JP2009267244A - 有機電界発光素子 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電気エネルギーを光に変換して発光できる有機電界発光素子(以下、「有機EL素子」又は「素子」ともいう。)に関するものであり、特に発光特性および耐久性に優れる有機電界発光素子に関する。
有機電界発光素子(有機EL素子)は、低電圧駆動で高輝度の発光が得られることから活発に研究開発が行われている。有機電界発光素子は、一対の電極間に有機層を有し、陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔とが有機層において再結合し、生成した励起子のエネルギーを発光に利用するものである。
近年、燐光発光材料を用いることにより、素子の高効率化が進んでいる。燐光発光材料としてはイリジウム錯体や白金錯体などが知られている(例えば、特許文献1、2等参照。)。
また、他の燐光発光材料としては、3座以上の多座配位子を有する金属錯体が知られている(例えば、特許文献3〜6参照。)。
また、他の燐光発光材料としては、3座以上の多座配位子を有する金属錯体が知られている(例えば、特許文献3〜6参照。)。
一方、重水素化材料を用いた有機EL素子としては、特許文献7に記載の技術が知られている。特許文献7に記載の重水素化材料を用いることにより、優れた発光特性及び熱安定性が得られることが記載されている。
米国特許第6303238号明細書
国際公開第00/57676号パンフレット
国際公開第04/108857号パンフレット
特開2005−310733号公報
特開2006−261623号公報
国際公開第05/42444号パンフレット
国際公開第02/47440号パンフレット
有機EL素子の分野において、さらなる高効率と高耐久性を有する燐光発光材料の開発が望まれている。
本発明の目的は、発光効率が高くかつ、耐久性に優れる有機電界発光素子の提供することである。
本発明の目的は、発光効率が高くかつ、耐久性に優れる有機電界発光素子の提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決すべく検討した結果、2価の金属イオンと錯体を形成する配位子が、5員環の中性配位子と6員環のアニオン性配位子からなる二座配位子と、6員環の中性配位子と6員環のアニオン性配位子からなる二座配位子が、特定の部位で連結されることによって形成される四座配位子である金属錯体を有機層に含有する有機電界発光素子が、上記課題を解決することを見出した。すなわち、上記課題は以下の手段により解決することができる。
〔1〕一対の電極間に、少なくとも発光層を含む有機層を有する有機電界発光素子であって、下記一般式(I)で表される化合物を有機層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
(一般式(I)中、Mは二価の金属イオンを表す。Z11は窒素原子またはリン原子を表す。Z12、Z13は、炭素原子、窒素原子、リン原子から選ばれる原子を表し、Z12が炭素原子の場合、Z13は窒素原子またはリン原子を表し、Z12が窒素原子またはリン原子の場合、Z13は炭素原子を表す。MとZ11との結合は配位結合を表し、MとZ12〜Z13との結合は配位結合又は共有結合を表す。A10〜A19はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。Y11〜Y13はZ11及び炭素原子と共に5員の芳香族ヘテロ環を形成するように選ばれる原子である。L1は二価の連結基を表す。)
〔2〕Mが白金イオンであることを特徴とする前記〔1〕に記載の有機電界発光素子。
〔3〕Z11及びZ13が窒素原子であり、Z12が炭素原子であることを特徴とする前記〔1〕または〔2〕に記載の有機電界発光素子。
〔4〕L1が置換基を有していてもよい単原子からなる2価の連結基であることを特徴とする前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔5〕Y11〜Y13のうち2つが炭素原子であることを特徴とする前記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔6〕一般式(I)で表される化合物が、下記一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする前記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔2〕Mが白金イオンであることを特徴とする前記〔1〕に記載の有機電界発光素子。
〔3〕Z11及びZ13が窒素原子であり、Z12が炭素原子であることを特徴とする前記〔1〕または〔2〕に記載の有機電界発光素子。
〔4〕L1が置換基を有していてもよい単原子からなる2価の連結基であることを特徴とする前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔5〕Y11〜Y13のうち2つが炭素原子であることを特徴とする前記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔6〕一般式(I)で表される化合物が、下記一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする前記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
(一般式(II)中、A20〜A29はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。L2は置換基を有していてもよい単原子からなる2価の連結基を表す。Y21〜Y23は、窒素原子及び炭素原子と共に5員の芳香族ヘテロ環を形成するように、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子を表し、炭素原子および窒素原子の場合には置換基を有していてもよい。)
〔7〕一般式(I)で表される化合物を発光層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔8〕一般式(I)で表される化合物を発光層と陰極の間の有機層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔9〕一般式(I)で表される化合物を発光層と陽極の間の有機層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔10〕重水素原子を少なくとも1つ有する材料を、前記有機層の少なくともいずれかの層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔11〕前記重水素原子を少なくとも1つ有する材料が、重水素原子を少なくとも1つ有する、カルバゾール骨格またはインドール骨格のいずれかを含む材料であることを特徴とする〔10〕に記載の有機電界発光素子。
〔7〕一般式(I)で表される化合物を発光層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔8〕一般式(I)で表される化合物を発光層と陰極の間の有機層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔9〕一般式(I)で表される化合物を発光層と陽極の間の有機層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔10〕重水素原子を少なくとも1つ有する材料を、前記有機層の少なくともいずれかの層に含有することを特徴とする前記〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載の有機電界発光素子。
〔11〕前記重水素原子を少なくとも1つ有する材料が、重水素原子を少なくとも1つ有する、カルバゾール骨格またはインドール骨格のいずれかを含む材料であることを特徴とする〔10〕に記載の有機電界発光素子。
本発明の有機電界発光素子は、外部量子効率及び耐久性に優れているので、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信等に好適に利用できる。
以下、本発明に係る有機EL素子の好適な実施形態について説明する。
本発明に係る有機EL素子は、一対の電極間に、少なくとも発光層を含む有機層を有するものである。前記有機層は、有機化合物のみからなる層であっても良いし、有機化合物と無機化合物をともに含有する層であってもよい。前記有機層としては、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、励起子ブロック層等を含んでいてもよい。各層は、それぞれ他の機能を兼備していても良い。また、各層は複数の層から形成されていてもよい。
本発明に係る有機EL素子は、一対の電極間に、少なくとも発光層を含む有機層を有するものである。前記有機層は、有機化合物のみからなる層であっても良いし、有機化合物と無機化合物をともに含有する層であってもよい。前記有機層としては、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、励起子ブロック層等を含んでいてもよい。各層は、それぞれ他の機能を兼備していても良い。また、各層は複数の層から形成されていてもよい。
有機層の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。更に、正孔輸送層と発光層との間、及び/又は、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。
前記有機層の少なくともいずれかの層は、前記一般式(I)で表される金属錯体を含有する。
前記一般式(I)で表される金属錯体は、その機能が限定されることはなく、発光材料、ホスト材料、励起子ブロック材料、電荷ブロック材料あるいは電荷輸送材料として利用することができ、その中でも発光材料、ホスト材料、電荷輸送材料として利用する場合がより好ましく、発光材料、ホスト材料として利用する場合が更に好ましく、発光材料として利用する場合が最も好ましい。
前記一般式(I)で表される金属錯体は、その機能が限定されることはなく、発光材料、ホスト材料、励起子ブロック材料、電荷ブロック材料あるいは電荷輸送材料として利用することができ、その中でも発光材料、ホスト材料、電荷輸送材料として利用する場合がより好ましく、発光材料、ホスト材料として利用する場合が更に好ましく、発光材料として利用する場合が最も好ましい。
また、前記一般式(I)で表される化合物を含有する層は、前述の有機層のうちいずれの層にも含有することができる。好ましい態様としては、一般式(I)で表される化合物を発光層に含有すること、発光層と陰極の間の有機層に含有すること、発光層と陽極の間の有機層に含有することが挙げられる。
発光層に一般式(I)で表される化合物を含有する場合は、発光材料またはホスト材料として発光層に含有されることがより好ましく、発光材料として発光層に含有されることがさらに好ましく、少なくとも一種のホスト材料と共に発光層に含有されることが特に好ましい。
発光層に発光材料として含有される場合、前記一般式(I)で表される化合物の含有量は、発光層の総質量に対して、0.1質量%〜50質量%の範囲が好ましく、耐久性、外部量子効率の観点から1質量%〜50質量%の範囲がより好ましく、2質量%〜40質量%の範囲がさらに好ましい。
