JP7049067B2 - 重合性組成物、ブラックマトリクス用感光性組成物及び硬化物 - Google Patents

Description

従来、カラーフィルタは液晶表示装置等のカラー化の目的で広く用いられており、一般に赤、緑、青の画素がモザイク様に配置されている。このカラーフィルタを作成する方法としては、染色法、印刷法、インクジェット法、電着法、着色剤分散法等が知られている。特に、感光性ポリマー及び／又は感光性単量体と共に着色剤を分散させたカラーフィルタ用着色重合性組成物を用いてフォトリソグラフィーによって微細画素を形成させる着色剤分散法は、画素の平坦性に優れていることからカラーフィルタ製造法の主流となっている。

カラーフィルタ用着色性組成物は、顔料、溶剤、分散剤、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤等を含有するものである。光重合開始剤を含有する着色性組成物は、紫外線又は電子線を照射することによって重合硬化させることができるので、カラーフィルタを構成するフィルタセグメント等に有用である。該フィルタセグメントは、ガラス基板等に感光性材料を塗布して得られる塗工物から余剰の溶剤を乾燥除去した後、該塗工物に画素形成のためのフォトマスクを介して露光により活性エネルギー線を照射し、硬化（ネガ型）又はアルカリ溶解度を高め（ポジ型）、次いでアルカリ溶液等で溶解する部分を除去した後に、ポストベイクという２３０度以上の加熱を施すことにより形成される。
上記カラーフィルタ用着色性組成物において顔料を用いる場合、着色性組成物を調製する際には顔料を予め樹脂や分散媒に分散させた顔料分散液を作成することが一般的である。

近年、カラー撮像素子、カラー液晶テレビの高品質化を反映し、表示パネルの高精細が強く求められている。そのため、遮光性が高く、低線幅なＢＭにおいても十分な接着性が確保できる高接着性ブラックマトリクス用感光性組成物が検討されている。しかし、既存のブラックマトリクス用感光性組成物では遮光性と高接着性を両立するブラックマトリクスが得られないという問題がある。

特許文献１には、分子内に少なくとも２つの重合性基を有する第２～５世代のデンドリマーを含有する、接着強度及び耐熱性に優れた低硬化収縮の硬化性樹脂組成物が開示されている。特許文献２には、デンドリマー又はハイパーブランチポリマーを含有する、耐溶剤性に優れた画素及びブラックマトリックスを形成することができる着色層形成用感放射線性組成物が開示されている。

特開２０１３－１８８１０号公報 ２００９－１９８７５１号公報

岡田鉦彦編著、「デンドリマーの科学と機能」、アイピーシー社、２０００年

しかしながら、特許文献１及び２に記載の発明は、遮光性が低く、また、ガラスへの接着性が低いものであった。従って、本発明が解決しようとする課題は、高遮光性を有し、ガラスへの接着性に優れる重合性組成物がこれまでなかったということである。

従って、本発明の課題は、高遮光性及びガラスへの接着強度に優れた重合性組成物、ＢＭ用感光性組成物及びＢＣＳ用感光性組成物並びに該重合性組成物、ＢＭ用感光性組成物又はＢＣＳ用感光性組成物該より得られる硬化物及びディスプレイ表示装置、並びに該硬化物を製造する方法を提供することにある。

本発明の発明者らが鋭意検討した結果、下記〔１〕～〔９〕を提供することにより、上記課題を解決できることを見出した。

[１]
デンドリマー構造、ハイパーブランチ構造及びポリグリセリン由来の構造からなる群より選ばれる一つ以上構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）を除くアルカリ現像性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）を含有する重合性組成物。

[２]
着色剤（Ｂ）が黒色顔料である[１]に記載の重合性組成物。

[３]
アルカリ現像性化合物（Ｃ）が、下記一般式（I）で表されるエポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させた構造を有するエポキシ付加化合物と、多塩基酸無水物とのエステル化反応により得られる構造を有する不飽和化合物である[１]又は[２]に記載の重合性組成物。

（式中、Ｍは直接結合、炭素原子数１～２０の炭化水素基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ₂－、－ＳＳ－、－ＳＯ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－又は下記式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）又は（ｄ）で表される群から選ばれる置換基を表し、
Ｍで表される炭素原子数１～２０の炭化水素基中の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８（以下、Ｒ^１～Ｒ^８とも記載）は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を表し、
Ｒ^１～Ｒ^８で表される基中のメチレン基は、不飽和結合、－Ｏ－又は－Ｓ－で置換される場合があり、
ｎは０～１０の数であり、
ｎ≧１の場合、複数存在するＲ^１～Ｒ^８及びＭは、それぞれ、同一である場合もあり、異なる場合もある。）

（式中、Ｒ^９は、炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、
Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７及びＲ^３８（以下、Ｒ^１０～Ｒ^３８とも記載）は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２～２０の基、又はハロゲン原子を表し、
Ｒ^１０～Ｒ^３８で表される基中のメチレン基は、不飽和結合、－Ｏ－又は－Ｓ－で置換される場合があり、
Ｒ^１０とＲ^１１、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３、Ｒ^１３とＲ^１４、Ｒ^２２とＲ^１５、Ｒ^１５とＲ^１６、Ｒ^１６とＲ^１７、Ｒ^３０とＲ^２３、Ｒ^２３とＲ^２４、Ｒ^２４とＲ^２５、Ｒ^３８とＲ^３１、Ｒ^３１とＲ^３２、Ｒ^３２とＲ^３３、Ｒ^３４とＲ^３５、Ｒ^３５とＲ^３６及びＲ^３６とＲ^３７は結合して環を形成する場合があり、
上記式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）で表される基中の＊は、結合手を表す。）

[４]
重合開始剤（Ｄ）が、下記一般式（II）で表される基を有する重合開始剤である[１]～[３]の何れか一に記載の重合性組成物。

（式中、Ｒ^４１及びＲ^４２は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～２０の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数２～２０の基を表し、
Ｒ^４１及びＲ^４２で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基又はＲ^４１及びＲ^４２で表される複素環を含有する炭素原子数２～２０の基の水素原子はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数１～２０の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数２～２０の基で置換される場合があり、Ｒ^４１及びＲ^４２で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基又はＲ^４１及びＲ^４２で表される複素環を含有する炭素原子数２～２０の基中のメチレン基は－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ^４３－、－ＮＲ^４３ＣＯ－、－Ｓ－、－ＣＳ－、－ＳＯ_２－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又はＣＳＯ－で置換される場合もあり、
Ｒ^４３は、水素原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、
ｍは０又は１を表し、
式中の＊は、結合手を表す。）

[５]
[１]～[４]の何れか一に記載の重合性組成物を含有するブラックマトリクス用感光性組成物。

[６]
[１]～[４]の何れか一に記載の重合性組成物を含有するブラックカラムスペーサー用感光性組成物。

[７]
[１]～[４]の何れか一に記載の重合性組成物、[５]に記載のブラックマトリクス用感光性組成物又は[６]に記載のブラックカラムスペーサー用感光性組成物を光照射又は加熱によって硬化させる、硬化物を製造する方法。

[８]
[１]～[４]の何れか一に記載の重合性組成物、[５]に記載のブラックカラムスペーサー用感光性組成物又は[６]に記載のブラックカラムスペーサー用感光性組成物の硬化物。

[９]
[８]に記載の硬化物を含有するディスプレイ表示装置。

本発明の重合性組成物、ＢＭ用感光性組成物又はＢＣＳ用感光性組成物より得られる硬化物は、遮光性が高く、かつ高接着強度を有する。該硬化物はＢＭやＢＣＳに特に有用で、該ＢＭ又は該ＢＣＳを含有するディスプレイ表示装置等に好ましく使用できる。

以下、本発明の重合性組成物について好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。

本発明の重合性組成物は、デンドリマー構造、ハイパーブランチ構造及びポリグリセリン由来の構造からなる群より一つ以上選ばれる構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）（以下、単にエチレン性不飽和化合物（Ａ）とも言う）、着色剤（Ｂ）、上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）を除くアルカリ現像性化合物（Ｃ）（以下、単にアルカリ現像性化合物（Ｃ）とも言う）、及び重合開始剤（Ｄ）を含有する。以下、各成分について順に説明する。

＜エチレン性不飽和化合物（Ａ）＞
本発明の重合性組成物はエチレン性不飽和化合物（Ａ）を含有する。上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）は、デンドリマー構造、ハイパーブランチ構造及びポリグリセリン由来の構造からなる群より選ばれる一つ以上構造を有するエチレン性不飽和化合物を含有すればよく、種類等に特に制限されない。反応性が高いことから、エチレン性不飽和化合物（Ａ）は、エチレン性不飽和基がアクリル基又はメタクリル基のものが好ましく、アクリル基のものが特に好ましい。

上記デンドリマー構造とは、段階的に合成され、単一な分子構造を有しており、中心核から官能基を介して分岐構造を含む反復単位を繰り返し、末端基まで連結した高分子であり、通常、分岐構造を含む反復単位の反復回数を『世代』（１世代、２世代、・・・）として表される。デンドリマーは、反復単位の構造、世代数、末端構造（末端基）の種類等で、様々な機能を有するものである。尚、デンドリマーについては、例えば、『デンドリマーの科学と機能、岡田鉦彦編著（２０００）、アイピーシー社』（非特許文献１）に記載されている。
上記デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）とは、上記デンドリマー構造の末端に重合性基としてエチレン性不飽和基、好ましくはアクリル基又はメタクリル基を有する化合物である。

上記デンドリマー構造の中心核としては、特に限定されないが、少なくとも２つの結合点を有する必要がある。また、入手が容易である点から、中心核には、酸素原子又は窒素原子を有することが好ましい。

上記デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、アクリル基又はメタクリル基等のエチレン性不飽和基を５～３０個有することが好ましく、１０～１５個有することがより好ましい。デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）のエチレン性不飽和基の数が上述の範囲であると、重合性組成物の感度が上がり、硬化物のシール強度があがるため好ましい。
上記デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）におけるエチレン性不飽和基の数は、例えば、該エチレン性不飽和化合物（Ａ）のヨウ素価を公知の方法で、重量平均分子量をＧＰＣにより測定し、測定したヨウ素価及び重量平均分子量から、下記の計算式を用いて算出することができる。

