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JP6038033B2 - ベンゾカルバゾール化合物のオキシムエステル誘導体ならびに前記誘導体の光重合性の組成物における光開始剤としての使用 - Google Patents

ベンゾカルバゾール化合物のオキシムエステル誘導体ならびに前記誘導体の光重合性の組成物における光開始剤としての使用 Download PDF

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JP6038033B2
JP6038033B2 JP2013532168A JP2013532168A JP6038033B2 JP 6038033 B2 JP6038033 B2 JP 6038033B2 JP 2013532168 A JP2013532168 A JP 2013532168A JP 2013532168 A JP2013532168 A JP 2013532168A JP 6038033 B2 JP6038033 B2 JP 6038033B2
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Description

本発明は、特定のカルバゾール誘導体を基礎とする新規のオキシムエステル化合物ならびに前記化合物の光重合性の組成物における光開始剤としての使用に関する。
カルバゾール部を有するオキシムエステル化合物は、当該技術分野において光開始剤として知られている。例えば、EP2015443、WO2008/138724およびEP2141206は、相応の化合物を開示している。JP2006−36750A(WO2005/080337に相当)の極めて広い包括的範囲は、また、カルバゾール部、とりわけ縮合環を有する化合物を含む。しかしながら、それらの例は、オキシム基を含むカルバゾール部への環形成を示しているにすぎない。WO2008/138732においては、また、種々のカルバゾール基を含む光開始剤化合物が記載されている。ここではまた、前記の広い包括的範囲は、カルバゾール基での置換基の環形成を含む一方で、相応の例は開示されていない。
光重合技術においては、反応性が高く、製造が容易で、かつ取り扱いが容易な光開始剤に対しての要求がいまだ存在する。例えば、カラーフィルターレジスト用途においては、高度に顔料着色されたレジストは、高い色品質特性のために必要である。顔料含分の増加に伴い、カラーレジストの硬化はより困難になる。ここで、高い感度を有する光開始剤が必要である。更にまた、かかる新規の光開始剤は、例えば取り扱いの容易性、高い可溶性、熱安定性および貯蔵安定性などの特性に関する高い工業的要求を満たさねばならない。
ここで、選択された化合物は、特に光開始剤として好適であることが判明した。
ここで、本発明の対象は、式I
Figure 0006038033
[式中、
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、
Figure 0006038033
、COR16、OR17、ハロゲン、NO2もしくは
Figure 0006038033
である;または
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8は、互いに独立して、C2〜C10−アルケニルであり、前記アルケニルは、
Figure 0006038033
によって置換されている;または
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8は、互いに独立して、−(CH2p−Y−(CH2q−である;または
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8は、互いに独立して、
Figure 0006038033
である;
但し、R1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8の対の少なくとも1つは、
Figure 0006038033
であり、
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、フェニル、CN、OH、SH、C1〜C4−アルコキシ、(CO)OHもしくは(CO)O(C1〜C4−アルキル)によって置換されている;または
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、CN、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたフェニルである;または
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、ハロゲン、CN、OR17、SR18、SOR18、SO218またはNR1920であり、その際、置換基OR17、SR18またはNR1920は、任意に、基R17、R18、R19および/またはR20を介してナフチル環の炭素原子のうちの1つとともに5員環または6員環を形成する;または
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、
Figure 0006038033
、COR16またはNO2である;
Yは、O、S、NR26または直接結合である;
pは、0、1、2または3の整数である;
qは、1、2または3の整数である;
Xは、COまたは直接結合である;
13は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR1920、NR1920、PO(OCk2k+12または
Figure 0006038033
によって置換されている;または
13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、S、SO、SO2、NR26もしくはCOによって中断されており、またはR13は、C2〜C12−アルケニルであり、前記アルケニルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されており、その際、中断されたC2〜C20−アルキルおよび中断されていないまたは中断されたC2〜C12−アルケニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンによって置換されている;または
13は、C4〜C8−シクロアルケニル、C2〜C12−アルキニルまたはC3〜C10−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されている;または
13は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920
Figure 0006038033
、COR16、CN、NO2、ハロゲン、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されたアルキルによって置換されているか、またはそのそれぞれは、C3〜C10−シクロアルキルまたはC3〜C10−シクロアルキルであって1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されたシクロアルキルによって置換されている;
kは、1〜10の整数である;
14は、水素、C3〜C8−シクロアルキル、C2〜C5−アルケニル、C1〜C20−アルコキシまたはC1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、フェニル、C1〜C20−アルキルフェニルもしくはCNによって置換されている;または
14は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、ハロゲン、CN、OR17、SR18および/またはNR1920によって置換されている;または
14は、C3〜C20−ヘテロアリール、C1〜C8−アルコキシ、ベンジルオキシまたはフェノキシであり、前記ベンジルオキシおよびフェノキシは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、C1〜C4−ハロアルキルおよび/またはハロゲンによって置換されている;
15は、C6〜C20−アリールまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、NO2、OR17、SR18、NR1920、PO(OCk2k+12、SO−C1〜C10−アルキル、SO2−C1〜C10−アルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されたアルキルによって置換されているか、またはそのそれぞれは、C1〜C20−アルキルであって非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17、CONR1920、フェニル、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C3〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたアルキルによって置換されている;または
15は、水素、C2〜C12−アルケニル、C3〜C8−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されている;または
15は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのハロゲン、OR17、SR18、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C3〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、NR1920、COOR17、CONR1920、PO(OCk2k+12
Figure 0006038033
、フェニルによって置換されているか、または前記C1〜C20−アルキルは、フェニルであってハロゲン、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されている;または
15は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、SOもしくはSO2によって中断されており、かつ前記中断されたC2〜C20−アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OR17、COOR17、CONR1920、フェニルまたはフェニルであってOR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されている;または
15は、C2〜C20−アルカノイルまたはベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、フェニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されている;または
15は、ナフトイルであり、前記ナフトイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17によって置換されているか、またはR15は、C3〜C14−ヘテロアリールカルボニルである;または
15は、C2〜C12−アルコキシカルボニルであり、前記アルコキシカルボニルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOによって中断されており、かつ前記の中断されたもしくは中断されていないC2〜C12−アルコキシカルボニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのヒドロキシル基によって置換されている;または
15は、フェノキシカルボニルであり、前記フェノキシカルボニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、フェニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されている;または
15は、CN、CONR1920、NO2、C1〜C4−ハロアルキル、S(O)m−C1〜C6−アルキル;S(O)m−フェニルであって非置換であるかまたはC1〜C12−アルキルもしくはSO2−C1〜C6−アルキルによって置換されたフェニルである;または
15は、SO2O−フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるかまたはC1〜C12−アルキルによって置換されているか、またはR15は、ジフェニルホスフィノイルまたはジ(C1〜C4−アルコキシ)ホスフィノイルである;
mは、1または2である;
R′14は、R14について示した意味の1つを有する;
R′15は、R15について示した意味の1つを有する;
1は、O、S、SOまたはSO2である;
2は、O、CO、Sまたは直接結合である;
16は、C6〜C20−アリールまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、NO2、OR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されたアルキルによって置換されており、またはそのそれぞれは、1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17、CONR1920、フェニル、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C3〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されている;または
16は、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、フェニル、OH、SH、CN、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−フェニル、(CO)OHもしくは(CO)O(C1〜C4−アルキル)によって置換されている;または
16は、C2〜C12−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されている;または
16は、(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C2〜C12−アルケニルまたはC3〜C8−シクロアルキルである;または
16は、SR18によって置換されたフェニルであり、その際、基R18は、COR16基が結合されているカルバゾール部のフェニル環もしくはナフチル環に対する直接結合を示す;
nは、1〜20である;
17は、水素、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OH、SH、CN、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−フェニル、(CO)OH、(CO)O(C1〜C4−アルキル)、C3〜C20−シクロアルキル、SO2−(C1〜C4−ハロアルキル)、O(C1〜C4−ハロアルキル)またはC3〜C20−シクロアルキルであって1もしくはそれより多くのOによって中断されたアルキルによって置換されている;または
17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されている;または
17は、(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C1〜C8−アルカノイル、C2〜C12−アルケニル、C3〜C6−アルケノイルまたはC3〜C20−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されている;または
17は、C1〜C8−アルキル−C3〜C10−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
17は、ベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OHもしくはC1〜C3−アルコキシによって置換されている;または
17は、フェニル、ナフチルまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OH、C1〜C12−アルキル、C1〜C12−アルコキシ、CN、NO2、フェニル−C1〜C3−アルキルオキシ、フェノキシ、C1〜C12−アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、N(C1〜C12−アルキル)2、ジフェニルアミノまたは
Figure 0006038033
によって置換されている;または
17は、基
Figure 0006038033
が位置するフェニル環またはナフチル環の炭素原子の1つに対して直接結合を形成する;
18は、水素、C2〜C12−アルケニル、C3〜C20−シクロアルキルまたはフェニル−C1〜C3−アルキルであり、その際、C2〜C12−アルケニル、C3〜C20−シクロアルキルまたはフェニル−C1〜C3−アルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26もしくはCOOR17によって中断されている;または
18は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOH、SH、CN、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−フェニルまたは(CO)OR17によって置換されている;または
18は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26もしくはCOOR17によって中断されている;または
18は、(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C2〜C8−アルカノイルまたはC3〜C6−アルケノイルである;または
18は、ベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OH、C1〜C4−アルコキシもしくはC1〜C4−アルキルスルファニルによって置換されている;または
18は、フェニル、ナフチルまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、C1〜C12−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C1〜C12−アルコキシ、CN、NO2、フェニル−C1〜C3−アルキルオキシ、フェノキシ、C1〜C12−アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、N(C1〜C12−アルキル)2、ジフェニルアミノ、(CO)O(C1〜C8−アルキル)、(CO)−C1〜C8−アルキル、(CO)N(C1〜C8−アルキル)2もしくは
Figure 0006038033
によって置換されている;
19およびR20は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C2〜C4−ヒドロキシアルキル、C2〜C10−アルコキシアルキル、C2〜C5−アルケニル、C3〜C20−シクロアルキル、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C8−アルカノイルオキシ、C3〜C12−アルケノイル SO2−(C1〜C4−ハロアルキル)もしくはベンゾイルである;または
19およびR20は、フェニル、ナフチルまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、C1〜C20−アルコキシ、C1〜C12−アルキル、ベンゾイルもしくはC1〜C12−アルコキシによって置換されている;または
19およびR20は、それらが結合されているN原子とともに、5員もしくは6員の飽和環または不飽和環であって中断されていないまたはO、SもしくはNR17によって中断されている環を形成し、前記5員もしくは6員の飽和もしくは不飽和の環は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、C1〜C20−アルコキシ、=O、OR17、SR18、NR2122、(CO)R23、NO2、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、フェニル、
Figure 0006038033
またはC3〜C20−シクロアルキルによって置換されており、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR17によって中断されている;または
19およびR20は、それらが結合されているN原子とともに、複素芳香族の環系を形成し、前記環系は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C1〜C20−アルコキシ、=O、OR17、SR18、NR2122、(CO)R23
Figure 0006038033
、ハロゲン、NO2、CN、フェニルまたはC3〜C20−シクロアルキルによって置換されており、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR17によって中断されている;
21およびR22は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C3〜C10−シクロアルキルまたはフェニルである;または
21およびR22は、それらが結合されているN原子とともに、5員または6員の飽和または不飽和の環を形成し、前記環は、中断されていないか、またはO、SもしくはNR26によって中断されており、かつ前記5員または6員の飽和環または不飽和環は縮合されていないか、または前記5員または6員の飽和または不飽和の環へとベンゼン環が縮合されている;
23は、水素、OH、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されたアルキル、C3〜C20−シクロアルキルであって中断されていないか、またはO、S、COもしくはNR26によって中断されているアルキルである;または
23は、フェニル、ナフチル、フェニル−C1〜C4−アルキル、OR17、SR18またはNR2122である;
24は、(CO)OR17、CONR1920、(CO)R17であるか、またはR24は、R19およびR20について示された意味の1つを有する;
25は、COOR17、CONR1920、(CO)R17であるか、またはR25は、R17について示した意味の1つを有する;
26は、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのOもしくはCOによって中断されたアルキルであるか、またはR26は、フェニル−C1〜C4−アルキル、C3〜C8−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOもしくはCOによって中断されているか、またはR26は、フェニル−C1〜C4−アルキル、C3〜C8−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOもしくはCOによって中断されているか、またはR26は、(CO)R19であるか、またはR26は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18、NR1920もしくは
Figure 0006038033
によって置換されている;
但し、少なくとも1つの基
Figure 0006038033
は、分子中に存在する]である。
式Iの化合物は、該化合物が、1もしくはそれより多くの縮合された不飽和環をカルバゾール部で含むことを特徴とする。換言すると、R1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8の対の少なくとも1つは、
Figure 0006038033
である。
1〜C20−アルキルは、直鎖状または分枝鎖状であり、かつ例えばC1〜C18−アルキル、C1〜C14−アルキル、C1〜C12−アルキル、C1〜C8−アルキル、C1〜C6−アルキルもしくはC1〜C4−アルキルまたはC4〜C12−アルキルもしくはC4〜C8−アルキルである。例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、s−ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシルおよびイコシルである。C1〜C6−アルキルは、相応の炭素原子数まではC1〜C20−アルキルについて上述のものと同じ意味を有する。
1もしくはそれより多くのC−C多重結合を含む非置換または置換されたC1〜C20−アルキルは、以下に説明されるようにアルケニルを指す。
1〜C4−ハロアルキルは、前記のC1〜C4−アルキルであって、以下に定義されるハロゲンによって置換されたアルキルである。該アルキル基は、例えば全てのH原子のハロゲンによる交換までで、一ハロゲン化または多ハロゲン化されている。それは、例えばCnxHalyであり、その際、x+y=2n+1であり、かつHalは、ハロゲン、好ましくはFである。特定の例は、クロロメチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチルまたは2−ブロモプロピル、特にトリフルオロメチルまたはトリクロロメチルである。C2〜C4−ヒドロキシアルキルは、C2〜C4−アルキルであって、1もしくは2つのO原子によって置換されたアルキルを意味する。該アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状である。例は、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチル、3−ヒドロキシブチル、2,3−ジヒドロキシプロピルまたは2,4−ジヒドロキシブチルである。C2〜C10−アルコキシアルキルは、C2〜C10−アルキルであって、1つのO原子によって中断されたアルキルである。C2〜C10−アルキルは、相応の炭素原子数まではC1〜C20−アルキルについて上述のものと同じ意味を有する。例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピルである。
2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、S、NR26もしくはCOによって中断されたアルキルは、例えば1〜9箇所で、1〜5箇所で、1〜3箇所で、または1箇所もしくは2箇所で、O、S、NR26もしくはCOによって中断されている。1つより多くの中断基が存在する場合に、該基は、同じ種類または異なる種類である。2つのO原子は、少なくとも1つのメチレン基によって、好ましくは少なくとも2つのメチレン基、すなわちエチレンによって隔離されている。該アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状である。例えば、以下の構造単位−CH2−CH2−O−CH2CH3、−[CH2CH2O]y−CH3(式中、yは1〜9)、−(CH2−CH2O)7−CH2CH3、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH2CH3、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH3、−CH2−CH2−S−CH2CH3、−CH2−CH(CH3)−NR26−CH2−CH3、−CH2−CH2−COO−CH2CH3または−CH2−CH(CH3)−OCO−CH2−CH2CH3が生ずる。
本願の内容におけるC3〜C10−シクロアルキル、C3〜C10−シクロアルキルおよびC3〜C8−シクロアルキルは、1つの環を少なくとも含むアルキルであると解されるべきである。それは、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。本願の内容におけるC3〜C10−シクロアルキルは、また、二環式の環を含むことを意味し、換言すると、橋かけされた環、例えば
Figure 0006038033
および相応の環を含むことを意味する。更なる例は、
Figure 0006038033
の構造であり、ならびに橋かけされた環系または縮合された環系、例えば
Figure 0006038033
などの環系は、また、該用語によって含まれることを意味する。C3〜C20−シクロアルキルであってO、S、CO、NR26によって中断されたシクロアルキルは、上述の意味を有し、その際、該アルキルの少なくとも1つのCH2基は、O、S、COまたはNR26のいずれかによって交換されている。例は、
Figure 0006038033
の構造である。
1〜C8−アルキル−C3〜C10−シクロアルキルは、前記定義のC3〜C10−シクロアルキルであって、8個までの炭素原子を有する1もしくはそれより多くのアルキル基によって置換されているシクロアルキル基である。例は、
Figure 0006038033
である。
1〜C8−アルキル−C3〜C10−シクロアルキルであって1もしくはそれより多くのOによって中断されているシクロアルキルは、前記のOで中断されたC3〜C10−シクロアルキルであって、8個までの炭素原子を有する1もしくはそれより多くのアルキル基によって置換されたシクロアルキルである。例は、
Figure 0006038033
である。
1〜C12−アルコキシは、1つのO原子によって置換されたC1〜C12−アルキルである。C1〜C12−アルキルは、相応の炭素原子数まではC1〜C20−アルキルについて上述のものと同じ意味を有する。C1〜C4−アルコキシは、直鎖状または分枝鎖状であり、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブチルオキシ、s−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、t−ブチルオキシである。C1〜C8−アルコキシおよびC1〜C4−アルコキシは、相応の炭素原子数までは上記同様の意味を有する。
1〜C12−アルキルスルファニルは、1つのS原子によって置換されたC1〜C12−アルキルである。C1〜C12−アルキルは、相応の炭素原子数まではC1〜C20−アルキルについて上述のものと同じ意味を有する。C1〜C4−アルキルスルファニルは、直鎖状または分枝鎖状であり、例えばメチルスルファニル、エチルスルファニル、プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、n−ブチルスルファニル、s−ブチルスルファニル、イソブチルスルファニル、t−ブチルスルファニルである。
フェニル−C1〜C3−アルキルは、例えばベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジルまたはα,α−ジメチルベンジル、特にベンジルである。
フェニル−C1〜C3−アルコキシルは、例えばベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ、α−メチルベンジルオキシまたはα,α−ジメチルベンジルオキシ、特にベンジルオキシである。
2〜C12−アルケニル基は、一価不飽和または多価不飽和であり、かつ例えばC2〜C10−アルケニル、C2〜C8−アルケニル、C2〜C5−アルケニル、例えばビニル、アリル、メタリル、1,1−ジメチルアリル、1−ブテニル、3−ブテニル、2−ブテニル、1,3−ペンタジエニル、5−ヘキセニル、7−オクテニルまたはドデセニル、特にアリルである。C2〜C5−アルケニル基は、相応の炭素原子数まではC2〜C12−アルケニル基について上述のものと同じ意味を有する。
2〜C12−アルケニルであって、1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されているアルケニルは、例えば1〜9箇所で、1〜5箇所で、1〜3箇所で、または1箇所もしくは2箇所で、O、S、NR26もしくはCOによって中断されている。1つより多くの中断基が存在する場合に、該基は、同じ種類または異なる種類である。2つのO原子は、少なくとも1つのメチレン基によって、好ましくは少なくとも2つのメチレン基、すなわちエチレンによって隔離されている。アルケニル基は、直鎖状または分枝鎖状であり、上記定義の通りである。例えば、以下の構造単位−CH=CH−O−CH2CH3、−CH=CH−O−CH=CH2などが形成されうる。
4〜C8−シクロアルケニルは、1もしくはそれより多くの二重結合を有し、かつ例えばC4〜C6−シクロアルケニルまたはC6〜C8−シクロアルケニルである。例は、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルまたはシクロオクテニル、特にシクロペンテニルおよびシクロヘキセニル、好ましくはシクロヘキセニルである。
3〜C6−アルケンオキシは、一価不飽和または多価不飽和であり、かつ相応の炭素原子数までは結合されたオキシ基を有する、前記のアルケニルについて示した意味の1つを有する。例は、アリルオキシ、メタリルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテンオキシ、1,3−ペンタジエニルオキシ、5−ヘキセニルオキシである。
2〜C12−アルキニルは、一価不飽和または多価不飽和で、直鎖状または分枝鎖状であり、かつ例えばC2〜C8−アルキニル、C2〜C6−アルキニルまたはC2〜C4−アルキニルである。例は、エチニル、プロピニル、ブチニル、1−ブチニル、3−ブチニル、2−ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、2−ヘキシニル、5−ヘキシニル、オクチニルなどである。C2〜C20−アルカノイルは、直鎖状または分枝鎖状であり、かつ例えばC2〜C18−アルカノイル、C2〜C14−アルカノイル、C2〜C12−アルカノイル、C2〜C8−アルカノイル、C2〜C6−アルカノイルもしくはC2〜C4−アルカノイルまたはC4〜C12−アルカノイルもしくはC4〜C8−アルカノイルである。例は、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ドデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イコサノイル、好ましくはアセチルである。C1〜C8−アルカノイルは、相応の炭素原子数まではC2〜C20−アルカノイルについて上述のものと同じ意味を有する。C2〜C12−アルコキシカルボニルは、直鎖状または分枝鎖状であり、かつ例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニルまたはドデシルオキシカルボニル、特にメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシカルボニルまたはイソブチルオキシカルボニル、好ましくはメトキシカルボニルである。
1もしくはそれより多くのOによって中断されたC2〜C12−アルコキシカルボニルは、直鎖状または分枝鎖状である。2つのO原子は、少なくとも2つのメチレン基、すなわちエチレンによって隔離されている。前記の中断されたアルコキシカルボニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのヒドロキシル基によって置換されている。C6〜C20−アリールオキシカルボニルは、例えばフェニルオキシカルボニル[=フェニル−O−(CO)−]、ナフチルオキシカルボニル、アントリルオキシカルボニルなどである。C5〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニルは、C5〜C20−ヘテロアリール−O−CO−である。C3〜C10−シクロアルキルカルボニルは、C3〜C10−シクロアルキル−CO−であり、前記シクロアルキルは、相応の炭素原子数までは上述の意味の1つを有する。1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26によって中断されたC3〜C10−シクロアルキルカルボニルは、中断されたシクロアルキル−CO−を指し、その際、前記の中断されたシクロアルキルは、上記のように定義される。
3〜C10−シクロアルキルオキシカルボニルは、C3〜C10−シクロアルキル−O−(CO)−であり、前記シクロアルキルは、相応の炭素原子数までは上述の意味の1つを有する。1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26によって中断されたC3〜C10−シクロアルキルオキシカルボニルは、中断されたシクロアルキル−O−(CO)−を指し、その際、前記の中断されたシクロアルキルは、上記のように定義される。
1〜C20−アルキルフェニルは、1もしくはそれより多くのアルキル基によって置換されたフェニルを指し、その炭素原子の合計は、20個までである。
6〜C20−アリールは、例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレン、クリセン、ナフタセン、トリフェニレンなど、特にフェニルまたはナフチル、好ましくはフェニルである。ナフチルは、1−ナフチルまたは2−ナフチルである。
本発明の内容においては、C3〜C20−ヘテロアリールは、単環または多環系、例えば縮合環系のいずれかを含むことを意味する。例は、チエニル、ベンゾ[b]チエニル、ナフト[2,3−b]チエニル、チアントレニル、フリル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサンチル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、フェノキサジニル、7−フェナントリル、アントラキノン−2−イル(=9,10−ジオキソ−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イル)、3−ベンゾ[b]チエニル、5−ベンゾ[b]チエニル、2−ベンゾ[b]チエニル、4−ジベンゾフリル、4,7−ジベンゾフリル、4−メチル−7−ジベンゾフリル、2−キサンテニル、8−メチル−2−キサンテニル、3−キサンテニル、2−フェノキシアンチイニル、2,7−フェノキサチイニル、2−ピロリル、3−ピロリル、5−メチル−3−ピロリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、5−イミダゾリル、2−メチル−4−イミダゾリル、2−エチル−4−イミダゾリル、2−エチル−5−イミダゾリル、1H−テトラゾール−5−イル、3−ピラゾリル、1−メチル−3−ピラゾリル、1−プロピル−4−ピラゾリル、2−ピラジニル、5,6−ジメチル−2−ピラジニル、2−インドリジニル、2−メチル−3−イソインドリル、2−メチル−1−イソインドリル、1−メチル−2−インドリル、1−メチル−3−インドリル、1,5−ジメチル−2−インドリル、1−メチル−3−インダゾリル、2,7−ジメチル−8−プリニル、2−メトキシ−7−メチル−8−プリニル、2−キノリジニル、3−イソキノリル、6−イソキノリル、7−イソキノリル、3−メトキシ−6−イソキノリル、2−キノリル、6−キノリル、7−キノリル、2−メトキシ−3−キノリル、2−メトキシ−6−キノリル、6−フタラジニル、7−フタラジニル、1−メトキシ−6−フタラジニル、1,4−ジメトキシ−6−フタラジニル、1,8−ナフチリジン−2−イル、2−キノキサリニル、6−キノキサリニル、2,3−ジメチル−6−キノキサリニル、2,3−ジメトキシ−6−キノキサリニル、2−キナゾリニル、7−キナゾリニル、2−ジメチルアミノ−6−キナゾリニル、3−シンノリニル、6−シンノリニル、7−シンノリニル、3−メトキシ−7−シンノリニル、2−プテリジニル、6−プテリジニル、7−プテリジニル、6,7−ジメトキシ−2−プテリジニル、2−カルバゾリル、3−カルバゾリル、9−メチル−2−カルバゾリル、9−メチル−3−カルバゾリル、β−カルボリン−3−イル、1−メチル−β−カルボリン−3−イル、1−メチル−β−カルボリン−6−イル、3−フェナントリジニル、2−アクリジニル、3−アクリジニル、2−ペリミジニル、1−メチル−5−ペリミジニル、5−フェナントロリニル、6−フェナントロリニル、1−フェナジニル、2−フェナジニル、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリル、5−イソチアゾリル、2−フェノチアジニル、3−フェノチアジニル、10−メチル−3−フェノチアジニル、3−イソキサゾリル、4−イソキサゾリル、5−イソキサゾリル、4−メチル−3−フラザニル、2−フェノキサジニル、10−メチル−2−フェノキサジニルなどである。
3〜C20−ヘテロアリールは、特に、チエニル、ベンゾ[b]チエニル、チアントレニル、チオキサンチル、1−メチル−2−インドリルまたは1−メチル−3−インドリル、特にチエニルである。C4〜C20−ヘテロアリールカルボニルは、上記定義のC3〜C20−ヘテロアリール基であって、分子の残基にCO基を介して結合されるものである。
置換されたアリール基であるフェニル、ナフチル、C6〜C20−アリールまたはC5〜C20−ヘテロアリールは、それぞれ1〜7回、1〜6回または1〜4回置換されており、特に1回、2回または3回置換されている。定義されたアリール基は、アリール環の空いた位置より多くの置換基を有することができないことは明らかである。
フェニル環での置換基は、フェニル環上で、好ましくは4位に、または3,4配置で、3,4,5配置で、2,6配置で、2,4配置でまたは2,4,6配置である。
1箇所もしくはそれより多くの箇所で中断された中断された基は、例えば1〜19箇所で、1〜15箇所で、1〜12箇所で、1〜9箇所で、1〜7箇所で、1〜5箇所で、1〜4箇所で、1〜3箇所で、または1箇所もしくは2箇所で中断されている(中断原子数は中断すべき炭素原子の数に依存することは明らかである)。1回もしくはそれより多くの回数置換された置換された基は、例えば1〜7つ、1〜5つ、1〜4つ、1〜3つまたは1つもしくは2つの同一もしくは異なる置換基を有する。1もしくはそれより多くの定義された置換基によって置換された基は、示された同一もしくは異なる定義の1つの置換基またはそれより多くの置換基のいずれかを有することを意味する。ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素、特にフッ素、塩素および臭素、好ましくはフッ素および塩素である。R1およびR2、R2およびR3、R3およびR4またはR5およびR6、R6およびR7、R7およびR8が互いに独立してともに
Figure 0006038033
である場合に、例えば以下の構造(Ia)〜(Ii)が形成される:
Figure 0006038033
構造(Ia)が好ましい。
式Iの化合物に特徴的なことは、少なくとも1つのフェニル環がカルバゾール部に縮合されて、"ナフチル"環が形成されることである。つまり、前記構造の1つは式Iに示されている。
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8が互いに独立してともに−(CH2p−Y−(CH2q−である場合に、例えば
Figure 0006038033
の構造が形成される。
置換基のOR17、SR18、SOR18、SO218またはNR1920がフェニル環もしくはナフチル環上で基R17、R18、R19および/またはR20を介してナフチル環の炭素原子の1つとともに5員環または6員環を形成する場合に、3つもしくはそれより多くの環を含む構造(ナフチル環を含む)が得られる。例は、
Figure 0006038033
である。
17が、フェニル環もしくはナフチル環であって、その上に基
Figure 0006038033
が位置する環の炭素原子の1つへの直接結合を形成する場合に、例えば
Figure 0006038033
の構造が形成される。
16がSR18によって置換され、その際、基R18がカルバゾール部のフェニル環もしくはナフチル環であってそこにCOR16基が結合されている環への直接結合を示す場合に、例えば
Figure 0006038033
の構造が形成される。つまり、R16がSR18によって置換されたフェニルであり、その際、基R18がカルバゾール部のフェニル環もしくはナフチル環であってそこにCOR16基が結合されている環への直接結合を示す場合に、チオキサンチル部は、カルバゾール部のフェニル環もしくはナフチル環の1つとともに形成される。
19およびR20が、それらが結合されるN原子と一緒になって、5員もしくは6員の飽和もしくは不飽和の環であって、任意にO、SもしくはNR17によって中断されている環を形成する場合に、飽和もしくは不飽和の環、例えばアジリジン、ピロール、チアゾール、ピロリジン、オキサゾール、ピリジン、1,3−ジアジン、1,2−ジアジン、ピペリジンまたはモルホリンが形成される。好ましくは、R19およびR20が、それらが結合されるN原子と一緒になって、5員もしくは6員の飽和もしくは不飽和の環であって、任意にO、SもしくはNR17によって中断されている環を形成する場合に、5員もしくは6員の飽和環であって、中断されていないかまたはOもしくはNR17によって、特にOによって中断されている環が形成される。R21およびR22が、それらが結合されるN原子と一緒になって、5員もしくは6員の飽和もしくは不飽和の環であって、任意にO、SもしくはNR26によって中断されており、かつそこに飽和もしくは不飽和の環、任意にベンゼン環が縮合されている場合に、飽和もしくは不飽和の環、例えばアジリジン、ピロール、チアゾール、ピロリジン、オキサゾール、ピリジン、1,3−ジアジン、1,2−ジアジン、ピペリジンもしくはモルホリン、または相応の縮合環、例えば
Figure 0006038033
が形成される。
19およびR20が、それらが結合されるN原子と一緒になって、複素芳香族の環系を形成する場合に、前記の環系は、1より多くの環を、2もしくは3個の環を、ならびに同種もしくは異種のものからの1つまたは1より多くのヘテロ原子を含むことを意味する。好適なヘテロ原子は、例えばN、S、OまたはP、特にN、SまたはOである。例は、カルバゾール、インドール、イソインドール、インダゾール、プリン、イソキノリン、キノリン、カルボリン、フェノチアジンなどである。
用語"および/または"または"または/および"は、本願の内容において、定義された選択肢(置換基)のうち1つだけが存在できるのではなく、定義された選択肢(置換基)のいくつかが一緒に、即ち、種々の選択肢(置換基)の混合物も存在できることを表すことを意味する。
用語"少なくとも"は、1つまたは1つより多く、例えば1つまたは2つまたは3つ、好ましくは1つまたは2つを定義することを意味する。
用語"任意に置換された"は、それが示す基が非置換または置換されているかのいずれかであることを意味する。
用語"任意に中断された"は、それが示す基が中断されていないか、または中断されているかのいずれかであることを意味する。
本願明細書および後続の請求項全体を通じて、特段文脈が要しない限り、"含む"という用語もしくは"含んでいる"などのバリエーションは、指定の整数もしくは工程または整数もしくは工程群を含むが、任意の他の整数もしくは工程または整数もしくは工程群を除外しないことを示唆するものと理解される。本願の内容における"(メタ)アクリレート"という用語は、アクリレートならびに相応のメタクリレートを指すことを意味する。本発明の内容における本発明による化合物についての文書に示される優先順位は、特許請求の範囲の全てのカテゴリーに参照されることが意図される。それは、組成物、使用、方法、カラーフィルターなどに向けられる請求項にも同様に参照される。