発光層に発光材料として含有される場合、前記一般式(I)で表される化合物の含有量は、発光層の総質量に対して、0.1質量%〜50質量%の範囲が好ましく、耐久性、外部量子効率の観点から1質量%〜50質量%の範囲がより好ましく、2質量%〜40質量%の範囲がさらに好ましい。
一般式(I)で表される化合物が発光層と陰極の間に位置する有機層に含まれる場合としては、電子輸送層、電子注入層、励起子ブロック層、正孔ブロック層等に含まれる場合がある。これらの層に含まれる場合は、後述の電子輸送性材料と共に用いることができる。
電子輸送層、電子注入層に含まれる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量%〜99質量%の範囲が好ましく、耐久性、外部量子効率の観点から5質量%〜70質量%の範囲がより好ましく、5質量%〜45質量%の範囲がさらに好ましい。
励起子ブロック層、正孔ブロック層として用いる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、30質量%〜100質量%の範囲が好ましく、外部量子効率の観点から50質量%〜100質量%の範囲がより好ましく、70質量%〜100質量%の範囲がさらに好ましい。
電子輸送層、電子注入層に含まれる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量%〜99質量%の範囲が好ましく、耐久性、外部量子効率の観点から5質量%〜70質量%の範囲がより好ましく、5質量%〜45質量%の範囲がさらに好ましい。
励起子ブロック層、正孔ブロック層として用いる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、30質量%〜100質量%の範囲が好ましく、外部量子効率の観点から50質量%〜100質量%の範囲がより好ましく、70質量%〜100質量%の範囲がさらに好ましい。
一般式(I)で表される化合物は、発光層と陽極の間に位置する有機層に含まれる場合としては、正孔注入層、正孔輸送層、励起子ブロック層、電子ブロック層等に含まれる場合がある。これらの層に含まれる場合は、後述の正孔輸送性材料と共に用いることができる。
正孔注入層、正孔輸送層に含まれる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量%〜99質量%の範囲が好ましく、耐久性、外部量子効率の観点から5質量%〜70質量%の範囲がより好ましく、5質量%〜45質量%の範囲がさらに好ましい。
励起子ブロック層、電子ブロック層として用いる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、30質量%〜100質量%の範囲が好ましく、外部量子効率の観点から50質量%〜100質量%の範囲がより好ましく、70質量%〜100質量%の範囲がさらに好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層に含まれる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量%〜99質量%の範囲が好ましく、耐久性、外部量子効率の観点から5質量%〜70質量%の範囲がより好ましく、5質量%〜45質量%の範囲がさらに好ましい。
励起子ブロック層、電子ブロック層として用いる場合、その含有量としては、当該層を形成する全化合物質量に対して、30質量%〜100質量%の範囲が好ましく、外部量子効率の観点から50質量%〜100質量%の範囲がより好ましく、70質量%〜100質量%の範囲がさらに好ましい。
一般式(I)で表される化合物について説明する。
なお、一般式(I)において、配位結合とは、電荷をもたない中性の配位子と金属がなす結合であり、例えば、アゾール類やピリゾン類の窒素原子上の孤立電子対で結合するものである。共有結合とは、一価の負電荷を有するアニオン性の配位子と金属がなす結合であり、例えば、C−H結合やN−H結合から、水素イオン(H+)が解離したアニオン状態の原子と金属がなす結合である。
なお、一般式(I)において、配位結合とは、電荷をもたない中性の配位子と金属がなす結合であり、例えば、アゾール類やピリゾン類の窒素原子上の孤立電子対で結合するものである。共有結合とは、一価の負電荷を有するアニオン性の配位子と金属がなす結合であり、例えば、C−H結合やN−H結合から、水素イオン(H+)が解離したアニオン状態の原子と金属がなす結合である。
一般式(I)中、Mは二価の金属イオンを表す。Z11は窒素原子またはリン原子を表す。Z12、Z13は、炭素原子、窒素原子、リン原子から選ばれる原子を表し、Z12が炭素原子の場合、Z13は窒素原子またはリン原子を表し、Z12が窒素原子またはリン原子の場合、Z13は炭素原子を表す。MとZ11との結合は配位結合を表し、MとZ12〜Z13との結合は配位結合又は共有結合を表す。A10〜A19はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。Y11〜Y13はZ11及び炭素原子と共に5員の芳香族ヘテロ環を形成するように選ばれる原子である。L1は二価の連結基を表す。
Mは二価の金属イオンを表す。二価の金属イオンとしては特に限定されないが、白金イオン、パラジウムイオン、ニッケルイオン、ルテニウムイオン、銅イオン、亜鉛イオンなどが挙げられ、白金イオン、パラジウムイオン、銅イオン、亜鉛イオンが好ましく、白金イオン、銅イオンがより好ましく、白金イオンが特に好ましい。
Z11は、窒素原子またはリン原子を表し、窒素原子であることが好ましい。
Z12、Z13は、炭素原子、窒素原子、リン原子から選ばれる。Z12が炭素原子の場合、Z13は窒素原子かリン原子を表し、Z12が窒素原子かリン原子の場合、Z13は炭素原子を表す。Z12は炭素原子または窒素原子であることが好ましく、炭素原子であることがより好ましい。Z13は窒素原子またはリン原子であることが好ましく、窒素原子であることがより好ましい。
Z12、Z13は、炭素原子、窒素原子、リン原子から選ばれる。Z12が炭素原子の場合、Z13は窒素原子かリン原子を表し、Z12が窒素原子かリン原子の場合、Z13は炭素原子を表す。Z12は炭素原子または窒素原子であることが好ましく、炭素原子であることがより好ましい。Z13は窒素原子またはリン原子であることが好ましく、窒素原子であることがより好ましい。
A10〜A19はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。Rで表される置換基としては、下記置換基群Aとして挙げた中から任意に選択することができる。
置換基群A:
アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメチル基、エチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばプロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜10であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、2−エチルヘキシロキシ基などが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルオキシ基、ピラジルオキシ基、ピリミジルオキシ基、キノリルオキシ基などが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。)、
置換基群A:
アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメチル基、エチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばプロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜10であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、2−エチルヘキシロキシ基などが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルオキシ基、ピラジルオキシ基、ピリミジルオキシ基、キノリルオキシ基などが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。)、
アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばピリジルチオ基、2−ベンズイミゾリルチオ基、2−ベンズオキサゾリルチオ基、2−ベンズチアゾリルチオ基などが挙げられる。)、
スルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子であり、具体的にはイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンズオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基などが挙げられる。)、ホスホリル基(例えばジフェニルホスホリル基、ジメチルホスホリル基などが挙げられる。)
Z12が窒素原子であってA11〜A13がC−Rである場合、Z13が窒素原子であってA17〜A19、A10がC−Rである場合、A12、A18のRとして好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、フッ素原子、シアノ基であり、より好ましくは水素原子、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、フッ素原子であり、特に好ましく水素原子、フッ素原子であり、A11、A13、A17、A19、A10のRとして好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、フッ素原子、シアノ基であり、より好ましくは水素原子、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、フッ素原子であり、特に好ましくは水素原子である。
Z12が炭素原子であってA11〜A13がC−Rである場合、Z13が炭素原子であってA17〜A19、A10がC−Rである場合、および、A14〜A16がC−Rである場合、A12、A15、A18のRとして好ましくは水素原子、アルキル基、ポリフルオロアルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、フッ素原子、シアノ基であり、より好ましくは水素原子、ポリフルオロアルキル基、アルキル基、アリール基、フッ素原子、シアノ基であり、特に好ましく水素原子、ポリフルオロアルキル基、シアノ基である。A11、A13、A14、A16、A17、A19の表すRとして好ましくは水素原子、アルキル基、ポリフルオロアルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、フッ素原子、シアノ基であり、より好ましくは水素原子、ポリフルオロアルキル基、フッ素原子、シアノ基であり、特に好ましく水素原子、フッ素原子である。A10の表すRとして好ましくは水素原子、フッ素原子であり、より好ましくは水素原子である。
