JP2006263685A - マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システム - Google Patents

Abstract

【課題】 高精度かつ高精細なパターンで支持体上に薄膜を、高い生産性で廉価に形成できる、マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システムとを提供する。
【解決手段】 ハーフカットされたマスク用材料から、剥離操作手段によってマスク形状に対応した剥離されるべき離けい材料部分だけを剥離して露呈した第２粘着層１６所定部分の表面を、マスク貼着部で支持体２２の表面に当接させて貼着し、マスク転写部で、マスク形状に対応したマスク用シート体１４を第２粘着層１６によって貼着させて転写させ、さらに、薄膜形成部でマスク用シート体１４を第２粘着層１６によって貼着した支持体２２の表面に真空成膜法による薄膜９８を形成してからマスク除去部によりマスク用シート体１４を取り除いて、所定パターンの薄膜９８を支持体２２上に形成する。
【選択図】 図４

Description

この発明は、基板等の支持体上にパターン化したマスク膜を形成するマスク形成方法と、マスク膜を形成するのに用いられるマスク用材料と、このマスク用材料を用いたパターン膜形成システムとに関する。

一般に、液晶ディスプレイなどの電子ディスプレイに用いられる透明電極や不透明電極、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）の電子ディスプレイ用の発光体（画素）、液晶ディスプレイなどにスイッチング素子として利用されるＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子、１ビット毎に分割した記録層を有するパターンド磁気メディア等が、真空成膜法により形成されている。

この基板にパターン化した真空薄膜を形成する真空成膜法には、基板表面に連続する真空薄膜を形成した後に、形成するパターンに応じて描画したレジスト層を、フォトリソグラフィーを利用して形成し、ドライあるいはウエットのエッチングによって不要な薄膜を除去することにより、真空薄膜をパターン化する方法がある。

このようなフォトリソグラフィーを利用する方法では、パターンの精度や精細性には優れているが、基板の洗浄、レジスト塗布、レジストのプリベーク、レジストの露光、レジストのポストベーク、現像処理、エッチング等の多数の工程が必要であるため、大がかりな設備投資が必要であり、その上、歩留りも低い。さらに、多数の工程を有し、さらに、歩留りが低いために、製造コストが高く、しかも生産性も低い。

また、基板にパターン化した真空薄膜を形成する真空成膜法には、形成するパターンに応じた開口を有する金属マスクを用い、このマスクを介して真空成膜を行うことにより、金属マスクを通過した成膜材料のみを基板に堆積して、パターン化した真空薄膜を形成する方法も利用されている。

従来のマスクを利用した真空成膜法には、フレキシブルな帯状基板を連続的に搬送しながら、これにフレキシブルな帯状蒸着マスクを沿わせて接触させた部分において、蒸発源から蒸発された電極材がマスクを通して蒸着されるようにして電極を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。

このような、基板にマスクを接触させた状態で、パターン化した真空薄膜を形成する方法では、成膜を行うにしたがって、マスクに成膜材料が堆積する。高精度かつ高精細なパターンを形成する場合には、この成膜材料の堆積によって、マスクが短期間で使用不可能になってしまうため、短期間でマスクを交換あるいは再生するのに手間が掛かり、かつ、生産性が低下し、製造コストが向上する。

さらに、基板にマスクを接触させた際に、基板が損傷することを防止するため、基板からマスクを離間させた状態で真空薄膜を行うと、薄膜材料の蒸発粒子がマスクの幅よりも広く堆積してしまい、基板に形成されるパターンの境界がボケてしまう場合がある。
特開昭５８−４０７０４号公報

本発明は上述の点に鑑み、高精度かつ高精細なパターンで支持体上に薄膜を、高い生産性で廉価に形成できる、マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システムとを、新たに提供することを目的とする。

本発明の請求項１に記載のマスク形成方法は、一方の平面に粘着層が形成された薄い膜状に形成したマスク用シート体を所定パターンに穿設する、型取り工程と、基板の材料となる支持体の表面に、所定パターンに穿設されたマスク用シート体を粘着層の粘着力によって貼着する、貼着工程と、所定パターン形状のマスク用シート体が貼着された支持体の表面側に対して真空成膜法により薄膜を形成する、真空成膜工程と、薄膜が生成された支持体の表面から、所定パターン形状のマスク用シート体部分を取り除いて、支持体の表面に所定パターンの薄膜が形成された基板を完成させるマスク除去工程と、を有することを特徴とする。

上述の方法によれば、基板の材料となる支持体の表面に、所定パターンに穿設されたマスク用シート体を粘着層の粘着力によって貼着することにより、所定パターンのマスクが作れるので、フォトリソグラフィー法でマスクを作るのに比べて、少ない工程で容易かつ廉価にマスクを作れる。さらに、マスク除去工程により除去された薄膜が成膜されているマスク用シート体は、廃棄するので、この上に蒸着した薄膜を除去して再利用する場合に比べて、作業工程を簡素化し、廉価な製品を提供できる。

本発明の請求項２に記載のマスク用材料は、可撓性シート状に形成した仮支持体と、仮支持体の表面に積層された第１粘着層と、第１粘着層上に積層された可撓性シート状のマスク用シート体と、マスク用シート体上に積層された第２粘着層と、第２粘着層の上に積層された離けい材料と、を有する多層構造に構成したことを特徴とする。

上述のように構成することにより、マスクの形状に対応した所定形状に沿って、マスク用材料における離けい材料側から仮支持体に切込みが入る所定深さまで、ハーフカットを入れてから、表面の剥離されるべき離けい材料部分だけを剥離して第２粘着層の所定部分が露呈するようにし、この露呈した第２粘着層を支持体に貼着させてからマスク用材料を引き離すことにより、所定パターンのマスクを容易に作ることができる。このマスク用材料を用いれば、一面に粘着層を設けたマスク用シート体だけを取り出して支持体上に位置決めして貼着するものに比べて、作業を容易にかつ迅速に行えるようにできる。さらに、マスク用材料の仮支持体上に第１粘着層を介して、マスクに利用されなかったマスク用シート体と、第２粘着層と、残留される離けい材料部分とが一体的に残されるので、不要となったマスク用材料を廃棄する作業を容易にできる。

請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のマスク用材料において、第２粘着層の粘着力を、第１粘着層の粘着力よりも強くしたことを特徴とする。

