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JP2008201629A - Manufacturing method of electrooptical device, separating method of substrate, and substrate separating device - Google Patents

Manufacturing method of electrooptical device, separating method of substrate, and substrate separating device Download PDF

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JP2008201629A JP2007040419A JP2007040419A JP2008201629A JP 2008201629 A JP2008201629 A JP 2008201629A JP 2007040419 A JP2007040419 A JP 2007040419A JP 2007040419 A JP2007040419 A JP 2007040419A JP 2008201629 A JP2008201629 A JP 2008201629A
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Tsutomu Sasaki
務 佐々木
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Epson Imaging Devices Corp
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Epson Imaging Devices Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method and manufacturing device causing no fine crack when a substrate is separated. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the electrooptical device includes a scribing step of forming a scribe line 12s on an outer surface of the substrate 12 opposed to a separated substrate 11 along a separate line 11t of the separated substrate 11 and a separating step of separating the opposed substrate 12 by simultaneously applying pressure to both sides along the separate line 11t while avoiding just above the separate line 11t of the separated substrate 11. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は電気光学装置の製造方法、基板の分断方法、及び、基板分断装置に係り、特に、一対の基板を重ね合わせてなる基板構造体を分離する場合に好適な処理技術に関する。   The present invention relates to an electro-optical device manufacturing method, a substrate cutting method, and a substrate cutting device, and more particularly to a processing technique suitable for separating a substrate structure formed by stacking a pair of substrates.

一般に、ガラス、セラミックス等からなる基板を分断させる方法として、基板の表面に線状の傷(スクライブ線)を付け(スクライブ段階)、このスクライブ線が形成された面とは反対側の面側から当該スクライブ線に沿って応力を加えることで基板を分断させる(ブレイク段階)といった方法(スクライブ・ブレイク法)が知られている。このスクライブ・ブレイク法は、たとえば、液晶パネルの製造工程において、一対のガラス基板を貼り合わせてなる大判の基板構造体から個々の液晶パネルに対応する基板構造体を分断する構造体分断工程において用いられている。   Generally, as a method of dividing a substrate made of glass, ceramics, etc., a linear scratch (scribe line) is applied to the surface of the substrate (scribing stage), and from the surface side opposite to the surface on which the scribe line is formed. There is known a method (scribe / break method) in which a substrate is divided (break stage) by applying stress along the scribe line. This scribing / breaking method is used, for example, in a structure dividing process for dividing a substrate structure corresponding to each liquid crystal panel from a large-sized substrate structure formed by bonding a pair of glass substrates in a manufacturing process of a liquid crystal panel. It has been.

上記のスクライブ・ブレイク法を用いるための装置としては、液晶パネル用のガラス基板等を複数個所で同時に分断させることの可能な装置が知られている。このような装置は、たとえば以下の特許文献1に記載されているが、当該文献には、特に近接した複数箇所で同時にガラス基板を分断させるために用いる、複数の先端部(押圧先端縁)を一体に備えたブレードが開示されている。
特開平11−43338号公報
As an apparatus for using the scribe / break method, an apparatus capable of simultaneously cutting a glass substrate or the like for a liquid crystal panel at a plurality of locations is known. Such an apparatus is described in, for example, the following Patent Document 1, but in this document, a plurality of tip portions (pressing tip edges) used for simultaneously cutting the glass substrate at a plurality of adjacent locations are disclosed. An integral blade is disclosed.
JP-A-11-43338

ところで、前述の液晶パネル等の電気光学装置の製造時に行われる構造体分断工程では、スクライブ・ブレイク法でガラス基板を分断する場合、一方のガラス基板を分断させた後に、この一方のガラス基板の分断線に対応する位置で他方の基板をさらに分断させる必要がある。   By the way, in the structure dividing step performed at the time of manufacturing an electro-optical device such as the above-described liquid crystal panel, when dividing a glass substrate by a scribe / break method, after dividing one glass substrate, It is necessary to further divide the other substrate at a position corresponding to the dividing line.

たとえば、図5に示すように、基板構造体10を構成する一方のガラス基板11の表面に超鋼チップ等でスクライブ線11sを形成し、図6に示すように他方のガラス基板12の表面にブレード13を押し当てて加圧し、ガラス基板11をスクライブ線11sに沿って分断させ、分断線11tを形成する。その後、図7に示すように、他方のガラス基板12の表面に上記と同様のスクライブ線12sを形成し、図8に示すように、ガラス基板11の表面からブレード13で加圧することにより、ガラス基板12をスクライブ線12sより分断させ、分断線12tを形成する。   For example, as shown in FIG. 5, a scribe line 11s is formed with a super steel chip or the like on the surface of one glass substrate 11 constituting the substrate structure 10, and on the surface of the other glass substrate 12 as shown in FIG. The blade 13 is pressed and pressurized, and the glass substrate 11 is cut along the scribe line 11s to form a cut line 11t. Then, as shown in FIG. 7, the same scribe line 12s as above is formed on the surface of the other glass substrate 12, and the glass substrate 11 is pressed with a blade 13 from the surface of the glass substrate 11 as shown in FIG. The substrate 12 is divided from the scribe line 12s to form a dividing line 12t.

しかしながら、上記の構造体分断工程では、図8に示すブレイク段階で、ブレード13の押圧先端縁13aがガラス基板11の既に分断された分断線11t上に当接するため、分断線11tの両側にある分断面のエッジ部(角部)に微細なクラックが入るという問題点があった。この微細なクラックは、上記構造体分断工程の後において基板構造体を構成する基板の表面に傷をもたらす原因となり、また、基板構造体を構成する基板の強度低下(衝撃による割れ)を招く原因にもなる。   However, in the structure dividing step, the pressing tip edge 13a of the blade 13 abuts on the already divided dividing line 11t of the glass substrate 11 at the break stage shown in FIG. There has been a problem that fine cracks are formed at the edge (corner) of the sectional surface. This fine crack causes damage to the surface of the substrate constituting the substrate structure after the structure dividing step, and also causes reduction in strength (crack due to impact) of the substrate constituting the substrate structure. It also becomes.