A10〜A19のうち窒素原子であるものは、A12、A13、A15、A16、A18、A19から選ばれるのが好ましく、A12、A15、A18から選ばれるのがより好ましく、Z12が炭素原子の場合のA12、および、A15から選ばれるのが特に好ましい。
A11〜A13、A14〜A16、A17〜A19、A10のうち隣接するものが共にC−Rである場合、隣接するC−RのR同士が互いに連結して環を形成していても良い。環を形成する場合、A11とA12、A12とA13、A14とA15、A15とA16、A17とA18、A18とA19の位置で縮環構造を形成するのが好ましく、A11とA12、A14とA15、A17とA18の位置で縮環構造を形成するのがより好ましく、A11とA12、A17とA18の位置で縮環構造を形成するのが特に好ましい。縮環構造としては、例えば、5員環、6員環、7員環構造等を形成することができ、5員環、6員環構造が好ましい。
5員環構造としては、例えば、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、ピロリジン環、シロール環などを形成することができる。
6員環構造としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピペリジン環、ピラン環、ジヒドロピラン環などを形成することができる。
上記環構造は、さらに他の環構造と縮環していても良い。これらの縮環構造で、5員環構造で縮環するものとしては、インデン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、シロール環、6員環構造で縮環するものとしては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環が好ましく、インデン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゼン環、ピリジン環がより好ましく、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゼン環が特に好ましい。
以上の環構造は、置換基を有していてもよい。置換基としては前記置換基群Aが挙げられる。
5員環構造としては、例えば、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、ピロリジン環、シロール環などを形成することができる。
6員環構造としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピペリジン環、ピラン環、ジヒドロピラン環などを形成することができる。
上記環構造は、さらに他の環構造と縮環していても良い。これらの縮環構造で、5員環構造で縮環するものとしては、インデン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、シロール環、6員環構造で縮環するものとしては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環が好ましく、インデン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゼン環、ピリジン環がより好ましく、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゼン環が特に好ましい。
以上の環構造は、置換基を有していてもよい。置換基としては前記置換基群Aが挙げられる。
Y11〜Y13はZ11及び炭素原子と共に5員の芳香族ヘテロ環を形成するように選ばれる置換基を有していてもよい原子である。例えば、Y11〜Y13のうち、1つが窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子の場合には、他の2つは炭素原子、窒素原子、リン原子から任意に選ぶことができる。また、Y11〜Y13は、全てが窒素原子またはリン原子であってもよい。
すなわち、(Y11,Y12,Y13)の具体的な組み合わせの例としては、以下のものが挙げられる。
(O,C,C)、(S,C,C)、(P,C,C)、(N,C,C)、
(C,O,C)、(C,S,C)、(C,P,C)、(C,N,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,P)、(C,C,N)、
(O,N,C)、(S,N,C)、(P,N,C)、(N,N,C)、
(O,C,N)、(S,C,N)、(P,C,N)、(N,C,N)、
(N,C,N)、(S,N,N)、(P,N,N)、(N,N,N)、
(N,O,C)、(N,S,C)、(N,P,C)、
(C,O,N)、(C,S,N)、(C,P,N)、(C,N,N)、
(N,O,N)、(N,S,N)、(N,P,N)、
(N,C,O)、(N,C,S)、(N,C,P)、
(C,N,O)、(C,N,S)、(C,N,P)、
(N,N,O)、(N,N,S)、(N,N,P)
すなわち、(Y11,Y12,Y13)の具体的な組み合わせの例としては、以下のものが挙げられる。
(O,C,C)、(S,C,C)、(P,C,C)、(N,C,C)、
(C,O,C)、(C,S,C)、(C,P,C)、(C,N,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,P)、(C,C,N)、
(O,N,C)、(S,N,C)、(P,N,C)、(N,N,C)、
(O,C,N)、(S,C,N)、(P,C,N)、(N,C,N)、
(N,C,N)、(S,N,N)、(P,N,N)、(N,N,N)、
(N,O,C)、(N,S,C)、(N,P,C)、
(C,O,N)、(C,S,N)、(C,P,N)、(C,N,N)、
(N,O,N)、(N,S,N)、(N,P,N)、
(N,C,O)、(N,C,S)、(N,C,P)、
(C,N,O)、(C,N,S)、(C,N,P)、
(N,N,O)、(N,N,S)、(N,N,P)
上記の中でも、Y11〜Y13を含む5員の芳香族へテロ環の安定性を考慮した場合、Y11〜Y13のうち2つが炭素原子であることが好ましい。すなわち、
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,O,C)、(C,S,C)、(C,N,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,N)
の組み合わせが好ましく、
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,O,C)、(C,S,C)、(C,N,C)、
の組み合わせがより好ましく、
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)
の組み合わせが特に好ましい。
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,O,C)、(C,S,C)、(C,N,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,N)
の組み合わせが好ましく、
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,O,C)、(C,S,C)、(C,N,C)、
の組み合わせがより好ましく、
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)
の組み合わせが特に好ましい。
また、Y11とY12、または、Y12とY13の位置で、縮環構造を形成していてもよい。縮環構造を形成し得る(Y11,Y12,Y13)の具体的な組み合わせの例としては、
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,N)、
(C,N,C)、(C,N,N)、(N,C,N)
が挙げられる。
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,N)、
(C,N,C)、(C,N,N)、(N,C,N)
が挙げられる。
縮環構造としては、上記、
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,N)
の組み合わせの場合には、縮環部にふたつの炭素原子を含む、前述の縮環構造と同じ構造を取ることができ、好ましい構造の範囲も同じである。また、上記、
(N,C,C)、(C,C,N)、(C,N,C)、(C,N,N)、(N,C,N)
の組み合わせに関しては、縮環構造は、縮環部に窒素原子を含むアザシクロヘキサジエン構造となる。(例えば、後述のQB50CN−56等。)
(O,C,C)、(S,C,C)、(N,C,C)、
(C,C,O)、(C,C,S)、(C,C,N)
の組み合わせの場合には、縮環部にふたつの炭素原子を含む、前述の縮環構造と同じ構造を取ることができ、好ましい構造の範囲も同じである。また、上記、
(N,C,C)、(C,C,N)、(C,N,C)、(C,N,N)、(N,C,N)
の組み合わせに関しては、縮環構造は、縮環部に窒素原子を含むアザシクロヘキサジエン構造となる。(例えば、後述のQB50CN−56等。)
Y11〜Y13が置換基を有している場合、置換基としては、前記置換基群Aとして挙げたものを適用できる。
Y11〜Y13が窒素原子の場合、置換基としては、アルキル基、アリール基、アシル基、ヘテロ環基、シリル基が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基がより好ましく、アルキル基、アリール基、が特に好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基が好ましく、メチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基がより好ましく、メチル基、tert−ブチル基が特に好ましい。アリール基としては、フェニル基、p−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アントラニル基が好ましく、フェニル基、p−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基がより好ましく、フェニル基が特に好ましい。
Y11〜Y13が炭素原子の場合、置換基としては、Z12が窒素原子である場合にA11〜A13がC−Rである場合の、置換基Rと同義であり、好ましいものも同じである。
Y11〜Y13が窒素原子の場合、置換基としては、アルキル基、アリール基、アシル基、ヘテロ環基、シリル基が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基がより好ましく、アルキル基、アリール基、が特に好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基が好ましく、メチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基がより好ましく、メチル基、tert−ブチル基が特に好ましい。アリール基としては、フェニル基、p−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アントラニル基が好ましく、フェニル基、p−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基がより好ましく、フェニル基が特に好ましい。
