JP6741170B2 - 含フッ素エーテル化合物の製造方法、物品の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法に関する。

含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、ペルフルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合（−Ｏ−）が存在するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。

上記含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長時間維持されるのが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面処理剤として用いられる。
上記含フッ素エーテル化合物の製造方法としては、ヒドロシリル化触媒としての白金錯体の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物とアセトキシシラン等とを反応させる方法が知られている（特許文献１）。

国際公開第２０１７／０２２４３７号公報

近年、含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤を用いて形成されてなる表面層に求められる物性はさらに向上しており、具体的には、耐摩擦性に優れた表面層が求められている。
本発明者らが、特許文献１に記載の製造方法により得られた含フッ素エーテル化合物を用いて基材の表面に表面層を形成したところ、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれかの製造条件で表面層の耐摩擦性が不充分になる場合があることを知見した。

本発明は、上記課題に鑑みて、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造条件でも耐摩擦性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法の提供を目的とする。

本発明は、下記［１］〜［１０］の構成を有する含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法を提供する。
［１］ ヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物と、ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物とを反応させて、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する含フッ素エーテル化合物を含む混合物を得た後、前記混合物と細孔径が０．２〜１００ｎｍの吸着材とを接触させることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
［２］ 前記吸着材の細孔径が、０．５〜５０ｎｍである、［１］に記載の製造方法。
［３］ 前記吸着材が、合成吸着材、ゼオライト、活性炭またはアルミナである、［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］ 前記ヒドロシリル化触媒が、第８族〜第１０族遷移金属触媒である、［１］〜［３］のいずれかに記載の製造方法。

［５］ 前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物が、下記式（１）で表される化合物である、［１］〜［４］のいずれかに記載の製造方法。
［Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｑ （１）
ただし、Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋであり、Ａ^１が−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである場合ｊは１であり、
Ｑは（ｋ＋１）価の連結基であり、ｋは１〜１０の整数であり、
Ｚ^１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）であり、
Ｒ^ｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（Ｒ^ｆＯ）_ｍにおいて炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯが存在する場合、各Ｒ^ｆＯの結合順序は限定されず、
Ｚ^２は（ｊ＋ｑ）価の連結基であり、ｊ、ｑはそれぞれ１以上の整数である。

［６］ 前記ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物が、下記式（３）で表される化合物である、［１］〜［５］のいずれかに記載の製造方法。
Ｈ−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （３）
ただし、Ｒは１価の炭化水素基であり、Ｌは加水分解性基または水酸基であり、ｎは０〜２の整数であり、ｎが０または１である場合１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよく、ｎが２である場合１分子中に存在する２つのＲは互いに同じであっても異なっていてもよい。
［７］ 前記ｎが０または１であり、複数のＬがいずれも加水分解性基である、［６］に記載の製造方法。
［８］ 前記吸着材の使用量が、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物の全質量に対して、０．１〜３０質量％である、［１］〜［７］のいずれかに記載の製造方法。
［９］ 前記混合物と前記吸着材とを液状媒体中で接触させる、［１］〜［８］のいずれかに記載の製造方法。
［１０］ 前記［１］〜［９］のいずれかに記載の製造方法によって得られた含フッ素エーテル化合物を用いて、基材の表面に表面層を形成することを特徴とする物品の製造方法。

本発明によれば、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造条件でも耐摩擦性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物の製造方法および物品の製造方法を提供できる。

本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。式（１）で表される基を基（１）と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」「Ａ基を有していてもよいアルキレン基」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素原子−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよい。
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素原子−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「２価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるＲ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。また、ｇ１は、１以上の整数であり、１〜９の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。

「シルフェニレン骨格基」とは、−Ｓｉ（Ｒ^ｂ）_２ＰｈＳｉ（Ｒ^ｂ）_２−（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、Ｒ^ｂは１価の有機基である。）で表される基である。Ｒ^ｂとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）が好ましい。
「ジアルキルシリレン基」は、−Ｓｉ（Ｒ^ｃ）_２−（ただし、Ｒ^ｃはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。）で表される基である。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。

本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法（以下、「本製造方法」ともいう。）は、ヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物（以下、「化合物Ａ」ともいう。）と、ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物（以下、「化合物Ｂ」ともいう。）とを反応させて、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する含フッ素エーテル化合物（以下、「化合物Ｃ」ともいう。）を含む混合物を得た後、上記混合物と細孔径が０．２〜１００ｎｍの吸着材（以下、「特定吸着材」ともいう。）とを接触させる。
本明細書において、ヒドロシリル化触媒の存在下、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させて、化合物Ｃを得る工程を「合成工程」という。また、混合物と特定吸着材とを接触させる工程を「接触工程」という。
ここで、化合物Ｂは、１つのケイ素原子に、水素原子と、水酸基および加水分解性基の少なくとも一方と、が結合した化合物であってもよい。このような化合物Ｂの具体例としては、Ｈ−Ｓｉ（ＯＨ）（Ｒ^１）_２、Ｈ−Ｓｉ（ＯＨ）_２（Ｒ^１）、Ｈ−Ｓｉ（ＯＨ）_３、Ｈ−Ｓｉ（Ｌ^１）（Ｒ^１）_２、Ｈ−Ｓｉ（Ｌ^１）_２（Ｒ^１）、Ｈ−Ｓｉ（Ｌ^１）_３、Ｈ−Ｓｉ（ＯＨ）（Ｌ^１）（Ｒ^１）、Ｈ−Ｓｉ（ＯＨ）（Ｌ^１）_２、Ｈ−Ｓｉ（ＯＨ）_２（Ｌ^１）が挙げられる。式中、Ｒ^１は１価の炭化水素基を表し、Ｌ^１は加水分解性基を表す。