（エチレン性不飽和基の数）＝（ヨウ素価）／２５３．８×１００／（重量平均分子量）

上記デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、重量平均分子量が、好ましくは５００～５０００、より好ましくは１０００～３０００である。デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）の重量平均分子量が上述の範囲であると、重合性組成物の感度が上がり、硬化物のシール強度があがるため好ましい。上記デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）の重量平均分子量、例えば、ＧＰＣにより測定することができる。

上記デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、公知の方法で製造することができる。また上記デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）としては、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、ビスコート１０００、ビスコート１０２０、ＳＴＡＲ－５０１、ＳＴＡＲ－５０２、ＳＩＲＩＵＳ－５０１、ＳＵＢＡＲＵ－５０１（以上、大阪有機化学工業社製）、Ａ－ＨＢＲ－５（新中村化学工業社製）等を挙げることができる。

上記ハイパーブランチ構造とは、２種類以上の官能基をもつ多官能性モノマーであるＡＢｘ型のモノマーを重合することにより合成される多分岐高分子構造を意味し、分子量分布をもち、デンドリマー構造と比較してランダムな分岐構造を有している。
上記ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）とは、上記ハイパーブランチ構造の末端に重合性基としてエチレン性不飽和基、好ましくはアクリル基又はメタクリル基を有する化合物である。

上記ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、アクリル基又はメタクリル基等のエチレン性不飽和基を５～３０個有することが好ましく、１０～１５個有することがより好ましい。ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）のエチレン性不飽和基の数が上述の範囲であると、重合性組成物の感度が上がり、硬化物のシール強度があがるため好ましい。
上記ハイパーブランチ構造をエチレン性不飽和化合物（Ａ）におけるエチレン性不飽和基の数は、例えば、該エチレン性不飽和化合物（Ａ）のヨウ素価を公知の方法で、重量平均分子量をＧＰＣにより測定し、測定したヨウ素価及び重量平均分子量から、下記の計算式を用いて算出することができる。

（エチレン性不飽和基の数）＝（ヨウ素価）／２５３．８×１００／（重量平均分子量）

上記ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、重量平均分子量が、好ましくは５００～５０００より、より好ましくは１０００～３０００である。ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）の重量平均分子量が上述の範囲であると、重合性組成物の感度が上がり、硬化物のシール強度があがるため好ましい。上記ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）の重量平均分子量、例えば、ＧＰＣにより測定することができる。

上記ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、公知の方法で製造することができる。また、上記ハイパーブランチ構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、ＣＮ２３００、ＣＮ２３０１、ＣＮ２３０２、ＣＮ２３０３、ＣＮ２３０４（以上、サートマージャパン社製）等を挙げることができる。

上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）とは、ポリグリセリンとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステル化反応により得られる化合物を意味する。前記ポリグリセリンとしては、平均重合度が５～１００のものが好ましく、１０～５０のものを用いることが特に好ましい。例えば、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ペンタグリセリン、ヘキサグリセリン、ヘプタグリセリン、オクタグリセリン、ノナグリセリン、デカグリセリン等が挙げられる。ポリグリセリンとアクリル酸又はメタクリル酸とをエステル化する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を採用することができる。

上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、アクリル基又はメタクリル基等のエチレン性不飽和基を５～３０個有することが好ましく、５～１５個有することがより好ましい。上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）のエチレン性不飽和基の数が上述の範囲であると、重合性組成物の感度が上がり、硬化物のシール強度があがるため好ましい。
上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）におけるエチレン性不飽和基の数は、例えば、該エチレン性不飽和化合物（Ａ）のヨウ素価を公知の方法で、重量平均分子量をＧＰＣにより測定し、測定したヨウ素価及び重量平均分子量から、下記の計算式を用いて算出することができる。

（エチレン性不飽和基の数）＝（ヨウ素価）／２５３．８×１００／（重量平均分子量）

上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）は、重量平均分子量が、好ましくは１０００～１００００、より好ましくは２０００～４０００である。上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）の重量平均分子量が上述の範囲であると、重合性組成物の感度が上がり、硬化物のシール強度があがるため好ましい。上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）の重量平均分子量、例えば、ＧＰＣにより測定することができる。

上記ポリグリセリン由来の構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、ポリグリセリンジアクリレート及びポリグリセリンジメタクリレート等を挙げることができる。

上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）の中でも、ガラスへ高接着強度を発現することから、デンドリマー構造を有するエチレン性不飽和化合物が特に好ましい。

本発明の重合性組成物において、エチレン性不飽和化合物（Ａ）の含有量は、特に限定されるものではないが、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して、好ましくは、１～３０質量部、より好ましくは、３～２０質量部であり、更に好ましくは、５～１５質量部である。エチレン性不飽和化合物（Ａ）の含有量が、上記の範囲内である場合、得られる硬化物の接着強度が優れることから好ましい。
例えば厚さ２～５μｍの硬化物を形成する場合には、エチレン性不飽和化合物（Ａ）の含有量は、特に限定されるものではないが、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して、好ましくは、１～３０質量部、より好ましくは、３～２０質量部であり、更に好ましくは、５～１５質量部である。

本発明の重合性組成物は、エチレン性不飽和化合物（Ａ）とアルカリ現像性化合物（Ｃ）とを併用することに技術的特徴の一つを有する。エチレン性不飽和化合物（Ａ）とアルカリ現像性化合物（Ｃ）とを併用することにより、得られる硬化物は遮光性が高く、かつ高接着強度を有するものとなる。特に、アルカリ現像性化合物（Ｃ）として、上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させた構造を有するエポキシ付加化合物と、多塩基酸無水物とのエステル化反応により得られる構造を有する不飽和化合物を用いると、上記の効果がより一層顕著なものとなる。

＜着色剤（Ｂ）＞
本発明の重合性組成物は着色剤（Ｂ）を含有する。
本発明の重合性組成物に用いられる着色剤（Ｂ）としては、顔料及び染料を用いることができる。顔料及び染料としては、それぞれ、無機色材又は有機色材を用いることができ、これらを単独で又は２種以上を混合して用いることができる。ここで、顔料とは、後述の溶剤に不溶の着色剤を指し、無機又は有機色材の中でも溶剤に不溶であるもの、或いは無機又は有機染料をレーキ化したものも含まれる。

上記顔料としては、ファーネス法、チャンネル法又はサーマル法によって得られるカーボンブラック、或いはアセチレンブラック、ケッチェンブラック又はランプブラック等のカーボンブラック、上記カーボンブラックをエポキシ樹脂で調整又は被覆したもの、上記カーボンブラックを予め溶剤中で樹脂に分散処理し、２０～２００ｍｇ／ｇの樹脂で被覆したもの、上記カーボンブラックを酸性又はアルカリ性表面処理したもの、平均粒径が８ｎｍ以上でＤＢＰ吸油量が９０ｍｌ／１００ｇ以下のカーボンブラック、９５０℃における揮発分中のＣＯ及びＣＯ_２から算出した全酸素量が、表面積１００ｍ^２当たり９ｍｇ以上であるカーボンブラック、黒鉛化カーボンブラック、黒鉛、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン、アニリンブラック、ピグメントブラック７、チタンブラック、ラクタムブラック及びペリレンブラック等に代表される黒色顔料、酸化クロム緑、ミロリブルー、コバルト緑、コバルト青、マンガン系、フェロシアン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III)）、カドミウム赤、合成鉄黒、アンバー、レーキ顔料等の有機又は無機顔料が挙げられる。

上記顔料の中でも、遮光性が高いことから黒色顔料を用いることが好ましく、ＢＭ用途には、カーボンブラックを用いることが特に好ましい。

液晶汚染性が低いことが要求されるＢＣＳ用途には、上記顔料として、ラクタムブラック及びペリレンブラック等に代表される有機系の黒色顔料を用いることが更に好ましい。

上記顔料としては、市販品を用いることもでき、例えば、ピグメントレッド１、２、３、９、１０、１４、１７、２２、２３、３１、３８、４１、４８、４９、８８、９０、９７、１１２、１１９、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１６９、１７０、１７１、１７７、１７９、１８０、１８４、１８５、１９２、２００、２０２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２５４、２２８、２４０及び２５４；ピグメントオレンジ１３、３１、３４、３６、３８、４３、４６、４８、４９、５１、５２、５５、５９、６０、６１、６２、６４、６５及び７１；ピグメントイエロー１、３、１２、１３、１４、１６、１７、２０、２４、５５、６０、７３、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、１００、１０９、１１０、１１３、１１４、１１７、１２０、１２５、１２６、１２７、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１６６、１６８、１７５、１８０及び１８５；ピグメントグリ－ン７、１０、３６及び５８；ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：５、１５：６、２２、２４、５６、６０、６１、６２及び６４；ピグメントバイオレット１、１９、２３、２７、２９、３０、３２、３７、４０及び５０等が挙げられる。

上記染料としては、例えば、ニトロソ化合物、ニトロ化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、キサンテン化合物、キノリン化合物、アントラキノン化合物、クマリン化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、イソインドリノン化合物、イソインドリン化合物、キナクリドン化合物、アンタンスロン化合物、ペリノン化合物、ペリレン化合物、ジケトピロロピロール化合物、チオインジゴ化合物、ジオキサジン化合物、トリフェニルメタン化合物、キノフタロン化合物、ナフタレンテトラカルボン酸、アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物等が挙げられる。

本発明の重合性組成物において、上記着色剤（Ｂ）の含有量は、特に限定されるものではないが、下記アルカリ現像性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは１００～５００質量部、より好ましくは１５０～４００質量部であり、更に好ましくは２００～３５０質量部である。着色剤（Ｂ）の含有量が上記の範囲内である場合、着色剤の凝集を伴わない保存安定性に優れた重合性組成物となり、重合性組成物の硬化物が、遮光性が高いことから好ましい。
例えば厚さ１～３μｍの硬化物を形成する場合には、着色剤（Ｂ）の含有量は、特に限定されるものではないが、アルカリ現像性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは１００～５００質量部、より好ましくは１５０～４００質量部であり、更に好ましくは２００～３５０質量部である。

＜アルカリ現像性化合物（Ｃ）＞
本発明の組成物はアルカリ現像性化合物（Ｃ）を含有する。
本発明に用いられるアルカリ現像性化合物（Ｃ）としては、親水性基を有し、アルカリ現像性を示すものであればよく、特に限定されず従来用いられているものを用いることができる。
上記親水性基としては、水酸基、チオール基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基、アミド基又はその塩等が挙げられ、水酸基及びカルボキシル基を有するアルカリ現像性化合物（Ｃ）はアルカリ現像性が高いため好ましい。
アルカリ現像性化合物（Ｃ）における親水性基の好ましい官能基当量（親水性基１当量を含む高分子化合物の質量）は、５０～１００００である。
アルカリ現像性化合物（Ｃ）の好ましい分子量は、１０００～５０００００である。