Y11〜Y13が炭素原子の場合、置換基としては、Z12が窒素原子である場合にA11〜A13がC−Rである場合の、置換基Rと同義であり、好ましいものも同じである。
L1は、二価の連結基を表す。L1で表される二価の連結基としては、アルキレン基(メチレン、エチレン、プロピレンなど)、アリーレン基(フェニレン、ナフタレンジイル)、ヘテロアリーレン基(ピリジンジイル、チオフェンジイルなど)、イミノ基(−NR−)(フェニルイミノ基など)、オキシ基(−O−)、チオ基(−S−)、ホスフィニデン基(−PR−)(フェニルホスフィニデン基など)、シリレン基(−SiRR’−)(ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基など)、またはこれらを組み合わせたものが挙げられる。これらの連結基は、さらに置換基を有していてもよい。
L1として好ましくはアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、イミノ基、オキシ基、チオ基、シリレン基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよい単原子の2価の連結基である、メチレン基、イミノ基、オキシ基、チオ基、シリレン基であり、さらに好ましくはメチレン基、イミノ基である。
メチレン基として、さらに好ましくはジ置換のメチレン基であり、さらに好ましくはジメチルメチレン基、ジエチルメチレン基、ジイソブチルメチレン基、ジベンジルメチレン基、エチルメチルメチレン基、メチルプロピルメチレン基、イソブチルメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基、メチルフェニルメチレン基、シクロヘキサンジイル基、シクロペンタンジイル基、フルオレンジイル基、フルオロメチルメチレン基であり、特に好ましくはジメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基、シクロヘキサンジイル基である。
イミノ基として、さらに好ましくはアルキルイミノ基、または、アリールイミノ基であり、さらに好ましくは、メチルイミノ基、イソプロピルイミノ基、tert-ブチルイミノ基、1−アダマンチルイミノ基、フェニル基、o−トリル基(2‐メチルフェニル基)、キシリル基、メシチル基、4−tert−ブチルフェニル基、3,5‐ジ(tert−ブチル)フェニル基であり、さらに好ましくは、tert-ブチルイミノ基、1−アダマンチルイミノ基、フェニル基、メシチル基、3,5‐ジ(tert−ブチル)フェニル基であり、特に好ましくはtert-ブチルイミノ基、フェニル基である。
メチレン基として、さらに好ましくはジ置換のメチレン基であり、さらに好ましくはジメチルメチレン基、ジエチルメチレン基、ジイソブチルメチレン基、ジベンジルメチレン基、エチルメチルメチレン基、メチルプロピルメチレン基、イソブチルメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基、メチルフェニルメチレン基、シクロヘキサンジイル基、シクロペンタンジイル基、フルオレンジイル基、フルオロメチルメチレン基であり、特に好ましくはジメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基、シクロヘキサンジイル基である。
イミノ基として、さらに好ましくはアルキルイミノ基、または、アリールイミノ基であり、さらに好ましくは、メチルイミノ基、イソプロピルイミノ基、tert-ブチルイミノ基、1−アダマンチルイミノ基、フェニル基、o−トリル基(2‐メチルフェニル基)、キシリル基、メシチル基、4−tert−ブチルフェニル基、3,5‐ジ(tert−ブチル)フェニル基であり、さらに好ましくは、tert-ブチルイミノ基、1−アダマンチルイミノ基、フェニル基、メシチル基、3,5‐ジ(tert−ブチル)フェニル基であり、特に好ましくはtert-ブチルイミノ基、フェニル基である。
一般式(I)で表される化合物は、好ましくは一般式(II)で表される化合物である。
一般式(II)中、A20〜A29はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。Y21〜Y23は窒素原子及び炭素原子と共に5員の芳香族ヘテロ環を形成するように、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子を表し、炭素原子および窒素原子の場合には置換基を有していてもよい。L2は置換基を有していてもよい単原子の2価の連結基を表す。
一般式(II)について説明する。
A20〜A29はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。A21〜A26としては、前記一般式(I)におけるA14〜A16と同義であり、好ましい範囲も同様である。A27〜A29、ならびに、A20としては、前記一般式(I)におけるZ13が窒素原子の場合のA17〜A19、ならびに、A10とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
A20〜A29はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。A21〜A26としては、前記一般式(I)におけるA14〜A16と同義であり、好ましい範囲も同様である。A27〜A29、ならびに、A20としては、前記一般式(I)におけるZ13が窒素原子の場合のA17〜A19、ならびに、A10とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
Y21〜Y23は窒素原子及び炭素原子と共に5員の芳香族ヘテロ環を形成するように、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子を表し、炭素原子および、窒素原子の場合には置換基を有していてもよい。Y21〜Y23としては、前記一般式(I)におけるY11〜Y13が炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子のいずれかである場合と同義であり、好ましい範囲も同様である。
L2は置換基を有していてもよい単原子の2価の連結基を表す。L2としては、前記一般式(I)におけるL1が単原子の2価の連結基である場合と同義であり、好ましい範囲も同様である。
以下、一般式(I)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
以下の具体例においては、一般式(I)で表される化合物を、下記に示す部分構造Q1〜Q4、連結基L、二価の金属イオンMからなる一般式(0)で表すものとする。
すなわち、Q1は部分構造群QB50CN、Q2は部分構造群QT60CN及びQT61CC、Q3は部分構造群QT61CC、Q4は部分構造群QB61CC及びQB60CNから選ばれ、その組み合わせとしては、
(QB50CN,QT60CN,QT61CC,QB61CC)、
(QB50CN,QT61CC,QT61CC,QB60CN)
である。
なお、以下の部分構造群中、M、Lはそれぞれ一般式(0)のM、Lに対応する。Qは、〔Q1で表される部分構造〕中のQはQ2を表し、〔Q2で表される部分構造〕中のQはQ1を表し、〔Q3で表される部分構造〕中のQはQ4を表し、〔Q4で表される部分構造〕中のQはQ3を表す。
(QB50CN,QT60CN,QT61CC,QB61CC)、
(QB50CN,QT61CC,QT61CC,QB60CN)
である。
なお、以下の部分構造群中、M、Lはそれぞれ一般式(0)のM、Lに対応する。Qは、〔Q1で表される部分構造〕中のQはQ2を表し、〔Q2で表される部分構造〕中のQはQ1を表し、〔Q3で表される部分構造〕中のQはQ4を表し、〔Q4で表される部分構造〕中のQはQ3を表す。
〔Q1で表される部分構造〕
部分構造群QB50CNを以下に示す。
部分構造群QB50CNを以下に示す。
〔Q2で表される部分構造〕
部分構造の群QT60CNを以下に示す。
部分構造の群QT60CNを以下に示す。
〔Q2で表される部分構造〕及び〔Q3で表される部分構造〕
部分構造の群QT61CCを以下に示す。
部分構造の群QT61CCを以下に示す。
〔Q4で表される部分構造〕
部分構造の群QB61CCを以下に示す。
部分構造の群QB61CCを以下に示す。
部分構造の群QB60CNを以下に示す。
連結基Lの群を以下に示す。
なお、以下の例示において、Qは一般式(0)におけるQ2又はQ3を表す。
なお、以下の例示において、Qは一般式(0)におけるQ2又はQ3を表す。
Q1、Q2、Q3、Q4、L、Mからなる本発明の化合物の具体的な組み合わせ(すなわち、一般式(I)で表される化合物の具体例)としては、以下の表に記載のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。
なお、以下の表において、例えば化合物1−1は上記一般式(I)におけるQ1がQB50CN-1を表し、Q2がQT60CN-1を表し、Q3がQT61CC-1を表し、Q4がQB61CC-1、LがL-1、MがPtを表し、下記一般式により表される化合物を意味する。
なお、以下の表において、例えば化合物1−1は上記一般式(I)におけるQ1がQB50CN-1を表し、Q2がQT60CN-1を表し、Q3がQT61CC-1を表し、Q4がQB61CC-1、LがL-1、MがPtを表し、下記一般式により表される化合物を意味する。
前記一般式(I)で表される化合物は、低分子化合物であってもよいし、オリゴマー化合物、ポリマー化合物であってもよいが、低分子化合物であることが好ましい。
ポリマー化合物の場合は、重量平均分子量(ポリスチレン換算)は好ましくは1000〜5000000、より好ましくは2000〜1000000、さらに好ましくは3000〜100000である。また、ポリマー化合物の場合、前記一般式(I)で表される構造がポリマー主鎖中に含まれてもよいし、ポリマー側鎖に含まれていてもよい。また、ポリマー化合物の場合、ホモポリマー化合物であってもよいし、コポリマー化合物であってもよい。
ポリマー化合物の場合は、重量平均分子量(ポリスチレン換算)は好ましくは1000〜5000000、より好ましくは2000〜1000000、さらに好ましくは3000〜100000である。また、ポリマー化合物の場合、前記一般式(I)で表される構造がポリマー主鎖中に含まれてもよいし、ポリマー側鎖に含まれていてもよい。また、ポリマー化合物の場合、ホモポリマー化合物であってもよいし、コポリマー化合物であってもよい。
一般式(I)で表される化合物は、公知の合成法により合成することができる。具体的は、配位子となる化合物と金属源とを、公知の手法に従って、溶媒の存在下または非存在下、塩基の存在下又は非存在下、室温以下又は加熱下で反応させることにより得られる。
公知の方法としては、Journal of Organic Chemistry 53, 786, (1988) 、G. R. Newkomeet al.)の、789頁、左段53行〜右段7行に記載の方法、790頁、左段18行〜38行に記載の方法、790頁、右段19行〜30行に記載の方法、Chemische Berichte 113, 2749 (1980)、H. Lexy ほか)の、2752 頁、26行〜35行に記載の方法等が挙げられる。