本発明者らは、ヒドロシリル化触媒が化合物Ｃとともに合成工程における反応系中に存在していると、これを用いて形成される表面層の耐摩擦性が劣る場合があることを知見した。これは、以下の理由によるものと推測される。
すなわち、化合物Ｃの加水分解反応によって生じたシラノール基同士の脱水縮合反応が、ヒドロシリル化触媒によって促進される場合がある。そうすると、化合物Ｃの加水分解によって生じるシラノール基が基材の表面処理を実施する前に消費されているので、化合物Ｃと基材との反応点が減少して、表面層と基材との密着性が低下すると推測される。これにより、表面層の耐摩擦性が低下したと推測される。
ここで、本発明者らは、ヒドロシリル化触媒（特に、白金触媒）が、系中においてナノオーダーサイズで存在している場合が多いことを知見している。
この知見に基づいて、細孔径を上記所定値以上に設定したことで、ヒドロシリル化触媒を特定吸着材の細孔内で捕捉できると考えられる。また、細孔径を上記所定値以下に設定したことで、特定吸着材の比表面積が大きくなって、多量のヒドロシリル化触媒を捕捉できると考えられる。このように、細孔径が所定値範囲内の特定吸着材を用いることによって、ヒドロシリル化触媒を系中から充分に除去できたため、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造条件でも耐摩擦性に優れる表面層が形成できたと推測される。

〔合成工程〕
（化合物Ａ）
化合物Ａが有するポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、（Ｒ^ｆＯ）_ｍ（ただし、Ｒ^ｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは２〜２００の整数であり、炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯからなるものであってもよい。）が好ましい。
（Ｒ^ｆＯ）_ｍの定義は、後段で詳述する。
化合物Ａはω−アルケニル基を複数有していてもよい。化合物Ａ中のω−アルケニル基の数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
ω−アルケニル基としては、アリル基、ビニル基、３−ブテニル基が挙げられる。

化合物Ａとしては、表面層の撥水撥油性がより優れる点で、化合物（１）が好ましい。
［Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｑ （１）
Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである。
ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
ただし、Ａ^１が−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである場合、ｊは１である。

ペルフルオロアルキル基としては、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）−等が挙げられる。
ペルフルオロアルキル基としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、ＣＦ_３−、ＣＦ_３ＣＦ_２−およびＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−が好ましい。

Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。ｋは１〜１０の整数である。よって、Ｑとしては、２〜１１価の連結基が挙げられる。
Ｑとしては、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、ならびに、後述する式（２−１）、式（２−２）および式（２−１−１）〜（２−１−６）から−ＣＨ＝ＣＨ_２を除いた基が挙げられる。

Ｚ^１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基中のオキシフルオロアルキレン基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）である。オキシフルオロアルキレン基またはポリ（オキシフルオロアルキレン）基の炭素数は１〜１０が好ましい。

Ｚ^１としては、化合物を製造しやすい点から、単結合、−ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−および−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−が好ましい（なお、上記式中、左側がＡ^１−Ｏに結合する。）。Ｚ^１としては、単結合および−ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ−が特に好ましい。

Ｒ^ｆは、ペルフルオロアルキレン基である。
ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜６が好ましい。
ペルフルオロアルキレン基は、分岐鎖状であってもよいが、表面層の撥水撥油性により優れる点から、直鎖状が好ましい。
なお、複数のＲ^ｆは、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（Ｒ^ｆＯ）_ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯから構成されていてもよい。

ｍは、２〜２００の整数であり、５〜１５０の整数が好ましく、１０〜１００の整数が特に好ましい。ｍが上記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性がより優れる。ｍが上記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性がより優れる。

（Ｒ^ｆＯ）_ｍにおいて、炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯが存在する場合、各Ｒ^ｆＯの結合順序は限定されない。たとえば、２種のＲ^ｆＯが存在する場合、２種のＲ^ｆＯがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
（Ｒ^ｆＯ）_ｍとしては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１６、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１７、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１８（ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１９（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が好ましく、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１２（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１３（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１４｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１５（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１８（ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１９（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が特に好ましい。
ただし、ｍ１１およびｍ１２は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ０または１以上の整数であり、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４は２〜２００の整数であり、ｍ１１個のＣＦ_２Ｏ、ｍ１２個のＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ１３個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ、ｍ１４個のＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏの結合順序は限定されない。ｍ１６およびｍ１７は、それぞれ２〜２００の整数であり、ｍ１５、ｍ１８およびｍ１９は、１〜９９の整数である。

Ｚ^２は、（ｊ＋ｑ）価の連結基である。
Ｚ^２としては、たとえば、エーテル性酸素原子または２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２〜８価のオルガノポリシロキサン残基、ならびに、後述する式（２−１）、式（２−２）および式（２−１−１）〜（２−１−６）から−ＣＨ＝ＣＨ_２を除いた基が挙げられる。
ｊは、１以上の整数であり、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、１〜５の整数が好ましく、化合物を製造しやすい点から、１が特に好ましい。
ｑは、１以上の整数であり、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、２〜４の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が特に好ましい。