式Iのオキシムエステルは、文献に記載の方法によって、例えば相応のオキシムと、アシルハロゲン化物、特に塩化物とまたは無水物とを、不活性溶剤、例えばt−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)またはジメチルホルムアミド中で塩基、例えばトリエチルアミンまたはピリジンの存在下でまたは塩基性溶剤、例えばピリジン中で反応させることによって製造される。以下にある例として、式Iaで示され、その式中、R7がオキシムエステル基であり、かつXが直接結合である化合物の製造が記載される[化合物(Ib)〜(Ih)のための反応は、適切なオキシムから出発して行われる]:
Figure 0006038033
[式中、R1、R2、R5、R6、R8、R13、R14およびR15は、前記の定義のとおりであり、Halは、ハロゲン原子、特にClを意味する]。
14は好ましくはメチルである。
かかる反応は、当業者によく知られており、かつ一般に−15〜+50℃、好ましくは0〜25℃の温度で行われる。
XがCOである場合に、相応のオキシムは、メチレン基の亜硝酸アルキルでの、例えば亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸イソプロピル、亜硝酸ブチルまたは亜硝酸イソアミルなどの亜硝酸アルキルでニトロソ化することによって合成される。その際、エステル化は、上述と同じ条件下で行われる:
Figure 0006038033
従ってまた、本発明の対象は、上記定義の式Iの化合物の製造方法であって、相応のオキシム化合物と、式IIのアシルハロゲン化物または式IIIの無水物
Figure 0006038033
[式中、Halは、ハロゲン、特にClであり、かつR14は、前記定義のとおりである]とを塩基または塩基の混合物の存在下で反応することによって行われる前記製造方法である。
出発材料として必要とされるオキシムは、標準的な教科書(例えばJ. March, Advanced Organic Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 1992)にまたは特定の論文、例えばS.R.Sandier & W.Karo, Organic functional group preparations, Vol.3, Academic Pressに記載される様々な方法によって得ることができる。
最も慣用の方法の一つは、例えばアルデヒドまたはケトンと、ヒドロキシルアミンもしくはその塩とを、極性溶剤、例えばジメチルアセトアミド(DMA)、水性DMA、エタノールまたは水性エタノールなどの極性溶剤中で反応させることである。その場合には、酢酸ナトリウムまたはピリジンなどの塩基は、反応混合物のpHの制御のために添加される。反応の速度は、pH依存性であり、かつ塩基は、開始時にまたは反応の間に連続的に添加できることはよく知られている。ピリジンなどの塩基性溶剤は、塩基および/または溶剤もしくは助溶剤として使用することもできる。該反応温度は、一般に、室温から混合物の還流温度までであり、通常は約20〜120℃である。
相応のケトン中間体は、例えば文献に記載の方法、例えば標準的な教科書(例えばJ. March, Advanced Organic Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 1992)に記載の方法によって製造される。更に、連続的なフリーデル・クラフツ反応は、該中間体の合成のために効果的である。かかる反応は、当業者によく知られている。
もう一つのオキシムの慣用の合成は、"活性"メチレン基の亜硝酸によるもしくは亜硝酸アルキルによるニトロソ化である。例えばOrganic Syntheses coll. Vol. VI(J. Wiley & Sons, New York, 1988)、199頁および840頁に記載されるアルカリ性条件と、例えばOrganic Synthesis coll. vol V、32〜373頁、coll. vol. III、191頁および513頁、coll. vol. II、202頁、204頁および363頁に記載される酸性条件の両方は、本発明で出発材料として使用されるオキシムの製造に適している。亜硝酸は、通常は亜硝酸ナトリウムから生成される。亜硝酸アルキルは、例えば亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸イソプロピル、亜硝酸ブチルまたは亜硝酸イソアミルであってよい。
本発明のもう一つの実施態様は、式(IA)
Figure 0006038033
[式中、
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、
Figure 0006038033
、COR16、OR17、ハロゲン、NO2もしくは
Figure 0006038033
である;または
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8は、互いに独立して、C2〜C10−アルケニルであり、前記アルケニルは、
Figure 0006038033
によって置換されている;または
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8は、互いに独立して、−(CH2p−Y−(CH2q−である;または
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8は、互いに独立して、
Figure 0006038033
である;
但し、R1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8の対の少なくとも1つは、
Figure 0006038033
であり、
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、フェニル、CN、OH、SH、C1〜C4−アルコキシ、(CO)OHもしくは(CO)O(C1〜C4−アルキル)によって置換されている;または
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、CN、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたフェニルである;または
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、ハロゲン、CN、OR17、SR18、SOR18、SO218またはNR1920であり、その際、置換基OR17、SR18またはNR1920は、任意に、基R17、R18、R19および/またはR20を介してナフチル環の炭素原子のうちの1つとともに5員環または6員環を形成する;または
9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、
Figure 0006038033
、COR16またはNO2である;
Yは、O、S、NR26または直接結合である;
pは、0、1、2または3の整数である;
qは、1、2または3の整数である;
Xは、COまたは直接結合である;
13は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR1920、NR1920、PO(OCk2k+12または
Figure 0006038033
によって置換されている;または
13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、S、SO、SO2、NR26もしくはCOによって中断されており、またはR13は、C2〜C12−アルケニルであり、前記アルケニルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されており、その際、中断されたC2〜C20−アルキルおよび中断されていないまたは中断されたC2〜C12−アルケニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンによって置換されている;または
13は、C4〜C8−シクロアルケニル、C2〜C12−アルキニルまたはC3〜C10−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されている;または
13は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920
Figure 0006038033
、COR16、CN、NO2、ハロゲン、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されたアルキルによって置換されているか、またはそのそれぞれは、C3〜C10−シクロアルキルまたはC3〜C10−シクロアルキルであって1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されたシクロアルキルによって置換されている;
kは、1〜10の整数である;
15は、C6〜C20−アリールまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、NO2、OR17、SR18、NR1920、PO(OCk2k+12、SO−C1〜C10−アルキル、SO2−C1〜C10−アルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されたアルキルによって置換されているか、またはそのそれぞれは、C1〜C20−アルキルであって非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17、CONR1920、フェニル、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C3〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたアルキルによって置換されている;または
15は、水素、C2〜C12−アルケニル、C3〜C8−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されている;または
15は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのハロゲン、OR17、SR18、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C3〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、NR1920、COOR17、CONR1920、PO(OCk2k+12
Figure 0006038033
、フェニルによって置換されているか、または前記C1〜C20−アルキルは、フェニルであってハロゲン、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されている;または
15は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、SOもしくはSO2によって中断されており、かつ前記中断されたC2〜C20−アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OR17、COOR17、CONR1920、フェニルまたはフェニルであってOR17、SR18もしくはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されている;または
15は、C2〜C20−アルカノイルまたはベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、フェニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されている;または
15は、ナフトイルであり、前記ナフトイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17によって置換されているか、またはR15は、C3〜C14−ヘテロアリールカルボニルである;または
15は、C2〜C12−アルコキシカルボニルであり、前記アルコキシカルボニルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOによって中断されており、かつ前記の中断されたもしくは中断されていないC2〜C12−アルコキシカルボニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのヒドロキシル基によって置換されている;または
15は、フェノキシカルボニルであり、前記フェノキシカルボニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、フェニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されている;または
15は、CN、CONR1920、NO2、C1〜C4−ハロアルキル、S(O)m−C1〜C6−アルキル;S(O)m−フェニルであって非置換であるかまたはC1〜C12−アルキルもしくはSO2−C1〜C6−アルキルによって置換されたフェニルである;または
15は、SO2O−フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるかまたはC1〜C12−アルキルによって置換されているか、またはR15は、ジフェニルホスフィノイルまたはジ(C1〜C4−アルコキシ)ホスフィノイルである;
mは、1または2である;
R′15は、R15について示した意味の1つを有する;
1は、O、S、SOまたはSO2である;
2は、O、CO、Sまたは直接結合である;
16は、C6〜C20−アリールまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、NO2、OR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されたアルキルによって置換されており、またはそのそれぞれは、1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17、CONR1920、フェニル、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C3〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されている;または
16は、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、フェニル、OH、SH、CN、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−フェニル、(CO)OHもしくは(CO)O(C1〜C4−アルキル)によって置換されている;または
16は、C2〜C12−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されている;または
16は、(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C2〜C12−アルケニルまたはC3〜C8−シクロアルキルである;または
16は、SR18によって置換されたフェニルであり、その際、基R18は、COR16基が結合されているカルバゾール部のフェニル環もしくはナフチル環に対する直接結合を示す;
nは、1〜20である;
17は、水素、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OH、SH、CN、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−フェニル、(CO)OH、(CO)O(C1〜C4−アルキル)、SO2−(C1〜C4−ハロアルキル)、O(C1〜C4−ハロアルキル)、C3〜C20−シクロアルキルまたはC3〜C20−シクロアルキルであって1もしくはそれより多くのOによって中断されたアルキルによって置換されている;または
17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されている;または
17は、(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C1〜C8−アルカノイル、C2〜C12−アルケニル、C3〜C6−アルケノイルまたはC3〜C20−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR26によって中断されている;または
17は、C1〜C8−アルキル−C3〜C10−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
17は、ベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OHもしくはC1〜C3−アルコキシによって置換されている;または
17は、フェニル、ナフチルまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OH、C1〜C12−アルキル、C1〜C12−アルコキシ、CN、NO2、フェニル−C1〜C3−アルキルオキシ、フェノキシ、C1〜C12−アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、N(C1〜C12−アルキル)2、ジフェニルアミノまたは
Figure 0006038033
によって置換されている;または
17は、基
Figure 0006038033
が位置するフェニル環またはナフチル環の炭素原子の1つに対して直接結合を形成する;
18は、水素、C2〜C12−アルケニル、C3〜C20−シクロアルキルまたはフェニル−C1〜C3−アルキルであり、その際、C2〜C12−アルケニル、C3〜C20−シクロアルキルまたはフェニル−C1〜C3−アルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26もしくはCOOR17によって中断されている;または
18は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOH、SH、CN、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−フェニルまたは(CO)OR17によって置換されている;または
18は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26もしくはCOOR17によって中断されている;または
18は、(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C2〜C8−アルカノイルまたはC3〜C6−アルケノイルである;または
18は、ベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OH、C1〜C4−アルコキシもしくはC1〜C4−アルキルスルファニルによって置換されている;または
18は、フェニル、ナフチルまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、C1〜C12−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C1〜C12−アルコキシ、CN、NO2、フェニル−C1〜C3−アルキルオキシ、フェノキシ、C1〜C12−アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、N(C1〜C12−アルキル)2、ジフェニルアミノ、(CO)O(C1〜C8−アルキル)、(CO)−C1〜C8−アルキル、(CO)N(C1〜C8−アルキル)2もしくは
Figure 0006038033
によって置換されている;
19およびR20は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C2〜C4−ヒドロキシアルキル、C2〜C10−アルコキシアルキル、C2〜C5−アルケニル、C3〜C20−シクロアルキル、フェニル−C1〜C3−アルキル、SO2−(C1〜C4−ハロアルキル)、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C8−アルカノイルオキシ、C3〜C12−アルケノイルもしくはベンゾイルである;または
19およびR20は、フェニル、ナフチルまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、C1〜C20−アルコキシ、C1〜C12−アルキル、ベンゾイルもしくはC1〜C12−アルコキシによって置換されている;または
19およびR20は、それらが結合されているN原子とともに、5員もしくは6員の飽和環または不飽和環であって中断されていないまたはO、SもしくはNR17によって中断されている環を形成し、前記5員もしくは6員の飽和もしくは不飽和の環は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、C1〜C20−アルコキシ、=O、OR17、SR18、NR2122、(CO)R23、NO2、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、フェニル、
Figure 0006038033
またはC3〜C20−シクロアルキルによって置換されており、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR17によって中断されている;または
19およびR20は、それらが結合されているN原子とともに、複素芳香族の環系を形成し、前記環系は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C1〜C20−アルコキシ、=O、OR17、SR18、NR2122、(CO)R23
Figure 0006038033
、ハロゲン、NO2、CN、フェニルまたはC3〜C20−シクロアルキルによって置換されており、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのO、S、COもしくはNR17によって中断されている;
21およびR22は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C3〜C10−シクロアルキルまたはフェニルである;または
21およびR22は、それらが結合されているN原子とともに、5員または6員の飽和または不飽和の環を形成し、前記環は、中断されていないか、またはO、SもしくはNR26によって中断されており、かつ前記5員または6員の飽和環または不飽和環は縮合されていないか、または前記5員または6員の飽和または不飽和の環へとベンゼン環が縮合されている;
23は、水素、OH、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されたアルキル、C3〜C20−シクロアルキルであって中断されていないか、またはO、S、COもしくはNR26によって中断されているアルキルである;または
23は、フェニル、ナフチル、フェニル−C1〜C4−アルキル、OR17、SR18またはNR2122である;
24は、(CO)OR17、CONR1920、(CO)R17であるか、またはR24は、R19およびR20について示された意味の1つを有する;
25は、COOR17、CONR1920、(CO)R17であるか、またはR25は、R17について示した意味の1つを有する;
26は、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのOもしくはCOによって中断されたアルキルであるか、またはR26は、フェニル−C1〜C4−アルキル、C3〜C8−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOもしくはCOによって中断されているか、またはR26は、(CO)R19であるか、またはR26は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18、NR1920もしくは
Figure 0006038033
によって置換されている;
但し、少なくとも1つの基
Figure 0006038033
は、分子中に存在する]の遊離オキシム化合物である。
式(IA)の化合物について定義される基についての優先順位は、以下に示される式(I)の化合物について示されるものに相当するが、但し、それぞれ定義されるオキシムエステル基、例えば
Figure 0006038033
は、相応の遊離のオキシム基
Figure 0006038033
によって交換される。
どのオキシムエステル基も2つの配置(Z)または(E)で存在しうる。慣用の方法によって異性体を分離できるが、光開始する種などの異性体混合物を使用することも可能である。従って、本発明は、式Iの化合物の配置異性体の混合物にも関する。
好ましい化合物は、前記定義の式Iで示され、その式中、
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、
Figure 0006038033
、COR16もしくはNO2である;または
1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8は、互いに独立して、
Figure 0006038033
である;
但し、R1およびR2、R2およびR3、R3およびR4、R5およびR6、R6およびR7またはR7およびR8の対の少なくとも1つは、
Figure 0006038033
であり、
Xは、COまたは直接結合である;
13は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OR17、SR18、COOR17、CONR1920またはPO(OCk2k+12によって置換されている;または
13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、S、NR26もしくはCOによって中断されている;または
13は、フェニルまたはナフチルであり、その両者は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くの
Figure 0006038033
またはCOR16によって置換されている;
14は、C1〜C20−アルキル、フェニルまたはC1〜C8−アルコキシである;
15は、フェニル、ナフチル、C3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18またはC2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのOもしくはSによって中断されたアルキルによって置換されているか、またはそのそれぞれは、1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルであって非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17、CONR1920、フェニル、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C4〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、OR17、SR18、NR1920もしくはPO(OCk2k+12によって置換されたアルキルによって置換されている;または
15は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるかまたは1もしくはそれより多くのOR17、SR18、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、NR1920、COOR17、CONR1920もしくはPO(OCk2k+12によって置換されている;
R′14は、R14について示した意味の1つを有する;
R′15は、R15について示した意味の1つを有する;
16は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920またはC2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのO、SもしくはNR26によって中断されたアルキルによって置換されている;または
16は、フェニルであり、前記フェニルは、1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17、CONR1920、フェニル、C3〜C8−シクロアルキル、C3〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C4〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、OR17、SR18もしくはNR1920によって置換されている;または
16は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、またはハロゲン、フェニル、OH、SH、CN、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)または(CO)O(C1〜C4−アルキル)によって置換されている;
17は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(C1〜C4−アルキル)、(CO)O(C1〜C4−アルキル)、C3〜C20−シクロアルキルまたはC3〜C20−シクロアルキルであって1もしくはそれより多くのOによって中断されているシクロアルキルによって置換されている;または
17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;
18は、(CO)OR17によって置換されたメチルである;
19およびR20は、互いに独立して、水素、フェニル、C1〜C20−アルキル、C1〜C8−アルカノイルもしくはC1〜C8−アルカノイルオキシである;または
19およびR20は、それらが結合されているN原子とともに、複素芳香族の環系を形成し、前記環系は、非置換であるか、または
Figure 0006038033
によって置換されている;
但し、少なくとも1つの基
Figure 0006038033
は、分子中に存在する、化合物である。
強調すべきは、前記定義の式Iで示され、その式中、
1、R2、R5、R6、R7およびR8は、互いに独立して、水素、
Figure 0006038033
、COR16もしくはNO2であり、
3およびR4は、ともに
Figure 0006038033
である;
9、R10、R11およびR12は、水素であり、
Xは、直接結合である;
13は、C1〜C20−アルキルである;
14は、C1〜C20−アルキルである;
15は、C1〜C20−アルキルまたはフェニルであり、前記フェニルは、1もしくはそれより多くのOR17もしくはC1〜C20−アルキルによって置換されている;
16は、フェニルであり、前記フェニルは、1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルもしくはOR17によって置換されている;および
17は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンによって置換されているか、またはR17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているが、
但し、少なくとも1つの基
Figure 0006038033
が分子中に存在する、化合物である。
更に、本発明の対象は、前記定義の式(I)で示され、その式中、
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、互いに独立して、水素であるか、またはR1およびR2、R3およびR4またはR5およびR6は、互いに独立して、一緒になって
Figure 0006038033
であるが、
但し、R1およびR2、R3およびR4またはR5およびR6の対の少なくとも1つは、
Figure 0006038033
であるか、または
2は、
Figure 0006038033
、COR16、NO2または
Figure 0006038033
であるか、または
7は、
Figure 0006038033
またはCOR16である;
9、R11およびR12は、水素である;
10は、水素、OR17またはCOR16である;
Xは、COまたは直接結合である;
13は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、OR17、SR18またはPO(OCk2k+12によって置換されている;または
13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
13は、フェニルである;
kは、2の整数である;
14は、C1〜C20−アルキルまたはチエニルである;
15は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17またはC1〜C20−アルキルによって置換されているか、またはR15は、チエニル、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、C3〜C8−シクロアルキル、NR1920またはCOOR17によって置換されている;または
15は、SO2によって中断されたC2〜C20−アルキルである;または
16は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルによって置換されている;または
16は、チエニルである;
17は、水素、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニルまたはC3〜C20−シクロアルキルによって置換されており、前記シクロアルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;
18は、C3〜C20−シクロアルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOH、O(CO)−C2〜C4−アルケニルまたは(CO)OR17によって置換されている;または
18は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンによって置換されている;
19およびR20は、互いに独立して、C1〜C8−アルカノイルまたはC1〜C8−アルカノイルオキシである;または
19およびR20は、それらが結合されるN原子と一緒になって、5員もしくは6員の飽和環を形成し、前記環は、Oによって中断されているが、
但し、少なくとも1つの基
Figure 0006038033
が分子中に存在する、化合物である。
本発明による化合物の例は、前記定義の式(Ia)〜(Ig)の化合物である。関心が持たれるのは、式(Ia)、(Ib)、(Ic)の化合物、特に(Ia)もしくは(Ic)の化合物または式(Ia)、(Ic)もしくは(Id)の化合物、特に式(Ia)の化合物である。
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、例えば互いに独立して、水素、
Figure 0006038033
またはCOR16であるか、またはR1およびR2、R2およびR3、R3およびR4またはR5およびR6、R6およびR7、R7およびR8は、互いに独立して、
Figure 0006038033
である。
例えば、R3およびR4またはR1およびR2は、一緒になって
Figure 0006038033
であるか、またはR3およびR4ならびにR5およびR6は、一緒になって
Figure 0006038033
である;特にR3およびR4は、一緒になって
Figure 0006038033
である。
1、R5、R6およびR8は、例えば水素である。
7は、特に水素、
Figure 0006038033
またはCOR16である。またはR7は、
Figure 0006038033
またはCOR16、特に
Figure 0006038033
である。
2は、特に
Figure 0006038033
、COR16または
Figure 0006038033
であるか、またはR2は、R1と一緒になって
Figure 0006038033
である。
特にR2は、COR16である。
Xは、好ましくは直接結合である。
9、R10、R11およびR12は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OR17もしくはSR18によって置換されたフェニルである;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、ハロゲン、OR17、SR18またはNR1920であり、その際、前記置換基OR17、SR18またはNR1920は、任意に、基R17、R18、R19および/またはR20を介してナフチル環の炭素原子の1つとともに5員環もしくは6員環を形成する;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、
Figure 0006038033
またはCOR16である。
特に、R9、R10、R11およびR12は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OR17もしくはSR18によって置換されたフェニルである;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、ハロゲン、OR17、SR18またはNR1920である;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、
Figure 0006038033
またはCOR16である。
9、R10、R11およびR12は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキルによって置換されたフェニルである;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、
Figure 0006038033
またはCOR16である。
もう一つの実施態様においては、R9、R10、R11およびR12は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OR17もしくはSR18によって置換されたフェニルである;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、ハロゲン、OR17、SR18またはNR1920であり、その際、前記置換基OR17、SR18またはNR1920は、任意に、基R17、R18、R19および/またはR20を介してナフチル環の炭素原子の1つとともに5員環もしくは6員環を形成する。
更に、R9、R10、R11およびR12は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OR17もしくはSR18によって置換されたフェニルである;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、ハロゲン、OR17、SR18、NR1920またはCOR16である。
または、R9、R10、R11およびR12は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、非置換のフェニルまたは1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OR17もしくはSR18によって置換されたフェニルである;またはR9、R10、R11およびR12は、互いに独立して、ハロゲン、OR17、COR16またはNR1920である。
好ましくは、R9、R11およびR12は、水素であり、かつR10は、水素、OR17またはCOR16である。
13は、例えば、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17もしくはCONR1920によって置換されている;または
13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、S、SO、SO2、NR26もしくはCOによって中断されているか、またはR13は、C2〜C12−アルケニルであり、前記アルケニルは、任意に、1もしくはそれより多くのO、COもしくはNR26によって中断されているか、またはR13は、C3〜C10−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、任意に、1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26によって中断されているか、またはR13は、フェニルまたはナフチルであり、その両方は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920
Figure 0006038033
、COR16、NO2、ハロゲン、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのOによって中断されたアルキルである;またはR13は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR1920もしくはPO(OCk2k+12によって置換されている;またはR13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている。
更に、R13は、例えば、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR1920もしくはPO(OCk2k+12によって置換されているか、またはR13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、またはR13は、C2〜C12−アルケニル、C3〜C10−シクロアルキルであるか、またはR13は、フェニルまたはナフチルであり、その両者は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920
Figure 0006038033
、COR16、NO2、ハロゲン、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであって1もしくはそれより多くのOによって中断されたアルキルによって置換されている。
もう一つの実施態様においては、R13は、例えば、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、OR17、SR18もしくはPO(OCk2k+12によって置換されているか、またはR13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、またはR13は、C2〜C12−アルケニル、C3〜C10−シクロアルキル、フェニルまたはナフチルである。
または、R13は、例えば、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、OR17、SR18もしくはPO(OCk2k+12によって置換されているか、またはR13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、またはR13は、フェニル、C2〜C12−アルケニルまたはC3〜C10−シクロアルキルである。
または、R13は、例えば、C1〜C20−アルキル、フェニル、C2〜C12−アルケニルまたはC3〜C10−シクロアルキルである。
または、R13は、例えば、C1〜C20−アルキル、C2〜C12−アルケニルまたはC3〜C10−シクロアルキルである。
好ましくは、R13は、C1〜C20−アルキル、特にC1〜C8−アルキル、例えば2−エチルヘキシルである。
14は、例えば、水素、C3〜C8−シクロアルキル、C2〜C5−アルケニル、C1〜C20−アルコキシまたはC1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンもしくはフェニルによって置換されている;または
14は、フェニルまたはナフチルであり、その両者は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、ハロゲン、OR17、SR18および/またはNR1920によって置換されている;または
14は、C3〜C5−ヘテロアリール、例えばチエニルであるか、またはR14は、C1〜C8−アルコキシ、ベンジルオキシまたはフェノキシである。
または、R14は、例えば、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンまたはフェニルによって置換されている;または
14は、C3〜C5−ヘテロアリール、例えばチエニルであるか、またはR14は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、ハロゲン、OR17、SR18および/またはNR1920によって置換されている;または
14は、C1〜C8−アルコキシ、ベンジルオキシまたはフェノキシである。
もう一つの実施態様においては、R14は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、またはフェニルによって置換されている;または
14は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキルによって置換されている。
好ましくは、R14は、C1〜C20−アルキル、C3〜C5−ヘテロアリール、例えばチエニルであるか、またはフェニル、特にC1〜C20−アルキルまたはチエニル、特にC1〜C8−アルキルである。
15は、例えば、C6〜C20−アリールまたはC5〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、NO2、OR17、SR18、NR1920、C1〜C20−アルキルによって置換されている;または
15は、水素、C3〜C8−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、任意に、1もしくはそれより多くのO、COまたはNR26によって中断されている;または
15は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OR17、C3〜C8−シクロアルキル、C5〜C20−ヘテロアリール、C8〜C20−フェノキシカルボニル、C5〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、NR1920、COOR17、CONR1920、PO(OCk2k+12
Figure 0006038033
、フェニルまたはフェニルであってハロゲン、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、OR17もしくはNR1920によって置換されたフェニルによって置換されており、前記C1〜C20−アルキルは非置換または置換されている;または
15は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、SもしくはSO2によって中断されているか、または
15は、C2〜C20−アルカノイル、ベンゾイル、C2〜C12−アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、CONR1920、NO2またはC1〜C4−ハロアルキルである。
更に、R15は、例えば、水素、C6〜C20−アリール、特にフェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、またはC1〜C12−アルキルによって置換されているか、またはR15は、C3〜C5−ヘテロアリール、例えばチエニルであるか、またはR15は、C3〜C8−シクロアルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR17、C3〜C8−シクロアルキル、NR1920もしくはCOOR17によって置換されている;または