特に、近年の液晶パネルその他の電気光学装置では、画面の高精細化の進展に伴ってガラス基板の表面の傷が表示品位上の致命傷になりやすくなってきている。また、装置の薄型化の進展に伴ってガラス基板が大幅に薄くなってきているため、強度低下が耐衝撃性の確保に大きな影響を与える。したがって、いずれにしても微細なクラックは製品の歩留まりを大幅に低下させる原因となる。   In particular, in recent liquid crystal panels and other electro-optical devices, the scratches on the surface of the glass substrate are likely to be fatal in terms of display quality with the progress of high definition screens. In addition, since the glass substrate has become significantly thinner as the apparatus becomes thinner, the strength reduction greatly affects the securing of impact resistance. Therefore, in any case, fine cracks cause a significant decrease in product yield.

そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、基板を分断させる際に微細なクラックを生じないようにした製造方法及び製造装置を提供することにある。   Therefore, the present invention solves the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus in which minute cracks are not generated when a substrate is divided.

斯かる実情に鑑み、本発明の電気光学装置の製造方法は、分断された基板に対向する基板の外表面に前記分断された基板の分断線に沿ってスクライブ線を入れるスクライブ工程と、前記分断された基板の分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、前記対向する基板を分断する分断工程を含むことを特徴とする。   In view of such circumstances, the method of manufacturing the electro-optical device according to the present invention includes a scribing step of inserting a scribe line along the dividing line of the divided substrate on the outer surface of the substrate facing the divided substrate, and the dividing The method further includes a cutting step of cutting the opposing substrates by simultaneously applying stress to both sides along the cutting line while avoiding the cutting line of the formed substrate.

この発明によれば、分断された基板の分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、分断線上に応力を加えずに対向する基板を分断させることができるため、分断線のエッジ部に微細なクラックが生ずることを防止できる。したがって、分断された基板において微細なクラックに起因する表面の傷の発生及び基板強度の低下を回避することができる。   According to this invention, while avoiding the dividing line of the divided substrate, by simultaneously applying stress to both sides along the dividing line, the opposing substrate can be divided without applying stress on the dividing line. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of fine cracks at the edge of the dividing line. Therefore, it is possible to avoid generation of surface scratches and reduction in substrate strength due to fine cracks in the divided substrate.

本発明において、前記分断工程では、前記分断線を跨いてその両側を同時に押圧可能に構成された、隣接して並行する少なくとも2つの押圧先端縁を備えてなるブレードを用いることが好ましい。これによれば、隣接して並行する2つの押圧先端縁を備えてなるブレードを用いることにより、分断線上を回避しつつ当該分断線の両側に当接させて同時に応力を加えるといった作用を、予め設定されたブレードの2つの押圧先端縁の形状によって容易かつ適切に実現することができる。特に、少なくとも2つの押圧先端縁を一体に設けることで、分断線の両側に同時に応力を加えるために別々の2つのブレードを用いる場合に比べて、押圧先端縁間の相対的位置決め作業などが不要になるとともに、ブレード形状の自由度が大きくなることからブレード形状の最適化が容易になるなど、取り扱いの煩雑さを回避できるとともに、応力印加態様を向上させることが可能になる。   In this invention, it is preferable to use the braid | blade provided with the at least 2 press front-end edge which adjoins and was comprised so that the both sides could be simultaneously pressed across the said parting line in the said parting process. According to this, by using a blade provided with two adjacent pressing tip edges that are parallel to each other, an action of applying stress simultaneously by contacting both sides of the dividing line while avoiding the dividing line is performed in advance. It can be realized easily and appropriately by the shape of the two pressing tip edges of the set blade. In particular, by providing at least two pressing tip edges integrally, relative positioning work between pressing tip edges is unnecessary compared to using two separate blades to apply stress to both sides of the dividing line simultaneously. In addition, since the degree of freedom of the blade shape is increased, the complexity of handling such as the optimization of the blade shape can be avoided, and the stress application mode can be improved.

次に、本発明の基板の分断方法は、分断された基板の対向する基板の外表面に前記分断された基板の分断線に沿ってスクライブ線を入れ、前記スクライブ線に沿って前記対向する基板に応力を線状に加えることで前記対向する基板を分断させる基板の分断方法において、前記分断された基板の分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、前記対向する基板を分断することを特徴とする。   Next, in the method for dividing a substrate according to the present invention, a scribe line is placed along the dividing line of the divided substrate on the outer surface of the substrate opposed to the divided substrate, and the opposing substrate along the scribe line. In the method for dividing the substrate, in which the opposing substrate is divided by applying a stress to the substrate, the stress is simultaneously applied to both sides along the dividing line while avoiding the dividing line of the divided substrate. The opposing substrate is divided.

この発明によれば、分断された基板の分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、当該分断線上に応力を加えずに対向する基板を分断させることができるため、分断された基板の分断線のエッジ部に微細なクラックが生ずることを防止できる。したがって、分断された基板において微細なクラックに起因する表面の傷の発生及び基板強度の低下を回避することができる。   According to this invention, while avoiding the dividing line of the divided substrate, by simultaneously applying stress to both sides along the dividing line, the opposing substrate is divided without applying stress on the dividing line. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of fine cracks at the edge portion of the dividing line of the divided substrate. Therefore, it is possible to avoid generation of surface scratches and reduction in substrate strength due to fine cracks in the divided substrate.

次に、本発明の基板分断装置は、一対の基板が重ね合わされてなる基板構造体に応力を線状に加えることで前記基板を分断させるための基板分断装置において、前記基板構造体の一方の前記基板に予め形成された分断線を跨いで前記分断線の両側を同時に押圧可能に構成されたブレードと、前記分断線上に前記ブレードを位置決めする位置制御機構と、前記ブレードを前記一方の基板に押し付けることにより、前記分断線上を回避しつつ、当該分断線に沿ったその両側を同時に加圧する加圧機構と、を具備することを特徴とする。   Next, a substrate cutting apparatus according to the present invention is a substrate cutting apparatus for cutting a substrate by applying a stress to a substrate structure in which a pair of substrates are overlapped, in one of the substrate structures. A blade configured to be able to simultaneously press both sides of the dividing line across the dividing line previously formed on the substrate, a position control mechanism for positioning the blade on the dividing line, and the blade on the one substrate A pressurizing mechanism that presses both sides along the parting line simultaneously while avoiding the parting line by pressing.

