JP5621789B2 - シールドフラットケーブル - Google Patents
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- H01B7/08—Flat or ribbon cables
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Description
一方、フラットパネルディスプレイなどを含む機器の大型化に伴ってその機器に使用されるケーブルはより長いものが要求されてきている。そして、高画質化に伴って伝送容量はより大きくなり、より高速度の伝送が要求されてきている。
本発明は、LVDS方式に代表される差動伝送方式の高速信号伝達配線に使用されるシールドフラットケーブルであって、0.4mを超える距離で6GHzまでの周波数範囲で遠端クロストークが−24dB以下となるシールドフラットケーブルを提供することを課題とする。
本発明のシールドフラットケーブル1は、上下の絶縁フィルム3の外に誘電率調整のための介在層7が貼り付けられる。介在層7は絶縁フィルムに接着するための接着層8と屈折率調整のために作用する基材層9からなる。基材層9は樹脂等からなる誘電体層であり、低誘電率のものが好ましい。
シールドフィルム4は従来から使用されているもの、例えば銅箔やアルミ箔の一面に接着剤層が形成され、他面に樹脂フィルムなどが貼られたものを使用できる。
接着層5は、熱可塑性の樹脂であり、百数十℃の熱を加えることで平角導体2または相手方の絶縁フィルム3と接着することのできる材料からなる。接着層5には例えばポリエステル系接着剤を使用することができる。
絶縁フィルム3を接着するために百数十℃の熱を加えたときも基材層6は軟化したり接着性を示すことなく、フィルムの形状を維持する。基材層6にはポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルを使用することができる。
接着層5と基材層6とは機能が違うので別の樹脂となる。
接着層8は、熱可塑性の樹脂であり、百数十℃の熱を加えることで絶縁フィルム3と基材層9とを接着することのできる材料からなる。接着層8には例えばポリエステル系接着剤を使用することができる。接着層8は接着層5とは違う材質であってよい。
基材層9はインピーダンスを調整するための低誘電率の誘電体である。基材層9にはポリオレフィン系樹脂フィルムやポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムを使用することができる。発泡させた樹脂フィルムも使用可能である。
平角導体12は二本で一対となっている。平角導体12aはこの瞬間正の電位を有し、12bは負の電位を有する。正の電位を有する平角導体12aから出た電気力線10aは隣接する負の電位を有する平角導体12bおよび平角導体12aに隣接するグランド線11に入る。平角導体12bには隣接するグランド線13からの電気力線10cも入る。ケーブルの外に向かう電気力線10bは絶縁フィルム3、介在層7を順に透過するが、両層の屈折率が異なるのでその界面で屈折する。
平角導体からシールド層までの非金属層の実効比誘電率は図5の場合では絶縁フィルム3と介在層7とを合わせた比誘電率となる。絶縁フィルム3の比誘電率を介在層7の比誘電率よりも小さくすることにより、両者を合わせた比誘電率(言い換えると平角導体からシールド層までの非金属層の実効比誘電率)は絶縁フィルム3の比誘電率よりも大きくなる。
介在層7の比誘電率が絶縁フィルム3の比誘電率よりも大きくてもよい。ただし、介在層の比誘電率が大きくなりすぎるとインピーダンス調整のために介在層が厚くなってしまう。シールドフラットケーブルの厚さを実用に適したものとするには、介在層の比誘電率の値に上限がある。この点で、平角導体からシールド層までの非金属層の実効比誘電率の絶縁フィルム3の比誘電率に対する比を1.1以下とするのが好ましい。
実施例1〜4および比較例1〜3は、図3に示すように絶縁フィルム3の両方に、インピーダンス調整のための誘電体層(介在層)7とその外(平角導体2と逆側)にシールドフィルム4を貼ったシールドフラットケーブル1を製造した。介在層7は接着層8を基材層9の一面に付けて一体としたものであり、接着層8を絶縁フィルム3に貼り付けた。
