JP2017100993A - グルタチオン産生促進剤 - Google Patents

Abstract

【課題】、皮膚に適用することにより、表皮細胞におけるグルタチオン濃度を有意に上昇させる効果を有するグルタチオン産生促進剤を提供する、【解決手段】本発明のグルタチオン産生促進剤は、下記式（１）で表される化合物及び／又はその塩を有効成分として含む。下記式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一又は異なって、水素原子、又は、置換基として、ハロゲン原子、−ＣＯＯＲ3、−ＣＯＮＲ32、−ＣＯＲ3、−ＣＮ、−ＮＯ2、−ＮＨＣＯＲ3、−ＯＲ3、−ＳＲ3、−ＯＣＯＲ3、−ＳＯ3Ｒ3、及び−ＳＯ2ＮＲ32からなる群より選択される基を１又は２以上有していてもよい炭化水素基（前記Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を示す）を示す。ｎは０以上の整数を示す。【化１】【選択図】なし

Description

本発明は、グルタチオン産生促進剤に関する。

グルタチオンは、グルタミン酸、システイン、及びグリシンの３つのアミノ酸からなるトリペプチドであり、生体内において、抗酸化作用、解毒作用、抗アレルギー作用、細胞賦活作用等を発揮する化合物である。そして、表皮細胞中のグルタチオン濃度を上昇させることにより、紫外線曝露による細胞傷害、炎症、黒色化、シミやソバカスの生成を抑制する効果が期待できる。

従来は、グルタチオン濃度を向上させることを目的として、グルタチオン自体を内服若しくは注射する方法が採用されていた。また、グルタチオン濃度は、その原料であるシステイン濃度に依存することから、システインを内服又は注射することにより、グルタチオン濃度を上昇させる方法も知られている（特許文献１参照）。しかし、グルタチオンやシステインを内服又は注射しても、表皮細胞中のグルタチオン濃度を上昇させる効果はほとんど得られなかった。

特開平０１−２６５１６号公報

従って、本発明の目的は、皮膚に適用することにより、表皮細胞におけるグルタチオン濃度を有意に上昇させる効果を有するグルタチオン産生促進剤を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記グルタチオン産生促進剤を含有する外用組成物を提供することにある。

本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、下記式（１）で表される化合物は、皮膚に適用すると、表皮細胞からのグルタチオンの産生を促進し、体内のグルタチオン濃度を有意に上昇させる効果を有することを見いだした。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。

すなわち、本発明は、下記式（１）で表される化合物及び／又はその塩を有効成分として含むグルタチオン産生促進剤を提供する。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子、又は、置換基として、ハロゲン原子、−ＣＯＯＲ³、−ＣＯＮＲ³ ₂、−ＣＯＲ³、−ＣＮ、−ＮＯ₂、−ＮＨＣＯＲ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＯ₃Ｒ³、及び−ＳＯ₂ＮＲ³ ₂からなる群より選択される基を１又は２以上有していてもよい炭化水素基（前記Ｒ³は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を示す）を示す。ｎは０以上の整数を示す］

本発明は、また、前記のグルタチオン産生促進剤を含有する外用組成物を提供する。

本発明は、また、外皮用薬である前記の外用組成物を提供する。

本発明は、また、スキンケア用化粧料である前記の外用組成物を提供する。

上記式（１）で表される化合物を含有する本発明のグルタチオン産生促進剤は、皮膚に適用することにより、表皮細胞からのグルタチオンの産生を促進し、グルタチオン濃度を有意に上昇させる効果を有する。また、前記式（１）で表される化合物は、細胞毒性を有さない。そのため、本発明のグルタチオン産生促進剤は、例えば、外皮用薬やスキンケア用化粧料等の外用組成物に添加剤として好適に使用することができ、本発明のグルタチオン産生促進剤を含有する外用組成物を皮膚に適用すると、グルタチオン濃度を有意に上昇させて、紫外線曝露による細胞傷害、炎症、黒色化、シミやソバカスの生成を抑制する効果を発揮する。