化合物（１）としては、表面層の撥水撥油性がより優れる点から、化合物（１−１）が好ましい。
Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−Ｚ^３ （１−１）
式（１−１）中、Ａ^１、Ｚ^１、Ｒ^ｆおよびｍの定義は、式（１）中の各基の定義と同義である。

Ｚ^３は、基（２−１）または基（２−２）である。
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^ａ−Ｘ（−Ｑ^ｂ−ＣＨ＝ＣＨ_２）_ｈ（−Ｒ^７）_ｉ （２−１）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^７１−［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（−Ｑ^７２−ＣＨ＝ＣＨ_２）］_ｙ−Ｒ^７２ （２−２）

Ｒ^ｆ７は、ペルフルオロアルキレン基である。
ペルフルオロアルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜６が特に好ましい。 ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
Ｒ^ｆ７としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−および−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−が好ましい。

Ｑ^ａは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−Ｎ（Ｒ^ｄ）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２−および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^ａは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。Ｒ^ｄは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−、アルキレン基−Ｏ−アルキレン基、アルキレン基−ＯＣ（Ｏ）−アルキレン基、アルキレン基−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２−フェニレン基−Ｓｉ（Ｒ^ａ）_２が挙げられる。

Ｘは、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または２〜８価のオルガノポリシロキサン残基である。
なお、上記アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
Ｘで表されるアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０が特に好ましい。
２〜８価のオルガノポリシロキサン残基としては、２価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。

Ｑ^ｂは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基の定義は、上述したＱ^ａで説明した定義と同義である。

Ｒ^７は、水酸基またはアルキル基である。
アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が特に好ましい。

Ｘが単結合またはアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
Ｘが窒素原子の場合、ｈは１〜２の整数であり、ｉは０〜１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
Ｘが炭素原子またはケイ素原子の場合、ｈは１〜３の整数であり、ｉは０〜２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
Ｘが２〜８価のオルガノポリシロキサン残基の場合、ｈは１〜７の整数であり、ｉは０〜６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１〜７を満たす。
（−Ｑ^ｂ−ＣＨ＝ＣＨ_２）が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｑ^ｂ−ＣＨ＝ＣＨ_２）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^７が２個以上ある場合は、２個以上の（−Ｒ^７）は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｑ^７１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｒ^７１は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。
アルキル基としては、メチル基が好ましい。

Ｑ^７２は、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑ^７２は、単結合または−ＣＨ_２−が好ましい。

Ｒ^７２は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。

ｙは、１〜１０の整数であり、１〜６の整数が好ましい。
２個以上の［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（−Ｑ^７２−ＣＨ＝ＣＨ_２）］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（２−１）としては、基（２−１−１）〜（２−１−６）が好ましい。
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^１）_ｐ−Ｑ^１−ＣＨ＝ＣＨ_２ （２−１−１）
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^２）_ｒ１−Ｑ^２１−Ｎ［−（Ｑ^２２）_ｒ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］_２ （２−１−２）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^３１−Ｇ（Ｒ^３）［−（Ｑ^３２）_ｃ−ＣＨ＝ＣＨ_２］_２ （２−１−３）
−Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｓ−Ｑ^４１−（Ｏ）_ｔ−Ｃ［−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］_３ （２−１−４）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^５１−Ｓｉ［−（Ｑ^５２）_ｅ−ＣＨ＝ＣＨ_２］_３ （２−１−５）
−Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｖ１−Ｑ^６１−Ｚ^３［−（Ｑ^６２）_ｖ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｗ （２−１−６）
なお、式（２−１−１）〜（２−１−６）中のＲ^ｆ７の定義は、上述した通りである。

Ｘ^１は、−Ｏ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−である（ただし、式中のＮはＱ^１に結合する）。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｐは、０または１である。

Ｑ^１は、単結合、または、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、−Ｏ−、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、炭素原子−炭素原子間に−Ｏ−を有することが好ましい。また、アルキレン基が、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｘ^１）_ｐと結合する側とは反対側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑ^１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。

Ｑ^１としては、ｐが０の場合は、単結合、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２−が好ましい。（Ｘ^１）_ｐ１がエーテル性酸素原子の場合は、−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましい。（Ｘ^１）_ｐ１が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−の場合は、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましい（ただし、式中のＮはＱ^１に結合する）。Ｑ^１がこれらの基であると化合物が製造しやすい。

基（２−１−１）の具体例としては、以下の基が挙げられる。

Ｘ^２は、−Ｏ−、−ＮＨ−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−である。
Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。

Ｑ^２１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−もしくは−ＮＨ−を有する基である。
Ｑ^２１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^２１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−もしくは−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^２１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＮに結合する。）。

ｒ１は、０または１（ただし、Ｑ^２１が単結合の場合は０である。）である。化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。
ｒ２は、０または１である。

Ｑ^２２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−ＮＨ−を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＮと結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^２２で表される２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^２２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子または−ＮＨ−を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｑ^２２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側が−ＣＨ＝ＣＨ_２に結合する。）。
２個の［−（Ｑ^２２）_ｒ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（２−１−２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。

Ｑ^３１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
Ｑ^３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^３１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。

Ｇは、炭素原子またはケイ素原子である。
Ｒ^３は、水酸基またはアルキル基である。Ｒ^３で表されるアルキル基の炭素数は、１〜４が好ましい。
ｃは、０または１である。
Ｇ（Ｒ^３）としては、化合物を製造しやすい点から、Ｃ（ＯＨ）およびＳｉ（Ｒ^３ａ）（ただし、Ｒ^３ａはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１〜１０が好ましく、メチル基が特に好ましい。）が好ましい。