この発明によれば、一方の基板の分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、一方の基板の分断線上に応力を加えずに他方の基板を分断させることができるため、一方の基板の分断線のエッジ部に微細なクラックが生ずることを防止できる。したがって、分断後の基板において微細なクラックに起因する表面の傷の発生及び基板強度の低下を回避することができる。   According to the present invention, while avoiding the cutting line of one substrate and simultaneously applying stress to both sides along the cutting line, the other substrate is cut without applying stress to the cutting line of one substrate. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of fine cracks at the edge portion of the dividing line of one substrate. Therefore, it is possible to avoid the occurrence of surface scratches and a decrease in substrate strength due to fine cracks in the divided substrate.

本発明において、前記ブレードは、前記分断線を跨いでその両側を同時に押圧可能に構成された、隣接して並行する2つの押圧先端縁を備えてなることが好ましい。これによれば、隣接して並行する2つの押圧先端縁を備えてなるブレードを用いることにより、分断線上を回避しつつ当該分断線の両側に当接させて同時に応力を加えるといった作用を、予め設定されたブレードの2つの押圧先端縁の形状によって容易かつ適切に実現することができる。   In the present invention, it is preferable that the blade includes two adjacent pressing tip edges that are adjacent to each other and are configured to be capable of simultaneously pressing both sides of the blade across the dividing line. According to this, by using a blade provided with two adjacent pressing tip edges that are parallel to each other, an action of applying stress simultaneously by contacting both sides of the dividing line while avoiding the dividing line is performed in advance. It can be realized easily and appropriately by the shape of the two pressing tip edges of the set blade.

また、本発明において、前記ブレードは、それぞれ前記基板に対して応力を線状に加えるための隣接して並行する少なくとも2つの押圧先端縁を備え、該押圧先端縁の間隔が0.5mm〜4.0mmの範囲内とされていることを特徴とする。これによれば、上記少なくとも2つの押圧先端縁を備えたブレードにより、一対の基板が重ね合わされてなる基板構造体の一方の基板に予め形成された分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、他方の基板を分断させることができるとともに、一方の基板の分断線のエッジ部に微細なクラックが生ずることを防止できる。   Further, in the present invention, each of the blades includes at least two pressing tip edges that are adjacent and parallel to each other to apply a stress to the substrate linearly, and the spacing between the pressing tip edges is 0.5 mm to 4 mm. It is characterized by being within a range of 0.0 mm. According to this, along the dividing line while avoiding the dividing line formed in advance on one substrate of the substrate structure in which the pair of substrates are overlapped by the blade having the at least two pressing tip edges. By applying stress to both sides simultaneously, the other substrate can be divided, and it is possible to prevent the occurrence of fine cracks at the edge of the dividing line of one substrate.

特に、押圧先端縁の間隔が0.5〜4.0mmの範囲内に設定されていることにより、分断線を確実に回避しつつ、分断線に近い領域に応力を加えることができるため、他方の基板を容易かつ適切に分断することができる。上記範囲を下回ると、分断線の蛇行具合によっては分断線のエッジ部に応力が与えられ、微細なクラックが生ずる虞が増大する。また、上記範囲を上回ると、応力の印加位置が分断線より離れるため、他方の基板の所望位置に集中的に応力を加えることができなくなり、分断の失敗、分断位置のずれ、分断線の蛇行、或いは、分断面の不正などといった分断不良を招く虞が増大する。上記間隔は特に2.0〜3.0mmの範囲内であることが特に望ましい。上記の間隔の範囲は、0.2〜1.2mm厚のガラス基板を分断させる場合にきわめて有効である。特に、後述するように、0.2〜0.6mm厚といった極めて薄いガラス基板を分断させる場合に非常に有効である。   In particular, since the distance between the pressing tip edges is set within a range of 0.5 to 4.0 mm, stress can be applied to a region close to the breaking line while reliably avoiding the breaking line. The substrate can be easily and appropriately divided. If it is below the above range, depending on the meandering condition of the dividing line, stress is applied to the edge part of the dividing line, and the possibility of generating fine cracks increases. In addition, if the above range is exceeded, the stress application position is separated from the dividing line, so that stress cannot be applied intensively to the desired position on the other substrate, and the failure of the dividing, the deviation of the dividing position, the meandering of the dividing line Alternatively, there is an increased risk of inferior separation such as fraud of the section. The distance is particularly preferably in the range of 2.0 to 3.0 mm. The above range of the distance is extremely effective when a glass substrate having a thickness of 0.2 to 1.2 mm is divided. In particular, as will be described later, it is very effective when a very thin glass substrate having a thickness of 0.2 to 0.6 mm is divided.

[基板の分断方法]
次に、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図1及び図2は本発明に係る実施形態の基板の分断方法の分断前後の状態を模式的に示す概略説明図である。本実施形態はブレードを用いた分断方法であり、特に、2枚の基板であるガラス基板11と12を重ね合わせてなる基板構造体10に対して、ブレード23により一方のガラス基板11を加圧して、他方のガラス基板12を分断する方法である。
[Division method of substrate]
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 and 2 are schematic explanatory views schematically showing states before and after the division of the substrate dividing method according to the embodiment of the present invention. This embodiment is a cutting method using a blade, and in particular, one glass substrate 11 is pressed by a blade 23 against a substrate structure 10 formed by superposing two glass substrates 11 and 12 as two substrates. Thus, the other glass substrate 12 is divided.

ブレード23は図示の断面より図の紙面と直交する方向に延在した形状を有し、その先端には2つの隣接して並行する押圧先端縁23a、23bが一体に形成されている。押圧先端縁23aと23bにおいては、それぞれ頂角θが60〜120度の範囲内で、好ましくは80〜100度の範囲内に設定される。また、頂点間の間隔Gが0.5〜4.0mmの範囲内で、好ましくは2.0〜3.0mmの範囲内となるように設定される。   The blade 23 has a shape extending in a direction perpendicular to the drawing sheet from the cross section shown in the figure, and two adjacent and parallel pressing tip edges 23a and 23b are integrally formed at the tip. At the pressing tip edges 23a and 23b, the apex angle θ is set in the range of 60 to 120 degrees, preferably in the range of 80 to 100 degrees. Further, the distance G between the vertices is set in the range of 0.5 to 4.0 mm, preferably in the range of 2.0 to 3.0 mm.

