキシカルボニル基であり、より好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基である。

前記Ｌ^a～Ｌ^hは、さらに、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子または基を有していてもよい。このような例としては、４－スルホブチル基、４－シアノブチル基、５－カルボキシペンチル基、５－アミノペンチル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－ホスホリルエチル基、６－アミノ－２，２－ジクロロヘキシル基、２－クロロ－４－ヒドロキシブチル基、２－シアノシクロブチル基、３－ヒドロキシシクロペンチル基、３－カルボキシシクロペンチル基、４－アミノシクロヘキシル基、４－ヒドロキシシクロヘキシル基、４－ヒドロキシフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－ヒドロキシナフチル基、４－アミノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３－メチルピロールからなる基、２－ヒドロキシエトキシ基、３－シアノプロポキシ基、４－フルオロベンゾイル基、２－ヒドロキシエトキシカルボニル基、４－シアノブトキシカルボニル基を挙げることができる。

前記条件（α）におけるＲ^aとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、水酸基である。

前記条件（α）におけるＲ^bとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ－メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、水酸基、ジメチルアミノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基である。

前記Ｙａとしては、好ましくはアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ基であり、より好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基である。

前記式（Ｉ）の条件（β）における、１つのベンゼン環上の２つのＲ^aのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して形成される、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環としては、例えば、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ピリダジン、ピリミジンおよびピラジン等を挙げることができる。これらの複素環のうち、当該複素環を構成し、かつ、前記ベンゼン環を構成する炭素原子の隣の１つの原子が窒素原子である複素環が好ましく、ピロリジンがさらに好ましい。

式（ＩＩ）中、Ｘは独立に、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ－Ｒ^cまたはＣ（Ｒ^dＲ^d）を表し；複数あるＲ^cはそれぞれ独立に、水素原子、Ｌ^a、Ｌ^b、Ｌ^c、Ｌ^dまたはＬ^eを表し；複数あるＲ^dはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ¹または－ＮＲ^eＲ^f基を表し、隣り合うＲ^d同士は連結して置換基を有していてもよい環を形成してもよく；Ｌ^a～Ｌ^e、Ｌ¹、Ｒ^eおよびＲ^fは、前記式（Ｉ）において定義したＬ^a～Ｌ^e、Ｌ¹、Ｒ^eおよびＲ^fと同義である。

前記式（ＩＩ）中のＲ^cとしては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基である。

前記式（ＩＩ）中のＲ^dとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、４－アミノシクロヘキシル基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。

前記Ｘとしては、好ましくはＯ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ－Ｍｅ、Ｎ－Ｅｔ、ＣＨ₂、Ｃ－Ｍｅ₂、Ｃ－Ｅｔ₂であり、より好ましくはＳ、Ｃ－Ｍｅ₂、Ｃ－Ｅｔ₂である。

前記式（ＩＩ）において、隣り合うＲ^d同士は連結して環を形成してもよい。このような環としては、例えば、ベンゾインドレニン環、α－ナフトイミダゾール環、β－ナフトイミダゾール環、α－ナフトオキサゾール環、β－ナフトオキサゾール環、α－ナフトチアゾール環、β－ナフトチアジアゾール環、α－ナフトセレナゾール環、β－ナフトセレナゾール環を挙げることができる。

化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）は、下記式（Ｉ－１）および下記式（ＩＩ－１）のような記載方法に加え、下記式（Ｉ－２）および下記式（ＩＩ－２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｉ－１）と下記式（Ｉ－２）との違い、および下記式（ＩＩ－１）と下記式（ＩＩ－２）との違いは構造の記載方法のみであり、どちらも同一の化合物を表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式（Ｉ－１）および下記式（ＩＩ－１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。

さらに、例えば、下記式（Ｉ－３）で表される化合物と下記式（Ｉ－４）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。

前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）は、それぞれ前記式（Ｉ）および（ＩＩ）の要件を満たせば特に構造は限定されない。例えば前記式（Ｉ－１）および（ＩＩ－１）のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。

前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）の具体例としては、下記式（Ｉ－Ａ）～（Ｉ－Ｈ）で表される基本骨格を有する、下記表１～３に記載の化合物（ａ－１）～（ａ－３６）を挙げることができる。

前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開平１－２２８９６０号公報、特開２００１－４０２３４号公報、特許第３１９６３８３号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。

（フタロシアニン系化合物）
前記フタロシアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩＩ）」ともいう。）であることが好ましい。

式（ＩＩＩ）中、Ｍは、２個の水素原子、２個の１価の金属原子、２価の金属原子、または３価もしくは４価の金属原子を含む置換金属原子を表し、複数あるＲ_a、Ｒ_b、Ｒ_cおよびＲ_dはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ¹、－Ｓ－Ｌ²、－ＳＳ－Ｌ²、－ＳＯ₂－Ｌ³、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ⁴、または、Ｒ_aとＲ_b、Ｒ_bとＲ_cおよびＲ_cとＲ_dのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表す。但し、同じ芳香環に結合したＲ_a、Ｒ_b、Ｒ_cおよびＲ_dのうち少なくとも１つが水素原子ではない。

前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
Ｌ¹は、前記式（Ｉ）において定義したＬ¹と同義であり、
Ｌ²は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬ^a～Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ³は、水酸基または前記Ｌ^a～Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ⁴は、前記Ｌ^a～Ｌ^eのいずれかを表す。