上述のように構成することにより、請求項２に記載の発明の作用、効果に加えて、マスク用材料における、マスク形状に対応した剥離されるべき離けい材料部分だけを剥離して露呈した第２粘着層所定部分の表面を、薄膜を形成すべき支持体の表面に当接させて貼着した状態とした後に、薄膜を形成すべき支持体から、マスク用材料を引き剥がすとき、薄膜を形成すべき支持体と第２粘着層所定部分との間の粘着力が、仮支持体と第１粘着層との間の粘着力に勝って、薄膜を形成すべき支持体表面に第２粘着層によってマスク用フイルムを貼着する操作を容易に、かつ確実に行うことができる。

請求項４に記載の発明は、請求項２又は請求項３に記載のマスク用材料において、マスク用シート体を、ポリエチレンテレフタレート製の可撓性を有するシート材で構成したことを特徴とする。

上述のように構成することにより、請求項２又は請求項３に記載の発明の作用、効果に加えて、マスク用材料を廉価に製造することができる。

本発明の請求項５に記載のパターン膜形成システムは、可撓性シート状に形成した仮支持体と、仮支持体の表面に積層された第１粘着層と、第１粘着層上に積層された可撓性シート状のマスク用シート体と、マスク用シート体上に積層された第２粘着層と、第２粘着層の上に積層された離けい材料と、を有する多層構造に構成したマスク用材料を、マスクの形状に対応した所定形状に沿って、マスク用材料における離けい材料側の表面から仮支持体の一部に切込みが入る所定深さまで、ハーフカットを入れるよう構成したマスク用シート体ハーフカット部と、ハーフカットされたマスク用材料から、マスク形状に対応した剥離されるべき離けい材料部分だけを剥離する剥離操作手段と、マスク用材料における、剥離される離けい材料部分が剥離されることにより露呈した第２粘着層の表面を支持体の表面に当接させて貼着するマスク貼着部と、支持体の表面からマスク用材料を引き離す動作により、マスク形状に対応したマスク用シート体を第２粘着層によって貼着させて転写させるマスク転写部と、を具備するマスク形成部と、マスク形成部において、マスク用シート体を第２粘着層によって貼着した支持体の表面に、真空成膜法による薄膜を形成する薄膜形成部と、薄膜が形成された支持体から、マスク用シート体を取り除いて、所定パターンの薄膜を支持体上に形成するマスク除去部と、を具備する薄膜形成処理工程部と、を有することを特徴とする。

請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のパターン膜形成システムにおいて、薄膜形成処理工程部が、真空チャンバの内部に真空状態で収納されるよう構成されていることを特徴とする。

前述のように構成することにより、ハーフカットされたマスク用材料から、剥離操作手段によってマスク形状に対応した剥離されるべき離けい材料部分だけを剥離して露呈した第２粘着層所定部分の表面を、マスク貼着部で支持体の表面に当接させて貼着し、マスク転写部で、マスク形状に対応したマスク用シート体を第２粘着層によって貼着させて転写させ、さらに、薄膜形成部でマスク用シート体を第２粘着層によって貼着した支持体の表面に真空成膜法による薄膜を形成してからマスク除去部によりマスク用シート体を取り除いて、所定パターンの薄膜を支持体上に形成することを容易にかつ効率良くできるので、廉価な製品を提供できる。

請求項７に記載の発明は、請求項５に記載のパターン膜形成システムにおいて、マスク形成部で形成されたマスク用シート体を第２粘着層によって貼着した支持体を、大気―真空搬送装置を通じて真空状態を保って搬送することにより、真空チャンバの内部に真空状態で収納された薄膜形成処理工程部へ搬入し、薄膜形成処理工程部において所定パターンの薄膜が形成された支持体を、大気―真空搬送装置を通じて大気中へ搬出するよう構成したことを特徴とする。

請求項８に記載の発明は、請求項５に記載のパターン膜形成システムにおいて、マスク形成部と、薄膜形成処理工程部とが、共に真空チャンバ内に配置されていることを特徴とする。

前述のように構成することにより、請求項５に記載の発明の作用、効果に加えて、マスク形成部で形成されたマスク用シート体を第２粘着層によって貼着した支持体を、直接的に薄膜形成処理工程部へ搬入するので、例えば、支持体末端切断部、巻き取りロール、支持体原反接合部等を省略して、構成を簡素化し、連続処理を可能として、その処理能率を向上できる。

本発明のマスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システムによれば、高精度かつ高精細なパターンで支持体上に薄膜を、高い生産性で廉価に形成することを可能とするという効果がある。

本発明のマスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システムに係わる実施の形態について、図１乃至図８を参照しながら説明する。
［マスク形成方法］
本実施の形態に係わるパターン膜形成システムに利用するマスク形成方法では、薄い膜状に形成したマスク用シート体の少なくとも一方の平面に粘着層を形成したものを用意する。

次の型取り工程では、この粘着層付きのマスク用シート体を、所定パターンに穿設する。

次の貼着工程では、基板の材料となる支持体の表面に、所定パターンに穿設されたマスク用シート体を粘着層の粘着力によって貼着する。

次の真空成膜工程では、この所定パターン形状のマスク用シート体が貼着された基板の材料となる支持体の表面側に対して真空成膜法による薄膜を形成する。

次のマスク除去工程では、薄膜が生成された支持体の表面から、所定パターン形状のマスク用シート体部分を取り除いて、支持体の表面に所定パターンの薄膜が形成された基板を完成させる。
［マスク用材料］
また、本実施の形態に係わるパターン膜形成システムに利用するマスク用材料は、図８（Ａ）（図８では、部材の肉厚を誇張して記載している）に示すように、仮支持体１０の表面に第１粘着層１２を積層し、その上にＰＥＴ等の材料で形成したマスク用シート体であるマスク用フイルム１４を積層し、その上に第２粘着層１６を積層し、その上に離けい材料１８を積層した、５層構造の帯状に形成する。

この仮支持体１０は、プラスチック又は紙等の可撓性を有するシート材で構成するもので、その厚さ（肉厚）を２０μｍから２００μｍ、より好ましくは５０μｍから１５０μｍに形成する。

このマスク用シート体であるマスク用フイルム１４は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のプラスチック等の可撓性を有するシート材で構成するもので、その厚さを１０μｍから１００μｍ、より好ましくは２０μｍから１００μｍに形成する。

離けい材料１８は、プラスチック又は紙等の可撓性を有するシート材で構成するもので、その厚さを１０μｍから１００μｍ、より好ましくは２０μｍから１００μｍに形成する。

