JP2005213168A - イソオキサゾリン−３−イル誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、優れた除草効果と作物・雑草間の選択性を有するイソオキサゾリン−３−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を提供することを課題とする。
【解決手段】一般式［Ｉ］
【化１】

｛式中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基を示し、Ｑは、式Ｑ^１基又は式Ｑ^２基を表し、
【化２】

Ｒ^３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基を示し、Ｒ^４及びＲ^５は、互いに独立して、水素原子、置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基を示し、ｎは０から２の整数を示す｝で表されるイソオキサゾリン−３−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を活性成分として含有する除草剤を提供する。
【選択図】なし

Description

本発明は新規なイソオキサゾリン−３−イル誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。

イソオキサゾリン−３−イル誘導体が除草活性を有することは、例えば、特許文献１〜７等に報告されている。しかしながら本発明化合物はこれらの文献に記載されていない。
特開平８−２２５５４８号公報 特開平９−３２８４７７号公報 特開平９−３２８４８３号公報 ＷＯ０１／０１２６１３号公報 ＷＯ０２／０６２７７０号公報 ＷＯ０３／０００６８６号公報 ＷＯ０３／０１０１６５号公報

有用作物に対して使用される除草剤は、土壌又は茎葉に施用し、低薬量で十分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間に高い選択性を発揮する薬剤であることが望まれる。

本発明者らはこの様な状況に鑑み、除草効果と作物・雑草間の選択性を検討した結果、新規なイソオキサゾリン−３−イル誘導体が、優れた除草効果と作物・雑草間の選択性を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、
（１）一般式［Ｉ］を有するイソオキサゾリン−３−イル誘導体又はその薬理上許容される塩：

式中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｚ−Ｒ^６基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルフィニル基又はＣ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基を表し、さらにＲ^１及びＲ^２はこれらの結合した炭素原子と共にＣ_３〜Ｃ_７の炭素環を形成してもよく、Ｑは、式Ｑ^１又は式Ｑ^２を表し、

Ｒ^３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０ハロアルキル基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、置換基群αで置換されていてもよいヘテロ環基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｚ−Ｒ^６基、又は−ＺＲ^６基を表し、Ｒ^４及びＲ^５は、互いに独立して、水素原子、置換基群βで置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｚ−Ｒ^６基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基又は置換されていてもよいフェニル基を表し、
さらにＲ^４及びＲ^５はこれらの結合した炭素原子と共にＣ_３〜Ｃ_７の炭素環を形成してもよく、
Ｚは、Ｏ、Ｓ又はＮＲ^７を表し、
Ｒ^６及びＲ^７は、互いに独立して、
水素原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基又は置換基群αで置換されていてもよいフェニル基を表し、
ｎは、０〜２の整数を示す。
「置換基群α」
水酸基、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、置換基群γでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、置換基群δでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルＣ_１〜Ｃ_３アルキルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、置換基群δでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルチオ基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニルオキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、置換基群δでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、Ｃ_１〜Ｃ_６アシオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）
「置換基群β」
同一若しくは相異なる１〜３個のハロゲン原子、水酸基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルアミノ基、ジ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）アミノ基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基、置換されていてもよいベンジルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基又は置換されていてもよいフェニル基
「置換基群γ」
水酸基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はＣ_１〜Ｃ_３アルキル基で置換されてもよい）、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、モノ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、カルバモイル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
「置換基群δ」
Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基
（２）（１）に記載のイソオキサゾリン−３−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。

尚、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。

ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１，１−ジメチルペンチル基、２，２−ジメチルペンチル基、４，４−ジメチルペンチル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、１，１，３−トリメチルブチル基、１，２，２−トリメチルブチル基、１，３，３−トリメチルブチル基、２，２，３−トリメチルブチル基、２，３，３−トリメチルブチル基、１−プロピルブチル基、１，１，２，２−テトラメチルプロピル基、オクチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、６−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、５，５−ジメチルヘキシル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、１−エチル−１−メチルペンチル基、ノニル基、１−メチルオクチル基、２−メチルオクチル基、３−メチルオクチル基、７−メチルオクチル基、１−エチルヘプチル基、１，１−ジメチルヘプチル基、６，６−ジメチルヘプチル基、デシル基、１−メチルノニル基、２−メチルノニル基、６−メチルノニル基、１−エチルオクチル基、１−プロピルヘプチル基等を挙げることができる。

Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が３〜８の環状アルキル基を示し、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基又はシクロオクチル基を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜９で置換されている炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、１−クロロエチル基、２−クロロエチル基、１−ブロモエチル基、２−ブロモエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、１，２−ジクロロエチル基、２，２−ジクロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、２−ブロモ−２−クロロエチル基、２−クロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、１−クロロ−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、１−クロロプロピル基、２−クロロプロピル基、３−クロロプロピル基、２−ブロモプロピル基、３−ブロモプロピル基、２−ブロモ−１−メチルエチル基、３−ヨードプロピル基、２，３−ジクロロプロピル基、２，３−ジブロモプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３，３，３−トリクロロプロピル基、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピル基、３，３−ジクロロ−３−フルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、１−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、２，３−ジクロロ−１，１，２，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２−クロロブチル基、３−クロロブチル基、４−クロロブチル基、２−クロロ−１，１−ジメチルエチル基、４−ブロモブチル基、３−ブロモ−２−メチルプロピル基、２−ブロモ−１，１−ジメチルエチル基、２，２−ジクロロ−１，１−ジメチルエチル基、２−クロロ−１−クロロメチル−２−メチルエチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，３−トリフルオロ−１−メチルプロピル基、３，３，３−トリフルオロ−２−メチルプロピル基、２，３，４−トリクロロブチル基、２，２，２−トリクロロ−１，１−ジメチルエチル基、４−クロロ−４，４−ジフルオロブチル基、４，４−ジクロロ−４−フルオロブチル基、４−ブロモ−４，４−ジフルオロブチル基、２，４−ジブロモ−４，４−ジフルオロブチル基、３，４−ジクロロ−３，４，４−トリフルオロブチル基、３，３−ジクロロ−４，４，４−トリフルオロブチル基、４−ブロモ−３，３，４，４−テトラフルオロブチル基、４−ブロモ−３−クロロ−３，４，４−トリフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−メチル−１−トリフルオロメチルエチル基、３，３，３−トリフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基、２，３，３，３−テトラフルオロ−２−トリフルオロメチルプロピル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、４−クロロ−１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基等を挙げることができる。

Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、ｉ−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１，３−ブタジエニル基、１−ペンテニル基、１−エチル−２−プロペニル基、２−ペンテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、４−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、３−メチル−１−ブテニル基、１，２−ジメチル−２−プロペニル基、１，１−ジメチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、１，２−ジメチル−１−プロペニル基、２−メチル−３−ブテニル基、３−メチル−３−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基、１−ビニル−２−プロペニル基、１−ヘキセニル基、１−プロピル−２−プロペニル基、２−へキセニル基、１−メチル−１−ペンテニル基、１−エチル−２−ブテニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１−メチル−４−ペンテニル基、１−エチル−３−ブテニル基、１−(ｉ−ブチル)ビニル基、１−エチル−１−メチル−２−プロペニル基、１−エチル−２−メチル−２−プロペニル基、１−(ｉ−プロピル)−２−プロペニル基、２−メチル−２−ペンテニル基、３−メチル−３−ペンテニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、１，３−ジメチル−２−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、３−メチル−４−ペンテニル基、４−メチル−４−ペンテニル基、１，２−ジメチル−３−ブテニル基、１，３−ジメチル−３−ブテニル基、１，１，２−トリメチル−２−プロペニル基、１，５−ヘキサジエニル基、１−ビニル−３−ブテニル基又は２，４−ヘキサジエニル基等を挙げることができる。

Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−エチル−２−プロピニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、４−ペンチニル基、１−メチル−３−ブチニル基、２−メチル−３−ブチニル基、１−ヘキシニル基、１−(ｎ−プロピル)−２−プロピニル基、２−ヘキシニル基、１−エチル−２−ブチニル基、３−ヘキシニル基、１−メチル−２−ペンチニル基、１−メチル−３−ペンチニル基、４−メチル−１−ペンチニル基、３−メチル−１−ペンチニル基、５−ヘキシニル基、１−エチル−３−ブチニル基、１−エチル−１−メチル−２−プロピニル基、１−(ｉ−プロピル)−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−ブチニル基又は２，２−ジメチル−３−ブチニル基等を挙げることができる。