式（Ａ）～（Ｈ）中、Ｒ_xおよびＲ_yは炭素原子を表し、複数あるＲ_A～Ｒ_Lはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ¹、－Ｓ－Ｌ²、－ＳＳ－Ｌ²、－ＳＯ₂－Ｌ³、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ⁴を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、Ｌ¹～Ｌ⁴は前記式（ＩＩＩ）において定義したＬ¹～Ｌ⁴と同義である。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミノ基としては、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基などが挙げられる。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミド基としては、アミド基、メチルアミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ジブチルアミド基、α－ラクタム基、β－ラクタム基、γ－ラクタム基、δ－ラクタム基などが挙げられる。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、置換基Ｌを有してもよいイミド基としては、イミド基、メチルイミド基、エチルイミド基、ジエチルイミド基、ジプロピルイミド基、ジイソプロピルイミド基、ジブチルイミド基などが挙げられる。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、置換基Ｌを有してもよいシリル基としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリエチルシリル基などが挙げられる。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、－Ｓ－Ｌ²としては、チオール基、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、プロピルスルフィド基、ブチルスルフィド基、イソブチルスルフィド基、ｓｅｃ－ブチルスルフィド基、ｔｅｒｔ－ブチルスルフィド基、フェニルスルフィド基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルスルフィド基、２，６－ジフェニルフェニルスルフィド基、４－クミルフェニルスルフィド基などが挙げられる。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、－ＳＳ－Ｌ²としては、ジスルフィド基、メチルジスルフィド基、エチルジスルフィド基、プロピルジスルフィド基、ブチルジスルフィド基、イソブチルジスルフィド基、ｓｅｃ－ブチルジスルフィド基、ｔｅｒｔ－ブチルジスルフィド基、フェニルジスルフィド基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルジスルフィド基、２，６－ジフェニルフェニルジスルフィド基、４－クミルフェニルジスルフィド基などが挙げられる。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、－ＳＯ₂－Ｌ³としては、スルホ基、メシル基、エチルスルホニル基、ｎ－ブチルスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基などが挙げられる。

前記Ｒ_a～Ｒ_dおよびＲ_A～Ｒ_Lにおいて、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ⁴としては、メチルアゾ基、フェニルアゾ基、ｐ－メチルフェニルアゾ基、ｐ－ジメチルアミノフェニルアゾ基などが挙げられる。

前記Ｍにおいて、１価の金属原子としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどが挙げられる。

前記Ｍにおいて、２価の金属原子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｓｎ、Ｐｂなどが挙げられる。

前記Ｍにおいて、３価の金属原子を含む置換金属原子としては、Ａｌ－Ｆ、Ａｌ－Ｃｌ、Ａｌ－Ｂｒ、Ａｌ－Ｉ、Ｇａ－Ｆ、Ｇａ－Ｃｌ、Ｇａ－Ｂｒ、Ｇａ－Ｉ、Ｉｎ－Ｆ、Ｉｎ－Ｃｌ、Ｉｎ－Ｂｒ、Ｉｎ－Ｉ、Ｔｌ－Ｆ、Ｔｌ－Ｃｌ、Ｔｌ－Ｂｒ、Ｔｌ－Ｉ、Ｆｅ－Ｃｌ、Ｒｕ－Ｃｌ、Ｍｎ－ＯＨなどが挙げられる。

前記Ｍにおいて、４価の金属原子を含む置換金属原子としては、ＴｉＦ₂、ＴｉＣｌ₂、ＴｉＢｒ₂、ＴｉＩ₂、ＺｒＣｌ₂、ＨｆＣｌ₂、ＣｒＣｌ₂、ＳｉＦ₂、ＳｉＣｌ₂、ＳｉＢｒ₂、ＳｉＩ₂、ＧｅＦ₂、ＧｅＣｌ₂、ＧｅＢｒ₂、ＧｅＩ₂、ＳｎＦ₂、ＳｎＣｌ₂、ＳｎＢｒ₂、ＳｎＩ₂、Ｚｒ（ＯＨ）₂、Ｈｆ（ＯＨ）₂、Ｍｎ（ＯＨ）₂、Ｓｉ（ＯＨ）₂、Ｇｅ（ＯＨ）₂、Ｓｎ（ＯＨ）₂、ＴｉＲ₂、ＣｒＲ₂、ＳｉＲ₂、ＧｅＲ₂、ＳｎＲ₂、Ｔｉ（ＯＲ）₂、Ｃｒ（ＯＲ）₂、Ｓｉ（ＯＲ）₂、Ｇｅ（ＯＲ）₂、Ｓｎ（ＯＲ）₂（Ｒは脂肪族基または芳香族基を表す。）、ＴｉＯ、ＶＯ、ＭｎＯなどが挙げられる。

前記Ｍとしては、周期表５族～１１族、かつ、第４周期～第５周期に属する、２価の遷移金属、３価もしくは４価の金属ハロゲン化物または４価の金属酸化物であることが好ましく、その中でも、高い可視光透過率や安定性を達成することができることから、Ｃｕ、Ｎｉ、ＣｏおよびＶＯが特に好ましい。

前記フタロシアニン系化合物は、下記式（Ｖ）のようなフタロニトリル誘導体の環化反応により合成する方法が一般的に知られているが、得られるフタロシアニン系化合物は下記式（ＶＩ－１）～（ＶＩ－４）のような４種の異性体の混合物となっている。本発明では、特に断りのない限り、１種のフタロシアニン系化合物につき１種の異性体のみを例示しているが、他の３種の異性体についても同様に用いることができる。なお、これらの異性体は必要に応じて分離して用いることも可能であるが、本発明では異性体混合物を一括して取り扱っている。

前記化合物（ＩＩＩ）の具体例としては、下記式（ＩＩＩ－Ａ）～（ＩＩＩ－Ｊ）で表わされる基本骨格を有する、下記表４～７に記載の（ｂ－１）～（ｂ－５６）などを挙げることができる。

化合物（ＩＩＩ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば、特許第４０８１１４９号公報や「フタロシアニン －化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）に記載されている方法を参照して合成することができる。

（シアニン系化合物）
前記シアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）のいずれかで表される化合物（以下「化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）」ともいう。）であることが好ましい。

式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）中、Ｘ_a ^-は１価の陰イオンを表し、複数あるＤは独立に、炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、複数あるＲ_a、Ｒ_b、Ｒ_c、Ｒ_d、Ｒ_e、Ｒ_f、Ｒ_g、Ｒ_hおよびＲ_iはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ¹、－Ｓ－Ｌ²、－ＳＳ－Ｌ³、－ＳＯ₂－Ｌ³、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ⁴、または、Ｒ_bとＲ_c、Ｒ_dとＲ_e、Ｒ_eとＲ_f、Ｒ_fとＲ_g、Ｒ_gとＲ_hおよびＲ_hとＲ_iのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、前記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
Ｌ¹は、前記式（Ｉ）において定義したＬ¹と同義であり、
Ｌ²は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬ^a～Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ³は、水素原子または前記Ｌ^a～Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ⁴は、前記Ｌ^a～Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｚ_a～Ｚ_cおよびＹ_a～Ｙ_dはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ¹、－Ｓ－Ｌ²、－ＳＳ－Ｌ²、－ＳＯ₂－Ｌ³、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ⁴（Ｌ¹～Ｌ⁴は、前記Ｒ_a～Ｒ_iにおけるＬ¹～Ｌ⁴と同義である。）、または、これらのうち隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基；窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基；もしくは、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む、炭素数３～１４の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数１～９の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。

