JP6435871B2 - パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤 - Google Patents

Description

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、含フッ素化合物とを含んでなる表面処理剤に関する。

ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。このパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤を基材に適用すると、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基が基材との間および化合物間で反応して、表面処理層を形成する

特開２００２−３４８３７０号公報 特開２０１２−７２２７２号公報

表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期にわたって提供するべく、高い耐久性が求められる。パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されており、とりわけこれらの用途において、摩擦耐久性の一層の向上が要求されている。

しかしながら、上記したような従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層では、次第に高まる摩擦耐久性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。

本発明は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性を有し、かつ、高い摩擦耐久性を有する層を形成することのできるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤に、官能基を有する含フッ素化合物を加えることにより、より優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の第１の要旨によれば、（１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：

［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎは、（−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^２が存在し；
Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表し；
Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義であり；
Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、一のＲ^ａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ^７２が存在し；
Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
および
（２）下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）のいずれかで表される少なくとも１種の含フッ素化合物：

［式中：
Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＲ^５、−ＣＯＳＨ、−ＣＯＮＨ_２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＮＲ^５ _２、

を表し；
Ｒ^５は、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｘ^１は、ＯまたはＳを表し；
Ｍ_１およびＭ_２は、それぞれ独立して、水素原子またはアルカリ金属を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
Ｘ^８は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
εは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ε’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
χは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
χ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７４ _ｐ’Ｒ^７５ _ｑ’Ｒ^７６ _ｒ’を表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表し；
Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義であり；
Ｒ^ｄ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^７５は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ^１０−Ｙ−Ａを表し；
Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^７６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、一のＲ^ｄにおいて、ｐ’、ｑ’およびｒ’の和は３であり、式（Ｆ１）および（Ｆ２）において、少なくとも１つのＲ^７５が存在し；
Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ^１０−Ｙ−Ａを表し；
Ｒ^ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、χを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
Ｘ^６は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
θは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
θ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^９１は、フッ素原子、−ＣＨＦ_２または−ＣＦ_３を表し；
Ｒｆ’は、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキレン基を表す。］
を含んでなる、表面処理剤が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、基材と該基材との表面に、上記本発明の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。

本発明によれば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と含フッ素化合物の混合物である、新規な表面処理剤が提供される。これらを用いることにより、撥水性、撥油性、防汚性、防水性を有し、かつ、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

以下、本発明の表面処理剤について説明する。

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されるものでないが、炭化水素基から１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本発明は、（１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：

および
（２）下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）のいずれかで表される少なくとも１種の含フッ素化合物：

を含んでなる表面処理剤を提供する（以下、「本発明の表面処理剤」ともいう）。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、パーフルオロ（ポリ）エーテル基に該当する。ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０または１以上の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和が少なくとも１であれば特に限定されるものではない。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数、例えば１以上２００以下の整数であり、より好ましくは、それぞれ独立して０以上１００以下の整数、例えば１以上１００以下の整数である。さらに好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−である。

さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^８）_ｎ”−で表される基である。式中、Ｒ^１１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｎ”は、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｎ”−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｎ”−である。これらの式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８は、それぞれ好ましくは、ＯＣＦ_２ＣＦ_２、ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２およびＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２である。

上記式（Ａ１）、（Ｂ１）および（Ｃ１）中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

好ましくは、Ｒ^２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^１１は各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子、フッ素原子である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^１２は各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、ｎは、（−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^２が存在する。換言すれば、式中すべてのｎが０になることはない。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。好ましい態様において、Ｘ^２は、単結合または−（ＣＨ_２）_ｓ−（式中、ｓは、１または２である）である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）におけるＸ^４、（Ｂ１）および（Ｂ２）におけるＸ^５、（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＸ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。また、上記式中、α、βおよびγは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり、α’、β’およびγ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数である。当該Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２〜１０価の有機基であってもよい。Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７の価数に応じて、式中のα、βおよびγならびにα’、β’およびγ’は変化し得る。例えば、式（Ａ１）、（Ｂ１）および（Ｃ１）においては、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７の価数は、それぞれ、αとα’の和、βとβ’の和およびγとγ’の和と同じになる。例えば、Ｘ^４が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、式（Ａ２）、（Ｂ２）および（Ｃ２）においては、α、βおよびγは、それぞれ、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７の価数から１を引いた値である。例えば、Ｘ^４が２価の有機基の場合、αは１であり、Ｘ^４が１０価の有機基の場合αは９である。

