JP6936190B2 - Plasma treatment device - Google Patents
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Description
本発明は、プラズマ式治療装置に関する。 The present invention relates to a plasma therapy apparatus.
従来、歯科治療等の医療用途において、プラズマ又はプラズマによって発生した活性種を含む活性ガスを患部に照射し、創傷等の治癒を図るプラズマ式治療装置が知られている。このようなプラズマ式治療装置としては、例えば、プラズマジェット照射装置や、活性ガス照射装置が挙げられる。 Conventionally, in medical applications such as dental treatment, a plasma-type treatment device is known that irradiates an affected area with plasma or an active gas containing an active species generated by plasma to heal a wound or the like. Examples of such a plasma type treatment device include a plasma jet irradiation device and an active gas irradiation device.
例えば、特許文献1には、歯科治療を行う照射器具にプラズマジェット照射手段を搭載し、治療患部にプラズマジェット照射を可能にした歯科用診療装置(プラズマジェット照射装置)が開示されている。このような、歯科用診療装置として用いられるプラズマジェット照射装置は、プラズマを発生し、発生したプラズマと、プラズマ中又は周辺の気体と反応して生成した活性種とを被照射体に直接照射するものである。活性種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等の活性酸素種、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等の活性窒素種等が挙げられる。
特許文献1に記載の発明によれば、発生したプラズマを患部に直接照射することで、創傷等の治癒を図っている。
For example,
According to the invention described in
また、特許文献2には、照射器具内部で活性ガス(活性種)を発生させ、その活性ガスをノズルから吐出して患部に照射する活性ガス照射装置が開示されている。このような活性ガスは、例えば、活性酸素や活性窒素等である。
特許文献2に記載の発明によれば、上記同様、発生した活性ガスを患部に直接照射することで、創傷等の治癒を図っている。
Further,
According to the invention described in
ここで、プラズマ式治療装置においては、被照射体表面の温度上昇を抑制するとともに、創傷の治癒等の効果を高めるためには、プラズマ又は活性ガスを吐出する吐出口と被照射体表面との距離を、最適な範囲に調節する必要がある。しかしながら、従来のプラズマ式治療装置においては、プラズマ又は活性ガスの吐出口と被照射体表面との距離を最適範囲に調節するための工夫が何らなされていなかった。このため、吐出口と被照射体表面との距離が短すぎる場合には、被照射体表面の温度が高くなりすぎるという問題が発生し、また、吐出口と被照射体表面との距離が長すぎる場合には、十分な創傷の治癒効果が得られないという問題があった。 Here, in the plasma type treatment device, in order to suppress the temperature rise on the surface of the irradiated body and enhance the effect such as wound healing, the discharge port for discharging plasma or active gas and the surface of the irradiated body are used. The distance needs to be adjusted to the optimum range. However, in the conventional plasma type treatment device, no device has been made to adjust the distance between the discharge port of the plasma or the active gas and the surface of the irradiated body within the optimum range. Therefore, if the distance between the discharge port and the surface of the irradiated body is too short, there is a problem that the temperature of the surface of the irradiated body becomes too high, and the distance between the discharge port and the surface of the irradiated body is long. If it is too much, there is a problem that a sufficient wound healing effect cannot be obtained.
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、構成が複雑になったり装置コストが増大したりすることなく、プラズマ又は活性ガスの吐出口と被照射体表面との距離を最適範囲に保持し、プラズマ又は活性ガスの安定した照射が可能なプラズマ式治療装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and keeps the distance between the plasma or active gas discharge port and the surface of the irradiated object within the optimum range without complicating the configuration or increasing the equipment cost. However, it is an object of the present invention to provide a plasma type treatment apparatus capable of stable irradiation of plasma or an active gas.
上記課題を解決するため、本発明は、以下の態様を有する。
[1] プラズマが発生するプラズマ発生部と、前記プラズマ及び前記プラズマによって発生した活性ガスの何れか一方又は両方を吐出する吐出口を有するノズルと、を有する照射器具を備え、さらに、前記吐出口と前記プラズマ又は前記活性ガスが照射される被照射体とを離間させるガイド体を備える、プラズマ式治療装置。
[2] 前記ガイド体が前記ノズルに取り付けられている、上記[1]に記載のプラズマ式治療装置。
[3] 前記ガイド体が筒状である、上記[1]又は[2]に記載のプラズマ式治療装置。
[4] 前記ガイド体は、平面視L字状に屈曲した形状である、上記[1]又は[2]に記載のプラズマ式治療装置。
[5] 前記ガイド体は、長さ方向における少なくとも一部が、長さ寸法が可変とされている、上記[3]又は[4]に記載のプラズマ式治療装置。
[6] 前記ガイド体は、長さ方向における少なくとも一部が伸縮自在である、上記[5]に記載のプラズマ式治療装置。
[7] 前記ガイド体は、長さ方向における少なくとも一部が、前記先端部側に向かうに従って内径が漸次縮小する形状である、上記[3]〜[6]の何れかに記載のプラズマ式治療装置。
[8] 前記ガイド体は、長さ方向における少なくとも一部が、前記先端部側に向かうに従って内径が漸次拡大するホーン形状である、上記[3]〜[8]の何れかに記載のプラズマ式治療装置。
[9] 前記ガイド体は、前記ホーン形状とされた部分が、複数の舌状片が離間して配置されてなる、上記[8]に記載のプラズマ式治療装置。
[10] 前記複数の舌状片が弾性材料からなり、前記舌状片の変形によって前記吐出口と前記被照射体との距離が可変とされている、上記[9]に記載のプラズマ式治療装置。
[11] 前記ガイド体は、前記先端部が丸みを帯びた縦断面円弧状に形成されている、上記[3]〜[10]の何れかに記載のプラズマ式治療装置。
[12] さらに、前記ガイド体は、前記被照射体との接触の有無を検出する接触センサを備える、上記[1]〜[11]の何れかに記載のプラズマ式治療装置。
[13] さらに、前記接触センサの検出信号が入力され、前記ガイド体と前記被照射体との接触が検出されたとき、前記プラズマ発生部への通電を開始する制御部を備える、上記[12]に記載のプラズマ式治療装置。
[14] 前記制御部は、前記接触センサによって前記ガイド体と前記被照射体との接触が検出されている間のみ、前記プラズマ発生部に通電する、上記[13]に記載のプラズマ式治療装置。
[15] 前記制御部は、前記接触センサによって検出される、前記ガイド体と前記被照射体との接触時間を累計し、該累計の接触時間と、予め設定した予定照射時間とを比較することで、予め設定した前記予定照射時間でのみ、前記プラズマ発生部に通電する、上記[14]に記載のプラズマ式治療装置。
In order to solve the above problems, the present invention has the following aspects.
[1] An irradiation device having a plasma generating portion for generating plasma and a nozzle having a discharge port for discharging either one or both of the plasma and the active gas generated by the plasma is provided, and further, the discharge port is provided. A plasma-type treatment apparatus including a guide body that separates the plasma from the irradiated body to which the plasma or the active gas is irradiated.
[2] The plasma-type treatment device according to the above [1], wherein the guide body is attached to the nozzle.
[3] The plasma-type treatment apparatus according to the above [1] or [2], wherein the guide body has a cylindrical shape.
[4] The plasma-type treatment apparatus according to the above [1] or [2], wherein the guide body is bent in an L-shape in a plan view.
[5] The plasma-type treatment apparatus according to the above [3] or [4], wherein the guide body has a variable length dimension at least in a part in the length direction.