Ｑ^３２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＧと結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^３２で表される２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^３２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^３２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。
２個の［−（Ｑ^３２）_ｃ−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（２−１−３）の具体例としては、以下の基が挙げられる。

式（２−１−４）中のＲ^ｄの定義は、上述した通りである。
ｓは、０または１である。
Ｑ^４１は、単結合、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^４１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^４１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
ｔは、０または１（ただし、Ｑ^４１が単結合の場合は０である。）である。
−Ｑ^４１−（Ｏ）_ｔ−としては、化合物を製造しやすい点から、ｓが０の場合は、単結合、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましく（ただし、左側がＲ^ｆ７に結合する。）、ｓが１の場合は、単結合、−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。

Ｑ^４２は、アルキレン基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基であり、上記アルキレン基は−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−〔Ｒ^ｄの定義は、上述した通りである。〕、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
なお、アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、炭素原子−炭素原子間に−Ｏ−を有することが好ましい。また、アルキレン基が−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）−、ジアルキルシリレン基または２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｏ）_ｕ１と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。また、アルキレン基がシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子−炭素原子間または（Ｏ）_ｕ１と結合する側とは反対側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
Ｑ^４２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。

ｕ１は、０または１である。
ｕ２は、０または１である。
−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−としては、化合物を製造しやすい点から、単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−、−ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＰｈＳｉ（ＣＨ_３）_２−が好ましい（ただし、右側が−ＣＨ＝ＣＨ_２に結合する。）
３個の［−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（２−１−４）の具体例としては、以下の基が挙げられる。

Ｑ^５１は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^５１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^５１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^５１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。

ｅは、０または１である。
Ｑ^５２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＳｉと結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^５２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^５２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^５２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側が−ＣＨ＝ＣＨ_２に結合する。）。
３個の［−（Ｑ^５２）_ｅ−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

基（２−１−５）の具体例としては、以下の基が挙げられる。

式（２−１−６）中のＲ^ｄの定義は、上述の通りである。
ｖ１は、０または１である。

Ｑ^６１は、アルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
Ｑ^６１で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^６１で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^６１としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい（ただし、右側がＺ^３に結合する。）。

Ｚ^３は、（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基である。
ｗは、２〜７の整数である。
（ｗ＋１）価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲ^ａは、上述の通りである。

ｖ２は、０または１である。
Ｑ^６２は、２価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、または、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。
なお、アルキレン基が２価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子−炭素原子間またはＺ^３と結合する側とは反対側の末端にこの基を有することが好ましい。
Ｑ^６２で表されるアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。
Ｑ^６２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６が特に好ましい。
Ｑ^６２としては、化合物を製造しやすい点から、−ＣＨ_２−が好ましい。
ｗ個の［−（Ｑ^６２）_ｖ２−ＣＨ＝ＣＨ_２］は、同一であっても異なっていてもよい。

（化合物Ｂ）
化合物Ｂ中におけるケイ素原子に結合した水素原子の数は、１〜３が好ましく、１が特に好ましい。

化合物Ｂとしては、化合物（３）が好ましい。
Ｈ−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （３）

Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。

Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。ケイ素原子に結合した水酸基は、さらにケイ素原子に結合した水酸基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、ケイ素原子に結合した水酸基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できる。

Ｌとしては加水分解性基が好ましく、加水分解性基としてはアルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基およびハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物３の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物３の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。

ｎは、０〜２の整数である。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが０または１である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する２つのＲは互いに同じであっても異なっていてもよい。

化合物（３）としては、Ｈ−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、Ｈ−ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、Ｈ−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、Ｈ−ＳｉＣｌ_３、Ｈ−Ｓｉ（ＯＣ（Ｏ）ＣＨ_３）_３およびＨ−Ｓｉ（ＮＣＯ）_３が好ましい。

（化合物Ｃ）
化合物Ｃは、化合物の保存安定性がより優れる点から、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有することが好ましい。
化合物Ｃの数平均分子量は、５００〜２０，０００が好ましく、８００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜８，０００が特に好ましい。数平均分子量が該範囲内であれば、表面層の耐摩擦性に優れる。

化合物Ｃとしては、化合物（４）が好ましい。
［Ａ^２−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｑ （４）
式（４）中、Ａ^２は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｋである。
ただし、Ａ^２が−Ｑ［−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｋである場合、ｊは１である。
他の各基の定義は、上述した通りである。

化合物（４）としては、化合物（４−１）が好ましい。
Ａ^２−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−Ｚ^４ （４−１）
式（４−１）中、Ａ^２、Ｚ^１、Ｒ^ｆ、および、ｍの定義は、上述した通りである。

Ｚ^４は、基（５−１）または基（５−２）である。
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^ａ−Ｘ（−Ｑ^ｂ−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ）_ｈ（−Ｒ^７）_ｉ （５−１）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^７１−［ＣＨ_２Ｃ（Ｒ^７１）（−Ｑ^７２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ）］_ｙ−Ｒ^７２ （５−２）
なお、式（５−１）および（５−２）中の各基の定義は、上述した通りである。