好ましい態様において、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は２〜４価の有機基であり、α、βおよびγはそれぞれ１〜３であり、α’、β’およびγ’は１であり、より好ましくは、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は２価の有機基であり、α、βおよびγは１であり、α’、β’およびγ’は１である。

上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ”−（Ｘ^ａ）_ｑ”−
［式中：
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−（式中、ｓ’は、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−（式中、ｌ’は、１〜１０の整数である）を表し；
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍ’は１〜１００の整数である）、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−（式中、ｎ’は１〜２０の整数である）からなる群から選択される基を表し；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｐ”は、０または１であり；
ｑ”は、０または１であり；
ここに、ｐ”およびｑ”の少なくとも一方は１であり、ｐ”およびｑ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｒ^３１およびＸ^ａは、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。］
である基が挙げられる。

好ましくは、上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、それぞれ独立して、−（Ｒ^３１）_ｐ”−Ｘ^ａ’−Ｒ^３２−である。Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。上記Ｘ^ａ’は、上記Ｘ^ａからＲ^３２に対応する部分を除いた基である。ここに、Ｒ^３２は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、または
−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３１およびＲ^３２は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

より好ましくは、上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

さらに具体的には、上記Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７の例として、特に限定されるものではないが、例えば、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）₂Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、

などが挙げられる。

また、別のＸ^４、Ｘ^５およびＸ^７の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］

さらに別の態様において、Ｘ^４は、式：−（Ｒ^１６）_ｘ−（ＣＦＲ^１７）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^２６−（式中、Ｒ^２６は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１６は、酸素原子または２価の極性基である。

上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^２７）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^２７−（これらの式中、Ｒ^２７は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

この態様において、Ｘ^１は、好ましくは、式：−（Ｏ）_ｘ−（ＣＦ_２）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。

上記式：−（Ｏ）_ｘ−（ＣＦ_２）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）_ｘ’−（ＣＨ_２）_ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｚ’’’−Ｏ−］_{ｚ’’’’}、および−（Ｏ）_ｘ’−（ＣＦ_２）_ｙ”−（ＣＨ_２）_ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｚ’’’−Ｏ−］_{ｚ’’’’}（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｚ’’’’は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。

別のＸ^４の例として、−Ｏ−ＣＦＲ^１３−（ＣＦ_２）_ｅ−が挙げられる。式中、Ｒ^１３は、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、ｅは、０または１である。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。

さらに、別のＸ^４、Ｘ^５およびＸ^７の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）および（Ａ２）においては炭素原子、また、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてはＳｉ原子）に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基またはＣ_１−６アルコキシ基である。］

この態様において、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表す。

上記Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚは、好ましくは、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚは、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−（式中、ｓ’は、１〜６の整数であり、ｔ’は、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｕ’−（式中、ｕ’は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表す。

上記Ｒ^ａ’はＲ^ａと同意義である。

Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ａにおいて、Ｒ^７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ａ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

上記Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基は、上記Ｒ^２と同様の記載のものが挙げられる。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、一のＲ^ａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ^７２が存在する。

好ましい態様において、Ｒ^ａ中の末端のＲ^ａ’（Ｒ^ａ’が存在しない場合、Ｒ^ａ）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。ｑがこのような値を取ることにより、基材との接着力が向上し、耐久性が向上する。

上記式中、Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記Ｒ^ｂは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒ^ｂは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記式中、Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。

式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、当業者であれば当該分野で公知の技術を用いて適宜製造することができる。

例えば、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、国際公開第９７／０７１５５号に記載の方法により合成することができる。

例えば、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、特表２００８−５３４６９６号に記載の方法により合成することができる。

例えば、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、特開２０１４−２１８６３９号に記載の方法により合成することができる。

上記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）において、ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。これらは、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）について記載したものと同意義議である。

上記式中、Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＲ^５、−ＣＯＳＨ、−ＣＯＮＨ_２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＮＲ^５ _２、

を表す。好ましくは、−ＳＨ、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２−ＮＲ^５ _２、または

である。

上記式中、Ｒ^５は、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくは炭素数１〜３のアルキル基である。
上記Ｘ^１は、それぞれ独立して、ＯまたはＳを表す。
Ｍ_１およびＭ_２は、それぞれ独立して、水素原子またはアルカリ金属を表す。アルカリ金属は、例えばＬｉ、ＮａまたはＫなどが好ましい。

Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。好ましくは、Ｙは、単結合、または炭化水素基（好ましくは置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基）であり得る。

Ｘ^３、Ｘ^６、Ｘ^８およびＸ^９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。これらは、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＸ^４、Ｘ^５およびＸ^７と同意義であり、特にＸ^８、Ｘ^３およびＸ^９は、それぞれ、Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７に対応する。

上記式中のδ、ε、χおよびθは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり、δ’、ε’、χ’およびθ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数である。これらδ、ε、χ、θ、δ’、ε’、χ’およびθ’は、Ｘ^３、Ｘ^６、Ｘ^８およびＸ^９の価数に応じて決定される。例えば、式（Ｄ１）において、δおよびδ’の和は、Ｘ^８の価数と同じである。例えば、Ｘ^８が１０価の有機基である場合、δおよびδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、またはδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ^８が２価の有機基である場合、δおよびδ’は１である。式（Ｄ２）において、δはＸ^８の価数の値から１を引いた値である。ε、χ、θ、ε’、χ’、θ’についても同様である。

上記式（Ｆ１）および（Ｆ２）中、Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７４ _ｐ’Ｒ^７５ _ｑ’Ｒ^７６ _ｒ’を表す。

上記Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。Ｚは、上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＺと同意義である。

Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表す。

Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義である。

Ｒ^ｄ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ｄ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

一の態様において、Ｒ^ｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

Ｒ^７５は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ^１０−Ｙ−Ａを表す。

Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｘ^１０は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基またはフェニレン基であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

ＹおよびＡは上記と同意義である。

上記Ｒ^７６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、一のＲ^ｄにおいて、ｐ’、ｑ’およびｒ’の和は３であり、式（Ｆ１）および（Ｆ２）において、少なくとも１つのＲ^７５が存在する。

上記式中、Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ^１０−Ｙ−Ａを表す。Ｘ^１０、ＹおよびＡは上記と同意義である。

上記式中、Ｒ^９１は、フッ素原子、−ＣＨＦ_２または−ＣＦ_３を表し、好ましくはフッ素原子または−ＣＦ_３である。

Ｒｆ’は、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキレン基を表す。Ｒｆ’は、好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数３〜６であることが好ましい。具体的なＲｆ’の例としては、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ（ＣＦ_３）−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）−、−Ｃ（ＣＦ_３）−、−（ＣＦ_２）_４ＣＦ_２−、−（ＣＦ_２）_２ＣＦ（ＣＦ_３）−、−ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）−、−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−（ＣＦ_２）_５ＣＦ_２−、−（ＣＦ_２）_３ＣＦ（ＣＦ_３）_２、−（ＣＦ_２）_４ＣＦ（ＣＦ_３）_２、−Ｃ_８Ｆ_１７が挙げられ、中でも、直鎖の炭素数３〜６のパーフルオロアルキレン、例えば、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−等が好ましい。

上記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）で表される化合物は、当業者であれば当該分野で公知の技術を用いて適宜製造することができる。

例えば、式（Ｄ１）で表される化合物は、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、−ＣＨ_２ＣＲ^１２（Ｘ^２−Ｙ−Ａ）−に対応するビニルモノマーを反応させること等により得ることができる。

例えば、式（Ｅ１）で表される化合物は、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、−Ｙ−Ａ部分に対応する基、例えば末端にハロゲン化アルキルを有する化合物とWilliamson反応に付すこと等により得ることができる。

例えば、式（Ｆ１）で表される化合物は、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体に、ヒドロシリル化等を利用して、−ＳｉＨａｌ_３基（Ｈａｌはハロゲン）を導入し、次いで、−Ｙ−Ａ部分に対応するグリニャール試薬、例えばＨａｌ−Ｍｇ−Ｙ−Ａと反応させることにより得ることができる。

例えば、式（Ｇ１）で表される化合物は、例えば、Ｒ^９１−Ｒｆ’−部分に対応するフルオロアルキル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、−Ｙ−Ａ部分に対応する基、例えば末端にハロゲン化アルキルを有する化合物とWilliamson反応に付すこと等により得ることができる。

また、これらの化合物は、Ｙ−Ａ部分が前駆体基である化合物を合成し、この前駆体基を、当該分野で公知の方法により、Ｙ−Ａ基に変換することにより、製造することができる。

好ましい態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）および式（Ａ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。

好ましい態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｂ１）および式（Ｂ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｂ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。