前記Ｚ_a～Ｚ_cおよびＹ_a～Ｙ_dにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける芳香族炭化水素基で例示した化合物が挙げられる。

前記Ｚ_a～Ｚ_cおよびＹ_a～Ｙ_dにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける脂環式炭化水素基および複素環で例示した化合物（複素芳香族炭化水素基を除く。）が挙げられる。

前記Ｚ_a～Ｚ_cおよびＹ_a～Ｙ_dにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数３～１４の複素芳香族炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける複素環基として例示した化合物（窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む脂環式炭化水素基を除く。）が挙げられる。

前記式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）において、－Ｓ－Ｌ²、－ＳＳ－Ｌ²、－ＳＯ₂－Ｌ³、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ⁴、置換基Ｌを有してもよいアミノ基、アミド基、イミド基、シリル基としては、前記式（ＩＩＩ）で例示した基と同様の基などが挙げられる。

Ｘ_a ^-は１価の陰イオンであれば特に限定されないが、Ｉ^-、Ｂｒ^-、ＰＦ₆ ^-、Ｎ（ＳＯ₂ＣＦ₃）₂ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ニッケルジチオラート系錯体、銅ジチオラート系錯体などが挙げられる。

前記化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）の具体例としては、下記表８に記載の（ｃ－１）～（ｃ－２４）などを挙げることができる。

前記化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば特開２００９－１０８２６７号公報に記載されている方法で合成することができる。

＜透明樹脂＞
前記透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保するため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０～３８０℃、より好ましくは１１０～３７０℃、さらに好ましくは１２０～３６０℃である樹脂が挙げられる。また、リフロー工程に好適であるため前記樹脂のガラス転移温度が１４０℃以上であると好ましく、２３０℃以上であるとより好ましい。

前記透明樹脂の屈折率（ｎ２０ｄ）は、１．５３以下であることが特に好ましい。屈折率（ｎ２０ｄ）が１．５３超となる透明樹脂は分子内に芳香環を多く有する傾向にあるが、当該構造の樹脂では化合物（Ａ）分子内のπ共役系との相互作用が強くなり過ぎ、耐候性を悪化させる場合がある。

透明樹脂としては、当該樹脂からなる厚さ０．１ｍｍの樹脂板を形成した場合に、この樹脂板の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７１０５）が、好ましくは７５～９５％、さらに好ましくは７８～９５％、特に好ましくは８０～９５％となる樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いれば、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。

透明樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００～３５０，０００、好ましくは３０，０００～２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００～１５０，０００、好ましくは２０，０００～１００，０００である。

透明樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂を挙げることができる。これらの内、環状ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリエーテル樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂を用いることが、透明性（光学特性）、耐熱性、耐リフロー性等のバランスに優れた光学フィルターを得られる点で好ましく、さらに樹脂の屈折率の観点から環状ポリオレフィン樹脂が特に好ましい。透明樹脂は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

≪環状ポリオレフィン系樹脂≫
環状ポリオレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ₀）で表される単量体および下記式（Ｙ₀）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。

式（Ｘ₀）中、Ｒ^x1～Ｒ^x4はそれぞれ独立に、下記（i'）～（ix'）より選ばれる原子または基を表し、ｋ^x、ｍ^xおよびｐ^xはそれぞれ独立に、０～４の整数を表す。
（i'）水素原子
（ii'）ハロゲン原子
（iii'）トリアルキルシリル基
（iv'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（v'）置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（vi'）極性基（但し、（ii'）および（iv'）を除く。）
（vii'）Ｒ^x1とＲ^x2またはＲ^x3とＲ^x4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲ^x1～Ｒ^x4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（viii'）Ｒ^x1とＲ^x2またはＲ^x3とＲ^x4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲ^x1～Ｒ^x4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ix'）Ｒ^x2とＲ^x3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲ^x1とＲ^x4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）

式（Ｙ₀）中、Ｒ^y1およびＲ^y2はそれぞれ独立に、前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒ^y1とＲ^y2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋ^yおよびｐ^yはそれぞれ独立に、０～４の整数を表す。

≪芳香族ポリエーテル系樹脂≫
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。

式（１）中、Ｒ¹～Ｒ⁴はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、ａ～ｄはそれぞれ独立に、０～４の整数を示す。

式（２）中、Ｒ¹～Ｒ⁴およびａ～ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ¹～Ｒ⁴およびａ～ｄと同義であり、Ｙは、単結合、－ＳＯ₂－または－ＣＯ－を示し、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ⁷はシアノ基ではない。

また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。

式（３）中、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ₂－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＯ－または炭素数１～１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｎは０または１を示す。

式（４）中、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ⁷、Ｒ⁸、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ⁵、Ｒ⁶、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。

≪ポリイミド系樹脂≫
ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６－１９９９４５号公報や特開２００８－１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。

≪フルオレンポリカーボネート系樹脂≫
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開２００８－１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。

≪フルオレンポリエステル系樹脂≫
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０－２８５５０５号公報や特開２０１１－１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。

≪フッ素化芳香族ポリマー系樹脂≫
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開２００８－１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。

≪アクリル系紫外線硬化型樹脂≫
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ａ）および硬化性樹脂を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。

≪エポキシ系樹脂≫
エポキシ系樹脂としては、特に制限されないが、紫外線硬化型と熱硬化型に大別することができる。紫外線硬化型エポキシ系樹脂としては、例えば、分子内に一つ以上のエポキシ基を有する化合物と、紫外線によって酸を発生させる化合物（以下「光酸発生剤」ともいう）を含有する組成物から合成されるものを挙げることができ、熱硬化型エポキシ系樹脂としては、例えば、分子内に一つ以上のエポキシ基を有する化合物と、酸無水物を含有する組成物から合成されるものを挙げることができる。エポキシ系紫外線硬化型樹脂は、前記基材として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。

≪ゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂≫
ゾルゲル法によるシリカを主成分とする樹脂としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシランなどのテトラアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのフェニルアルコキシシラン等から選ばれる１種以上のシラン類の加水分解によるゾルゲル反応により得られる化合物を樹脂として使用することができる。