第１粘着層１２と第２粘着層１６とは、それぞれ一般の粘着テープ等に使用されている粘着剤で構成することができ、その粘着剤層の厚さを１μｍから５０μｍ、より好ましくは２μｍから１０μｍに形成する。

また、この第２粘着層１６は、後述するように、支持体２２上へこの第２粘着層１６によってマスク用フイルム１４を貼着した状態で、その上から薄膜を形成した後、マスク用フイルム１４を第２粘着層１６の部分から容易に剥離できるようにするため、第２粘着層１６の材料として、剥離機能を持つ材料を使用することが望ましい。

この第２粘着層１６を構成する剥離機能を持つ材料としては、光を照射して剥離可能とするためのＵＶ硬化型剥離層若しくは熱を加えて剥離可能とするための熱硬化型剥離層又は水を塗布して剥離可能とするための水溶性剥離層を利用できる。また、光で剥離するＵＶ硬化型剥離層又は熱で剥離する熱硬化型剥離層を設けることがより好ましい。

このマスク用材料２０では、マスク用フイルム１４と離けい材料１８との間に配置する第２粘着層１６の粘着力を、仮支持体１０とマスク用フイルム１４との間に配置する第１粘着層１２の粘着力よりも、所定量強くするよう構成する。

このため、第２粘着層１６の層の厚さを、第１粘着層１２の層の厚さよりも、厚く形成することにより粘着力を高めても良い。

このように構成することによって、マスク用材料２０における、マスク形状に対応した剥離されるべき離けい材料部分１８Ａだけを剥離して、露呈した第２粘着層１６の所定部分の表面を、薄膜を形成すべき支持体２２の表面に当接させて貼着した状態とした後に、薄膜を形成すべき支持体２２から、このマスク用材料２０を引き剥がすとき、薄膜を形成すべき支持体２２と第２粘着層１６所定部分との間の粘着力が、仮支持体１０と第１粘着層１２との間の粘着力に勝って、薄膜を形成すべき支持体２２表面に第２粘着層１６によってマスク用フイルム１４を貼着する操作を容易に、かつ確実に行うことができる。

また、離けい材料１８の離けい面にはシリコン膜等を形成して第２粘着層１６の離けい材料１８に対する粘着力を弱めるようにし、マスク用材料２０の表面にある剥離される離けい材料部分１８Ａ部分を第２粘着層１６から剥がすときに、マスク用フイルム１４が第１粘着層１２の粘着力によって仮支持体１０上に留まり、ともに剥がれ落ちるのを防止するように構成する。

このように構成したマスク用材料２０は、その離けい材料１８を配した表面側から、少なくとも仮支持体１０の肉厚方向の一部を残すように、マスク用フイルム１４を肉厚方向に渡って完全に切断するようにして、所定のパターンを切りぬく切断処理をする。

このとき、マスク用材料２０に、いわゆる島状の部分を残す場合には、閉ループ状（ここでは、切断線がマスク用材料２０の外郭線を含んで閉ループとなるようにしても良い）に切断処理を行う。

次に、薄膜を形成すべき支持体２２のマスクを形成する部分に対応した、マスク用材料２０の離けい材料１８における剥離される離けい材料部分１８Ａを取り除き、図８の（Ｂ）に示すように、残留される離けい材料部分１８Ｂだけを第２粘着層１６上に残す。

次に、マスク用材料２０における、残留される離けい材料部分１８Ｂだけを残した第２粘着層１６上に、薄膜を形成すべき支持体２２の表面（マスクする表面）を押し当てて、図８の（Ｃ）に示すように、第２粘着層１６の剥離される離けい材料部分１８Ａ（残留される離けい材料部分１８Ｂが無い部分）だけを貼着する。

次に、薄膜を形成すべき支持体２２から、マスク用材料２０を引き剥がすと、薄膜を形成すべき支持体２２の表面には、第２粘着層１６の剥離される離けい材料部分１８Ａだけが貼着して、マスクされた状態が実現する。

また、薄膜を形成すべき支持体２２から引き剥がされたマスク用材料２０には、マスク用に用いられなかった残留される離けい材料部分１８Ｂと、これに対応する第２粘着層１６及びマスク用フイルム１４と、第１粘着層１２と仮支持体１０とが残る。この残留した使用済みのマスク用材料２０部分は、廃棄処分される。なお、このマスク用材料２０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の廉価な材料で構成するので、使用済みのマスク用材料２０部分を廃棄処分しても、他のフォトリソグラフィー等のマスク手段に比べて廉価にマスク処理できる。
［パターン膜形成システム］
次に、前述したマスク形成方法と、マスク用材料とを用いたパターン膜形成システムについて、説明する。

このパターン膜形成システムは、マスク形成部と、薄膜形成処理工程部とに分けて構成することができる。

このパターン膜形成システムでは、マスク形成部を大気圧中で作業を行うように構成し、薄膜形成処理工程部を真空チャンバ中に機器を収納して、真空中で作業を行う第１の態様に構成することができる。

さらに、このパターン膜形成システムでは、マスク形成部を大気圧中で作業を行うように構成し、薄膜形成処理工程部を真空チャンバ中に機器を収納して真空中で作業を行うように構成すると共に、薄膜形成処理工程部に、マスク形成部から真空状態を保持して真空チャンバ内へ支持体２２を搬入し、真空成膜された支持体２２を真空状態を保持して真空チャンバ外へ搬出する真空保持搬送手段を設けた、第２の態様に構成することができる。

また、このパターン膜形成システムでは、マスク形成部と薄膜形成処理工程部とを共に真空チャンバ中に機器を収納して、真空中で作業を行う第３の態様に構成することができる。

次に、このパターン膜形成システムにおける、第１の態様に構成したマスク形成部について、図１により説明する。

このマスク形成部は、未加工のＰＥＴ等のプラスチック、又はその他の材料で形成した支持体２２を供給ロール２４から引き出し、マスク形成済みの支持体２２を送り出す、支持体２２にマスクを貼着するための搬送工程部と、未加工のマスク用材料２０を供給ロール２６から引き出し、所定形状のマスク部分を切り出してから支持体２２に転写するよう貼着し、残った使用済みマスク用材料２０を回収する、マスク用材料２０の加工、転写用の搬送工程部とを有する。