[6] The plasma-type treatment device according to the above [5], wherein the guide body is at least partially expandable and contractible in the length direction.
[7] The plasma treatment according to any one of [3] to [6] above, wherein at least a part of the guide body in the length direction has a shape in which the inner diameter gradually decreases toward the tip end side. Device.
[8] The plasma type according to any one of [3] to [8] above, wherein at least a part of the guide body in the length direction has a horn shape in which the inner diameter gradually increases toward the tip end side. Treatment device.
[9] The plasma-type treatment apparatus according to the above [8], wherein the guide body is formed by arranging a plurality of tongue-shaped pieces apart from each other in a horn-shaped portion.
[10] The plasma treatment according to the above [9], wherein the plurality of tongue-shaped pieces are made of an elastic material, and the distance between the discharge port and the irradiated body is variable by the deformation of the tongue-shaped pieces. Device.
[11] The plasma-type treatment apparatus according to any one of [3] to [10] above, wherein the guide body has a rounded tip portion formed in an arc shape in a vertical cross section.
[12] The plasma treatment apparatus according to any one of [1] to [11] above, wherein the guide body includes a contact sensor for detecting the presence or absence of contact with the irradiated body.
[13] Further, when the detection signal of the contact sensor is input and the contact between the guide body and the irradiated body is detected, the control unit for starting energization to the plasma generating unit is provided. ] The plasma type treatment apparatus according to.
[14] The plasma-type treatment device according to the above [13], wherein the control unit energizes the plasma generating unit only while the contact sensor detects contact between the guide body and the irradiated body. ..
[15] The control unit accumulates the contact time between the guide body and the irradiated body detected by the contact sensor, and compares the cumulative contact time with a preset scheduled irradiation time. The plasma-type treatment apparatus according to the above [14], wherein the plasma generating portion is energized only at the predetermined irradiation time set in advance.
なお、本明細書において、「活性ガス」とは、ラジカル等の活性種、励起した原子・及び分子、イオン等の何れかを含む化学活性の高いガスを指す。 In the present specification, the “active gas” refers to a gas having high chemical activity including any of active species such as radicals, excited atoms / molecules, and ions.
本発明のプラズマ式治療装置によれば、上記構成を備えることにより、プラズマ又は活性ガスの吐出口と被照射体表面との距離を最適範囲に保持し、被照射体に対してプラズマ又は活性ガスを安定して照射できる。従って、被照射体表面の温度上昇が抑制され、創傷の治癒等の効果が高められたプラズマ式治療装置を、簡便な構成且つ低コストで実現できる。 According to the plasma type treatment apparatus of the present invention, by providing the above configuration, the distance between the discharge port of the plasma or the active gas and the surface of the irradiated body is maintained in the optimum range, and the plasma or the active gas is maintained with respect to the irradiated body. Can be stably irradiated. Therefore, a plasma-type treatment device in which the temperature rise on the surface of the irradiated body is suppressed and the effect of wound healing and the like is enhanced can be realized with a simple configuration and low cost.
以下、本発明のプラズマ式治療装置の実施形態を挙げ、その構成について図1〜図13を適宜参照しながら詳述する。なお、以下の説明で用いる各図面は、本発明のプラズマ式治療装置の特徴をわかりやすくするため、便宜上、特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率等は実際とは異なる場合がある。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。 Hereinafter, embodiments of the plasma-type treatment apparatus of the present invention will be given, and the configuration thereof will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 13 as appropriate. In addition, in each drawing used in the following description, in order to make it easy to understand the characteristics of the plasma type treatment apparatus of the present invention, the characteristic portion may be enlarged for convenience, and the dimensional ratio of each component, etc. May differ from the actual one. Further, the materials, dimensions, etc. exemplified in the following description are examples, and the present invention is not limited thereto, and the present invention can be appropriately modified without changing the gist thereof.
本発明に係るプラズマ式治療装置は、プラズマが発生するプラズマ発生部と、前記プラズマ及び前記プラズマによって発生した活性ガスの何れか一方又は両方を吐出する吐出口を有するノズルと、を有する照射器具を備え、さらに、吐出口とプラズマ又は活性ガスが照射される被照射体とを一定距離で離間させるガイド体を備え、概略構成される。
本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマ発生部とノズルとを有する照射器具と、ガイド体を備えたものであれば、プラズマジェット照射装置であってもよく、活性ガス照射装置であってもよい。
The plasma-type treatment apparatus according to the present invention includes an irradiation instrument having a plasma generating portion for generating plasma and a nozzle having a discharge port for discharging either or both of the plasma and the active gas generated by the plasma. Further, it is provided with a guide body for separating the discharge port and the irradiated body to be irradiated with plasma or active gas by a certain distance, which is roughly configured.
The plasma type treatment device of the present invention may be a plasma jet irradiation device or an active gas irradiation device as long as it includes an irradiation device having a plasma generating unit and a nozzle and a guide body. ..
プラズマジェット照射装置は、プラズマを発生させる。プラズマジェット照射装置は、発生したプラズマと活性種とを被照射体に直接照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。活性種としては、活性酸素種、活性窒素種等を例示できる。活性酸素種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等を例示できる。活性窒素種としては、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。
活性ガス照射装置は、プラズマを発生させる。活性ガス照射装置は、活性種を含む活性ガスを被照射体に照射する。活性種は、プラズマ中の気体又はプラズマ周辺の気体とプラズマとが反応して生成される。
The plasma jet irradiator generates plasma. The plasma jet irradiation device directly irradiates the irradiated body with the generated plasma and the active species. The active species is produced by the reaction of the gas in the plasma or the gas around the plasma with the plasma. Examples of the active species include active oxygen species and active nitrogen species. Examples of active oxygen species include hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, and superoxide anion radical. Examples of the active nitrogen species include nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, nitrite peroxide, dinitrogen trioxide and the like.
The active gas irradiator generates plasma. The active gas irradiation device irradiates the irradiated body with an active gas containing an active species. The active species is produced by the reaction of the gas in the plasma or the gas around the plasma with the plasma.
[プラズマ式治療装置の構成]
以下に、本実施形態のプラズマ式治療装置の詳細な構成について、主に図1〜図5を参照しながら説明する。
本実施形態で説明するプラズマ治療装置は、活性ガス照射装置である。
[Configuration of plasma treatment device]
Hereinafter, the detailed configuration of the plasma-type treatment apparatus of the present embodiment will be described mainly with reference to FIGS. 1 to 5.
The plasma treatment device described in this embodiment is an active gas irradiation device.