≪市販品≫
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状ポリオレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人（株）製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ－５０００などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。

＜その他の色素（Ｘ）＞
前記基材には、さらに、前記化合物（Ａ）に該当しない、その他の色素（Ｘ）が含まれていてもよい。

その他の色素（Ｘ）としては、吸収極大波長が波長６５０ｎｍ未満もしくは波長８００ｎｍ超１２５０ｎｍ以下の領域にある色素であれば特に制限されず、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、オクタフィリン系化合物、ジイモニウム系化合物、ピロロピロール系化合物、ボロンジピロメテン（ＢＯＤＩＰＹ）系化合物、ペリレン系化合物および金属ジチオラート系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。このような色素を用いることにより、幅広い近赤外線波長領域における吸収特性と優れた可視光透過率を達成することができる。

その他の色素（Ｘ）の吸収極大波長は、好ましくは８０５ｎｍ以上１２００ｎｍ以下、より好ましくは８１０ｎｍ以上１１５０ｎｍ以下、さらに好ましくは８１５ｎｍ以上１１００ｎｍ以下、特に好ましくは８２０ｎｍ以上１０５０ｎｍ以下である。その他の色素（Ｘ）の吸収極大波長がこのような範囲にあると、不要な近赤外線を効率よくカットすることができるとともに、入射光の入射角依存性を低くすることができる。

その他の色素（Ｘ）の含有量は、前記基材として、例えば、その他の色素（Ｘ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材を用いる場合には、透明樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．００５～１．０質量部、より好ましくは０．０１～０．９質量部、特に好ましくは０．０２～０．８質量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上にその他の色素（Ｘ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上にその他の色素（Ｘ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、その他の色素（Ｘ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０５～４．０質量部、より好ましくは０．１～３．０質量部、特に好ましくは０．２～２．０質量部である。

＜その他成分＞
前記基材は、本発明の効果を損なわない範囲において、その他成分として、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤および蛍光消光剤などを含有してもよい。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記近紫外線吸収剤としては、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、シアノアクリレート系化合物などが挙げられる。

前記酸化防止剤としては、例えば２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，２'－ジオキシ－３，３'－ジ－ｔ－ブチル－５，５'－ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、およびトリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。

なお、これらその他成分は、基材を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１～５．０質量部、好ましくは０．０５～２．０質量部である。

＜基材の製造方法＞
前記基材が、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板を含む基材である場合、該透明樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。

前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上または化合物（Ａ）を含有しない透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合、例えば、前記支持体または前記透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、前記支持体または前記透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層が形成された基材を製造することができる。

≪溶融成形≫
前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物（Ａ）と必要に応じて他の成分とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と化合物（Ａ）と必要応じて他の成分とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、化合物（Ａ）、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。

≪キャスト成形≫
前記キャスト成形としては、化合物（Ａ）、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；または化合物（Ａ）と、光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂と、必要に応じて他の成分とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。

前記基材が、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上または化合物（Ａ）を含有しない透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。

前記支持体としては、例えば、近赤外線吸収ガラス板（例えば、松浪硝子工業社製「ＢＳ－１１」やＡＧＣ テクノグラス社製「ＮＦ－５０Ｔ」などのような銅成分を含有するリン酸塩系ガラス板）、透明ガラス板（例えば、日本電気硝子社製「ＯＡ－１０Ｇ」や旭硝子社製「ＡＮ１００」などのような無アルカリガラス板）、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂（例えば、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム）製支持体が挙げられる。

さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶剤を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして硬化および乾燥させる方法などにより、光学部品上に透明樹脂層を形成することもできる。

前記方法で得られた透明樹脂層（透明樹脂製基板）中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよい。具体的には、前記残留溶剤量は、透明樹脂層（透明樹脂製基板）の重さ１００質量部に対して、好ましくは３質量部以下、より好ましくは１質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる透明樹脂層（透明樹脂製基板）が得られる。

［誘電体多層膜］
本発明の光学フィルターは、誘電体多層膜を有さないことが好ましいが、本発明の効果を損なわない範囲で、前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有してもよい。本発明における誘電体多層膜とは、可視光領域における反射防止効果を有する膜である。

前記誘電体多層膜は、好ましくは波長４００～６１０ｎｍ、より好ましくは波長４１０～６００ｎｍ、さらに好ましくは４２０～５９０ｎｍの範囲全体にわたって反射防止特性を有することが望ましい。

基材の両面に誘電体多層膜を有する形態として、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に、主に波長４００～６１０ｎｍ付近の反射防止特性を有する誘電体多層膜を基材の両面に有する形態などが挙げられる。

前記可視光領域における反射防止効果を有する誘電体多層膜の厚みは、本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、好ましくは０．０１～１．０μｍ、さらに好ましくは０．０５～０．５μｍである。厚みを上記範囲とすることによって、反りや歪みの少ない光学フィルターを得ることができる。

誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層したものが挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．７～２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分１００質量部に対して０～１０質量部）含有させたものが挙げられる。

低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２～１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。

高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。

高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ～０．５λの厚さが好ましい。λ（ｎｍ）の値としては、例えば７００～１４００ｎｍ、好ましくは７５０～１３００ｎｍである。厚さがこの範囲であると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。

誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、光学フィルター全体として１～２０層であることが好ましく、２～１２層であることがより好ましい。積層数を上記範囲とすることによって、反りや歪みの少ない光学フィルターを得ることができる。

本発明では、化合物（Ａ）やその他の色素（Ｘ）などの吸収特性に合わせて高屈折率材料層および低屈折率材料層を構成する材料種、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さ、積層の順番、積層数を適切に選択することで、可視光領域に十分な透過率を確保した上で近赤外線波長域に十分な光線カット特性を有し、且つ、斜め方向から近赤外線が入射した際の反射率を低減することができる。

ここで、前記条件を最適化するには、例えば、光学薄膜設計ソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用い、可視光領域の反射防止効果と近赤外線領域の光線カット効果を両立できるようにパラメーターを設定すればよい。上記ソフトの場合、例えば第一光学層の設計にあたっては、波長４００～７００ｎｍの目標透過率を１００％、Ｔａｒｇｅｔ Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を１とした上で、波長７０５～９５０ｎｍの目標透過率を０％、Ｔａｒｇｅｔ Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５にするなどのパラメーター設定方法が挙げられる。これらのパラメーターは基材（ｉ）の各種特性などに合わせて波長範囲をさらに細かく区切ってＴａｒｇｅｔ Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を変えることもできる。