本発明のグルタチオン産生促進剤による、グルタチオンの産生促進効果を示す図である。

［グルタチオン産生促進剤］
本発明のグルタチオン産生促進剤は、有効成分として、下記式（１）で表される化合物、及びその塩から選択される１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて含むことを特徴とする。

［式中、Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子、又は、置換基として、ハロゲン原子、−ＣＯＯＲ³、−ＣＯＮＲ³ ₂、−ＣＯＲ³、−ＣＮ、−ＮＯ₂、−ＮＨＣＯＲ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＯ₃Ｒ³、及び−ＳＯ₂ＮＲ³ ₂からなる群より選択される基を１又は２以上有していてもよい炭化水素基（前記Ｒ³は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を示す）を示す。ｎは０以上の整数を示す］

前記Ｒ¹、Ｒ²における炭化水素基には、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらが単結合を介して結合した基が含まれる。

脂肪族炭化水素基としては、Ｃ_1-20（＝炭素数１〜２０）の脂肪族炭化水素基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基等の炭素数Ｃ_1-20（好ましくはＣ_1-10、特に好ましくはＣ_1-3）程度のアルキル基；ビニル基、アリル基、１−ブテニル基等のＣ_2-20（好ましくはＣ_2-10、特に好ましくはＣ_2-3）程度のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基等のＣ_2-20（好ましくはＣ_2-10、特に好ましくはＣ_2-3）程度のアルキニル基等を挙げることができる。

脂環式炭化水素基としては、Ｃ_3-20（＝炭素数３〜２０）脂環式炭化水素基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等のＣ_3-20（好ましくはＣ_3-15、特に好ましくはＣ_5-8）程度のシクロアルキル基；シクロペンテニル基、シクロへキセニル基等のＣ_3-20（好ましくはＣ_3-15、特に好ましくはＣ_5-8）程度のシクロアルケニル基；パーヒドロナフタレン−１−イル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル基、テトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデカン−３−イル基等の橋かけ環式炭化水素基等を挙げることができる。

芳香族炭化水素基としては、Ｃ_6-14（特に、Ｃ_6-10）芳香族炭化水素基が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。

脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが結合した基には、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、２−シクロヘキシルエチル基等のシクロアルキル置換アルキル基（例えば、Ｃ_3-20シクロアルキル置換Ｃ_1-4アルキル基等）等が含まれる。また、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した基には、アラルキル基（例えば、Ｃ_7-18アラルキル基等）、アルキル置換アリール基（例えば、１〜４個程度のＣ_1-4アルキル基が置換したフェニル基又はナフチル基等）等が含まれる。

前記Ｒ³における脂肪族炭化水素基としては、上記Ｒ¹、Ｒ²における脂肪族炭化水素基と同様の例を挙げることができる。

前記Ｒ³における脂肪族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例えば、Ｃ_1-4アルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_7-16アラルキルオキシ基、Ｃ_1-4アシルオキシ基等）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基（例えば、Ｃ_1-4アルコキシカルボニル基、Ｃ_6-10アリールオキシカルボニル基、Ｃ_7-16アラルキルオキシカルボニル基等）、置換又は無置換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル等のＣ_1-4アルキル置換カルバモイル、フェニルカルバモイル基等のＣ_6-10アリール置換カルバモイル基）、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基（例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ基等のモノ又はジＣ_1-4アルキルアミノ基；１−ピロリジニル、ピペリジノ、モルホリノ基等の５〜８員の環状アミノ基；アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ基等のＣ_1-10アシルアミノ基；ベンゼンスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ基等のスルホニルアミノ基）、スルホ基、複素環式基等を挙げることができる。また、前記ヒドロキシル基やカルボキシル基は有機合成の分野で慣用の保護基で保護されていてもよい。

ｎは０以上の整数を示し、例えば０〜１０、好ましくは１〜１０、特に好ましくは２〜８、最も好ましくは３〜７の整数である。

式（１）中のＯＲ¹基とＯＲ²基としては、下記［ｉ］〜［ｖ］の組み合わせが好ましい。特に、式（１）中のｎが０〜２の場合は下記［ｉ］〜［iv］の組み合わせが好ましく、式（１）中のｎが３以上の整数の場合は下記［ｖ］の組み合わせが好ましい。