図1に示すように、プラズマ式治療装置100は、照射器具(インスツルメント)10と、供給ユニット20と、ガス管路30と、電気配線40とを備える。照射器具10が備えるノズル1の先端にはガイド体60が取り付けられている。
ガス管路30は、照射器具10と供給ユニット20とを接続している。電気配線40は、照射器具10と供給ユニット20とを電気的に接続している。
図示例においては、ガス管路30と電気配線40とは、各々独立しているが、ガス管路30と電気配線40とが一体に構成されていてもよい。
As shown in FIG. 1, the plasma
The
In the illustrated example, the
(照射器具)
図2は、照射器具10における軸線に沿う断面を示す部分断面図である。図3は、図2に示す照射器具10のx−x断面図である。
照射器具10は、長尺状のカウリング2と、カウリング2の先端から突出するノズル1と、カウリング2内に位置するプラズマ発生部12と、カウリング2の外周面に設けられた操作スイッチ9(操作部)とを備える。また、上述したように、ノズル1の先端には、詳細を後述するガイド体60が固定されている。
(Irradiation equipment)
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a cross section of the
The
カウリング2は、円筒形の胴体部2bと、胴体部2bの先端に設けられたヘッド部2aとを備える。なお、胴体部2bは、円筒形に限られず、四角筒、六角筒、八角筒等の多角筒形でもよい。
The
胴体部2bの材料は、特に限定されないが、感電防止の観点から、電気絶縁性を有する材料が好ましい。胴体部2bは、電気絶縁性の材料のみで形成されてもよいし、電気絶縁性の材料とその表面に金属材料の層を有する多層構造でもよい。
電気絶縁性の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を例示できる。熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)等を例示できる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等を例示できる。
また、金属材料として、アルミや銅、鉄やステンレス等が例示できる。
胴体部2bの大きさは、特に限定されず、手指で把持しやすい大きさとすることができる。
The material of the
Examples of the electrically insulating material include thermoplastic resins and thermosetting resins. Examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin) and the like. Examples of the thermosetting resin include phenol resin, melamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicon resin.
Further, as the metal material, aluminum, copper, iron, stainless steel and the like can be exemplified.
The size of the
ヘッド部2aは、先端に向かうに従って漸次窄むように形成されている。即ち、本実施形態におけるヘッド部2aは円錐形である。なお、ヘッド部2aは、円錐形に限られず、四角錘、六角錘、八角錘等の多角錘形でもよい。
ヘッド部2aの先端には、ノズル1が挿入される嵌合孔2cが形成されている。ノズル1は、ヘッド部2aに着脱可能に設けられている。図2中において、符号O1は、胴体部2bの管軸である。ヘッド部2aの内部には、管軸O1方向に延びる第一の活性ガス流路7が形成されている。
胴体部2bの外周面には、操作スイッチ9が設けられている。
The
A
An
ヘッド部2aの材料は、特に限定されず、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ヘッド部2aの材料は、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属が挙げられる。ヘッド部2aと胴体部2bとの材料は、同じでもよく、異なってもよい。
ヘッド部2aの大きさは、プラズマ式治療装置100の用途等を勘案して決定される。例えば、プラズマ式治療装置100が口腔内治療器具である場合、ヘッド部2aの大きさは、口腔内に挿入できる大きさが好ましい。
The material of the
The size of the
ノズル1は、嵌合孔2cに嵌合する台座部1bと、照射管1cとを備える。台座部1bと照射管1cとは一体に形成されている。ノズル1の内部には、第二の活性ガス流路8が形成され、先端に吐出口1aが形成されている。第二の活性ガス流路8と第一の活性ガス流路7とは、連通している。
The
ノズル1の材料は、特に限定されないが、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ノズル1の材料は、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属が挙げられる。
また、ノズル1としては、衛生上の観点から、例えば、ディスポーザブルタイプの材料を用いてもよい。
照射管1c内の流路の長さ(即ち、距離L2)は、プラズマ式治療装置100の用途等を勘案して、適宜決定できる。
吐出口1aの開口径は、例えば、0.5〜5mmが好ましい。開口径が上記下限値以上であれば、活性ガスの圧力損失を抑えられる。開口径が上記上限値以下であれば、照射される活性ガスの流速を高めて、治癒等をより促進できる。
照射管1cは、管軸O1に対して屈曲している。
照射管1cの管軸O2と管軸O1とのなす角度θは、プラズマ式治療装置100の用途等を勘案して決定できる。
The material of the
Further, as the
The length of the flow path in the
The opening diameter of the
The
The angle θ formed by the tube axis O2 and the tube axis O1 of the
図2及び図3に示すように、プラズマ発生部12は、管状誘電体3と、内部電極4と、外部電極5とを備える。
図3に示すように、管状誘電体3と内部電極4と外部電極5とは、管軸O1を中心として同心円状に位置している。
本実施形態において、内部電極4の外周面と外部電極5の内周面とは、管状誘電体3を挟んで互いに対向している。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
As shown in FIG. 3, the
In the present embodiment, the outer peripheral surface of the inner electrode 4 and the inner peripheral surface of the
管状誘電体3は、管軸O1方向に延びる円筒状の部材である。管状誘電体3の内部には、管軸O1方向に延びるガス流路6が形成されている。第一の活性ガス流路7とガス流路6とは連通している。なお、管軸O1は、管状誘電体3の管軸と同じである。
The
管状誘電体3の材料としては、公知のプラズマ装置に使用される誘電体材料が適用できる。管状誘電体3の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等が挙げられる。管状誘電体3の誘電率は低いほど好ましい。
As the material of the
管状誘電体3の内径Rは、内部電極4の外径dを勘案して適宜決定される。内径Rは、後述する距離sを所望の範囲とするように、決定される。
The inner diameter R of the
内部電極4は、管軸O1方向に延びる略円柱状の部材である。内部電極4は、管状誘電体3の内部に位置し、管状誘電体3の内面と離間している。
内部電極4は、管軸O1方向に延びる軸部と、軸部の外周面のねじ山とを備える。軸部は、中実でもよいし、中空でもよい。軸部は中実が好ましい。軸部が中実であれば、加工が容易であり、かつ機械的な耐久性を高められる。内部電極4のねじ山は、軸部の周方向に周回する螺旋状のねじ山である。内部電極4の形態は、雄ねじと同様の形態である。
内部電極4は、外周面にねじ山を有することで、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなる。このため、低電力でプラズマを生成し、維持できる。
なお、内部電極4は、外周面にねじ山等の凹凸を有しなくてもよい。即ち、内部電極4は、外周面に凹凸を有しない円柱の部材でもよい。
The internal electrode 4 is a substantially columnar member extending in the direction of the tube axis O1. The internal electrode 4 is located inside the
The internal electrode 4 includes a shaft portion extending in the direction of the tube shaft O1 and a thread on the outer peripheral surface of the shaft portion. The shaft portion may be solid or hollow. The shaft portion is preferably solid. If the shaft is solid, it is easy to process and the mechanical durability can be improved. The thread of the internal electrode 4 is a spiral thread that orbits in the circumferential direction of the shaft portion. The form of the internal electrode 4 is the same as that of the male screw.
Since the internal electrode 4 has a thread on the outer peripheral surface, the electric field at the tip of the thread is locally strengthened, and the discharge start voltage is lowered. Therefore, plasma can be generated and maintained with low power.
The internal electrode 4 does not have to have irregularities such as threads on the outer peripheral surface. That is, the internal electrode 4 may be a cylindrical member having no unevenness on the outer peripheral surface.
内部電極4の外径dは、プラズマ式治療装置100の用途(即ち、照射器具10の大きさ)等を勘案して、適宜決定される。プラズマ式治療装置100が口腔内用治療器具である場合、外径dは、0.5〜20mmが好ましく、1〜10mmがより好ましい。外径dが上記下限値以上であれば、内部電極を容易に製造できる。加えて、外径dが上記下限値以上であれば、表面積が大きくなり、プラズマをより効率的に発生して、治癒等をより促進できる。外径dが上記上限値以下であれば、照射器具10を過度に大きくすることなく、プラズマをより効率的に発生し、治癒等をより促進できる。
The outer diameter d of the internal electrode 4 is appropriately determined in consideration of the application of the plasma type treatment device 100 (that is, the size of the irradiation device 10) and the like. When the plasma
内部電極4のねじ山の高さhは、内部電極4の外径dを勘案して適宜決定できる。
内部電極4のねじ山のピッチpは、内部電極4の長さや外径d等を勘案して適宜決定できる。ピッチpは、0.2〜3.0mmが好ましく、0.2〜2.5mmがより好ましく、0.2〜2.0mmがさらに好ましい。
The thread height h of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the outer diameter d of the internal electrode 4.