［その他の機能膜］
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材の少なくとも一方の面、基材と誘電体多層膜との間、基材の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材が設けられた面と反対側の面に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。

本発明の光学フィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。

機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。

また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。

前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。

また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００質量部とした場合、好ましくは０．１～１０質量部、より好ましくは０．５～１０質量部、さらに好ましくは１～５質量部である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。

さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１～２０μｍ、さらに好ましくは０．５～１０μｍ、特に好ましくは０．７～５μｍである。

また、基材と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基材、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。

［光学フィルターの用途］
本発明の光学フィルターは、視野角が広く、優れた近赤外線カット能等を有する。したがって、カメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。さらに、自動車や建物等のガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。

ここで、固体撮像装置とは、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等といった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。例えば、本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、カメラモジュールとは、イメージセンサーや焦点調整機構、あるいは位相検出機構、距離測定機構等を備え、画像や距離情報を電気信号として出力する装置である。

前記カメラモジュールとしては、内部機構を外部から保護するカバー部材を有し、前記カバー部材が近赤外線反射機能を有するものであることが特に好ましい。カバー部材が、カバー部材の垂直方向から入射する光に対して反射機能を有する近赤外線波長帯としては、好ましくは９００～１１００ｎｍ、さらに好ましくは８５０～１１５０ｎｍ、特に好ましくは８００～１２００ｎｍである。カバー部材に近赤外反射機能を付与する手段は特に限定されないが、高屈折率材料と低屈折率材料を交互に積層した誘電体多層膜をＣＶＴ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法などによってカバー部材上に形成する方法が好ましい。

カメラモジュールが上記のような構成の場合、カバー部材によって近赤外線の一部がカットされた状態で光線がカメラモジュール内に入光することとなるため、レンズ－レンズ間、レンズ－光学フィルター間、光学フィルター－固体撮像素子間の不要な近赤外線反射を低減することができ、カメラ画像のノイズやゴーストを低減できる傾向にあるため好ましい。さらに、本発明のカメラモジュールでは、７００～７８０ｎｍの波長の近赤外線を化合物（Ａ）の吸収によって効率的にカットする光学フィルターを備えるため、従来のカメラモジュールでは実現困難な高画質化を達成することができる。

また、本発明の電子機器は、本発明のカメラモジュールを有する。電子機器としては、特に限定されないが、例えば、上述した用途におけるスマートフォン、携帯電話、ＰＣなどが挙げられる。

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、「部」は、特に断りのない限り「質量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。

＜分子量＞
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
（ａ）ウォターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ－ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ－ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。

なお、後述する樹脂合成例３で合成した樹脂については、上記方法による分子量の測定ではなく、下記方法（ｃ）による対数粘度の測定を行った。
（ｃ）ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。８０℃で１２時間真空乾燥して得られたポリイミド０．１ｇをＮ－メチル－２－ピロリドン２０ｍＬに溶解し、キャノン－フェンスケ粘度計を使用して３０℃における対数粘度（μ）を下記式により求めた。

μ＝｛ｌｎ（ｔ_s／ｔ₀）｝／Ｃ
ｔ₀：溶媒の流下時間
ｔ_s：希薄高分子溶液の流下時間
Ｃ：０．５ｇ／ｄＬ
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。

＜分光透過率＞
基材および光学フィルターの各波長における透過率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ－４１００）を用いて測定した。

ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率では、図１（Ａ）のように光学フィルター２に対して垂直に透過した光１を分光光度計３で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して３０度の角度から測定した場合の透過率では、図１（Ｂ）のように光学フィルター２の垂直方向に対して３０度の角度で透過した光１’を分光光度計３で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して６０度の角度から測定した場合の透過率では、図１（Ｃ）のように光学フィルター２の垂直方向に対して６０度の角度で透過した光１’’を分光光度計３で測定した。

＜カメラ画像の色シェーディング評価＞
光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ際の色シェーディング評価は下記の方法で行った。特開２０１６－１１００６７号公報と同様の方法で、図２に示すようなカメラモジュールを作製し、得られたカメラモジュールを用いて３００ｍｍ×４００ｍｍサイズの白色板をＤ６５光源（Ｘ－Ｒｉｔｅ社製標準光源装置「マクベスジャッジII」）下で撮影し、カメラ画像における白色板の中央部と端部における色目の違いを以下の基準で評価した。

全く問題がなく許容可能なレベルをＡ、若干色目の違いは認められるが高画質カメラモジュールとして実用上問題がなく許容可能なレベルをＢ、色目の違いが有り高画質カメラモジュール用途としては許容不可能なレベルをＣ、明らかな色目の違いが有り一般的なカメラモジュール用途としても許容不可能なレベルをＤと判定した。

なお、図３に示すように、撮影を行う際はカメラ画像１１１の中で白色板１１２が面積の９０％以上を占めるように白色板１１２とカメラモジュールの位置関係を調節した。また、図２におけるカバー部材２１０として、下記表９に示す膜構成を有するカバー部材を用い、光学フィルター２４０として、下記実施例および比較例で作製した光学フィルターを用いた。

＜カメラ画像のゴースト評価＞
光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ際のゴースト評価は下記の方法で行った。カメラ画像の色シェーディング評価と同様の方法でカメラモジュールを作成し、作成したカメラモジュールを用いて暗室中ハロゲンランプ光源（林時計工業社製「ルミナーエースＬＡ－１５０ＴＸ」）下で撮影し、カメラ画像における光源周辺のゴースト発生具合を以下の基準で評価した。

全く問題がなく許容可能なレベルをＡ、若干のゴーストは認められるが高画質カメラモジュールとして実用上問題がなく許容可能なレベルをＢ、ゴーストが発生しており高画質カメラモジュール用途としては許容不可能なレベルをＣ、ゴーストの度合いがひどく一般的なカメラモジュール用途としても許容不可能なレベルをＤと判定した。

なお、図４に示すように、撮影を行う際は、光源１２２がカメラ画像１２１の右上端部となるように調節した。

［合成例］
下記実施例で用いた化合物（Ａ）および近赤外線吸収色素（Ｘ）は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特開昭６０－２２８４４８号公報、特開平１－１４６８４６号公報、特開平１－２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３－１２４０５４号公報、「フタロシアニン －化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７－１６９３１５号公報、特開２００９－１０８２６７号公報、特開２０１０－２４１８７３号公報などに記載されている方法を挙げることができる。