15は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOもしくはSO2によって中断されている。
関心が持たれるのは、式Iで示され、その式中、R15は、例えば、水素、フェニル、ナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、またはC1〜C8−アルキルによって置換されているか、またはR15は、チエニル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR17、C3〜C8−シクロアルキル、NR1920もしくはCOOR17によって置換されている;または
15は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOもしくはSO2によって中断されている、化合物である。
特に、R15は、例えば、C3〜C8−シクロアルキルまたはC1〜C20−アルキル、特にC1〜C20−アルキル、特にC1〜C12−アルキルである。
R′14およびR′15について好ましいのは、R14およびR15のそれぞれについて上述した通りである。
1は、例えば、O、SまたはSO、例えばOまたはS、特にOである。
16は、例えば、C6〜C20−アリール、特にフェニルまたはナフチル、特にフェニルまたはC5〜C20−ヘテロアリール、特にチエニルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、CN、NO2、OR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、またはそのそれぞれは、1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、COOR17、CONR1920,フェニル、C3〜C8−シクロアルキル、C5〜C20−ヘテロアリール、C6〜C20−アリールオキシカルボニル、C5〜C20−ヘテロアリールオキシカルボニル、OR17、SR18またはNR1920によって置換されている;または
16は、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、フェニル、OH、SH、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−フェニル、(CO)OHまたは(CO)O(C1〜C4−アルキル)によって置換されている;または
16は、C2〜C12−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、またはR16は、(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C2〜C12−アルケニルまたはC3〜C8−シクロアルキルであり、かつnは、1〜20、例えば1〜12または1〜8、特に1または2である。
更なるR16は、例えば、フェニルまたはナフチル、特にフェニル、チエニルまたはカルバゾールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルによって置換されている;または
16は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、フェニル、OH、SH、C3〜C6−アルケンオキシ、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−フェニル、(CO)OHまたは(CO)O(C1〜C4−アルキル)によって置換されている;または
16は、C2〜C12−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、またはR16は、(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C2〜C12−アルケニルまたはC3〜C8−シクロアルキルであり、かつnは、1〜20、例えば1〜12または1〜8、特に1または2である。
更に、R16は、例えば、フェニルまたはナフチル、特にフェニルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのフェニル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルによって置換されている;またはR16は、C3〜C5−ヘテロアリール、特にチエニルである。
特に、R16は、例えば、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルによって置換されているか、またはR16は、チエニルである。
好ましくは、R16は、例えば、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルによって置換されている。
特に、R16は、フェニルであり、前記フェニルは、1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルによって置換されている。
17は、例えば、水素、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OH、OCH2CH2(CO)O(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−フェニル、(CO)OH、(CO)O(C1〜C4−アルキル)、C3〜C20−シクロアルキルまたはC3〜C20−シクロアルキルであって1もしくはそれより多くのOによって中断されたシクロアルキルによって置換されている;または
17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;またはR17は、(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8−アルキル)、C1〜C8−アルカノイル、C2〜C12−アルケニル、C3〜C6−アルケノイルまたはC3〜C20−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、任意に、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
17は、ベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OHまたはC1〜C3−アルコキシによって置換されている;または
17は、フェニル、ナフチルまたはC5〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、OH、C1〜C12−アルキル、C1〜C12−アルコキシ、CN、NO2、フェニル−C1〜C3−アルキルオキシ、フェノキシ、C1〜C12−アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、N(C1〜C12−アルキル)2、ジフェニルアミノまたは
Figure 0006038033
によって置換されている。
もう一つの実施態様においては、R17は、例えば、水素、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C2〜C4−アルケニル)またはC2〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;またはR17は、C1〜C8−アルカノイル、C2〜C12−アルケニル、C3〜C6−アルケノイル、C2〜C20−アルキル(前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている)、C3〜C20−シクロアルキル(前記シクロアルキルは、任意に、1もしくはそれより多くのOによって中断されている)である;またはR17は、ベンゾイルであり、前記ベンゾイルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C6−アルキル、ハロゲン、OHまたはC1〜C3−アルコキシによって置換されている;またはR17は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、C1〜C12−アルキルまたはC1〜C12−アルコキシによって置換されている。
17は、例えばまた、水素、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、C3〜C20−シクロアルキル、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C2〜C4−アルケニル)またはC2〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、または、R17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている。
特に、R17は、水素、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのO(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−(C2〜C4−アルケニル)またはC2〜C20−アルキルによって置換されており、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されているか、またはR17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている。
18は、例えば、C3〜C20−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、中断されていないか、または1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
18は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOH、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)または(CO)OR17によって置換されている;または
18は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのO、S、CO、NR26またはCOOR17によって中断されている;または
18は、C2〜C8−アルカノイルまたはC3〜C6−アルケノイル、ベンゾイルである;または
18は、フェニル、ナフチルまたはC3〜C20−ヘテロアリールであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、C1〜C12−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C1〜C12−アルコキシまたはNO2によって置換されている。
もう一つの実施態様においては、R18は、例えば、C3〜C20−シクロアルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOH、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)または(CO)OR17によって置換されている;または
18は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンまたはC1〜C12−アルキル、特にハロゲンによって置換されている。
18は、例えば、C1〜C20−アルキル、C2〜C12−アルケニル、C3〜C20−シクロアルキル、フェニル−C1〜C3−アルキル、C2〜C8−アルカノイル、ベンゾイル、フェニルまたはナフチルである。
例えば、R18は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOH、O(CO)−C2〜C4−アルケニル、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)または(CO)OR17によって置換されているか、またはR18は、フェニルであり、前記フェニルは、1もしくはそれより多くのハロゲンによって置換されている。
好ましくは、R18は、C1〜C8−アルキルであり、前記アルキルは、前記定義のとおり置換されている。
19およびR20は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C2〜C4−ヒドロキシアルキル、C3〜C20−シクロアルキル、フェニル−C1〜C3−アルキル、フェニルもしくはナフチル、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C8−アルカノイルオキシ、C3〜C12−アルケノイルまたはベンゾイルである;または
19およびR20は、それらが結合されるN原子と一緒になって、5員または6員の飽和環もしくは不飽和環を形成し、前記環は、任意に、O、SまたはNR17によって中断されている;またはR19およびR20は、それらが結合されるN原子と一緒になって、複素芳香族の環系を形成し、前記環系は、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキルまたは
Figure 0006038033
によって置換されている。
更に、R19およびR20は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C2〜C4−ヒドロキシアルキル、C3〜C20−シクロアルキル、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C8−アルカノイルオキシ、C3〜C12−アルケノイルまたはベンゾイルである;または
19およびR20は、それらが結合されるN原子と一緒になって、5員または6員の飽和環を形成し、前記環は、任意に、OまたはNR17によって中断されている;またはR19およびR20は、それらが結合されるN原子と一緒になって、カルバゾール環を形成する。
19およびR20は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C2〜C4−ヒドロキシアルキル、C3〜C20−シクロアルキル、フェニル−C1〜C3−アルキル、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C8−アルカノイルオキシ、C3〜C12−アルケノイルまたはベンゾイルである;または
19およびR20は、それらが結合されるN原子と一緒になって、5員もしくは6員の飽和環を形成し、前記環は、任意に、OまたはNR17によって中断されている。
好ましくは、R19およびR20は、互いに独立して、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C8−アルカノイルオキシである;またはR19およびR20は、それらが結合されるN原子と一緒になって、モルホリノ環を形成する。
21およびR22は、例えば、互いに独立して、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C3〜C10−シクロアルキルまたはフェニルである;または
21およびR22は、それらが結合されるN原子と一緒になって、モルホリノ環を形成する。特に、R11およびR12は、互いに独立して、水素またはC1〜C20−アルキルである。
23は、例えば、水素、OH、フェニルまたはC1〜C20−アルキルである。特に、R23は、水素、OHまたはC1〜C4−アルキルである。
24について好ましいのは、R19およびR20について示した通りである。R25について好ましいのは、R17について示した通りである。
26は、例えば、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキル、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOまたはCOによって中断されているか、またはR26は、フェニル−C1〜C4−アルキル、C3〜C8−シクロアルキルであり、前記シクロアルキルは、任意に、1またはそれより多くのOまたはCOによって中断されているか、またはR26は、(CO)R19またはフェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキル、ハロゲン、C1〜C4−ハロアルキル、OR17、SR18、NR1920によって置換されている。
または、R26は、例えば、水素、C1〜C20−アルキル、C1〜C4−ハロアルキルを示し、R26は、フェニル−C1〜C4−アルキル、C3〜C8−シクロアルキル、(CO)R19またはフェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのC1〜C20−アルキルによって置換されている。更に、R26は、例えば、水素またはC1〜C20−アルキル、特にC1〜C4−アルキルである。
本発明の式Iの化合物の例は、
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
である。
式Iの化合物は、ラジカル光開始剤として適している。従って、本発明の対象は、上記定義の式(I)の化合物の、少なくとも1種のエチレン性不飽和の光重合性の化合物を含む組成物の光重合のための使用である。
従って、本発明のもう一つの対象は、光重合性の組成物であって、
(a)少なくとも1種のエチレン性不飽和の光重合性の化合物と、
(b)光開始剤としての、上記定義の、少なくとも1種の式Iの化合物と、
を含む前記組成物である。
該組成物は、前記光開始剤(b)に加えて、少なくとも1種の更なる光開始剤(c)および/または他の添加剤(d)を含有してよい。
該組成物は、前記光開始剤(b)に加えて、少なくとも1種の更なる光開始剤(c)もしくは他の添加剤(d)またはその両方、つまり少なくとも1種の更なる光開始剤(c)および他の添加剤(d)を含有してよい。
不飽和化合物(a)は、1つまたはそれより多くのオレフィン性二重結合を含んでよい。それらは、低分子量(モノマー)または高分子量(オリゴマー)であってよい。二重結合を含むモノマーの例は、アルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルアクリレート、シクロアルキルアクリレート(任意にOによって中断されている)もしくはアミノアクリレート、またはアルキルメタクリレート、ヒドロキシアルキルメタクリレート、シクロアルキルメタクリレート(任意にOによって中断されている)もしくはアミノメタクリレート、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレートもしくは2−ヒドロキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレートまたはエチルメタクリレートである。シリコーンアクリレートも好ましい。他の例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル、例えば酢酸ビニル、ビニルエーテル、例えばイソブチルビニルエーテル、スチレン、アルキルおよびハロスチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデンである。
2つまたはそれより多くの二重結合を含有するモノマーの例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコールの、またはビスフェノールAのジアクリレート、および4,4’−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートまたはテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシネート、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレートまたはトリス(2−アクリロイルエチル)イソシアヌレートである。
比較的高分子量の多価不飽和化合物(オリゴマー)の例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリレート基、ビニルエーテル基もしくはエポキシ基を有するポリエステルならびにまたポリウレタンおよびポリエーテルである。不飽和オリゴマーのさらなる例は、不飽和ポリエステル樹脂であり、それは通常、マレイン酸、フタル酸および1つまたはそれより多くのジオールから調製され、かつ、約500〜3000の分子量を有する。さらには、ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマー、さらには、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエーテルおよびエポキシ主鎖を有するマレエート末端化オリゴマーを用いることも可能である。特に適しているのは、ビニルエーテル基を所有するオリゴマーの、およびWO90/01512内に記載されるポリマーの組み合わせである。しかしながら、ビニルエーテルとマレイン酸官能化モノマーとのコポリマーも適している。この種の不飽和オリゴマーも、プレポリマーとして示すことができる。
特に適した例は、エチレン性不飽和カルボン酸とポリオールまたはポリエポキシドとのエステル、およびエチレン性不飽和基を鎖内または側鎖内に有するポリマー、例えば、不飽和ポリエステル、ポリアミドおよびポリウレタンおよびそれらのコポリマー、側鎖内に(メタ)アクリル酸基を含有するポリマーおよびコポリマー、さらには1つまたはそれより多くのかかるポリマーの混合物である。
不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸、および不飽和脂肪酸、例えばリノレン酸またはオレイン酸である。アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。
適したポリオールは、芳香族の、および特に脂肪族および脂環式のポリオールである。芳香族ポリオールの例は、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシジフェニル、2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、さらにはノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシドの例は、上述のポリオール、特に芳香族ポリオールに基づくもの、およびエピクロロヒドリンである。他の適したポリオールは、ポリマー鎖内または側鎖内にヒドロキシル基を含有するポリマーおよびコポリマーであり、例はポリビニルアルコールおよびそれらのコポリマーまたはポリヒドロキシアルキルメタクリレートまたはそれらのコポリマーである。適したさらなるポリオールは、ヒドロキシル末端基を有するオリゴエステルである。
脂肪族および脂環式ポリオールの例は、好ましくは2〜12個のC原子を有するアルキレンジオール、例えばエチレングリコール、1,2−または1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−または1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、好ましくは200〜1500の分子量を有するポリエチレングリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−、1,3−または1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトールおよびソルビトールである。
該ポリオールは、部分的または完全に、1つのカルボン酸または種々の不飽和カルボン酸でエステル化されていてよく、かつ、部分的なエステルにおいて、遊離ヒドロキシル基が変性され、例えば他のカルボン酸でエーテル化またはエステル化されていてよい。エステルの例は以下である:
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレート、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリトリトールオクタアクリレート、ペンタエリトリトールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ジペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエリトリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリトリトールオクタメタクリレート、ペンタエリトリトールジイタコネート、ジペンタエリトリトールトリス−イタコネート、ジペンタエリトリトールペンタイタコネート、ジペンタエリトリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトール−変性トリアクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリレート、グリセロールジアクリレートおよびトリアクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、200〜1500の分子量を有するポリエチレングリコールのビスアクリレートおよびビスメタクリレート、またはそれらの混合物。
成分(a)として、同一または異なる、不飽和カルボン酸と、好ましくは2〜6、特に2〜4つのアミノ基を有する、芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンとのアミドも適している。かかるポリアミンの例は、エチレンジアミン、1,2−または1,3−プロピレンジアミン、1,2−、1,3−または1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジ(β−アミノエトキシ)エタンまたはジ(β−アミノプロポキシ)エタンである。他の適したポリアミンは、好ましくは側鎖内でさらなるアミノ基を有するポリマーおよびコポリマー、およびアミノ末端基を有するオリゴアミドである。かかる不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミン−トリスメタクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレートおよびN[(β−ヒドロキシエトキシ)エチル]アクリルアミドである。
適した不飽和ポリエステルおよびポリアミドは、例えばマレイン酸から、およびジオールまたはジアミンから誘導される。いくつかのマレイン酸を他のジカルボン酸によって置き換えることができる。それらを、エチレン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用できる。該ポリエステルおよびポリアミドを、ジカルボン酸から、およびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンから、特に比較的長い鎖、例えば6〜20個のC原子を有するものから誘導してもよい。ポリウレタンの例は、飽和または不飽和ジイソシアネートで、および不飽和またはそれぞれ飽和したジオールで構成されるものである。
側鎖内に(メタ)アクリレート基を有するポリマーも同様に公知である。それらは、例えばノボラックベースのエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるか、またはビニルアルコール、または(メタ)アクリル酸でエステル化されたそれらのヒドロキシアルキル誘導体のホモポリマーまたはコポリマーであるか、またはヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートでエステル化された(メタ)アクリレートのホモポリマーおよびコポリマーであってよい。
側鎖中にアクリレート基またはメタクリレート基を有する他の好適なポリマーは、例えば、分子中の主鎖またはエステル基のいずれかに結合された光重合性の側基を有する溶媒可溶性のまたはアルカリ可溶性のポリイミド前駆体、例えばポリ(アミド酸エステル)化合物、すなわちEP624826による化合物である。かかるオリゴマーまたはポリマーは、高感度のポリイミド前駆体レジストの製造のために、新規の光開始剤と、任意に反応性希釈剤、例えば多官能性の(メタ)アクリレートとともに配合されていてよい。
光重合性の化合物を、単独で、または任意の所望の混合物で使用できる。ポリオール(メタ)アクリレートの混合物を使用することが好ましい。
成分(a)の例は、また、少なくとも2つのエチレン性不飽和基と少なくとも1つのカルボキシル官能を分子構造内に有するポリマーまたはオリゴマー、例えば飽和もしくは不飽和の多塩基性酸無水物と、エポキシ化合物および不飽和モノカルボン酸の反応の生成物との反応によって得られる樹脂、例えばJP6−1638およびJP10301276に記載される感光性化合物および市販製品、例えばEB9696、UCB Chemicals;KAYARAD TCR1025、Nippon Kayaku Co.,LTDまたはカルボキシル基を有する樹脂とα,β−不飽和二重結合とエポキシ基とを有する不飽和化合物との間で形成される付加生成物(例えばACA200M、Daicel Industries, Ltd.)である。
希釈剤として、一官能性のまたは多官能性のエチレン性不飽和化合物または幾つかの前記化合物の混合物は、前記組成物中に、該組成物の固形分に対して70質量%までで含まれていてよい。
本発明の対象は、また、前記の光重合性の組成物であって、成分(a)が、飽和もしくは不飽和の多塩基性酸無水物と、エポキシ樹脂および不飽和モノカルボン酸の反応の生成物との反応によって得られる樹脂である前記組成物である。
かかる成分は、例えばJP06−1938、JP08−278629、JP08−278630、JP10−301276、JP2001−40022、JP10−221843、JP11−231523、JP2002−206014−AまたはJP2006−53569−Aに記載されており、その開示内容は、参照をもって本願に記載されたものとする。
不飽和化合物(a)を、光重合可能でない、膜形成成分との混合物として使用することもできる。それらは例えば、物理的に乾燥しているポリマーまたは有機溶剤中のそれらの溶液、例えばニトロセルロースまたはセルロースアセトブチレートであってよい。しかしながら、それらは化学的硬化および/または熱硬化できる(熱硬化性)樹脂であってもよく、例は、ポリイソシアネート、ポリエポキシドおよびメラミン樹脂、ならびにポリイミド前駆体である。熱硬化性樹脂を同時に使用することは、第一の段階において光重合されかつ第二の段階において熱的な後処理により架橋される、ハイブリッド系として公知の系における使用のために重要である。
本発明は、成分(a)として、水中に乳化または溶解されている、少なくとも1つのエチレン性不飽和の光重合性の化合物を含む組成物も提供する。
多くの種類のかかる放射硬化性の水性プレポリマー分散液が市販である。プレポリマー分散液とは、水と、そこに分散された少なくとも1つのプレポリマーとの分散液であるとして理解される。これらの系中の水の濃度は、例えば5〜80質量%、特に30〜60質量%である。放射硬化性のプレポリマーまたはプレポリマー混合物の濃度は、例えば、95〜20質量%、特に70〜40質量%である。それらの組成物において、水およびプレポリマーについて与えられるパーセンテージの合計は、それぞれの場合において100であり、助剤および添加剤は意図されている用途に依存して変化する量で添加される。
放射硬化性の被膜形成性のプレポリマーであって、水中に分散され、かつしばしば溶解もされているプレポリマーは、自体公知の一官能性のもしくは多官能性のエチレン性不飽和のプレポリマーの水性プレポリマー分散液であり、それはフリーラジカルによって開始することができ、かつ100gのプレポリマーあたりに、0.01〜1.0モルの重合性の二重結合の含分と、例えば少なくとも400の、特に500〜10000の平均分子量とを有する。しかしながら、より高い分子量を有するプレポリマーも、意図される用途に依存して考えられる。例えば、重合性のC−C二重結合を有し、かつ10以下の酸価を有するポリエステル、重合可能なC−C二重結合を含有するポリエーテル、分子1つあたり少なくとも2つのエポキシド基を含有するポリエポキシドと少なくとも1つのα,βエチレン性不飽和カルボン酸とのヒドロキシル含有反応生成物、ポリウレタン(メタ)アクリレート、およびα,βエチレン性不飽和アクリルラジカルを含有するアクリル酸コポリマーが、EP12339内に記載される通り、使用される。それらのプレポリマーの混合物を同様に使用できる。EP33896に記載される重合性のプレポリマーも適しており、それらは重合性のプレポリマーのチオエーテル付加物であり、少なくとも600の平均分子量を有し、0.2〜15%のカルボキシル基含有率を有し、かつ100gのプレポリマーあたりに0.01〜0.8モルの重合性のC−C二重結合の含分を有する。特定のアルキル(メタ)アクリレートポリマーを基礎とする他の好適な水性分散液は、EP41125に記載されており、かつウレタンアクリレートの好適な水分散性の放射硬化性のプレポリマーは、DE2936039に見出すことができる。それらの放射硬化性の水性プレポリマー分散液中に含まれ得るさらなる添加剤は、分散助剤、乳化剤、酸化防止剤、例えば2,2−チオビス(4−メチル−6t−ブチルフェノール)または2,6−ジ−t−ブチルフェノール、光安定剤、染料、顔料、充填剤、例えばガラスもしくはアルミナ、例えばタルク、石膏、ケイ酸、ルチル、カーボンブラック、亜鉛酸化物、鉄酸化物、反応促進剤、均染剤、潤滑剤、湿潤剤、増粘剤、つや消し剤、消泡剤および塗料技術において慣例的な他の助剤である。適した分散助剤は、高分子量であり、かつ極性基を含有する水溶性有機化合物であり、例は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、またはセルロースエーテルである。使用できる乳化剤は、非イオン性乳化剤であり、および必要であれば、同様にイオン性乳化剤である。
もちろんまた、他の公知の光開始剤(c)、例えばカンファーキノン、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体を有する混合物、例えば以下に示されるもの、ケタール化合物、例えばベンジルジメチルケタール(Irgacure(登録商標)651);アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、例えばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトンもしくはα−ヒドロキシアルキルフェニルケトン、例えば2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパノン(Darocur(登録商標)1173)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(Irgacure(登録商標)184)、1−(4−ドデシルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチル−エタン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(Irgacure(登録商標)2959);2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(Irgacure(登録商標)127);2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)フェノキシ]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン;1−[4−(ベンゾイル−フェニル−チア)フェニル]−2−メチル−2−(p−トリルスルホニル)プロパン−1−オン(Esacure(登録商標)1001M);オリゴマー型のα−ヒドロキシアルキルフェニルケトン、例えばEsacure(登録商標)ONE、Esacure(登録商標)KIP 100;ジアルコキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、例えば(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン(Irgacure(登録商標)907)、(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン(Irgacure(登録商標)369)、(4−モルホリノベンゾイル)−1−(4−メチルベンジル)−1−ジメチルアミノプロパン(Irgacure(登録商標)379)、(4−(2−ヒドロキシエチル)アミノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン)、(3,4−ジメトキシベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチル−アミノプロパン;4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエーテル、フェニルグリオキサル酸エステルおよびそれらの誘導体、例えばメチル α−オキソベンゼンアセテート、オキソ−フェニル酢酸 2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルエステル、ダイマー型のフェニルグリオキサル酸エステル、例えばオキソ−フェニル酢酸 1−メチル−2−[2−(2−オキソ−2−フェニル−アセトキシ)プロポキシ]エチルエステル(Irgacure(登録商標)754);他のオキシムエステル、例えば1,2−オクタンジオン 1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−(O−ベンゾイルオキシム)(Irgacure(登録商標)OXE01)、エタノン 1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)(Irgacure(登録商標)OXE02)、9H−チオキサンテン−2−カルボキシアルデヒド 9−オキソ−2−(O−アセチルオキシム)、ペルエステル、例えばベンゾフェノン テトラカルボン酸ペルエステル、例えばEP126541に記載されるペルエステル、モノアシルホスフィンオキシド、例えば(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルホスフィンオキシド(Darocur(登録商標)TPO)、エチル(2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニル)ホスフィン酸エステル;ビスアシルホスフィンオキシド、例えばビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−(2,4,4−トリメチル−ペンチル)ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(Irgacure(登録商標)819)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキシド、ハロメチルトリアジン、例えば2−[2−(4−メトキシフェニル)ビニル]−4,6−ビストリクロロメチル−[1,3,5]トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビストリクロロメチル−[1,3,5]トリアジン、2−(3,4−ジメトキシフェニル)−4,6−ビストリクロロメチル−[1,3,5]トリアジン、2−メチル−4,6−ビス−トリクロロメチル−[1,3,5]トリアジン、ヘキサアリールビスイミダゾール/共開始剤系、例えばオルトクロロヘキサフェニル−ビスイミダゾールと2−メルカプトベンゾチアゾールとを組み合わせたもの、フェロセニウム化合物またはチタノセン、例えばビス(シクロペンタジエニル)ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリルフェニル)チタニウム(Irgacure(登録商標)784)を有する混合物を添加することも可能である。さらに、ボレート化合物を共開始剤として使用できる。Darocur(登録商標)およびIrgacure(登録商標)化合物は、BASF SEから入手でき、Esacureは、Lamberti SPAから入手できる。
新規の光開始剤がハイブリッド系中で用いられる場合、新規のフリーラジカル硬化剤に加えて、カチオン性光開始剤、例えばペルオキシド化合物、例えばベンゾイルペルオキシド(他の適したペルオキシドはUS4950581、第19欄、17〜25行目内に記載されている)、芳香族スルホニウム塩、ホスホニウム塩もしくはヨードニウム塩(例えばUS4950581、第18欄、60行目〜第19欄10行目内に記載されている)、またはシクロペンタジエニル−アレーン−鉄(II)錯塩、例えば(η6−イソプロピルベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェートならびにオキシムスルホン酸エステルが使用され、それは例えばEP780729に記載されている。また、例えばEP497531およびEP441232に記載されるピリジニウムおよび(イソ)キノリニウム塩は、新規の光開始剤と組み合わせて使用してよい。
新規の光開始剤を、単独でまたは他の公知の光開始剤および増感剤との混合物で、水中の分散液もしくはエマルジョンまたは水溶液の形で使用することもできる。前記化合物がエマルジョンまたは分散液で使用される場合に、慣用の分散剤または乳化剤が、安定なエマルジョンもしくは分散液の製造のために添加される。相応の好適な添加剤は、当業者に公知である。
光重合性の組成物は、一般に、固体組成物に対して、0.05〜25質量%の、好ましくは0.01〜10質量%の、特に0.01〜5質量%の光開始剤を含有する。その量は、開始剤の混合物が用いられる場合、添加される全ての光開始剤の合計に関する。従って、その量は光開始剤(b)または光開始剤(b)+(c)のいずれかに関する。
光開始剤に加えて、光重合可能な混合物は様々な添加剤(d)を含んでよい。それらの例は、熱抑制剤であり、それは時期尚早な重合を阻止することが意図されており、例はヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトールまたは立体障害フェノール、例えば2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾールである。暗い場所での貯蔵安定性を高めるために、例えば銅化合物、例えばナフテン酸銅、ステアリン酸銅またはオクタン酸銅、リン化合物、例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフィット、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジルホスフィット、四級アンモニウム化合物、例えば塩化テトラエチルアンモニウムまたは塩化トリメチルベンジルアンモニウム、またはヒドロキシルアミン誘導体、例えばN−ジエチルヒドロキシルアミンを使用することが可能である。重合の間、雰囲気中の酸素を除外するために、パラフィン、または同様のワックス状物質を添加することが可能であり、それはポリマー中に不充分に溶解し、重合の開始時に表面に移動し、そして空気の侵入を妨げる透明な表面層を形成する。また、酸素不透過層を、コーティング、例えばポリ(ビニルアルコール−コ−ビニルアセテート)の上部に適用することも可能である。少量で添加できる光安定剤は、UV吸収剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニル−ベンゾフェノン、オキサルアミドまたはヒドロキシフェニル−s−トリアジン型のものである。該化合物を、個々に、または混合物で、立体障害アミン(HALS)を用いて、または用いずに使用することができる。かかるUV吸収剤および光安定剤の例は、WO04/074328、12頁、9行目〜14頁、23行目に開示されており、前記の開示はここで参照を持って開示されるものとする。
光重合を促進するために、成分(d)として、アミン、例えばトリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、エチル−p−ジメチルアミノベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、2−エチルヘキシル−p−ジメチルアミノベンゾエート、オクチル−パラ−N,N−ジメチルアミノベンゾエート、N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−パラ−トルイジンまたはミヒラーケトンを添加することが可能である。アミンの作用を、ベンゾフェノン型の芳香族ケトンの添加によって強めることができる。酸素捕捉剤として使用できるアミンの例は、EP339841内に記載される通り、置換されたN,N−ジアルキルアニリンである。他の促進剤、共開始剤および自己酸化剤(autoxidizer)は、チオール、チオエーテル、ジスルフィド、ホスホニウム塩、ホスフィンオキシドまたはホスフィンであり、例えばEP438123内、GB2180358内および特開平6−68309内に記載される。
さらに、当該技術分野で慣例的な連鎖移動剤を、成分(d)として本発明による組成物に添加することが可能である。例は、メルカプタン、アミンおよびベンゾチアゾールである。
光重合を、スペクトル感度をシフトさせるか、または広げる、さらなる光増感剤または共開始剤(成分(d)として)を添加することによって促進することもできる。これらは、特に、芳香族化合物、例えばベンゾフェノンおよびそれらの誘導体、チオキサントンおよびそれらの誘導体、アントラキノンおよびそれらの誘導体、クマリンおよびフェノチアジンおよびそれらの誘導体ならびにまた3−(アロイルメチレン)チアゾリン、ローダニン、カンファーキノンであるが、またエオシン、ローダミン、エリスロシン、キサンテン、チオキサンテン、アクリジン、例えば9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス(9−アクリジニル)ペンタン、シアニンおよびメロシアニン色素である。適した増感剤化合物(D)の例は、WO06/008251内、36頁、30行目〜38頁、8行目に開示され、その開示はここで参照を持って開示されるものとする。
更なる添加剤(d)としてベンゾフェノンおよびそれらの誘導体、チオキサントンおよびそれらの誘導体、アントラキノンおよびそれらの誘導体またはクマリンおよびそれらの誘導体からなる群から選択される増感剤化合物を含む光重合性の組成物が好ましい。
ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラキノン誘導体およびクマリン誘導体の例は、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、4−メトキシベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジメチルベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(メチルエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(p−イソプロピルフェノキシ)ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−(4−メチルチオフェニル)ベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチル−2−ベンゾイルベンゾエート、4−(2−ヒドロキシエチルチオ)ベンゾフェノン、4−(4−トリルチオ)ベンゾフェノン、1−[4−(4−ベンゾイル−フェニルスルファニル)フェニル]−2−メチル−2−(トルエン−4−スルホニル)プロパン−1−オン、4−ベンゾイル−N,N,N−トリメチルベンゼンメタンアミニウムクロリド、2−ヒドロキシ−3−(4−ベンゾイル−フェノキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロリド一水和物、4−(13−アクリロイル−1,4,7,10,13−ペンタオキサトリデシル)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニル)オキシ]エチル−ベンゼンメタンアミニウムクロリド;チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−メトキシカルボニルチオキサントン、2−エトキシカルボニルチオキサントン、3−(2−メトキシエトキシカルボニル)チオキサントン、4−ブトキシカルボニルチオキサントン、3−ブトキシカルボニル−7−メチルチオキサントン、1−シアノ−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−エトキシチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−アミノチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−フェニルスルフリルチオキサントン、3,4−ジ[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシカルボニル]チオキサントン、1,3−ジメチル−2−ヒドロキシ−9H−チオキサンテン−9−オン、2−エチルヘキシルエーテル、1−エトキシカルボニル−3−(1−メチル−1−モルホリノエチル)チオキサントン、2−メチル−6−ジメトキシメチル−チオキサントン、2−メチル−6−(1,1−ジメトキシエチル)チオキサントン、2−モルホリノメチルチオキサントン、2−メチル−6−モルホリノエチルチオキサントン、N−アリルチオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、N−オクチルチオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、N−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)チオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、1−フェノキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メトキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メチルチオキサントン、チオキサントン−2−カルボン酸ポリエチレングリコールエステル、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9H−チオキサントン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウムクロリド、クマリン1、クマリン2、クマリン6、クマリン7、クマリン30、クマリン102、クマリン106、クマリン138、クマリン152、クマリン153、クマリン307、クマリン314、クマリン314T、クマリン334、クマリン337、クマリン500、3−ベンゾイルクマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジプロポキシクマリン、3−ベンゾイル−6,8−ジクロロクマリン、3−ベンゾイル−6−クロロ−クマリン、3,3′−カルボニル−ビス[5,7−ジ(プロポキシ)クマリン]、3,3′−カルボニル−ビス(7−メトキシクマリン)、3,3′−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、3−イソブチロイルクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジエトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジブトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(メトキシエトキシ)クマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(アリルオキシ)クマリン、3−ベンゾイル−7−ジメチルアミノクマリン、3−ベンゾイル−7−ジエチルアミノクマリン、3−イソブチロイル−7−ジメチルアミノクマリン、5,7−ジメトキシ−3−(1−ナフトイル)クマリン、5,7−ジエトキシ−3−(1−ナフトイル)クマリン、3−ベンゾイルベンゾ[f]クマリン、7−ジエチルアミノ−3−チエノイルクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジメトキシクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジプロポキシクマリン、7−ジメチルアミノ−3−フェニルクマリン、7−ジエチルアミノ−3−フェニルクマリン、JP09−179299−AおよびJP09−325209−Aに開示されるクマリン誘導体、例えば7−[{4−クロロ−6−(ジエチルアミノ)−S−トリアジン−2−イル}アミノ]−3−フェニルクマリン、9,10−アントラキノンならびにアントラセンである。
増感剤を、特に顔料着色された(例えば二酸化チタンで着色された)組成物中に添加することによって、また、熱的な条件下でフリーラジカルを形成する成分、例えばアゾ化合物、例えば2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、トリアゼン、ジアゾスルフィド、ペンタアザジエンまたはペルオキシ化合物、例えばヒドロペルオキシドまたはペルオキシカーボネート、例えばt−ブチルヒドロペルオキシド(例えばEP245639内に記載される)を添加することによって、硬化工程を補助できる。本発明による組成物は、さらなる添加剤(D)として、光還元性染料、例えばキサンテン染料、ベンゾキサンテン染料、ベンゾチオキサンテン染料、チアジン染料、ピロニン染料、ポルフィリン染料またはアクリジン染料、および/または照射によって開裂できるトリハロゲンメチル化合物を含んでよい。同様の組成物は例えばEP445624内に記載されている。
当該技術分野で公知の更なる添加剤を、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランおよび3−メルカプトプロピルトリメトキシシランを、成分(d)として、例えば流動向上剤として、付着促進剤として添加してよい。界面活性剤、蛍光増白剤、顔料、染料、湿潤剤、レベリング助剤、分散剤、凝集抑制剤、酸化防止剤または充填剤は、添加剤(d)についての更なる例である。
厚くかつ着色された被覆物を硬化させるために、例えばUS5013768内に記載される通り、ガラス微小球または微粉砕ガラス繊維を添加することが適切である。更に好適な成分(d)は、既に上述のように、界面活性剤および分散剤ならびに他の成分、特に配合物中の顔料もしくは着色剤の適用を補助するための成分である。
顔料が分散しやすくするために、かつ得られた顔料分散液を安定化するために、顔料の表面処理を適用することが好ましい。表面処理試薬は、例えば、界面活性剤、ポリマー型分散剤、一般的なテクスチャ向上剤、顔料誘導体およびそれらの混合物である。本発明による着色剤組成物が少なくとも1種のポリマー型分散剤および/または少なくとも顔料誘導体を含む場合に特に好ましい。好適な界面活性剤は、アニオン系界面活性剤、例えばアルキルベンゼンスルホネートもしくはアルキルナフタレンスルホネート、アルキルスルホコハク酸塩もしくはナフタレンホルムアルデヒドスルホネート;カチオン系界面活性剤、例えば第四級塩、例えばベンジルトリブチルアンモニウムクロリド;または非イオン系もしくは両性界面活性剤、例えばポリオキシエチレン界面活性剤ならびにアルキルベタインもしくはアミドプロピルベタインをそれぞれ含む。
界面活性剤の実例は、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテルおよびポリオキシエチレンオレイルエーテル;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、例えばポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルおよびポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル;ポリエチレングリコールジエステル、例えばポリエチレングリコールジラウレートおよびポリエチレングリコールジステアレート;ソルビタン脂肪酸エステル;脂肪酸変性ポリエステル;第三級アミン変性ポリウレタン;ポリエチレンイミン;KPの商品名で入手可能なもの(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd社の製品)、Polyflowの商品名で入手可能なもの(KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd社の製品)、F-Topの商品名で入手可能なもの(To-chem Products Co.,Ltd社の製品)、MEGAFACの商品名で入手可能なもの(Dainippon Ink & Chemicals, Inc.社の製品)、Fluoradの商品名で入手可能なもの(Sumitomo 3M Ltd社の製品)、Asahi GuardおよびSurflonの商品名で入手可能なもの(Asahi Glass Co.,Ltd社の製品)などを含む。
これらの界面活性剤は、単独でまたは2つ以上の混合物で使用してよい。
前記界面活性剤は、一般に、着色剤組成物100質量部に対して、50質量部以下の量で、好ましくは0〜30質量部の量で使用される。
ポリマー型分散剤は、顔料親和性基を有する高分子量ポリマーを含む。例は、例えばスチレン誘導体、(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリルアミドから構成される統計コポリマーならびにかかる統計コポリマーであって後変性によって変性されているコポリマー;例えばスチレン誘導体、(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリルアミドから構成されるブロックコポリマーおよび/または櫛形ポリマーならびにかかるブロックコポリマーおよび/または櫛形ポリマーであって後変性によって変性されているポリマー;ポリエチレンイミンであって、例えばポリエステルでグラフトされているもの;ポリアミンであって、例えばポリエステルでグラフトされているもの;ならびに多種の(変性)ポリウレタンである。
ポリマー型分散剤を使用してもよい。好適なポリマー型分散剤は、例えばBYK社のDISPERBYK(登録商標)101、115、130、140、160、161、162、163、164、166、168、169、170、171、180、182、2000、2001、2009、2020、2025、2050、2070、2090、2091、2095、2096、2150、2163、2164、BASF社のEFKA(登録商標)4008、4009、4010、4015、4020、4046、4047、4050、4055、4060、4061、4080、4300、4310、4320、4330、4340、4400、4401、4402、4403、4406、4500、4510、4520、4530、4540、4550、4560、4570、4580、4585、4590、4800、Ajinomoto Fine Techno社のAjisper PB(登録商標)711、821、822、823、824、827、881、Lubrizol社のSOLSPERSE(登録商標)1320、13940、17000、20000、21000、24000、26000、27000、28000、31845、32000、32500、32550、32600、33500、34750、36000、36600、37500、38500、39000、41000、41090、44000、53095、Kawaken Fine Chemical社のHinoact KF-1300M、T-6000、T-8000、T-8000E、T-9050、Kusumoto Chemicals社のDisparlon PW-36、DA-325、DA-375、DA-7301、Kyoheisha Chemical社のFlowlen DOPA-15B、DOPA-15BHFS、DOPA-17HF、DOPA-22、DOPA-33、G-600、G-700、G-820、G-900、NC-500、KDG-2400ならびにそれらの組み合わせである。
EFKA(登録商標)4046、4047、4060、4061、4300、4310、4320、4330、4340、4585、DISPERBYK(登録商標)161、162、163、164、165、166、168、169、170、2000、2001、2020、2050、2090、2091、2095、2096、2105、2150、2163、2164、PB(登録商標)711、821、822、823、824、827、881、SOLSPERSE(登録商標)24000、31845、32500、32550、32600、33500、34750、36000、36600、37500、39000、41090、44000、53095、Hinoact T-6000、T-8000E、Disparlon PW-36、DA-7301ならびにそれらの組み合わせを分散剤として使用することが好ましい。
好適なテクスチャ向上剤は、例えば脂肪酸、例えばステアリン酸またはベヘン酸ならびに脂肪アミン、例えばラウリルアミンおよびステアリルアミンである。更に、脂肪アルコールまたはエトキシ化脂肪アルコールポリオール、例えば脂肪族の1,2−ジオールまたはエポキシ化大豆油、ワックス、樹脂酸ならびに樹脂酸塩を、このために使用してよい。
好適な顔料分散剤は、例えば銅フタロシアニン誘導体、例えばBASF社のEFKA(登録商標)6745、Lubrizol社のSOLSPERSE(登録商標)5000、12000、BYK社のSYNERGIST 2100ならびにアゾ誘導体、例えばEFKA(登録商標)6750、SOLSPERSE(登録商標)22000およびSYNERGIST 2105である。
顔料用の上述の分散剤および界面活性剤は、例えばレジスト配合物として使用される組成物において、特にカラーフィルター配合物において使用される。
本発明の対象は、また、上記の光重合性の組成物であって、更なる添加剤(d)として、分散剤もしくは分散剤の混合物を含む前記組成物ならびに上記の光重合性の組成物であって、更なる添加剤(d)として顔料もしくは顔料の混合物を含む前記組成物である。
用途の分野に応じて、かつこの分野に必要とされる特性に応じて、添加剤(d)が選択される。上記の添加剤は当該技術分野で慣例的であり、従ってそれぞれの用途において通常の量で添加される。
結合剤(e)は、同様に新規組成物に添加してよい。これは、光重合性の化合物が液体または粘性物質である場合、特に好都合である。結合剤の量は、固体含有物全体に対して、例えば2〜98質量%、好ましくは5〜95質量%、特に20〜90質量%であってよい。結合剤は、用途の分野に依存して、およびこの分野のために必要とされる特性、例えば水および有機溶剤系における現像能力、基材への付着、および酸素に対する感度に依存して選択される。
適した結合剤の例は、約2000〜2000000、好ましくは3000〜1000000の分子量を有するポリマーである。アルカリ現像型の結合剤の例は、ペンダント基としてカルボン酸官能を有するアクリルポリマー、例えばエチレン性不飽和カルボン酸、例えば(メタ)アクリル酸、2−カルボキシエチル(メタ)アクリル酸、2−カルボキシプロピル(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸およびω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートを、(メタ)アクリル酸のエステル、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート;ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−クロロスチレン、ビニルベンジルグリシジルエーテル;アミド型不飽和化合物、(メタ)アクリルアミドジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ブトキシメタクリルアミドならびにポリオレフィン型化合物、例えばブタジエン、イソプレン、クロロプレンなど;メタクリロニトリル、メチルイソプロペニルケトン、モノ−2−[(メタ)アクリロイルオキシ]エチルスクシネート、N−フェニルマレイミド、無水マレイン酸、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバル酸ビニル、ポリスチレンマクロモノマーまたはポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマーから選択される1もしくはそれより多くのモノマーとともに共重合させることによって得られる慣用的に知られるコポリマーである。コポリマーの例は、アクリレートおよびメタクリレートと、アクリル酸またはメタクリル酸との、およびスチレンもしくは置換スチレンとのコポリマー、フェノール樹脂、例えばノボラック、(ポリ)ヒドロキシスチレンおよびヒドロキシスチレンとアルキルアクリレート、アクリル酸および/またはメタクリル酸とのコポリマーである。好ましいコポリマーの例は、メチルメタクリレート/メタクリル酸のコポリマー、ベンジルメタクリレート/メタクリル酸のコポリマー、メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマー、ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/スチレンのコポリマー、ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ヒドロキシエチルメタクリレートのコポリマー、メチルメタクリレート/ブチルメタクリレート/メタクリル酸/スチレンのコポリマー、メチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ヒドロキシフェニルメタクリレートのコポリマーである。溶剤現像型の結合剤ポリマーの例は、ポリ(アルキルメタクリレート)、ポリ(アルキルアクリレート)、ポリ(ベンジルメタクリレート−コ−ヒドロキシエチルメタクリレート−コ−メタクリル酸)、ポリ(ベンジルメタクリレート−コ−メタクリル酸);セルロースエステルおよびセルロースエーテル、例えば酢酸セルロース、アセト酪酸セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエーテル、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドおよびポリテトラヒドロフラン;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/ビニリデンコポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメタクリレートおよび酢酸ビニルのコポリマー、ポリ酢酸ビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリカプロラクタムおよびポリ(ヘキサメチレンアジパミド)などのポリマーならびにポリ(エチレングリコールテレフタレート)およびポリ(ヘキサメチレングリコールスクシネート)などのポリエステルおよびポリイミド結合剤樹脂である。
本発明におけるポリイミド結合剤樹脂は、溶剤可溶性のポリイミドであっても、ポリイミド前駆体、例えばポリ(アミド酸)であってもよい。
好ましいのは、光重合性組成物であって、結合剤ポリマー(e)として、メタクリレートおよびメタクリル酸のコポリマーを含む前記組成物である。
更に関心が持たれるのは、例えばJP10−171119−Aに記載されるポリマー型の結合剤成分、特にカラーフィルターで使用するための前記成分である。
本発明の対象は、更に、前記の光重合性の組成物であって、成分(a)が、飽和もしくは不飽和の多塩基性酸無水物と、エポキシ樹脂および不飽和モノカルボン酸の反応の生成物との反応によって得られる樹脂である前記組成物である。
光重合性の組成物を、様々な目的のために、例えば、印刷インキとして、例えばスクリーン印刷インキとして、オフセット印刷もしくはフレキソ印刷用のインキとして、透明仕上げとして、白色仕上げもしくは着色仕上げとして、例えば木材または金属用に、粉末コーティングとして、コーティング材料として、とりわけ、紙、木材、金属またはプラスチック用に、建物のマーキングおよび道路のマーキング用の昼光硬化性コーティングとして、写真複写技術のために、ホログラフィック記録材料のために、画像記録技術のために、または有機溶剤または水性アルカリで現像できる印刷版を製造するために、スクリーン印刷用マスクを製造するために、歯科充填組成物として、接着剤として、感圧性接着剤として、積層用樹脂として、エッチングレジスト、はんだレジスト、電気めっきレジスト、または永久レジストとして、液体膜と乾燥膜との両方で、光構造化可能な誘電体として、およびプリント回路基板および電子回路用に、様々なディスプレイ用途用のカラーフィルターを製造するためのレジストとして、またはプラズマディスプレイパネルおよびエレクトロルミネッセンスディスプレイの製造工程において構造を作るためのレジストとして(例えば、US5853446、EP863534、JP09−244230−A、JP10−62980−A、JP08−171863−A、US5840465、EP855731、JP05−271576−A、JP05−67405−Aに記載される)、ホログラフィックデータ記録(HDS)材料の製造のために、光スイッチ、光格子(干渉格子)、光回路の製造のために、3次元物品を集塊硬化(透明型内でのUV硬化)によって、または立体リソグラフィー技術によって製造するために(例えば、複合材料(例えばスチレンポリエステル、必要であればそれはガラス繊維および/または他の繊維および他の助剤を含有してよい)および他の厚い層状組成物を製造するためにUS4575330に記載される通り)、電子コンポーネントおよび集積回路のコーティングおよびシーリングのために、または光ファイバー用のコーティングとして、または光学レンズ、例えばコンタクトレンズまたはフレネルレンズを製造するために、使用できる。本発明による組成物は、医療用機器、補助具、またはインプラントの製造にさらに適している。さらに、本発明による組成物は、例えばDE19700064およびEP678534に記載される通り、サーモトロピック特性を有するゲルの調製のために適している。
新規の光開始剤を、さらに、乳化重合、パール重合または懸濁重合用の開始剤として、液晶モノマーおよびオリゴマーの秩序状態を固定するための重合開始剤として、または有機材料上の染料を固定するための開始剤として用いてもよい。
被覆材料において、プレポリマーと多価不飽和モノマーとの混合物がしばしば使用され、それはさらに一価不飽和モノマーも同様に含んでよい。それはここで、初めに被膜の特性を規定し、かつ、それを変化させることによって熟練者が硬化膜の特性に影響を与えることができるプレポリマーである。多価不飽和モノマー官能基は、膜を不溶性にする架橋剤として作用する。一価不飽和モノマー官能基は、反応性希釈剤として作用し、それは溶剤を用いる必要なく粘度を低減するために使用される。
不飽和ポリエステル樹脂は通常、一価不飽和モノマーと、好ましくはスチレンと一緒に2成分系で使用される。フォトレジスト用には、特定の1成分系、例えばポリマレイミド、ポリカルコンまたはポリイミドが、DE2308830に記載される通り、しばしば使用される。
新規の光開始剤を、放射硬化性粉末コーティングの重合のためにも使用できる。該粉末コーティングは、固体樹脂および反応性二重結合を含有するモノマー、例えばマレエート、ビニルエーテル、アクリレート、アクリルアミドおよびそれらの組み合わせに基づくことがある。フリーラジカルによるUV硬化性粉末コーティングは、固体のアクリルアミド(例えばメチルメチルアクリルアミドグリコレート)を有する不飽和ポリエステル樹脂と、新規のフリーラジカル光開始剤とを混合することによって配合されることができ、かかる配合物は例えば、M.WittigおよびTh.Gohmannによる"Radiation Curing of Powder Coating"、Conference Proceedings,Radtech Europe 1993の論文中に記載されている。粉末コーティングは、例えばDE4228514内およびEP636669内に記載される通り、結合剤も含有できる。フリーラジカルによるUV硬化性粉末コーティングを、不飽和ポリエステル樹脂と固体のアクリレート、メタクリレートまたはビニルエーテルと、および新規の光開始剤(または光開始剤混合物)と混合することによって配合することもできる。該粉体塗料は、例えば、DE4228514およびEP636669に記載されている結合剤を含むこともできる。該UV硬化性粉末被覆物は、さらには、白色または有色顔料を含んでよい。例えば、好ましくは、良好な隠蔽力を有する硬化粉体塗料を得るために、二酸化ルチルチタンを50質量%以下の濃度で使用することができる。その手順は、通常、基材、例えば金属または木材上への、加熱によって粉末を溶融する、粉末の静電噴霧または摩擦静電(tribostatic)噴霧、および平坦な膜が形成された後、例えば中圧水銀ランプ、メタルハライドランプまたはキセノンランプを使用した紫外線および/または可視光を用いた被覆物の照射硬化を含む。熱硬化性粉末被覆物を上回る、照射硬化性粉末被覆物の特定の利点は、粉末粒子溶融後のフロー時間を遅らせて、平坦で高光沢の被覆物の形成を確実にできることである。熱硬化性系と比較して、照射硬化性粉末被覆物は、それらの寿命を縮める望ましくない効果なく、より低い温度で溶融するために配合され得る。この理由のために、それらは熱に対して敏感な基板、例えば木材またはプラスチックへの被覆物としても適している。新規の光開始剤系に加えて、粉末被覆配合物もUV吸収剤を含んでよい。好適な例は、セクション1.−8で上述されている。
新規の光硬化性組成物は、例えば、光活性層の適用が意図されているか、または画像用の露光によって画像を生成することが意図されている、全ての種類の基材、例えば木材、テキスタイル、紙、セラミックス、ガラス、プラスチック、例えばポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィンまたは酢酸セルロース、特に膜の形態のもの、さらには金属、例えばAl、Cu、Ni、Fe、Zn、MgまたはCoおよびGaAs、SiまたはSiO2への被覆材料として適している。
新規の放射感受性組成物はさらに、光に対する非常に高い感度を有し、かつ、水性アルカリ媒体中で膨潤なく現像できるネガ型レジストとしての用途が見出されている。それらは、凸版印刷、平版印刷、輪転グラビアまたはスクリーン印刷フォームのための印刷フォーム(printing form)の製造のために、例えば点字における文字の製造のための起伏複写(relief copy)の製造のために、スタンプの製造のために、化学的な粉砕において、または集積回路製造におけるマイクロレジストとして使用するために、適している。該組成物は、更に、光パターン形成可能な誘電体層またはコーティング、コンピュータチップ、プリント基板および他の電気もしくは電子コンポーネントの製造における封入材料および絶縁コーティングとして使用してよい。可能な層支持体および被覆基材の加工条件は様々である。
新規の組成物は、また、感光性の熱硬化性樹脂組成物およびその使用によってソルダーレジストパターンを形成する方法に関し、より具体的にプリント回路基板の製造、金属製物品の精密な作製、ガラスおよび石材物品のエッチング、プラスチック物品の浮き彫りおよび印刷版の製造のための材料として有用な、特にプリント回路基板用のソルダーレジストとして有用な新規の感光性の熱硬化性の樹脂組成物ならびにソルダーレジストパターンの形成方法であって、樹脂組成物の層をパターンを有するフォトマスクを通じて選択的に化学線にさらす工程と、層のさらされた部分を現像する工程とによって行う前記方法に関する。
ソルダーレジストは、はんだが無関係の部分に付着することを防ぐことと回路を保護することを目的とするプリント回路基板に対する所定の部位のはんだ付けの間に使用される物質である。従って、高い付着性、絶縁抵抗、はんだ付け温度に対する耐久性、溶剤に対する耐久性、アルカリに対する耐久性、酸に対する耐久性、そしてめっきに対する耐久性などの特性を有する必要がある。
本発明による光硬化性の組成物は良好な熱的安定性と酸素による阻害に対して十分に耐久性があるので、該組成物は、例えばEP320264に記載されるようなカラーフィルターまたはカラーモザイクシステムの製造のために特に適している。カラーフィルターは、通常、LCD、PDP(プラズマパネルディスプレイ)、EL(電子発光)ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイならびに投射システム、スキャナ、デジタルカメラおよびビデオカメラのためのイメージセンサ、CCD(電荷結合素子)およびCMOS(相補型金属酸化膜半導体)センサの製造において使用される。
カラーフィルターは、通常は、ガラス基板上に、赤色と緑色と青色のピクセルと、黒色のマトリクスとを形成することによって製造される。これらのプロセスにおいて、本発明による光硬化性組成物を使用できる。特に好ましい使用方法は、赤色、緑色および青色の着色物質、染料および顔料を本発明の感光性の樹脂組成物に添加することと、基板を前記組成物でコーティングすることと、該コーティングを短時間の熱処理で乾燥させることと、該コーティングをパターン状に化学線にさらすことと、引き続き水性アルカリ性現像溶液中で前記パターンを現像することと、任意に熱処理することとを含む。このように、引き続きこのプロセスで互いの上部に任意の所望の順番で赤色に、緑色に、そして青色に顔料着色されたコーティングを適用することによって、赤色、緑色および青色のカラーピクセルを有するカラーフィルター層を製造できる。
現像は、重合されなかった領域を好適なアルカリ性現像溶液で洗出することによって行われる。このプロセスは、複数の色を有するイメージを形成するまで繰り返す。
本発明の感光性の樹脂組成物において、少なくとも1もしくはそれより多くの画素を透明基板上に形成させ、次いで前記透明基板が形成されていない側の透明基板から露光を行う方法によって、前記画素は、遮光マスクとして用いることができる。例えば、全面の露光を行う場合には、マスクの位置調整は不要となり、その位置のずれの懸念は取り除かれる。そして、前記の画素が形成されていない部分の全てを硬化させることが可能である。更に、この場合に、同様に前記の画素が形成されていない部分を、遮光マスクの部分的な使用によって現像して取り除くことが可能である。
いずれにせよ、先に形成された画素と後に形成された画素との間には隙間は形成されないので、本発明の組成物は、例えばカラーフィルター用の形成材料に適している。固めるために、前記の赤色、緑色および青色の着色物質、染料および顔料は、本発明の感光性の樹脂組成物に加えられ、そして赤色、緑色および青色の画素の形成のために画像の形成のためのプロセスが繰り返される。次いで、例えば黒色の着色材料、染料および顔料が加えられた感光性樹脂は、全面に与えられる。全面露光(または遮光マスクを介した部分的な露光)をその上に行うことで、赤色、緑色および青色の画素の間にある隙間全体にわたって(または遮光マスクの部分的な領域の全体にわたって)黒色の画素を形成させることができる。
感光性の樹脂組成物が基板上にコーティングされ乾燥される方法に加えて、本発明の感光性の樹脂組成物は、同様にレイヤートランスファー材料のために使用することができる。つまり、該感光性の樹脂組成物は、直接的に、一時的なサポート上に、好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルム上に、または酸素遮蔽層および剥離層または剥離層および酸素遮蔽層が与えられたポリエチレンテレフタレートフィルム上に層状に与えられる。通常、合成樹脂から製造される除去可能なカバーシートは、取り扱い時の保護のためにその上に積層される。更に、同様に、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂層および中間層が一時的なサポート上に与えられ、更に感光性の樹脂組成物層がその上に与えられている層構造を塗布できる(JP5−173320−A)。
前記のカバーシートは、使用時に取り除かれ、そして感光性の樹脂組成物は、永続的なサポート上に積層される。引き続き、剥離は、これらの層と一時的なサポートとの間では、酸素遮蔽層と剥離層が与えられている場合に行われ、剥離層と酸素遮蔽層との間では、剥離層と酸素遮蔽層が与えられている場合に行われ、そして一時的なサポートと感光性樹脂層との間では、剥離層か酸素遮蔽層のいずれかが与えられていない場合に行われ、そして一時的なサポートが取り除かれる。
金属のサポート、ガラス、セラミックおよび合成樹脂のフィルムは、カラーフィルター用のサポートとして使用することができる。ガラスと合成樹脂のフィルムであって透明かつ優れた寸法安定性を有するものは特に好ましい。
感光性の樹脂組成物層の厚さは、通常は、0.1〜50マイクロメートル、特に0.5〜5マイクロメートルである。
アルカリ物質の希釈された水溶液は、本発明の感光性の樹脂組成物のための現像溶液として使用できるが、それは、該組成物がアルカリ可溶性の樹脂またはアルカリ可溶性のモノマーもしくはオリゴマーを含有し、更に、そこに少量の水混和性の有機溶剤を添加することによって製造される現像溶液が同様に含まれる場合である。
好適なアルカリ性材料の例は、アルカリ金属水酸化物(例えば水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム)、アルカリ金属炭酸塩(例えば炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム)、アルカリ金属重炭酸塩(例えば重炭酸ナトリウムおよび重炭酸カリウム)、アルカリ金属ケイ酸塩(例えばケイ酸ナトリウムおよびケイ酸カリウム)、アルカリ金属メタケイ酸塩(例えばメタケイ酸ナトリウムおよびメタケイ酸カリウム)、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド(例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド)またはリン酸三ナトリウムを含む。前記のアルカリ物質の濃度は、0.01〜30質量%であり、pHは、好ましくは8〜14である。
水と混和性の好適な有機溶剤は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート、メチル−3−メトキシプロピオネート、n−ブチルアセテート、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、2−ペンタノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホラミド、エチルラクテート、メチルラクテート、ε−カプロラクタムおよびN−メチルピロリジノンを含む。水と混和性の有機溶剤の濃度は、0.1〜30質量%である。
更に、公知の界面活性剤を添加することができる。該界面活性剤の濃度は、好ましくは0.001〜10質量%である。
本発明の感光性の樹脂組成物は、アルカリ性化合物を含有しない有機溶剤(2種以上の溶剤のブレンドを含む)で現像することもできる。好適な溶剤は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート、メチル−3−メトキシプロピオネート、n−ブチルアセテート、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、2−ペンタノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホラミド、エチルラクテート、メチルラクテート、ε−カプロラクタムおよびN−メチルピロリジノンを含む。任意に、水を、これらの溶剤に、依然として澄明な溶液が得られ、かつ感光性の組成物の露光されない領域の十分な可溶性が保持される濃度まで添加することができる。
現像溶液は、当業者に公知のあらゆる形態で、例えば浴溶液、パドル溶液または噴霧溶液の形態で使用することができる。感光性の樹脂組成物層の硬化されていない部分を取り除くためには、回転ブラシで擦ることと湿ったスポンジで擦ることなどの方法を組み合わせることができる。通常、現像溶液の温度は、好ましくは、室温から40℃とその付近である。現像時間は、特定の種類の感光性の樹脂組成物、現像溶液のアルカリ性および温度ならびに添加する場合には有機溶剤の種類と濃度に応じて変更可能である。通常、その時間は、10秒から2分である。現像プロセスの後にリンス工程を置くこともできる。
最終的な熱処理は、好ましくは、現像プロセスの後に行われる。従って、露光により光重合された層(以下、光硬化層と呼ぶ)を有するサポートを電気炉および乾燥機内で加熱し、そして光硬化層に赤外ランプを照射するか、またはホットプレート上で加熱する。加熱温度と時間は、使用される組成物と形成される層の厚さに依存する。一般に、加熱は、約120℃〜約250℃で、約5分〜約60分間にわたり適用される。
本発明による組成物、例えば顔料着色されたカラーフィルターレジスト組成物中に含まれうる顔料は、好ましくは、加工された顔料、例えば顔料を、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、マレイン酸樹脂およびエチルセルロース樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂中に微分散させることによって製造された粉末状またはペースト状の製品である。
赤色顔料は、例えば、アントラキノン型顔料を単独で、ジケトピロロピロール型顔料を単独で、それらの混合物をまたはそれらの少なくとも1種とジアゾ型黄色顔料もしくはイソインドリン型黄色顔料とからなる混合物を、特にC.I.ピグメントレッド177を単独で、C.I.ピグメントレッド254を単独で、C.I.ピグメントレッド177とC.I.ピグメントレッド254との混合物をまたはC.I.ピグメントレッド177とC.I.ピグメントレッド254の少なくとも一方とC.I.ピグメントイエロー83もしくはC.I.ピグメントイエロー139とからなる混合物を含む("C.I."は、当業者に公知でありかつ公然に利用できるカラーインデックスを指す)。
前記顔料のための更なる好適な例は、C.I.ピグメントレッド9、97、105、122、123、144、149、168、176、179、180、185、202、207、209、214、222、242、244、255、264、272ならびにC.I.ピグメントイエロー12、13、14、17、20、24、31、53、55、93、95、109、110、128、129、138、139、150、153、154、155、166、168、185、199、213ならびにC.I.ピグメントオレンジ43である。
赤色のための染料の例は、C.I.ソルベントレッド25、27、30、35、49、83、89、100、122、138、149、150、160、179、218、230、C.I.ダイレクトレッド20、37、39、44ならびにC.I.アシッドレッド6、8、9、13、14、18、26、27、51、87、88、89、92、94、97、111、114、115、134、145、151、154、180、183、184、186、198、C.I.ベーシックレッド12、13、C.I.ディスパースレッド5、7、13、17および58である。前記赤色染料は、黄色染料および/または橙色染料と組み合わせて使用することができる。緑色顔料は、例えば、ハロゲン化フタロシアニン型顔料を単独でまたはそのジアゾ型黄色顔料との、キノフタロン型黄色顔料とのもしくは金属錯体との混合物を、特にC.I.ピグメントグリーン7を単独で、C.I.ピグメントグリーン36を単独で、またはC.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36の少なくとも1種と、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー138もしくはC.I.ピグメントイエロー150とからなる混合物を含む。他の好適な緑色顔料は、C.I.ピグメントグリーン15、25および37である。
好適な緑色染料のための例は、C.I.アシッドグリーン3、9、16、C.I.ベーシックグリーン1および4である。
好適な青色顔料のための例は、フタロシアニン型顔料であり、該顔料は、単独でかまたはジオキサジン型バイオレット顔料と組み合わせて使用され、例えばC.I.ピグメントブルー15:3単独、C.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との組み合わせである。青色顔料のための更なる例は、C.I.ピグメントブルー15:3、15:4、16、22、28および60の顔料である。他の好適な顔料は、C.I.ピグメントバイオレット14、19、23、29、32、37、177およびC.I.オレンジ73である。
好適な青色染料のための例は、C.I.ソルベントブルー25、49、68、78、94、C.I.ダイレクトブルー25、86、90、108、C.I.アシッドブルー1、7、9、15、103、104、158、161、C.I.ベーシックブルー1、3、9、25およびC.I.ディスパースブルー198である。
黒色マトリクス用の光重合性組成物の顔料は、好ましくは、カーボンブラック、チタニウムブラックおよび酸化鉄からなる群から選択される少なくとも1種を含む。しかしながら、全体で黒色の様相を呈する他の顔料の混合物を使用してもよい。例えばまた、C.I.ピグメントブラック1、7および31を単独でまたは組み合わせて使用することができる。
カラーフィルターのために使用される染料の他の例は、C.I.ソルベントイエロー2、5、14、15、16、19、21、33、56、62、77、83、93、162、104、105、114、129、130、162、C.I.ディスパースイエロー3、4、7、31、54、61、201、C.I.ダイレクトイエロー1、11、12、28、C.I.アシッドイエロー1、3、11、17、23、38、40、42、76、98、C.I.ベーシックイエロー1、C.I.ソルベントバイオレット13、33、45、46、C.I.ディスパースバイオレット22、24、26、28、C.I.アシッドバイオレット49、C.I.ベーシックバイオレット2、7、10、C.I.ソルベントオレンジ1、2、5、6、37、45、62、99、C.I.アシッドオレンジ1、7、8、10、20、24、28、33、56、74、C.I.ダイレクトオレンジ1、C.I.ディスパースオレンジ5、C.I.ダイレクトブラウン6、58、95、101、173、C.I.アシッドブラウン14、C.I.ソルベントブラック3、5、7、27、28、29、35、45および46である。
カラーフィルターの製造の幾つかの特定の場合において、補色、つまりイエロー、マゼンタ、シアン、任意にグリーンが、レッド、グリーンおよびブルーの代わりに使用される。このタイプのカラーフィルターのためのイエローとして、上述の黄色顔料および黄色染料を使用できる。マゼンタ色に適した着色剤の例は、C.I.ピグメントレッド122、144、146、169、177、C.I.ピグメントバイオレット19および23である。シアン色の例は、アルミニウムフタロシアニン顔料、チタニウムフタロシアニン顔料、コバルトフタロシアニン顔料およびスズフタロシアニン顔料である。
任意の色のために、2種より多くの顔料の組み合わせを使用してもよい。カラーフィルター用途に特に適しているのは、上述の顔料を樹脂中に微分散させることによって製造された粉末状の加工顔料である。
全固体成分(種々の色の顔料と樹脂)中の顔料の濃度は、例えば5質量%から80質量%の範囲であり、特に20質量%から45質量%の範囲である。
カラーフィルターレジスト組成物中の顔料は、好ましくは、可視光の波長(400〜700nm)よりも小さい平均粒径を有する。特に好ましくは、100nm未満の平均顔料直径である。
必要であれば、顔料は、感光性組成物中で、顔料を分散剤で前処理して液状配合物中での顔料の分散安定性を向上させることによって安定化することができる。好適な添加剤は、上記のものである。
好ましくは、本発明によるカラーフィルターレジスト組成物は、付加的に、少なくとも1種の付加重合性のモノマー化合物を成分(a)として含有する。
エチレン性不飽和化合物(a)は、カラーフィルターレジスト用途のための化合物も前記のものである。
ポリオールを基礎とする成分(a)としてのエステルの好適な例は、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリレートモノオキサレート、ジペンタエリトリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ(メタ)アクリレートモノ(2−ヒドロキシエチル)エーテル、トリペンタエリトリトールオクタ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、オリゴエステルの(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレートおよびトリ(メタ)アクリレート、分子量200〜1500を有するポリエチレングリコールのジ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールジイタコネート、ジペンタエリトリトールトリスイタコネート、ジペンタエリトリトールペンタイタコネート、ジペンタエリトリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリトリトールジクロトネート、エチレングリコールジマレエート、トリエチレングリコールジマレエート、ペンタエリトリトールジマレエート、ソルビトールテトラマレエートまたはそれらの混合物である。
他の例は、以下の式(XII)および(XIII):
Figure 0006038033
に示されるペンタエリトリトールおよびジペンタエリトリトール誘導体である。
ポリエポキシドの例は、上述のポリオールを基礎とするものおよびエピクロロヒドリンである。典型的な例は、ビス(4−グリシジルオキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]メタン、2,2−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)フェニル]メタン、2,2−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシプロポキシ)フェニル]フルオレンおよびフェノールのグリシジルエーテルおよびクレゾールノボラック類である。
ポリエポキシドを基礎とする成分(a)の典型的な例は、2,2−ビス[4−{(2−ヒドロキシ−3−アクリルオキシ)プロポキシ}フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−{(2−ヒドロキシ−3−アクリルオキシ)プロポキシエトキシ}フェニル]プロパン、9,9−ビス[4−{(2−ヒドロキシ−3−アクリルオキシ)プロポキシ}フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−{(2−ヒドロキシ−3−アクリルオキシ)プロポキシエトキシ}フェニル]フッ素ならびにノボラック類を基礎とするエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物である。
上述のポリオールまたはポリエポキシドとヒドロキシル基を有する不飽和化合物、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ビニルアルコールとの反応から得られるポリエーテルは、成分(a)として使用することもできる。