上記アルカリ現像性化合物（Ｃ）は、酸価が好ましくは１０～２００ｍｇ／ＫＯＨ、更に好ましくは３０～１５０ｍｇ／ＫＯＨである。酸価が１０ｍｇ／ＫＯＨ未満であると、アルカリ現像性が十分に得られない場合があり、２００ｍｇ／ＫＯＨより大きいと、高分子化合物の製造が困難である恐れがある。
ここで、酸価とは、ＪＩＳ Ｋ ００５０ 及び ＪＩＳ Ｋ ０２１１によるものである。

アルカリ現像性化合物（Ｃ）としては、具体的には、アクリル酸エステルの共重合体や、フェノール及び／又はクレゾールノボラックエポキシ樹脂、多官能エポキシ基を有するポリフェニルメタン型エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物等のエポキシ化合物基に、不飽和一塩基酸を作用させ、更に多塩基酸無水物を作用させて得られた樹脂を用いることができる。
これらの中でも、上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させた構造を有するエポキシ付加化合物であるか、又は、該エポキシ付加化合物と多塩基酸無水物とのエステル化反応により得られる構造を有する不飽和化合物であるアルカリ現像性化合物が、重合性組成物の感度が高くなり、重合性組成物から得られる硬化物が弾性回復率に優れることから好ましい。
また、上記アルカリ現像性化合物は、不飽和基を０．２～１．０当量含有していることが好ましい。

着色剤（Ｂ）の分散性及び耐熱性が良好なことから、上記アルカリ現像性化合物（Ｃ）が、上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物；上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物と不飽和一塩基酸とをエステル化させた構造［下記（ｅ）］を有する不飽和化合物；又は、斯かる不飽和化合物に更に多塩基酸無水物をエステル化させた構造［下記（ｆ）］を有する不飽和化合物であることが望ましい。

（式中、Ｙ^１は、不飽和一塩基酸の残基を表し、Ｙ^２は、多塩基酸無水物の残基を表し、
式中の＊は、これらの式で表される基が、＊部分は、結合手を意味する。）

上記一般式（Ｉ）中のＭで表される炭素原子数１～２０の炭化水素基は、特に限定されるものではないが、好ましくは炭素原子数１～２０のアルキレン基、炭素原子数２～２０のアルケニレン基、炭素原子数３～２０のシクロアルキレン基、又は炭素原子数６～２０のアリーレン基を表す。これらの中でも、アルカリ現像性化合物（Ｃ）として用いた場合の感度が良好なことから、炭素原子数１～１０のアルキレン基、炭素原子数２～１０のアルケニレン基、炭素原子数３～１０のシクロアルキレン基、又は炭素原子数６～１０のアリーレン基がより好ましい。

上記一般式（Ｉ）中のＭで表される炭素原子数１～２０のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、イコシレン基等が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）中のＭで表される炭素原子数２～２０のアルケニレン基としては、例えば、１，２－エテンジイル基（エテニレン基又はビニレン基ともいう）、２－ブテン－１，４－ジイル基、１，２－ジメチル－１，２－エテンジイル基等が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）中のＭで表される炭素原子数３～２０のシクロアルキレン基としては、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基等が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）中のＭで表される炭素原子数６～２０のアリーレン基としては、例えばフェニレン基、トリレン基、キシリレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレン基、インダン基が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）中のＭで表される炭素原子数１～２０の炭化水素基を置換するハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。

上記一般式（I）中のＭ、Ｒ^１～Ｒ^３８で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基は、特に限定されるものではないが、好ましくは炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～２０のアルケニル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基及び炭素原子数７～２０のアリールアルキル基等を表す。アルカリ現像性化合物（Ｃ）として用いた場合に感度が良好なことから、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数２～１０のアルケニル基、炭素原子数３～１０のシクロアルキル基、炭素原子数４～１０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６～１０のアリール基及び炭素原子数７～１０のアリールアルキル基等がより好ましい。

上記炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ－アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ｔ－オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基及びイコシル基等が挙げられる。上記炭素原子数１～１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ－アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ｔ－オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基及びイソデシル基等が挙げられる。

上記炭素原子数２～２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、２－プロペニル基、３－ブテニル基、２－ブテニル基、４－ペンテニル基、３－ペンテニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、２－ヘプテニル基、３－ヘプテニル基、４－ヘプテニル基、３－オクテニル基、３－ノネニル基、４－デセニル基、３－ウンデセニル基、４－ドデセニル基、３－シクロヘキセニル基、２，５－シクロヘキサジエニル－１－メチル基、及び４，８，１２－テトラデカトリエニルアリル基等が挙げられる。上記炭素原子数２～１０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、２－プロペニル基、３－ブテニル基、２－ブテニル基、４－ペンテニル基、３－ペンテニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、２－ヘプテニル基、３－ヘプテニル基、４－ヘプテニル基、３－オクテニル基、３－ノネニル基及び４－デセニル基等が挙げられる。

上記炭素原子数３～２０のシクロアルキル基とは、３～２０の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、アダマンチル基、デカハイドロナフチル基、オクタヒドロペンタレン基、ビシクロ［１．１．１］ペンタニル基及びテトラデカヒドロアントラセニル基等が挙げられる。上記炭素原子数３～１０のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、アダマンチル基、デカハイドロナフチル基、オクタヒドロペンタレン基及びビシクロ［１．１．１］ペンタニル基等が挙げられる。

上記炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された４～２０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチルメチル基、シクロノニルメチル基、シクロデシルメチル基、２－シクロブチルエチル基、２－シクロペンチルエチル基、２－シクロヘキシルエチル基、２－シクロヘプチルエチル基、２－シクロオクチルエチル基、２－シクロノニルエチル基、２－シクロデシルエチル基、３－シクロブチルプロピル基、３－シクロペンチルプロピル基、３－シクロヘキシルプロピル基、３－シクロヘプチルプロピル基、３－シクロオクチルプロピル基、３－シクロノニルプロピル基、３－シクロデシルプロピル基、４－シクロブチルブチル基、４－シクロペンチルブチル基、４－シクロヘキシルブチル基、４－シクロヘプチルブチル基、４－シクロオクチルブチル基、４－シクロノニルブチル基、４－シクロデシルブチル基、３－３－アダマンチルプロピル基及びデカハイドロナフチルプロピル基等が挙げられる。上記炭素原子数４～１０のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチルメチル基、シクロノニルメチル基、２－シクロブチルエチル基、２－シクロペンチルエチル基、２－シクロヘキシルエチル基、２－シクロヘプチルエチル基、２－シクロオクチルエチル基、３－シクロブチルプロピル基、３－シクロペンチルプロピル基、３－シクロヘキシルプロピル基、３－シクロヘプチルプロピル基、４－シクロブチルブチル基、４－シクロペンチルブチル基及び４－シクロヘキシルブチル基等が挙げられる。

上記炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントレニル基等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やカルボキシル基、ハロゲン原子等で１つ以上置換されたフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アンスリル基等、例えば、４－クロロフェニル基、４－カルボキシルフェニル基、４－ビニルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基等が挙げられる。上記炭素原子数６～１０のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基及びナフチル基等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やカルボキシル基、ハロゲン原子等で１つ以上置換されたフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アンスリル基等、例えば、４－クロロフェニル基、４－カルボキシルフェニル基、４－ビニルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基等が挙げられる。

上記炭素原子数７～２０のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子がアリール基で置き換えられた、７～２０個の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル基、α－メチルベンジル基、α、α－ジメチルベンジル基、フェニルエチル基及びナフチルプロピル基等が挙げられる。上記炭素原子数７～１０のアリールアルキル基としては、アルキル基の水素原子がアリール基で置き換えられれた、７～１０個の炭素原子を有する基を意味し、例えば、ベンジル基、α－メチルベンジル基、α、α－ジメチルベンジル基及びフェニルエチル基等が挙げられる。

上記一般式（I）中のＲ^１０～Ｒ^３８で表される複素環を含有する炭素原子数２～２０の基は、特に限定されるものではないが、例えば、ピロリル基、ピリジル基、ピリジルエチル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピペラジル基、ピペリジル基、ピラニル基、ピラニルエチル基、ピラゾリル基、トリアジル基、トリアジルメチル基、ピロリジル基、キノリル基、イソキノリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、トリアゾリル基、フリル基、フラニル基、ベンゾフラニル基、チエニル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、インドリル基、モルフォリニル基、チオモルフォリニル基、２－ピロリジノン－１－イル基、２－ピペリドン－１－イル基、２，４－ジオキシイミダゾリジン－３－イル基及び２，４－ジオキシオキサゾリジン－３－イル等基が挙げられ、置換基等を含めて具体的に記載すると下記の構造を有する基等が挙げられる。

（上記式中、Ｒはそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１～６のアルキル基を表し、Ｚは直接結合又は炭素原子数１～６のアルキレン基を表す。尚、式中の＊は、これらの式で表される基が、＊部分で、結合手を意味する。）

上記式中のＲで表される炭素原子数１～６のアルキル基としては、上述した炭素原子数１～２０のアルキル基として例示したものの中の炭素原子数１～６のものを挙げることができる。
上記式中のＺで表される炭素原子数１～６のアルキレン基としては、上述した炭素原子数１～２０のアルキレン基として例示したものの中の炭素原子数１～６のものを挙げることができる。

Ｒ^１～Ｒ^８及びＲ^１０～Ｒ^３８で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。

Ｒ^１～Ｒ^８及びＲ^１０～Ｒ^３８で表される基中のメチレン基を置換する場合のある不飽和結合としては、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－等が挙げられる。

上記一般式（I）中のＲ^１０とＲ^１１、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３、Ｒ^１３とＲ^１４、Ｒ^２２とＲ^１５、Ｒ^１５とＲ^１６、Ｒ^３０とＲ^２３、Ｒ^２３とＲ^２４、Ｒ^２４とＲ^２５、Ｒ^３８とＲ^３１、Ｒ^３１とＲ^３２、Ｒ^３２とＲ^３３、Ｒ^３４とＲ^３５、Ｒ^３５とＲ^３６及びＲ^３６とＲ^３７が、結合して形成する環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペンテン、ベンゼン、ピロリジン、ピロール、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、テトラヒドロピリジン、ラクトン環及びラクタム環等の５～７員環並びにナフタレン及びアントラセン等の縮合環等が挙げられる。