［ｉ］下記式（i-1）で表される基と下記式（i-2）で表される基の組み合わせ

［式（i-1）中、Ｒ⁴は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい複素環式基を示す］
［式（i-2）中、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＲ⁸、−ＣＯＮＲ⁸ ₂、−ＣＯＲ⁸、−ＯＣＯＲ⁸、−ＣＦ₃、−ＣＮ、−ＳＲ⁸、−ＳＯＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁸ ₂、−ＰＯ（ＯＲ⁸）₂、及び−ＮＯ₂からなる群より選択される基を示す。前記Ｒ⁸は、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を示す。Ｒ⁵〜Ｒ⁷から選択される２つの基は互いに結合して、式（i-2）で示される基において、これらの基が結合する炭素原子と共に、環を形成していてもよい］

前記脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基としては、上述のＲ¹、Ｒ²における脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基と同様の例を挙げることができる。

前記複素環式基を構成する複素環には、芳香族性複素環及び非芳香族性複素環が含まれる。このような複素環としては、環を構成する原子に炭素原子と少なくとも１種のヘテロ原子（例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子等）を有する３〜１０員環（好ましくは４〜６員環）、及びこれらの縮合環を挙げることができる。具体的には、ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環（例えば、オキシラン環等の３員環；オキセタン環等の４員環；フラン環、テトラヒドロフラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、γ−ブチロラクトン環等の５員環；４−オキソ−４Ｈ−ピラン環、テトラヒドロピラン環、モルホリン環等の６員環；ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、４−オキソ−４Ｈ−クロメン環、クロマン環、イソクロマン環等の縮合環；３−オキサトリシクロ［４．３．１．１^4,8］ウンデカン−２−オン環、３−オキサトリシクロ［４．２．１．０^4,8］ノナン−２−オン環等の橋かけ環）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環（例えば、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環等の５員環；４−オキソ−４Ｈ−チオピラン環等の６員環；ベンゾチオフェン環等の縮合環等）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環（例えば、ピロール環、ピロリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環等の５員環；イソシアヌル環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペリジン環、ピペラジン環等の６員環；インドール環、インドリン環、キノリン環、アクリジン環、ナフチリジン環、キナゾリン環、プリン環等の縮合環等）等を挙げることができる。複素環式基は前記複素環の構造式から１個の水素原子を除いた基である。

前記Ｒ⁴〜Ｒ⁷における脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、及び複素環式基が有していてもよい置換基としては、前記Ｒ³における脂肪族炭化水素基が有していてもよい置換基と同様の例を挙げることができる。

［ii］下記式（ii-1）で表される基と下記式（ii-2）で表される基の組み合わせ

［式（ii-1）中、Ｒ⁹は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ¹⁰は水素原子又は下記式（r10）

（式中、Ｒ¹¹は水素原子、メチル基、又はエチル基を示す。ｎ１は０〜４の整数、ｎ２は０又は１、ｎ３は０〜４の整数を示す。ｎ１〜ｎ３から選択される２以上が同一であってもよい。Ｘ¹はアミド結合又はアルケニレン基を示し、Ｘ²は−ＣＯＯＲ³、−ＣＯＮＲ³ ₂、−ＣＯＲ³、−ＣＮ、−ＮＯ₂、−ＮＨＣＯＲ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＯ₃Ｒ³、及び−ＳＯ₂ＮＲ³ ₂からなる群より選択される基（前記Ｒ³は、前記に同じ）を示す）
で表される基を示す］
［式（ii-2）中、Ｙ¹は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＲ⁸、−ＣＯＮＲ⁸ ₂、−ＣＯＲ⁸、−ＯＣＯＲ⁸、−ＣＦ₃、−ＣＮ、−ＳＲ⁸、−ＳＯＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁸ ₂、−ＰＯ（ＯＲ⁸）₂、及び−ＮＯ₂からなる群より選択される基を示す。Ｒ⁸は前記に同じ。Ｙ²は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、−ＣＯＯＲ³、−ＣＯＮＲ³ ₂、−ＣＯＲ³、−ＣＮ、−ＮＯ₂、−ＮＨＣＯＲ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＯ₃Ｒ³、及び−ＳＯ₂ＮＲ³ ₂からなる群より選択される基（前記Ｒ³は、前記に同じ）を示す。Ｙ¹とＹ²は互いに結合して、式（ii-2）中のベンゼン環を構成する炭素原子と共に、環を形成していてもよい］