本実施例では接着層が二つあるので絶縁フィルム3の接着層5を絶縁接着層5、介在層9を絶縁フィルム3に接着する接着層8を介在接着層8と呼び分ける。基材層も、絶縁フィルムの基材層6を絶縁基材層6、介在層の基材層9を介在基材層9と呼び分ける。
いずれの例でも、グランド線をG、信号線をSで表して、それらの配置をGSSGSSG・・・と配置した。隣り合う二本の信号線が一対となって一チャンネルとなる。各チャンネルの間にはグランド線がある。
これらのシールドフラットケーブルの隣合うチャンネル間の遠端クロストーク(最大値)と差動モードインピーダンスも図7に示す。6GHzでの遠端クロストーク最大値が−24dB以下(主信号対比で6.25%の漏話量)のものを合格、−26dB(主信号対比で5%の漏話量)以下のものを優良とした。
絶縁接着層の比誘電率をεa、基材層の比誘電率をεb、絶縁接着層と基材層とからなる絶縁フィルムの比誘電率をε1とすると、ε1<εbである場合、εa<εbとなる。
比較例1は従来の構成のシールドフラットケーブルである。この例では、距離450mmの6GHzにおける遠端クロストークが不合格である。この例では、平角導体2に近い層から遠い層にかけて順に比誘電率が小さくなっている(εa>εb>ε2の大小関係である)。平角導体2から出る電気力線は各層の界面で屈折して平角導体2から水平方向に遠ざかる。さらに、比誘電率の大きな層(平角導体2に近い層)から比誘電率の小さな層(平角導体2から遠い層)に向かって電気力線が出るときに一部の電気力線は全反射する。これらが遠端クロストークが良くない原因と考えられる。
比較例2は介在層7の比誘電率を比較例1よりも大きくした例である。これによりεe/ε1が0.9を超えているが、距離450mm、6GHzの遠端クロストークがなお不合格である。
比較例3は、εa<εbであるが、εe/ε1が0.86未満であり、450mm、6GHzの遠端クロストークが不合格である例である。
実施例2、実施例4は実施例1よりも介在層の比誘電率が高くなるように介在層の材料を選定した例である。εe/ε1が0.93以上1以下とした例である。これらの例では距離450mm、6GHzの遠端クロストークが優良(主信号対比で5%の漏話)となっている。
各例の絶縁接着層5の比誘電率εaと基材層6の比誘電率εbとの大小関係は図8に示す通りとした。絶縁フィルム3の比誘電率ε1、絶縁フィルム3と介在層7とを合わせた比誘電率εeおよびそれらの比も図8に示す。
これらのシールドフラットケーブルの隣合うチャンネル間の遠端クロストークを測定した。各例について測定された遠端クロストーク(最大値)と差動モードインピーダンスも図8に示す。6GHzでの遠端クロストーク最大値が−24dB以下(主信号対比で6.25%の漏話量)のものを合格、−26dB(主信号対比で5%の漏話量)以下のものを優良とした。
比較例4は従来の構成のシールドフラットケーブルである。この例では、εa>εbであり、εe/ε1が0.86に満たない。そして、距離450mmの6GHzにおける遠端クロストークが不合格である。
比較例5は、εa<εbであるが、εe/ε1が0.86未満であり、450mm、6GHzの遠端クロストークが不合格である。
2 平角導体
3 絶縁フィルム
4 シールドフィルム
5 接着層(絶縁接着層)
6 基材層(絶縁基材層)
7 介在層
8 接着層(介在接着層)
9 基材層(介在基材層)
10 電気力線
Claims (1)
- 平角導体を四本以上一平面上に配列して、その配列面の上下から絶縁フィルムを貼り合わせて前記平角導体を絶縁し、前記絶縁フィルムの外に介在層を設け、前記介在層の外にシールド層を設けたシールドフラットケーブルであって、
前記介在層がポリエステルからなり、
端末処理部を除く部分の差動モードインピーダンスが75〜110Ωの範囲に調整され、
前記絶縁フィルムの実効比誘電率をε1とし、
前記絶縁フィルムが、導体に接着する接着層と基材層の二層からなり、前記接着層がポリエステル系接着剤からなり、前記基材層がポリエステルからなり、
前記接着層の比誘電率をεa、前記基材層の比誘電率をεb、前記平角導体からシールド層までの非金属層の実効比誘電率をεeとしたときに、
εa<εbかつ0.86≦εe/ε1であることを特徴とするシールドフラットケーブル。
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