上記不飽和一塩基酸とは、構造中に不飽和結合を有し、電離して水素イオンになることのできる水素原子を１分子あたり１個もつ酸を表す。
上記不飽和一塩基酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸及びヒドロキシエチルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルアクリレート・マレート及びジシクロペンタジエン・マレート等が挙げられる。

また、上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物に上記不飽和一塩基酸を作用させた得られたエポキシ付加化合物に作用させる上記多塩基酸無水物としては、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、ビフタル酸無水物、無水マレイン酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、２，２’－３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフリル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸－無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。

上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応モル比は、以下の通りとすることが好ましい。
即ち、上記エポキシ付加化合物は、上記エポキシ化合物のエポキシ基1個に対し、上記不飽和一塩基酸のカルボキシル基が０．１～１．０個の比率となるように付加させるのが好ましく、また上記エチレン性不飽和化合物は、上記エポキシ付加物の水酸基１個に対し、上記多塩基酸無水物の酸無水物構造が０．１～１．０個となる比率となるようにするのが好ましい。
上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応は、常法に従って行なうことができる。

酸価調整して本発明の重合性組成物の現像性を改良するため、上記アルカリ現像性化合物（Ｃ）は、更に単官能又は多官能エポキシ化合物を反応させることにより酸価調整してから用いることもできる。上記アルカリ現像性化合物（Ｃ）は、固形分の酸価が５～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であることが好ましく、単官能又は多官能エポキシ化合物の使用量は、上記酸価を満たすように選択するのが好ましい。

上記単官能エポキシ化合物としては、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテル、ｔ－ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プロパルギルグリシジルエーテル、p－メトキシエチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ－メトキシグリシジルエーテル、ｐ－ブチルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、２－メチルクレジルグリシジルエーテル、４－ノニルフェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル、ｐ－クミルフェニルグリシジルエーテル、トリチルグリシジルエーテル、２，３－エポキシプロピルメタクリレート、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、グリシジルブチレート、ビニルシクロヘキサンモノオキシド、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン、スチレンオキシド、ピネンオキシド、メチルスチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、プロピレンオキシド、下記エポキシ化合物Ｎｏ．１、Ｎｏ．２等が挙げられる。

上記多官能エポキシ化合物としては、ビスフェノール型エポキシ化合物及びグリシジルエーテル類からなる群から選択される１種以上の化合物を用いると、特性の一層良好な重合性組成物を得ることができるので好ましい。
上記ビスフェノール型エポキシ化合物としては、上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物を用いることができる他、例えば、水添ビスフェノール型エポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物も用いることができる。
また上記グリシジルエーテル類としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、１，８－オクタンジオールジグリシジルエーテル、１，１０－デカンジオールジグリシジルエーテル、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４－シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、１，１，１－トリ（グリシジルオキシメチル）プロパン、１，１，１－トリ（グリシジルオキシメチル）エタン、１，１，１－トリ（グリシジルオキシメチル）メタン、１，１，１，１－テトラ（グリシジルオキシメチル）メタン等を用いることができる。
その他、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物；３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１－エポキシエチル－３，４－エポキシシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物；フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルＰ－アミノフェノール、Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン等のグリシジルアミン類；１，３－ジグリシジル－５，５－ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物；ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物；ナフタレン型エポキシ化合物；トリフェニルメタン型エポキシ化合物；ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等を用いることもできる。

アルカリ現像性樹脂（Ｃ）としては、市販品も好適に用いることができる。該市販品としては、例えば、ＳＰＣ１０００、ＳＰＣ－２０００、ＳＰＣ－３０００、ＳＰＲＲ－１Ｘ、ＳＰＲＲ－２Ｘ、ＳＰＲＲ－３Ｘ、ＳＰＲＲ－５Ｘ、ＳＰＲＲ－６Ｘ、ＳＰＲＲ－７Ｘ、ＳＰＲＲ－８Ｘ、ＳＰＲＲ－９Ｘ、ＳＰＲＲ－１０Ｘ、ＳＰＲＲ－１１Ｘ、ＳＰＲＲ－１２Ｘ、ＳＰＲＲ－１３Ｘ、ＳＰＲＲ－１４Ｘ、ＳＰＲＲ－１５Ｘ、ＳＰＲＲ－１６Ｘ、ＳＰＲＲ－１７Ｘ、ＳＰＲＲ－１８Ｘ、ＳＰＲＲ－１９Ｘ、ＳＰＲＲ－２０Ｘ、ＳＰＲＲ－２１Ｘ（以上、昭和電工社製）、ＪＥＴ２０００、ＡＧＯＲ１０６０、ＡＧＯＲ３０６０、ＯＲＧＡ１０６０、ＯＲＧＡ２０６０（以上、大阪有機化学社製）、ＣＣＲ－１１７１Ｈ（日本化薬社製）等が挙げられる。

本発明の重合性組成物において、アルカリ現像性化合物（Ｃ）の含有量は、特に限定されるものではないが、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して、好ましくは、５～５０質量部、より好ましくは、１０～４０質量部であり、更に好ましくは、１０～３０質量部である。アルカリ現像性化合物（Ｃ）の含有量が、上記の範囲内である場合、重合性組成物のアルカリ現像性が良好なことから好ましい。
例えば厚さ２～５μｍの硬化膜を形成する場合には、アルカリ現像性化合物（Ｃ）の含有量は、特に限定されるものではないが、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して、好ましくは、５～５０質量部、より好ましくは、１０～４０質量部であり、更に好ましくは、１０～３０質量部である。

＜重合開始剤（Ｄ）＞
本発明の重合性組成物は重合開始剤（Ｄ）を含有する。
本発明の重合性組成物に用いられる重合開始剤（Ｄ）としては、従来既知のラジカル重合開始剤を用いることが可能である。

上記ラジカル重合開始剤とは、光ラジカル重合開始剤と熱ラジカル重合開始剤である。本発明においては、反応性が高いことから、光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。

光ラジカル重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生するものであれば特に制限されず従来既知の化合物を用いることが可能である。例えば、アセトフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物及びオキシムエステル系化合物等を好ましいものとして例示することができる。

アセトフェノン系化合物としては例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、４’－イソプロピル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－ヒドロキシメチル－２－メチルプロピオフェノン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ターシャリブチルジクロロアセトフェノン、ｐ－ターシャリブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－アジドベンザルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパノン－１、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル及び１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン等が挙げられる。

ベンジル系化合物としては、ベンジル等が挙げられる。

ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン及び４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。

チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－エチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン等が挙げられる。

オキシムエステル系化合物としては、上記一般式（II）で表される基を有する化合物等が挙げられる。上記光ラジカル重合開始剤の中でも、感度が良好であることから、上記一般式（II）で表される基を有する化合物を本発明の重合性組成物に好ましく使用することができる。

上記一般式（II）中のＲ^４１～Ｒ^４３で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基は、それぞれＲ^１～Ｒ^３８表される炭素原子数１～２０の炭化水素基と同様である。Ｒ^４１及びＲ^４２で表されるハロゲン原子及び複素環を含有する炭素原子数２～２０の基は、Ｒ^１０～Ｒ^３８で表されるハロゲン原子及び複素環を含有する炭素原子数２～２０の基と同様である。

上記一般式（II）中のＲ^４１及びＲ^４２で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基及び複素環を含有する炭素原子数２～２０の基の水素原子を置換する場合がある、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基及び複素環を含有する炭素原子数２～２０の基は、Ｒ^１０～Ｒ^３８で表されるハロゲン原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基及び複素環を含有する炭素原子数２～２０の基と同様である。また、Ｒ^４１及びＲ^４２で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基及び複素環を含有する炭素原子数２～２０の基を置換する場合のある、炭素原子数１～２０の炭化水素基及び複素環を含有する炭素原子数２～２０の基中のメチレン基は、隣り合わないことを条件として、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ^４３－、－ＮＲ^４３ＣＯ－、－Ｓ－、－ＣＳ－、－ＳＯ_２－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又はＣＳＯ－から選択される１種又は２種以上で置換される場合がある。

上記一般式（II）で表される基を有する化合物の中でも、下記一般式（III）で表される化合物が、特に感度が高いことから，本発明の重合性組成物に用いることが好ましい。

（式中、Ｒ^４１、Ｒ^４２及びｍは、それぞれ一般式（II）におけるＲ^４１、Ｒ^４２及びｍと同一であり、
Ｒ^５１及びＲ^５２は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基又は複素環を含有する炭素原子数２～２０の基を表し、
Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、ＣＲ^５３Ｒ^５４、ＣＯ、ＮＲ^５５又はＰＲ^５６を表し、
Ｘ^２は、不存在、直接結合、炭素原子数１～２０の炭化水素基、ＣＯを表し、
Ｒ^５３～Ｒ^５６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数２～２０の基を表し、Ｒ^５３～Ｒ^５６で表される基中の水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアン基、水酸基、カルボキシル基又は複素環基で置換される場合もあり、
Ｒ^５１～Ｒ^５６で表される基中のメチレン基は、酸素が隣り合わない条件で－Ｏ－に置換される場合もあり、
Ｒ^５１～Ｒ^５６は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成する場合もあり、
ｇは、０～４の数を表し、
ｈは、０～３の数を表す。）

上記一般式（III）中のＲ^５１及びＲ^５２で表される炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基及び複素環を含有す炭素原子数２～２０の基は、Ｒ^１０～Ｒ^３８同様である。

上記一般式（III）中のＲ^５３～Ｒ^５６で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基は、それぞれＲ^１～Ｒ^３８で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基と同様である。

上記一般式（III）中のＲ^５３～Ｒ^５６で表される複素環を含有する炭素原子数２～２０の基は、Ｒ^１０～Ｒ^３８で表される複素環を含有する炭素原子数２～２０の基と同様である。

上記一般式（III）中のＸ^２で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基は、Ｍで表される炭素原子数１～２０の炭化水素基と同様である。

ｇが２～４の数である場合、Ｒ^５１は同一である場合があり、異なる場合がある。ｈが２～３の数である場合、Ｒ^５２は同一である場合があり、異なる場合がある。本発明においては、ｇが１～５の数であることが好ましい。ｇが１～５の数である場合、Ｒ^５１の少なくとも一つは、ニトロ基であることが好ましい。