Ｃ_２〜Ｃ_６ハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４で置換されている炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば２−クロロビニル基、２−ブロモビニル基、２−ヨードビニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、３−ブロモ−２−プロペニル基、１−クロロメチルビニル基、２−ブロモ−１−メチルビニル基、１−トリフルオロメチルビニル基、３，３，３−トリクロロ−１−プロペニル基、３−ブロモ−３，３−ジフルオロ−１−プロペニル基、２，３，３，３−テトラクロロ−１−プロペニル基、１−トリフルオロメチル−２，２−ジフルオロビニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、２，３，３−トリクロロ−２−プロペニル基、４−ブロモ−３−クロロ−３，４，４−トリフルオロ−１−ブテニル基、１−ブロモメチル−２−プロペニル基、３−クロロ−２−ブテニル基、４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、４−ブロモ−４，４−ジフルオロ−２−ブテニル基、３−ブロモ−３−ブテニル基、３，４，４−トリフルオロ−３−ブテニル基、３，４，４−トリブロモ−３−ブテニル基、３−ブロモ−２−メチル−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−メチル−２−プロペニル基、３，３，３−トリフルオロ−２−メチルプロペニル基、３−クロロ−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基、３，３，３−トリフルオロ−１−メチル−１−プロペニル基、３，４，４−トリフルオロ−１，３−ブタジエニル基、３，４−ジブロモ−１−ペンテニル基、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロ−１−ペンテニル基、５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル基、４，５，５−トリフルオロ−４−ペンテニル基、３，４，４，４−テトラフルオロ−３−トリフルオロメチル−１−ブテニル基、４，４，４−トリフルオロメチル−３−メチル−２−ブテニル基、３，５，５−トリフルオロ−２，４−ペンタジエニル基、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロ−２−ヘキセニル基、３，４，４，５，５，５−ヘキサフルオロ−３−トリフルオロメチル−１−ペンテニル基、４，５，５，５−テトラフルオロ−４−トリフルオロメチル−２−ペンテニル基又は５−ブロモ−４，５，５−トリフルオロ−４−トリフルオロメチル−２−ペンテニル基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の直鎖又は分岐鎖の（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基又はイソブトキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖の（ハロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２−ジフルオロエトキシ基又は２，２，２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分が上記の意味である炭素数が３〜８の（シクロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基又はシクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルＣ_１〜Ｃ_３アルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキルアルキル部分及びアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキルアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ基、１−シクロプロピルエトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、１−シクロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、３−シクロプロピルプロポキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基又はシクロヘキシルメトキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（アルケニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロペニルオキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（アルキニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロピニルオキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシイミノ基とは、特に限定しない限り、アルコキシ部分が上記の意味である炭素数が２〜６の（アルコキシ）−Ｎ＝基を示し、例えばメトキシイミノ基又はエトキシイミノ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−Ｓ−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルフィニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−ＳＯ−基を示し、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｎ−プロピルスルフィニル基又はイソプロピルスルフィニル基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−ＳＯ₂−基を示し、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基又はイソプロピルスルホニル基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニルオキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）ＳＯ_２−Ｏ−基を示し、例えばメチルスルホニルオキシ基又はエチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−Ｃ（＝Ｏ）−基を示し、例えばアセチル基又はメチルカルボニル基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルアミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−ＮＨ−基を示し、例えばメチルアミノ基又はエチルアミノ基等を挙げる事ができる。

ジ(Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル)アミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）_２Ｎ−基を示し、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基又はジブチルアミノ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−基を示し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基又はイソプロポキシカルボニル基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基とは、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基又はピバロイル基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_６アシルオキシ基とは、アシル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アシル）−Ｏ−基を示し、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基又はピバロイルオキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）−Ｓ（Ｃ＝Ｏ）−基を示し、例えばメチルチオ基又はエチルチオ基等を挙げる事ができる。

Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜４の（ハロアルキル）−（Ｃ＝Ｏ）−基、を示し、例えばクロルアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ジフルオロメチルチオ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルチオ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜４の（ハロアルキル）−Ｓ−基を示し、例えば、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜４の（ハロアルキル）−ＳＯ₂−基を示し、例えばクロルメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基又はトリフルオロメチルスルホニル基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニルオキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜４の（ハロアルキル）Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を示し、例えばクロルアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基等を挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜４の（ハロアルキル）ＳＯ_２−Ｏ−基を示し、例えばクロルメチルスルホニルオキシ基又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。

モノ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基とはアルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜１０の（アルキル）ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−基を示し、例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基又はプロピルカルバモイル基等を挙げることができる。

ジ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基とはアルキル部分が上記の意味である（アルキル）_２Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−基を示し、例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基又はエチルメチルカルバモイル基等を挙げることができる。

置換されていてもよいフェニル基、置換されてもよいベンジルオキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基又は置換されていてもよいフェノキシカルボニル基における「置換されていてもよい基」とは、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基又はアミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又はハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）等の置換基を挙げることができる。

置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基又は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基の芳香族ヘテロ環とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を１〜３個有する５〜６員の基を示し、例えばフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基を挙げることができる。

薬理上許容される塩とは、一般式［Ｉ］を有する化合物において、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等がその構造中に存在する場合に、これらの基と金属もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩である。ここで、金属としてはナトリウム又はカリウム等のアルカリ金属或いはマグネシウム又はカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げることができ、有機塩基としてはトリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等を挙げることができ、鉱酸としては塩酸又は硫酸等を挙げることができ、有機酸としては酢酸、メタンスルホン酸又はパラ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。

次に、一般式［Ｉ］で表される本発明化合物の代表的な化合物例を表１〜表１３に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。

本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Ｍｅ ：メチル基 Ｅｔ ：エチル基、
Ｐｒ ：ｎ−プロピル基 Ｐｒ−ｉ ：イソプロピル基
Ｐｒ−ｃ ：シクロプロピル基 （４−Ｃｌ）Ｐｈ：４−クロロフェニル基
尚、本発明化合物は置換基として水酸基を含む場合、ケト−エノール異性体を有する化合物がある。さらに、本発明化合物にある二重結合においてＥ又はＺ異性体のどちらか一方を表わすことができ、両異性体の混合物を表わすこともできる。