Ｙ²におけるアルキル基やアルケニル基が有していてもよい置換基としては、前記Ｒ³における脂肪族炭化水素基が有していてもよい置換基と同様の例を挙げることができる。

［iii］置換基を有していてもよいアルコキシ基と、下記式（iii-1）〜（iii-4）で表される基から選択される基の組み合わせ

（式中、Ｒ¹²は水素原子、メチル基、又はエチル基を示す。Ｙ¹、Ｙ²は前記に同じ。Ｙ¹とＹ²は互いに結合して、式中の芳香環を構成する炭素原子と共に、環を形成していてもよい）

［iv］ＯＲ¹基とＯＲ²基が、同一又は異なって、下記式（iv-1）で表される基である組み合わせ

（式中、Ｙ¹、Ｙ²は前記に同じ。Ｙ¹とＹ²は互いに結合して、式中のベンゼン環を構成する炭素原子と共に、環を形成していてもよい）

［ｖ］ヒドロキシル基と置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素オキシ基（好ましくはＣ_1-6アルコキシ基）との組み合わせ

前記脂肪族炭化水素オキシ基を構成する脂肪族炭化水素基としては、上記Ｒ¹、Ｒ²における脂肪族炭化水素基と同様の例を挙げることができる。

式（１）で表される化合物の具体例としては、下記式（1-1）〜（1-2）で表される化合物（光学異性体を含む）等を挙げることができる。

式（１）で表される化合物は塩を形成していてもよい。式（１）で表される化合物の塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩；アンモニアとの塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、シクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェネチルアミン、１−エフェナミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、Ｎ−メチル−Ｄ−グルカミン等の含窒素有機塩基との塩；リジン、アルギニン、オルニチン等の塩基性アミノ酸との塩；遷移金属塩；塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の無機酸との塩；シュウ酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸との塩等を挙げることができる

上記式（１）で表される化合物は、２−アミノホスホノアルカン酸を原料として使用し、下記工程を経て製造することができる。尚、工程[１]と[２]は、[１]−[２]の順で行っても、[２]−[１]の順で行ってもよい。また、工程[４]と[５]は、[４]−[５]の順で行っても、[５]−[４]の順で行ってもよい。
[１] カルボキシル基に保護基を導入する
[２] アミノ基に保護基を導入する
[３] リン酸基の２つのヒドロキシル基をハロゲン原子で置換する
[４] Ｒ¹ＯＨを反応させて、リン原子に結合するハロゲン原子の一方をＯＲ¹と置換する
[５] Ｒ²ＯＨを反応させて、リン原子に結合するハロゲン原子の他方をＯＲ²と置換する
[６] カルボキシル基とアミノ基を脱保護する

原料として使用する２−アミノホスホノアルカン酸は、例えば、式（１’）で表される。２−アミノホスホノアルカン酸は、例えば、非特許文献[Kosolapoff G.M. Isomerization of alkyl phosphites.VII. Some derivatives of 2-bromoethanephosphonic acid J.Am.Chem.Soc.1948,70,1971-1972;Chambers,J.R.,Isbell,A.F.A new synthesis of amino phosphonic acids.J.Org.Chem.1964,29,832-836]に記載の方法で製造することができる。

工程[１]は、２−アミノホスホノアルカン酸のカルボキシル基に保護基を導入する工程であり、例えば、２−アミノホスホノアルカン酸とＲＯＨ（Ｒは置換基を有していてもよいアリール基又はアラルキル基を示し、好ましくはベンジル、４−ニトロベンジル基である）を反応させることにより保護基を導入することができる。この反応は、酸触媒（例えば、塩酸等）の存在下、室温付近の温度環境下で行うことが好ましい。反応時間は、例えば１２〜２４時間程度である。