さらに、基（５−１）としては、基（５−１−１）〜（５−１−６）が好ましい。
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^１）_ｐ−Ｑ^１−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （５−１−１）
−Ｒ^ｆ７−（Ｘ^２）_ｒ１−Ｑ^２１−Ｎ［−（Ｑ^２２）_ｒ２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_２ （５−１−２）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^３１−Ｇ（Ｒ^３）［−（Ｑ^３２）_ｃ−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_２ （５−１−３）
−Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｓ−Ｑ^４１−（Ｏ）_ｔ−Ｃ［−（Ｏ）_ｕ１−（Ｑ^４２）_ｕ２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_３ （５−１−４）
−Ｒ^ｆ７−Ｑ^５１−Ｓｉ［−（Ｑ^５２）_ｅ−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_３ （５−１−５）
−Ｒ^ｆ７−［Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｄ）］_ｖ１−Ｑ^６１−Ｚ^３［−（Ｑ^６２）_ｖ２−Ｃ_２Ｈ_４−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ］_ｗ （５−１−６）
なお、式（５−１−１）〜（５−１−６）中の各基の定義は、上述した通りである。

（ヒドロシリル化触媒）
ヒドロシリル化触媒としては、遷移金属触媒が好ましく、第８族〜第１０族遷移金属触媒がより好ましく、白金（Ｐｔ）触媒、ルテニウム（Ｒｕ）触媒、ロジウム（Ｒｈ）触媒および鉄（Ｆｅ）触媒がさらに好ましく、ヒドロシリル化反応がより進行する点から、Ｐｔ触媒およびＦｅ触媒が特に好ましく、特定吸着材によって除去しやすい点から、Ｐｔ触媒が最も好ましい。なお、第８族〜第１０族とは、ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版（１９８９年）による族番号である。
Ｐｔ触媒の具体例としては、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体、ジビニルテトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンのＰｔ錯体、塩化白金酸、酸化白金が挙げられる。
Ｆｅ触媒の具体例としては、国際公開第２０１６／０２７８１９号に記載のヒドロシリル化鉄触媒が挙げられる。
ヒドロシリル化触媒の使用量としては、化合物Ａおよび化合物Ｂの合計量に対して、０．００００１〜０．１質量％が好ましく、０．００１〜０．０２質量％が特に好ましい。

（他の成分）
合成工程においては、上述した成分以外の成分を用いてもよい。
たとえば、合成工程においては、液状媒体を用いてもよい。つまり、液状媒体の存在下にて、化合物Ａと化合物Ｂとの反応を実施してもよい。
液状媒体としては、化合物Ａ、化合物Ｂおよび化合物Ｃを溶解しうる有機溶媒が好ましい。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
有機溶媒の含水率は、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましい。

フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化アルカンは、炭素数４〜８の化合物が好ましく、たとえば、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ−６０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、ＡＧＣ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。

非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。

また、合成工程においては、転位防止剤を用いてもよい。つまり、転位防止剤の存在下にて、化合物Ａと化合物Ｂとの反応を実施してもよい。転位防止剤としては、国際公開第２０１４／０６９５９２号の段落０１１５に記載の化合物が挙げられる。

化合物Ａと化合物Ｂとを反応させる際には、ヒドロシリル化触媒と化合物Ａと化合物Ｂとを混合して、必要に応じて、加熱処理を施して、反応を行う。
ヒドロシリル化触媒と化合物Ａと化合物Ｂとの混合方法は、一括して各成分を混合してもよいし、分割して各成分を混合してもよい。なお、成分の混合順も特に限定されない。 化合物Ａと化合物Ｂの混合比としては、化合物の構造によって最適な比が選択されるが、化合物Ａ中のω−アルケニル基のモル数に対する、化合物Ｂ中のケイ素原子に結合した水素原子のモル数の比（水素原子／ω−アルケニル基）が１．０〜３．０であることが好ましい。
化合物Ａと化合物Ｂとを反応させる際の反応温度としては、０〜１００℃が好ましく、５０〜８０℃が特に好ましい。反応時間としては、３０〜６００分間が好ましく、６０〜３００分間が特に好ましい。

なお、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させた後、必要に応じて、得られた化合物Ｃ中の加水分解性基の種類を変更する反応を実施してもよい。たとえば、化合物Ａと化合物Ｂとを反応させて加水分解性基としてハロゲン原子を有する化合物Ｃを得た後、ハロゲン原子をアルコキシ基に変更する反応を実施してもよい。

上記のように、合成工程によって、化合物Ｃを含む混合物が得られる。ここで、合成工程で得られた混合物には、化合物Ｃの他にヒドロシリル化触媒が含まれる。合成工程で得られた混合物には、化合物Ｃおよびヒドロシリル化触媒以外にも、合成工程で生成した副生成物等の不純物を含んでいてもよい。

〔接触工程〕
（特定吸着材）
特定吸着材の細孔径は、０．２〜１００ｎｍであり、表面層の耐摩擦性がより優れる点から、０．３〜７０ｎｍが好ましく、０．３〜５０ｎｍがより好ましく、０．５〜５０ｎｍが特に好ましい。
特定吸着材の細孔径は、たとえば、ガス吸着法を測定原理とする細孔分布測定装置（たとえば、アサップ２０２０：製品名、島津製作所製）によって測定できる。なお、特定吸着材が市販品であって、細孔径のカタログ値がある場合には、カタログ値を採用することもできる。