ブレード23は、ベークライト、ナイロン樹脂、テトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂などの樹脂素材で形成することができるが、特に上記樹脂素材に限定されるものではない。ブレード23は、後述するブレイク段階において必要な応力を加える際に、上記間隔Gが0.5mm未満にならない程度の変形に留まるだけの剛性を備えていることが好ましく、特に、上記間隔Gが実質的に維持されるだけの剛性を備えていることが望ましい。実際には、上述のような硬質樹脂で構成されることで、上記の条件を満たすことができる。   The blade 23 can be formed of a resin material such as bakelite, nylon resin, or fluororesin such as tetrafluoroethylene, but is not particularly limited to the resin material. It is preferable that the blade 23 has a rigidity sufficient to keep the deformation so that the gap G does not become less than 0.5 mm when applying necessary stress in the break stage described later. It is desirable to have sufficient rigidity to be maintained. Actually, the above-mentioned conditions can be satisfied by being made of the hard resin as described above.

本実施形態では、一対のガラス基板11と12が重ね合わされて基板構造体10を構成している。この基板構造体10は、単にガラス基板11と12が積層されているだけでもよく、相互に接着剤等を介して接着されていてもよい。なお、後述する電気光学装置のパネルを構成する場合にはガラス基板11と12がシール材等を介して貼り合わされる。   In the present embodiment, a pair of glass substrates 11 and 12 are overlapped to constitute a substrate structure 10. The substrate structure 10 may simply be formed by laminating glass substrates 11 and 12, or may be bonded to each other via an adhesive or the like. In the case of constituting a panel of an electro-optical device to be described later, the glass substrates 11 and 12 are bonded together through a sealing material or the like.

図1に示す状況では、上記基板構造体10において、ガラス基板11が既に分断されて分断線11tが形成されている。実際には、図5及び図6に示す例と同様に、ガラス基板11の表面(図示上面)にスクライブ線11sが形成され、このスクライブ線11sに沿ってガラス基板12側から応力を加えることでガラス基板11が分断されたものである。また、ガラス基板12の表面(図示下面)には、上記分断線11tと対応する位置(具体的には分断線11tの直下位置)にスクライブ線12sが形成されている。   In the situation shown in FIG. 1, in the said substrate structure 10, the glass substrate 11 has already been parted and the parting line 11t is formed. Actually, as in the example shown in FIGS. 5 and 6, a scribe line 11s is formed on the surface (the upper surface in the drawing) of the glass substrate 11, and stress is applied along the scribe line 11s from the glass substrate 12 side. The glass substrate 11 is divided. A scribe line 12s is formed on the surface (lower surface in the drawing) of the glass substrate 12 at a position corresponding to the dividing line 11t (specifically, a position directly below the dividing line 11t).

上記のスクライブ線11s、12sは、公知のスクライブ器具、たとえば、超鋼材、ダイアモンド、その他の硬質材料からなるチップ、回転刃ホイール等、或いは、レーザスクライブ法を用いる場合には炭酸ガスレーザ等のレーザ装置によって形成される。   The scribe lines 11 s and 12 s are known scribe devices, for example, a chip made of super steel, diamond, or other hard material, a rotating blade wheel, or a laser device such as a carbon dioxide laser when a laser scribe method is used. Formed by.

上記のブレード23は、図2に示すように、ガラス基板11の分断線11t上を回避しつつ、上記の2つの押圧先端縁23a、23bがそれぞれ分断線11tの両側に当接するように位置決めされ、この位置決め状態で押圧先端部23a,23bがガラス基板11を同時に押圧する(ブレイク段階)。そして、この加圧状態によってガラス基板12がスクライブ線12sに沿って分断し、分断線12tが形成される。このとき、ブレード23はガラス基板11の分断線11t上には接触せず、分断線11tのエッジ部に応力を加えないため、分断線11tのエッジ部(表面側の角部)に微細なクラックが入ることを防止できる。   As shown in FIG. 2, the blade 23 is positioned so that the two pressing tip edges 23a and 23b are in contact with both sides of the dividing line 11t while avoiding the dividing line 11t of the glass substrate 11. In this positioning state, the pressing tip portions 23a and 23b simultaneously press the glass substrate 11 (break stage). And by this pressurization state, the glass substrate 12 is parted along the scribe line 12s, and the parting line 12t is formed. At this time, since the blade 23 does not contact the dividing line 11t of the glass substrate 11 and does not apply stress to the edge part of the dividing line 11t, a fine crack is formed at the edge part (corner on the surface side) of the dividing line 11t. Can be prevented.

上記の微細なクラックは、通常、スクライブ線11sからガラス基板11の厚み方向に伸びる垂直クラックではなく、分断線11tのエッジ部からガラス基板11の表面に沿って伸びる水平クラックである。水平クラックは、後工程においてエッジ部からパーティクルが発生することにより、ガラス基板の表面に微細な擦り傷を生じさせ、表示品位を悪化させる原因となる。また、水平クラックによってガラス基板の強度が低下するので、製品の耐衝撃性を劣化させる原因ともなる。特に、0.2〜0.6mmの厚みを有する極めて薄いガラス基板の場合には上記水平クラックによる耐衝撃性の低下が著しいので、本実施形態はきわめて有用である。   The fine crack is not a vertical crack extending from the scribe line 11s in the thickness direction of the glass substrate 11, but a horizontal crack extending from the edge portion of the dividing line 11t along the surface of the glass substrate 11. The horizontal crack causes particles to be generated from the edge portion in a later process, thereby causing fine scratches on the surface of the glass substrate and causing display quality to deteriorate. Further, since the strength of the glass substrate is lowered by the horizontal crack, it also causes the impact resistance of the product to deteriorate. In particular, in the case of an extremely thin glass substrate having a thickness of 0.2 to 0.6 mm, the impact resistance is significantly lowered due to the horizontal crack, and therefore this embodiment is extremely useful.