The pitch p of the threads of the internal electrode 4 can be appropriately determined in consideration of the length of the internal electrode 4, the outer diameter d, and the like. The pitch p is preferably 0.2 to 3.0 mm, more preferably 0.2 to 2.5 mm, and even more preferably 0.2 to 2.0 mm.
内部電極4の材料は、導電材であれば特に限定されず、公知のプラズマ装置の電極に使用される金属が適用できる。内部電極4の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属:及びカーボン等が挙げられる。 The material of the internal electrode 4 is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a metal used for an electrode of a known plasma device can be applied. Examples of the material of the internal electrode 4 include metals such as stainless steel, copper, and tungsten: and carbon.
内部電極4としては、JIS B 0205:2001のメートルねじの規格品(M2、M2.2、M2.5、M3、M3.5等)、JIS B 2016:1987のメートル台形ねじの規格品(Tr8×1.5、Tr9×2、Tr9×1.5等)、JIS B 0206:1973のユニファイ並目ねじの規格品(No.1−64UNC、No.2−56UNC、No.3−48UNC等)等と同等の仕様が好ましい。これらの規格品と同等の仕様であれば、コスト面で優位である。 The internal electrodes 4 include JIS B 0205: 2001 metric screw standard products (M2, M2.2, M2.5, M3, M3.5, etc.) and JIS B 2016: 1987 metric screw standard products (Tr8). × 1.5, Tr9 × 2, Tr9 × 1.5, etc.), JIS B 0206: 1973 unified coarse thread standard products (No. 1-64UNC, No. 2-56UNC, No. 3-48UNC, etc.) The specifications equivalent to those of the above are preferable. If the specifications are equivalent to those of these standard products, it is advantageous in terms of cost.
内部電極4の外面(ねじ山の頂点)と管状誘電体3の内面との距離sは、0.05〜5mmが好ましく、0.1〜1mmがより好ましい。距離sが上記下限値以上であれば、所望量のガスを容易に通流できる。距離sが上記上限値以下であれば、プラズマをより効率的に発生させ、活性ガスの温度をより低くできる。
The distance s between the outer surface (the apex of the thread) of the internal electrode 4 and the inner surface of the
外部電極5は、管状誘電体3の外周面に沿って周回する環状の電極である。外部電極5は、管状誘電体3の外周面の一部に存在する。
The
外部電極5の材料は、導電材であれば特に限定されず、公知のプラズマ装置の電極に使用される金属が適用できる。外部電極5の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属及びカーボン等が挙げられる。
The material of the
内部電極4の先端中心点Q1からヘッド部2aの先端Q2までの距離L1と、先端Q2から吐出口1aまでの距離L2との合計(即ち、内部電極4から吐出口1aまでの道のり)は、プラズマ式治療装置100の大きさや、活性ガスが照射された面(被照射体の表面)における温度等を勘案して適宜決定される。距離L1と距離L2の合計が長ければ、被照射体表面の温度をより低くできる。距離L1と距離L2の合計が短ければ、活性ガスのラジカル密度をより高めて、被照射体表面における清浄化、賦活化、治癒等の効果をより高められる。なお、先端Q2は、管軸O1と管軸O2との交点である。
被照射面の温度は、例えば、熱電対やサーモグラフィ等により測定される。
The total of the distance L1 from the tip center point Q1 of the internal electrode 4 to the tip Q2 of the
The temperature of the irradiated surface is measured by, for example, a thermocouple or a thermography.
操作スイッチ9は、使用者が操作することによって、ノズル1からの活性ガスの吐出を開始するための電気信号を発信する。
操作スイッチ9は、例えば、押釦である。操作スイッチ9が押釦である場合、操作スイッチ9は、使用者が押釦を1回押したときに電気信号を1回だけ発信する構成を有してもよく、使用者が押釦を押し続けている間、電気信号を発信し続ける構成を有してもよい。
The
The
(供給ユニット)
図4は、本実施形態のプラズマ式治療装置(活性ガス照射装置)100の概略構成を示すブロック図である。
供給ユニット20は、ガスの供給源70と、制御部90と、図視略の給電部と、これらを収容する筐体21とを備える。
筐体21は、供給源70を離脱可能に収容する。これにより、筐体21に収容された供給源70内のガスがなくなったとき、供給源70を交換できる。
本実施形態においては、供給ユニット20を複数設けて、異種あるいは同種のガス2種以上を照射器具10に供給しても良い。
(Supply unit)
FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of the plasma type treatment device (active gas irradiation device) 100 of the present embodiment.
The
The
In the present embodiment, a plurality of
図視略の給電部は、照射器具10の操作スイッチ9、プラズマ発生部12、及び供給ユニット20内の各構成要素に電気を供給する。
給電部は、プラズマ発生部12の内部電極4と外部電極5との間に印加する電圧及び周波数を調節できる。
給電部は、例えば、100Vの家庭用電源等の電源(図示略)と接続されている。
The power supply unit (not shown) supplies electricity to each component in the
The feeding unit can adjust the voltage and frequency applied between the internal electrode 4 and the
The power feeding unit is connected to, for example, a power source (not shown) such as a 100V household power source.