公知の方法としては、Journal of Organic Chemistry 53, 786, (1988) 、G. R. Newkomeet al.)の、789頁、左段53行〜右段7行に記載の方法、790頁、左段18行〜38行に記載の方法、790頁、右段19行〜30行に記載の方法、Chemische Berichte 113, 2749 (1980)、H. Lexy ほか)の、2752 頁、26行〜35行に記載の方法等が挙げられる。
金属源としては、例えば、塩化白金、臭化白金、プラチナアセチルアセトナート、塩化白金酸カリウム、塩化パラジウム、塩化パラジウム酸ナトリウム、酢酸銅、銅アセチルアセトナート、ジクロロ(N,N,N’,N’−テトラメチレンジアミン)亜鉛、酢酸亜鉛等を使用できる。
溶媒を使用する場合は、例えば、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキサイド系溶媒、水などを使用することができる。より具体的には、アセトニトリル、ベンゾニトリル、酢酸、エタノール、メトキシエタノール、グリセロール、水、及び、これらの混合溶媒を用いることができる。
塩基を使用する場合は、無機化合物あるいは有機化合物の種々の塩基を用いることができる。例えば、ナトリウムメトキサイド、t−ブトキシカリウム、トリエチルアミン、炭酸カリウムなどを使用することができる。
前記反応の反応温度は反応の活性により異なり、−30℃〜400℃の範囲で行なうことができる。好ましくは、0℃〜350℃であり、25℃〜250℃がより好ましい。なお、加熱する場合は通常の加熱手段以外にもマイクロウェーブで加熱する手法も用いることができる。
反応時間は反応原料の活性により異なり、通常1時間〜3日間の範囲で行なうことができる。好ましくは、1時間〜12時間であり、1時間〜8時間がより好ましく、1時間〜4時間が特に好ましい。
反応時間は反応原料の活性により異なり、通常1時間〜3日間の範囲で行なうことができる。好ましくは、1時間〜12時間であり、1時間〜8時間がより好ましく、1時間〜4時間が特に好ましい。
その他、反応を促進させる添加剤(トリフルオロメタンスルホン酸銀、ピリジン、トリエチルアミンなど)を添加させてもよい。また、反応は不活性ガス(窒素ガス、アルゴンガスなど)の存在下で行なってもよい。
前記有機層には、重水素原子を少なくともひとつ有する材料を用いることが好ましい。重水素原子を少なくともひとつ有する材料を用いることにより、耐久性をより向上させることができる。
重水素原子を少なくともひとつ有する材料は、いずれの有機層に含まれていても良いが、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、励起子ブロック層、電荷ブロック層のいずれか、もしくは複数に含有されるのが好ましく、発光層、励起子ブロック層、電荷ブロック層のいずれか、もしくは複数に含有されるのがより好ましく、発光層に含有されるのがさらに好ましく、特に発光層中のホスト材料として含有されるのが好ましい。
重水素原子を少なくとも1つ有する材料とは、有機材料であっても、無機材料であっても、その両方であってもよいが、有機材料であることが好ましい。
重水素原子を少なくとも1つ有する有機材料とは、有機材料における水素原子または重水素原子が結合し得る位置において、重水素原子と水素原子の比率(重水素原子の原子数:水素原子の原子数)が、100:0から1:99の範囲に含まれていることを意味する。ここで、水素原子または重水素原子が結合し得る位置は、1分子中、少なくとも特定の1箇所から全部の範囲の何れでもよい。言い換えれば、上記比率は水素原子または重水素原子が結合し得る位置の総和において、重水素原子が占める割合(重水素化率)が1〜100%であることと同義である。
従って、上記比率の状態は、当該位置に重水素を含む化合物と重水素を含まない化合物を、適当な比率で同時に使用することによって実現できる。
従って、上記比率の状態は、当該位置に重水素を含む化合物と重水素を含まない化合物を、適当な比率で同時に使用することによって実現できる。
重水素原子と水素原子の組成の範囲として、好ましくは100:0から5:95であり、より好ましくは100:0から50:50であり、特に好ましくは100:0から80:20である。
重水素原子を少なくとも1つ有する有機材料としては、例えば、国際公開第02/47440号パンフレットに記載の化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。
重水素原子を少なくとも1つ有する有機材料の好ましいものとしては、窒素原子を含む材料である。窒素原子を含む材料の中でも、三級アミン骨格、カルバゾール骨格、または、インドール骨格を含む材料が好ましく、カルバゾール骨格、または、インドール骨格を含む材料がより好ましく、カルバゾール骨格を含む材料が特に好ましい。
重水素原子を少なくとも1つ有する、カルバゾール骨格またはインドール骨格を含む材料としては、例えば、以下に示すものが挙げられる。
次に、有機EL素子を構成する各要素について説明する。
<有機層>
有機層は少なくとも発光層を含み、単層でも複数の層から構成されていてもよい。複数の層から構成される場合は、発光層以外の有機層としては、前述したごとく、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
有機層は少なくとも発光層を含み、単層でも複数の層から構成されていてもよい。複数の層から構成される場合は、発光層以外の有機層としては、前述したごとく、正孔輸送層、電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
−有機層の形成−
有機層を構成する各層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、転写法、印刷法等いずれによっても好適に形成することができる。
有機層を構成する各層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、転写法、印刷法等いずれによっても好適に形成することができる。
−発光層−
発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は1層であってもよいし、2層以上から形成されていてもよい。2層以上の場合は、それぞれの層が異なる発光色で発光するものであてもよい。
発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は1層であってもよいし、2層以上から形成されていてもよい。2層以上の場合は、それぞれの層が異なる発光色で発光するものであてもよい。
発光層は、発光材料のみで構成されていてもよいし、ホスト材料と発光材料の混合層としてもよい。
ここで、ホスト材料とは、発光層を構成する材料のうち、発光材料以外のものであり、発光材料を分散して層中に保持する機能、陽極や正孔輸送層等から正孔を受け取る機能、陰極や電子輸送層等から電子を受け取る機能、正孔及び/または電子を輸送する機能、正孔と電子の再結合の場を提供する機能、再結合により生成した励起子のエネルギーを発光材料に移動させる機能、及び正孔及び/または電子を発光材料に輸送する機能のうち少なくとも一種の機能を有する材料を意味する。
ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は1種であっても2種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料と正孔輸送性のホスト材料を併用してもよい。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。
ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は1種であっても2種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料と正孔輸送性のホスト材料を併用してもよい。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。
より具体的には、ホスト材料としては、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するもの、アリールシラン骨格を有するもの、後述の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の項で例示されている材料を使用することができる。
発光材料としては、前記一般式(I)で表される化合物を使用することができる。また、その他の発光材料としては、下記の蛍光発光材料及び/又は燐光発光材料を使用することができる。
《蛍光発光材料》
蛍光発光材料としては、一般には、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピラリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物(アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、またはペンタセンなど)、8−キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン、およびこれらの誘導体などを挙げることができる。
《蛍光発光材料》
蛍光発光材料としては、一般には、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ピラン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピラリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、縮合多環芳香族化合物(アントラセン、フェナントロリン、ピレン、ペリレン、ルブレン、またはペンタセンなど)、8−キノリノールの金属錯体、ピロメテン錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン、およびこれらの誘導体などを挙げることができる。
《燐光発光材料》
燐光発光材料としては、一般に、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。
例えば、該遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金であり、更に好ましくはイリジウム、白金である。
ランタノイド原子としては、例えばランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、およびルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
燐光発光材料としては、一般に、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体を挙げることができる。
例えば、該遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金であり、更に好ましくはイリジウム、白金である。