吸着材の具体例としては、合成吸着材、ゼオライト、活性炭、アルミナ、シリカゲル、シリカ（たとえば、メソポーラスシリカ）、シリカ−アルミナ（シリカとアルミナとの複合酸化物）、チタニア（たとえば、メソポーラスチタニア）、マグネシア（たとえば、多孔質マグネシア）が挙げられる。これらの中でも、ヒドロシリル化触媒の吸着性により優れる点から、合成吸着材、ゼオライト、活性炭、アルミナが好ましい。特に、合成吸着材は、活性炭等と比較して、粉末による化合物Ｃの汚染を抑制できる点で好ましい。
吸着材は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。

合成吸着材とは、合成樹脂を用いた吸着材を意味する。合成吸着材としては、たとえば、スチレン、ジビニルベンゼン、（メタ）アクリル酸エステル等の１種以上の単量体を重合し、架橋反応を経て得られた合成樹脂が挙げられる。
合成吸着材は市販品であってもよく、たとえば、ピュロライト社製のＰｕｒｏＳｏｒｂ ＰＡＤ３００（細孔径２８ｎｍ）、ＰＡＤ３５０（細孔径３５ｎｍ）、ＰＡＤ４００（細孔径４０ｎｍ）、ＰＡＤ５００（細孔径５０ｎｍ）、ＰＡＤ５５０（細孔径６０ｎｍ）、ＰＡＤ６００（細孔径６３ｎｍ）、ＰＡＤ６１０（細孔径７０ｎｍ）、ＰＡＤ７００（細孔径７０ｎｍ）、ＰＡＤ９００（１００ｎｍ）が挙げられる。

ゼオライトとしては、たとえば、Ａ型（たとえば、モレキュラーシーブ３Ａ、モレキュラーシーブ４Ａ、モレキュラーシーブ５Ａ）、フェリエライト型、ＺＳＭ−５型、ベータ型、モルデナイト型、Ｌ型、Ｘ型、Ｙ型ゼオライトが挙げられる。ゼオライトは、天然であっても合成であってもよい。
ゼオライトは市販品であってもよく、たとえば、Ａｃｒｏｓ社製のモレキュラーシーブ３Ａ（細孔径０．３ｎｍ）、東ソー社製のＨＳＺ−９００（細孔径０．６５ｎｍ）、ＨＳＺ−８００（細孔径０．５８ｎｍ）、ＨＳＺ−７００（細孔径０．４８ｎｍ）、ＨＳＺ−６００（細孔径０．７ｎｍ）、ＨＳＺ−５００（細孔径０．８ｎｍ）、ＨＳＺ−３００（細孔径０．９ｎｍ）が挙げられる。

活性炭は市販品であってもよく、たとえば、Ａｃｒｏｓ社製の活性炭素（細孔径２ｎｍ）、大阪ガスケミカル社製の白鷺Ｃ（細孔径２ｎｍ）、白鷺Ｍ（細孔径２ｎｍ）、粒状白鷺ＫＬ（細孔径３ｎｍ）、カルボラフィン（細孔径３ｎｍ）が挙げられる。

アルミナの具体例としては、α−アルミナ、θ−アルミナ、γ−アルミナが挙げられる。
アルミナは市販品であってもよく、たとえば、日本軽金属社製のＣ２０（細孔径８．５ｎｍ）、Ｃ４０（細孔径１８ｎｍ）、Ｃ５０（細孔径１３ｎｍ）が挙げられる。

吸着材の含水率は５．０質量％以下が好ましく、表面層の粒状物の発生がより抑制される点および耐摩擦性がより優れる点の少なくとも一方が得られる点で、０．５質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が特に好ましい。また、吸着材の含水率は、０．００１質量％以上の場合が多い。
吸着材の含水率は、吸着材全質量中における水の質量割合であり、乾燥減量法等によって測定できる。
なお、上記吸着材は、本製造方法の使用時に上記含水率の範囲を満たしていればよく、保管時等の使用前においては吸着材の含水率は上記範囲外（たとえば、２〜３質量％）であってもよい。
吸着材を使用する際には、たとえば、含水率が上記範囲超（１．０質量％超）の吸着材に対して脱水処理を施して、所定の含水率の吸着材とした後、本製造方法に適用してもよい。
上記脱水処理の方法としては、たとえば、吸着材に対して水含有量が少ないガス（たとえば、露点が０℃以下の窒素）を吹き付ける方法、吸着材を加熱する方法、減圧吸引する方法等が挙げられる。

接触工程によって、合成工程で得られた混合物中のヒドロシリル化触媒の少なくとも一部が除去されていればよく、ヒドロシリル化触媒の全てが除去されていてもよい。
混合物と特定吸着材とを接触させる方法としては、混合物と特定吸着材とを混合する方法や、特定吸着材が充填されたフィルタに混合物を流通させる方法が挙げられる。
混合物と特定吸着材とを接触させる際には、混合物と特定吸着材とを直接接触させてもよいし、混合物を液状媒体に溶解または分散させた溶液を調製し、得られた溶液と特定吸着材とを接触させてもよい。
使用される液状媒体は混合物中の化合物Ｃを溶解または分散できる液状媒体であればよく、上述の化合物Ｃを溶解しうる有機溶媒が好ましく、フッ素系有機溶媒が特に好ましい。フッ素系有機溶媒の具体例は上述した通りである。