好適な成分(a)のための他の例は、ポリイソシアネートおよびヒドロキシ基を有する不飽和化合物から誘導された不飽和ウレタンまたはポリイソシアネート、ポリオールおよびヒドロキシル基を有する不飽和化合物から誘導された不飽和ウレタンである。
他の例は、鎖中にエチレン性不飽和基を有するポリエステル、ポリアミドまたはポリウレタンである。適した不飽和ポリエステルおよびポリアミドは、また例えばマレイン酸から、およびジオールまたはジアミンから誘導される。いくつかのマレイン酸を他のジカルボン酸によって置き換えることができる。該ポリエステルおよびポリアミドを、ジカルボン酸から、およびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンから、特に比較的長い鎖、例えば6〜20個のC原子を有するものから誘導してもよい。ポリウレタンの例は、飽和または不飽和ジイソシアネートで、および不飽和またはそれぞれ飽和したジオールで構成されるものである。
側鎖中にアクリレート基またはメタクリレート基を有する他の好適なポリマーは、例えば、分子中の主鎖またはエステル基のいずれかに結合された光重合性の側基を有する溶媒可溶性のまたはアルカリ可溶性のポリイミド前駆体、例えばポリ(アミド酸エステル)化合物、すなわちEP624826による化合物である。かかるオリゴマーまたはポリマーは、高感度のポリイミド前駆体レジストの製造のために、任意に、反応性希釈剤、例えば多官能性の(メタ)アクリレートとともに配合されていてよい。
成分(a)の更なる例は、また、分子構造内に少なくとも1つのカルボキシル官能と少なくとも2つのエチレン性不飽和基とを有するポリマーまたはオリゴマー、例えば飽和もしくは不飽和の多塩基性酸無水物と、フェノールもしくはクレゾールノボラックエポキシ樹脂および不飽和モノカルボン酸の反応の生成物との反応によって得られる樹脂、例えば市販品EB9696(UCB Chemicals);KAYARAD TCR1025(Nippon Kayaku Co.,LTD)である。多塩基性酸無水物の例は、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水グルタル酸、無水グルタコン酸、無水シトラコン酸、無水ジグリコール酸、無水イミノ二酢酸、無水1,1−シクロペンタン二酢酸、無水3,3−ジメチルグルタル酸、無水3−エチル−3−メチルグルタル酸、無水2−フェニルグルタル酸、無水ホモフタル酸、無水トリメリト酸、無水クロレンド酸、二無水ピロメリト酸、二無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、二無水ビフェニルテトラカルボン酸ならびに二無水ビフェニルエーテルテトラカルボン酸である。
他の例は、式(XIV)
Figure 0006038033
[式中、
10は、
Figure 0006038033
であり、
200は、水素またはメチルであり、
300およびR400は、互いに独立して、水素、メチル、ClまたはBrであり、
20は、1〜10個の炭素原子を有する置換もしくは非置換のアルキレンであり、
xは、0〜5であり、かつ
yは、1〜10である]の化合物と1もしくはそれより多くの多塩基性酸無水物との重縮合反応および/または付加反応からの生成物である。かかる成分(a)としての化合物の例は、JP2002−206014A、JP2004−69754A、JP2004−302245A、JP2005−77451A、JP2005−316449A、JP2005−338328AおよびJP3754065B2に記載されている。
上述のポリマーまたはオリゴマーは、例えば、約1000〜1000000の、好ましくは2000〜200000の分子量および約10〜200mg KOH/gの、好ましくは20〜180mg KOH/gの酸価を有する。好ましい光重合性の組成物は、成分(a)として、分子中に少なくとも2つのエチレン性不飽和結合と少なくとも1つのカルボン酸基を有する化合物、特にエポキシ基を有する不飽和化合物を、カルボン酸基を有するポリマーのカルボキシル基の一部に付加させることによって得られる反応生成物または以下に示される化合物と1もしくはそれより多くの多塩基性酸無水物との反応生成物を含む。更なる好ましい成分(a)は、式XIVの化合物と、1もしくはそれより多くの多塩基性酸無水物との反応から得られる化合物を含む。
更なる例は、エポキシ基を有する不飽和化合物を、カルボン酸基を有するポリマーのカルボキシル基の一部に付加させることによって得られる反応生成物である。カルボン酸を有するポリマーとしては、不飽和カルボン酸化合物と1もしくはそれより多くの重合性化合物との反応から得られる前記の結合剤ポリマー、例えば(メタ)アクリル酸、ベンジル(メタ)アクリレート、スチレンおよび2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのコポリマー、(メタ)アクリル酸、スチレンおよびα−メチルスチレンのコポリマー、(メタ)アクリル酸、N−フェニルマレイミド、スチレンおよびベンジル(メタ)アクリレートのコポリマー、(メタ)アクリル酸およびスチレンのコポリマー、(メタ)アクリル酸およびベンジル(メタ)アクリレートのコポリマー、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、スチレンおよび(メタ)アクリル酸のコポリマーなどである。
エポキシ基を有する不飽和化合物の例は、式(V−1)〜(V−15)
Figure 0006038033
[式中、R50は、水素またはメチル基であり、M30は、1〜10個の炭素原子を有する飽和もしくは不飽和のアルキレンである]において以下に示されている。
これらの化合物のうち、脂環式エポキシ基を有する化合物は、特に好ましい。それというのも、これらの化合物は、カルボキシル基を有する樹脂と高い反応性を有し、従って、反応時間は短縮できるからである。これらの化合物は、更に、反応の過程でゲル化を生じず、反応を安定に行うことを可能にする。他方で、グリシジルアクリレートおよびグリシジルメタクリレートは、感度および耐熱性の観点から好ましい。それというのも、それらは、低い分子量を有し、かつエステル化の高い転化率をもたらしうるからである。前記の化合物の具体例は、例えば、スチレン、α−メチルスチレンおよびアクリル酸のコポリマーまたはメチルメタクリレートおよびアクリル酸のコポリマーと3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートとの反応生成物である。
ヒドロキシル基を有する不飽和化合物、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよびグリセロールモノ(メタ)アクリレートは、上述のエポキシ基を有する不飽和化合物の代わりに、カルボン酸基を有するポリマーのための反応物として使用することができる。
他の例は、無水物を含むポリマーの半エステル、例えば無水マレイン酸および1もしくはそれより多くの他の重合性化合物のコポリマーと、アルコール性ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートまたはエポキシ基を有する(メタ)アクリレート、例えば式(V−1)〜(V−15)に記載される化合物との反応生成物である。
アルコール性ヒドロキシ基を有するポリマー、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、ベンジルメタクリレートおよびスチレンと、(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリル酸塩化物との反応生成物は、成分(a)として使用してもよい。他の例は、末端不飽和基を有するポリエステルであって、二塩基性酸無水物および少なくとも2つのエポキシ基を有する化合物の反応と、それに続く多塩基性酸無水物を有する不飽和化合物との更なる反応から得られる反応生成物である。
更なる例は、飽和もしくは不飽和の多塩基性酸無水物と、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸化合物を、カルボン酸を有する前記のポリマーのカルボキシル基の全てに付加することによって得られる反応生成物との反応によって得られる樹脂である。
光重合可能な化合物を、単独で、または任意の所望の混合物で使用できる。
カラーフィルターレジスト組成物においては、光重合性組成物に含まれるモノマーの全量は、該組成物の全固体含量に対して、すなわち溶剤を含まない全ての成分の量に対して、好ましくは5〜80質量%、特に10〜70質量%である。
アルカリ水溶液中に可溶性でありかつ水中に不溶性であるカラーフィルターレジスト組成物で使用される結合剤としては、例えば1もしくはそれより多くの酸基および1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を分子中に有する重合性化合物のホモポリマーまたはその2種以上のコポリマーならびに1もしくはそれより多くの重合性化合物であってこれらの化合物と共重合可能な1もしくはそれより多くの不飽和結合を有しかつ酸基を含まない前記化合物のコポリマーを使用できる。かかる化合物は、1もしくはそれより多くの酸基および1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を分子中に有する1種以上の低分子量化合物と、1もしくはそれより多くの重合性化合物であってこれらの化合物と共重合可能な1もしくはそれより多くの不飽和結合を有しかつ酸基を含まない前記化合物とを共重合させることによって得ることができる。酸基の例は、−COOH基、SO3H基、−SO2NHCO−基、フェノール性ヒドロキシ基、−SO2NH−基および−CO−NH−CO−基である。そのうち、−COOH基を有する高分子量化合物が特に好ましい。
好ましくは、カラーフィルターレジスト組成物中の有機ポリマー結合剤は、アルカリ可溶性コポリマーであって、付加重合性のモノマー単位として、少なくとも1つの不飽和有機酸化合物、例えばアクリル酸、メタクリル酸などを含むコポリマーを含む。ポリマー結合剤のための更なるコモノマーとしては、アルカリ可溶性、付着強度、化学的耐久性などの特性の釣り合いのために、不飽和有機酸エステル化合物、例えばメチルアクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、スチレンなどを使用することが好ましい。
有機ポリマー結合剤は、ランダムコポリマーまたはブロックコポリマーのいずれであってもよく、例えばUS5368976に記載されるものであってよい。
1もしくはそれより多くの−COOH基および1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を1分子中に有する重合性化合物の例は、(メタ)アクリル酸、2−カルボキシエチル(メタ)アクリル酸、2−カルボキシプロピル(メタ)アクリル酸、クロトン酸、シンナミン酸、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]スクシネート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]アジペート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]フタレート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]ヘキサヒドロフタレート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]マレエート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル]スクシネート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル]アジペート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル]フタレート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル]ヘキサヒドロフタレート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル]マレエート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシブチル]スクシネート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシブチル]アジペート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシブチル]フタレート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシブチル]ヘキサヒドロフタレート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシブチル]マレエート、3−(アルキルカルバモイル)アクリル酸、α−クロロアクリル酸、マレイン酸、モノエステル化マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、無水マレイン酸およびω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートである。
ビニルベンゼンスルホン酸および2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸は、1もしくはそれより多くの−SO3H基と1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を有する重合性化合物の例である。
N−メチルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−エチルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−フェニルスルホニル(メタ)アクリルアミドおよびN−(p−メチルフェニルスルホニル)(メタ)アクリルアミドは、1もしくはそれより多くの−SO2NHCO−基と1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を有する重合性化合物の例である。
1もしくはそれより多くのフェノール性ヒドロキシ基と1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を1分子中に有する重合性化合物の例は、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、ジヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシフェニルチオエチル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシフェニルオキシエチル(メタ)アクリレートおよびジヒドロキシフェニルチオエチル(メタ)アクリレートである。
1もしくはそれより多くの−SO2NH−基と1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を1分子中に有する重合性化合物の例は、式(a)または(b):
Figure 0006038033
[式中、Y100およびY200は、それぞれ、−COO−、−CONA700−または単結合を表す;A100およびA400は、それぞれHもしくはCH3を表す;A200およびA500は、それぞれ、任意に置換基を有するC1〜C12−アルキレン、シクロアルキレン、アリーレンもしくはアラルキレンまたはC2〜C12−アルキレンであってそこにエーテル基およびチオエーテル基が挿入されているもの、シクロアルキレン、アリーレンもしくはアラルキレンを表す;A300およびA600は、それぞれ、H、任意に置換基を有するC1〜C12−アルキル、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す;ならびにA700は、H、任意に置換基を有するC1〜C12−アルキル、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を表す]によって表される化合物を含む。
1もしくはそれより多くの−CO−NH−CO−基と1もしくはそれより多くの重合性の不飽和結合を有する重合性化合物は、マレイミドおよびN−アクリロイルアクリルアミドを含む。これらの重合性化合物は、−CO−NH−CO−基を含む高分子量化合物であって、その中で一次の鎖と一緒に重合により環が形成される化合物となる。更に、−CO−NH−CO−基をそれぞれ有するメタクリル酸誘導体およびアクリル酸誘導体も同様に使用できる。かかるメタクリル酸誘導体およびアクリル酸誘導体は、例えば、メタクリルアミド誘導体、例えばN−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−ブタノイルメタクリルアミド、N−ペンタノイルメタクリルアミド、N−デカノイルメタクリルアミド、N−ドデカノイルメタクリルアミド、N−ベンゾイルメタクリルアミド、N−(p−メチルベンゾイル)メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド、N−(ナフチルカルボニル)メタクリルアミド、N−(フェニルアセチル)メタクリルアミドおよび4−メタクリロイルアミノフタルイミドならびにこれらと同じ置換基を有するアクリルアミド誘導体を含む。これらの重合性化合物は重合して、側鎖中に−CO−NH−CO−基を有する化合物となる。
1もしくはそれより多くの重合性不飽和結合を有し、酸基を有さない重合性化合物の例は、重合性の不飽和結合を有する化合物、つまり(メタ)アクリル酸のエステル、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、メトキシフェニル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピル(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、イソボルニルメタ(アクリレート)、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、アミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート;ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−クロロスチレン、ポリクロロスチレン、フルオロスチレン、ブロモスチレン、エトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル、インデン、1−メチルインデン;ビニルもしくはアリルエーテル、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバル酸ビニル、安息香酸ビニル、トリメチル酢酸ビニル、ジエチル酢酸ビニル、ビニルバレート、カプロン酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、ジクロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、ブトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニル、酢酸ビニル、アセト酢酸ビニル、乳酸ビニル、フェニル酪酸ビニル、シクロヘキシルカルボン酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸アリル、酪酸アリル、ピバル酸アリル、安息香酸アリル、カプロン酸アリル、ステアリン酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル;ビニルもしくはアリルエーテル、例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルヘキシルエーテル、ビニルオクチルエーテル、ビニルエチルヘキシルエーテル、ビニルメトキシエチルエーテル、ビニルエトキシエチルエーテル、ビニルクロロエチルエーテル、ビニルヒドロキシエチルエーテル、ビニルエチルブチルエーテル、ビニルヒドロキシエトキシエチルエーテル、ビニルジメチルアミノエチルエーテル、ビニルジエチルアミノエチルエーテル、ビニルブチルアミノエチルエーテル、ビニルベンジルエーテル、ビニルテトラヒドロフルフリルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニルクロロエチルエーテル、ビニルジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントリルエーテル、アリルグリシジルエーテル;アミド型不飽和化合物、例えば(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジブチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルヘキシル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジシクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジフェニル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ヘプチル(メタ)アクリルアミド、N−オクチル(メタ)アクリルアミド、N−エチルヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドシクロヘキシル、N−ベンジル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−トリル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、N−ナフチル(メタ)アクリルアミド、N−フェニルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−メチルフェニルスルホニル(メタ)アクリルアミドおよびN−(メタ)アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ブトキシアクリルアミド;ポリオレフィン型化合物、例えばブタジエン、イソプレン、クロロプレンなど;(メタ)アクリロニトリル、メチルイソプロペニルケトン、マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−メチルフェニルマレイミド、N−メトキシフェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−アルキルマレイミド、無水マレイン酸、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、ポリブチル(メタ)アクリレートマクロモノマー;クロトネート、例えばブチルクロトネート、ヘキシルクロトネート、グリセリンモノクロトネート;およびイタコネート、例えばジメチルイタコネート、ジエチルイタコネート、ジブチルイタコネート;ならびにマレエートもしくはフマレート、例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレートから選択される化合物を含む。
好ましいコポリマーの例は、メチル(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリル酸のコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリル酸のコポリマー、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリル酸のコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびスチレンのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸および2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのコポリマー、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびスチレンのコポリマー、メチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートのコポリマー、メチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマーのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマーのコポリマー、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、スチレンおよび(メタ)アクリル酸のコポリマー、メチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびポリスチレンマクロモノマーのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびポリスチレンマクロモノマーのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよびポリスチレンマクロモノマーのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびポリスチレンマクロモノマーのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートおよびポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマーのコポリマー、メチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよびポリスチレンマクロモノマーのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよびポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマーのコポリマー、N−フェニルマレイミド、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸およびスチレンのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、N−フェニルマレイミド、モノ−[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]スクシネートおよびスチレンのコポリマー、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、N−フェニルマレイミド、モノ−[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]スクシネートおよびスチレンのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、N−フェニルマレイミド、グリセロールモノ(メタ)アクリレートおよびスチレンのコポリマー、ベンジル(メタ)アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、N−フェニルマレイミド、グリセロールモノ(メタ)アクリレートおよびスチレンのコポリマー、ならびにベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、N−シクロヘキシルマレイミドおよびスチレンのコポリマーである。
同様に、ヒドロキシスチレンホモポリマーもしくはコポリマーまたはノボラック型フェノール樹脂、例えばポリ(ヒドロキシスチレン)およびポリ(ヒドロキシスチレン−コ−ビニルシクロヘキサノール)、ノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂およびハロゲン化フェノールノボラック樹脂を使用できる。より具体的には、例えば、メタクリル酸コポリマー、アクリル酸コポリマー、イタコン酸コポリマー、クロトン酸コポリマー、無水マレイン酸コポリマー、例えばコモノマーとしてスチレンを有するコポリマー、およびマレイン酸コポリマー、ならびに部分的にエステル化されたマレイン酸コポリマー(それぞれ、例えばJP59−44615−B4(本願で使用される用語"JP−B4"は、審査済みの日本国特許出願を指す)、JP54−34327−B4、JP58−12577−B4およびJP54−25957−B4、JP59−53836−A、JP59−71048−A、JP60−159743−A、JP60−258539−A、JP1−152449−A、JP2−199403−AならびにJP2−199404−Aに記載される)を含み、かつ前記コポリマーは、例えばUS5650263に開示されるようにアミンと反応されており、更に、側鎖にカルボキシル基を有するセルロース誘導体を使用でき、特に好ましくは、ベンジル(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリル酸のコポリマーならびにベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸および他のモノマーのコポリマー(例えばUS4139391、JP59−44615−B4、JP60−159743−AおよびJP60−258539−Aに記載される)である。
前記の有機結合剤ポリマーのうちのカルボン酸基を有するものに関しては、幾つかのまたは全てのカルボン酸基を、感光性、塗膜強度、被覆溶剤および耐化学薬品性および基剤への付着性の改善のために、グリシジル(メタ)アクリレートもしくはエポキシ(メタ)アクリレートと反応させて、光重合性の有機結合剤ポリマーを得ることができる。例は、JP50−34443−B4およびJP50−34444−B4、US5153095において、T. KudoらによるJ. Appl. Phys., Vol. 37 (1998), p. 3594-3603において、US5677385およびUS5650233に開示されている。
前記結合剤の質量平均分子量は、好ましくは、500〜1000000、例えば3000〜1000000、より好ましくは5000〜400000である。
これらの化合物は、単独でまたは2種以上の混合物として使用してよい。前記の感光性の樹脂組成物中の結合剤の含有率は、全固形分に対して、好ましくは10〜95質量%、より好ましくは15〜90質量%である。
更に、カラーフィルターにおいて、各カラーの全固体成分は、イオン性不純物スカベンジャー、例えばエポキシ基を有する有機化合物を含有してよい。全固体成分中の前記イオン性不純物スカベンジャーの濃度は、一般に、0.1質量%から10質量%の範囲である。
カラーフィルターの例は、特に前記の顔料とイオン性不純物スカベンジャーの組み合わせに関しては、EP320264に示されている。本発明による光開始剤、すなわちEP320264に記載されるカラーフィルター配合物中の式Iの化合物は、トリアジン開始剤化合物と置き換えられると理解される。
本発明による組成物は、付加的に、JP10−221843Aに記載されるように、酸によって活性化された架橋剤と、熱によりまたは化学線により酸を生成しかつ架橋反応を活性化する化合物を含有してよい。
本発明による組成物は、また、感光性のパターンもしくはコーティングを含む潜在顔料の熱処理の間に微分散された顔料に変換される潜在顔料を含んでもよい。その熱処理は、潜在顔料含有の光画像形成性の層の露光後または現像後に実施できる。かかる潜在顔料は、例えばUS5879855に記載されるような化学的方法、熱的方法、光分解的方法または放射誘発型の方法によって不溶性顔料に変換できる可溶性の顔料前駆体である。かかる潜在顔料のこの変換は、化学線にさらしたときまたは酸性化合物を添加することによって酸を生成する化合物を組成物に添加することによって増強できる。従って、本発明による組成物中に潜在顔料を含むカラーフィルターレジストを製造することもできる。
カラーフィルターレジスト、かかるレジストの組成およびプロセス条件は、T. KudoらによるJpn. J. Appl. Phys. Vol. 37 (1998) 3594;T. KudoらによるJ. Photopolym. Sci. Technol. Vol 9 (1996) 109;K. KobayashiによるSolid State Technol. Nov. 1992, p. S15-S18;US5368976;US5800952;US5882843;US5879855;US5866298;US5863678;JP06−230212A;EP320264;JP09−269410A;JP10−221843A;JP01−090516A;JP10−171119A、US5821016、US5847015、US5882843、US5719008、EP881541またはEP902327に示されている。
本発明の光開始剤は、カラーフィルターレジスト中で、例えば前記の例に示されるものにおいて使用できるか、またはかかるレジストにおいて公知の光開始剤と部分的にもしくは完全に置き換えることができる。当業者によれば、本発明の新規の光開始剤の使用は、特定の結合剤樹脂、架橋剤に限定されず、本願前記に示されるカラーフィルターレジストの例の配合物は、しかしながら、任意のラジカル重合性成分と組み合わせて、染料または着色顔料または潜在顔料と組み合わせて使用して、感光性のカラーフィルターインキまたはカラーフィルターレジストが形成されることは理解される。
従ってまた、本発明の対象は、カラーフィルターであって、レッド、グリーンおよびブルー(RGB)の色エレメントと、任意に黒色マトリクスを準備することと、その際、全ては感光性の樹脂と顔料を透明基材上に有し、前記基材の表面上か前記カラーフィルター層の表面上のいずれかに透明電極を準備することによって製造されたカラーフィルターであって、前記の感光性の樹脂は、多官能性のアクリレートモノマー、有機ポリマー結合剤および前記の式IもしくはI′の光重合開始剤または式IもしくはI′の化合物の光開始剤混合物を含む前記カラーフィルターである。前記モノマーおよび結合剤成分ならびに好適な顔料は、前記のとおりである。カラーフィルターの製造において、前記透明電極層は、透明電極の表面上に適用されるか、または赤色、緑色および青色の画素および黒色マトリクスの表面上に準備できる。透明な基材は、例えばガラス基材であって、その表面上に付加的に電極を有してよい基材である。
カラーフィルターのコントラストを向上させるために、異なる色の色領域の間に黒色マトリクスを適用することが好ましい。
本発明の感光性組成物は、既に示したように、カラーフィルターの黒色マトリクスの製造のためにも適している。前記の黒色マトリクス組成物は、例えば、本発明の式Iの光開始剤化合物、有機結合剤、特にカルボキシル基を有するエポキシアクリレート樹脂である有機結合剤、黒色着色材料、ポリマー分散剤、特に塩基性官能基を含むポリマー分散剤を含む。
当業者は、そのような配合に関して熟知している。前記の好適な黒色マトリクス組成物および成分(光開始剤以外)の例は、日本国特許第3754065に示されており、その開示内容は、参照をもって記載されたものとする。
感光性組成物を使用して黒色マトリクスを形成し、そして該黒色の感光性組成物をフォトリソグラフィーによってパターン状の露光によって(すなわち好適なマスクを通じて)パターン形成させることで、透明基板上で赤色、緑色および青色の領域を分ける黒色パターンを形成する代わりに、選択的に、無機の黒色マトリクスを使用することが可能である。かかる無機の黒色マトリクスは、堆積された(すなわちスパッタリングされた)金属(すなわちクロム)の被膜から透明基材上で、好適な画像形成プロセスによって、例えばエッチングレジストによるフォトリソグラフィーによるパターン形成と、エッチングレジストによって保護されていない領域における無機層のエッチングと、次いで残りのエッチングレジストの除去によって形成することができる。
カラーフィルター製造方法においてどのように、そしてどのステップで黒色マトリクスが適用できるかについて種々の方法が知られている。既に前記のように、レッド、グリーンおよびブルー(RGB)の形成前に透明基材上に直接適用でき、またはRGBカラーフィルターを基材上に形成させた後に適用することができる。
US626796による液晶ディスプレイ用のカラーフィルターの種々の実施態様においては、黒色マトリクスは、また、RGBカラーフィルターエレメントを有する基材に対して反対の基材上に適用してもよく、前記基材は、液晶層によって隔離されている。
透明電極層が、RGBカラーフィルターエレメントと、任意に黒色マトリクスを適用した後に堆積させる場合に、保護層としての追加の外部被膜を、例えばUS5650263に記載されるように、電極層の堆積前にカラーフィルター層上に適用することができる。
カラーフィルターの外部被膜層を形成するために、感光性または熱硬化性の樹脂組成物が使用される。本発明の感光性の組成物を使用してかかる外部被膜層を形成することもできる。それというのも、該組成物の硬化された被膜は、平坦性、硬度、化学的および熱的な耐久性、透明性、特に可視領域における透過性、基材への付着性ならびにその上への透明な伝導性被膜、ITO被膜を形成するための保持性の点で優れている。保護層の製造において、保護層の不要な部分を、例えば基材の切断のためのけがき線でかつ固体イメージセンサの結合パッド上で、JP57−42009A、JP1−130103AおよびJP1−134306Aに記載されるように基材から取り除くべきであるという要求があった。この点で、上述の熱硬化性樹脂を使用して良好な精度で保護層を選択的に形成することは困難である。しかしながら、感光性の組成物は、保護層の不要な部分を、フォトリソグラフィーによって簡単に取り除くことを可能にする。
当業者には、本発明の感光性組成物は、赤色、緑色および青色の画素と黒色マトリクスを生成するために、カラーフィルターの製造のために、前記の加工における相違点にもかかわらず、適用できる追加の層にもかかわらず、かつカラーフィルターのデザインにおける相違点にもかかわらず使用できることは明らかである。本発明による組成物を使用して着色エレメントを形成することは、種々のデザインおよびかかるカラーフィルターの製造法によって制限されるとみなされない。
本発明の感光性組成物は、適宜、カラーフィルターの形成のために使用できるが、この用途に限定されるものではない。同様に、記録材料、レジスト材料、保護層、誘電体層、ディスプレイ用途およびディスプレイエレメント、塗料および印刷インキにおいても有用である。
本発明による感光性組成物は、また、液晶ディスプレイ、より具体的には反射型液晶ディスプレイにおける、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT)を有するアクティブマトリクス型ディスプレイとスイッチング素子を有さないパッシブマトリクス型ディスプレイを含むディスプレイにおける層間の絶縁層または誘電体層の製造のためにも適している。
近年では、液晶ディスプレイは、例えばポケット型TVセットおよび通信用の端末デバイスのために、その薄さと軽量の点で広く用いられている。バックライトの使用が必要無い反射型の液晶ディスプレイが特に要求される。それというのも、超薄型で軽量であり、かつ電力消費を大きく削減できるからである。しかしながら、バックライトが現在入手できる透過型のカラー液晶ディスプレイから取り除かれ、かつ光反射板が、該ディスプレイのより下方の表面に付けられるとしても、光の利用効率が低く、実際の明るさを有することができないという問題点が生ずる。この問題の解決策としては、光の利用効率を高めるために種々の反射型の液晶ディスプレイが提案されている。例えば、一定の反射型液晶ディスプレイは、反射機能を有するピクセル電極を含むようにデザインされている。
反射型液晶ディスプレイは、絶縁基材と、該絶縁基材から離れた間隔にある反対側の基材とを含む。それらの基材の間の間隔は液晶で満たされている。ゲート電極は、絶縁基材上に形成され、そしてゲート電極と絶縁基材の両方ともゲート絶縁膜で覆われている。次いで、半導体層は、ゲート電極の上にあるゲート絶縁被膜上に形成される。ソース電極とドレイン電極は、また、ゲート絶縁被膜上に、半導体層と接触して形成される。ソース電極、ドレイン電極、半導体層およびゲート電極は、互いに協調し、それによりボトムゲート型TFTをスイッチング素子として構成する。
層間絶縁被膜が形成され、それは、ソース電極、ドレイン電極、半導体層およびゲート絶縁被膜を覆う。コンタクトホールは、ドレイン電極上の層間絶縁被膜を通じて形成される。アルミニウムから製造されるピクセル電極は、層間絶縁被膜とコンタクトホールの内部側壁の両方に形成される。TFTのドレイン電極は、事実上、層間絶縁被膜を通じてピクセル電極と接触される。層間絶縁層は、一般に、粗面化された表面を有するように設計され、それによって、ピクセル電極は、反射板として作用し、前記反射板は、より広い観賞用の角度(鑑賞角)を得るために光を拡散する。
反射型の液晶ディスプレイは、ピクセル電極が光反射板として作用する点で光を使用する効率を顕著に高める。上述の反射型液晶ディスプレイにおいて、層間絶縁被膜は、フォトリソグラフィーによって凹凸を有するように設計される。表面粗さについてマイクロメートル規模の凹凸の微細形状を形成し制御し、かつコンタクトホールを形成するために、ポジ型およびネガ型のフォトレジストを使用したフォトリソグラフィー法が使用される。これらのレジストのためには、本発明による組成物が特に適している。
本発明による感光性組成物は、更に、液晶ディスプレイパネルにおける液晶部のセル間隔を制御するスペーサーの製造のために使用できる。液晶ディスプレイにおいて液晶層を通じて透過されたまたは反射された光の特性はセル間隔に依存するので、厚さの精度およびピクセルアレイにわたる均一性は、液晶ディスプレイユニットの性能のための決定的なパラメータである。液晶セルにおいて、セル中の基材の間の間隔は、基材の間のスペーサーとして直径数マイクロメートルのガラスもしくはポリマーの球体をまばらに分配することによって一定に保持される。それらのスペーサーは、このように基材の間で、該基材の間で一定値で距離を維持するように保持される。その距離は、スペーサーの直径によって決定される。それらのスペーサーは、基材の間の最小間隔を保証する;すなわち、それらは基材の間で距離の低下を防ぐ。しかしながら、それらは、基材が互いに離れることを防ぐことはできない。すなわち基材の間の距離は増大する。追加的に、スペーサービーズのこの使用方法は、スペーサービーズの直径の均一性の問題と、パネル上でのスペーサービーズの一様な分配の困難性、ならびに不均一な配向、そして明るさおよび/または光学的開口の問題を、ピクセルアレイ領域でのスペーサーの位置に応じて有する。大きい画像表示領域を有する液晶ディスプレイは、最近では、多くの注意を引いている。しかしながら、液晶セルの面積の増加は、一般に、セルを構成する基材の歪みをもたらす。液晶の層構造は、基材の変形により破壊される傾向がある。このように、基材の間の間隔を一定に保持するためにスペーサーが使用される場合でさえも、大きい画像表示面積を有する液晶ディスプレイは、そのディスプレイが故障を生ずるので実行できない。前記のスペーサー球の分配法の代わりに、セル間隔においてスペーサーとしてカラムを形成する方法も提案されている。この方法において、ピクセルアレイ領域と対向電極との間の領域にスペーサーとして、定められたセル間隔を形成するために、樹脂のカラムが形成される。フォトリソグラフィーによる接着特性を有する感光性材料が、例えばカラーフィルターの製造方法で通常使用される。この方法は、スペーサーの位置、数および高さを自由に制御できるスペーサービーズを使用した慣用の方法と比較して好ましい。近年では、タッチパネル型の液晶ディスプレイ、例えばモバイルオーディオプレイヤーおよび手持ち式のゲームプラットフォームの広がりにともない、液晶パネルへの機械的応力が高まる傾向にある。機械的強度を高めるためにセル間隔を制御するスペーサーの要求が強まるため、こうしてマルチスペーサー法が使用される。マルチスペーサー法によれば、セル間隔が圧力により外側から狭まるときに、セル間隔を制御するメインスペーサーへの添加は、通常は、サブスペーサーの外的応力に対するセル間隔の支持を低下させる。このマルチスペーサーは、メインスペーサーによる低温条件での液晶の収縮を引き起こし、液晶内の気泡の生成を抑制できる。
メインスペーサーとサブスペーサーを含むマルチスペーサーは、同じステップにおいて、例えばJPA−2011065133に記載されるようなハーフトーンマスクを使用して形成される。本発明による感光性組成物は、ハーフトーンマスクを使用した製造方法のために望ましい。
カラー液晶ディスプレイパネルでは、カラーフィルターエレメントの黒色マトリクス下の非画像形成領域に、このようなスペーサーが形成される。従って、感光性組成物を用いて形成されるスペーサーは、明るさおよび光学的開口を減少させない。カラーフィルター用のスペーサーを有する保護層を製造するための感光性組成物は、JP2000−81701−Aに開示されており、そしてスペーサー材料用の乾燥被膜型フォトレジストもまた、JP11−174459−AおよびJP11−174464−Aに開示されている。これらの文献に記載されているように、感光性組成物、液状および乾燥被膜型フォトレジストは、少なくとも1つのアルカリまたは酸可溶性結合剤ポリマー、ラジカル重合性モノマー、およびラジカル開始剤を含んでいる。幾つかの場合には、更にエポキシドおよびカルボン酸のような熱架橋性成分を含めてもよい。感光性組成物を用いてスペーサーを形成するための工程は以下のとおりである:感光性組成物を基材、例えば、カラーフィルターパネルに適用して、基体を予備焼成後、マスクを通してこれを露光する。次に、基材を現像液で現像して、パターン形成することにより所望のスペーサーを形成する。組成物が、幾らかの熱硬化性成分を含むとき、通常後焼成を行って組成物を熱硬化させる。
本発明の光硬化性組成物は、その高い感度のため、(上述の)液晶ディスプレイ用のスペーサーを製造するのに適している。
本発明の感光性組成物はまた、液晶ディスプレイパネル、イメージセンサーなどに使用されるマイクロレンズアレイを製造するためにも適している。
マイクロレンズは、検出器、ディスプレイ、および発光装置(発光ダイオード、横および縦キャビティーレーザー)のような能動オプトエレクトロニクス装置に適合して、これらの光学入力または出力特性を改善するための、微小な受動光学部品である。応用の分野は広く、遠距離通信、情報工学、視聴覚サービス、太陽電池、検出器、固体光源、および光学的相互接続のような分野をカバーする。
現在の光学システムでは、種々の技術を利用することにより、マイクロレンズと微小光学装置の間の効率的なカップリングが得られている。
マイクロレンズアレイは、ディスプレイの明るさを増大させるため液晶ディスプレイ装置のような非発光ディスプレイ装置の画素領域上の照明光を集光するために、入射光を集光するために、あるいは、例えばファクシミリなどに、これらの装置の感度を改善するために使用されるラインイメージセンサーの光電変換領域上に画像を形成するための、および液晶プリンターまたは発光ダイオード(LED)プリンターにおいて使用される感光性手段上にプリントすべき画像を形成するための手段として使用される。最も一般的な応用は、電荷結合素子(CCD)のような固体画像検知装置の光検出器アレイの効率を改善するためのその使用である。検出器アレイでは、各検出エレメントまたはピクセルにおいて可能な限り多くの光の捕集が望まれる。マイクロレンズを各ピクセルの頂上部に置けば、レンズは、入射光を捕集して、レンズのサイズより小さなアクティブ領域にこれを集中させる。先行技術によれば、マイクロレンズアレイは、種々の方法により製造することができる:そのそれぞれについて本発明による組成物を使用してよい。