工程[２]は、２−アミノホスホノアルカン酸のアミノ基に保護基を導入する工程であり、例えば、溶媒に溶解した２−アミノホスホノアルカン酸中にＲ’ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ（Ｒ’は置換基を有していてもよいアリール基又はアラルキル基を示し、Ｒと同様の例を挙げることができる。Ｒ’はＲと同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｘはハロゲン原子を示す）を滴下して反応させることにより、保護基を導入することができる。この反応は、塩基（例えば、炭酸水素ナトリウム等）の存在下で行うことが好ましい。

前記溶媒としては、例えば、水、ハロゲン化炭化水素系溶媒、飽和又は不飽和炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒等を１種又は２種以上使用することができる。

滴下時温度は、室温以下が好ましく、特に０℃付近が好ましい。反応時間は、例えば０．５〜２時間程度である。また、滴下終了後は例えば２５〜３０℃に保温した状態で、例えば１０〜２４時間程度、撹拌しつつ熟成させることが好ましい。

工程［３］は、リン酸基の２つのヒドロキシル基をハロゲン原子で置換する工程であり、例えば、工程［１］、［２］を経て得られた化合物に、触媒、及び溶媒の存在下でハロゲン化剤を反応させることにより行うことができる。前記触媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を使用することができる。また、前記溶媒としては、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒等を１種又は２種以上使用することができる。前記ハロゲン化剤としては、例えば、塩酸オキサリル、塩化チオニル、五塩化リン、オキシ塩化リン等を挙げることができる。これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。この反応は、室温付近の温度で１時間程度行うことが好ましい。

工程［４］は、Ｒ¹ＯＨを反応させて、工程［３］を経て得られたリン原子に結合するハロゲン原子の一方をＯＲ¹と置換する工程である。この反応は塩基の存在下で行うことが好ましく、塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルイミダゾール、ピリジン等を挙げることができる。また、この反応は溶媒の存在下で行うことが好ましく、溶媒としては乾燥ジクロロメタンを使用することが好ましい。反応は、−６５℃付近で３０分間程度撹拌した後、室温までゆっくり昇温し、その後室温を保持した状態で１〜３時間程撹拌して行うことが好ましい。

工程［５］は、Ｒ²ＯＨを反応させて、リン原子に結合するハロゲン原子の他方をＯＲ²と置換する工程である。工程［５］は、Ｒ¹ＯＨに代えてＲ²ＯＨを使用する以外は工程［４］と同様の方法で行うことができる。

工程［６］は、カルボキシル基とアミノ基を脱保護する工程であり、例えば、接触水素還元法、塩化アルミニウムを用いた脱保護法等により行うことができる。前記接触水素還元法は、パラジウムを活性炭や硫酸バリウム等の担体に担持させたパラジウム系触媒や白金系触媒の存在下で、工程［５］を経て得られた化合物中に水素ガスをバブリングする方法である。また、前記塩化アルミニウムを用いた脱保護法は、三塩化アルミニウムを加えた溶媒（例えば、乾燥ニトロメタン等の高極性溶媒）で、工程［５］を経て得られた化合物とアニソールとを反応させる方法である。

各工程終了後は、得られた反応生成物に、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、吸着、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段を施して精製してもよい。

上記式（１）で表される化合物の製造方法の一例を下記式に示す。下記式中のＲ、Ｒ’、Ｒ¹、Ｒ²、Ｘ、ｎは上記に同じ。

式（１）で表される化合物の塩は、上記方法で得られた式（１）で表される化合物に、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の塩基性化合物；アンモニア；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、シクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェネチルアミン、１−エフェナミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、Ｎ−メチル−Ｄ−グルカミン等の含窒素有機塩基；リジン、アルギニン、オルニチン等の塩基性アミノ酸；塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の無機酸；シュウ酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸等を反応させることにより製造することができる。

本発明のグルタチオン産生促進剤は、有効成分として、上記式（１）で表される化合物及び／又はその塩（好ましくは、上記式（1-1）〜（1-2）で表される化合物及びこれらの塩から選択される少なくとも１種の化合物）（光学異性体を含む）を含む。