＜樹脂合成例１＞
下記式（ａ）で表される８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデカ－３－エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部、１－ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。

このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆Ｈ₅）₃］₃を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ²、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、質量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃、屈折率（ｎ２０ｄ）が１．５１であった。

＜樹脂合成例２＞
３Ｌの４つ口フラスコに２，６－ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「樹脂Ｂ」ともいう。）を得た（収率９５％）。得られた樹脂Ｂは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００、質量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃、屈折率（ｎ２０ｄ）が１．６６であった。

＜樹脂合成例３＞
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、１，４－ビス（４－アミノ－α,α－ジメチルベンジル）ベンゼン２７．６６ｇ（０．０８モル）および４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル７．３８ｇ（０．０２モル）を入れて、γ―ブチロラクトン６８．６５ｇ及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１７．１６ｇに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて５℃に冷却し、同温に保ちながら１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物２２．６２ｇ（０．１モル）およびイミド化触媒としてトリエチルアミン０．５０ｇ（０．００５モル）を一括添加した。添加終了後、１８０℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、６時間還流させた。反応終了後、内温が１００℃になるまで空冷した後、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１４３．６ｇを加えて希釈し、攪拌しながら冷却し、固形分濃度２０質量％のポリイミド樹脂溶液２６４．１６ｇを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を１Ｌのメタノール中に注ぎいれてポリイミドを沈殿させた。濾別したポリイミドをメタノールで洗浄した後、１００℃の真空乾燥機中で２４時間乾燥させて白色粉末（以下「樹脂Ｃ」ともいう。）を得た。得られた樹脂ＣのＩＲスペクトルを測定したところ、イミド基に特有の１７０４ｃｍ^-1、１７７０ｃｍ^-1の吸収が見られた。樹脂Ｃはガラス転移温度（Ｔｇ）が３１０℃、屈折率（ｎ２０ｄ）が１．６８であり、対数粘度を測定したところ、０．８７であった。

［実施例１］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、化合物（Ａ－ａ）として下記式（Ａ－ａ－１）で表わされる化合物（Ａ－ａ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７１２ｎｍ）０．０５部、化合物（Ａ－ｂ）として、下記式（Ａ－ｂ－１）で表わされる化合物（Ａ－ｂ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３８ｎｍ）０．１２部、および化合物（Ａ－ｃ）として下記式（Ａ－ｃ－１）で表わされる化合物（Ａ－ｃ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７６ｎｍ）０．０５部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図５および表１５－１（以下、表１５－１および表１５－２のいずれについても、便宜的に「表１５」と称する。）に示す。

［実施例２］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として下記式（Ａ－ａ－２）で表わされる化合物（Ａ－ａ－２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６８６ｎｍ）０．０３部を用いたこと、化合物（Ａ－ｂ）を用いなかったこと、ならびに、化合物（Ａ－ｃ）として化合物（Ａ－ｃ－１）０．０４部および下記式（Ａ－ｃ－２）で表わされる化合物（Ａ－ｃ－２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７６０ｎｍ）０．０６部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ²，２００ｍＷ）を行って樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成して透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図６および表１５に示す。

樹脂組成物（１）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート ６０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ５部、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度（ＴＳＣ）：３０質量％）
［実施例３］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として化合物（Ａ－ａ－１）０．０４部および化合物（Ａ－ａ－２）０．０３部を用いたこと、化合物（Ａ－ｂ）として化合物（Ａ－ｂ－１）０．１０部を用いたこと、ならびに、化合物（Ａ－ｃ）として化合物（Ａ－ｃ－１）０．０４部および化合物（Ａ－ｃ－２）０．０５部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図７および表１５に示す。

［実施例４］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として化合物（Ａ－ａ－１）０．０４部および化合物（Ａ－ａ－２）０．０３部を用いたこと、化合物（Ａ－ｂ）として化合物（Ａ－ｂ－１）０．０１部を用いたこと、化合物（Ａ－ｃ）として化合物（Ａ－ｃ－１）０．０３部および化合物（Ａ－ｃ－２）０．０４部を用いたこと、ならびに、その他の近赤外線吸収色素（Ｘ）として下記式（Ｘ－１）で表わされる近赤外線吸収色素（Ｘ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８１３ｎｍ）０．０４部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で、化合物（Ａ）および近赤外線吸収色素（Ｘ）を含む透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図８および表１５に示す。

［実施例５］
縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ（厚み１５０ｕｍ）」（日本電気硝子（株）製）上に下記組成の樹脂組成物（２）をスピンコーターで塗布し、ホットプレート上８０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、スピンコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ²，２００ｍＷ）を行って樹脂組成物（２）を硬化させ、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図９および表１５に示す。

樹脂組成物（２）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート ２０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８０部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ４部、化合物（Ａ－ａ－１）３．００部、化合物（Ａ－ａ－２）１．００部、化合物（Ａ－ｂ－１）７．００部、化合物（Ａ－ｃ－１）４．００部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３５％）
［実施例６］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として化合物（Ａ－ａ－１）０．０４部および化合物（Ａ－ａ－２）０．０３部を用いたこと、化合物（Ａ－ｂ）として化合物（Ａ－ｂ－１）０．３４部を用いたこと、化合物（Ａ－ｃ）として化合物（Ａ－ｃ－１）０．０４部を用いたこと、ならびに、透明樹脂製基板の厚さを０．０８ｍｍとしたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１０および表１５に示す。

［実施例７］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として化合物（Ａ－ａ－１）０．０５部を用いたこと、化合物（Ａ－ｂ）として化合物（Ａ－ｂ－１）０．８５部を用いらこと、化合物（Ａ－ｃ）として化合物（Ａ－ｃ－１）０．０５部を用いたこと、ならびに、透明樹脂製基板の厚さを０．０４ｍｍとしたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１１および表１５に示す。

［実施例８］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａおよび塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、得られた溶液を用いたこと以外は、実施例１と同様にして樹脂製支持体を作成した。

得られた樹脂製支持体の両面に、実施例２と同様にして、下記組成の樹脂組成物（３）からなる樹脂層を形成し、樹脂製支持体の両面に化合物（Ａ）および近赤外線吸収色素（Ｘ）を含む透明樹脂層を有する基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１２および表１５に示す。