(1)凸レンズを入手するための方法[平面配置のレンズのパターンを、従来のフォトリソグラフィー法などにより熱可塑性樹脂に描き、次に熱可塑性樹脂を樹脂の軟化点を超える温度まで加熱することにより流動性を持たせ、これによってパターンエッジに沈下を引き起こす(いわゆる"リフロー化")](例えば、JP60−38989−A、JP60−165623−A、JP61−67003−A、およびJP2000−39503−Aを参照のこと)。この方法では、使用される熱可塑性樹脂が感光性であるとき、レンズのパターンは、この樹脂の露光により得ることができる。
(2)成形型またはスタンパーを使用することによるプラスチックもしくはガラスの材料の形成方法。レンズ材料としては、光硬化性樹脂および熱硬化性樹脂がこの方法で使用できる(例えばWO99/38035を参照のこと)。
(3)アライナーの使用により感光性樹脂を所望のパターンで露光すると、非反応モノマーが、非露光領域から露光領域へ移動することによって、露光領域の膨潤が生じるという現象に基づく、凸レンズを形成するための方法(例えば、Journal of the Research Group in Microoptics Japanese Society of Applied Physics, Colloquium in Optics, Vol. 5, No. 2, pp. 118-123 (1987)およびVol. 6, No. 2, pp. 87-92 (1988)を参照のこと)。支持基体の上面上に、感光性樹脂層を形成する。次に独立した遮光マスクを使用して、感光性樹脂層の上面を水銀灯などからの光で照らすことにより、感光性樹脂層を露光する。結果として、感光性樹脂層の露光部分が凸レンズの形状に膨潤することにより、複数のマイクロレンズを有する集光層が形成される。
(4)凸レンズを入手するための方法(フォトマスクを樹脂と接触させないような近接露光法により感光性樹脂を露光することにより、パターンエッジにブラーが生じるため、光化学反応生成物の量は、パターンエッジのブラー化の程度に依存して分布する)(例えば、JP61−153602−Aを参照のこと)。
(5)レンズ作用を生みだすための方法(感光性樹脂を特定強度分布の光に露光することにより、光強度に依存して屈折率の分布パターンを形成する)(例えば、JP60−72927−AおよびJP60−166946−Aを参照のこと)。上述の方法のいずれにおいても、本発明の感光性組成物を使用して、光硬化性樹脂組成物を用いてマイクロレンズアレイを形成することができる。
ある特定の分の技術は、フォトレジストのような熱可塑性樹脂におけるマイクロレンズの形成に専念する。一例が、Popovicらにより参考文献:SPIE 898, pp. 23-25 (1988)に発表されている。リフロー法と名付けられたこの方法は、熱可塑性樹脂中のレンズのフットプリントを画定し(例えば、フォトレジストのような感光性樹脂中でフォトリソグラフィーにより)、続いてこの材料をそのリフロー温度を超えて加熱するという工程を含む。表面張力が、リフロー前の元の島と等しい容量で、フォトレジストの島を球形のキャップ中に引き寄せる。このキャップは、平凸マイクロレンズである。この技術の利点は、特に、簡単さ、再現性、および発光または光検出オプトエレクトロニクス装置の頂上部への直接組み込みの可能性にある。
幾つかの場合には、リフロー化前にオーバーコート層を長方形の形状でパターン化レンズ単位上に形成することにより、リフロー工程での球形キャップへのリフローなしに中央での樹脂の島の沈下を回避する。オーバーコートは、永久保護層として作用する。コーティング層もまた、感光性組成物から作られる。マイクロレンズアレイは、例えばEP0932256に開示される、成形型またはスタンパーの使用によって製作することもできる。平面マイクロレンズアレイを製造する方法は、下記のとおりである:凸面部分を密に配置したスタンパーの成形面に、離型剤をコーティングし、高い屈折率を有する光硬化性合成樹脂材料を、スタンパーの成形面上にセットする。次に、ガラス基板を合成樹脂材料に押し付け、それによって、合成樹脂材料を伸展させ、紫外線での照射または加熱によって合成樹脂材料を硬化させ、凸マイクロレンズを形成するよう成形する。その後、スタンパーを剥がす。次いで、低い屈折率を有する光硬化性合成樹脂材料を、接着層として凸マイクロレンズ上にさらにコーティングし、カバーガラス板へ作成したガラス基板を、合成樹脂材料に押し付け、それによってこれを伸展させる。次いで、合成樹脂材料を硬化させ、最後に、平面マイクロレンズアレイを形成する。US5969867に開示されたとおり、型を用いた類似の方法が、プリズムシートの製造に適用され、これは、カラー液晶表示パネル用のバックライトユニットの一部として、明るさを増強するために用いられる。片側にプリズム列を形成するプリズムシートは、バックライトの発光面に取り付けられる。プリズムシートを製造するには、活性エネルギー線硬化性組成物を、金属製、ガラス製または樹脂製のレンズ型にキャストし伸展させ、プリズム列等のレンズ形状を形成し、その後、透明な基板シートをその上に置き、活性エネルギー線放出源からの活性エネルギー線を、硬化のために該シートを通して照射する。次いで、製造されたレンズシートを、レンズ成形用型から離型して、レンズシートを得る。レンズ部分を形成するのに用いられる活性エネルギー線硬化性組成物は、透明な基板への接着性、および適当な光学特性を含む、様々な特性を保有しなければならない。
少なくとも従来の技術の何らかのフォトレジストによるレンズは、光学スペクトルの青色端における光学的透過率が不良であるため、いくつかの用途に対して望ましくない。本発明の光硬化性組成物は、熱的にも光化学的にも、低い黄化性を有するため、上記マイクロレンズアレイの製造に適している。
新規な放射線感受性組成物は、プラズマ表示パネル(PDP)の製造法に用いられるフォトリソグラフィー工程、特にバリヤーリブ、蛍光層および電極の画像形成プロセスにも適している。
PDPは、気体放電による発光によって画像および情報を表示するための、平面表示装置である。パネルの構成、および操作の方法によって、二つの種類、すなわちDC(直流)型およびAC(交流)型が知られている。
例示のため、DC型カラーPDPの原理を簡潔に説明する。DC型カラーPDPでは、2枚の透明な基板(一般的にはガラス板)の間に介在する空間が、この透明基板間に挿入された格子状のバリヤーリブによって、多数の微細なセルに分割される。個々のセルにおいて、放電気体、例えばHeまたはXeが密閉される。各セルの後方壁には、蛍光層が存在し、該層は放電気体の放電によって生成された紫外光によって励起されると、三原色の可視光を発する。2枚の基板の内面には、関連するセルを通して互いに対向するよう、電極が配置される。一般に、陰極は、NESAガラスのような、透明な導電性材料フィルムで形成される。前壁および後壁に形成されたこれらの電極間に高電圧が印加されたとき、セルに密閉された放電気体は、プラズマ放電を誘発し、その結果放射される紫外光によって、赤、青および緑色の蛍光要素を励起して発光し、画像を表示する。フルカラー表示系では、それぞれ、上記の赤、青および緑色の3原色の各蛍光要素は、連帯して、一つの画素を形成する。
DC型PDPにおけるセルは、格子の構成バリヤーリブによって分割されるのに対し、AC型PDPにおけるそれは、基板面に互いに平行に配置されたバリヤーリブによって分割される。いずれの場合も、セルは、バリヤーリブによって分割される。これらのバリヤーリブは、発光放電を固定された領域内に閉じ込めて、隣接する放電セル間の誤った放電またはクロストークを除外し、理想的な表示を確保することを目的とする。
本発明による組成物は、単色または多色であり得る画像記録または画像再現(コピー、電子複写)のための1層またはそれより多くの層状化材料の製造のための用途も見出されている。さらには、該材料は色校正系のために適している。この技術においては、マイクロカプセルを含有する配合物を適用でき、かつ、画像の生成のために、照射硬化の後に熱処理をしてよい。かかる系および技術およびそれらの用途は例えばUS5376459に開示されている。
式Iで表される化合物はホログラフデータ記憶用途における光開始剤としても適する。前記光開始剤はラジカルを発生させ、ホログラフデータ記憶に適する、ブルーレーザー放射で照射してモノマーの重合を開始する。ブルーレーザーの波長範囲は390−420nm、好ましくは400−410nmであり、特に405nmである。ホログラフ記憶系(ホログラフ記録媒体)は、例えば大容量データを素早いアクセス時間で記録および読み出すのに使用される。本発明の光開始剤は例えば特にWO03/021358に記載のシステムに適する。
ホログラフデータ記憶系は、好ましくは、低屈折率のマトリクス前駆体のマトリクスネットワークと高屈折率の光重合性モノマーからなる。
マトリクス前駆体および光活性モノマーは、(a)マトリクス前駆体が硬化中に重合する反応が、パターン、例えばデータの記録の間に光活性モノマーが重合する反応から独立しているように、そして(b)マトリクスポリマーと光活性モノマー(感光性ポリマー)の重合によって得られるポリマーとは互いに混合可能であるように選択される。光記録材料(すなわちマトリックス材料、さらに光活性モノマー、光開始剤および/または添加剤を加えたもの)は少なくとも約105Paの、一般に約105〜109Paの弾性率を示すとき、マトリックスは形成されると判断される。
メディアマトリックスは "溶解"され未反応のままである光重合性モノマーの存在下で、架橋ネットワークとして得られる、その場の重合によって形成される。未反応の光重合性モノマーを含有するマトリックスはまた他の手段、例えば、光活性な液体モノマーが均一に分散した、固体−樹脂マトリックス材料を用いることによっても形成される。そして、単色照射が、ホログラフパターンを生成し、該パターンは光度分布に従い、固体の予形成されたマトリックス中で光反応性モノマーを重合させる。未反応モノマー(光度が最少である場合)はマトリックス中に拡散し、モノマーとマトリックスの屈折率の相違によって、ならびに、モノマーの体積分率によって算出された、屈折率の変調を生成する。記録層の厚さは数マイクロメーターの範囲から最高1ミリメートルの厚さである。記録層の厚さは数マイクロメーターの範囲から最高1ミリメートルの厚さである。そのように厚いホログラフデータ記憶層であることから、上記レーザー波長で該層を透明にして、光重合範囲が記録層における露光深さに極力依存しないために、光開始剤は高い光反応性と低い吸光度を兼ね備えていることが要求される。
本発明の光開始剤が、405nmにおける高い反応性と低い吸光度を兼ね備え、本用途に適当であることが見出された。染料および増感剤もまた配合物に添加可能である。ブルーレーザー照射に適当な染料および増感剤は、例えばクマリン、キサントン、チオキサントンなどである(上記リストを参照)。
特に、上記のリスト中の項目1.、2.および3.に記載されたチオキサントン、クマリンおよびベンゾフェノンが関連する。
該光開始剤が、ホログラフデータ記憶に要求されるような、厚い層中で、高感度で、モノマーの光重合を可能にし、ブルーレーザー照射に高感度な記録層を得ることを見出した。光開始剤は、20μ厚さの感光層中、2−8質量%の濃度で使用されるとき、レーザー波長における、光開始剤を含む層の0.4未満、好ましくは0.2未満の吸収を得る。
光開始剤は、特に光学物品(例えば光導波路)または、上述のポリマーおよび有機光開始剤を含み、340−450nm範囲のUV波長で最大吸収を有し、感度に適合した屈折率コントラストが3×10-6Δn/(mJ/cm2)である、ホログラフ記録媒体の製造に特に適する。例えば、ポリマーは成分1および成分2(成分1はNCO−末端プレポリマーを含み、成分2はポリオールを含む)を含む材料を重合することによって形成される。成分1は、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート誘導体、メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート誘導体である。成分2は、例えばポリプロピレンオキシドのポリオールである。好ましくは、光活性モノマーはアクリレートモノマーである。前記媒体中、書き込みによって引き起こされる収縮は通常0.25%未満である。
光硬化はさらに印刷にとって非常に重要であり、なぜなら、インキの乾燥時間はグラフィック製品の製造速度にとって決定的な要因であり、かつ、何分の1秒のオーダーであるべきだからである。UV硬化性インキは、スクリーン印刷およびオフセットインキのために特に重要である。
既に上記で述べられた通り、新規の混合物は印刷板の製造のためにも非常に適している。この用途は例えば、可溶性の直鎖ポリアミドまたはスチレン/ブタジエンおよび/またはスチレンイソプレンゴムの混合物、カルボキシル基含有ポリアクリレートまたはポリメチルメタクリレート、光重合可能なモノマー、例えばアクリルアミドおよび/またはメタクリルアミドまたはアクリレートおよび/またはメタクリレートを有するポリビニルアルコールまたはウレタンアクリレート、および光開始剤を使用する。それらの系の膜および板(湿潤または乾燥)を、印刷された原型のネガ(またはポジ)上で露光し、かつ、硬化されていない部分を次に、適切な溶剤または水溶液を使用して洗い落とす。
光硬化が用いられる他の分野は、金属の被覆物であり、その場合、例えば金属板および管、缶または瓶のキャップの被覆、およびポリマー被覆物、例えばPVCに基づく床または壁被覆物の光硬化である。紙被覆物の光硬化の例は、ラベル、レコード入れ、および本の表紙の無色のニスがけである。
複合組成物製の成形物品の硬化のために、新規の光開始剤を使用することも関心が持たれている。複合化合物は自律式のマトリックス材料、例えばガラス繊維布、または選択的に例えば植物繊維からなり[K.-P.Mieck, T.Reussmann in Kunststoffe 85 (1995), 366-370参照]、それを光硬化配合物で含浸させる。複合化合物を含む成形部品は、新規化合物を使用して製造される場合、高水準の機械的安定性および耐性を達成する。該新規化合物を、光硬化剤として、成形、含浸、および被覆組成物において、例えばEP7086内に記載される通り、用いることもできる。かかる組成物の例は、硬化活性および黄変耐性に関する厳しい要求を受けるゲル被覆樹脂、および繊維強化成形品、例えば平面であるか、または縦方向または横方向に起伏を有する光拡散パネルである。かかる成形品を製造する技術、例えばハンドレイアップ、スプレーレイアップ、遠心注型またはフィラメントワインディングは、例えばP.H.Seldenによって"Glasfaserverstaerkte Kunststoffe",610頁,Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York 1967に記載されている。それらの技術により製造できる物品の例は、ボート、ガラス繊維強化プラスチックの両面被覆を有する繊維ボードまたはチップボードパネル、管、容器等である。成形、含浸および被覆組成物のさらなる例は、ガラス繊維(GRP)含有成形品用のUP樹脂ゲル被覆物、例えば波板および紙積層品である。紙積層品は、ウレア樹脂またはメラミン樹脂に基づいていてよい。積層品の製造に先立ち、ゲル被覆物を支持体(例えば膜)の上に製造する。新規の光硬化性組成物を、注型用樹脂のために、または埋込物品、例えば電子部品等のためにも使用できる。
本発明による組成物および化合物を、ホログラフィー、導波管、光スイッチの製造のために使用でき、その際、照射された領域と照射されていない領域との間の屈折率における差の発生を利用する。
画像化技術のための、および情報担体の光生成のための光硬化性組成物の使用も重要である。かかる用途において、既に上記に記載された通り、支持体に適用される層(湿潤または乾燥)を、例えばフォトマスクを通じて、UV光または可視光で画像様に照射し、そして、その層の露光されていない領域を現像液での処理によって除去する。金属への光硬化性層の適用を、電気めっきによって行うこともできる。照射された領域は架橋を通じてポリマーになり、従って不溶性でありかつ支持体の上に残る。適切な着色により可視画像が生成される。支持体が金属化層である場合、該金属は、露光および現像に続き、露光されていない領域でエッチングにより除去されるか、または電気めっきにより補強されることがある。この方法において、電子回路およびフォトレジストを製造することが可能である。画像形成材料に用いた場合は、この新規光開始剤は、いわゆるプリントアウト画像を生成し、それにより、照射に起因して色の変化が誘発される、優れた性能を与える。そのようなプリントアウト画像を形成するには、異なる染料、および/またはそのロイコ形態が用いられ、そのようなプリントアウト画像系についての例は、例えばWO96/41240、EP706091、EP511403、US3579339およびUS4622286に見出すことができる。
新規光開始剤はまた、逐次積層法により製造される多層回路基板の誘電体層を形成するための光パターン化可能な組成物に適している。
本発明は、上記のとおり、着色および非着色塗料およびワニス、粉末コーティング、印刷用インキ、印刷版、接着剤、感圧接着剤、歯科組成物、ゲルコート、電子工学用のフォトレジスト、電気めっきレジスト、リキッドおよびドライフィルム双方のエッチングレジスト、はんだレジスト、様々な表示用途のカラーフィルターを製造するためのレジストとして、プラズマ−ディスプレイパネル(例えばバリヤリブ、蛍光体層、電極)、電界発光ディスプレイおよびLCD(例えば層間絶縁層、スペーサー、マイクロレンズアレイ)の製造工程における構造を形成するための、ホログラフデータ記憶(HDS)のための、電気および電子部品を封入するための組成物として、磁気記録材料、微小機械部品、導波路、光学スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、カラー試験系、ガラス繊維ケーブルコーティング、およびスクリーン印刷用ステンシルを製造するための、ステレオリソグラフィーによる三次元物体を製造するための、そしてホログラフィー記録用の画像記録材料、微細電子回路、脱色材料、および画像記録材料のための脱色材料、マイクロカプセルを用いた画像記録材料のための、プリント回路基板の逐次積層における誘電体層を形成するために使用されるフォトレジスト材料として、組成物を提供する。その際、前記プロセスは、前記の組成物に、150〜600nmの範囲の電磁線をまたは電子ビームもしくはX線を照射することを含む。
写真情報記録のために使用される基材は、例えばポリエステル、酢酸セルロースまたはポリマー被覆紙の膜を含み;オフセット印刷フォームのための基材は特殊処理されたアルミニウムであり、プリント回路を製造するための基材は銅覆ラミネートであり、かつ、集積回路を製造するための基材は例えばシリコンウェハである。写真材料およびオフセット印刷フォームのための感光性層の層厚は一般に、約0.5μm〜10μmである一方、プリント回路については、それは0.1μm〜約100μmである。基材の被覆に続いて、一般に乾燥によって溶剤が除去されて基材上にフォトレジスト被覆物が残る。
基材の被覆を、基材への液体組成物、溶液または懸濁液の適用によって行うことができる。溶剤および濃度の選択は、主として組成物の種類および被覆技術に依存する。溶剤は不活性であるべきである、即ち、組成物との化学反応を経るべきではなく、かつ、被覆後、乾燥の間に再度除去できるべきである。適した溶剤の例は、ケトン、エーテルおよびエステル、例えばメチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、酢酸エチル、n−ブチルアセテート、エチル 3−エトキシプロピオネート、2−メトキシプロピルアセテート、メチル−3−メトキシプロピオネート、2−ヘプタノン、2−ペンタノンおよびエチルラクテートである。
溶液を均一に、公知の被覆技術によって、例えばスピン塗布、浸漬塗布、ナイフ塗布、カーテン塗布、ブラシ、噴霧により、特に静電噴霧およびリバースロール塗布により、さらには電気泳動堆積によって、基材に適用する。感光性の層を一次的に柔軟性のある支持体に適用し、その後、張り合わせを通じて、その層を転写することにより、最終的な基材、例えば銅覆回路基板またはガラス基材を被覆することも可能である。適用される量(被覆厚)および基材(支持層)の性質は、所望の分野の用途に依存する。被覆厚の範囲は、一般に約0.1μmから100μmより上、例えば0.1μmから1cm、好ましくは0.5μm〜1000μmの値を含む。
基材の被覆に続いて、一般に乾燥によって溶剤が除去されて基材上にフォトレジストの実質的に環式のレジスト被膜が残る。
本新規組成物の感光度は、概して、約150〜600nm、例えば190〜600nm(UV〜可視領域)におよび得る。好適な放射線は、例えば、日光または人工的な光源からの光である。そのため、多くの非常に様々な種類の光源が使用される。点光源とアレイ(「ランプカーペット」)との双方が適している。例は、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯、金属ハロゲン化物のドープを有し得る低圧、中圧、高圧および超高圧水銀灯(金属ハロゲン灯)、マイクロ波で励起される金属蒸気灯、エキシマランプ、スーパーアクチニック蛍光管、蛍光灯、アルゴン白熱灯、電子閃光、写真用フラッドランプ、発光ダイオード(LED)、電子ビームおよびX線である。ランプと露光される基材との距離は、本発明によれば、用途およびランプの種類および出力に依存して変化してよく、例えば2cm〜150cmであってよい。レーザー光源、例えばエキシマレーザー、例えば157nm露光でのF2エキシマーレーザー、248nmでの露光用のKrFエキシマーレーザー、および193nmでの露光用のArFエキシマーレーザーもまた好適である。可視領域のレーザーも用いることができる。
用語"画像様(imagewise)"の露光は、所定のパターンを含むフォトマスク、例えばスライド、クロムマスク、ステンシルマスクまたはレチクルを通しての露光と、例えば、コーティングされた基材の表面上をコンピュータ制御下で移動し、このようにして画像を生成する、レーザーまたは光ビームによる露光との双方を包含する。該目的に適したUVレーザー露光系は、例えばEtecおよびOrbotech(DP-100(商標)DIRECT IMAGING SYSTEM社)により提供される。レーザー光源のその他の例は、例えばエキシマレーザー、例えば157nm露光でのF2エキシマーレーザー、248nmでの露光用のKrFエキシマーレーザー、および193nmでの露光用のArFエキシマーレーザーである。さらに適当なものは、固体UVレーザー(例えば、Gemini(ManiaBarco社)、DI−2050(ペンタックス社))および405nm出力の紫色レーザーダイオード(DI−2080、DI−PDP(ペンタックス社))である。可視領域のレーザも用いることができる。そして、コンピュータ制御照射もまた、電子ビームによって達成される。画素毎に向けてデジタル画像を生成できる液晶製のマスクを使用することも可能であり、例えばA.Bertsch, J.Y.Jezequel, J.C.Andre in Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 1997, 107, p.275-281、およびK.-P.Nicolay in Offset Printing 1997, 6, p.34-37によって記載されている通りである。
材料の画像様の露光に続き、且つ、現像に先立って、短時間の熱処理を行うことが有利であることがある。現像の後、サーマルポストベークを実施して、組成物を堅固にし、全ての微量の溶媒を除去することができる。使用される温度は、一般的に、50〜250℃、好ましくは80〜220℃である;熱処理の持続時間は、一般的に、0.25〜60分間である。
光硬化性組成物は、さらには、例えばDE4013358に記載される通り、印刷板またはフォトレジストの製造のための方法において使用してよい。かかる方法において、該組成物を、画像様の照射に先立ち、同時に、またはその後に、短時間、少なくとも400nmの波長を有する可視光で、マスクを用いずに露光する。
露光、および行われる場合、熱処理の後、感光性被覆物の非露光領域を、現像液を用いて自体公知の方法で除去する。
既に述べられた通り、新規の組成物を水性アルカリまたは有機溶剤によって現像できる。特に適したアルカリ現像水溶液は、水酸化テトラアルキルアンモニウムの、またはアルカリ金属シリケート、ホスフェート、水酸化物、およびカーボネートの水溶液である。少量の湿潤剤および/または有機溶剤も、必要であればそれらの溶液に添加してよい。少量で現像液に添加してもよい典型的な有機溶媒の例は、シクロヘキサノン、2−エトキシエタノール、トルエン、アセトンおよびかかる溶剤の混合物である。基材に応じて、溶媒、例えば有機溶媒も、または上記のとおり、そのような溶媒とのアルカリ水溶液の混合物も、現像液として用いることができる。溶剤現像に特に有用な溶媒として、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート、メチル−3−メトキシプロピオネート、酢酸n−ブチル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、2−ペンタノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタムおよびN−メチルピロリドンが挙げられる。任意に、水を、これらの溶剤に、依然として澄明な溶液が得られ、かつ感光性の組成物の露光されない領域の十分な可溶性が保持される濃度まで添加することができる。
したがって、本発明は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、すなわち、少なくとも一つのエチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、オリゴマーまたはポリマー化合物の光重合方法を提供するものであって、これらの化合物に、上記の式Iで表される少なくとも1種の光開始剤を加え、得られた組成物を電磁放射線、特に、波長150〜600nm、特に190〜600nmの光、電子ビームまたはX線で照射することを含む方法も提供する。
言い換えれば、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物に、上記の式Iで表される少なくとも1種の光開始剤を加え、得られた組成物を電磁線、特に、波長150〜600nm、特に190〜600nmの光、電子ビームまたはX線で照射する。
本発明は、さらに、少なくとも一方の面を上記の組成物でコートしたコート基材を提供し、また、コート基材を画像様の露光に付し、次いで、非露光部分を現像剤で除去する、レリーフ像の写真的製造方法を記載する。画像様の露光は、マスクを通しての照射によってか、または上述のレーザーもしくは電子ビームによって達成され得る。この状況において、特に好都合なものは、上述のレーザービーム露光である。
本発明の化合物は、良好な熱安定性、低揮発性、優れた貯蔵安定性および高い溶解性を有し、また、空気(酸素)の存在下での光重合にも好適である。さらに、それらは、光重合後の組成物において、ほんの少しの黄化しか引き起こさない。
下記の実施例で本発明をより詳細に説明する。部およびパーセントは、本願明細書の残りにおいて、および特許請求の範囲において、特段指定されない限り、質量によるものである。3つより多い炭素原子を有するアルキル基が以下の実施例において特定の異性体の言及なく示される場合、それぞれの場合n−異性体を意味する。
例1 1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−エタノンオキシムO−アセテートの合成
1.a 11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール
Figure 0006038033
11H−ベンゾ[a]カルバゾールは、幾つかの手順に従って、例えばSYNLETT, 2006, 7, 1021に記載の手順に従って製造できる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
11H−ベンゾ[a]カルバゾール(0.70g;3.22ミリモル)をDMF(3ml)中に入れたものに、水素化ナトリウム(0.19g;4.67ミリモル)を0℃で添加し、0℃で1時間撹拌した後に、1−ブロモ−2−エチルヘキサン(1.24g;6.44ミリモル)を0℃で添加し、そして該混合物を室温で一晩撹拌する。該反応混合物を、氷水に注ぎ、そして粗生成物をAcOEt(酢酸エチルエステル)で2回抽出する。合した有機層を、H2Oおよびブラインで洗浄し、MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮し、真空中で乾燥させることで、粗生成物(1.08g)として黄色の液体が得られる。該生成物を、更なる精製をすることなく後続反応のために使用する。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
1.b 1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]エタノン
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(0.42g;1.27ミリモル)をCH2Cl2(20mL)中に入れたものに、2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリド(0.23g;1.27ミリモル)およびAlCl3(0.17g;1.27ミリモル)を0℃で添加する。室温で2.5時間にわたり撹拌した後に、塩化アセチル(0.17g;1.31ミリモル)およびAlCl3(0.19;1.40ミリモル)を0℃で添加し、そして該混合物を室温で3時間にわたり撹拌する。該反応混合物を、氷水に注ぎ、そして粗生成物をCH2Cl2で2回抽出する。合した有機層を、水およびブラインで洗浄し、MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮し、真空中で乾燥させることで、ベージュ色の固体(0.45g;75%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
1.c 1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]エタノンオキシムO−アセテート
Figure 0006038033
1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]エタノン(0.49g;0.95ミリモル)をトルエン(5mL)およびN−メチルピロリドン(NMP)(0.85ml)中に入れて80℃で温めたものに、酢酸ナトリウム(93.5mg;1.14ミリモル)およびヒドロキシルアンモニウムクロリド(78.9mg;1.14ミリモル)を添加し、次いで該混合物を100℃で一晩撹拌する。該反応混合物を0℃で冷却した後に、トリエチルアミン(0.145g;1.43ミリモル)および塩化アセチル(0.11g;1.43ミリモル)をそこに添加し、次いで該混合物を室温で2時間にわたり撹拌する。反応が完了した後に、該反応混合物を水中に添加する。次いで粗生成物をトルエンで抽出する。有機層を、水およびブラインで洗浄し、MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮し、真空中で乾燥させることで、残留物が得られる。この残留物をt−ブチルメチルエーテルで洗浄することで、白色の固体(0.33g;60%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例2〜17
例2〜17の化合物の相応のジケトン中間体は、一般に、例1.bに開示される手順に従って、相応のアルカノイルもしくはアロイルクロリドを塩化アセチルの代わりに用いて製造される。特に、例11〜14の中間体は、3−クロロプロピオニルクロリドを用いて製造され、引き続き2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドとの反応後に相応のアルコキシドもしくはアルキルチオレートと反応される。更に、例14の場合においては、硫化物は、m−クロロ過安息香酸による酸化によってスルホンに変換される。例15および16の中間体は、3−クロロプロピオニルクロリドの代わりにクロロアセチルクロリドを用いて製造され、引き続き相応のアルキルチオレートまたはカルボン酸と反応される。例17のジケトン中間体は、2−ブテノイルクロリドを用いて製造される。それぞれのオキシム化と後続のエステル化は、例1.cおよび1.dに開示される手順に従って行われるが、例3〜8におけるオキシム化は、トルエンとNMPとの混合溶剤の代わりにピリジンを用いて100℃で行われる。例3〜8の化合物は、異性体混合物として得られるが、他の例の化合物は、単独の成分として得られる。
第1表:
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
例18 {11−(2−エチルヘキシル)−8−[2−(2−メトキシエトキシ)ベンゾイル]−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル}−(2,4,6−トリメチルフェニル)メタノンオキシムO−アセテートの合成
18.a [11−(2−エチルヘキシル)−8−(2−フルオロベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)メタノン
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(47.16g;143.0ミリモル)をCH2Cl2(400mL)中に入れたものに、2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリド(27.45g;150.0ミリモル)およびAlCl3(20.00g;150.0ミリモル)を0℃で添加する。室温で2時間にわたり撹拌した後に、AlCl3(22.93g;172.0ミリモル)を0℃で添加し、そして2−フルオロベンゾイルクロリド(23.78g;150.0ミリモル)を滴加し、次いで該混合物を室温で3時間にわたり撹拌する。該反応混合物を、氷水に注ぎ、そして粗生成物をCH2Cl2で2回抽出する。合した有機層を、水およびブラインで洗浄し、MgSO4上で乾燥させる。230mlのn−ヘキサンをそこに添加した後に、CH2Cl2を濃縮により除去することで、ベージュ色の固体が得られた。それを濾過により回収し、そしてn−ヘキサンで洗浄し、次いで乾燥させることで、ベージュ色の固体(81.81g;95.7%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
18.b [11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−[2−(2−メトキシエトキシ)フェニル]メタノンオキシムの合成
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−8−(2−フルオロベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル−(2,4,6−トリメチルフェニル)メタノン(5.98g;10.0ミリモル)をピリジン(10mL)中に入れたものに、2−メトキシエタノール(2.28g;30.00ミリモル)およびカリウムt−ブトキシド(1.68g;15.00ミリモル)を室温で添加する。該混合物を80℃で加熱し、それを3.5時間にわたり撹拌する。該反応混合物に、ヒドロキシルアンモニウムクロリド(2.08g;30.00ミリモル)を添加し、次いで該混合物を100℃で一晩撹拌する。それを室温で冷却した後に、該反応混合物を200mlの水中に注ぐ。沈殿した固体を濾過によって回収し、次いでそれをCH3OHで洗浄する。所望の化合物が、白色の固体として71%の収率(4.73g)で得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
18.c [11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−[2−(2−メトキシエトキシ)フェニル]メタノンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
(11−(2−エチルヘキシル)−8−{ヒドロキシイミノ[2−(2−メトキシエトキシ)フェニル]メチル}−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル)−(2,4,6−トリメチルフェニル)メタノン(2.59g;3.87ミリモル)をアセトン(20ml)中に入れたものに、トリエチルアミン(0.78g;7.74ミリモル)および塩化アセチル(0.61g;7.74ミリモル)を0℃で添加する。前記混合物を2時間にわたり撹拌する。反応が完了した後に、該反応混合物を水中に添加する。次いで粗生成物をt−ブチルメチルエーテルで抽出する。有機層を、水およびブラインで洗浄し、MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮し、真空中で乾燥させることで、残留物が得られる。この残留物をt−ブチルメチルエーテルで再結晶化させることで、白色の固体(2.00g;73%)が得られる。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例19〜41
例19〜41の化合物の相応のジケトン中間体は、一フッ素化もしくは二フッ素化された塩化ベンゾイルを用いて製造される。次いで、オキシムおよびオキシムエステルは、例18bおよび18cに開示される手順に従って製造され、そして該オキシムエステルは、異性体混合物として得られる。それらの化合物およびそれらの特性を、以下の第2表にまとめる。
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
例42〜60
例42〜52の化合物のN原子にある置換基は、1−ブロミド−2−エチルヘキサンの代わりに相応のハロアルカンまたはハロアルキルエーテルを用いて例1.aに開示された手順に従って導入する。例53の化合物のN原子にある置換基は、1−ブロモ−3−クロロプロパンとの反応に引き続き、エチルチオグリコレートと反応させることによって導入される。例54の化合物のN原子にある置換基は、1−ブロモ−6−クロロヘキサンとの反応に引き続き、亜リン酸トリエチルと反応させることによって導入される。例55および56の化合物のN原子にある置換基は、グリシジルイソプロピルエーテルとの反応に引き続き、塩化アセチルと反応させることによって導入される。例57の化合物の場合には、11−フェニル−11H−ベンゾ[a]カルバゾールは、フェニルヒドラジンとジフェニルヒドラジンとの交換によって、例1.aに挙げられるSYNLETT, 2006, 7, 1021に記載される手順に従って製造される。例58の化合物のN原子にある置換基は、ブロモエタノールを用いて導入される。以下のジケトン、オキシムおよびオキシムエステルは、例18に開示される手順に従って製造される。例59の化合物は、例58の化合物と塩化アクリロイルとを反応させることによって製造される。例42〜53の化合物は、異性体混合物として得られ、そして他のものは、単独の成分として得られる。それらの化合物およびそれらの特性を、以下の第3表にまとめる。
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033
例60〜68
例60の化合物の場合には、相応のジケトン中間体は、例1.bに開示される手順に従って、2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドおよび塩化アセチルの代わりに塩化チエノイルおよびエチルスクシニルクロリドを用いて製造される。次いで、オキシムおよびオキシムエステルは、例1.cに開示される手順に従って製造される。例61および62の化合物の場合には、相応のジケトン中間体は、例18.aに開示される手順に従って、2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドの代わりに1−ナフトイルクロリドまたは2,6−ジメトキシベンゾイルクロリドを用いて製造され、そして例63〜68の化合物の場合には、相応のジケトン中間体は、例18.aに開示される手順に従って、2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドの代わりに4−フルオロベンゾイルクロリドを用いて製造される。次いで、オキシムおよびオキシムエステルは、例18.bおよび18.cに開示される手順に従って製造される。例61および62の化合物は、異性体混合物として得られ、そして他のものは、単独の成分として得られる。それらの化合物およびそれらの特性を、以下の第4表にまとめる。
Figure 0006038033
Figure 0006038033
例69 [11−(2−エチルヘキシル)−3−メトキシ−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−o−トリル−メタノンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
中間体である11−(2−エチルヘキシル)−3−メトキシ−11H−ベンゾ[a]カルバゾールは、例1.aに開示される手順に従って、α−テトラロンの代わりに6−メトキシ−1−テトラロンを用いて製造される。後続の反応は、例2の手順に従って行われる。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例70 [13−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−13H−ジベンゾ[a,i]カルバゾール−8−イル]−[4−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
中間体である13−(2−エチルヘキシル)−13H−ジベンゾ[a,i]カルバゾールは、例1.aに開示される手順に従って、フェニルヒドラジンの代わりに1−ナフチルヒドラジン塩酸塩を用いて製造される。後続の反応は、例18に開示される手順に従って行われる。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例71 {11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル}−[2−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノンオキシムO−チオフェン−2−カルボキシレートの合成
Figure 0006038033
相応のオキシムは、例18に開示される手順に従って、2−メトキシエタノールの代わりに2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールを用いて製造し、次いでオキシムエステルは、同じ手順に従って製造される。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例72 [5−(4,5−ジフェニル−1H−イミダゾール−2−イル)−11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ−8−イル]−[2−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノンオキシムO−アセテートの合成
72.a 11−(エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−カルバルデヒドの合成
Figure 0006038033
11H−ベンゾ[a]カルバゾール(3.00g、9.12ミリモル)をDMF(7.02g、96.1ミリモル)中に入れたものに、塩化ホスホリル(14.0g、91.3ミリモル)を0℃で添加する。2時間にわたり撹拌した後に、該混合物を130℃で加熱し、そして1時間にわたり撹拌する。該混合物を、室温で冷却し、そして氷水中に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。有機層を、MgSO4上で乾燥させる。濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、オフホワイト色の固体(1.43g、43%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
72.b 11−(2−エチルヘキシル)−8−(2−フルオロベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−カルバルデヒドの合成
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−カルバルデヒド(1.40g、3.91ミリモル)をCH2Cl2(20ml)中に入れたものに、AlCl3(1.21g、9.07ミリモル)および2−フルオロベンゾイルクロリド(0.70g、4.41ミリモル)を0℃で添加する。室温で17時間にわたり撹拌した後に、該反応混合物を、氷水中に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、オフホワイト色の固体(1.76g、93%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
72.c 11−(2−エチルヘキシル)−8−[2−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)ベンゾイル]−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−カルバルデヒドの合成
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−8−(2−フルオロベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−カルバルデヒド(1.73g、3.60ミリモル)をピリジン(18ml)中に入れたものに、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール(0.72g、5.48ミリモル)および水酸化ナトリウム(0.24g、6.00ミリモル)を室温で添加する。該反応混合物を、70℃で加熱する。3時間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、生成物をヘキサンおよび酢酸エチルから再沈殿させることで、オフホワイト色の固体(1.91g、89%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
72.d [5−(4,5−ジフェニル−1H−イミダゾール−2−イル)−11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−[2−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノンの合成
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−8−[2−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)ベンゾイル]−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−カルバルデヒド(1.00g、1.70ミリモル)、ベンジル(0.83g、1.82ミリモル)および酢酸アンモニウム(2.67g、34.6ミリモル)を酢酸(30ml)中に入れた混合物を、130℃で3時間にわたり撹拌する。室温で冷却した後に、該反応混合物を、氷水中に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の樹脂(1.25g、94%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