この支持体２２にマスクを貼着するための搬送工程部では、供給ロール２４から引き出した支持体２２を、支持体原反接合部２８へ送る。この搬送工程部では、空の供給ロール２４を新たな支持体２２が巻装されている供給ロール２４へ切り替えるための切り替え時間のロスをなくすために、供給ロール２４を２軸用意して用いる。

この支持体原反接合部２８では、吸着テーブルを用いて支持体２２の原反の後端と、新たに搬送する支持体２２の原反の先端とをテープで接合して連続させてから、テンション設定部３０へ送る。

このテンション設定部３０では、搬送中の支持体２２に弛みが出ないように、ダンサーローラ３０Ａを用いて、支持体２２に一定の張力を付与し、支持体前処理部３２へ送る。

この支持体前処理部３２では、支持体２２のマスクを貼着する表面に対するベース表面の前処理として、支持体２２の表面をクリーニング処理する。

この支持体２２表面のクリーニング処理では、ウレタンゴム、ブチルゴム、シリコンゴムのいずれか若しくはこれらを組み合わせた材質の粘着性ロールを用いた粘着性ロール接触式クリーニング手段、又はその他の一般に用いられているクリーニング手段を利用することができる。

また、支持体２２のマスクを貼着する表面に対するベース表面の前処理では、コロナ処理、大気圧プラズマ処理、真空プラズマ処理を行っても良い。この支持体２２のマスクを貼着する表面に対するベース表面の前処理として行うプラズマ処理は、アルゴンガス、キセノンガス、酸素ガス、窒素ガス、二酸化炭素ガスのいずれかまたは混合ガスを含む雰囲気中で、ＤＣプラズマ、ＡＣプラズマ、ｒｆプラズマ、マイクロ波プラズマ、パルスプラズマのいずれかのプラズマ発生装置を用いて行うことができる。なお、真空中でプラズマ処理する場合は、マスク形成部と薄膜形成処理工程部とを共に真空チャンバ中に機器を収納して、真空中で作業を行う第３の態様の構成で対応する。

この支持体前処理部３２で前処理された支持体２２は、マスク貼着部３４へ搬入される。このマスク貼着部３４は、２本のラミネートロール（ゴムロール）を相互に所定の適切な圧力で転接するように構成すると共に、少なくとも一方のラミネートロールに設けた図示しないヒータで、ローラ表面を所要の温度に加熱可能に構成する。

このマスク貼着部３４は、支持体２２の表面に、後述するマスク用材料２０の加工、転写用の搬送工程部において、前述した図８（Ｂ）に示すように残留される離けい材料部分１８Ｂだけを第２粘着層１６上に残した状態に加工済みのマスク用材料２０を重ね合わせて、２本のラミネートロールの間で挟持するよう転接することによって圧着すると共に、図示しないヒータの熱でマスク用材料２０を加熱し、剥離される離けい材料部分１８Ａが剥がされて露呈している第２粘着層１６がマスク用フイルム１４を支持体２２に貼着する粘着力を、第１粘着層１２がマスク用フイルム１４を仮支持体１０に貼着している粘着力よりも所定量大きくするよう制御した状態で、所定のマスク形状に穿設されたマスク用フイルム１４を支持体２２表面に転写させる。

すなわち、所定のマスク形状に穿設されたマスク用フイルム１４は、マスク貼着部３４の加圧及び加熱作用で、マスク用材料２０側から支持体２２上へ移動し、剥離される離けい材料部分１８Ａに対応した第２粘着層１６によって貼着された状態となる。

このときマスク用材料２０の表面に離けい材料部分１８Ｂが残留している部分のマスク用フイルム１４は、残留される離けい材料部分１８Ｂが支持体２２の表面上に当接するため、第２粘着層１６の粘着作用が働かないから、マスク用材料２０に残留する。

このようにマスク貼着部３４において、貼り合わされた状態で圧接され加熱されたマスク用材料２０と支持体２２とは、一対の剥離ロールを相互に転接させるように構成したマスク転写部３６へ搬入されて、第２粘着層１６によってマスク用フイルム１４が貼着された支持体２２と、使用済みマスク用材料２０とに分離された後、それぞれテンション設定部３８とテンション設定部６０とへ搬入される。

これら、テンション設定部３８とテンション設定部６０とは、それぞれ搬送中の支持体２２又は使用済みマスク用材料２０に弛みが出ないように、ダンサーローラ３８Ａ又は６０Ａを用いて、支持体２２又は使用済みマスク用材料２０にそれぞれ一定の張力を付与するよう構成する。

このマスク形成部では、マスク貼着部３４とマスク転写部３６との間の搬送路上をそれぞれ搬送される支持体２２とマスク用材料２０とに、それぞれの搬送方向上流側と搬送方向下流側とに配置したテンション設定部３０及びテンション設定部３８、又は後述するテンション設定部４６及びテンション設定部６０により、適切なテンションを負荷することによって、支持体２２とマスク用材料２０とに皺がよったり、相互の位置がずれたりすることなく、適正な状態で、支持体２２上に第２粘着層１６を介してマスク用フイルム１４を貼着させることができる。

なお、このマスク形成部で、後述するように、マスク用フィルムハーフカット部４８でマスク用材料２０に対するハーフカット動作を連続的に行う場合（連続搬送する場合）には、マスク貼着部３４を連続して動作させる。また、マスク用フィルムハーフカット部４８でマスク用材料２０に対するハーフカット動作を断続的に行う場合（間欠搬送する場合）には、マスク貼着部３４も、これに同期して断続的に動作させる。

このテンション設定部３８を通過した支持体２２は、支持体末端切断部４０を通されて、マスク形成済支持体巻き取り部のロール４２へ巻き取られる。

この支持体末端切断部４０は、マスク形成済支持体２２がロール４２に満杯に巻き取られたとき等の所定のタイミングで、マスク形成済支持体２２を切断し、新たなロール４２に巻回を開始させられるようにするためのカッタ装置として構成する。

次に、パターン膜形成システムのマスク形成部における、マスク用材料２０の加工、転写用の搬送工程部について、図１により説明する。

このマスク用材料２０の加工、転写用の搬送工程部では、前述した図８に示すように５層構造に形成された長尺帯状のマスク用材料２０を巻装した供給ロール２６から引き出したマスク用材料２０を、マスク用材料原反接合部４４へ送る。このマスク用材料原反接合部４４では、吸着テーブルを用いてマスク用材料２０の原反の後端と、新たに搬送する支持体２２の原反の先端とをテープで接合して連続させてから、テンション設定部４６へ送る。