本願発明化合物である一般式［Ｉ］は、以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。

＜製造法１＞ 工程１〜工程５

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＱは前記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ^６はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Ｌはハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基又は置換されていてもよいベンジルスルホニル基等の脱離基を表し、Ｙ^＋はナトリウムカチオン、カリウムカチオン又は塩基由来のカチオンを表す。）
以下、上記製造方法を工程毎に詳説する。

（工程１）
一般式［５］で表されるスルフィド誘導体は、一般式［１］で表される化合物と、一般式［２］で示される水硫化ナトリウム又は水硫化カリウムとを、溶媒中又は溶媒の非存在下で、塩基の存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる一般式［３］で表される塩を反応系内で製造した後、一般式［３］で表される塩を単離することなく一般式［４］で表されるハロゲン誘導体と反応させることによって製造することができる。

反応温度はいずれの反応も０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１００℃の温度範囲である。

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常０．５時間〜２４時間で終了する。

反応に供される試剤の量は一般式［１］で表される化合物１当量に対して、一般式［２］で表される化合物又は一般式［４］で表される化合物は１〜３当量、塩基を使用する場合は、塩基０．５〜３当量である。

溶媒としては、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。

塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類或いはナトリウムメトキシド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコールの金属塩類が挙げられる。

（工程２）
一般式［５］で示されるスルフィド誘導体は、一般式［６］で表される化合物に対し、一般式［７］で示されるメルカプタン誘導体を、溶媒中又は溶媒の非存在下で（好ましくは適当な溶媒中）、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１００℃の温度範囲である。

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常０．５時間〜２４時間で終了する。

反応に供される試剤の量は一般式［７］で表される化合物１当量に対して、一般式［６］で表される化合物は１〜３当量、塩基は０．５〜３当量である。

溶媒としては、例えばジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。

塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、或いはナトリウムメトキシド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコールの金属塩類が挙げられる。

（工程３）
一般式［８］で表されるスルホキシド誘導体は、一般式［５］で表されるスルフィド誘導体と酸化剤を、触媒の存在下又は非存在下、溶媒中で反応させることにより製造することができる。

反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１００℃の温度範囲である。

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１時間〜７２時間で終了する。

反応に供される試剤の量は一般式［５］で表される化合物1当量に対して酸化剤は０.５〜３当量、触媒は０．０１〜０．５当量である。

溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，２−ジメトキシエタン又はジエチルエーテル等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。

酸化剤としては、例えば、ｍ−クロロ過安息香酸、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、オキソン（ＯＸＯＮＥ、デュポン社商品名、２ＫＨＳＯ_５・ＫＨＳＯ_４・Ｋ_２ＳＯ_４）、過酸化水素、過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等の無機過酸化物が挙げられる。

触媒としては、例えば、タングステン酸ナトリウム等が挙げられる。

（工程４）
一般式［９］で表されるスルホン誘導体は、一般式［８］で表されるスルホキシド誘導体と酸化剤を、触媒の存在下又は非存在下、溶媒中で反応させることにより製造することができる。

反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１００℃の温度範囲である。

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１時間〜７２時間で終了する。

反応に供される試剤の量は、一般式［８］で表される化合物１当量に対して、ＱがＱ^１の場合、酸化剤は０.５〜３当量、触媒は０．０１〜０．５当量であり、ＱがＱ^２の場合、酸化剤は０.５〜５当量、触媒は０．０１〜０．５当量である。

溶媒、酸化剤及び触媒としては、工程３と同様なものが挙げられる。

（工程５）
一般式［９］で表されるスルホン誘導体は、触媒の存在下又は非存在下、溶媒中で、一般式［５］で表されるスルフィド誘導体と好適な酸化剤の量により一般式［８］で表されるスルホキシド誘導体を単離することなく製造することができる。

反応温度は０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜１００℃の温度範囲である。

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１時間〜７２時間で終了する。

反応に供される試剤の量は、一般式［５］で表される化合物１当量に対して、ＱがＱ^１の場合、酸化剤は０.５〜３当量、触媒は０．０１〜０．５当量であり、ＱがＱ^２の場合、酸化剤は０.５〜５当量、触媒は０．０１〜０．５当量である。
である。

溶媒、酸化剤及び触媒としては、工程３と同様なものが挙げられる。

＜製造法２＞ 工程６〜工程８
一般式［４］で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。

（式中、Ｒ^３、Ｒ⁴、Ｒ^５及びＸは前記と同じ意味を表し、Ｒ^７はアルキル基を表す。）
（工程６）
一般式［１１］で表される化合物は、化合物［１０］を溶媒中、塩基存在下又は非存在下ウィティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）試薬と反応させることにより製造することができる。この反応は通常、反応温度−６０〜１５０℃である。

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜２４時間で終了する。

反応に供される試剤の量は、化合物［１０］１当量に対して、塩基０．５〜３当量、ウィティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）試薬０．５〜３当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。

塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、或いは炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、ｎ−ブチルリチウム等のアルキル金属類、ナトリウムメトキシド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコールの金属塩類が挙げられる。

溶媒としては、例えばジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類、アセトニトリル等のニトリル類、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。

ウィティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）試薬としては、市販の試薬をそのまま使用してもよいが、丸善株式会社発行，実験化学講座（第４版），１９巻，有機合成Ｉ，５７頁〜７２頁記載の方法又は準じた方法等で製造することができる。

一般式［１０］で示される化合物は、市販の試薬をそのまま使用してもよいが、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（J. Org. Chem.）第６０巻（８），２４６１頁（１９９５年）、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letters）３７５頁（１９７８年）、３５３９頁（１９８０年）及び、７３０３頁（１９９４年）、シンセティック・コミュニケーション（Synth. Commun.,）１１巻（１２），９４３頁（１９８１年）、シンセシス（Synthesis）９巻，１２４１頁（１９９８年）、テトラヘドロン（Tetrahedron）５２巻(４２)，１３５１３頁（１９９６年）及びジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（J. Med. Chem.,）２４巻（４），３９９頁（１９８１年）記載の方法又はこれらに準じた方法等で製造することができる。

（工程７）
一般式［１２］で表される化合物は、化合物［１１］を溶媒中、還元剤と反応することにより製造することができる。

この反応は通常、反応温度−６０〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。

反応に供される試剤の量は、化合物［１１］１当量に対して、還元剤０．５〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。

還元剤としては、［１１］から［１２］の製造では、例えば水素化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物類、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物類、或いはジボランが挙げられる。

溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類、或いはメタノール又はエタノール等のアルコール類が挙げられる。

（工程８）
一般式［４］で表される化合物は、化合物［１２］を溶媒中、ハロゲン化剤と反応させるか、化合物［１２］を溶媒中、四臭化炭素又は四塩化炭素とトリフェニルホスフィンとを反応させることにより製造することができる。

この反応は通常、反応温度−５０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。

反応に供される試剤の量は化合物［１２］１当量に対して、ハロゲン化剤１〜３当量、四臭化炭素又は四塩化炭素１〜３当量、トリフェニルホスフィン１〜３当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。

ハロゲン化剤としては、例えば塩化水素、臭化水素、三塩化リン、三臭化リン又は塩化チオニル等が挙げられる。

溶媒としては、例えばジクロロエタン又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸等の酸類、或いはテトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。
＜製造法３＞ 工程９
一般式［４］で表される化合物は、以下の方法により製造するもできる。

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＸは前記と同じ意味を表す。）
一般式［４］で表される化合物は、化合物［１３］を溶媒中、触媒の存在下又は非存在下でハロゲン化剤と反応させることにより製造することができる。

この反応は通常、反応温度３０〜１５０℃で１０分〜２４時間反応させる。

反応に供される試剤の量は化合物［１３］１当量に対して、ハロゲン化剤１〜１０当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができ、触媒は０．０１〜０．５当量である。

ハロゲン化剤としては、例えば臭素又は塩素等のハロゲン類、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等のＮ−ハロコハク酸イミド類、過臭化ピリジニウム等のピリジン塩類、或いは、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン等が挙げられる。

溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、或いは、ギ酸又は酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。

触媒としては、例えば過酸化ベンゾイル等の過酸化物類、α,α−アゾビスイソブチロニトリル等のニトリル類又はこれらの混合物が挙げられる。

一般式［１３］で表される化合物は、市販の試薬をそのまま使用してもよいが、製造法２の工程６に記載のウィティッヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応を行うことにより、対応するケトン体から製造することができる。

本発明の除草剤は、一般式［Ｉ］で示されるイソオキサゾリン−３−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分としてなる。

本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤又は補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、フロアブル剤、微粒剤又は粒剤等に製剤して使用することもできる。

製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン又はメチルナフタレン等の液体担体等があげられる。

界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール又はアラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用する。

本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用又は水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。また、フロアブル剤とする場合は１〜４０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。

本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として１ヘクタール当り１ｇ〜５０ｋｇ、好ましくは１０ｇ〜１０ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤、水和剤及びフロアブル剤とする場合のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。

また、本発明の除草剤には、上記の様々な製剤形態において有効成分である本願化合物以外に必要に応じて他の公知の活性化合物、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、昆虫生育調整剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料及び土壌改良等と混用してもよい。

一般式［Ｉ］で表される本発明の化合物は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を防除することもできる。

次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明するが本発明はこれらの実施例になんら制約されるものではない。尚、本発明化合物の製造中間体の製造法も併せて記載する。また、化合物番号は以後の記載において参照される。