化合物Ｃと特定吸着材とを接触させる際に、特定吸着材の使用量は、化合物Ｃの全質量に対して、０．１〜３０質量％が好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。
接触時間としては、本発明の効果がより優れる点で、０．１〜１８０分間が好ましく、１〜６０分間が特に好ましい。
接触時の温度としては、本発明の効果がより優れる点で、０〜４０℃が好ましく、１０〜３０℃が特に好ましい。

〔物品の製造方法〕
本製造方法によって得られた化合物Ｃを用いて、基材の表面に表面層を形成できる。
より具体的には、上記化合物Ｃまたは化合物Ｃと液状媒体とを含む組成物（以下、「組成物」ともいう。）を用いることにより、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造条件でも、基材の表面に耐摩擦性に優れる表面層を形成できる。つまり、基材と、基材の表面に配置された上記化合物Ｃまたは組成物から形成されてなる表面層と、を有する物品を製造できる。
なお、組成物中の化合物Ｃの含有量は、組成物の全質量に対して、０．０１〜５０．００質量％が好ましく、１．０〜３０．００質量が特に好ましい。
組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、５０．００〜９９．９９質量％が好ましく、７０．００〜９９．００質量％が特に好ましい。

基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材は、ＳｉＯ_２等で表面処理されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材がより好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。

上記物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物Ｃまたは組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、上記物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって組成物を基材の表面に塗布し、乾燥させて、上記物品を得る方法。

ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、化合物Ｃの分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に化合物Ｃまたは組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。

上記手順によって形成される表面層には、化合物Ｃの加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれる。
表面層の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＡＴＸ−Ｇ：製品名、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、各成分の配合量は、質量基準を示す。例１〜７のうち、例２〜６が実施例、例１および７が比較例である。

〔評価方法〕
（吸着材の含水率）
試料を減圧雰囲気（約１ｋＰａ）にてオーブンにより加熱乾燥（７０℃、２４時間）し、加熱乾燥前後の質量を測定して算出した。
（接触角の測定方法）
表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水またはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（ＤＭ−５００：製品名、協和界面科学社製）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

＜初期接触角＞
表面層について、水およびｎ−ヘキサデカンの初期接触角を上記測定方法で測定した。評価基準は以下の通りである。
＜＜水の初期接触角＞＞
◎（優） ：１１５度以上
○（良） ：１１０度以上１１５度未満
△（可） ：１００度以上１１０度未満
×（不可）：１００度未満
＜＜ｎ−ヘキサデカンの初期接触角＞＞
◎（優） ：６６度以上
○（良） ：６５度以上６６度未満
△（可） ：６３度以上６５度未満
×（不可）：６３度未満

（耐摩擦性）
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（＃００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１５，０００回往復させた後、水の接触角を測定した。摩擦後における水の接触角の低下が小さいほど、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
◎（優） ：１万回往復後の水接触角度の変化が５度以下
○（良） ：１万回往復後の水接触角度の変化が５度超１０度以下
△（可） ：１万回往復後の水接触角度の変化が１０度超２０度以下
×（不可）：１万回往復後の水接触角度の変化が２０度超

〔例１〕
国際公開第２０１７／０２２４３７号の合成例３に記載の方法に従って、化合物（Ｃ−１）を合成した。具体的には、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物（以下のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体（Ｂ−１）と、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有する化合物であるトリクロロシランとを、ヒドロシリル化触媒である１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体存在下で反応させ、次いで得られた化合物の塩素原子をメトキシ基に置換させて化合物（Ｃ−１）を含む混合物を得た。

〔例２〕
まず、例１と同様にして得られた化合物（Ｃ−１）を含む混合物の２ｇを、ＡＣ−６０００（ＡＧＣ社製）（含水率：１０ｐｐｍ）に溶解させて、化合物（Ｃ−１）を含む混合物の含有量が１質量％の接触用溶液を調製した。
また、吸着材としてＡ型ゼオライト（モレキュラーシーブス３Ａ：製品名、Ａｃｒｏｓ社製、細孔径０．３ｎｍ、含水率０．５質量％）を準備した。
次に、３０ｇのＡ型ゼオライトが充填されたカラム（直径３０ｍｍ）に、Ａ型ゼオライトと接触用溶液とが接触するように接触用溶液を通過させた後（接触工程）、接触用溶液を回収した。回収した接触用溶液中のＡＣ−６０００を留去して、化合物（Ｃ−１）の１．６ｇを得た。

〔例３〜７〕
吸着材として、モルデナイト型ゼオライト（ＨＳＺ−６００：製品名、東ソー社製、細孔径０．７ｎｍ、含水率０．４質量％）、活性炭（活性炭素：製品名、Ａｃｒｏｓ社製、細孔径２ｎｍ、含水率０．７質量％）、θ−アルミナ（Ｃ４０：製品名、日本軽金属社製、細孔径１８ｎｍ、含水率０．５質量％）、合成吸着材１（ＰｕｒｏＳｏｒｂ ＰＡＤ５００：製品名、ピュロライト社製、細孔径６０ｎｍ、含水率０．１質量％）、合成吸着材２（ＰｕｒｏＳｏｒｂ ＰＡＤ９１０：製品名、ピュロライト社製、細孔径１１０ｎｍ、含水率０．２質量％）をそれぞれ用いた以外は、例２と同様の方法にて、化合物（Ｃ−１）をそれぞれ得た。

〔評価サンプルの作製〕
各例により得られた化合物（Ｃ−１）を用いて、以下のドライコーティング法またはウェットコーティング法にて基材の表面処理を行い、基材（化学強化ガラス）の表面に表面層が形成されてなる評価サンプルを得た。
得られた評価サンプルを用いて、上記の評価試験を実施し、結果を表１に示す。