ランタノイド原子としては、例えばランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、およびルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著,Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press社1987年発行、H.Yersin著,「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 Springer−Verlag社1987年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社1982年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
具体的な配位子としては、好ましくは、ハロゲン配位子(好ましくは塩素配位子)、含窒素ヘテロ環配位子(例えば、フェニルピリジン、ベンゾキノリン、キノリノール、ビピリジル、フェナントロリンなど)、ジケトン配位子(例えば、アセチルアセトンなど)、カルボン酸配位子(例えば、酢酸配位子など)、一酸化炭素配位子、イソニトリル配位子、シアノ配位子であり、より好ましくは、含窒素ヘテロ環配位子である。上記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、2つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。
具体的な配位子としては、好ましくは、ハロゲン配位子(好ましくは塩素配位子)、含窒素ヘテロ環配位子(例えば、フェニルピリジン、ベンゾキノリン、キノリノール、ビピリジル、フェナントロリンなど)、ジケトン配位子(例えば、アセチルアセトンなど)、カルボン酸配位子(例えば、酢酸配位子など)、一酸化炭素配位子、イソニトリル配位子、シアノ配位子であり、より好ましくは、含窒素ヘテロ環配位子である。上記錯体は、化合物中に遷移金属原子を一つ有してもよいし、また、2つ以上有するいわゆる複核錯体であってもよい。異種の金属原子を同時に含有していてもよい。
燐光発光材料の好ましい具体例としては、例えば下記のものが挙げられる。下記化合物と前記一般式(I)で表される化合物を発光材料として併用することが特に好ましい。
発光材料は、一般的に発光層を形成する全化合物質量に対して、0.1質量%〜50質量%含有されるが、耐久性、外部量子効率の観点から1質量%〜50質量%含有されることが好ましく、2質量%〜40質量%含有されることがより好ましい。
発光層の厚さは、特に限定されるものではないが、通常、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。
−正孔注入層、正孔輸送層−
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン、フェニルアゾールやフェニルアジンを配位子に有するIr錯体に代表される各種金属錯体等を含有する層であることが好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々500nm以下であることが好ましい。
正孔輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、正孔注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.5nm〜100nmであるのがより好ましく、1nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン、フェニルアゾールやフェニルアジンを配位子に有するIr錯体に代表される各種金属錯体等を含有する層であることが好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々500nm以下であることが好ましい。
正孔輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、正孔注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.5nm〜100nmであるのがより好ましく、1nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
−電子注入層、電子輸送層−
電子注入層、電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
電子注入層、電子輸送層の厚さは、駆動電圧を下げるという観点から、各々500nm以下であることが好ましい。
電子輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、電子注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.2nm〜100nmであるのがより好ましく、0.5nm〜50nmであるのが更に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
電子輸送層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。また、電子注入層の厚さとしては、0.1nm〜200nmであるのが好ましく、0.2nm〜100nmであるのがより好ましく、0.5nm〜50nmであるのが更に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
−正孔ブロック層−
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機層として、正孔ブロック層を設けることができる。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、アルミニウム(III)ビス(2-メチル-8-キノリナト)4-フェニルフェノラート(Aluminum (III) bis (2-methyl-8-quinolinato) 4-phenylphenolate(BAlqと略記する))等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline(BCPと略記する))等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
正孔ブロック層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機層として、正孔ブロック層を設けることができる。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、アルミニウム(III)ビス(2-メチル-8-キノリナト)4-フェニルフェノラート(Aluminum (III) bis (2-methyl-8-quinolinato) 4-phenylphenolate(BAlqと略記する))等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline(BCPと略記する))等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
正孔ブロック層の厚さとしては、1nm〜500nmであるのが好ましく、5nm〜200nmであるのがより好ましく、10nm〜100nmであるのが更に好ましい。
正孔ブロック層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
<陽極>
陽極は、通常、有機層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。前述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。
陽極は、通常、有機層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。前述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。
陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、又はこれらの混合物が好適に挙げられる。陽極材料の具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫(ATO、FTO)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとITOとの積層物などが挙げられる。この中で好ましいのは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からはITOが好ましい。
陽極は、例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、陽極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って、前記基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料として、ITOを選択する場合には、陽極の形成は、直流又は高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って行うことができる。
陽極の形成位置としては特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて適宜選択することができる。が、前記基板上に形成されるのが好ましい。この場合、陽極は、基板における一方の表面の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。
陽極を形成する際のパターニングとしては、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。
陽極の厚みとしては、陽極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常、10nm〜50μm程度であり、50nm〜20μmが好ましい。
陽極の抵抗値としては、103Ω/□以下が好ましく、102Ω/□以下がより好ましい。陽極が透明である場合は、無色透明であっても、有色透明であってもよい。透明陽極側から発光を取り出すためには、その透過率としては、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましい。
透明陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊(1999)に詳述があり、ここに記載される事項を本発明に適用することができる。耐熱性の低いプラスティック基材を用いる場合は、ITO又はIZOを使用し、150℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。
<陰極>
陰極は、通常、有機層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
陰極は、通常、有機層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられる。具体例としてはアルカリ金属(たとえば、Li、Na、K、Cs等)、アルカリ土類金属(たとえばMg、Ca等)、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、2種以上を好適に併用することができる。