供給源70は、プラズマ発生部12にプラズマ発生用ガスを供給する。供給源70は、内部にプラズマ発生用ガスが収容された耐圧容器である。図4に示すように、供給源70は、筐体21内に配置された配管75に対して着脱可能に装着されている。配管75は、供給源70とガス管路30とを接続している。
配管75には、電磁弁71、圧力レギュレータ73、流量コントローラ74及び圧力センサ72(残量センサ)が取り付けられている。
The
A
電磁弁71が開状態となると、供給源70から配管75及びガス管路30を介して照射器具10にプラズマ発生用ガスが供給される。図示例では、電磁弁71は、弁開度が調節できる構成ではなく、開閉の切り替えのみができる構成である。なお電磁弁71は、弁開度が調節できる構成であってもよい。
When the
圧力レギュレータ73は、電磁弁71と供給源70との間に配置されている。圧力レギュレータ73は、供給源70から電磁弁71に向かうプラズマ発生用ガスの圧力を低下(プラズマ発生用ガスを減圧)させる。
The
流量コントローラ74は、電磁弁71とガス管路30との間に配置されている。流量コントローラ74は、電磁弁71を通過したプラズマ発生用ガスの流量(単位時間当たりの供給量)を調整する。流量コントローラ74は、プラズマ発生用ガスの流量を、例えば3L/minに調整する。
The
圧力センサ72は、供給源70におけるプラズマ発生用ガスの残量V1を検出する。圧力センサ72は、前記残量V1として、供給源70内の圧力(残圧)を測定する。圧力センサ72は、圧力レギュレータ73と供給源70との間(圧力レギュレータ73よりも一次側)を通過するプラズマ発生用ガスの圧力(一次圧)を、供給源70の圧力として測定する。圧力センサ72としては、例えば、キーエンス社のAP−V80シリーズ(具体的には、例えばAP−15S)等を採用することができる。
The
配管75の供給源70側の端部には、継手76が設けられている。継手76には、供給源70が着脱可能に装着されている。供給源70を継手76に着脱させることで、電磁弁71、圧力レギュレータ73、流量コントローラ74及び圧力センサ72(以下、「電磁弁71等」という。)を筐体21に固定したまま、供給源70を交換することができる。
この場合、交換前の供給源70、交換後の供給源70のいずれについても共通の電磁弁71等を使用することができる。なお電磁弁71等は、供給源70に固定され、供給源70と一体的に筐体21から離脱可能であってもよい。
A joint 76 is provided at the end of the
In this case, a
制御部90は、例えば、情報処理装置を用いて構成される。すなわち、制御部90は、バスで接続されたCPU(Central Processor Unit)、メモリ及び補助記憶装置を備える。制御部90は、プログラムを実行することによって動作する。制御部90は、例えば、供給ユニット20に内蔵されていてもよい。制御部90は、照射器具10、及び供給ユニット20を制御する。
The
制御部90には、電磁弁71、圧力センサ72、流量コントローラ74、及び照射器具10の操作スイッチ9が電気的に接続されている。
制御部90は、電磁弁71、及び流量コントローラ74を制御する。
The
The
制御部90には、照射器具10の操作スイッチ9が電気配線40を介して電気的に接続されている。使用者が操作スイッチ9を操作することによって、操作スイッチ9から制御部90に電気信号が送られる。操作スイッチ9からの電気信号を制御部90が受け付けると、制御部90は、電磁弁71、及び流量コントローラ74を作動させる。
The
操作スイッチ9が押釦であり、使用者が押釦を1回押したときに電気信号を1回だけ発信する場合は、制御部90は、例えば、以下のように電磁弁71、及び流量コントローラ74を制御する。
操作スイッチ9からの電気信号を制御部90が受け付けると、制御部90が、電磁弁71を所定時間、開放して電磁弁71を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ74に調整させる。また、制御部90が、内部電極4と外部電極5との間に電圧を所定時間、印加する。その結果、供給源70からプラズマ発生部12に一定量のプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル1から活性ガスが所定時間(例えば、数秒から数十秒程度)、継続して吐出される。
When the
When the
操作スイッチ9が押釦であり、使用者が押釦を押し続けている間、電気信号を発信し続ける場合は、制御部90は、例えば、以下のように電磁弁71、流量コントローラ74、及び図視略の給電部を制御する。
操作スイッチ9からの電気信号を制御部90が受け付けている間、制御部90が、電磁弁71を開放して電磁弁71を通過したプラズマ発生用ガスの流量を流量コントローラ74に調整させる。また、制御部90が、内部電極4と外部電極5との間に電圧を印加する。その結果、使用者が操作スイッチ9を押し続けている間、供給源70からプラズマ発生部12にプラズマ発生用ガスが供給され、ノズル1から活性ガスが継続して吐出される。
When the
While the
(ガス管路)
ガス管路30は、供給ユニット20から照射器具10にプラズマ発生用ガスを供給する経路である。ガス管路30は、照射器具10の管状誘電体3の後端部に接続している。ガス管路30の材料は特に制限はなく、公知のガス管に用いる材料を適用できる。ガス管路30の材料としては、例えば、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等を例示でき、可撓性を有する材料が好ましい。
(Gas pipeline)
The
(電気配線)
電気配線40は、供給ユニット20の給電部から照射器具10のプラズマ発生部12に電気を供給する配線、及び照射器具10の操作スイッチ9と供給ユニット20の制御部90とを電気的に接続する配線を備える。
電気配線40は、照射器具10の内部電極4、外部電極5及び操作スイッチ9に接続している。電気配線40の材料は特に制限はなく、公知の電気配線に用いる材料を適用できる。電気配線40の材料としては、絶縁材料で被覆した金属導線等を例示できる。
(Electric wiring)
The
The
(ガイド体)
本発明に係るプラズマ式治療装置においては、照射器具10にガイド体60が取り付けられている。図1及び図2に示す例においては、図5の破断図に拡大して示すような、略筒状のガイド体60が、ノズル1の先端に圧入するように取り付けられている。
本実施形態におけるガイド体は、例えば、洗浄して繰り返し使用できる構成であってもよく、あるいは、ディスポーザブルタイプのものであってもよい。ガイド体を洗浄する方法としては、例えば、エタノールによる洗浄の他、オートクレーブを用いた洗浄方法等が挙げられる。
また、ノズルとガイド体が一体化した構成を採用してもよい。
(Guide body)
In the plasma type treatment device according to the present invention, the
The guide body in the present embodiment may be, for example, a structure that can be washed and used repeatedly, or may be a disposable type. Examples of the method for cleaning the guide body include a cleaning method using an autoclave and the like, in addition to cleaning with ethanol.
Further, a configuration in which the nozzle and the guide body are integrated may be adopted.
ガイド体60は、ノズル1の吐出口1aとプラズマ又は活性ガスが照射される被照射体Hとを、ガイド体60の長さ方向における所定の寸法で離間させる。即ち、図5中に示すように、ガイド体60の先端部60aを被照射体Hの表面に押し当てることで、吐出口1aと被照射体Hとの間を所定の距離に保持する。より具体的には、ガイド体60における、吐出口1aに対応する位置から先端部60aまでの長さ寸法Nを適宜設定することで、被照射体Hに対してプラズマ又は活性ガスを安定して照射でき、且つ、被照射体Hの表面の温度が極端に上昇するのを抑制可能な範囲、例えば、1.0〜10mmの範囲に設定する。ガイド体60の長さ寸法Nを上記範囲に設定することで、吐出口1aと被照射体Hとの間の距離もこの範囲となる。吐出口1aと被照射体Hとの間の距離が、上記範囲の下限値以上であることで、被照射面の温度を低くし、被照射面への刺激をさらに緩和できる。また、吐出口1aと被照射体Hとの間の距離が、上記範囲の上限値以下であることで、治癒等の効果をさらに高められる。
The
なお、ガイド体の形状は、図5に示した単純な筒状のものには限定されない。
例えば、図6に示す例のガイド体61のように、平面視でL字状に屈曲したものであってもよい。
The shape of the guide body is not limited to the simple cylindrical shape shown in FIG.