このマスク用材料２０の加工、転写用の搬送工程部では、空の供給ロール２６を新たなマスク用材料２０が巻装されている供給ロール２６へ切り替えるための切り替え時間のロスをなくすために、供給ロール２６を２軸用意して用いる。

このテンション設定部４６では、搬送中のマスク用材料２０に弛みが出ないように、ダンサーローラ４６Ａを用いて、マスク用材料２０に一定の張力を付与し、マスク用フィルムハーフカット部４８へ送る。

このマスク用フィルムハーフカット部４８は、マスクの形状に対応した所定形状のトムソン刃によって、マスク用材料２０における離けい材料１８側から仮支持体１０に切込みが入る所定深さまで、ハーフカットを入れるよう構成する。

このマスク用フィルムハーフカット部４８は、例えば、図５乃至図７に示すように構成するもので、サクションテーブル１００と、トムソン刃台１１０とを有する。このサクションテーブル１００は、その表面に図示しない多数の吸着孔が形成されており、これら多数の吸着孔から吸気することによって、マスク用材料２０をテーブル表面に吸着して所定位置に保持可能に構成する。

また、トムソン刃台１１０には、そのサクションテーブル１００に対向する平面部に、例えば、所定高さの刃物として形成された矩形枠状のトムソン刃１１２と、このトムソン刃１１２で囲まれた内側の所定位置に、島状のマスク部分を残すための所定高さの刃物として形成された小矩形枠状のトムソン刃１１２Ａとを設ける。

また、このトムソン刃台１１０には、そのトムソン刃１１２の外側で、マスク用材料２０から外れた対応位置に、トムソン刃１１２と小矩形枠状のトムソン刃１１２Ａとの刃先位置を設定するための、ストッパ部材１１４を設置する。

このストッパ部材１１４は、単数又は複数配置するもので、トムソン刃台１１０とサクションテーブル１００との間の間隔を所定間隔に設定できる構成であれば、どのように構成しても良く、サクションテーブル１００の表面側に設置し、又はトムソン刃台１１０とサクションテーブル１００との間に介在されるように、独立して操作される部材として構成しても良い。

上述のように構成されたマスク用フィルムハーフカット部４８において、マスク用材料２０にハーフカット処理を断続的に行う場合には、搬送路上を搬送されてきたマスク用材料２０を、そのハーフカットすべき所定位置で停止する。次に、サクションテーブル１００をマスク用材料２０の底面に接触させる位置まで、上昇させて停止させ、サクションテーブル１００の吸着孔から吸気するサクション機能を働かせてマスク用材料２０を吸着する。

次に、トムソン刃台１１０を、ストッパ部材１１４に制止されるまで降下させて、図７に示すように、マスク用材料２０をハーフカットする。このハーフカットされたマスク用材料２０は、トムソン刃１１２（又は小矩形枠状のトムソン刃１１２Ａ）により、マスク用材料２０の離けい材料１８側から、離けい材料１８、第２粘着層１６及びマスク用フイルム１４が完全に切断されるように、第１粘着層１２と仮支持体１０における肉厚方向の表面側一部とが切断されるようにハーフカットする。すなわち、このハーフカットされたマスク用材料２０では、仮支持体１０における肉厚方向の裏側一部が必ず残された状態で連続することになる。

次に、トムソン刃台１１０を上昇させ、サクションテーブル１００のサクション動作を停止させ、サクションテーブル１００を下降させから、マスク用材料２０を新たにハーフカットする部分まで移動してから、再び上述したハーフカットする動作を繰り返して、ハーフカット動作を断続的に繰り返す。

また、上述したハーフカット動作を連続的に行う場合には、サクションテーブル１００と、トムソン刃台１１０とを、初期位置からマスク用材料２０の搬送速度に同期して搬送しながら、上述したハーフカット動作を行い、一回のハーフカット動作完了後に、サクションテーブル１００とトムソン刃台１１０とを、初期位置に戻して再び前述したハーフカット動作を繰り返すことにより、ハーフカット動作を連続的に行うことができる。

このようにしてハーフカットされたマスク用材料２０は、マスク用フィルムマスク部剥離部へ搬入される。このマスク用フィルムマスク部剥離部は、マスク用材料２０の底面に真空吸着しながら転接するサクションドラム５８と、剥離操作手段５０とを有する。

この剥離操作手段５０は、粘着テープ供給ローラ５２から引き出してから巻き取りローラ５６に巻き取られるまでの間の粘着テープ５３部分を、剥離ローラ５４によってサクションドラム５８上に吸着されているマスク用材料２０の表面に対して、圧着させる動作と離間させる動作とを操作可能に構成する。

なお、離けい材料１８における、剥離される離けい材料部分１８Ａだけを粘着テープ５３に貼着し、残留される離けい材料部分１８Ｂを粘着テープ５３に貼着しないようにするため、この粘着テープ５３は、必要に応じて、その表面の剥離される離けい材料部分１８Ａだけに対応した所定部分にのみ、粘着材を配置するよう構成しても良い。

このように構成した剥離操作手段５０では、例えば、サクションドラム５８上に吸着されているマスク用材料２０の表面に対して、剥離ローラ５４で粘着テープ５３の粘着面をマスク用材料２０の表面に圧着して粘着させてから、剥離ローラ５４をサクションドラム５８から離間させる動作をさせることによって、マスク用材料２０の剥離される離けい材料部分１８Ａが剥離するきっかけをつくり、剥離ローラ５４の離間動作につれて剥離される離けい材料部分１８Ａ部分をマスク用材料２０から剥離する動作を行い、前述した図８（Ｂ）に示すように残留される離けい材料部分１８Ｂだけを第２粘着層１６上に残した状態に加工済みのマスク用材料２０を作る。

また粘着テープ５３上に貼着した離けい材料部分１８Ａは、使用済みの粘着テープ５３と共に、巻き取りローラ５６に巻き取られ、処分される。

また、剥離操作手段５０により、前述した図８（Ｂ）に示すように残留される離けい材料部分１８Ｂだけを第２粘着層１６上に残した状態に加工済みのマスク用材料２０は、マスク貼着部３４へ搬入され、前述したように、剥離された離けい材料部分１８Ａに対応した第２粘着層１６とマスク用フイルム１４との部分を支持体２２上に転写し、マスク転写部３６で、マスク用フイルム１４が貼着された支持体２２から、使用済みマスク用材料２０が分離された後、テンション設定部６０とへ搬入される。