樹脂組成物（３）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート １００部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ４部、化合物（Ａ－ａ－１）０．５０部、化合物（Ａ－ｃ－１）０．５０部、化合物（Ａ－ｃ－２）２．５０部、近赤外線吸収色素（Ｘ－１）１．４０部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：２５％）
［実施例９］
縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１（厚み１２０ｕｍ）」（松浪硝子工業（株）製）上に下記組成の樹脂組成物（４）をスピンコーターで塗布し、ホットプレート上８０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、スピンコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ²，２００ｍＷ）を行って樹脂組成物（４）を硬化させ、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する近赤外線吸収ガラス基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１３および表１５に示す。

樹脂組成物（４）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート ２０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８０部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ４部、化合物（Ａ－ａ－１）１．００部、化合物（Ａ－ｃ－１）１．００部、化合物（Ａ－ｃ－２）５．００部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３５質量％）
［実施例１０］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として化合物（Ａ－ａ－１）０．０４部および化合物（Ａ－ａ－２）０．０３部を用いたこと、化合物（Ａ－ｂ）として化合物（Ａ－ｂ－１）０．１４部を用いたこと、化合物（Ａ－ｃ）として化合物（Ａ－ｃ－１）０．０４部を用いたこと、ならびに、近赤外線吸収色素（Ｘ－１）０．０４部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で、化合物（Ａ）および近赤外線吸収色素（Ｘ）を含む透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１４および表１５に示す。

［実施例１１］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として化合物（Ａ－ａ－１）０．０４部および化合物（Ａ－ａ－２）０．０３部を用いたこと、化合物（Ａ－ｂ）として化合物（Ａ－ｂ－１）０．３４部を用いたこと、ならびに、化合物（Ａ－ｃ）として化合物（Ａ－ｃ－１）０．０４部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。

得られた基材の片面に第一光学層として誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに基材のもう一方の面にも同様の誘電体多層膜（Ｉ）を形成して光学フィルターを得た。

誘電体多層膜（Ｉ）として、蒸着温度１２０℃でシリカ（ＳｉＯ₂）層とチタニア（ＴｉＯ₂）層とを交互に積層させた（合計４層）。誘電体多層膜（Ｉ）のシリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層され、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。

ここで、誘電体多層膜（Ｉ）は、膜厚３３～８８ｎｍのシリカ層と膜厚１３～１１１ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数４の多層蒸着膜とした。膜構成を下記表１０に示す。

得られた基材および光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１５および表１５に示す。

［実施例１２～１４］
樹脂、溶媒、樹脂製基板の乾燥条件、化合物（Ａ）を表１５に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして基材を作成した。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表１５に示す。

［実施例１５、１６］
樹脂、溶媒、樹脂製基板の乾燥条件、化合物（Ａ）および近赤外線吸収色素（Ｘ）を表１５に示すように変更したこと以外は、実施例２と同様にして基材を作成した。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１６、図１７および表１５に示す。

［比較例１］
実施例１において、化合物（Ａ－ａ）として化合物（Ａ－ａ－１）０．０７部を用いたこと、および、化合物（Ａ－ｂ）として化合物（Ａ－ｂ－１）０．０８部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。得られた基材の｜Ｘ_b－Ｘ_a｜は６１ｎｍであり、１００ｎｍ未満であった。

続いて、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ₂）層とチタニア（ＴｉＯ₂）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）誘電体多層膜（ＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ₂）層とチタニア（ＴｉＯ₂）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（ＩＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０５ｍｍの光学フィ
ルターを得た。

誘電体多層膜（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の設計は、以下のようにして行った。

各層の厚さと層数については、可視光領域の反射防止効果と近赤外線領域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ａ）の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本比較例においてはソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１１の通りとした。

膜構成最適化の結果、比較例１では、誘電体多層膜（ＩＩ）は、膜厚３１～１５５ｎｍのシリカ層と膜厚１０～９４ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２６の多層蒸着膜となり、誘電体多層膜（ＩＩＩ）は、膜厚３８～１８９ｎｍのシリカ層と膜厚１１～１０９ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２０の多層蒸着膜となった。最適化を行った膜構成の一例を下記表１２に示す。

得られた光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１８および表１５に示す。比較例１で得られた光学フィルターは、比較的良好な光学濃度を示すものの、高角度入射時の透過率の低下が大きく、誘電体多層膜による近赤外線反射に起因すると考えられるゴーストの発生が確認され、さらに色シェーディング抑制効果が劣ることが確認された。

［比較例２］
比較例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ₂）層とチタニア（ＴｉＯ₂）層とが交互に積層されてなる（合計３０層）誘電体多層膜（ＩＶ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ₂）層とチタニア（ＴｉＯ₂）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（Ｖ）を形成し、厚さ約０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。

最適化を行う際、本比較例においてはソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１３の通りとした。

膜構成最適化の結果、比較例２では、誘電体多層膜（ＩＶ）は、膜厚２２～４６７ｎｍのシリカ層と膜厚６～１３０ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数３０の多層蒸着膜となり、誘電体多層膜（Ｖ）は、膜厚８４～２０６ｎｍのシリカ層と膜厚８～１０９ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２０の多層蒸着膜となった。最適化を行った膜構成の一例を下記表１４に示す。

得られた光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図１９および表１５に示す。比較例２で得られた光学フィルターは、高角度入射時の透過率の低下が大きく、さらに近赤外線波長領域の吸収も十分ではないため、色シェーディング抑制効果やゴースト抑制効果に劣ることが確認された。

［比較例３］
比較例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。続いて、実施例１１と同様の手順および条件で、得られた基材の片面に第一光学層として誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに基材のもう一方の面にも同様の誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、厚さ約０．１０１ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図２０および表１５に示す。比較例３で得られた光学フィルターは、近赤外線波長領域の吸収が十分ではなく、ゴースト抑制効果に劣ることが確認された。

［比較例４］
比較例１と同様の手順および条件で透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材からなる光学フィルターの分光透過率を測定して光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を図２１および表１５に示す。比較例４で得られた光学フィルターは、近赤外線波長領域の吸収が十分ではなく、ゴースト抑制効果に劣ることが確認された。