３−（３−メチル−２−フェニル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成（本発明化合物番号００１）
（１）３−メチル−２−フェニル−２−ブテン酸エチルの合成
臭化イソプロピルトリフェニルホスホニウム６.９２ｇ（１７.９ミリモル）のテトラヒドロフラン４０ｍｌ溶液に、０℃にてｎ−ブチルリチウム１１．２ｍｌ（１７.９ミリモル、１．６０モル／Ｌ、ｎ−ヘキサン溶液）を加え、同温度にて３０分間攪拌した。さらに反応溶液中に２−オキソ−２−フェニル酢酸エチル３.２０ｇ（１７.９ミリモル）を加え室温にて一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液中の溶媒を減圧下留去した。得られた残渣を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−メチル−２−フェニル−２−ブテン酸エチル１.３２ｇ（収率：３６％）を得た。

（２）３−メチル−２−フェニル−２−ブテン−１−オールの合成
３−メチル−２−フェニル−２−ブテン酸エチル１.３２ｇ（６.５０ミリモル）のテトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液に、室温にて水素化リチウムアルミニウム０.２４ｇ（６.５０ミリモル）を加え、同温度にて３時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液中に水及び水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した。濾液を分液し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−メチル−２−フェニル−２−ブテン−１−オール０.８０ｇ（収率：７６％）を得た。

（３）１−（１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン−２−イル）−ベンゼンの合成
３−メチル−２−フェニル−２−ブテン−１−オール０.８０ｇ（５.００ミリモル）のジエチルエーテル１０ｍｌに、室温にて三臭化りん０．４５ｇ（１．６５ミリモル）を加え、同温度にて２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し、１−（１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン−２−イル）−ベンゼン１.０２ｇ（収率：９１％）を得た。

（４）３−（３−メチル−２−フェニル−２−ブテニルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成
５，５−ジメチル−３−エタンスルホニル−２−イソオキサゾリン０．８６ｇ（４.５０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、室温にて水硫化ナトリウム０．３４ｇ（純度７０％、６.１０ミリモル）及び無水炭酸カリウム０.８１ｇ（１０.６０ミリモル）を加え１時間攪拌した。さらに１−（１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン−２−イル）−ベンゼン１.０２ｇ（４.５０ミリモル）を室温にて加え、１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−（３−メチル−２−フェニル−２−ブテニルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．６７ｇ（収率：５４％）を得た。

（５）３−（３−メチル−２−フェニル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成
３−（３−メチル−２−フェニル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．１６ｇ（０．５８ミリモル）のメタノール５．０ｍｌ及び水５.０ｍｌ溶液に、室温にてオキソン０．５３ｇ（０.８７ミリモル）を加え、一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の３−（３−メチル−２−フェニル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．０８ｇ（収率：４５％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．４０〜７．１８（ｍ，５Ｈ），４．５０（ｓ，２Ｈ），２．８０（ｓ，２Ｈ），２．０３（ｓ，３Ｈ），１．７２（ｓ，３Ｈ），１．３４（ｓ，６Ｈ）
融点：１０１〜１０３℃

３−（（３，３−ジメチル−２−フェニルオキシラン−２−イル）メチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成（本発明化合物番号００２）
３−（３−メチル−２−フェニル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．３２ｇ（１．１６ミリモル）のメタノール５．０ｍｌ及び水５.０ｍｌ溶液に、室温にてオキソン１．８３ｇ（３．００ミリモル）を加え、３時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し、無色結晶の３−（（３，３−ジメチル−２−フェニルオキシラン−２−イル）メチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．２８ｇ（収率：７５％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．３７〜７．２８（ｍ，５Ｈ），４．１５（ｄ，１Ｈ），４．０１（ｄ，１Ｈ），３．０６（ｄ，１Ｈ），２．７８（ｄ，１Ｈ），１．５６（ｓ，３Ｈ），１．４３（ｓ，３Ｈ），１．３９（ｓ，３Ｈ），０．９９（ｓ，３Ｈ）
融点：１２６〜１２７℃

３−［３−メチル−２−（２−クロロフェニル）−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成（本発明化合物番号００３）
（１）２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテン酸エチルの合成
ヨウ化イソプロピルトリフェニルホスホニウム０．９０ｇ（２．１ミリモル）のテトラヒドロフラン４．０ｍｌ溶液に、−６０℃にてｎ−ブチルリチウム１．３ｍｌ（２．１ミリモル、１．５８モル／Ｌ、ｎ−ヘキサン溶液）を加え、同温度にて１時間攪拌した。さらに反応溶液中に２−（２−クロロフェニル）−２−オキソ酢酸エチル０．３７ｇ（１．７４ミリモル）を加え同温度にて１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテン酸エチル０．２７ｇ（収率：６５％）を得た。

（２）２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテン−１−オールの合成
２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテン酸エチル０．２７ｇ（１．１３ミリモル）のテトラヒドロフラン３．０ｍｌ溶液に、−５０℃にて水素化イソブチルアルミニウム３．７ｍｌ（３．４０ミリモル、０．９３モル／Ｌ、トルエン溶液）を加え、同温度にて１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、濃塩酸にて中和した後、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、そのまま次反応を行った。