このテンション設定部６０では、搬送中のマスク用材料２０に弛みが出ないように、ダンサーローラ６０Ａを用いて、マスク用材料２０に一定の張力を付与してから支持体末端切断部６２を通されて、使用済みマスク用材料巻き取り部の巻き取りロール６４へ巻き取られる。

この支持体末端切断部６２は、使用済みマスク用材料２０が巻き取りロール６４に満杯に巻き取られたとき等の所定のタイミングで、使用済みマスク用材料２０を切断し、新たな巻き取りロール６４に巻回を開始させられるようにするためのカッタ装置として構成する。

次に、このパターン膜形成システムにおける、第１の態様に構成した薄膜形成処理工程部について、図２により説明する。この薄膜形成処理工程部は、図示しない真空チャンバの内部に真空状態で収納されるように構成する。

この図２に示す薄膜形成処理工程部は、ロール４２から引き出された、マスクとしての第２粘着層１６で貼着されたマスク用フイルム１４付きの支持体２２を、支持体原反接合部６６へ送る。この支持体原反接合部６６では、吸着テーブルを用いて支持体２２の後端と、新たに搬送する支持体２２の先端とをテープで接合して連続させてから、テンション設定部６８へ送る。

このテンション設定部６８では、搬送中の支持体２２に弛みが出ないように、ダンサーローラ６８Ａを用いて、支持体２２に一定の張力を付与し、薄膜形成部７０へ送る。

この薄膜形成部７０は、真空成膜法により、マスク用フイルム１４が貼着された基板としての支持体２２の全面へマスク用フイルム１４の上から薄膜材料を成膜してパターン薄膜を形成する装置として構成する。

この真空成膜法によってパターン薄膜を形成する装置は、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、イオンビームスパッタ法、レーザーアブレーション法、ホローカソードアークプラズマ法、カソーディックアークプラズマ法、ＭＢＥ法のいずれかの手段又はその組み合わせの手段を利用して、パターン薄膜を形成するよう構成する。

この真空成膜法によって形成する薄膜は、有機材料、無機材料、金属材料を用いて構成できる。さらに、例えば、この薄膜は、透明導電膜として構成することができる。

透明導電膜として構成する場合には、この透明導電膜を、アンチモンドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープした酸化スズ（ＦＴＯ）、半導体性金属化合物（酸化スズ、酸化亜鉛およびこれにＡｌ、Ｍｇ、Ｇａを添加した材料、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）、金属（金、銀、クロム、ニッケル）、これらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、無機導電性材料（ヨウ化銅、硫化銅）、有機導電性材料（ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール）および有機導電性材料とＩＴＯとの積層物で構成することができる。

さらに、この真空成膜法によって形成する薄膜は、有機ＥＬ材料で構成することができる。

次に、薄膜形成部７０でパターン薄膜が形成された支持体２２は、マスク除去部７２へ送る。このマスク除去部７２は、支持体２２の上にマスク用フイルム１４が貼着された全面に、薄膜が形成されたものに、剥離ロールを所定圧力で密着するように転接させることにより、支持体２２から、マスク用フイルム１４を剥離する。

すなわち、この薄膜形成部７０では、図４（Ａ）に示すように、支持体２２上にマスク用フイルム１４を第２粘着層１６で貼着したものの表面全体に、真空成膜法によって薄膜９８を形成する。

次に、マスク除去部７２では、図４（Ｂ）に示すように、支持体２２上からマスク用フイルム１４及び第２粘着層１６を剥離することによって、支持体２２の表面上に、図４（Ｃ）に示すような所定パターンの薄膜９８を形成する。

なお、このマスク除去部７２は、必要に応じて、前述した図１に示すマスク用フィルムマスク部剥離部で説明したサクションドラム５８及び剥離操作手段５０と同様に構成し、剥離操作手段で、サクションドラム上に吸着されている支持体２２の表面に対して剥離ローラ５４を駆動して粘着テープの粘着面を薄膜９８を介してマスク用フイルム１４部分に圧着して粘着させてから、剥離ローラをサクションドラムから離間させるよう動作させて、マスク用フイルム１４が剥離するきっかけをつくり、剥離ローラの離間動作につれてマスク用フイルム１４部分を支持体２２から剥離する動作を行い、前述した図４（Ｂ）及び（Ｃ）に示すように残留される薄膜９８だけを支持体２２上に残して、パターン薄膜が形成された支持体２２を得るように構成しても良い。

また、このマスク除去部７２では、マスク用材料２０における第２粘着層１６を、剥離機能を持つ材料である、光を照射して剥離可能とするためのＵＶ硬化型剥離層若しくは熱を加えて剥離可能とするための熱硬化型剥離層又は水を塗布して剥離可能とするための水溶性剥離層で構成した場合には、光を照射してＵＶ硬化型剥離層から容易に剥離し若しくは熱を加えて熱硬化型剥離層から容易に剥離し又は水を塗布して水溶性剥離層から容易に剥離することができる。

図２に示すように、マスク除去部７２では、パターン薄膜が形成された支持体２２と、使用済みマスク用フイルム１４及び第２粘着層１６とを分離した後、それぞれをテンション設定部７４とテンション設定部８０とへ搬入する。

これら、テンション設定部７４とテンション設定部８０とは、それぞれマスク除去部７２で剥離されている、パターン薄膜が形成された支持体２２と、使用済みマスク用フイルム１４及び第２粘着層１６とに、それぞれ所定の張力（テンション）が働いて、適切に剥離することができるようにするため、ダンサーローラ７４Ａ又は８０Ａを用いて、支持体２２又は使用済みマスク用フイルム１４部分にそれぞれ一定の張力を付与するよう構成する。

このテンション設定部８０から引き出されたパターン薄膜が形成された支持体２２は、必要に応じて図示しないクリーニング装置によって、真空成膜法により薄膜が形成された支持体（基板）２２の表面をクリーニング処理してから、パターン薄膜形成済支持体末端切断部８２を通されて、パターン薄膜形成済支持体巻き取り部の巻き取りロール８４へ巻き取られる。

このパターン薄膜形成済支持体末端切断部８２は、パターン薄膜が形成された支持体２２が巻き取りロール８４に満杯に巻き取られたとき等の所定のタイミングで、パターン薄膜が形成された支持体２２を切断し、新たな巻き取りロール８４に巻回を開始させられるようにするためのカッタ装置として構成する。