また、上記ブレイク段階において分断線11tのエッジ部に微細なクラックが入ることを防止できるという効果は、ブレード23がガラス基板11の分断線11tの両側に同時に応力を加えるときに、ブレード23の上記応力による僅かな変形が押圧先端縁23aと23bを僅かに離間させることにも起因するものと考えられる。すなわち、ブレード23は、上下方向に圧縮変形されると全体に外側に広がる方向に変形するが、この変形により押圧先端縁23aと23bが相互に離反する。したがって、ガラス基板11の分断線11tの両側にそれぞれ当接する押圧先端部23aと23bはブレード23の圧縮変形で分断線11tの両側の基板部分が相互に離間させる方向にも応力を与えるため、分断線11tのエッジ部同士が圧接されることで微細なクラックが生ずるといったことが防止されると思われる。   Further, the effect of preventing the formation of fine cracks at the edge portion of the dividing line 11t in the breaking stage is that the blade 23 applies the stress to both sides of the dividing line 11t of the glass substrate 11 simultaneously. It is considered that slight deformation due to stress is also caused by slightly separating the pressing tip edges 23a and 23b. That is, when the blade 23 is compressed and deformed in the vertical direction, the blade 23 is deformed in a direction that spreads outward as a whole, but the pressing tip edges 23a and 23b are separated from each other by this deformation. Accordingly, the pressing tip portions 23a and 23b that are in contact with both sides of the dividing line 11t of the glass substrate 11 also apply stress in the direction in which the substrate parts on both sides of the dividing line 11t are separated from each other due to compression deformation of the blade 23. It seems that the occurrence of fine cracks can be prevented by pressing the edges of the disconnection 11t.

本実施形態では、ブレード23の押圧先端縁23aと23bの間隔Gが0.5〜4.0mmの範囲内に設定されていることにより、0.2〜1.2mm程度(特に、0.2〜0.6mm程度)の厚みを有するガラス基板11に設けられた分断線11t上を確実に回避しつつ、当該分断線11tに沿ってその両側に同時に応力を加えることができる。しかも、分断線11tにきわめて近い両側位置から応力を加えることができるため、ガラス基板12の上記分断線11tに対応する位置に確実に応力を集中して印加することができるから、容易かつ確実にガラス基板12を分断することができる。   In the present embodiment, the distance G between the pressing tip edges 23a and 23b of the blade 23 is set within a range of 0.5 to 4.0 mm, so that it is about 0.2 to 1.2 mm (particularly 0.2 Stress can be simultaneously applied to both sides of the cutting line 11t while reliably avoiding the cutting line 11t provided on the glass substrate 11 having a thickness of about 0.6 mm. Moreover, since stress can be applied from both side positions very close to the dividing line 11t, the stress can be concentrated and applied to the position corresponding to the dividing line 11t of the glass substrate 12 easily and reliably. The glass substrate 12 can be divided.

なお、上記実施形態では、基板がガラス基板である場合について説明したが、ガラス基板以外でも、セラミックス基板などの他の基板であれば、分断条件等に程度の差こそあれ、上記と同様の方法で分断させることが可能である。   In addition, although the said embodiment demonstrated the case where a board | substrate is a glass substrate, if it is other board | substrates, such as a ceramics board | substrate other than a glass board | substrate, it will be the same method as the above, although there is a difference in a parting condition etc. It is possible to divide by.

[基板分断装置]
図3及び図4は基板分断装置20の要部を示す概略構成図であり、図3には当該要部の正面図を示し、図4には当該要部の側面図を示す。基板分断装置20は、上記基板構造体10を支持する支持台21と、この支持台21の支持面と対向して設置され、上記ブレード23を保持するブレードホルダ22と、このブレードホルダ22を上下方向に案内する案内軸24と、ブレードホルダ22を上下に駆動する駆動軸25と、この駆動軸25の駆動源であるシリンダ26と、上記案内軸24を案内するとともに駆動軸25を軸支するフレーム27とを備えている。
[Substrate cutting device]
3 and 4 are schematic configuration diagrams showing the main part of the substrate cutting apparatus 20. FIG. 3 shows a front view of the main part, and FIG. 4 shows a side view of the main part. The substrate cutting device 20 is installed on a support table 21 that supports the substrate structure 10, a blade holder 22 that holds the blade 23, and a blade holder 22 that is installed facing the support surface of the support table 21. A guide shaft 24 that guides in the direction, a drive shaft 25 that drives the blade holder 22 up and down, a cylinder 26 that is a drive source of the drive shaft 25, and guides the guide shaft 24 and supports the drive shaft 25. And a frame 27.

上記装置20において、シリンダ26によって駆動軸25が駆動されることで、ブレードホルダ22に保持されたブレード23が図示の位置より降下して基板構造体10に当接し、所定の応力を加えるようになっている。ここで、ブレードホルダ22、案内軸24、駆動軸25、シリンダ26及びフレーム27よりなる構造は、ブレード23を介して基板又は基板構造体に応力を加えるための加圧機構を構成する。ただし、たとえば、駆動源としてシリンダに代えて電動モータを、伝達機構として駆動軸に代えてクランク機構や送りネジ機構などを用いることができるなど、上記加圧機構は上記構成に限られるものではない。   In the apparatus 20, the drive shaft 25 is driven by the cylinder 26, so that the blade 23 held by the blade holder 22 descends from the illustrated position and comes into contact with the substrate structure 10 so as to apply a predetermined stress. It has become. Here, the structure including the blade holder 22, the guide shaft 24, the drive shaft 25, the cylinder 26, and the frame 27 constitutes a pressure mechanism for applying stress to the substrate or the substrate structure via the blade 23. However, the pressurizing mechanism is not limited to the above configuration, for example, an electric motor can be used as a drive source instead of a cylinder, and a crank mechanism or a feed screw mechanism can be used as a transmission mechanism instead of a drive shaft. .

フレーム27は図中に破線で模式的に示す位置決め機構28に接続される。この位置決め機構28は、基板構造体10の所定部位にブレード23を位置決めする。本実施形態の場合、位置決め機構28は、支持台21とブレードホルダ22とを相対的に図示水平方向に移動させ、ブレード23をガラス基板11の分断線11t上の位置に位置決めする。このような位置決めが完了すると、上記の駆動機構によってブレード23が降下し、図1及び図2に示す態様で、ガラス基板12の分断が行われる。   The frame 27 is connected to a positioning mechanism 28 schematically shown by a broken line in the drawing. The positioning mechanism 28 positions the blade 23 at a predetermined portion of the substrate structure 10. In the case of this embodiment, the positioning mechanism 28 relatively moves the support base 21 and the blade holder 22 in the illustrated horizontal direction, and positions the blade 23 at a position on the dividing line 11 t of the glass substrate 11. When such positioning is completed, the blade 23 is lowered by the drive mechanism described above, and the glass substrate 12 is divided in the manner shown in FIGS.