（３）１−（１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン−２−イル）−２−クロロベンゼンの合成
（２）で得られた粗製の２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテン−１−オールのジエチルエーテル溶液に、−２０℃にて三臭化りん０．４６ｇ（１．７０ミリモル）を加え、同温度にて１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し、粗製の１−（１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン−２−イル）−２−クロロベンゼンを得た。

（４）３−［２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルチオ］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成
５，５−ジメチル−３−エタンスルホニル−２−イソオキサゾリン０．２２ｇ（１．１３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．０ｍｌ溶液に、室温にて水硫化ナトリウム０．０９ｇ（純度７０％、１．１３ミリモル）、無水炭酸カリウム０．１９ｇ（１．３６ミリモル）及びロンガリット（Ｒｏｎｇａｌｉｔ，ＨＯＣＨ_２ＳＯ_２Ｎａ・２Ｈ_２Ｏ）０．２１ｇ（１．３６ミリモル）を加え１時間攪拌した。さらに３）で得られた粗製の１−（１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン−２−イル）−２−クロロベンゼンを室温にて加え、３０分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−［２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルチオ］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．１２ｇ（収率：３４％）を得た。

（５）３−［２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成
３−［２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルチオ］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．１２ｇ（０．３９ミリモル）のメタノール５．０ｍｌ溶液に、室温にてタングステン酸ナトリウム２水和物触媒量及び過酸化水素水０．１９ｇ（純度３５％、１．９５ミリモル）を加え、一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出した。さらに水層を酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を各々水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し無色結晶の３−［２−（２−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．１１ｇ（収率：８３％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．４１〜７．２０（ｍ，４Ｈ），４．６３（ｄ，１Ｈ），４．３６（ｄ，１Ｈ），２．９５（ｄ，２Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），１．６３（ｓ，３Ｈ），１．４０（ｄ，６Ｈ）
融点：８２〜８３℃

（２Ｚ）−４−（５，５−ジメチルイソオキサゾリン−３−イルスルホニル）−３−フェニル−２−ブテン酸メチルの合成（本発明化合物番号００４）
（１）（２Ｚ）−３−フェニル−２−ブテン酸メチルの合成
アセトフェノン２.００ｇ（１６.７ミリモル）のトルエン２５ｍｌ溶液に、室温にてトリフェニルホスホラニリデン酢酸メチル６.１２ｇ（１８.３ミリモル）を加え、３日間還流下攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、（２Ｚ）−３−フェニル−２−ブテン酸メチル０．４４ｇ（収率：１４％）を得た。

（２）（２Ｚ）−３−ブロモメチル−２−フェニル−２−ブテン酸メチルの合成
（２Ｚ）−３−フェニル−２−ブテン酸メチル０．４４ｇ（２.３２ミリモル）の四塩化炭素１０ｍｌ溶液に、室温にてＮ−ブロモコハク酸イミド０.４１ｇ（２.３２ミリモル）を加え、還流下５時間攪拌した。反応終了確認後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた粗製の（２Ｚ）−３−ブロモメチル−２−フェニル−２−ブテン酸メチルをそのまま次反応へ使用した。

（３）（２Ｚ）−４−（５，５−ジメチルイソオキサゾリン−３−イルチオ）−３−フェニル−２−ブテン酸メチルの合成
５，５−ジメチル−３−エタンスルホニル−２−イソオキサゾリン０．４４ｇ（２.３２ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５．０ｍｌ溶液に、室温にて水硫化ナトリウム０．１９ｇ（純度７０％、２.３２ミリモル）及び無水炭酸カリウム０．３８ｇ（２.７２ミリモル）を加え１時間攪拌した。さらに２）で得られた粗製の３−ブロモメチル−２−フェニル−２−ブテン酸メチルを室温にて加え、３０分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、（２Ｚ）−４−（５，５−ジメチルイソオキサゾリン−３−イルチオ）−３−フェニル−２−ブテン酸メチル０．３１ｇ（収率：４４％）を得た。

（４）（２Ｚ）−４−（５，５−ジメチルイソオキサゾリン−３−イルスルホニル）−３−フェニル−２−ブテン酸メチルの合成
（２Ｚ）−４−（５，５−ジメチルイソオキサゾリン−３−イルチオ）−３−フェニル−２−ブテン酸メチル０．３１ｇ（１.０２ミリモル）のメタノール５．０ｍｌ溶液に、室温にてタングステン酸ナトリウム２水和物触媒量及び過酸化水素水０．５１ｇ（純度３５％、５.１０ミリモル）を加え、一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出した。さらに水層を酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を各々水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し無色結晶の（２Ｚ）−４−（５，５−ジメチルイソオキサゾリン−３−イルスルホニル）−３−フェニル−２−ブテン酸メチル０．２３ｇ（収率：６７％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．５４〜７．４２（ｍ，５Ｈ），６．４４（ｓ，１Ｈ），５．３６（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），２．９９（ｓ，３Ｈ），１．４０（ｄ，６Ｈ）
融点：１０７〜１０８℃