［比較例５］
光学フィルターを用いず、カバー部材のみ用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表１５に示す。比較例５で得られたカメラモジュールは近赤外線領域を吸収する光学フィルターを有さないため、色シェーディングおよびゴーストともに度合いがひどく、一般的なカメラモジュール用途としても許容不可能なレベルであることが確認された。

上記表１５中の基材の構成、各種化合物などの記号、および、フィルム［（透明）樹脂製基板もしくは樹脂製支持体］の乾燥条件は下記の通りである。

＜基材の形態＞
形態（１）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板
形態（２）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する
形態（３）：樹脂製支持体の両面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する
形態（４）：透明ガラス基板の片方の面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する
形態（５）：近赤外線吸収ガラス基板の片方の面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する
形態（６）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に反射防止層を有する
形態（７）：化合物（Ａ）および近赤外線吸収色素（Ｘ）を含む透明樹脂製基板
形態（８）：化合物（Ａ）を含む、｜Ｘ_b－Ｘ_a｜が１００ｎｍ未満の透明樹脂製基板の両面に近赤外線反射層を有する（比較例）
形態（９）：化合物（Ａ）を含む、｜Ｘ_b－Ｘ_a｜が１００ｎｍ未満の透明樹脂製基板の両面に反射防止層を有する（比較例）
形態（１０）：化合物（Ａ）を含む、｜Ｘ_b－Ｘ_a｜が１００ｎｍ未満の透明樹脂製基板（比較例）
＜透明樹脂＞
樹脂Ａ：環状ポリオレフィン系樹脂（樹脂合成例１）
樹脂Ｂ：芳香族ポリエーテル系樹脂（樹脂合成例２）
樹脂Ｃ：ポリイミド系樹脂（樹脂合成例３）
樹脂Ｄ：環状オレフィン系樹脂「ゼオノア １４２０Ｒ」（日本ゼオン（株）製）
＜ガラス基板＞
ガラス基板（１）：縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ（厚み１５０μｍ）」(日本電気硝子（株）製)
ガラス基板（２）：縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１（厚み１２０μｍ）」（松浪硝子工業（株）製）
＜樹脂製支持体＞
樹脂製支持体（１）：厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの樹脂Ａからなる透明樹脂製基板
＜近赤外線吸収色素＞
≪化合物（Ａ）≫
化合物（Ａ－ａ－１）：式（Ａ－ａ－１）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７１２ｎｍ）
化合物（Ａ－ａ－２）：式（Ａ－ａ－２）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長６８６ｎｍ）
化合物（Ａ－ｂ－１）：式（Ａ－ｂ－１）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３８ｎｍ）
化合物（Ａ－ｃ－１）：式（Ａ－ｃ－１）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７６ｎｍ）
化合物（Ａ－ｃ－２）：式（Ａ－ｃ－２）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７６０ｎｍ）
化合物（Ａ－ｃ－３）：下記式（Ａ－ｃ－３）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７３ｎｍ）

≪その他の色素（Ｘ）≫
近赤外線吸収色素（Ｘ－１）：式（Ｘ－１）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長８１３ｎｍ）
近赤外線吸収色素（Ｘ－２）：下記式（Ｘ－２）で表される化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長８７０ｎｍ）

＜溶媒＞
溶媒（１）：塩化メチレン
溶媒（２）：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
溶媒（３）：シクロヘキサン／キシレン（質量比：７／３）
＜フィルム乾燥条件＞
条件（１）：２０℃／８ｈｒ→減圧下 １００℃／８ｈｒ
条件（２）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下 １４０℃／８ｈｒ
条件（３）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下 １００℃／２４ｈｒ
なお、減圧乾燥前に塗膜をガラス板から剥離した。

条件（４）：８０℃／２ｍｉｎ
条件（５）：７０℃／２ｍｉｎ

１、１’、１’’：光
２：光学フィルター
３：分光光度計
１１１：カメラ画像
１１２：白色板
１１３：白色板の中央部の例
１１４：白色板の端部の例
１２１：カメラ画像
１２２：光源
１２３：光源周辺のゴーストの例
２００：撮像装置
２１０：カバー部材
２２０：レンズ群
２３０：絞り
２４０：光学フィルター
２５０：固体撮像素子
２６０：筐体

Claims (11)

1. 波長６５０～８００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有する基材を含み、
   前記基材が、前記化合物（Ａ）として、波長６５０ｎｍ以上７１５ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ａ）、波長７１５ｎｍ超７５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ｂ）、および波長７５０ｎｍ超８００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ－ｃ）を含有し、
   下記要件（ａ）および（ｂ）を満たす光学フィルター：
   （ａ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の最小値Ｔ_b-60とが、いずれも５５％以上９０％未満である；
   （ｂ）波長７００～７８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度の平均値ＯＤ_a-60とが、いずれも１．８以上である。
2. さらに下記要件（ｃ）を満たす請求項１に記載の光学フィルター：
   （ｃ）波長９００～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_IRが６０％以上である。
3. さらに下記要件（ｄ）を満たす請求項１または２に記載の光学フィルター：
   （ｄ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔ_a-60とが、いずれも６５％以上９０％未満である。
4. 前記基材が、さらに下記要件（ｆ）を満たす請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルター：
   （ｆ）波長６００～９００ｎｍにおいて、基材の垂直方向から入射する光に対する透過率が、短波長側から長波長側に向かって１０％超から１０％以下になる最も長波長側の波長Ｘ_aと、基材の垂直方向から入射する光に対する透過率が、短波長側から長波長側に向かって１０％以下から１０％超になる最も短波長側の波長Ｘ_bとの差の絶対値｜Ｘ_b－Ｘ_a｜が１００ｎｍ以上である。
5. 前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルター。
6. 前記化合物（Ａ）を含む層が透明樹脂層である請求項１～５のいずれか１項に記載の光学フィルター。
7. 前記透明樹脂層を構成する樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂、およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする請求項６に記載の光学フィルター。
8. 前記透明樹脂層を構成する樹脂の屈折率（ｎ２０ｄ）が、１．５０～１．５３である請求項６または７に記載の光学フィルター。
9. 請求項１～８のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
10. カメラモジュールの内部機構を外部から保護するカバー部材を有し、前記カバー部材が近赤外線反射機能を有することを特徴とする請求項９に記載のカメラモジュール。
11. 請求項９または１０に記載のカメラモジュールを有することを特徴とする電子機器。

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