For example, the
また、本実施形態においては、ガイド体を、長さ方向における少なくとも一部が、長さ寸法が可変となるように構成してもよい。より具体的には、図7に示す例のガイド体62のように、長さ方向の一部に伸縮自在な蛇腹部62bが備えられた構成としてもよい。図示例のガイド体62は、先端部62aが硬質に構成されており、その一方、蛇腹部62bが可撓性を有した伸縮自在で折り曲げることが可能なフレキシブル構成とされている。これにより、例えば、治療箇所が口腔内等の狭い場所であっても、蛇腹部62bがフレキシブルに伸縮することで、吐出口1aと被照射体の表面との距離をフレキシブルに調整することが可能になるので、プラズマ又は活性ガスのより効果的な照射が可能になる。
Further, in the present embodiment, the guide body may be configured so that at least a part in the length direction has a variable length dimension. More specifically, as in the
また、図8に示す例のガイド体63のように、長さ方向における一部が、例えば、ゴム等の可撓性材料のブロック部材63bからなる構成であってもよい。図8に示すガイド体63によれば、ブロック部材63bが任意に変形することにより、先端部63aの向きやガイド体63の長さ寸法が変更可能な構成とされている。
Further, as in the
さらに、本実施形態においては、図9(a),(b)に示す例のガイド体64のように、長さ方向で全体が可撓性材料のブロック部材64bからなり、先端部64aが径方向で拡開可能な構成であってもよい。ガイド体64は、通常は図9(b)に示すような概略筒状とされているが、例えば、先端部64aを被照射体の表面に押しつけたとき、図9(a)に示すようにブロック部材64bが変形することで、先端部64aが径方向で拡開するように構成されている。
Further, in the present embodiment, as in the
また、図10に示すガイド体65のように、長さ方向における少なくとも一部が、先端部65a側に向かうに従って内径が漸次拡大するホーン形状である構成としてもよい。図示例のガイド体65は、ホーン部65bが、ノズル1への取付部65c側から先端部65a側に向かうに従って、内径が漸次拡大している。図示例のガイド体65によれば、上記のようなホーン形状を有することにより、被照射体の表面における照射面積を増大させながら、効果的にプラズマ又は活性ガスを照射することが可能になる。
Further, as in the
さらに、本実施形態においては、図11(a),(b)に示すガイド体66のように、ホーン形状とされた部分が、複数の舌状片が離間して配置されてなる構成であってもよい。図示例のガイド体66は、ホーン部66bが複数の舌状片66dから構成され、ノズル1への取付部66c側から先端部66a側に向かうに従って、内径が漸次拡大するように配置されている。図示例のガイド体66によれば、上記のようなホーン構成を採用し、さらに、複数の舌状片66dを弾性材料から構成することにより、舌状片の変形によって吐出口1aと被照射体との距離が可変となる。即ち、ガイド体66の先端部66aを被照射体の表面に押しつけたとき、複数の舌状片66dの各々が変形することで、先端部66aの内径が拡大する一方、吐出口1aと被照射体の表面との距離が短くなる。図示例のガイド体66によれば、上記構成により、ガイド体66の被照射体への押圧力により、吐出口1aと被照射体の表面との距離を変化させることが可能になる。
Further, in the present embodiment, as in the
また、図12に示すガイド体67のように、長さ方向における少なくとも一部が、先端部65a側に向かうに従って内径が漸次縮小する形状であってもよい。図示例のガイド体67は、搾り部67bが、筒状の直胴部67c側から先端部67a側に向かうに従って、内径が漸次縮小する形状とされている。図示例のガイド体67によれば、上記構成により、被照射体に対してプラズマ又は活性ガスを高速で照射することが可能になる。
Further, as in the
なお、本実施形態の照射器具に備えられる上記の各ガイド体は、それぞれ、被照射体に接触する先端部が丸みを帯びた断面円弧状に形成されていることがより好ましい。図13に示すガイド体68を例に挙げて説明すると、先端部68aが丸みを帯びた断面円弧状に形成されていることにより、この部分が被照射体Hとなる皮膚等に若干入り込むように接触するので、プラズマ又は活性ガスの照射効率が向上する。
It is more preferable that each of the above-mentioned guide bodies provided in the irradiation device of the present embodiment has a rounded cross-sectional arc shape at the tip portion in contact with the irradiated body. Taking the
次に、本実施形態においては、詳細な図示は省略するが、さらに、ガイド体が、被照射体との接触の有無を検出する接触センサを備える構成を採用してもよい。このような接触センサとしては、例えば、ガイド体の先端部に取り付けられる圧電式のセンサ等が挙げられる。
また、本実施形態では、上記の接触センサを備えた構成において、上述した制御部90が、接触センサの検出信号が入力されてガイド体と被照射体との接触を検出したとき、プラズマ発生部への通電を開始する機能を有していてもよい。これにより、上述した操作スイッチ9の操作を省略できるので、操作性に優れたものとなる。
また、本実施形態では、制御部90が、接触センサによってガイド体と被照射体との接触が検出されている間のみ、プラズマ発生部12に通電する機能を有していてもよい。これにより、上記同様、操作スイッチ9の操作を省略でき、操作性に優れたものとなる。
さらに、本実施形態では、制御部90が、接触センサによって検出される、ガイド体と被照射体との接触時間を累計し、この累計接触時間と、予め設定した予定照射時間とを比較することで、予め設定した予定照射時間でのみ、プラズマ発生部に通電する機能を有していてもよい。これにより、操作スイッチ9を操作することなく、被照射体に対して、適正な時間でプラズマ又は活性ガスを照射することができる。
Next, in the present embodiment, although detailed illustration is omitted, a configuration in which the guide body includes a contact sensor for detecting the presence or absence of contact with the irradiated body may be adopted. Examples of such a contact sensor include a piezoelectric sensor attached to the tip of a guide body.
Further, in the present embodiment, in the configuration provided with the above-mentioned contact sensor, when the above-mentioned
Further, in the present embodiment, the
Further, in the present embodiment, the
[プラズマ式治療装置の使用方法]
次に、プラズマ式治療装置100の使用方法について説明する。
例えば、医師等の使用者は、照射器具10を持って移動させ、ノズル1を後述する被照射体に向ける。この状態で操作スイッチ9を押し、供給ユニット20の供給源70からガス管路30を介して照射器具10のプラズマ発生部12にプラズマ発生用ガスを供給し、供給ユニット20から照射器具10のプラズマ発生部12に電気を供給する。
プラズマ発生部12に供給したプラズマ発生用ガスは、管状誘電体3の後端部から管状誘電体3の内空部に流入する。プラズマ発生用ガスは、電圧を印加した内部電極4と外部電極5とが対向する位置において電離し、プラズマになる。
[How to use the plasma treatment device]
Next, a method of using the plasma
For example, a user such as a doctor holds and moves the
The plasma generating gas supplied to the
本実施形態においては、内部電極4と外部電極5とが、プラズマ発生用ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。内部電極4の外周面と外部電極5の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、ガス流路6と、第一の活性ガス流路7と、第二の活性ガス流路8とをこの順に通流する。この間、プラズマは、ガス組成を変化しつつ通流し、ラジカル等の活性種を含む活性ガスとなる。
In the present embodiment, the internal electrode 4 and the
上記のように生じた活性ガスは、ノズル1の吐出口1aから吐出される。吐出された活性ガスは、吐出口1a近傍の気体の一部をさらに活性化して活性種を生成する。これらの活性種を含む活性ガスを被照射体に照射する。
The active gas generated as described above is discharged from the
被照射体としては、例えば、細胞、生体組織、生物個体等を例示できる。
生体組織としては、各器官(内臓)、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯周組織(歯肉、歯槽骨、歯根膜、セメント質等)、歯、骨等を例示できる。活性ガスの照射によって処理可能な疾患及び症状としては、例えば、歯肉炎、歯周病等の口腔内の疾患、皮膚の創傷等を例示できる。
生物個体としては、哺乳類(ヒト、犬、猫、豚等)、鳥類、魚類等を例示できる。
Examples of the irradiated body include cells, biological tissues, and individual organisms.
Examples of living tissues include organs (visceral organs), epithelial tissues covering the inner surface of the body surface and body cavity, periodontal tissues (gingival, alveolar bone, periodontal ligament, cementy substance, etc.), teeth, bones and the like. Examples of diseases and symptoms that can be treated by irradiation with active gas include oral diseases such as gingival inflammation and periodontal disease, and skin wounds.
Examples of individual organisms include mammals (humans, dogs, cats, pigs, etc.), birds, fish, and the like.
プラズマ発生用ガスとしては、例えば、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等)、窒素、空気、酸素等を例示できる。これらのガスは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
プラズマ発生用ガスは、窒素を主成分とすることが好ましい。本実施形態において、窒素を主成分とするとは、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量が50体積%超であることをいう。
即ち、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量は、50体積%超が好ましく、70体積%以上がさらに好ましく、80〜100質量%がさらに好ましく、90〜100質量%が特に好ましい。プラズマ発生用ガス中の窒素以外のガス成分としては、例えば、酸素、希ガス等を例示できる。
Examples of the plasma generating gas include rare gases (helium, neon, argon, krypton, etc.), nitrogen, air, oxygen, and the like. These gases may be used alone or in combination of two or more.