本発明のグルタチオン産生促進剤は上記式（１）で表される化合物、及びその塩以外にも必要に応じて他の成分を含有していても良いが、本発明のグルタチオン産生促進剤全量における上記式（１）で表される化合物及び／又はその塩の占める割合（２種以上含有する場合はそれらの占める割合の合計）は、例えば６０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは８０重量％以上、最も好ましくは９０重量％以上である。尚、上限は１００重量％である。

通常、グルタチオンはγ−グルタミルトランスペプチダーゼによりγ−グルタミル結合が加水分解され、加水分解により生成したシステインは、細胞内に取り込まれ、グルタチオンを再合成する原料として用いられる。本発明のグルタチオン産生促進剤は、γ−グルタミルトランスペプチダーゼを阻害し、グルタチオンの代謝を抑制することにより、グルタチオンの原料であるシステインの供給を滞らせ、その結果としてグルタチオンの再合成を滞らせて、一時的にグルタチオン濃度を低下させる。そして、グルタチオン濃度の低下を引き金としてグルタチオンの産生を促進する。本発明のグルタチオン産生促進剤は、上記の作用機序によってグルタチオンの産生を促進する効果を発揮して、表皮細胞中のグルタチオン濃度を、本発明のグルタチオン産生促進剤を適用しない場合に比べて有意に上昇させることができる。

また、従来よりγ−グルタミルトランスペプチダーゼ阻害剤として用いられているアシビシンは、γ−グルタミルトランスペプチダーゼ以外にも、例えばグルタミンアミドトランスフェラーゼも阻害するが、上記式（１）で表される化合物、及びその塩は、グルタミンアミドトランスフェラーゼに対する阻害活性を示さず、γ−グルタミルトランスペプチダーゼに対して特異的に作用する。従って、本発明のグルタチオン産生促進剤は細胞毒性が低く安全性に優れ、外用組成物に好適に使用することができる。

［外用組成物］
本発明の外用組成物は、上記グルタチオン産生促進剤を含有する。

本発明の外用組成物全量（１００重量％）における上記式（１）で表される化合物、及びその塩の含有量（２種以上含有する場合はその総量）は、用途に応じて適宜調整することができ、例えば０．００００００１重量％以上、好ましくは０．００１〜０．１重量％である。

本発明の外用組成物には、例えば、外皮用薬、点眼薬、点鼻薬、点耳薬、口腔薬、スキンケア用化粧料、入浴剤等が含まれる。

本発明の外用組成物は、上記グルタチオン産生促進剤以外にも、用途に応じて適宜他の成分を１種又は２種以上含有していてもよい。例えば、外皮用薬やスキンケア用化粧料として使用する場合は、外皮用薬やスキンケア用化粧料に通常含まれる成分を含有することができる。

本発明の外用組成物の使用形態は、特に制限されず、例えば、ペースト状、ゲル状、液状、乳液状、クリーム状の製剤として使用することができる。また、シート状基材に含浸させてシート状製剤として使用したり、容器に封入してエアゾール状の製剤やスプレー状の製剤として使用することもできる。

前記外皮用薬には、塗布剤（クリーム剤、軟膏剤、ゲル剤、ローション剤、液剤、チンキ剤）、貼付剤（パップ剤、プラスター剤、テープ剤、パッチ剤）が含まれる。また前記口腔薬には含嗽薬、噴霧薬が含まれる。

前記スキンケア用化粧料には、例えば、ファンデーション、アイシャドウ、マスカラ、アイブロウ、チーク、口紅、マニキュア等のメイクアップ化粧料や、化粧水、乳液、美容液等の基礎化粧料等が含まれる。

本発明の外用組成物の適用方法は、用途に応じて適宜設定することができ、例えば１日１〜数回程度、有効量を塗布、噴霧、又は貼付等により適用することが好ましい。

本発明の外用組成物をグルタチオンの産生促進効果を所望する箇所に適用すると、グルタチオンの産生が促進され、表皮細胞中のグルタチオン濃度が顕著に上昇する。そして、グルタチオンは、体内において抗酸化作用、解毒作用、抗アレルギー作用、細胞賦活作用等を発揮して、紫外線曝露による細胞傷害、炎症、黒色化、シミやソバカスの生成を抑制する。そのため、本発明の外用組成物をスキンケア用化粧料として使用した場合は、アンチエイジング効果や美白効果が得られる。また、本発明の外用組成物を点眼薬として使用した場合は、白内障予防又は進行抑制、角膜潰瘍、角膜上皮剥離、角膜炎等の治療又は予防に効果を発揮する。更に、本発明の外用組成物を外皮用薬として使用した場合は、皮膚炎等の治療又は予防に効果を発揮する。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。