好ましい光ラジカル重合開始剤としては、例えば下記に示す化合物Ｎｏ．Ｄ１～Ｎｏ．Ｄ１５が挙げられる。上記一般式（III）で表される化合物としては、例えば下記に示す化合物Ｎｏ．Ｄ１及びＮｏ．Ｄ３～Ｎｏ．Ｄ１５が挙げられる。但し、本発明で用いられる光ラジカル重合開始剤は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。

Ｘ^２は不存在であるとは、一般式（III）において、２個のベンゼン環がＸ^１のみを介して連結していることを意味する。
本発明においては、Ｘ^１が硫黄原子で、Ｘ^２が不存在の場合、上記一般式（III）で表される化合物が上記化合物Ｎｏ．Ｄ１～８で表されるジフェニルスルフィド骨格を有したオキシムエステル系化合物となり、感度が良好な重合性組成物が得られる点で好ましい。

本発明においては、Ｘ^１がＮＲ^５５で、Ｘ^２が直接結合の場合、上記一般式（III）で表される化合物が上記化合物Ｎｏ．Ｄ９～１５で表されるカルバゾール骨格を有したオキシムエステル系化合物となり、感度が良好な重合性組成物が得られる点で特に好ましい。

その他のラジカル重合開始剤としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物及びビス（シクロペンタジエニル）－ビス［２，６－ジフルオロ－３－（ピル－１－イル）］チタニウム等のチタノセン系化合物等が挙げられる。

市販のラジカル開始剤としては、アデカオプトマーＮ－１４１４、Ｎ－１７１７、Ｎ－１９１９、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、ＡＤＥＫＡ製）；ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７８４（以上、ＢＡＳＦ製）；ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、ＴＲ－ＰＢＧ－３０９及びＴＲ－ＰＢＧ－３１４（以上、Ｔｒｏｎｌｙ製）；等が挙げられる。

熱ラジカル重合開始剤としては、加熱によりラジカルを発生するものであれば特に制限されず従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、アゾ系化合物、過酸化物及び過硫酸塩等を好ましいものとして例示することができる。

アゾ系化合物としては、２，２′－アゾビスイソブチロニトリル、２，２′－アゾビス（メチルイソブチレ－ト）、２，２’－アゾビス－２，４－ジメチルバレロニトリル、１，１’－アゾビス（１－アセトキシ－１－フェニルエタン）等が挙げられる。

過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルベンゾイルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシピバレート及びジ（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート等が挙げられる。

過硫酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び過硫酸カリウム等の過硫酸塩等が挙げられる。

上記重合開始剤の中でもニトロ基を有する重合開始剤は、感度が高い重合性組成物が得られることから好ましい。

上記重合開始剤の中でも水酸基を有する重合開始剤は、液晶汚染性が低く、電気特性の優れるディスプレイ表示装置を提供できることから特に好ましい。

上記重合開始剤（Ｄ）は、これまでに例示した１種又は２種以上を混合して用いることができる。

本発明の重合性組成物において、上記重合開始剤（Ｄ）の含有量は、特に限定されるものではないが、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して、硬化性が良好なことから好ましくは、０．３～２０質量部、より好ましくは、０．５～１０質量部であり、より好ましくは３～８質量部である。重合開始剤（Ｄ）の含有量が、上記の範囲内の場合、硬化性が良好で重合開始剤の析出を伴わない保存安定性に優れる重合性組成物が得られるので好ましい。
例えば厚さ２～５μｍの硬化膜を形成する場合には、重合開始剤（Ｄ）の含有量は、特に限定されるものではないが、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して、好ましくは、０．３～２０質量部、より好ましくは、０．５～１０質量部であり、より好ましくは３～８質量部である。

本発明の重合性組成物は、更に溶剤を含有している場合がある。該溶剤としては、通常、必要に応じて上記の各成分[エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）等]を溶解又は分散しえる溶剤を用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及び２－ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン及びジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸－ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル及びテキサノール等のエステル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル及びエチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；メタノール、エタノール、イソ－又はｎ－プロパノール、イソ－又はｎ－ブタノール及びアミルアルコール等のアルコール系溶剤；エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート及びエトキシエチルプロピオネート等のエーテルエステル系溶剤；ベンゼン、トルエン及びキシレン等のＢＴＸ系溶剤；ヘキサン、ヘプタン、オクタン及びシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤；テレピン油、Ｄ－リモネン及びピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（以上、コスモ松山石油製）；及びソルベッソ＃１００（以上、エクソン化学製）；等のパラフィン系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン及び１，２－ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤；カルビトール系溶剤、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及び水等が挙げられ、これらの溶剤は１種又は２種以上の混合溶剤として使用することができる。これらの中でもケトン類及びエーテルエステル系溶剤等、特にＰＧＭＥＡ及びシクロヘキサノン等が、重合性組成物においてレジストと重合開始剤の相溶性がよいので好ましい。

本発明の重合性組成物において、上記溶剤の含有量は、特に限定されるものではないが、重合性組成物全量中の３０～９５質量％になることが好ましく、より好ましくは、５０～９５質量％である。
溶剤の含有量が上記範囲の場合、ハンドリング性（重合性組成物の粘度や濡れ性）、乾燥時のムラの低減及び液安定性（組成物に含まれる成分の析出や沈降を伴わない）に優れる重合性組成物並びに硬化物の厚さを適切にコントロールできることから好ましい。

本発明の重合性組成物には、必要に応じて、更に上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）及びアルカリ現像性化合物（Ｃ）に属さないエチレン性不飽和化合物（以下、エチレン性不飽和化合物とも記載）、エポキシ化合物、アルカリ現像性付与剤、分散剤、潜在性添加剤、有機重合体、無機化合物、カップリング剤、連鎖移動剤、増感剤、界面活性剤及びメラミン化合物、ｐ－アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、ｔ－ブチルカテコール及びフェノチアジン等の熱重合抑制剤；可塑剤；接着促進剤；充填剤；消泡剤；レベリング剤；表面調整剤；酸化防止剤；紫外線吸収剤；分散助剤；凝集防止剤；触媒；効果促進剤；架橋剤；増粘剤等の慣用の添加物を加えることができる。

上記エチレン性不飽和化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を用いることができ、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン等の不飽和脂肪族炭化水素；（メタ）アクリル酸グリシジル、下記アクリル化合物Ｎｏ．１～Ｎｏ．４、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸－ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ－オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノメチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸ポリ（エトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフリル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリ［（メタ）アクリロイルエチル］イソシアヌレート、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル；（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩；マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフリル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸－無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物；アクロレイン等の不飽和アルデヒド；（メタ）アクリロニトリル、α－クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン、シアン化アリル等の不飽和ニトリル；スチレン、４－メチルスチレン、４－エチルスチレン、４－メトキシスチレン、４－ヒドロキシスチレン、４－クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニルフェノール、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル等の不飽和芳香族化合物；メチルビニルケトン等の不飽和ケトン；ビニルアミン、アリルアミン、Ｎ－ビニルピロリドン、ビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物；アリルアルコール、クロチルアルコール等のビニルアルコール；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のビニルエーテル；マレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類；インデン、１－メチルインデン等のインデン類；１，３－ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類；ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート、ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物が挙げられる。
エチレン性不飽和化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。

上記エチレン性不飽和化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば、カヤラッドＤＰＨＡ、ＤＰＥＡ－１２、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＴＨＥ－３３０、ＲＰ－１０４０、ＮＰＧＤＡ、ＰＥＴ３０、Ｒ－６８４（以上、日本化薬製）；アロニックスＭ－２１５、Ｍ－３５０（以上、東亞合成製）；ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ、Ａ－ＴＭＰＴ、Ａ－ＤＣＰ、Ａ－ＨＤ－Ｎ、ＴＭＰＴ、ＤＣＰ、ＮＰＧ及びＨＤ－Ｎ（以上、新中村化学工業製）等が挙げられる。

上記エポキシ化合物としては、例えば、メチルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、Ｃ１２～１３混合アルキルグリシジルエーテル、フェニル－２－メチルグリシジルエーテル、セチルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、イソプロピルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、２－メチルオクチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、４－ｎ－ブチルフェニルグリシジルエーテル、４－フェニルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、ジブロモクレジルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、メトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、エトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ブトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，５－ペンタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，１，２，２－テトラキス（グリシジルオキシフェニル）エタン及びペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル化物；グリシジルアセテート、グリシジルステアレート等のグリシジルエステル類;２－（３，４－エポキシシクロヘキシル－５，５－スピロ－３，４－エポキシ）シクロヘキサン－メタジオキサン、メチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、プロパン－２，２－ジイル－ビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、２，２－ビス（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロパン、エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－１－メチルシクロヘキシル ３，４－エポキシ－１－メチルヘキサンカルボキシレート、６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキシルメチル ６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、１－エポキシエチル－３，４－エポキシシクロヘキサン、１，２－エポキシ－２－エポキシエチルシクロヘキサン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルカルボキシレート、α－ピネンオキシド、スチレンオキシド、シクロヘキセンオキサイド及びシクロペンテンオキサイド等のエポキシシクロアルキル型化合物及びＮ－グリシジルフタルイミド等が挙げられる。

上記エポキシ化合物としては、エポキシ化ポリオレフィンを用いることもできる。エポキシ化ポリオレフィンとは、ポリオレフィンをエポキシ基含有単量体で変性して、エポキシ基を導入したポリオレフィンである。エチレン又は炭素数３～２０のα－オレフィン、エポキシ基含有単量体、及び必要に応じて他のモノマーとを、共重合法及びグラフト法の何れかにより共重合させることによって製造することができる。エチレン又は炭素数３～２０のα－オレフィン、エポキシ基含有単量体及び他のモノマーは、それぞれ単独で重合させてもよく、他の単量体と複数で重合させてもよい。また、末端に水酸基を有する非共役のポリブタジエンの二重結合を、過酢酸法によりエポキシ化して得ることもでき、分子内に水酸基をもつものを使用してもよい。また、水酸基をイソシアネートでウレタン化し、ここに１級水酸基含有エポキシ化合物を反応させてエポキシ基を導入することもできる。

上記エチレン又は炭素数３～２０のα－オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、１，３－ブタジエン、１，４－ブタジエン、１，３－ペンタジエン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、ピペリレン、３－ブチル－１，３－オクタジエン及びイソプレン等が挙げられる。