The plasma generating gas preferably contains nitrogen as a main component. In the present embodiment, the fact that nitrogen is the main component means that the nitrogen content in the plasma generating gas is more than 50% by volume.
That is, the nitrogen content in the plasma generating gas is preferably more than 50% by volume, more preferably 70% by volume or more, further preferably 80 to 100% by mass, and particularly preferably 90 to 100% by mass. Examples of gas components other than nitrogen in the plasma generating gas include oxygen and rare gases.
プラズマ式治療装置100が口腔内用治療器具である場合、管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの酸素濃度は、1体積%以下が好ましい。酸素濃度が上限値以下であると、オゾンの発生を低減できる。
When the plasma
管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの流量は、1〜10L/minが好ましい。管状誘電体3に導入するプラズマ発生用ガスの流量が上記下限値以上であると、被照射体における被照射面の温度の上昇を抑制しやすい。プラズマ発生用ガスの流量が上記上限値以下であると、被照射体の清浄化、賦活化又は治癒をさらに促進できる。
The flow rate of the plasma generating gas introduced into the
内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧は、5kVpp以上20kVpp以下が好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Vpp(Volt peak to peak)」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。
なお、内部電極4が外周面に凹凸を有しない円柱の部材である場合、内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧は、10kVpp以上が好ましい。外周面に凹凸を有さない内部電極4を用いる場合、外周面に凹凸を有する内部電極4を用いる場合に比べて、内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧を高める必要がある。
印加する交流電圧が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。印加する交流電圧が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。
The AC voltage applied between the internal electrode 4 and the
When the internal electrode 4 is a cylindrical member having no unevenness on the outer peripheral surface, the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the
When the applied AC voltage is not more than the above upper limit value, the temperature of the generated plasma can be suppressed low. When the applied AC voltage is equal to or higher than the above lower limit value, plasma can be generated more efficiently.
内部電極4と外部電極5との間に印加する交流の周波数は、0.5kHz以上20kHz未満が好ましく、1kHz以上15kHz未満がより好ましく、2kHz以上10kHz未満がさらに好ましく、3kHz以上9kHz未満が特に好ましく、4kHz以上8kHz未満が最も好ましい。交流の周波数が上記上限値以下であると、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。交流の周波数が上記下限値以上であると、さらに効率的にプラズマを発生できる。
The frequency of the alternating current applied between the internal electrode 4 and the
ノズル1の吐出口1aから照射する活性ガスの温度は、50℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましく、40℃以下がさらに好ましい。ノズル1の吐出口1aから照射する活性ガスの温度が上記上限値以下であると、被照射面の温度を40℃以下にしやすい。被照射面の温度を40℃以下にすることで、被照射部分が患部である場合にも、患部への刺激を低減できる。ノズル1の吐出口1aから照射する活性ガスの温度の下限値は、特に制限はなく、例えば、10℃である。活性ガスの温度は、吐出口1aにおける活性ガスの温度を熱電対で測定した値である。
The temperature of the active gas irradiated from the
吐出口1aから被照射体の表面までの距離(照射距離)は、上述したように、ガイド体の長さを適宜設定すること等により、例えば、1.0〜10mmの範囲とすることが好ましい。照射距離が上記下限値以上であると、被照射体表面の温度を低くし、被照射体への刺激をさらに緩和できる。照射距離が上記上限値以下であると、治癒等の効果をさらに高められる。
The distance (irradiation distance) from the
吐出口1aから1mm以上10mm以下の距離で離れた位置の被照射体表面の温度は、40℃以下が好ましい。被照射体表面の温度が40℃以下であると、被照射体表面への刺激を低減できる。被照射体表面の温度の下限値は特に制限はないが、例えば10℃である。
被照射体表面の温度は、内部電極4と外部電極5との間に印加する交流電圧、照射する活性ガスの吐出量、内部電極4の先端中心点Q1から吐出口1aまでの道のり等の組み合わせによっても調節できる。被照射体表面の温度は、熱電対を用いて測定できる。
The temperature of the surface of the irradiated body at a position separated from the
The temperature of the surface of the irradiated body is a combination of the AC voltage applied between the internal electrode 4 and the
活性ガスに含まれる活性種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。活性ガスに含まれる活性種の種類は、例えば、プラズマ発生用ガスの種類等によって調節できる。 Examples of active species contained in the active gas include hydroxyl radical, singlet oxygen, ozone, hydrogen peroxide, superoxide anion radical, nitric oxide, nitrogen dioxide, peroxynitrite, nitrite peroxide, dinitrogen trioxide, etc. It can be exemplified. The type of active species contained in the active gas can be adjusted by, for example, the type of plasma generating gas.
活性ガス中におけるヒドロキシルラジカルの密度(ラジカル密度)は、0.1〜300μmol/Lが好ましく、0.1〜100μmol/Lがより好ましく、0.1〜50μmol/Lがさらに好ましい。ラジカル密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射体の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。ラジカル密度が上記上限値以下であると、被照射体表面への刺激を低減できる。 The density of hydroxyl radicals (radical density) in the active gas is preferably 0.1 to 300 μmol / L, more preferably 0.1 to 100 μmol / L, and even more preferably 0.1 to 50 μmol / L. When the radical density is at least the above lower limit value, it is easy to promote the cleansing, activation or healing of abnormalities of the irradiated body selected from cells, biological tissues and individual organisms. When the radical density is not more than the above upper limit value, the irritation to the surface of the irradiated body can be reduced.
ラジカル密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
DMPO(5,5−ジメチル−1−ピロリン−N−オキシド)0.2mol/L溶液0.2mLに対して、活性ガスを30秒間照射する。この際、吐出口1aから液面までの距離を5.0mmとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴(ESR)法を利用してヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル密度とする。
The radical density can be measured by, for example, the following method.
0.2 mL of a 0.2 mol / L solution of DMPO (5,5-dimethyl-1-pyrroline-N-oxide) is irradiated with an active gas for 30 seconds. At this time, the distance from the
活性ガス中における一重項酸素の密度(一重項酸素密度)は、0.1〜300μmol/Lが好ましく、0.1〜100μmol/Lがより好ましく、0.1〜50μmol/Lがさらに好ましい。一重項酸素密度が上記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体等の被照射体の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。上記上限値以下であると、被照射体表面への刺激を低減できる。 The density of singlet oxygen (singlet oxygen density) in the active gas is preferably 0.1 to 300 μmol / L, more preferably 0.1 to 100 μmol / L, and even more preferably 0.1 to 50 μmol / L. When the singlet oxygen density is at least the above lower limit value, it is easy to promote the cleansing, activation or healing of abnormalities of the irradiated body such as cells, biological tissues and individual organisms. When it is not more than the above upper limit value, the irritation to the surface of the irradiated body can be reduced.
一重項酸素密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
TPC(2,2,5,5−テトラメチル−3−ピロリン−3−カルボキサミド)0.1mol/L溶液0.4mLに対して、活性ガスを30秒間照射する。この際、吐出口1aから液面までの距離を5.0mmとする。活性ガスを照射した溶液について、電子スピン共鳴(ESR)法を利用して一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素密度とする。
The singlet oxygen density can be measured by, for example, the following method.