好ましい態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）および式（Ｃ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。

好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｄ１）および式（Ｄ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｄ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。

別の好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｅ１）および式（Ｅ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｅ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。

別の好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｆ１）および式（Ｆ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｆ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。

別の好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｇ１）および式（Ｇ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｇ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。

一の態様において、本発明の表面処理剤中、（１）式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（以下、「パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）」ともいう）と、（２）式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）のいずれかで表される含フッ素化合物（以下、「含フッ素化合物（２）」ともいう）との質量比（それぞれ、２種以上の場合にはそれらの合計、以下も同様）は、好ましくは１：５０〜５０：１であり、より好ましくは１：１０〜１０：１であり、さらに好ましくは１：４〜４：１である。かかる範囲とすることで、表面処理剤の摩擦耐久性をより向上させることができる。

本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば、パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択される溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。

さらに、本発明の表面処理剤は、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^２ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^１およびＲｆ^２は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒｆ^２ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒｆ^２ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^１およびＲｆ^２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。

一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた防汚性コーティング層を得ることができる。

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。

好ましい態様において、真空蒸着法により防汚性コーティング層を形成する場合には、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）よりも、より好ましくは上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３−Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ^３−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、末端がＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記含フッ素化合物で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

表面処理剤中に含まれる触媒は、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本発明の表面処理剤は、１つの溶液（または懸濁液もしくは分散液）の形態であってもよく、あるいは、別個のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）の溶液と、含フッ素化合物（２）の溶液とを、使用直前に混合する形態であってもよい。

本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

次に、本発明の物品について説明する。

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および含フッ素化合物を含んでなる表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本発明の表面処理剤」と言う）より形成された層（いわゆる、表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属または金属酸化物（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、任意の適切な材料で構成され得る。

好ましい態様において、基材は、ガラスまたはサファイアである。かかる基材がガラスの場合、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスが挙げられる。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、化学蒸着（ＣＶＤ）および類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ_５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

本発明の表面処理組成物の使用方法を限定するものではないが、表面処理組成物の膜形成は、蒸着法によって行うことが好ましい。本発明の蒸着方法は、表面処理組成物を蒸着用材料に使用して、基材の表面に蒸着膜を形成することを含む。この蒸着方法は、通常、真空（即ち大気圧より低い圧力）にて実施される真空蒸着である。蒸着時の圧力は、例えば２×１０^−３Ｐａ〜１×１０^−５Ｐａ、好ましくは１×１０^−３Ｐａ〜１×１０^−４Ｐａであり、蒸着時の温度は、例えば２０℃〜１０００℃であり、かかる範囲以内で段階的にまたは徐々に昇温してもよいが、これに限定されない。

本発明の表面処理剤により形成された層は、単層からなっても、２層以上の層からなってもよい。表面処理層が、単層からなる場合、層中に上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）が実質的に均一に存在してもよく、あるいは、基材側で一方の化合物（好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１））の濃度が高く、露出面側で他方の化合物（好ましくは含フッ素化合物（２））の濃度が高くなっていてもよい。表面処理層が、２層以上からなる場合、基材に接する下層と、表面処理層の表面に位置する上層（露出面を成す）とを含む。好ましくは、下層は一方の化合物を多く含み、上層は他方の化合物を多く含む。より好ましくは、下層はパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）を多く含み、上層は含フッ素化合物（２）を多く含む。換言すれば、下層の含フッ素化合物（２）の含有割合より、上層の含フッ素化合物（２）の含有割合のほうが高くなる。なお、表面処理層中の含フッ素化合物の含有割合が下層と上層とで有意に異なっている限り、かかる下層および上層の境界は必ずしも明確でなくてもよく、または、下層および上層の間に１つ以上の中間層が存在していてもよい。

好ましい態様において、上記表面処理剤より形成された層は、基材に接する下層と、表面処理剤より形成された層の表面に位置する上層とを含み、下層の含フッ素化合物（２）の含有割合より、上層の含フッ素化合物（２）の含有割合のほうが高い。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。このときの時間は、特に限定されないが、例えば３０分〜５時間、好ましくは、１〜３時間であってもよい。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材としては、例えば、下記の光学部材が挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ：例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの；眼鏡などのレンズ；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

本発明によって得られる表面処理層を有する他の物品は、窯業製品、塗面、布製品、皮革製品、医療品およびプラスターなどを挙げることができる。

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、その製造方法、およびそれを含む表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する４種の繰り返し単位（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の存在順序は任意である。また、化合物を表す式は平均組成を示す。