[構造体分断工程]
本実施形態において、上述のガラス基板12のブレイク段階を含む、基板構造体10を分断する構造体分断工程は、図5乃至図8に示すものと同等の手順で行うことができる。ここで、上記図1及び図2に示す段階は、図7及び図8に示す段階に相当する。
[Structure cutting process]
In the present embodiment, the structure dividing step for dividing the substrate structure 10 including the break stage of the glass substrate 12 described above can be performed in the same procedure as shown in FIGS. Here, the steps shown in FIGS. 1 and 2 correspond to the steps shown in FIGS.

ただし、図5乃至図8に示す構造体分断工程ではガラス基板11のスクライブ段階(図5)、ガラス基板11のブレイク段階(図6)、ガラス基板12のスクライブ段階(図7)、ガラス基板12のブレイク段階(図8)の順で各段階を実施しているが、たとえば、ガラス基板11のスクライブ段階、ガラス基板12のスクライブ段階、ガラス基板11のブレイク段階、ガラス基板12のブレイク段階の順で各段階を実施してもよく、さらには、ガラス基板11とガラス基板12のスクライブ段階を同時並行して行うことも可能である。   However, in the structure cutting step shown in FIGS. 5 to 8, the scribing stage of the glass substrate 11 (FIG. 5), the breaking stage of the glass substrate 11 (FIG. 6), the scribing stage of the glass substrate 12 (FIG. 7), and the glass substrate 12 The steps are performed in the order of the breaking step (FIG. 8). For example, the scribing step of the glass substrate 11, the scribing step of the glass substrate 12, the breaking step of the glass substrate 11, and the breaking step of the glass substrate 12 are performed. Each step may be carried out at the same time, and further, the scribing steps of the glass substrate 11 and the glass substrate 12 may be carried out simultaneously in parallel.

また、図5乃至図8では途中で基板構造体10の姿勢を上下反転させているが、途中で基板構造体10を上下反転させる代わりに、図1及び図2の段階に相当する図7及び図8に示す段階において図5及び図6に示す段階とは上下逆側からスクライブやブレイク動作を実施してもよい。たとえば、ガラス基板11に対するブレイク段階では図5及び図6に示す通常の単一の押圧先端縁を備えたブレード13を図示上側から適用するが、その後に行われるガラス基板12のブレイク段階では、基板構造体10の姿勢を変えず、その代わりに上記ブレード23をブレード13とは反対側(図示下側)から基板構造体10に適用する。   5 to 8, the posture of the substrate structure 10 is turned upside down in the middle, but instead of turning the substrate structure 10 upside down in the middle, FIGS. 7 and 7 corresponding to the steps of FIGS. In the step shown in FIG. 8, a scribe or break operation may be performed from the upside down side of the step shown in FIGS. For example, in the break stage for the glass substrate 11, the blade 13 having the usual single pressing tip edge shown in FIGS. 5 and 6 is applied from the upper side in the figure, but in the subsequent break stage of the glass substrate 12, the substrate Instead of changing the posture of the structure 10, the blade 23 is applied to the substrate structure 10 from the side opposite to the blade 13 (the lower side in the drawing).

[電気光学装置の製造方法]
次に、上記の基板の分断方法を適用することのできる具体例、上記の基板分断装置を用いることができる具体例、或いは、上記の構造体分断工程を適用することのできる具体例として、電気光学装置の製造方法について説明する。電気光学装置としては、以下に説明する液晶装置(液晶表示装置)だけでなく、有機ルミネッセンス表示装置、電気泳動表示装置、電界放出型表示装置などにも適用できる。いずれの場合にも本発明は任意の電気光学装置において用いるセル構造を上記基板構造体によって構成する場合に広く適用することができる。
[Method of manufacturing electro-optical device]
Next, as a specific example to which the above substrate cutting method can be applied, a specific example in which the above substrate cutting apparatus can be used, or a specific example in which the above structure cutting step can be applied, A method for manufacturing the optical device will be described. The electro-optical device can be applied not only to a liquid crystal device (liquid crystal display device) described below but also to an organic luminescence display device, an electrophoretic display device, a field emission display device, and the like. In any case, the present invention can be widely applied when a cell structure used in an arbitrary electro-optical device is constituted by the substrate structure.

以下に、上記電気光学装置の一例として液晶装置の製造方法について説明する。図9(a)〜(f)は、液晶装置の製造工程の概略を示す概略工程説明図である。図10は液晶装置の液晶パネル完成時の状態を模式的に示す概略断面図である。   Hereinafter, a method for manufacturing a liquid crystal device will be described as an example of the electro-optical device. 9A to 9F are schematic process explanatory views showing an outline of the manufacturing process of the liquid crystal device. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view schematically showing a state when the liquid crystal panel of the liquid crystal device is completed.

本実施形態では、図9(a)に示すガラス基板11に、縦横に配列された複数の液晶封入領域11Aを設定し、この液晶封入領域11A毎に図10に示す多数の電極若しくは配線111並びに入力配線113(図10参照)を形成する。個々の電極若しくは配線111並びに入力配線113はそれぞれストライプ状に延長形成され、液晶封入領域11A内において相互に並列するように形成される。電極若しくは配線111はアルミニウム等の金属やITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体をスパッタリング法等によってガラス基板11上に形成した後、フォトリソグラフィ法などを用い、不要部分のエッチング等のパターニングを行うことによって形成される。その後、上記の電極若しくは配線111の上にポリイミド樹脂等よりなる配向膜112が形成され、必要に応じてラビング処理が施される。   In the present embodiment, a plurality of liquid crystal encapsulating regions 11A arranged vertically and horizontally are set on the glass substrate 11 shown in FIG. 9A, and a large number of electrodes or wirings 111 shown in FIG. Input wiring 113 (see FIG. 10) is formed. The individual electrodes or wirings 111 and the input wirings 113 are each formed to extend in a stripe shape, and are formed in parallel with each other in the liquid crystal sealing region 11A. The electrode or wiring 111 is formed by forming a transparent conductor such as a metal such as aluminum or ITO (indium tin oxide) on the glass substrate 11 by a sputtering method or the like, and then patterning unnecessary portions such as etching using a photolithography method or the like. It is formed by doing. Thereafter, an alignment film 112 made of polyimide resin or the like is formed on the electrode or wiring 111, and a rubbing process is performed as necessary.