実施例１
式（１）で表される化合物（商品名「ＧＧｓＴｏｐ」、和光純薬工業（株）製）をグルタチオン産生促進剤（１）として使用した。
正常ヒト表皮細胞を用いて、下記方法により、前記グルタチオン産生促進剤（１）によるグルタチオン合成促進作用を評価した。
すなわち、正常ヒト表皮細胞を、正常ヒト表皮角化細胞増殖用培地（商品名「HuMedia KG2」、倉敷紡績（株）製）を用いて９６穴マイクロプレートに、２．０×１０⁴cells/96wellの細胞密度にて播種した。播種２４時間後に、下記表に記載の濃度のグルタチオン産生促進剤（１）を含有した正常ヒト表皮角化細胞増殖用培地（商品名「HuMedia KB2」、倉敷紡績（株）製）と交換して培養を続けた。
０、３、６、１８、２４、４８時間の培養後、１００μＭのフェニルメチルスルフォニルフルオライド含有リン酸バッファーを用い、超音波処理にて細胞を破砕し、後述のグルタチオンレダクターゼリサイクリング法により総グルタチオン量を定量した。
すなわち、細胞破砕液を還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチドリン酸及びグルタチオンレダクターゼと混合し、３７℃にて１０分間反応させた。
次に、１０ｍＭの５，５’−ジチオビス（２−ニトロ安息香酸）を溶解させた０．１Ｍリン酸バッファー（０．５ｍＭ ＥＤＴＡ含有、ｐＨ７．５）を加え、添加直後、及び３０分間インキュベート後の吸光度（４５０ｎｍにおける）を測定し、その差［３０分後の吸光度−添加直後の吸光度］をグルタチオン合成量の指標とした
尚、細胞破砕液中の総グルタチオン量は、酸化型グルタチオンを用いて作成した検量線より算出した。また、細胞破砕液のタンパク質含有量は、Pierce Microplate BCA Protein Assay Kit(Thermo SCIENTIFIC)を用いて定量した。各々の培養時間におけるグルタチオン量は、Ｓｔｕｄｅｎｔのｔ検定を用いて有意差検定を行い、グルタチオン産生促進剤（１）による処理を行わなかった細胞（以後、「未処理細胞」と称する場合がある）との差異を評価した。結果を下記表１及び図１に示す。

※ｐは、各処理時間における、未処理細胞に対する有意差である。

グルタチオン産生促進剤（１）による処理を行った細胞では、処理後３時間以上培養した細胞は、未処理細胞に比べて、グルタチオン（ＧＳＨ）量が有意に増加した。処理後２４時間以上培養した細胞では、試験した全ての濃度においてグルタチオン量が有意に増加した。以上より、本発明のグルタチオン産生促進剤は、優れたグルタチオン合成促進作用を有することがわかる。

Claims (4)

1. 下記式（１）で表される化合物及び／又はその塩を有効成分として含むグルタチオン産生促進剤。
   

   

   ［式中、Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子、又は、置換基として、ハロゲン原子、−ＣＯＯＲ³、−ＣＯＮＲ³ ₂、−ＣＯＲ³、−ＣＮ、−ＮＯ₂、−ＮＨＣＯＲ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＯ₃Ｒ³、及び−ＳＯ₂ＮＲ³ ₂からなる群より選択される基を１又は２以上有していてもよい炭化水素基（前記Ｒ³は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を示す）を示す。ｎは０以上の整数を示す］
2. 請求項１に記載のグルタチオン産生促進剤を含有する外用組成物。
3. 外皮用薬である請求項２に記載の外用組成物。
4. スキンケア用化粧料である請求項２に記載の外用組成物。

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