実施例１
下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）およびパーフルオロポリエーテル化合物（Ｄ）を、質量比２：１の割合で、濃度２０ｗｔ％（化合物（Ａ）および化合物（Ｄ）の合計）になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した。調製した表面処理剤を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を化学強化ガラスの表面に蒸着させて、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）と化合物（Ｄ）の混合物を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
（なお、平均組成としては、(CF₂CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１７個および(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（Ｄ）
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₉(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OH

実施例２
化合物（Ａ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

実施例３
化合物（Ａ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）

（式中、ｍは１〜６の整数である。）

実施例４
化合物（Ｄ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｅ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（Ｅ）
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₂₀CF₂CF₂CH₂OH

実施例５
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例６
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例７
化合物（Ｄ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（Ｆ）
CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)₃₀CF₂CF₂CH₂OH

実施例８
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、実施例７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例９
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

比較例１
化合物（Ｄ）に代えて、下記の平均組成を有する化合物（Ｇ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル化合物（Ｇ）
CF₃O(CF₂CF₂O)₂₀(CF₂O)₁₉CF_３
（なお、平均組成としては、(CF₂CF₂CF₂CF₂O)および(CF₂CF₂CF₂O)の繰り返し単位が微量含まれていたが、省略した。）

比較例２
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

比較例３
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

比較例４
化合物（Ａ）を、濃度２０ｗｔ％（になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製したこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理層を形成した。上記で調製した表面処理剤を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を化学強化ガラスの表面に蒸着させて、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。

比較例５
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、比較例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

比較例６
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、比較例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

・摩擦耐久性評価
上記実施例および比較例にて基材表面に形成された表面処理層について、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて実施した。

まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（摩擦回数 ゼロ回）。

その後、摩擦耐久性評価として、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。一定の往復回数毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点、または摩擦回数が２００００回を超えた時点で評価を中止した。結果を下記表１および表２に示す。

上記の表１および表２から理解されるように、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物にパーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物を混合した実施例１〜９は、官能基を含有しないパーフルオロポリエーテル化合物を混合した比較例１〜３または、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物のみの比較例４〜６に比べて摩擦耐久性が著しく向上することが確認された。本発明はいかなる理論にも拘束されないが、これは、アルコールなどの官能基が層を形成するパーフルオロポリエーテル鎖の酸素原子と、水素結合等の相互作用が働き、層への担持力が大きくなり、耐摩耗性が向上したと考えられる。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (29)

1. （１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：
   

   

   ［式中：
   ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
   Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
   Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
   Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
   Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｎは、（−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^２が存在し；
   Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
   ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
   αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   Ｘ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表し；
   Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表し；
   Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義であり；
   Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
   Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、一のＲ^ａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ^７２が存在し；
   Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜３の整数であり；
   ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜１の整数であり；
   ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜１の整数であり；
   ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
   および
   （２）下記式（Ｅ１）および（Ｅ２）のいずれかで表される少なくとも１種の含フッ素化合物：
   

   

   ［式中：
   Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＨ、−ＣＯＯＲ^５ 、−ＣＯＮＨ_２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２ 、または−ＮＲ^５ _２を表し；
   Ｒ^５は、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
   ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
   Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
   Ｘ^３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   εは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   ε’は、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
   を含んでなる、真空蒸着用の表面処理剤。
2. Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１に記載の表面処理剤。
3. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、ＰＦＰＥが下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
   （ａ）：−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−
   ［式（ａ）中、ｂは１以上２００以下の整数である］；
   （ｂ）：−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−
   ［式（ｂ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である］；
   （ｃ）：−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^８）_ｎ”−
   ［式（ｃ）中、Ｒ^８は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であり；
   ｎ”は、２〜１００の整数である。］
   で表される基である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
4. パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物における、ＰＦＰＥにおいて：
   ＯＣ_４Ｆ_８が、ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２であり、
   ＯＣ_３Ｆ_６が、ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２であり、
   ＯＣ_２Ｆ_４が、ＯＣＦ_２ＣＦ_２である、
   請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理剤。
5. Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７が、それぞれ独立して、２〜４価の有機基であり、α、βおよびγが、それぞれ独立して、１〜３であり、α’、β’およびγ’が１である、請求項１〜４のいずれかに記載の表面処理剤。
6. Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７が２価の有機基であり、α、βおよびγが１であり、α’、β’およびγ’が１である、請求項１〜５のいずれかに記載の表面処理剤。
7. Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７が、それぞれ独立して、−（Ｒ^３１）_ｐ”−（Ｘ^ａ）_ｑ”−
   ［式中：
   Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−（式中、ｓ’は、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
   Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−（式中、ｌ’は、１〜１０の整数である）を表し；
   Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（式中、ｍ’は１〜１００の整数である）、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−（式中、ｎ’は１〜２０の整数である）からなる群から選択される基を表し；
   Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し；
   Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
   ｐ”は、０または１であり；
   ｑ”は、０または１であり；
   ここに、ｐ”およびｑ”の少なくとも一方は１であり、ｐ”およびｑ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
   Ｒ^３１およびＸ^ａは、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。］
   で表される基である、請求項１〜６のいずれかに記載の表面処理剤。
8. Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７が、それぞれ独立して：
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
   −（ＣＨ_２）_２−、
   −（ＣＨ_２）_３−、
   −（ＣＨ_２）_４−、
   −（ＣＨ_２）_６−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
   −ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
   −ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
   −Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
   −（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）₂Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
   −Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
   −Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
   −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
   −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
   −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
   −ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ −（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
   