これらの中でも、陰極を構成する材料としては、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01〜10質量%のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物(例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など)をいう。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01〜10質量%のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物(例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など)をいう。
陰極の材料については、特開平2−15595号公報、特開平5−121172号公報に詳述されており、これらの公報に記載の材料は、本発明においても適用することができる。
陰極の形成方法については、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式などの中から、前記した陰極を構成する材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って形成することができる。例えば、陰極の材料として、金属等を選択する場合には、その1種又は2種以上を同時又は順次にスパッタ法等に従って行うことができる。
陰極を形成するに際してのパターニングは、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。
陰極形成位置は特に制限はなく、有機層上の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。
また、陰極と前記有機層との間に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を0.1〜5nmの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成することができる。
また、陰極と前記有機層との間に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を0.1〜5nmの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成することができる。
陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常10nm〜5μm程度であり、50nm〜1μmが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を1〜10nmの厚さに薄く成膜し、更にITOやIZO等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を1〜10nmの厚さに薄く成膜し、更にITOやIZO等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
<保護層>
有機EL素子全体は、保護層によって保護されていてもよい。
保護層に含まれる材料としては、水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。
その具体例としては、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO2、Al2O3、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe2O3、Y2O3、TiO2等の金属酸化物、SiNx、SiNxOy等の金属窒化物、MgF2、LiF、AlF3、CaF2等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。
有機EL素子全体は、保護層によって保護されていてもよい。
保護層に含まれる材料としては、水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。
その具体例としては、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO2、Al2O3、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe2O3、Y2O3、TiO2等の金属酸化物、SiNx、SiNxOy等の金属窒化物、MgF2、LiF、AlF3、CaF2等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。
保護層の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、MBE(分子線エピタキシ)法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティング法)、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、ガスソースCVD法、コーティング法、印刷法、転写法を適用できる。
<基板>
前記電極及び有機層は基板上に作製することができる。
基板としては、有機層から発せられる光を散乱又は減衰させない基板であることが好ましい。その具体例としては、ジルコニア安定化イットリウム(YSZ)、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の有機材料が挙げられる。
例えば、基板としてガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合には、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
前記電極及び有機層は基板上に作製することができる。
基板としては、有機層から発せられる光を散乱又は減衰させない基板であることが好ましい。その具体例としては、ジルコニア安定化イットリウム(YSZ)、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の有機材料が挙げられる。
例えば、基板としてガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合には、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、2以上の部材で形成されていてもよい。
基板は、無色透明であっても、有色透明であってもよいが、発光層から発せられる光を散乱又は減衰等させることがない点で、無色透明であることが好ましい。
基板には、その表面又は裏面に透湿防止層(ガスバリア層)を設けることができる。
透湿防止層(ガスバリア層)の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。透湿防止層(ガスバリア層)は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
熱可塑性基板を用いる場合には、更に必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。
透湿防止層(ガスバリア層)の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。透湿防止層(ガスバリア層)は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
熱可塑性基板を用いる場合には、更に必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。
<封止容器>
本発明の有機EL素子は、封止容器を用いて素子全体を封止してもよい。
また、封止容器と有機EL素子の間の空間に水分吸収剤又は不活性液体を封入してもよい。水分吸収剤としては、特に限定されることはないが、例えば、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化燐、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、ゼオライト、酸化マグネシウム等を挙げることができる。不活性液体としては、特に限定されることはないが、例えば、パラフィン類、流動パラフィン類、パーフルオロアルカンやパーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等のフッ素系溶剤、塩素系溶剤、シリコーンオイル類が挙げられる。
本発明の有機EL素子は、封止容器を用いて素子全体を封止してもよい。
また、封止容器と有機EL素子の間の空間に水分吸収剤又は不活性液体を封入してもよい。水分吸収剤としては、特に限定されることはないが、例えば、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化燐、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、ゼオライト、酸化マグネシウム等を挙げることができる。不活性液体としては、特に限定されることはないが、例えば、パラフィン類、流動パラフィン類、パーフルオロアルカンやパーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等のフッ素系溶剤、塩素系溶剤、シリコーンオイル類が挙げられる。
<駆動方法>
本発明の有機EL素子は、陽極と陰極との間に直流(必要に応じて交流成分を含んでもよい)電圧(通常2ボルト〜15ボルト)、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
本発明の有機EL素子の駆動方法については、特開平2−148687号、同6−301355号、同5−29080号、同7−134558号、同8−234685号、同8−241047号の各公報、特許第2784615号、米国特許5828429号、同6023308号の各明細書、等に記載の駆動方法を適用することができる。
本発明の有機EL素子は、陽極と陰極との間に直流(必要に応じて交流成分を含んでもよい)電圧(通常2ボルト〜15ボルト)、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
本発明の有機EL素子の駆動方法については、特開平2−148687号、同6−301355号、同5−29080号、同7−134558号、同8−234685号、同8−241047号の各公報、特許第2784615号、米国特許5828429号、同6023308号の各明細書、等に記載の駆動方法を適用することができる。
<用途>
本発明の有機EL素子は、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信等に好適に利用できる。
本発明の有機EL素子は、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア、光通信等に好適に利用できる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例1−1〜1−20、比較例1−1〜1−20]
<実施例1−1〜1−20:有機EL素子A-1〜20の作製>