（ドライコーティング法）
基材に対するドライコーティングは、真空蒸着装置（ＶＴＲ−３５０Ｍ：製品名、ＵＬＶＡＣ社製）を用いて行った。具体的には、まず、各例により得られた化合物（Ｃ−１）の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン性ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０^−３Ｐａ以下に排気した。化合物（Ｃ−１）を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への成膜を開始した。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材表面への成膜を終了した。化合物（Ｃ−１）が堆積した基材を、２００℃で３０分間加熱処理した後、ジクロロペンタフルオロプロパン（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ−２２５：製品名、ＡＧＣ社製）にて洗浄して、基材の表面に表面層を有する評価サンプル（物品）を得た。

（ウェットコーティング法）
各例で得た化合物（Ｃ−１）と、ノベック−７２００とを混合して、化合物（Ｃ−１）の濃度が０．０５質量％であるウェットコーティング用の組成物を得た。
各組成物に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ−２２５にて洗浄することによって、基材の表面に表面層を有する評価サンプル（物品）を得た。

表１の通り、細孔径が０．２〜１００ｎｍの吸着材と接触させた含フッ素エーテル化合物を用いると、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれの製造条件でも、耐摩擦性に優れた表面層を形成できることが確認された（例２〜６）。
一方、吸着材と接触させていない含フッ素エーテル化合物、または、細孔径が０．２〜１００ｎｍの範囲外の吸着材と接触させた含フッ素エーテル化合物を用いると、ドライコーティングおよびウェットコーティングのいずれかの製造条件で得られる表面層の耐摩擦性が劣ることが確認された（例１および７）。

なお、実施例２、３、４で使用した吸着材を用いた場合、実施例1に比べ着色した溶液が得られることがある。これは、吸着材に残留していた不純物成分が影響したものと思われる。ゼオライトや活性炭を使用する際は溶媒（好ましくは接触させる際に用いる溶媒）で事前に洗浄した吸着材を使用することが望ましい。

本製造方法で得られた含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置のコート、透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート、導通しながら撥液が必要な部材へのコート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器のコート、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材のコート、配線板用防水コーティング、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
なお２０１７年１０月３１日に出願された日本特許出願２０１７−２１０６９３号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (10)

1. ヒドロシリル化触媒の存在下、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物と、ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物とを反応させて、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する含フッ素エーテル化合物を含む混合物を得た後、前記混合物をフッ素系有機溶媒に溶解または分散させた溶液を調製し、前記溶液と細孔径が０．２〜１００ｎｍの吸着材とを接触させることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
2. 前記溶液を、前記吸着材が充填されたカラムを通過させ接触させる、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物の製造方法。
3. 前記吸着材の細孔径が、０．５〜５０ｎｍである、請求項１または２に記載の製造方法。
4. 前記吸着材が、合成吸着材、ゼオライト、活性炭またはアルミナである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
5. 前記ヒドロシリル化触媒が、第８族〜第１０族遷移金属触媒である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
6. 前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物が、下記式（１）で表される化合物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
   ［Ａ^１−Ｏ−Ｚ^１−（Ｒ^ｆＯ）_ｍ−］_ｊＺ^２［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｑ （１）
   ただし、Ａ^１は、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋであり、Ａ^１が−Ｑ［−ＣＨ＝ＣＨ_２］_ｋである場合ｊは１であり、
   Ｑは（ｋ＋１）価の連結基であり、ｋは１〜１０の整数であり、
   Ｚ^１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基（ただし、オキシペルフルオロアルキレン基を除く。上記オキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。）、または、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基（（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基中の酸素原子は、（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合する。（Ｒ^ｆＯ）_ｍに結合するオキシフルオロアルキレン基は、１個以上の水素原子を含む。ポリ（オキシフルオロアルキレン）基には、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたオキシペルフルオロアルキレン基と、１個以上の水素原子を含むオキシフルオロアルキレン基との両方が含まれていてもよい。）であり、
   Ｒ^ｆはペルフルオロアルキレン基であり、ｍは、２〜２００の整数であり、（Ｒ^ｆＯ）_ｍにおいて炭素数の異なる２種以上のＲ^ｆＯが存在する場合、各Ｒ^ｆＯの結合順序は限定されず、
   Ｚ^２は（ｊ＋ｑ）価の連結基であり、ｊ、ｑはそれぞれ１以上の整数である。
7. 前記ケイ素原子に結合した水素原子ならびにケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基の少なくとも一方を有する化合物が、下記式（３）で表される化合物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
   Ｈ−ＳｉＲ_ｎＬ_３−ｎ （３）
   ただし、Ｒは１価の炭化水素基であり、Ｌは加水分解性基または水酸基であり、ｎは０〜２の整数であり、ｎが０または１である場合１分子中に存在する複数のＬは互いに同じであっても異なっていてもよく、ｎが２である場合１分子中に存在する２つのＲは互いに同じであっても異なっていてもよい。
8. 前記ｎが０または１であり、複数のＬがいずれも加水分解性基である、請求項７に記載の製造方法。
9. 前記吸着材の使用量が、前記ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖およびω−アルケニル基を有する化合物の全質量に対して、０．１〜３０質量％である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法によって得られた含フッ素エーテル化合物を用いて、基材の表面に表面層を形成することを特徴とする物品の製造方法。