また、テンション設定部７４から引き出された、薄膜が付着したマスク用フイルム１４及び第２粘着層１６は、使用済みマスク用フイルム末端切断部７６を通されて、使用済みマスク用フイルム巻き取り部の巻き取りロール７８へ巻き取られる。

この使用済みマスク用フイルム末端切断部７６は、薄膜が付着したマスク用フイルム１４が巻き取りロール７８に満杯に巻き取られたとき等の所定のタイミングで、薄膜が付着したマスク用フイルム１４を切断し、新たな巻き取りロール７８に巻回を開始させられるようにするためのカッタ装置として構成する。

次に、パターン膜形成システムにおける、マスク形成部を大気圧中で作業を行い、薄膜形成処理工程部を真空中で作業を行うように構成すると共に、真空保持搬送手段を設けた、第２の態様の構成について、図３により説明する。

パターン膜形成システムにおける第２の態様の構成では、マスク形成部における、テンション設定部３８の搬送方向下流側で、マスクとしての第２粘着層１６で貼着されたマスク用フイルム１４付きの支持体２２を、大気―真空搬送装置８６を介して、薄膜形成処理工程部を収納した密閉可能な容器として構成された真空チャンバ９６内へ搬入するよう構成する。なお、この図３に示す第２の態様の構成では、図１に示す第１の態様の構成におけるマスク形成部で用いた支持体末端切断部４０とロール４２とを省略して構成する。

この大気―真空搬送装置８６は、真空チャンバ９６の支持体２２を通すための出入口に、通路を構成するよう機密を保って一体的に設置するもので、密閉可能な容器状に形成したケーシングの通路内部に、搬送方向に沿って３段に渡って気密保持ローラ群を配置して構成する。

各気密保持ローラ群は、両端に配置される対壁気密保持用ローラ８８Ａ、８８Ｂ、８８Ｃと、中間媒介気密保持用ローラ９０Ａ、９０Ｂ、９０Ｃとで構成する。

各対壁気密保持用ローラ８８Ａ、８８Ｂ、８８Ｃは、それぞれ大気―真空搬送装置８６のケーシングの通路内壁に対して、摩擦抵抗が少なくかつ気密を保持可能な手段で臨み、この通路内壁との間で気密を保って回動可能となるように構成する。

例えば、各対壁気密保持用ローラ８８Ａ、８８Ｂ、８８Ｃは、大気―真空搬送装置８６のケーシングの通路内壁に対し、外周面が気密を保って摺接するよう構成する。

また、各中間媒介気密保持用ローラ９０Ａ、９０Ｂ、９０Ｃは、それぞれ一対の対壁気密保持用ローラ８８Ａ、８８Ｂ、８８Ｃの間に挟まれて両者に同時に転接することにより、これらとの転接部で気密を保つように装着する。

この大気―真空搬送装置８６では、第１段の気密保持ローラ群である対壁気密保持用ローラ８８Ａと中間媒介気密保持用ローラ９０Ａと、第２段の気密保持ローラ群である対壁気密保持用ローラ８８Ｂと中間媒介気密保持用ローラ９０Ｂとの間でケーシングの通路内壁に囲まれて区画された第１の気密室の内部に連通するよう、真空吸気用吸気口９２を設け、この真空吸気用吸気口９２を通じて図示しない真空ポンプにより吸引し、第１の気密室の内部を所定の低い気圧にする。

また、この大気―真空搬送装置８６では、第２段の気密保持ローラ群である対壁気密保持用ローラ８８Ｂと中間媒介気密保持用ローラ９０Ｂと、第３段の気密保持ローラ群である対壁気密保持用ローラ８８Ｃと中間媒介気密保持用ローラ９０Ｃとの間でケーシングの通路内壁に囲まれて区画された第２の気密室の内部に連通するよう、真空吸気用吸気口９４を設け、この真空吸気用吸気口９４を通じて図示しない真空ポンプにより吸引し、第の気密室の内部を、第１の気密室の内部より低い気圧である所定のさらに低い気圧にする。

また、第３段の気密保持ローラ群で気密保持された真空チャンバ９６内は、真空成膜処理に適する気圧まで、必要に応じて図示しない真空ポンプにより吸引する等の手段で減圧するよう構成する。

このように構成した大気―真空搬送装置８６は、図３に示すように、マスクとしての第２粘着層１６で貼着されたマスク用フイルム１４付きの支持体２２を、図３に向かって右方に当たる、第１段で一方の対壁気密保持用ローラ８８Ａと中間媒介気密保持用ローラ９０Ａとの間、第２段で一方の対壁気密保持用ローラ８８Ｂと中間媒介気密保持用ローラ９０Ｂとの間、第３段で一方の対壁気密保持用ローラ８８Ｃと中間媒介気密保持用ローラ９０Ｃとの間を通し、真空チャンバ９６内へ導く。

また、真空チャンバ９６内の薄膜形成処理工程部でパターン薄膜が形成された支持体２２は、図３に示すように、図に向かって左方に当たる、第３段で他方の対壁気密保持用ローラ８８Ｃと中間媒介気密保持用ローラ９０Ｃとの間、第２段で他方の対壁気密保持用ローラ８８Ｂと中間媒介気密保持用ローラ９０Ｂとの間、第１段で他方の対壁気密保持用ローラ８８Ａと中間媒介気密保持用ローラ９０Ａとの間を通し、真空チャンバ９６の外部へと導く。

この真空チャンバ９６の内部に配置される薄膜形成処理工程部では、マスク形成部から直接マスクとしての第２粘着層１６で貼着されたマスク用フイルム１４付きの支持体２２が連続して供給されるので、この供給されたマスク用フイルム１４付きの支持体２２を直ちにテンション設定部６８へ搬入するよう構成し、さらに、テンション設定部８０から搬出されたパターン薄膜が形成された支持体２２を大気―真空搬送装置８６を通して真空チャンバ９６の外部に設置したパターン薄膜形成済支持体末端切断部８２を通じて、パターン薄膜形成済支持体巻き取り部の巻き取りロール８４へ巻き取らせるように構成する。

よって、このパターン膜形成システムにおける第２の態様の構成では、第１の態様の構成と比較して、支持体末端切断部４０、ロール４２及び支持体原反接合部６６を省略して、構成を簡素化し、連続処理を可能として、その処理能率を向上できる。

次に、パターン膜形成システムにおける、マスク形成部と薄膜形成処理工程部とを共に真空チャンバ中に機器を収納して、真空中で作業を行う第３の態様の構成について説明する。