上記エポキシ基含有単量体としては、例えばα，β－不飽和酸のグリシジルエステル、ビニルベンジルグリシジルエーテル及びアリルグリシジルエーテル等が挙げられる。α，β－不飽和酸のグリシジルエステルとしては、具体的にはアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル及びエタクリル酸グリシジル等が挙げられ、特にメタクリル酸グリシジルが好ましい。

上記エポキシ化合物としては、市販品も公的に使用することができる。
好適な市販品としては、例えば、エポライト４０Ｅ、１５００ＮＰ、１６００、８０ＭＦ、４０００及び３００２（以上、共栄社化学製）；アデカグリシロールＥＤ－５０３、ＥＤ－５０３Ｄ、ＥＤ－５０３Ｇ、ＥＤ－５２３Ｔ、ＥＤ－５１３、ＥＤ－５０１、ＥＤ－５０２、ＥＤ－５０９、ＥＤ－５１８、ＥＤ－５２９、アデカレジンＥＰ－４０００、ＥＰ－４００５、ＥＰ－４０８０及びＥＰ－４０８５（以上、ＡＤＥＫＡ製）；デナコールＥＸ－２０１、ＥＸ－２０３、ＥＸ－２１１、ＥＸ－２１２、ＥＸ－２２１、ＥＸ－２５１、ＥＸ－２５２、ＥＸ－７１１、ＥＸ－７２１、デナコールＥＸ－１１１、ＥＸ－１２１、ＥＸ－１４１、ＥＸ－１４２、ＥＸ－１４５、ＥＸ－１４６、ＥＸ－１４７、ＥＸ－１７１、ＥＸ－１９２及びＥＸ－７３１（以上、ナガセケムテックス製）；ＥＨＰＥ－３１５０、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、２０００及び３０００（以上、ダイセル製）；エピオールＭ、ＥＨ、Ｌ－４１、ＳＫ、ＳＢ、ＴＢ及びＯＨ（以上、日油製）；エポライトＭ－１２３０及び１００ＭＦ（以上、共栄社化学製）；アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＥＸＯＨ、ＰＯＸ、ＯＸＡ、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－２１１及びＯＸＴ－２１２（以上、東亞合成製）；エタナコールＯＸＢＰ及びＯＸＴＰ（以上、宇部興産製）；２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル及び4－ヒドロキシブチルビニルエーテル（以上、丸善石油化学製）；デナコールＥＸ－１２１、ＥＸ－１４１、ＥＸ－１４２、ＥＸ－１４５、ＥＸ－１４６、ＥＸ－１４７、ＥＸ－２０１、ＥＸ－２０３、ＥＸ－７１１、ＥＸ－７２１、オンコートＥＸ－１０２０、ＥＸ－１０３０、ＥＸ－１０４０、ＥＸ－１０５０、ＥＸ－１０５１、ＥＸ－１０１０、ＥＸ－１０１１及び１０１２（以上、ナガセケムテックス製）；オグソールＰＧ－１００、ＥＧ－２００、ＥＧ－２１０及びＥＧ－２５０（以上、大阪ガスケミカル製）；ＨＰ４０３２、ＨＰ４０３２Ｄ及びＨＰ４７００（以上、ＤＩＣ製）；ＥＳＮ－４７５Ｖ（東都化成製）；マープルーフＧ－０１０５ＳＡ及びＧ－０１３０ＳＰ（以上、日油製）；エピクロンＮ－６６５及びＨＰ－７２００（以上、ＤＩＣ製）；ＥＯＣＮ－１０２０、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ、ＥＯＣＮ－１０３Ｓ、ＥＯＣＮ－１０４Ｓ、ＸＤ－１０００、ＮＣ－３０００、ＥＰＰＮ－５０１Ｈ、ＥＰＰＮ－５０１ＨＹ、ＥＰＰＮ－５０２Ｈ及びＮＣ－７０００Ｌ（以上、日本化薬製）等が挙げられる。

上記アルカリ現像性付与剤とは、ラジカル重合性を有さず、アルカリ現像性を付与する化合物であり、そのような化合物としては、酸価を有することでアルカリ水溶液に可溶な化合物であれば特に限定されないが、代表的なものとしてアルカリ可溶性ノボラック樹脂（以下、単に「ノボラック樹脂」という）が挙げられる。ノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下に重縮合して得られる。

上記フェノール類としては、例えばフェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、ｏ－エチルフェノール、ｍ－エチルフェノール、ｐ－エチルフェノール、ｏ－ブチルフェノール、ｍ－ブチルフェノール、ｐ－ブチルフェノール、２，３－キシレノール、２，４－キシレノール、２，５－キシレノール、３，４－キシレノール、３，５－キシレノール、２，３，５－トリメチルフェノール、ｐ－フェニルフェノール、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシノール、２－メチルレゾルシノール、ピロガロール、α－ナフトール、ビスフェノールＡ、ジヒドロキシ安息香酸エステル及び没食子酸エステル等が用いられ、これらのフェノール類のうちフェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、２，５－キシレノール、３，５－キシレノール、２，３，５－トリメチルフェノール、レゾルシノール、２－メチルレゾルシノール及びビスフェノールＡ等が好ましい。これらのフェノール類は、単独で又は２種以上混合して用いられる。

上記アルデヒド類としては、例えばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α－フェニルプロピルアルデヒド、β－フェニルプロピルアルデヒド、ｏ－ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ－ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ－ヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ－クロロベンズアルデヒド、ｍ－クロロベンズアルデヒド、ｐ－クロロベンズアルデヒド、ｏ－ニトロベンズアルデヒド、ｍ－ニトロベンズアルデヒド、ｐ－ニトロベンズアルデヒド、ｏ－メチルベンズアルデヒド、ｍ－メチルベンズアルデヒド、ｐ－メチルベンズアルデヒド、ｐ－エチルベンズアルデヒド及びｐ－ｎ－ブチルベンズアルデヒド等が用いられ、これらの化合物のうちホルムアルデヒド、アセトアルデヒド及びベンズアルデヒド等が好ましい。これらのアルデヒド類は、単独で又は２種以上混合して用いられる。アルデヒド類はフェノール類１モル当たり、好ましくは０．７～３モル、特に好ましくは０．７～２モルの割合で使用される。

上記酸触媒としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸、又は蟻酸、蓚酸、酢酸等の有機酸が用いられる。これらの酸触媒の使用量は、フェノール類１モル当たり、１×１０^-４～５×１０^-１モルが好ましい。縮合反応においては、通常、反応媒質として水が用いられるが、縮合反応に用いられるフェノール類がアルデヒド類の水溶液に溶解せず、反応初期から不均一系になる場合には、反応媒質として親水性溶媒を使用することもできる。これらの親水性溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール及びブタノール等のアルコール類、またはテトラヒドロフラン及びジオキサン等の環状エーテル類が挙げられる。これらの反応媒質の使用量は、通常、反応原料１００質量部当たり、２０～１０００質量部である。縮合反応の反応温度は、反応原料の反応性に応じて適宜調整することができるが、通常、１０～２００℃、好ましくは７０～１５０℃である。縮合反応終了後、系内に存在する未反応原料、酸触媒及び反応媒質を除去するため、一般的には内温を１３０～２３０℃に上昇させ、減圧下に揮撥分を留去し、次いで熔融したノボラック樹脂をスチール製ベルト等の上に流涎して回収する。
また縮合反応終了後に、前記親水性溶媒に反応混合物を溶解し、水、ｎ－ヘキサン及びｎ－ヘプタン等の沈殿剤に添加することにより、ノボラック樹脂を析出させ、析出物を分離し、加熱乾燥することにより回収することもできる。

上記ノボラック樹脂以外の例としては、ポリヒドロキシスチレン又はその誘導体、スチレン－無水マレイン酸共重合体及びポリビニルヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。

上記分散剤としては、着色剤（Ｂ）を分散、安定化できるものであれば何でも良く、市販の分散剤、例えばビックケミー製、ＢＹＫシリーズ等を用いることができ、塩基性官能基を有するポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタンからなる高分子分散剤、塩基性官能基として窒素原子を有し、窒素原子を有する官能基がアミン、及び／又はその四級塩であり、アミン価が１～１００ｍｇＫＯＨ/ｇのものが好適に用いられる。

上記潜在性添加剤とは、常温、光露光工程及びプリベーク工程では不活性であり、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して活性化するものである。活性化したことにより得られる効果としては、酸化防止、紫外線吸収、防汚性、リコート性及び密着性等が挙げられる。
上記潜在性添加剤としてはＷＯ２０１４／０２１０２３号パンフレットに記載されているものを好ましく使うことができる。

上記潜在性添加剤としては市販品を用いることができ、例えば、アデカアークルズＧＰＡ－５００１等が挙げられる。

上記有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート－エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸、スチレン－（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸－メチルメタクリレート共重合体、エチレン－塩化ビニル共重合体、エチレン－ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ウレタン樹脂、ポリカーボネートポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ、これらの中でも、ポリスチレン、（メタ）アクリル酸－メチルメタクリレート共重合体、エポキシ樹脂が好ましい。
上記アルカリ現像性化合物（Ｃ）と共に、上記有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。
有機重合体を使用する場合、その使用量は、上記アルカリ現像性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは１０～５００質量部である。

上記無機化合物を含有させることができる。該無機化合物としては、例えば、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、シリカ及びアルミナ等の金属酸化物；層状粘土鉱物、ミロリブルー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、コバルト系、マンガン系、ガラス粉末、マイカ、タルク、カオリン、フェロシアン化物、各種金属硫酸塩、硫化物、セレン化物、アルミニウムシリケート、カルシウムシリケート、水酸化アルミニウム、白金、金、銀及び銅等が挙げられ、これらの中でも、酸化チタン、シリカ、層状粘土鉱物、及び銀等が好ましい。

本発明の重合性組成物に無機化合物を含有させることで、感光性ペースト組成物として用いることができる。該感光性ペースト組成物は、プラズマディスプレイパネルの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターン及びブラックマトリクスパターンなどの焼成物パターンを形成するために用いられる。
また、これら無機化合物は、例えば、充填剤、反射防止剤、導電剤、安定剤、難燃剤、機械的強度向上剤、特殊波長吸収剤及び撥インク剤等としても好適に用いられる。

本発明の重合性組成物において、無機化合物が添加される場合、無機化合物の含有量は、上記アルカリ現像性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは０．１～５０質量部、より好ましくは０．５～２０質量部であり、これらの無機化合物は１種又は２種以上を使用することができる。