一方、図9(b)に示すガラス基板12についても、上記液晶封入領域11Aと対応した液晶封入領域12Aが複数設定され、この各領域12A内に、ITO(インジウムスズ酸化物)などからなる透明導電体で構成される多数の透明電極121(図10参照)が形成される。透明電極121はそれぞれストライプ状に形成され、相互に並列した状態で各領域にパターニングされる。また、透明電極121の上には上記と同様の配向膜122が形成され、ラビング処理が施される。   On the other hand, also for the glass substrate 12 shown in FIG. 9B, a plurality of liquid crystal sealing regions 12A corresponding to the liquid crystal sealing region 11A are set, and each region 12A is made of transparent material such as ITO (indium tin oxide). A large number of transparent electrodes 121 (see FIG. 10) made of a conductor are formed. The transparent electrodes 121 are each formed in a stripe shape and patterned in each region in a state of being parallel to each other. Further, an alignment film 122 similar to the above is formed on the transparent electrode 121 and subjected to a rubbing process.

上記のように形成されたガラス基板11上にはシール材130(図10参照)が配置され、このシール材130を介してガラス基板11とガラス基板12とが図9(c)に示すように貼り合わせられる。そして、その貼り合わせ状態が所定の基板間ギャップ(例えば5〜10μm程度)になるように加圧され、この状態で、加熱若しくは光照射等が施されてシール材130が硬化される。このようにして基板構造体である元パネル10Xが形成される。   A sealing material 130 (see FIG. 10) is disposed on the glass substrate 11 formed as described above, and the glass substrate 11 and the glass substrate 12 are disposed through the sealing material 130 as shown in FIG. 9C. Can be pasted together. Then, pressure is applied so that the bonding state becomes a predetermined inter-substrate gap (for example, about 5 to 10 μm), and in this state, heating or light irradiation is applied to cure the sealing material 130. In this way, the original panel 10X which is a substrate structure is formed.

次に、図9(d)に示すように、元パネル10Xを短冊状に切断(スクライブ・ブレイク)して、やはり基板構造体である短冊状パネル10Yとする。この短冊状パネル10Yにすることによって、シール材130の図示しない液晶注入口が露出するので、当該液晶注入口から液晶140(図10参照)を注入する。液晶140の注入は、公知のように減圧下にて液晶注入口を液晶中に浸漬するか、或いは、液晶注入口に液晶を滴下することにより、液晶注入口を液晶によって閉鎖し、この状態で周囲圧力を大気圧に向けて上昇させることにより、内外圧力差によって液晶をパネル内に進入させることによって行う。そして、液晶注入が完了すると、上記の液晶注入口を封止して液晶をシール材130の内側に閉じ込める。なお、短冊状パネル10Yには、図9(e)に示すように、ガラス基板11がガラス基板12の外縁より外側へ張り出してなる基板張出領域11Bが形成されている。   Next, as shown in FIG. 9D, the original panel 10X is cut into a strip shape (scribe / break) to form a strip-shaped panel 10Y which is also a substrate structure. By using this strip-shaped panel 10Y, a liquid crystal injection port (not shown) of the sealing material 130 is exposed, and the liquid crystal 140 (see FIG. 10) is injected from the liquid crystal injection port. As is well known, the liquid crystal 140 is injected by immersing the liquid crystal injection port in the liquid crystal under reduced pressure, or by dropping the liquid crystal into the liquid crystal injection port and closing the liquid crystal injection port with the liquid crystal. By increasing the ambient pressure toward atmospheric pressure, the liquid crystal is allowed to enter the panel due to a pressure difference between the inside and outside. When the liquid crystal injection is completed, the liquid crystal injection port is sealed to confine the liquid crystal inside the sealing material 130. In addition, as shown in FIG. 9E, the strip-shaped panel 10Y is formed with a substrate overhanging region 11B in which the glass substrate 11 projects outward from the outer edge of the glass substrate 12.

次に、図9(e)に示す短冊状パネル10Yを個々の上記の液晶封入領域11A,12A毎に切断して、やはり基板構造体である個々のパネル10Zに分断する。この状態では、図10に示すように、ガラス基板11の一部であるガラス基板110の外縁部がガラス基板12の一部である基板120の外縁部よりも外側に張り出して基板張出領域11Bとなっている。そして、この基板張出領域11Bの表面上には、図9(f)及び図10に示すように、上記配線111及び入力配線113に導電接続される態様で半導体チップ等よりなる集積回路150が実装される。   Next, the strip-shaped panel 10Y shown in FIG. 9 (e) is cut into the individual liquid crystal sealing regions 11A and 12A, and divided into individual panels 10Z that are also substrate structures. In this state, as shown in FIG. 10, the outer edge portion of the glass substrate 110 that is a part of the glass substrate 11 protrudes outward from the outer edge portion of the substrate 120 that is a part of the glass substrate 12, and the substrate extension region 11 </ b> B. It has become. On the surface of the substrate extension region 11B, as shown in FIG. 9F and FIG. 10, an integrated circuit 150 made of a semiconductor chip or the like is conductively connected to the wiring 111 and the input wiring 113. Implemented.

上記の液晶装置の製造方法においては、上記の図9(e)に示す短冊状パネル10Yを分断してパネル10Zを分離形成する構造体分断工程に、先に説明した構造体分断工程の実施形態を適用することができる。そして、この構造体分断工程において、ガラス基板11と12のうちのいずれか一方のガラス基板を先に分断させた後に、一方のガラス基板側から上記ブレード23を適用して他方のガラス基板を分断させることで、上記のように一方のガラス基板の分断線のエッジ部に微細なクラックを発生させずにパネル10Zを分離できる。   In the method for manufacturing the liquid crystal device, the structure dividing step described above is applied to the structure dividing step of dividing the strip-like panel 10Y shown in FIG. 9E to separate and form the panel 10Z. Can be applied. Then, in this structure dividing step, after one of the glass substrates 11 and 12 is cut first, the blade 23 is applied from one glass substrate side to cut the other glass substrate. By doing so, the panel 10Z can be separated without generating fine cracks at the edge of the dividing line of one glass substrate as described above.