大きさが2.5cm角、厚みが0.5mmのITO膜を有するガラス基板(ジオマテック社製、表面抵抗10Ω/□)を洗浄容器に入れ、2−プロパノール中で超音波洗浄した後、30分間UV−オゾン処理を行った。この透明陽極(ITO膜)上に真空蒸着法にて以下の有機層を、下記の表に従って、順次蒸着した。
なお、本実施例における蒸着速度は、特に断りのない場合は0.1〜2nm/秒である。蒸着速度は水晶振動子を用いて測定した。以下に記載の膜厚も水晶振動子を用いて測定したものである。
<実施例1−1〜1−20:有機EL素子A-1〜20の作製>
大きさが2.5cm角、厚みが0.5mmのITO膜を有するガラス基板(ジオマテック社製、表面抵抗10Ω/□)を洗浄容器に入れ、2−プロパノール中で超音波洗浄した後、30分間UV−オゾン処理を行った。この透明陽極(ITO膜)上に真空蒸着法にて以下の有機層を、下記の表に従って、順次蒸着した。
なお、本実施例における蒸着速度は、特に断りのない場合は0.1〜2nm/秒である。蒸着速度は水晶振動子を用いて測定した。以下に記載の膜厚も水晶振動子を用いて測定したものである。
正孔注入層:正孔注入材料(HI) 膜厚10nm
正孔輸送層:正孔輸送材料(HT) 膜厚40nm
発光層:ホスト材料(H)92質量%、発光材料(EM)8質量%の混合層
膜厚30nm
正孔ブロック層:正孔ブロック材料(HB) 膜厚5nm
電子輸送層:電子輸送材料(ET) 膜厚10nm
電子注入層:電子注入材料(EI) 膜厚1nm
正孔輸送層:正孔輸送材料(HT) 膜厚40nm
発光層:ホスト材料(H)92質量%、発光材料(EM)8質量%の混合層
膜厚30nm
正孔ブロック層:正孔ブロック材料(HB) 膜厚5nm
電子輸送層:電子輸送材料(ET) 膜厚10nm
電子注入層:電子注入材料(EI) 膜厚1nm
最後にフッ化リチウム0.1nmおよび金属アルミニウムをこの順に100nm蒸着し陰極を形成した。これを大気に触れさせること無く、アルゴンガスで置換したグローブボックス内に入れ、ステンレス製の封止缶及び紫外線硬化型の接着剤(XNR5516HV、長瀬チバ(株)製)を用いて封止し、有機EL素子A-1〜20を得た。
正孔注入材料(HI)HI-1〜4の構造を以下に示す。
正孔輸送材料(HT)HT-1〜7の構造を以下に示す。
ホスト材料(H)H-1〜13の構造を以下に示す。
発光材料(EM)の構造を以下に示す。
正孔ブロック材料(HB)HB-1〜2の構造を以下に示す。
電子輸送材料(ET)ET-1〜2の構造を以下に示す。
電子注入材料(EI)EI-1の構造を以下に示す。
<比較例1−1〜1−20:有機EL素子A-1’〜20’の作製>
有機EL素子A-1〜20において、発光材料(EM)を以下に示す化合物0−1に変更する以外は、有機EL素子A-1〜20と同様の方法で有機EL素子A-1’〜20’を作製した。
有機EL素子A-1〜20において、発光材料(EM)を以下に示す化合物0−1に変更する以外は、有機EL素子A-1〜20と同様の方法で有機EL素子A-1’〜20’を作製した。
<有機EL素子の評価>
上記で得られた有機EL素子を以下の項目について評価した。
(1)EL外部量子収率
東陽テクニカ製ソースメジャーユニット2400型を用いて、直流定電圧を有機EL素子に印加して発光させた。100cd/m2時の正面輝度からEL外部量子収率を算出した。
上記で得られた有機EL素子を以下の項目について評価した。
(1)EL外部量子収率
東陽テクニカ製ソースメジャーユニット2400型を用いて、直流定電圧を有機EL素子に印加して発光させた。100cd/m2時の正面輝度からEL外部量子収率を算出した。
(2)駆動耐久性
有機EL素子を、東京システム開発(株)製のOLEDテストシステムST−D型にセットし、定電流モードにて正方向定電流0.4mAの条件で駆動し、輝度半減時間(輝度が初期輝度の50%に低下するまでの時間)を求めた。
有機EL素子を、東京システム開発(株)製のOLEDテストシステムST−D型にセットし、定電流モードにて正方向定電流0.4mAの条件で駆動し、輝度半減時間(輝度が初期輝度の50%に低下するまでの時間)を求めた。
以上の結果を、以下の表にまとめる。以下の表は、比較例の有機EL素子A-1’〜20’を100とした相対値で、有機EL素子A-1〜20の結果を示したものである。
以上の結果から、前記一般式(I)で表される化合物は、有機EL素子における効率、および、輝度半減時間の改善に効果を有することが示され、また、重水素原子を含む材料と用いたときに、特に顕著な改善の効果を有すことが示された。
[実施例2−1〜2−4、比較例2−1、2]
<有機EL素子B−0〜5の作製と評価>
以下の表に従って、各層に用いる材料を選択した以外は、有機EL素子A−1と同じ方法で、有機EL素子B−0〜5を作製・評価した。以下の表において、各素子の外部量子収率は、有機EL素子B−0の外部量子収率を100とした相対値で示している。
<有機EL素子B−0〜5の作製と評価>
以下の表に従って、各層に用いる材料を選択した以外は、有機EL素子A−1と同じ方法で、有機EL素子B−0〜5を作製・評価した。以下の表において、各素子の外部量子収率は、有機EL素子B−0の外部量子収率を100とした相対値で示している。
EM−1の構造を以下に示す。
以上の結果から、前記一般式(I)で表される化合物は、正孔ブロック層に用いることによって、外部量子収率の向上に顕著な効果を有すことが示された。
[実施例3−1、2、比較例3−1、2]
<有機EL素子C−0〜3の作製と評価>
以下の表に従って、発光層にホスト材料と発光材料以外に添加する材料と、各層に用いる材料を選択した以外は、有機EL素子A−1と同じ方法で、有機EL素子C−0〜3を作製・評価した。以下の表において、各素子の外部量子収率は、有機EL素子C−0の外部量子収率を100とした相対値で示している。
<有機EL素子C−0〜3の作製と評価>
以下の表に従って、発光層にホスト材料と発光材料以外に添加する材料と、各層に用いる材料を選択した以外は、有機EL素子A−1と同じ方法で、有機EL素子C−0〜3を作製・評価した。以下の表において、各素子の外部量子収率は、有機EL素子C−0の外部量子収率を100とした相対値で示している。
EM−2の構造を以下に示す。
以上の結果から、前記一般式(I)で表される化合物をイリジウム錯体とともに発光層に添加することによって、外部量子収率の向上に顕著な効果を有すことが示された。
[実施例4−1〜3、比較例4−1、2]
<有機EL素子D−0〜4の作製と評価>
正孔輸送層と発光層の間に膜厚5nmの電子ブロック層を設けて、以下の表に従って、各層に用いる電子ブロック材料(EB)を選択した以外は、有機電界発光素子A−1と同じ方法で、有機電界発光素子D−0〜4を作製・評価した。以下の表において、各素子の外部量子収率は、有機EL素子D−0の外部量子収率を100とした相対値で示している。
<有機EL素子D−0〜4の作製と評価>
正孔輸送層と発光層の間に膜厚5nmの電子ブロック層を設けて、以下の表に従って、各層に用いる電子ブロック材料(EB)を選択した以外は、有機電界発光素子A−1と同じ方法で、有機電界発光素子D−0〜4を作製・評価した。以下の表において、各素子の外部量子収率は、有機EL素子D−0の外部量子収率を100とした相対値で示している。
EM−3の構造を以下に示す。
以上の結果から、前記一般式(I)で表される化合物を電子ブロック層に用いることにより外部量子収率の向上に顕著な効果を有すことが示された。
[実施例5−1〜3、比較例5−1〜3]
<有機EL素子E−0〜5の作製と評価>
以下の表に従って、各層に用いる材料を選択した以外は、有機電界発光素子A−1と同じ方法で、有機電界発光素子E−0〜5を作製・評価した。以下の表において、各素子の輝度半減時間は、有機EL素子E−0の輝度半減時間を100とした相対値で示している。
<有機EL素子E−0〜5の作製と評価>
以下の表に従って、各層に用いる材料を選択した以外は、有機電界発光素子A−1と同じ方法で、有機電界発光素子E−0〜5を作製・評価した。以下の表において、各素子の輝度半減時間は、有機EL素子E−0の輝度半減時間を100とした相対値で示している。
ET−1’の構造を以下に示す。
以上の結果から、前記一般式(I)で表される化合物は、重水素原子を含む材料と用いることによって、輝度半減時間の向上に特に顕著な効果を有すことが示された。
Claims (11)
- 一対の電極間に、少なくとも発光層を含む有機層を有する有機電界発光素子であって、下記一般式(I)で表される化合物を有機層に含有することを特徴とする有機電界発光素子。
(一般式(I)中、Mは二価の金属イオンを表す。Z11は窒素原子またはリン原子を表す。Z12、Z13は、炭素原子、窒素原子、リン原子から選ばれる原子を表し、Z12が炭素原子の場合、Z13は窒素原子またはリン原子を表し、Z12が窒素原子またはリン原子の場合、Z13は炭素原子を表す。MとZ11との結合は配位結合を表し、MとZ12〜Z13との結合は配位結合又は共有結合を表す。A10〜A19はそれぞれ独立にC−RまたはNを表す。Rは水素原子または置換基を表す。Y11〜Y13はZ11及び炭素原子と共に5員の芳香族ヘテロ環を形成するように選ばれる原子である。L1は二価の連結基を表す。) - Mが白金イオンであることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
- Z11及びZ13が窒素原子であり、Z12が炭素原子であることを特徴とする請求項1または2に記載の有機電界発光素子。
- L1が置換基を有していてもよい単原子からなる2価の連結基であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の有機電界発光素子。
- Y11〜Y13のうち2つが炭素原子であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の有機電界発光素子。
- 一般式(I)で表される化合物を発光層に含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の有機電界発光素子。
- 一般式(I)で表される化合物を発光層と陰極の間の有機層に含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の有機電界発光素子。
- 一般式(I)で表される化合物を発光層と陽極の間の有機層に含有することを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の有機電界発光素子。
- 重水素原子を少なくとも1つ有する材料を、前記有機層の少なくともいずれかの層に含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の有機電界発光素子。
- 前記重水素原子を少なくとも1つ有する材料が、重水素原子を少なくとも1つ有する、カルバゾール骨格またはインドール骨格のいずれかを含む材料であることを特徴とする請求項10に記載の有機電界発光素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2008117545A JP2009267244A (ja) | 2008-04-28 | 2008-04-28 | 有機電界発光素子 |
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