上記カップリング剤としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等のアルキル官能性アルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン等のアルケニル官能性アルコキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリル酸エステル官能性アルコキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ－（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート官能性アルコキシシラン、３－ウレイドプロピルトリアルコキシシラン等のウレイド官能性アルコキシシラン、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート等のイソシアヌレート官能性アルコキシシラン、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラノルマルブトキシド等のチタンアルコキシド類、チタンジオクチロキシビス（オクチレングリコレート）、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）等のチタンキレート類、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート等のジルコニウムキレート類、ジルコニウムトリブトキシモノステアレート等のジルコニウムアシレート類、メチルトリイソシアネートシラン等のイソシアネートシラン類等を用いることができる。
カップリング剤を添加することにより、硬化物と基材間の密着性を向上するので好ましい

上記カップリング剤としては市販品を用いることができ、例えば、ＫＡ－１００３、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＥ－６０３，ＫＢＭ－９０３，ＫＢＥ－９０３，ＫＢＥ－９１０３，ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－６１２３、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－７０３、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７、ＫＢＭ－０４、ＫＢＥ－０４、ＫＢＭ－１３、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１０３、ＨＭＤＳ－３、ＫＢＭ－３０６３、ＫＢＭ－３１０３Ｃ、ＫＰＮ－３５０４及びＫＦ－９９（以上、信越シリコーン製）等が挙げられる。

上記連鎖移動剤及び増感剤としては、一般的に硫黄原子含有化合物が用いられる。例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプト酪酸、Ｎ－（２－メルカプトプロピオニル）グリシン、２－メルカプトニコチン酸、３－［Ｎ－（２－メルカプトエチル）カルバモイル］プロピオン酸、３－［Ｎ－（２－メルカプトエチル）アミノ］プロピオン酸、Ｎ－（３－メルカプトプロピオニル）アラニン、２－メルカプトエタンスルホン酸、３－メルカプトプロパンスルホン酸、４－メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル（４－メチルチオ）フェニルエーテル、２－メルカプトエタノール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール、１－メルカプト－２－プロパノール、３－メルカプト－２－ブタノール、メルカプトフェノール、２－メルカプトエチルアミン、２－メルカプトイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－３－ピリジノール、２－メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）及びペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）等のメルカプト化合物；該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２－ヨードエタノール、２－ヨードエタンスルホン酸及び３－ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物；トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトイソブチレート）、ブタンジオールビス（３－メルカプトイソブチレート）、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、下記化合物Ｎｏ．Ｃ１、昭和電工製カレンズＰＥ１及びＮＲ１等が挙げられる。

上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。

上記メラミン化合物としては、（ポリ）メチロールメラミン、（ポリ）メチロールグリコールウリル、（ポリ）メチロールベンゾグアナミン及び（ポリ）メチロールウレア等の窒素化合物中の活性メチロール基（ＣＨ_２ＯＨ基）の全部又は一部（少なくとも２つ）がアルキルエーテル化された化合物を挙げることができる。ここで、アルキルエーテルを構成するアルキル基としては、メチル基、エチル基及びブチル基が挙げられ、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、アルキルエーテル化されていないメチロール基は、一分子内で自己縮合していてもよく、二分子間で縮合して、その結果オリゴマー成分が形成されていてもよい。具体的には、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルグリコールウリル及びテトラブトキシメチルグリコールウリル等を用いることができる。これらの中でも、ヘキサメトキシメチルメラミン及びヘキサブトキシメチルメラミン等のアルキルエーテル化されたメラミンが好ましい。

本発明の重合性組成物において、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）、エチレン性不飽和化合物、溶剤及び無機化合物以外の任意成分の含有量は、その使用目的に応じて適宜選択され、本発明の効果を損なわない限りにおいては、特に制限されないが、好ましくは、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）及びエチレン性不飽和化合物の合計１００質量部に対して、合計で２０質量部以下である。

本発明のＢＭ用感光性組成物は、必須成分として、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）を含有し、感光性及びアルカリ現像性を有し、ＢＭを形成することに特に適した組成物である。

本発明のＢＣＳ用感光性組成物は、必須成分として、エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）を含有し、感光性及びアルカリ現像性を有し、ＢＣＳを形成することに特に適した組成物である。

本発明の重合性組成物、ＢＭ用感光性組成物又はＢＣＳ用感光性組成物を用いて硬化物を光照射又は加熱によって製造する方法について、以下に詳細に説明する。

本発明の重合性組成物及びＢＣＳ用感光性組成物は、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用することができる。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。

また、本発明の重合性組成物及びＢＣＳ用感光性組成物を硬化させる際に用いられるエネルギー線の光源としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、キセノンアーク灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、発光ダイオード、ＣＲＴ光源等から得られる２０００オングストロームから７０００オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、Ｘ線、放射線等の高エネルギー線を利用することができるが、好ましくは、波長３００～４５０ｎｍの光を発光する超高圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯等が挙げられる。

更に、露光光源にレーザー光を用いることにより、マスクを用いずに、コンピューター等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから有用であり、そのレーザー光としては、３４０～４３０ｎｍの波長の光が好適に使用されるが、エキシマーレーザー、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー及びＹＡＧレーザー等の可視から赤外領域の光を発するものも用いられる。これらのレーザーを使用する場合には、可視から赤外の当該領域を吸収する増感色素が加えられる。

また、本発明の重合性組成物及びＢＣＳ用感光性組成物は、加熱することにより硬化させることが可能である。硬化条件としては、例えば、２３０℃×１時間が挙げられるが、これに限定されるものではない。

本発明の硬化物はＢＣＳとして特に有用である。ＢＣＳは、（１）本発明のＢＣＳ用感光性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、（２）該塗膜に所定のパターン形状を有するマスクを介して放射線を照射する工程、（３）露光後のベーク工程、（４）露光後の該被膜を現像する工程、（５）現像後の該被膜を加熱する工程により好ましく形成される。
上記マスクとしては、ハーフトーンマスク又はグレースケールマスク等の多階調マスクを用いることもできる。

本発明の重合性組成物、ＢＭ用感光性組成物又はＢＣＳ用感光性組成物並びに硬化物は、硬化性塗料、ワニス、硬化性接着剤、プリント基板、ディスプレイ表示装置（カラーテレビ、ＰＣモニタ、携帯情報端末及びデジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示パネルにおけるカラーフィルタ、種々の表示用途用のカラーフィルタ、ＣＣＤイメージセンサのカラーフィルタ、タッチパネル、電気発光表示装置、プラズマ表示パネル、有機ＥＬの黒色隔壁）、粉末コーティング、印刷インク、印刷版、接着剤、ゲルコート、電子工学用のフォトレジスト、電気メッキレジスト、エッチングレジスト、はんだレジスト、絶縁膜、ブラックマトリクス、及びＬＣＤの製造工程において構造を形成するためのレジスト、電気及び電子部品を封入するための組成物、ソルダーレジスト、磁気記録材料、微小機械部品、導波路、光スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、カラー試験系、ガラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷用ステンシル、ステレオリトグラフィによって三次元物体を製造するための材料、ホログラフィ記録用材料、画像記録材料、微細電子回路、脱色材料、画像記録材料のための脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料用の脱色材料、印刷配線板用フォトレジスト材料、ＵＶ及び可視レーザー直接画像系用のフォトレジスト材料、プリント回路基板の逐次積層における誘電体層形成に使用するフォトレジスト材料及び保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はないが、上記用途の中でもディスプレイ表示装置には、特に好適に用いることがでる。

本発明のディスプレイ表示装置は、本発明の硬化物（特にＢＭ及びＢＣＳ）を備える以外は従来公知の表示装置と同じ構成であるが、ＢＣＳは、セルとセルの間に設けるのがよい。

有機ＥＬの黒色隔壁として本発明の重合性組成物を用いる場合、パターン形状の垂直化、現像密着性の向上、耐熱性が向上することから重量平均分子量５０００以上のアルカリ現像性化合物を用いることが好ましく、更に好ましくは重量平均分子量７０００～１５０００のアルカリ現像性化合物を用いることが好ましい。更に、アルカリ現像性化合物が、上記一般式（I）で表されるエポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させた構造を有するエポキシ付加化合物と、多塩基酸無水物とのエステル化反応により得られる構造を有する不飽和化合物である場合が特に好ましい。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。尚、表１及び２中の重合性組成物の原料の数値は質量部である。

[製造例１]カーボンブラックＮｏ．１の製造
ＭＡ１００（三菱化学社製カーボンブラック）１５０ｇ及びペルオキソ２硫酸ナトリウム脱イオン水溶液（濃度２．０Ｎ）３０００ｍｌを混合し、６０℃で１０時間撹拌した。ろ過し、得られたスラリーを水酸化ナトリウムで中和し、ダイアフィルトレーションにより処理し、得られた固体を７５℃で一晩乾燥し、黒色粉末としてカーボンブラックＮｏ．１を得た。

[製造例２]カーボンブラック分散液Ｎｏ．１の製造
カーボンブラックＮｏ．１を２０ｇ、重合性化合物Ｎｏ．１を２ｇ、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６１（ビックケミー製、分散剤）を３ｇ及びＰＧＭＥＡを１００ｇ、それぞれ秤量して合わせ、ビーズミルにより処理して、カーボンブラック分散液Ｎｏ．１（固形分２０％）を得た。

[製造例３]カーボンブラック分散液Ｎｏ．２の調製
カーボンブラックとしてＭＡ１００（三菱化学社製)を２０ｇ、分散剤としてＢＹＫ1６1（ビックケミー（ＢＹＫ）社製）１２．５ｇ（固形分濃度４０質量％）、溶媒としてＰＧＭＥＡ９２．５ｇを混合し、ビーズミルにより処理して、カーボンブラック分散液Ｎｏ．２（固形分２０％）を調製した。

[製造例４]アルカリ現像性化合物ＰＧＭＥＡ溶液Ｃ－１の調製
１，１－ビス〔４－（２，３－エポキシプロピルオキシ）フェニル〕インダンの１８４ｇ、アクリル酸５８ｇ、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．２６ｇ、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムブロミド０．１１ｇ及びＰＧＭＥＡ１０５ｇを仕込み、１２０℃で１６時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ＰＧＭＥＡ１６０ｇ、ビフタル酸無水物５９ｇ及びテトラ－ｎ－ブチルアンモニウムブロミド０．２４ｇを加えて、１２０℃で４時間撹拌した。更に、テトラヒドロ無水フタル酸２０ｇを加え、１２０℃で４時間、１００℃で３時間、８０℃で４時間、６０℃で６時間、４０℃で１１時間撹拌した後、ＰＧＭＥＡ１２８ｇを加えて、ＰＧＭＥＡ溶液（固形分４５質量％）としてアルカリ現像性化合物Ｃ－１を得た（Ｍｗ＝５０００、Ｍｎ＝２１００、酸価（固形分）９２．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）。アルカリ現像性化合物ＰＧＭＥＡ溶液におけるアルカリ現像性化合物Ｃ－１の含有量は４５質量％であった。