   

   からなる群から選択される、請求項１〜７のいずれかに記載の表面処理剤。
9. Ｘ^４が、−Ｏ−ＣＦＲ^１３−（ＣＦ_２）_ｅ−であり、
   Ｒ^１３が、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、
   ｅが、０または１である、
   請求項１〜８のいずれかに記載の表面処理剤。
10. Ｘ^２が、−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、
    ｓが、０〜２の整数である、
    請求項１〜９のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
11. 式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、ｋが３であり、Ｒ^ａ中、ｑが３である、請求項１〜１０のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
12. Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７が、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基である、請求項１〜１１のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
13. Ｘ^４、Ｘ^５およびＸ^７が、それぞれ独立して：
    

    

    ［式中、各基において、Ｔのうち少なくとも１つは、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてＰＦＰＥに結合する以下の基：
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
    −ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
    −（ＣＨ_２）_２−、
    −（ＣＨ_２）_３−、
    −（ＣＨ_２）₄−、
    −ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
    −ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
    

    

    であり、
    別のＴのうち少なくとも１つは、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）において炭素原子またはＳｉ原子に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、
    Ｒ^４１は水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基でありまたは炭素数１〜６のアルキル基であり、
    Ｒ^４２は水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基を表す。］
    からなる群から選択される、請求項１〜１２のいずれかに記載の表面処理剤。
14. Ａが、−ＯＨ、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、または−ＮＲ^５ _２
    である、請求項１〜１３のいずれかに記載の表面処理剤。
15. （１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）含フッ素化合物との質量比が、１：５０〜５０：１である、請求項１〜１４のいずれかに記載の表面処理剤。
16. （１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）含フッ素化合物との質量比が、１：１０〜１０：１である、請求項１〜１５のいずれかに記載の表面処理剤。
17. （１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）含フッ素化合物との質量比が、１：４〜４：１である、請求項１〜１６のいずれかに記載の表面処理剤。
18. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１７のいずれかに記載の表面処理剤。
19. 含フッ素オイルが、式（３）：
    Ｒ^２１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒ^２２
    ・・・（３）
    ［式中：
    Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１〜１８のいずれかに記載の表面処理剤。
20. 含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
    Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ａ）
    Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ｂ）
    ［式中：
    Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
    式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
    添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１〜１９のいずれかに記載の表面処理剤。
21. さらに溶媒を含む、請求項１〜２０のいずれかに記載の表面処理剤。
22. 防汚性コーティング剤または防水コーティング剤として使用される、請求項１〜２１のいずれかに記載の表面処理剤。
23. 請求項１〜２２のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
24. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜２２のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
25. 前記表面処理剤より形成された層は、基材に接する下層と、表面処理剤より形成された層の表面に位置する上層とを含み、下層の含フッ素化合物の含有割合より、上層の含フッ素化合物の含有割合のほうが高い、請求項２４に記載の物品。
26. 基材がガラスまたはサファイアガラスである、請求項２４または２５に記載の物品。
27. ガラスが、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスである、請求項２６に記載の物品。
28. 前記物品が光学部材である、請求項２４〜２７のいずれかに記載の物品。
29. 前記物品がディスプレイである、請求項２４〜２８のいずれかに記載の物品。