ただし、本発明においては、上記短冊状パネル10Yからパネル10Zを分離形成する工程だけでなく、たとえば、元パネル10Xから短冊状パネル10Yを分離形成する工程で上記の構造体分離工程或いは基板の分断方法を用いてもよい。   However, in the present invention, not only the process of separating and forming the panel 10Z from the strip-shaped panel 10Y, but also the process of separating the structure or the substrate in the process of separating and forming the strip-shaped panel 10Y from the original panel 10X, for example. A method may be used.

尚、本発明の電気光学装置の製造方法、基板の分断方法、及び、基板分断装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。   The electro-optical device manufacturing method, the substrate cutting method, and the substrate cutting device according to the present invention are not limited to the illustrated examples described above, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. Of course, it can be added.

基板の分断方法における分断前の状況を示す概略説明断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 基板の分断方法における分断時の状況を示す概略説明断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 基板分断装置の要部の概略正面図。The schematic front view of the principal part of a board | substrate cutting device. 基板分断装置の要部の概略側面図。The schematic side view of the principal part of a board | substrate cutting device. 基板構造体を分離形成するための構造体分断工程の第1段階を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the 1st step of the structure parting process for isolate | separating and forming a substrate structure. 基板構造体を分離形成するための構造体分断工程の第2段階を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the 2nd step of the structure parting process for isolate | separating and forming a substrate structure. 基板構造体を分離形成するための構造体分断工程の第3段階を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the 3rd step of the structure parting process for isolate | separating and forming a substrate structure. 基板構造体を分離形成するための構造体分断工程の第4段階を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the 4th step of the structure parting process for isolate | separating and forming a substrate structure. 液晶装置の製造方法を示す概略工程図(a)〜(f)。Schematic process drawing (a)-(f) which shows the manufacturing method of a liquid crystal device. 液晶装置の構造を示す概略縦断面図。FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view showing a structure of a liquid crystal device.

符号の説明Explanation of symbols

10、10X、10Y、10Z…基板構造体、11、12、110、120…ガラス基板、20…基板分断装置、21…支持台、22…ブレードホルダ、23…ブレード、23a,23b…押圧先端縁、24…案内軸、25…駆動軸、26…シリンダ、27…フレーム、28…位置決め機構、100…液晶装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10X, 10Y, 10Z ... Substrate structure 11, 12, 110, 120 ... Glass substrate, 20 ... Substrate cutting device, 21 ... Support stand, 22 ... Blade holder, 23 ... Blade, 23a, 23b ... Pressing tip edge 24 ... guide shaft, 25 ... drive shaft, 26 ... cylinder, 27 ... frame, 28 ... positioning mechanism, 100 ... liquid crystal device

Claims (6)

分断された基板に対向する基板の外表面に前記分断された基板の分断線に沿ってスクライブ線を入れるスクライブ工程と、
前記分断された基板の分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、前記対向する基板を分断する分断工程を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A scribing step of placing a scribe line along the dividing line of the divided substrate on the outer surface of the substrate facing the divided substrate;
An electro-optical device manufacturing method comprising: a dividing step of dividing the opposing substrate by simultaneously applying stress to both sides along the dividing line while avoiding the dividing line of the divided substrate. Method.
前記分断工程では、前記分断線を跨いてその両側を同時に押圧可能に構成された、隣接して並行する少なくとも2つの押圧先端縁を備えてなるブレードを用いることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。   2. The blade according to claim 1, wherein the cutting step uses a blade including at least two pressing tip edges that are adjacent to each other and are configured to be capable of simultaneously pressing both sides of the cutting line. Manufacturing method of the electro-optical device. 分断された基板の対向する基板の外表面に前記分断された基板の分断線に沿ってスクライブ線を入れ、
前記スクライブ線に沿って前記対向する基板に応力を線状に加えることで前記対向する基板を分断させる基板の分断方法において、
前記分断された基板の分断線上を回避しつつ、該分断線に沿ってその両側に同時に応力を加えることで、前記対向する基板を分断することを特徴とする基板の分断方法。
Put a scribe line along the dividing line of the divided substrate on the outer surface of the substrate facing the divided substrate,
In the substrate cutting method of dividing the opposing substrate by applying a stress linearly to the opposing substrate along the scribe line,
A method for dividing a substrate, wherein the opposing substrates are divided by simultaneously applying stress to both sides along the dividing line while avoiding the dividing line of the divided substrate.
一対の基板が貼り重ね合わされてなる基板構造体に応力を線状に加えることで前記基板を分断させるための基板の分断装置において、
前記基板構造体の一方の前記基板に予め形成された分断線を跨いで前記分断線の両側を同時に押圧可能に構成されたブレードと、
前記分断線上に前記ブレードを位置決めする位置制御機構と、
前記ブレードを前記一方の基板に押し付けることにより、前記分断線上を回避しつつ、当該分断線に沿ったその両側を同時に加圧する加圧機構と、
を具備することを特徴とする基板の分断装置。
In the substrate cutting apparatus for dividing the substrate by applying stress linearly to the substrate structure formed by laminating a pair of substrates,
A blade configured to be capable of simultaneously pressing both sides of the dividing line across a dividing line previously formed on one of the substrates of the substrate structure;
A position control mechanism for positioning the blade on the dividing line;
A pressing mechanism that simultaneously presses both sides along the dividing line while pressing the blade against the one substrate while avoiding the dividing line;
A substrate cutting apparatus comprising:
前記ブレードは、前記分断線を跨いでその両側を同時に押圧可能に構成された、隣接して並行する少なくとも2つの押圧先端縁を備えてなることを特徴とする請求項5に記載の基板の分断装置。   6. The substrate cutting according to claim 5, wherein the blade includes at least two pressing tip edges that are adjacent to each other and are configured to be capable of simultaneously pressing both sides of the blade across the dividing line. apparatus. 前記ブレードは、それぞれ前記基板に対して応力を線状に加えるための隣接して並行する少なくとも2つの押圧先端縁を備え、該押圧先端縁の間隔が0.5〜4.0mmの範囲内とされていることを特徴とする請求項4に記載の基板の分断装置。   Each of the blades includes at least two pressing tip edges that are adjacent and parallel to each other to apply a stress linearly to the substrate, and the interval between the pressing tip edges is in a range of 0.5 to 4.0 mm. The substrate cutting device according to claim 4, wherein the substrate cutting device is formed.
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