[製造例５]アルカリ現像性化合物ＰＧＭＥＡ溶液Ｃ－２の製造
９，９－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）フルオレン７５．０ｇ、アクリル酸２３．８ｇ、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．２７３ｇ、テトラブチルアンモニウムクロリド０．５８５ｇ、及びＰＧＭＥＡ６５．９ｇを仕込み、９０℃で１時間、１００℃で１時間、１１０℃ で１時間及び１２０℃ で１４時間撹拌した。室温まで冷却し、無水コハク酸２５．９ｇ、テトラブチルアンモニウムクロリド０．４２７ｇ、及びＰＧＭＥＡ１．３７ｇを加えて、１００℃で５時間撹拌した。更に、９，９－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）フルオレン３０．０ｇ、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．２６９ｇ、及びＰＧＭＥＡ１．５０ｇを加えて、９０℃で９０分、１２０℃ で４時間撹拌後、ＰＧＭＥＡ１２２．２ｇを加えて、ＰＧＭＥＡ溶液（固形分４５％）として目的物であるアルカリ現像性化合物Ｃ－２を得た（Ｍｗ＝４１９０、Ｍｎ＝２１７０，酸価（固形分）５２ｍｇ・ＫＯＨ／ｇ）。アルカリ現像性化合物ＰＧＭＥＡ溶液におけるアルカリ現像性化合物Ｃ－２の含有量は４５質量％であった。

［実施例１～７及び比較例１～２］重合性組成物の調製
[表１]及び[表２]の配合に従って各成分を混合し、重合性組成物（実施例１～７及び比較例１～２）を得た。尚、表中の配合の数値は質量部を表す。
また、表中の各成分の符号は、下記の成分を表す。
Ａ－１ ビスコート１０００
（デンドリックアクリレート、１０～１５官能、重量平均分子量１８４０；大阪有機化学社製）
Ａ－２ Ａ－ＨＢＲ－５
（デンドリックアクリレート、１０～１５官能、重量平均分子量１８３０；新中村化学社製）
Ａ－３ Ａ－ＰＧ５０２７Ｅ
（ポリグリセリンアクリレート、９官能、重量平均分子量２２００；新中村化学社製）
Ａ－４ Ａ－ＰＧ５０５４Ｅ
（ポリグリセリンアクリレート、９官能、重量平均分子量３４００；新中村化学社製）
Ａ’－５ Ｍ４５０
（ペンタエリスリトールテトラアクリレート、４官能、東亜合成社製）
Ａ’－６ ＤＰＨＡ
（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、６官能、日本化薬社製）
Ｂ－１ カーボンブラック分散液Ｎｏ．１ （酸化処理ＣＢブラック）
Ｂ－２ カーボンブラック分散液Ｎｏ．２ （酸価処理なしＣＢブラック）Ｃ－１ アルカリ現像性化合物ＰＧＭＥＡ溶液Ｃ－１
Ｃ－２ アルカリ現像性化合物ＰＧＭＥＡ溶液Ｃ－２
Ｄ－１ 化合物Ｎｏ．Ｄ９
Ｄ－２ 化合物Ｎｏ．Ｄ１０
Ｅ－１ ＰＧＭＥＡ
Ｆ－１ ＫＢＭ－４０３（アルコキシシランカップリング剤；信越化学社製）

［重合性組成物から得られる硬化物の評価］
実施例１～７及び比較例１～２の重合性組成物の感度並びに得られる硬化物について、遮光性（ＯＤ値）、シール強度の評価を、下記の手順で行った。結果を［表１］及び［表２］に併記する。

（感度）
基板上に上記重合性組成物又は比較重合性組成物をスピンコート（３００ｒｐｍ、７秒間）し乾燥させた後、１００℃で１００秒間プリベークを行った。所定のマスクを用い、光源として超高圧水銀ランプを用いて４０ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍセンサーで測定）露光後、０．０４％ＫＯＨ水溶液に２３℃で３０秒間浸漬して現像し、良く水洗した。水洗乾燥後、２３０℃で３０分間ベークを行った。パターンが定着したものをＡとし、パターンが定着しなかったものをＢとした。

（ＯＤ値）
ガラス基板上に上記重合性組成物及び上記比較重合性組成物をスピンコート（３００ｒｐｍ、７秒間）し乾燥させた後、９０℃で１００秒間プリベークを行った。光源として超高圧水銀ランプを用いて露光後した後、２３０℃で３０分間ベークして硬化物を作成した。得られた膜のＯＤ値を、マクベス透過濃度計を用いて測定し、該ＯＤ値をポストベイク後の膜厚で割って、膜厚あたりのＯＤ値を算出した。
膜厚あたりのＯＤ値が３．０以上の硬化物はＢＭとして使用することができ、膜厚あたりのＯＤ値が３．５以上の硬化物はＢＭとして好ましく使用することができ、膜厚あたりのＯＤ値が４．０以上の硬化物はＢＭとして特に好まし使用できる。膜厚あたりのＯＤ値が１．０未満の硬化物はＢＭとして使用できない。

（シール強度）
ガラス基板に６ｍｍｘ３．５ｍｍの面積で熱硬化接着剤（シール剤：三井化学社製ＸＮ－２１Ｓ）を塗布し、基板Ａを作成し、次いで別のガラス基板に上記重合性組成物を塗布し、２３０℃、１時間熱硬化して作成した樹脂製ブラックマトリックス層のあるガラス基板Ｂを作成した。得られたガラス基板Ａの熱硬化性接着剤塗布面とガラス基板Ｂの樹脂製ブラックマトリックス層形成面を貼りあわせ、１５０℃、２時間加熱しガラス基板Ａとガラス基板Ｂを接着させた。
このサンプルについて島津製ＥＺ－Ｇｒａｐｈにて３点支持曲げ試験を実施し、シール強度を測定した。

[表１]及び[表２]より、本発明の重合性組成物、ＢＭ用感光性組成物又はＢＣＳ用感光性組成物より得られる硬化物は、感度、遮光性（ＯＤ値）、シール強度に優れるため、ＢＭ及びＢＣＳとして有用なものである。

Claims (8)

1. デンドリマー構造及びポリグリセリン由来の構造からなる群より選ばれる一つ以上構造を有するエチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）を除くアルカリ現像性化合物（Ｃ）、及び重合開始剤（Ｄ）を含有し、アルカリ現像性化合物（Ｃ）が、下記一般式（Ｉ）で表されるエポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させた構造を有するエポキシ付加化合物と、多塩基酸無水物とのエステル化反応により得られる構造を有する不飽和化合物であり、上記エチレン性不飽和化合物（Ａ）の含有量が、該エチレン性不飽和化合物（Ａ）、着色剤（Ｂ）、アルカリ現像性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）の合計１００質量部に対して、１～２０質量部である、重合性組成物。
   

   

   （式中、Ｍは下記式（ｂ）、又は（ｃ）で表される群から選ばれる置換基を表し、
   Ｍで表される炭素原子数１～２０の炭化水素基中の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８（以下、Ｒ^１～Ｒ^８とも記載）は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を表し、
   Ｒ^１～Ｒ^８で表される基中のメチレン基は、不飽和結合、－Ｏ－又は－Ｓ－で置換される場合があり、
   ｎは０～１０の数であり、
   ｎ≧１の場合、複数存在するＲ^１～Ｒ^８及びＭは、それぞれ、同一である場合もあり、異なる場合もある。）
   

   

   （式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９及びＲ^３０（以下、Ｒ^１５～Ｒ^３０とも記載）は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２～２０の基、又はハロゲン原子を表し、
   Ｒ^１５～Ｒ^３０で表される基中のメチレン基は、不飽和結合、－Ｏ－又は－Ｓ－で置換される場合があり、
   Ｒ^２２とＲ^１５、Ｒ^１５とＲ^１６、Ｒ^１６とＲ^１７、Ｒ^３０とＲ^２３、Ｒ^２３とＲ^２４、Ｒ^２４とＲ^２５は結合して環を形成する場合があり、
   上記式（ｂ）及び（ｃ）で表される基中の＊は、結合手を表す。）
2. 着色剤（Ｂ）が黒色顔料である請求項１に記載の重合性組成物。
3. 重合開始剤（Ｄ）が、下記一般式（II）で表される基を有する重合開始剤である請求項１又は２に記載の重合性組成物。
   

   

   （式中、Ｒ^４１及びＲ^４２は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～２０の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数２～２０の基を表し、
   Ｒ^４１及びＲ^４２で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基又はＲ^４１及びＲ^４２で表される複素環を含有する炭素原子数２～２０の基の水素原子はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数１～２０の炭化水素基又は複素環を含有する炭素原子数２～２０の基で置換される場合があり、Ｒ^４１及びＲ^４２で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基又はＲ^４１及びＲ^４２で表される複素環を含有する炭素原子数２～２０の基中のメチレン基は－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ^４３－、－ＮＲ^４３ＣＯ－、－Ｓ－、－ＣＳ－、－ＳＯ_２－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又はＣＳＯ－で置換される場合もあり、
   Ｒ^４３は、水素原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、
   ｍは０又は１を表し、
   式中の＊は、結合手を表す。）
4. 請求項１～３の何れか一項に記載の重合性組成物を含有するブラックマトリクス用感光性組成物。
5. 請求項１～３の何れか一項に記載の重合性組成物を含有するブラックカラムスペーサー用感光性組成物。
6. 請求項１～３の何れか一項に記載の重合性組成物、請求項４に記載のブラックマトリクス用感光性組成物又は請求項５に記載のブラックカラムスペーサー用感光性組成物を光照射又は加熱によって硬化させる、硬化物を製造する方法。
7. 請求項１～３の何れか一項に記載の重合性組成物、請求項４に記載のブラックカラムスペーサー用感光性組成物又は請求項５に記載のブラックカラムスペーサー用感光性組成物の硬化物。
8. 請求項７に記載の硬化物を含有するディスプレイ表示装置。