Irradiate 0.4 mL of a 0.1 mol / L solution of TPC (2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrroline-3-carboxamide) with an active gas for 30 seconds. At this time, the distance from the
吐出口1aから吐出する活性ガスの流量は、1〜10L/minが好ましい。
吐出口1aから吐出する活性ガスの流量が上記下限値以上であると、活性ガスが被照射体表面に作用する効果を充分に高められる。吐出口1aから吐出する活性ガスの流量が上記上限値以下であると、活性ガスの被照射体表面の温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射体表面が濡れている場合には、被照射体表面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射体表面が患部である場合には、患者への刺激を抑制できる。プラズマ式治療装置100において、吐出口1aから吐出する活性ガスの流量は、管状誘電体3へのプラズマ発生用ガスの供給量で調節できる。
The flow rate of the active gas discharged from the
When the flow rate of the active gas discharged from the
プラズマ式治療装置100によって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。活性ガスを細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分の清浄化、賦活化、又はその被照射部分の治癒を促進できる。
The active gas generated by the
外傷や異常の治癒を促進する目的で活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数及び照射期間は特に制限はない。例えば、1〜5.0L/minの照射量で活性ガスを患部に照射する場合、1日1〜5回、毎回10秒〜10分、1〜30日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。 When irradiating an active gas for the purpose of promoting healing of trauma or abnormality, the irradiation frequency, the number of irradiations, and the irradiation period are not particularly limited. For example, when irradiating the affected area with an active gas at an irradiation amount of 1 to 5.0 L / min, irradiation conditions such as 1 to 5 times a day, 10 seconds to 10 minutes each time, and 1 to 30 days promote healing. It is preferable from the viewpoint of
本実施形態のプラズマ式治療装置100は、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。また、本実施形態のプラズマ式治療装置100は、動物治療用器具としても好適である。
The plasma-
[作用効果]
以上説明したような、本実施形態のプラズマ式治療装置100によれば、上記構成を備えることにより、プラズマ又は活性ガスの吐出口1aと被照射体Hの表面との距離を最適範囲に保持し、被照射体Hに対してプラズマ又は活性ガスを安定して照射できる。従って、被照射体Hの表面の温度上昇が抑制され、創傷の治癒等の効果が高められたプラズマ式治療装置100を、簡便な構成且つ低コストで実現できる。
[Action effect]
According to the plasma
[他の実施形態]
なお、本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマ発生部と、プラズマ及び活性ガスのいずれか一方又は両方を吐出するノズルを有する照射器具と、ノズルの先端に取り付けられるガイド体とを備えたものであればよく、上記の実施形態には限定されない。
[Other Embodiments]
The plasma-type treatment apparatus of the present invention includes a plasma generating unit, an irradiation device having a nozzle for discharging either one or both of plasma and active gas, and a guide body attached to the tip of the nozzle. It suffices, and is not limited to the above embodiment.
例えば、図視略の給電部は、供給ユニット20の筐体21の内部に設けられていればよいが、供給ユニット20から独立して設けられてもよい。
図示例では、制御部90は、供給ユニット20の筐体21の内部に設けられているが、供給ユニット20から独立して設けられてもよい。
また、図示例では、ガイド体60等はノズル1に取り付けられているが、例えば、カウリング2に取り付けられていてもよい。
For example, the power supply unit (not shown) may be provided inside the
In the illustrated example, the
Further, in the illustrated example, the
また、操作スイッチ9が、上記の実施形態と異なってもよい。例えば、照射器具10に操作スイッチ9を設けることに代えて、供給ユニット20に足踏みペダルを設けてもよい。この場合、足踏みペダルを操作部とし、例えば、使用者が足踏みペダルを踏んだときに、供給源70からプラズマ発生用ガスをプラズマ発生部12に供給する構成を採用すること等ができる。
Further, the
上記の実施形態では、内部電極4の形状はねじ状であるが、内部電極と外部電極との間にプラズマを発生できれば、内部電極の形状は限定されない。
内部電極は、表面に凹凸を有してもよいし、表面に凹凸を有しなくてもよい。内部電極としては、外周面に凹凸を有する形状が好ましい。
内部電極の形状は、例えば、コイル状でもよいし、外周面に突起、穴、貫通孔が複数形成された棒形状又は筒形状でもよい。内部電極の断面形状としては、例えば、真円形、楕円形等の円形、四角形、六角形等の多角形を例示できる。
In the above embodiment, the shape of the internal electrode 4 is screw-shaped, but the shape of the internal electrode is not limited as long as plasma can be generated between the internal electrode and the external electrode.
The internal electrode may or may not have irregularities on the surface. The internal electrode preferably has a shape having irregularities on the outer peripheral surface.
The shape of the internal electrode may be, for example, a coil shape, or a rod shape or a tubular shape having a plurality of protrusions, holes, and through holes formed on the outer peripheral surface. Examples of the cross-sectional shape of the internal electrode include a circular shape such as a perfect circle and an ellipse, and a polygonal shape such as a quadrangle and a hexagon.
その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記の実施形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上記した変形例を適宜組み合わせてもよい。 In addition, it is possible to replace the constituent elements in the above-described embodiment with well-known constituent elements as appropriate without departing from the spirit of the present invention, and the above-mentioned modified examples may be appropriately combined.
本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマの効果をさらに高められる。このため、本発明のプラズマ式治療装置は、医療用治療器具又はヒトを除く動物治療用器具として好適である。
本発明の治療装置を用いた治療方法は、生体組織の治癒促進にも有効である。本発明の治療装置を用いた治療方法は、ヒトのみならず、ヒトを除く動物の治療にも有効である。
The plasma treatment apparatus of the present invention can further enhance the effect of plasma. Therefore, the plasma-type treatment device of the present invention is suitable as a medical treatment device or an animal treatment device other than humans.
The treatment method using the treatment device of the present invention is also effective in promoting healing of living tissues. The treatment method using the treatment device of the present invention is effective not only for the treatment of humans but also for the treatment of animals other than humans.
1…ノズル
1a…吐出口
3…管状誘電体(プラズマ発生部)
4…内部電極(プラズマ発生部)
5…外部電極(プラズマ発生部)
9…操作スイッチ
10…照射器具
12…プラズマ発生部
60,61,62,63,64,65,66,67,68…ガイド体
60a,62a,63a,64a,65a,66a,67a,68a…先端部
90…制御部
100…プラズマ式治療装置(活性ガス照射装置)
H…被照射体
1 ...
4 ... Internal electrode (plasma generator)
5 ... External electrode (plasma generator)
9 ...
H ... Irradiated body
Claims (11)
さらに、前記吐出口と前記プラズマ又は前記活性ガスが照射される被照射体とを離間させるガイド体を備え、
前記ガイド体が筒状であり、
前記ガイド体は、長さ方向における少なくとも一部が、前記ガイド体の先端部側に向かうに従って内径が漸次拡大するホーン形状であり、
前記ガイド体は、前記ホーン形状とされた部分が、複数の舌状片が離間して配置されてなる、プラズマ式治療装置。 An irradiation instrument including a plasma generating unit in which plasma is generated and a nozzle having a discharge port for discharging one or both of the plasma and the active gas generated by the plasma is provided.
Furthermore, Bei give a guide member for separating the irradiated body to the plasma or the active gas and the discharge port is irradiated,
The guide body has a cylindrical shape
The guide body has a horn shape in which at least a part in the length direction gradually increases in inner diameter toward the tip end side of the guide body.
The guide body is a plasma-type treatment device in which a portion having a horn shape is arranged with a plurality of tongue-shaped pieces separated from each other.
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