この第３の態様の構成については、図示しないが、図３に示す第２の態様の構成における大気―真空搬送装置８６部分を省略し、マスク形成部と薄膜形成処理工程部との全てを真空チャンバの内部に収納するよう構成する。

この第３の態様の構成では、第１の態様の構成と比較して、支持体末端切断部４０、ロール４２及び支持体原反接合部６６を省略して、構成を簡素化し、連続処理を可能として、その処理能率を向上できる。さらに、この第３の態様の構成は、支持体前処理部３２を真空プラズマ処理するよう構成するのに適する。

なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、その他種々の構成をとり得ることは勿論である。

本発明の実施の形態に係るパターン膜形成システムにおける、第１の態様に構成したマスク形成部を示す、概略構成図である。 本発明の実施の形態に係るパターン膜形成システムにおける、第１の態様に構成した薄膜形成処理工程部を示す、概略構成図である。 本発明の実施の形態に係るパターン膜形成システムにおける、第２の態様の構成を示す、概略構成図である。 （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は、本発明の実施の形態に係るパターン膜形成システムの薄膜形成処理工程部で薄膜を形成してからマスク用フイルムを取り除くことによって、支持体上に所定パターンの薄膜を形成する過程を示す説明図である。 本発明の実施の形態に係るパターン膜形成システムにおける、マスク用フィルムハーフカット部の概略斜視図である。 本発明の実施の形態に係るパターン膜形成システムにおける、トムソン刃台部分を取り出して示す要部の斜視図である。 本発明の実施の形態に係るパターン膜形成システムにおける、マスク用フィルムハーフカット部でハーフカットしている状態を示す要部拡大断面図である。 （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）は、本発明の実施の形態に係るマスク用材料を用いて、マスクを形成する各過程をそれぞれ例示する、要部斜視図である。

符号の説明

１０ 仮支持体
１２ 粘着層
１４ マスク用フイルム
１６ 粘着層
１８ 離けい材料
１８Ａ 剥離される離けい材料部分
１８Ｂ 残留される離けい材料部分
２０ マスク用材料
２２ マスク形成済支持体
３４ マスク貼着部
３６ マスク転写部
４８ マスク用フィルムハーフカット部
５０ 剥離操作手段
５４ 剥離ローラ
５８ サクションドラム
７０ 薄膜形成部
７２ マスク除去部
８６ 大気―真空搬送装置
９６ 真空チャンバ
９８ 薄膜
１００ サクションテーブル
１１０ トムソン刃台
１１２ トムソン刃
１１２Ａ トムソン刃
１１４ ストッパ部材

Claims (8)

1. 一方の平面に粘着層が形成された薄い膜状に形成したマスク用シート体を所定パターンに穿設する、型取り工程と、
   基板の材料となる支持体の表面に、所定パターンに穿設された前記マスク用シート体を粘着層の粘着力によって貼着する、貼着工程と、
   所定パターン形状の前記マスク用シート体が貼着された前記支持体の表面側に対して真空成膜法により薄膜を形成する、真空成膜工程と、
   前記薄膜が形成された前記支持体の表面から、所定パターン形状の前記マスク用シート体部分を取り除いて、前記支持体の表面に所定パターンの前記薄膜が形成された基板を完成させるマスク除去工程と、
   を有することを特徴とするマスク形成方法。
2. 可撓性シート状に形成した仮支持体と、
   前記仮支持体の表面に積層された第１粘着層と、
   前記第１粘着層上に積層された可撓性シート状のマスク用シート体と、
   前記マスク用シート体上に積層された第２粘着層と、
   前記第２粘着層の上に積層された離けい材料と、
   を有する多層構造に構成したことを特徴とするマスク用材料。
3. 前記第２粘着層の粘着力を、前記第１粘着層の粘着力よりも強くしたことを特徴とする請求項２に記載のマスク用材料。
4. 前記マスク用シート体を、ポリエチレンテレフタレート製の可撓性を有するシート材で構成したことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載のマスク用材料。
5. 可撓性シート状に形成した仮支持体と、前記仮支持体の表面に積層された第１粘着層と、前記第１粘着層上に積層された可撓性シート状のマスク用シート体と、前記マスク用シート体上に積層された第２粘着層と、前記第２粘着層の上に積層された離けい材料と、を有する多層構造に構成したマスク用材料を、マスクの形状に対応した所定形状に沿って、前記マスク用材料における前記離けい材料側の表面から前記仮支持体の一部に切込みが入る所定深さまで、ハーフカットを入れるよう構成したマスク用シート体ハーフカット部と、
   前記ハーフカットされた前記マスク用材料から、マスク形状に対応した剥離されるべき離けい材料部分だけを剥離する剥離操作手段と、
   前記マスク用材料における、剥離される離けい材料部分が剥離されることにより露呈した前記第２粘着層の表面を支持体の表面に当接させて貼着するマスク貼着部と、
   前記支持体の表面から前記マスク用材料を引き離す動作により、マスク形状に対応した前記マスク用シート体を前記第２粘着層によって貼着させて転写させるマスク転写部と、を具備するマスク形成部と、
   前記マスク形成部において、前記マスク用シート体を前記第２粘着層によって貼着した前記支持体の表面に、真空成膜法による薄膜を形成する薄膜形成部と、
   前記薄膜が形成された前記支持体から、前記マスク用シート体を取り除いて、所定パターンの薄膜を前記支持体上に形成するマスク除去部と、を具備する薄膜形成処理工程部と、
   を有することを特徴とするパターン膜形成システム。
6. 前記薄膜形成処理工程部が、真空チャンバの内部に真空状態で収納されるよう構成されていることを特徴とする請求項５に記載のパターン膜形成システム。
7. 前記マスク形成部で形成された前記マスク用シート体を前記第２粘着層によって貼着した前記支持体を、大気―真空搬送装置を通じて真空状態を保って搬送することにより、真空チャンバの内部に真空状態で収納された前記薄膜形成処理工程部へ搬入し、前記薄膜形成処理工程部において所定パターンの薄膜が形成された前記支持体を、前記大気―真空搬送装置を通じて大気中へ搬出するよう構成したことを特徴とする請求項５に記載のパターン膜形成システム。
8. 前記マスク形成部と、前記薄膜形成処理工程部とが、共に真空チャンバ内に配置されていることを特徴とする請求項５に記載のパターン膜形成システム。

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