72.e [5−(4,5−ジフェニル−1H−イミダゾール−2−イル)−11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−[2−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
[5−(4,5−ジフェニル−1H−イミダゾール−2−イル)−11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−[2−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノン(1.00g、1.28ミリモル)およびヒドロキシルアンモニウムクロリド(0.18g、2.63ミリモル)をピリジン(7ml)中に入れた混合物を、120℃で20時間にわたり撹拌する。室温で冷却した後に、該反応混合物を、氷水中に注ぐ。粗生成物を、CH3COOC25(AcOEt)で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、得られた固体を、テトラヒドロフラン(THF)(12ml)中に溶解させる。その溶液に、トリエチルアミン(0.17g、1.70ミリモル)および塩化アセチル(0.13g、1.70ミリモル)を室温で添加する。20時間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、AcOEtで抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でn−ヘキサンとAcOEt(2:1)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の樹脂(340mg、33%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例73 1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−2−フェニルエタン−1,2−ジオン2−オキシムO−アセテートの合成
73.a 1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−2−フェニルエタノンの合成
Figure 0006038033
11H−ベンゾ[a]カルバゾール(1.06g、3.23ミリモル)をCH2Cl2(5ml)中に入れたものに、AlCl3(0.510g、3.82ミリモル)および2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリド(0.59g、3.24ミリモル)を0℃で添加する。室温で1時間にわたり撹拌した後で、AlCl3(0.51g、3.82ミリモル)および塩化フェニルアセチル(0.52g、3.39ミリモル)を0℃で添加する。該反応混合物を、室温で2時間にわたり撹拌し、次いでそれを氷水中に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、生成物をCH2Cl2およびn−ヘキサンから再沈殿させることで、白色の粉末(1.53g、81%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
73.b 1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−2−フェニルエタン−1,2−ジオン2−オキシムの合成
Figure 0006038033
1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−2−フェニルエタノン(1.20g、2.03ミリモル)および亜硝酸イソアミル(0.50g、4.26ミリモル)をTHF(6ml)中に入れた混合物に、HClガスを1分にわたり気泡導入する。室温で4時間にわたり撹拌した後に、該反応混合物を、氷水中に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でn−ヘキサンとCH2Cl2(1:1)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、オフホワイト色の樹脂(0.69g、50%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
73.c 1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−2−フェニルエタン−1,2−ジオン2−オキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
1−[11−(2−エチルヘキシル)−5−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−2−フェニルエタン−1,2−ジオン2−オキシム(0.40g、0.64ミリモル)をTHF(2ml)中に入れたものに、トリエチルアミン(94mg、0.90ミリモル)および塩化アセチル(77mg、0.90ミリモル)を室温で添加する。該反応混合物を、1時間にわたり撹拌し、次いでそれを氷水中に注ぐ。粗生成物を、AcOEtで抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、オフホワイト色の樹脂(324mg、76%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例74 1−[11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−2−フェニルエタン−1,2−ジオン2−オキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
この例の化合物は、例74.bおよび74.cに開示される手順に従って、11H−ベンゾ[a]カルバゾールと塩化フェニルアセチルとを反応させることによって製造された1−[11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−2−フェニルエタノンを用いて製造される。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例75 [11−(2−エチルヘキシル)−8−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−[4−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタンオキシムO−アセテートの合成
75.a [11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−(4−フルオロフェニル)メタノンの合成
Figure 0006038033
11H−ベンゾ[a]カルバゾール(8.24g、25.0ミリモル)をCH2Cl2(80ml)中に入れたものに、AlCl3(3.33g、25.0ミリモル)および4−フルオロベンゾイルクロリド(4.04g、25.5ミリモル)を0℃で添加する。室温で4時間にわたり撹拌した後に、該反応混合物を、氷水中に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2およびn−ヘキサン(1:9)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の固体(4.96g、44%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
75.b [11−(2−エチルヘキシル)−5−(4−フルオロベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)メタノンの合成
Figure 0006038033
[11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−(4−フルオロフェニル)メタノン(2.00g、4.43ミリモル)をクロロベンゼン(12mL)中に入れたものに、AlCl3(1.24g、9.30ミリモル)および2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリド(0.85g、4.65ミリモル)を0℃で添加する。65℃で2時間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2およびn−ヘキサン(4:1)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の固体(1.39g、52%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
75.c [11−(2−エチルヘキシル)−8−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−[4−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタンオキシムの合成
Figure 0006038033
[11−(2−エチルヘキシル)−5−(4−フルオロベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)メタノン(1.29g、2.16ミリモル)をピリジン(3ml)中に入れたものに、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール(0.43g、3.24ミリモル)および水酸化ナトリウム(0.13g、3.32ミリモル)を添加する。該混合物を、70℃で23時間にわたり撹拌し、次いでそれを、120℃で24時間にわたり撹拌する。該反応混合物を、室温で冷却した後に、それを水に注ぎ、次いで粗生成物を、AcOEtで抽出し、そして水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、白色の固体(0.80g、51%)が得られる。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
75.d [11−(2−エチルヘキシル)−8−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−[4−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
[11−(2−エチルヘキシル)−8−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−5−イル]−[4−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタンオキシムをN,N−ジメチルアセトアミド(3ml)中に入れたものに、トリエチルアミン(0.33g、3.27ミリモル)および塩化アセチル(0.26g、3.29ミリモル)を0℃で添加する。0℃で2時間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、AcOEtで抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物を酢酸エチルおよびn−ヘキサンの混合溶剤から再結晶化させることで、ベージュ色の固体(0.29g、35%)が得られる。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例76 [7−(2−エチルヘキシル)−3−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾール−10−イル]−o−トリル−メタノンオキシムO−アセテートの合成
76.a 1−(2−ニトロフェニル)ナフタレンの合成
Figure 0006038033
o−ブロモベンゼン(2.02g、10.0ミリモル)をDMA(15ml)中に入れたものに、1−ナフタレンボロン酸(1.73g、10.0ミリモル)およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(116mg、0.1ミリモル)を添加する。該混合物を110℃で加熱し、それを一晩撹拌する。該反応混合物を室温で冷却した後に、それを水に注ぐ。粗生成物を、AcOEtで抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、それをn−ヘキサンで洗浄することで、ベージュ色の固体(2.1g、84%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRによって確認される:
Figure 0006038033
76.a 7H−ベンゾ[c]カルバゾールの合成
Figure 0006038033
1−(2−ニトロフェニル)ナフタレン(1.10g、4.41ミリモル)をo−ジクロロベンゼン(6ml)中に入れたものに、トリフェニルホスフィン(2.89g、11.03ミリモル)を添加する。該混合物を180℃で加熱し、次いでそれを24時間にわたり撹拌する。該反応混合物を室温で冷却した後に、粗生成物を、シリカゲル上でn−ヘキサンおよびCH2Cl2(4:1)の混合溶剤で溶出するカラムクロマトグラフィーによって精製することで、ベージュ色の固体(0.79g、82%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRによって確認される:
Figure 0006038033
76.b 7−(2−エチルヘキシル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾールの合成
Figure 0006038033
7H−ベンゾ[c]カルバゾール(0.78g、3.59ミリモル)をジメチルホルムアミド(DMF)(4ml)中に入れたものに、水素化ナトリウム(0.21g、5.21ミリモル)を0℃で添加し、そして該混合物を1時間にわたり撹拌する。該反応混合物に、1−ブロモ−2−エチルヘキサン(1.04g、5.39ミリモル)を添加する。該混合物を室温で一晩撹拌し、次いで0℃で5時間にわたり撹拌する。該反応混合物を、室温で冷却した後に、それを氷水に注ぎ、そして粗生成物を、AcOEtで抽出し、そして水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、所望の生成物が褐色の液体(1.21g、99%)として得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
76.c [7−(2−エチルヘキシル)−3−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾール−10−イル]−o−トリル−メタノンの合成
Figure 0006038033
7−(2−エチルヘキシル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾール(0.66g、2.00ミリモル)をCH2Cl2中に入れたものに、AlCl3(0.27g、2.06ミリモル)および2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリド(0.37g、2.00ミリモル)を0℃を添加し、次いで該混合物を2時間にわたり撹拌する。該反応混合物に、AlCl3(0.29g、2.20ミリモル)およびo−トルオイルクロリド(0.32g、2.06ミリモル)を0℃で添加し、次いで該混合物を一晩撹拌する。該反応混合物を、氷水中に注ぎ、そして粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そして水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2およびn−ヘキサン(4:1)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、白色の固体(0.25g、21%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
76.d [7−(2−エチルヘキシル)−3−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾール−10−イル]−o−トリル−メタノンオキシムの合成
Figure 0006038033
[7−(2−エチルヘキシル)−3−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾール−10−イル]−o−トリル−メタノン(0.25g、0.42ミリモル)をピリジン(2ml)中に入れたものに、ヒドロキシルアンモニウムクロリド(59mg、0.84ミリモル)を添加する。該混合物を130℃で加熱し、次いでそれを6時間にわたり撹拌する。該反応混合物を、室温に冷却した後に、それを水に注ぎ、次いで粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そして水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、所望の生成物が淡黄色の固体(0.23g、90%)として得られる。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
76.e [7−(2−エチルヘキシル)−3−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾール−10−イル]−o−トリル−メタノンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
[7−(2−エチルヘキシル)−3−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−7H−ベンゾ[c]カルバゾール−10−イル]−o−トリルメタノンオキシム(0.23g、0.38ミリモル)をAcOEt(5ml)中に入れたものに、トリエチルアミン(0.11g、1.13ミリモル)および塩化アセチル(89mg、1.13ミリモル)を0℃で添加し、次いで該混合物を2.5時間にわたり撹拌する。該反応混合物を、水中に注ぎ、そして粗生成物を、AcOEtで抽出し、そして水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2およびn−ヘキサン(9:1)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、白色の固体(0.11g、44%)が得られる。該生成物は、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例77 [11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−o−トリルメタノンオキシムO−アセテートの合成
77.a 11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(10.09g、30.64ミリモル)を酢酸(100ml)中に入れたものに、70%の硝酸(2.85g、3.16ミリモル)を80℃で添加する。1時間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の樹脂(10.89g、94%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
77.b [11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−o−トリルメタノンの合成
Figure 0006038033
11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(0.59g、1.58ミリモル)をo−トルオイルクロリド(7ml)中に入れたものに、酸化亜鉛(45mg、0.55ミリモル)を室温で添加する。該反応混合物を、100℃で加熱する。5分間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、CH2Cl2で抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でn−ヘキサンとCH2Cl2(1:1)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の樹脂(0.37g、47%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
77.c [11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−o−トリルメタノンオキシムの合成
Figure 0006038033
[11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−o−トリルメタノン(0.36g、0.73ミリモル)をピリジン(6ml)中に入れたものに、ヒドロキシルアンモニウムクロリド(0.10g、1.45ミリモル)を120℃で添加する。16時間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、AcOEtで抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の樹脂(0.28g、76%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
77.d [11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−o−トリルメタノンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
[11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−o−トリル−メタノンオキシム(0.27g、0.53ミリモル)をTHF(4ml)中に入れたものに、トリエチルアミン(79mg、0.78ミリモル)および塩化アセチル(66mg、0.84ミリモル)を0℃で添加する。2時間にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、AcOEtで抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でCH2Cl2で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の樹脂(0.27g、94%)が得られる。その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
例78 [11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−[4−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノンオキシムO−アセテートの合成
Figure 0006038033
[11−(2−エチルヘキシル)−5−ニトロ−11H−ベンゾ[a]カルバゾール−8−イル]−[4−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)フェニル]メタノンオキシム(160mg、0.26ミリモル)をDMA(4ml)中に入れたものに、トリエチルアミン(265mg、2.66ミリモル)および塩化アセチル(208mg、2.57ミリモル)を0℃で添加する。一晩にわたり撹拌した後で、該反応混合物を、氷水に注ぐ。粗生成物を、AcOEtで抽出し、そしてそれを水およびブラインで洗浄する。MgSO4上で乾燥させ、そして濃縮した後に、粗生成物をシリカゲル上でn−ヘキサンとCH2Cl2(1:3)の混合溶剤で溶出させるカラムクロマトグラフィーによって精製することで、黄色の樹脂(67mg、38%)が得られる。それは、異性体混合物から構成され、その構造は、以下の1H−NMRスペクトルによって確認される:
Figure 0006038033
適用例
例A1:ポリ(ベンジルメタクリレート−コ−メタクリル酸)の製造
24gのベンジルメタクリレート、6gのメタクリル酸および0.525gのアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を、90mlのプロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセテート(PGMEA)中に溶解させる。得られた反応混合物を、80℃の予熱された油浴中に入れる。
80℃で5時間にわたり窒素下で撹拌した後に、得られた粘性の溶液を室温で冷却し、更なる精製を行わずに使用する。固体含有率は、約25%である。
例A2:感受性試験
感受性試験のための光硬化性組成物を、以下の成分の混合によって製造する:
前記の例A1で製造された、25%のプロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセテート(PGMEA)溶液としての、ベンジルメタクリレートおよびメタクリル酸のコポリマー(ベンジルメタクリレート:メタクリル酸=80質量%:20質量%)を、200.0質量部で、
ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート((DPHA)、UCB-Chemicalsによって提供)を、50.0質量部で、
光開始剤を、1.0質量部で、かつ
PGMEAを、150.0質量部で。
全ての作業は、黄色光のもとで行われる。該組成物を、アルミニウム板上に線巻棒を有する電気式アプリケータを使用して適用する。溶剤を、対流式オーブン中で80℃で10分にわたり加熱することによって除去する。乾燥被膜の厚さは、約2μmである。21ステップの異なる光学密度を有する標準化された試験用ネガフィルム(Stouffer社のステップウェッジ)を、前記被膜とレジストとの間に約100μmのエアギャップをもって配置する。そのネガフィルム上にガラスフィルター(UV-35)を置く。露光は、250Wの超高圧水銀灯(USHIO, USH-250BY)を使用して15cmの距離で行う。ガラスフィルター上で光パワー計(UV-35検出器を有するORC UV Light Measure Model UV-M02)によって測定された全照射線量は、1000mJ/cm2である。露光後に、露光されたフィルムを、アルカリ溶液(DL-A4の5%水溶液、Yokohama Yushi)を用いて28℃で120秒間にわたって吹き付け型現像剤(AD-1200、Takizawa Sangyo)を使用することによって現像する。使用される開始剤の感度は、現像後に残る(すなわち重合される)最高のステップ数を示すことによって特徴付けられる。ステップ数が高ければ高いほど、試験された開始剤の感度はより高い。結果を、第3表に示す。
第3表
Figure 0006038033
Figure 0006038033
Figure 0006038033

Claims (17)

  1. 式I
    Figure 0006038033
    [式中、
    1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、互いに独立して、水素であるか、またはR1およびR2、R3およびR4またはR5およびR6は、互いに独立して、一緒になって、
    Figure 0006038033
    である;
    但し、R1およびR2、R3およびR4またはR5およびR6の対の少なくとも1つは、
    Figure 0006038033
    である;または
    2は、
    Figure 0006038033
    、COR16、NO2または
    Figure 0006038033
    である;または
    7は、
    Figure 0006038033
    またはCOR16である;
    9、R11およびR12は、水素である;
    10は、水素、OR17またはCOR16である;
    Xは、COまたは直接結合である;
    13は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、OR17、SR18またはPO(OCk2k+12によって置換されている;または
    13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
    13は、フェニルである;
    kは、2の整数である;
    14は、C1〜C20−アルキルまたはチエニルである;
    15は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17またはC1〜C20−アルキルによって置換されているか、またはR15は、チエニル、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、C3〜C8−シクロアルキル、NR1920またはCOOR17によって置換されている;または
    15は、SO2によって中断されたC2〜C20−アルキルである;
    16は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルによって置換されている;または
    16は、チエニルである;
    17は、水素、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニルまたはC3〜C20−シクロアルキルによって置換されており、前記シクロアルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
    17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;
    18は、C3〜C20−シクロアルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOH、O(CO)−C2〜C4−アルケニルもしくは(CO)OR17によって置換されている;または
    18は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンによって置換されている;
    19およびR20は、互いに独立して、C1〜C8−アルカノイルまたはC1〜C8−アルカノイルオキシである;または
    19およびR20は、それらが結合されるN原子とともに、5員もしくは6員の飽和環を形成し、前記環は、Oによって中断されている;
    但し、少なくとも1つの基
    Figure 0006038033
    は、分子中に存在する]の化合物。
  2. 光重合性組成物であって、
    (a)少なくとも1種のエチレン性不飽和の光重合性の化合物と、
    (b)光開始剤としての、請求項1に定義の、少なくとも1種の式Iの化合物と、
    を含む前記組成物。
  3. 請求項2に記載の光重合性組成物であって、成分(a)が、飽和もしくは不飽和の多塩基性酸無水物と、エポキシ樹脂および不飽和モノカルボン酸の反応の生成物との反応によって得られる樹脂である前記組成物。
  4. 請求項2に記載の光重合性組成物であって、光開始剤(b)に加えて、少なくとも1種の更なる光開始剤(c)および/または他の添加剤(d)を含む前記組成物。
  5. 請求項4に記載の光重合性組成物であって、更なる添加剤(d)として、顔料または顔料の混合物を含む前記組成物。
  6. 請求項5に記載の光重合性組成物であって、更なる添加剤(d)として、分散剤または分散剤の混合物を含む前記組成物。
  7. 請求項2から6までのいずれか1項に記載の光重合性組成物であって、該組成物に対して0.05〜25質量%の光開始剤(b)または光開始剤(b)および(c)を含む前記組成物。
  8. 請求項2から7までのいずれか1項に記載の光重合性組成物であって、更なる添加剤(d)として、増感剤を含む前記組成物。
  9. 請求項2から8までのいずれか1項に記載の光重合性組成物であって、更に、結合剤ポリマー(e)を含む前記組成物。
  10. 請求項1に記載の式Iの化合物の製造方法であって、相応のオキシム化合物と、式IIのアシルハロゲン化物または式IIIの無水物
    Figure 0006038033
    [式中、Halは、ハロゲンであり、かつR14は、請求項1に定義のとおりである]とを塩基または塩基の混合物の存在下で反応することによって行われる前記製造方法。
  11. エチレン性不飽和二重結合を含む化合物の光重合方法であって、請求項2から9までのいずれか1項に記載の組成物に、150〜600nmの範囲の電磁線または電子線もしくはX線を照射することを含む前記方法。
  12. 請求項2から9までのいずれか1項に記載の組成物であって、顔料着色されたおよび顔料着色されていないペイントおよびワニス、粉末コーティング、印刷インキ、印刷版、接着剤、感圧性接着剤、歯科用組成物、ゲルコート、エレクトロニクス用フォトレジスト、めっき用レジスト、エッチング用レジスト、液状被膜と乾燥被膜の両方、ソルダーレジスト、種々のディスプレイ用途のためのカラーフィルターの製造のためのレジスト、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイおよびLCDの製造方法において構造を生成するためのレジスト、LCDのスペーサーの製造のための、ホログラフィックデータ記録(HDS)のための、電機部品および電子部品の封入用の組成物としての、磁気記録材料、マイクロメカニカル部品、導波路、光スイッチ、めっきマスク、エッチングマスク、色校正システム、ガラス繊維ケーブル用コーティング、スクリーン印刷用ステンシルの製造のための、立体リソグラフィーによる3次元物品の製造のための、画像記録材料としての、ホログラフィック記録のための、マイクロエレクトロニクス回路、脱色材料、画像記録材料用の脱色材料のための、マイクロカプセルを使用する画像記録材料のための、紫外線のおよび可視光のレーザー直描システム用のフォトレジスト材料としての、プリント回路基板のシーケンシャル積層における誘電体層の形成に使用されるフォトレジスト材料としての前記組成物
  13. 少なくとも1つの表面上で請求項2に記載の組成物によりコーティングされた被覆基材。
  14. レリーフ像の写真的製造方法であって、請求項13に記載の被覆基材を画像様の露光に付し、次いで、非露光部分を現像剤で除去する前記方法。
  15. カラーフィルターを製造する方法であって、赤色、緑色および青色の画素と、黒色マトリクスを準備することと、その際、全ては感光性の樹脂と顔料を透明基材上に有し、前記基材の表面上か前記カラーフィルター層の表面上のいずれかに透明電極を準備すること、とを含み、前記の感光性の樹脂は、多官能性のアクリレートモノマー、有機ポリマー結合剤および請求項1に記載の式Iの光重合開始剤を含む前記方法
  16. 請求項1に記載の式(I)の化合物の、少なくとも1種のエチレン性不飽和光重合性化合物を含む組成物の光重合のための使用。
  17. 式(IA)
    Figure 0006038033
    [式中、
    1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、互いに独立して、水素であるか、またはR1およびR2、R3およびR4またはR5およびR6は、互いに独立して、一緒になって、
    Figure 0006038033
    である;
    但し、R1およびR2、R3およびR4またはR5およびR6の対の少なくとも1つは、
    Figure 0006038033
    である;または
    2は、
    Figure 0006038033
    、COR16、NO2または
    Figure 0006038033
    である;または
    7は、
    Figure 0006038033
    またはCOR16である;
    9、R11およびR12は、水素である;
    10は、水素、OR17またはCOR16である;
    Xは、COまたは直接結合である;
    13は、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、R17、OR17、SR18またはPO(OCk2k+12によって置換されている;または
    13は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
    13は、フェニルである;
    kは、2の整数である;
    15は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17またはC1〜C20−アルキルによって置換されているか、またはR15は、チエニル、水素、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、C3〜C8−シクロアルキル、NR1920またはCOOR17によって置換されている;または
    15は、SO2によって中断されたC2〜C20−アルキルである;
    16は、フェニルまたはナフチルであり、そのそれぞれは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOR17、SR18、NR1920またはC1〜C20−アルキルによって置換されている;または
    16は、チエニルである;
    17は、水素、C1〜C8−アルカノイル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲン、O(CO)−(C1〜C4−アルキル)、O(CO)−C2〜C4−アルケニルまたはC3〜C20−シクロアルキルによって置換されており、前記シクロアルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;または
    17は、C2〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、1もしくはそれより多くのOによって中断されている;
    18は、C3〜C20−シクロアルキル、C1〜C20−アルキルであり、前記アルキルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのOH、O(CO)−C2〜C4−アルケニルもしくは(CO)OR17によって置換されている;または
    18は、フェニルであり、前記フェニルは、非置換であるか、または1もしくはそれより多くのハロゲンによって置換されている;
    19およびR20は、互いに独立して、C1〜C8−アルカノイルまたはC1〜C8−アルカノイルオキシである;または
    19およびR20は、それらが結合されるN原子とともに、5員もしくは6員の飽和環を形成し、前記環は、Oによって中断されている;
    但し、少なくとも1つの基
    Figure 0006038033
    は、分子中に存在する]の化合物。
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Families Citing this family (135)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5981159B2 (ja) * 2011-02-22 2016-08-31 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置
JP5835014B2 (ja) * 2011-03-31 2015-12-24 Jsr株式会社 画素パターンの形成方法及びカラーフィルタの製造方法
CN103492948B (zh) * 2011-08-04 2016-06-08 株式会社Lg化学 光敏化合物及包括其的光敏树脂组合物
JP5821401B2 (ja) * 2011-08-19 2015-11-24 大日本印刷株式会社 光インプリント用感光性樹脂組成物、硬化物、レジスト基板及び半導体装置の製造方法
US9365515B2 (en) 2011-12-07 2016-06-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5890297B2 (ja) * 2011-12-22 2016-03-22 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルタ及び表示装置、オキシムエステル化合物、並びに光重合開始剤
KR101831798B1 (ko) * 2012-05-09 2018-02-26 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP6021473B2 (ja) * 2012-07-02 2016-11-09 株式会社日本化学工業所 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
KR102096047B1 (ko) * 2012-11-05 2020-04-02 삼성디스플레이 주식회사 신규 헤테로고리 화합물 및 이를 포함한 유기 발광 소자
JP5897050B2 (ja) * 2013-01-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 有機薄膜トランジスタ、有機半導体薄膜および有機半導体材料
JP5890337B2 (ja) * 2013-02-13 2016-03-22 東京応化工業株式会社 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜、及び表示装置
JP5890355B2 (ja) * 2013-07-31 2016-03-22 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物
TWI668210B (zh) * 2013-11-28 2019-08-11 塔可馬科技股份有限公司 光起始劑及包括該光起始劑之光敏性組合物
KR101435652B1 (ko) * 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
JP6375236B2 (ja) * 2014-02-04 2018-08-15 新日鉄住金化学株式会社 遮光膜用感光性組成物、及びその硬化物
CN103819583B (zh) * 2014-03-18 2016-05-18 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
JP5890464B2 (ja) * 2014-05-01 2016-03-22 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物
JP6401529B2 (ja) * 2014-07-15 2018-10-10 東京応化工業株式会社 感光性組成物
TWI677756B (zh) * 2014-10-15 2019-11-21 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其液晶顯示元件
WO2016058546A1 (zh) * 2014-10-15 2016-04-21 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组成物、间隙体、保护膜以及液晶显示元件
CN107003604B (zh) * 2014-10-15 2020-08-11 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组成物、彩色滤光片的制造方法、彩色滤光片以及液晶显示装置
JP2016090797A (ja) * 2014-11-05 2016-05-23 株式会社Adeka 硬化性組成物
WO2016076652A1 (ko) * 2014-11-12 2016-05-19 주식회사 삼양사 액정디스플레이 패널용 블랙매트릭스 포토레지스트 조성물
KR101824429B1 (ko) 2015-01-26 2018-02-06 주식회사 삼양사 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
JP6195584B2 (ja) * 2015-02-04 2017-09-13 東京応化工業株式会社 着色剤分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤
CN105867068A (zh) * 2015-02-06 2016-08-17 奇美实业股份有限公司 彩色滤光片用蓝色感光性树脂组合物及其应用
KR101828927B1 (ko) 2015-02-06 2018-02-14 주식회사 삼양사 신규한 옥심에스테르 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR101824443B1 (ko) 2015-04-09 2018-02-05 주식회사 삼양사 신규한 플루오렌일 옥심 에스테르 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
TWI647285B (zh) * 2015-03-11 2019-01-11 東友精細化工有限公司 藍色感光性樹脂組合物、濾色器和包含其的液晶顯示裝置
CN107407881A (zh) * 2015-03-11 2017-11-28 三菱化学株式会社 着色间隔物形成用感光性着色组合物、固化物、着色间隔物、图像显示装置
KR101982080B1 (ko) 2015-03-23 2019-05-24 동우 화인켐 주식회사 청색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치
JP6754591B2 (ja) * 2015-03-30 2020-09-16 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 着色硬化性樹脂組成物
CN106094432A (zh) * 2015-03-30 2016-11-09 住友化学株式会社 着色固化性树脂组合物
TWI564658B (zh) * 2015-03-30 2017-01-01 奇美實業股份有限公司 彩色濾光片用之感光性樹脂組成物及其應用
JP2018510187A (ja) 2015-03-30 2018-04-12 デンツプライ デトレイ ゲー.エム.ベー.ハー. 歯科用組成物
KR101970385B1 (ko) * 2015-03-30 2019-04-18 동우 화인켐 주식회사 착색 경화성 수지 조성물
TWI748947B (zh) * 2015-03-30 2021-12-11 日商住友化學股份有限公司 著色硬化性樹脂組合物
EP3075372A1 (en) 2015-03-30 2016-10-05 Dentsply DeTrey GmbH Dental composition
TW202313715A (zh) 2015-03-30 2023-04-01 日商富士軟片股份有限公司 著色感光性組成物、硬化膜、圖案形成方法、帶遮光膜的紅外線截止濾光片、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外感測器
TWI627504B (zh) * 2015-08-11 2018-06-21 奇美實業股份有限公司 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用
TWI612386B (zh) * 2015-09-10 2018-01-21 奇美實業股份有限公司 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用
TWI610132B (zh) * 2015-09-30 2018-01-01 奇美實業股份有限公司 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用
JP6621643B2 (ja) * 2015-10-22 2019-12-18 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤
KR102509606B1 (ko) 2015-10-30 2023-03-14 주식회사 삼양사 신규한 퀴놀리닐 베타 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 포토레지스트 조성물
TWI638233B (zh) * 2015-11-05 2018-10-11 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其製造方法與應用
KR102590211B1 (ko) 2015-11-06 2023-10-18 가부시키가이샤 가네카 흑색 수지 조성물, 흑색 수지 경화막을 갖는 폴리이미드와 그의 제조 방법 및 흑색 수지 경화막을 사용한 플렉시블 프린트 배선 기판
TWI761230B (zh) 2015-12-08 2022-04-11 日商富士軟片股份有限公司 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、圖案形成方法、固體攝影元件及影像顯示裝置
TWI646391B (zh) * 2015-12-24 2019-01-01 奇美實業股份有限公司 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
TWI639054B (zh) * 2015-12-29 2018-10-21 奇美實業股份有限公司 黑色感光性樹脂組成物及其應用
TWI624722B (zh) * 2015-12-30 2018-05-21 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其製造方法以及液晶顯示裝置
TWI630460B (zh) * 2015-12-30 2018-07-21 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其液晶顯示元件
TW201723096A (zh) * 2015-12-31 2017-07-01 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物及其應用
JP6788971B2 (ja) * 2016-01-14 2020-11-25 東京応化工業株式会社 感光性組成物
TW201730279A (zh) * 2016-02-26 2017-09-01 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物及其應用
JP6721670B2 (ja) 2016-03-14 2020-07-15 富士フイルム株式会社 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
WO2017183428A1 (ja) 2016-04-21 2017-10-26 富士フイルム株式会社 画像表示機能付きミラーおよびハーフミラー
JP6860978B2 (ja) * 2016-04-27 2021-04-21 東京応化工業株式会社 感光性組成物
KR102493611B1 (ko) * 2016-06-14 2023-01-31 동우 화인켐 주식회사 적색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 표시장치
TWI664500B (zh) * 2016-06-30 2019-07-01 奇美實業股份有限公司 黑色感光性樹脂組成物及其應用
KR102299144B1 (ko) * 2016-07-20 2021-09-07 동우 화인켐 주식회사 청색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치
JP6971055B2 (ja) * 2016-07-20 2021-11-24 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 青色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
EP3487946B1 (en) * 2016-07-22 2025-05-21 Celgard LLC Improved coatings, coated separators, batteries, and related methods
KR102560329B1 (ko) * 2016-08-01 2023-07-26 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 화상 표시 장치
TWI810158B (zh) 2016-08-01 2023-08-01 日商富士軟片股份有限公司 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、 積層體的製造方法及半導體元件
KR102040224B1 (ko) * 2016-08-09 2019-11-06 주식회사 엘지화학 절연층 제조방법 및 다층인쇄회로기판 제조방법
TW201821280A (zh) 2016-09-30 2018-06-16 日商富士軟片股份有限公司 積層體以及半導體元件的製造方法
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
EP3581975B1 (en) 2017-02-09 2024-04-03 FUJIFILM Corporation Half mirror, method for producing half mirror, and mirror provided with image display function
WO2018198559A1 (ja) 2017-04-28 2018-11-01 富士フイルム株式会社 画像表示機能付き防眩ミラー
WO2018213161A1 (en) * 2017-05-15 2018-11-22 Alpha Assembly Solutions Inc. Dielectric ink composition
CN107163169B (zh) * 2017-05-25 2018-08-24 同济大学 一类香豆素并咔唑型肟酯类化合物及其制备方法和应用
JP6808829B2 (ja) 2017-05-31 2021-01-06 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、ポリマー前駆体、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
WO2018225544A1 (ja) * 2017-06-06 2018-12-13 日本化薬株式会社 光硬化性組成物及び電子部品用接着剤
DE102017214215A1 (de) * 2017-08-15 2019-02-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum betreiben einer optischen anlage und optische anlage
EP3449894A1 (en) 2017-08-31 2019-03-06 Dentsply DeTrey GmbH Dental composition comprising a particulate carrier supporting a coinitiator
CN114236845B (zh) 2017-09-07 2024-11-05 富士胶片株式会社 投影图像显示用夹层玻璃及图像显示系统
KR102483100B1 (ko) 2017-09-15 2022-12-30 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 적층체, 적외선 투과 필터, 고체 촬상 소자 및 적외선 센서
KR20200078476A (ko) * 2017-10-30 2020-07-01 가부시키가이샤 아데카 화합물, 조성물, 경화물 및 경화물의 제조 방법
CN111566068B (zh) 2018-02-23 2022-09-06 富士胶片株式会社 图像显示用夹层玻璃的制造方法、图像显示用夹层玻璃及图像显示系统
WO2019176409A1 (ja) 2018-03-13 2019-09-19 富士フイルム株式会社 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法
CN108467390B (zh) * 2018-04-04 2022-03-08 三峡大学 一种光引发剂含双咔唑的噻吩二甲酮肟乙酸酯,制备方法及其应用
TWI677492B (zh) * 2018-07-17 2019-11-21 奇鈦科技股份有限公司 液態光引發化合物及其應用
CN112601912A (zh) 2018-09-07 2021-04-02 富士胶片株式会社 车辆用前照灯单元、前照灯用遮光膜、前照灯用遮光膜的制造方法
WO2020059509A1 (ja) 2018-09-20 2020-03-26 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法
WO2020066416A1 (ja) 2018-09-28 2020-04-02 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、および半導体デバイス
EP3869245A4 (en) 2018-10-17 2021-12-15 FUJIFILM Corporation PROJECTION IMAGE DISPLAY ELEMENT, WINDSHIELD GLASS, AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
CN109614200A (zh) * 2018-11-30 2019-04-12 四川巧夺天工信息安全智能设备有限公司 一种提取Parallels Desktop虚拟机的hds镜像数据的方法
EP3893054A4 (en) 2018-12-05 2022-01-05 FUJIFILM Corporation PATTERN MAKING METHOD, LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATE AND DEVICE
EP3893053B1 (en) 2018-12-05 2025-01-22 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, multilayer body and device
WO2020122023A1 (ja) 2018-12-10 2020-06-18 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
US20220121113A1 (en) 2019-01-23 2022-04-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
EP3936924B1 (en) 2019-03-06 2025-01-15 FUJIFILM Corporation Laminated film for displaying projection image, laminated glass for displaying projection image, and image display system
KR102647598B1 (ko) 2019-03-15 2024-03-14 후지필름 가부시키가이샤 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 반도체 디바이스, 및, 폴리머 전구체
WO2020203277A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、インダクタ、アンテナ
CN110028440A (zh) * 2019-04-19 2019-07-19 同济大学 含二联咔唑基的肟酯类化合物及其制备方法和应用
WO2020246991A1 (en) * 2019-06-07 2020-12-10 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Binding agents for printing 3d green body objects
CN113631540A (zh) * 2019-06-11 2021-11-09 株式会社艾迪科 氨基甲酰肟化合物以及含有该化合物的聚合引发剂及聚合性组合物
CN112111028A (zh) 2019-06-21 2020-12-22 江苏英力科技发展有限公司 一种含有酰基咔唑衍生物和咔唑基肟酯的光引发剂组合物及其在光固化组合物中的应用
WO2020253283A1 (zh) 2019-06-21 2020-12-24 江苏英力科技发展有限公司 一种新的二芳酰基咔唑化合物及其作为增感剂的应用
WO2020262270A1 (ja) 2019-06-27 2020-12-30 富士フイルム株式会社 組成物、膜および光センサ
EP4024097B1 (en) 2019-08-29 2024-05-22 FUJIFILM Corporation Composition, film, near-infrared cut-off filter, pattern formation method, laminate, solid-state imaging element, infrared sensor, image display device, camera module and compound
JPWO2021039253A1 (ja) 2019-08-30 2021-03-04
TWI851818B (zh) 2019-09-26 2024-08-11 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
EP4036644B1 (en) 2019-09-27 2025-04-23 FUJIFILM Corporation Projector for head-up display
TWI859361B (zh) 2019-11-21 2024-10-21 日商富士軟片股份有限公司 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法
EP4114825B1 (en) 2020-03-04 2024-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
WO2021193543A1 (ja) * 2020-03-24 2021-09-30 株式会社Adeka 化合物、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
EP4130812A4 (en) 2020-03-30 2023-11-22 FUJIFILM Corporation REFLECTIVE FILM, WINDSHIELD GLASS AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
JP7470780B2 (ja) 2020-03-30 2024-04-18 富士フイルム株式会社 組成物、膜及び光センサ
CN115698783A (zh) 2020-06-03 2023-02-03 富士胶片株式会社 反射膜、夹层玻璃的制造方法及夹层玻璃
JP7627280B2 (ja) 2020-09-18 2025-02-05 富士フイルム株式会社 組成物、磁性粒子含有膜、及び、電子部品
JPWO2022065183A1 (ja) 2020-09-24 2022-03-31
WO2022065006A1 (ja) 2020-09-28 2022-03-31 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物
JP7558291B2 (ja) 2020-09-30 2024-09-30 富士フイルム株式会社 インクセット、積層体、及び、積層体の製造方法
CN116568545A (zh) 2020-12-09 2023-08-08 富士胶片株式会社 反射膜、挡风玻璃及平视显示系统
EP4266094A4 (en) 2020-12-16 2024-08-28 FUJIFILM Corporation Composition, membrane, optical filter, solid image pickup element, image display apparatus, and infrared ray sensor
EP4266093A4 (en) 2020-12-17 2024-08-28 FUJIFILM Corporation Composition, film, optical filter, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor
WO2022196599A1 (ja) 2021-03-19 2022-09-22 富士フイルム株式会社 膜および光センサ
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
EP4317294A4 (en) 2021-03-22 2024-08-21 FUJIFILM Corporation Composition, magnetic particle-containing cured product, magnetic particle-introduced substrate, and electronic material
EP4318057A4 (en) 2021-03-29 2024-11-06 FUJIFILM Corporation BLACK PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING BLACK PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURED FILM, COLOR FILTER, LIGHT-SHIELDING FILM, OPTICAL ELEMENT, SOLID-STATE IMAGE PICK-UP ELEMENT, AND HEADLIGHT UNIT
WO2023032545A1 (ja) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液
JPWO2023054142A1 (ja) 2021-09-29 2023-04-06
JPWO2023054565A1 (ja) 2021-09-30 2023-04-06
EP4411452A4 (en) 2021-09-30 2025-02-05 FUJIFILM Corporation Head-up display system and transport
CN118302708A (zh) 2021-11-05 2024-07-05 富士胶片株式会社 虚像显示装置、平视显示系统及运输机
JPWO2023200018A1 (ja) 2022-04-15 2023-10-19
US11981759B2 (en) 2022-05-18 2024-05-14 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition
EP4535430A4 (en) 2022-06-01 2025-10-08 Fujifilm Corp PHOTODETECTOR ELEMENT, IMAGE SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTODETECTOR ELEMENT
EP4535432A4 (en) 2022-06-01 2025-10-29 Fujifilm Corp PHOTOSENSING ELEMENT, IMAGE SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSING ELEMENT
JPWO2023234096A1 (ja) 2022-06-01 2023-12-07
KR20250005473A (ko) * 2022-06-27 2025-01-09 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화물의 제조 방법, 막, 광학 소자, 이미지 센서, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 및, 라디칼 중합 개시제
TW202448972A (zh) 2023-05-12 2024-12-16 瑞士商羅立克科技股份公司 可聚合液晶組成物
WO2025011754A1 (en) 2023-07-10 2025-01-16 Basf Se Photocurable as well as thermally curable compositions suitable for low temperature curing

Family Cites Families (117)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US626796A (en) 1899-06-13 Corner connection for bed-frames
US3579339A (en) 1967-05-23 1971-05-18 Du Pont Photopolymerizable dispersions and elements containing nonmigratory photoreducible dyes
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
JPS5034444B2 (ja) 1971-08-20 1975-11-08
JPS5034443B2 (ja) 1971-08-20 1975-11-08
DE2363806B2 (de) 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
JPS5944615B2 (ja) 1976-02-16 1984-10-31 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料
EP0007086B1 (de) 1978-07-14 1982-02-10 BASF Aktiengesellschaft Lichthärtbare Form-, Tränk- und Überzugsmassen sowie daraus hergestellte Formkörper
DE2853921A1 (de) 1978-12-14 1980-07-03 Basf Ag Strahlungshaertbare waessrige bindemitteldispersionen
DE2936039A1 (de) 1979-09-06 1981-04-02 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Wasserdispergierbare, durch strahlen vernetzbare bindemittel aus urethanacrylaten, ein verfahren zu ihrer herstellung sowie die verwendung dieser bindemittel in waessriger dispersion auf dem anstrich-, druckfarben- und textilsektor
DE3005036A1 (de) 1980-02-11 1981-08-27 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Strahlungshaertbare waessrige bindemitteldispersionen
DE3017543A1 (de) 1980-05-08 1981-11-26 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Waessrige dispersionen auf basis von (meth)acrylsaeurealkylester-polymerisaten mit zwei ausgepraegten, praktisch sich nicht ueberlappenden maxima in der teilchengroessenverteilung innerhalb spezieller teilchengroessenbereiche, sowie verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
JPS5742009A (en) 1980-08-27 1982-03-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd Formation of protective film for color mosaic filter
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
JPS6038989A (ja) 1983-08-12 1985-02-28 Nec Corp 固体撮像装置の製造方法
JPS59197401A (ja) 1983-04-26 1984-11-09 Nippon Oil & Fats Co Ltd 光重合開始剤
JPS6072927A (ja) 1983-09-30 1985-04-25 Omron Tateisi Electronics Co 高分子マイクロレンズの製造方法
JPS60166946A (ja) 1983-10-14 1985-08-30 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いる屈折率差を有するパタ−ンの作成方法
JPS60258539A (ja) 1984-06-05 1985-12-20 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPS60159743A (ja) 1984-01-30 1985-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH0756547B2 (ja) 1984-02-08 1995-06-14 日本電気株式会社 透過型表示素子
US4575330A (en) 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
JPS6167003A (ja) 1984-09-10 1986-04-07 Canon Inc カラ−イメ−ジセンサ−
JPS61153602A (ja) 1984-12-27 1986-07-12 Matsushita Electronics Corp マイクロレンズの製造方法
GB2180358B (en) 1985-07-16 1989-10-04 Mead Corp Photosensitive microcapsules and their use on imaging sheets
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
US4977511A (en) 1985-11-20 1990-12-11 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compound as initiators
DE3612442A1 (de) 1986-04-12 1987-10-22 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von uv-gehaerteten deckend pigmentierten beschichtungen
US4950581A (en) 1987-07-06 1990-08-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JPS6490516A (en) 1987-09-30 1989-04-07 Sumitomo Metal Ind Semiconductor porcelain material
JPH01130103A (ja) 1987-11-16 1989-05-23 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH01134306A (ja) 1987-11-19 1989-05-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH0695211B2 (ja) 1987-12-09 1994-11-24 松下電器産業株式会社 カラーフィルタ
US4934791A (en) 1987-12-09 1990-06-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Color filter
AU4191089A (en) 1988-08-12 1990-03-05 Desoto Inc. Photo-curable vinyl ether compositions
JP2549303B2 (ja) 1988-09-21 1996-10-30 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2762511B2 (ja) 1989-01-30 1998-06-04 凸版印刷株式会社 カラーフィルターおよびその製造方法
JPH0812290B2 (ja) 1989-01-30 1996-02-07 凸版印刷株式会社 カラーフィルターおよびその製造方法
US5013768A (en) 1989-12-19 1991-05-07 Dai Nippon Toryo Co., Ltd. Photopolymerizable coating composition and process for forming a coating having a stereoscopic pattern
DE69112852T2 (de) 1990-01-16 1996-05-15 Showa Denko Kk Polymerisationsinitiator verwendbar in der Nähe von Infrarot.
EP0441232A3 (en) 1990-02-09 1992-10-14 Basf Aktiengesellschaft Cationic photopolymerisation process
DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4013358A1 (de) 1990-04-26 1991-10-31 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von druckformen oder photoresists durch bildmaessiges bestrahlen eines photopolymerisierbaren aufzeichnungsmaterials
JP2977265B2 (ja) 1990-11-19 1999-11-15 旭化成工業株式会社 感光性エラストマー構成体
JP2999274B2 (ja) 1991-01-28 2000-01-17 三菱化学株式会社 エチレン重合体の製造法
JP2794242B2 (ja) 1991-06-25 1998-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料及び画像形成方法
JP3672105B2 (ja) 1991-09-09 2005-07-13 東レ株式会社 感光性導電ペースト
JP3218767B2 (ja) 1992-01-24 2001-10-15 東レ株式会社 感光性導電ペースト
US5368976A (en) 1992-03-27 1994-11-29 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Pigment-dispersed color-filter composition comprising an alkali-soluble block copolymer as a binder
DE4211060A1 (de) 1992-04-03 1993-10-07 Roehm Gmbh Polymerprodukte zur Behandlung von Leder
JP2575572B2 (ja) 1992-06-19 1997-01-29 新日本製鐵株式会社 アルカリ現像型感光性カラーフィルター用インク及びそれを用いたカラーフィルター
JPH061638A (ja) 1992-06-19 1994-01-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラスと金属の接着方法
JPH0668309A (ja) 1992-08-14 1994-03-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd パターン判別用ファジィ推論装置および判別ルール作成装置
DE4228514A1 (de) 1992-08-27 1994-03-03 Hoechst Ag Bindemittel für Pulverlacke
JP3218256B2 (ja) 1993-01-29 2001-10-15 東洋インキ製造株式会社 アルカリ現像型感光性着色組成物
EP0624826B1 (de) 1993-05-14 1997-07-16 OCG Microelectronic Materials Inc. Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen durch i-Linien-Bestrahlung
BE1007373A3 (nl) 1993-07-30 1995-05-30 Dsm Nv Stralingsuithardbare bindmiddelsamenstelling voor poederverfformuleringen.
US5514502A (en) 1993-08-16 1996-05-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition, color filter, and production of color filter
EP0645678B1 (en) 1993-09-24 1998-03-04 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation-sensitive composition
DE69418826T2 (de) 1993-11-22 1999-10-21 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc., Basel Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren Anwendung
DE4414088A1 (de) 1994-04-22 1995-10-26 Basf Ag Gele mit thermotropen Eigenschaften
TW339421B (en) 1994-09-12 1998-09-01 Sumitomo Kagaku Kk A photoresist composition comprising a polyfunctional vinyl ether compound
CA2158915A1 (en) 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
US5840465A (en) 1995-07-17 1998-11-24 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Compositions and method for formation of barrier ribs of plasma display panel
JP3292434B2 (ja) 1994-10-17 2002-06-17 太陽インキ製造株式会社 プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用組成物及びそれを用いた隔壁形成方法
EP0952466A3 (en) 1994-10-18 2000-05-03 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Lens sheet
US5882843A (en) 1994-11-15 1999-03-16 Hoechst Japan Limited Photosensitive resin composition for color filter production
US5650233A (en) 1995-01-05 1997-07-22 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photo-setting colored filter composition, a color filter, a process for the preparation thereof, and a curable resin composition
EP0723167A3 (en) 1995-01-17 1997-04-02 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerizable composition for color filters
JPH08278630A (ja) 1995-04-07 1996-10-22 Nippon Steel Chem Co Ltd 保存安定性に優れたカラーフィルター用インク及びこれを用いて形成したカラーフィルター
JP3509269B2 (ja) 1995-04-07 2004-03-22 新日鐵化学株式会社 遮光性薄膜形成用組成物及びこれを用いて形成された遮光膜
WO1996041240A1 (en) 1995-06-07 1996-12-19 W.R. Grace & Co.-Conn. Water photoresist emulsions and methods of preparation thereof
JPH0915857A (ja) 1995-06-29 1997-01-17 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント及びカラーフィルタの製造法
JP3564836B2 (ja) 1995-11-22 2004-09-15 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP3587413B2 (ja) 1995-12-20 2004-11-10 東京応化工業株式会社 化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
JPH09179299A (ja) 1995-12-21 1997-07-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感放射線性組成物
EP0780731B1 (en) 1995-12-22 2002-04-17 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device
DE19700064A1 (de) 1996-01-13 1997-07-17 Basf Ag Gele mit thermotropen Eigenschaften
JP3641093B2 (ja) 1996-02-02 2005-04-20 東京応化工業株式会社 緑色カラーフィルタ用感光性組成物及びこれを用いた緑色カラーフィルタの製造方法
JPH09244230A (ja) 1996-03-07 1997-09-19 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びこの感光性エレメントを用いた蛍光体パターンの製造方法
US5853446A (en) 1996-04-16 1998-12-29 Corning Incorporated Method for forming glass rib structures
JPH09325209A (ja) 1996-06-06 1997-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd Lcd表示装置用カラーフィルター
TW375759B (en) 1996-07-10 1999-12-01 Toray Industries Plasma display and preparation thereof
EP1054270A4 (en) 1996-07-22 2004-07-28 Maikurooputo Co Ltd METHOD FOR PRODUCING A FLAT PLATE MICRO LENS AND A FLAT PLATE MICROL LENS
JPH1062980A (ja) 1996-08-23 1998-03-06 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いた蛍光体パターンの製造法
JPH10171119A (ja) 1996-12-11 1998-06-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性樹脂組成物、およびこれを用いた色フィルタの製造方法
JP3849950B2 (ja) 1997-02-06 2006-11-22 東京応化工業株式会社 色フィルタ用感光性組成物
US5851732A (en) 1997-03-06 1998-12-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Plasma display panel device fabrication utilizing black electrode between substrate and conductor electrode
JPH10301276A (ja) 1997-04-23 1998-11-13 Nippon Steel Chem Co Ltd 感光性着色組成物及びこれを用いたカラーフィルタ
JP3829412B2 (ja) 1997-05-28 2006-10-04 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物
US6208281B1 (en) 1997-07-03 2001-03-27 Seiko Epson Corporation Resistance ladder together with digital-analog converter and semiconductor using the same
KR100504313B1 (ko) 1997-09-09 2005-11-25 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성조성물
JPH11174459A (ja) 1997-12-11 1999-07-02 Hitachi Chem Co Ltd カラー液晶表示装置用スペーサーフィルム
JP3951396B2 (ja) 1997-12-12 2007-08-01 日立化成工業株式会社 樹脂スペーサー形成用感光性フィルム
JP3998797B2 (ja) 1998-02-10 2007-10-31 東京応化工業株式会社 光重合性樹脂組成物及び該光重合性樹脂組成物を用いたカラーフィルターの製造方法
JP2000039503A (ja) 1998-07-22 2000-02-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd レンズアレイ
JP2000081701A (ja) 1998-09-03 2000-03-21 Jsr Corp カラーフィルター保護膜用感放射線性樹脂組成物
JP4245740B2 (ja) 1999-07-29 2009-04-02 新日鐵化学株式会社 光重合性樹脂組成物並びにカラーフィルター
JP4404330B2 (ja) 2001-01-09 2010-01-27 東京応化工業株式会社 光重合性組成物および該組成物を用いたカラーフィルタの製造方法
EP1395615B1 (en) * 2001-06-11 2009-10-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a combined structure
US6780546B2 (en) 2001-08-30 2004-08-24 Inphase Technologies, Inc. Blue-sensitized holographic media
JP2004069754A (ja) 2002-08-01 2004-03-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性黒色組成物及び黒色パターンの形成方法
US20060160915A1 (en) 2003-02-20 2006-07-20 Andre Fuchs Photocurable compositions
JP4443848B2 (ja) 2003-03-31 2010-03-31 新日鐵化学株式会社 カラーフィルター用レジスト材料及びカラーフィルター
JP3754065B2 (ja) 2003-06-10 2006-03-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP4437651B2 (ja) 2003-08-28 2010-03-24 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
KR100897224B1 (ko) 2004-02-23 2009-05-14 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 옥심 에스테르 화합물, 광중합성 조성물 및 이것을 사용한컬러 필터
JP4830310B2 (ja) * 2004-02-23 2011-12-07 三菱化学株式会社 オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP4570999B2 (ja) 2004-03-30 2010-10-27 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4448381B2 (ja) 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
BRPI0513709A (pt) 2004-07-21 2008-05-13 Ciba Sc Holding Ag processo para a fotoativação e uso de um catalisador por um procedimento de dois estágios invertido
EP2402315A1 (en) * 2007-05-11 2012-01-04 Basf Se Oxime ester photoinitiators
KR101526619B1 (ko) * 2007-05-11 2015-06-05 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
DE602008000946D1 (de) 2007-07-10 2010-05-20 Jtekt Corp Motorsteuervorrichtung
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版

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