３−（アリルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの合成（本発明化合物番号００５）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：５．９２（ｍ，１Ｈ），５．５４（ｍ，２Ｈ），４．０９（ｄ，２Ｈ），３．０９（ｓ，１Ｈ），１．４９（ｓ，６Ｈ）
融点：６４〜６５℃

３−（（Ｅ）−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号００６）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：６．０７〜５．８９（ｍ，１Ｈ），５．５９〜５．４８（ｍ，１Ｈ），４．１４〜４．１１（ｄｄ，２Ｈ），３．０８（ｄ，２Ｈ），１．８０（ｄｄ，３Ｈ），１．４９（ｓ，６Ｈ）

３−（シンナミルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号００７）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．４３〜７．３０（ｍ，５Ｈ），６．７６（ｄ，１Ｈ），６．２６〜６．１８（ｍ，１Ｈ），４．２４（ｄ，２Ｈ），３．０７（ｓ，２Ｈ），１．４６（ｓ，６Ｈ）
融点：１４５〜１４６℃

３−（（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロ−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号００８）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：６．４３（ｍ，１Ｈ），６．０７（ｍ，１Ｈ），４．２０（ｄ，２Ｈ），３．０９（ｓ，２Ｈ），１．５０（ｓ，６Ｈ）
融点：１１１〜１１２℃

３−［２−（３−クロロフェニル）−アリルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号００９）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．６１（ｓ，１Ｈ），７．４６〜７．３０（ｍ，３Ｈ），５．８４（ｓ，１Ｈ），５．５０（ｓ，１Ｈ），４．５１（ｓ，２Ｈ），３．０６（ｓ，２Ｈ），１．４３（ｓ，６Ｈ）
屈折率（ｎ^Ｄ _２０）：１．５６４１

３−［２−（４−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１０）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．３１（ｄ，２Ｈ），７．１４（ｄ，２Ｈ），４．４８（ｓ，２Ｈ），２．８８（ｓ，２Ｈ），２．０２（ｓ，３Ｈ），１．７１（ｓ，３Ｈ），１．３８（ｓ，６Ｈ）
屈折率（ｎ^Ｄ _２０）：１．５４２０

３−［２−（２−フルオロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１１）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．３３〜７．０３（ｍ，４Ｈ），４．４９（ｓ，２Ｈ），２．９２（ｓ，２Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．７１（ｓ，３Ｈ），１．３９（ｓ，６Ｈ）
屈折率（ｎ^Ｄ _２０）：１．５２４８

３−［２−（３−クロロフェニル）−３−メチル−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１２）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．３１〜７．１９（ｍ，３Ｈ），７．１０（ｄ，１Ｈ），４．４８（ｓ，２Ｈ），２．９１（ｓ，２Ｈ），２．０２（ｓ，３Ｈ），１．７２（ｓ，３Ｈ），１．３９（ｓ，６Ｈ）

３−［３−メチル−２−（２−トリフルオロメチルフェニル）−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１３）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．６７（ｄ，１Ｈ），７．５６〜７．３８（ｍ，２Ｈ），４．７４（ｄ，１Ｈ），４．１７（ｄ，１Ｈ），３．０２（ｓ，２Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．５３（ｓ，３Ｈ），１．４２（ｄ，６Ｈ）
融点：８７〜８８℃

３−［２−（２−エトキシフェニル）−３−メチル−２−ブテニルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１４）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．２２（ｄ，１Ｈ），７．１２（ｄ，１Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），４．５７（ｄ，２Ｈ），４．０４（ｍ，２Ｈ），２．７４（ｓ，２Ｈ），２．０２（ｓ，３Ｈ），１．７０（ｓ，３Ｈ），１．３８（ｔ，３Ｈ），１．３２（ｄ，６Ｈ）
融点：１１２〜１１３℃

３−｛２−［２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニル］−３−メチル−２−ブテニルスルホニル｝−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１５）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．２８（ｍ，１Ｈ），７．２２（ｄ，１Ｈ），７．０５（ｔ，１Ｈ），６．８６（ｄ，１Ｈ），４．５１（ｑ，２Ｈ），４．３４（ｑ，２Ｈ），２．８４（ｓ，２Ｈ），２．０２（ｓ，３Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ），１．３２（ｄ，６Ｈ）
融点：８４〜８５℃

３−（２−シクロヘキシル−３−メチル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１６）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：４．３０（ｓ，２Ｈ），３．１２（ｓ，２Ｈ），２．５１（ｍ，１Ｈ），１．８４〜１．１９（ｍ，２２Ｈ）
融点：５２〜５４℃

３−（（Ｚ）−２−フェニル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１７）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．４０〜７．２４（ｍ，５Ｈ），６．３３（ｑ，１Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ），２．８３（ｓ，２Ｈ），２．００（ｄ，３Ｈ），１．３２（ｓ，６Ｈ）

３−（（Ｅ）−２−フェニル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１８）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．４１〜７．２４（ｍ，５Ｈ），６．１１（ｑ，１Ｈ），４．３８（ｓ，２Ｈ），２．８５（ｓ，２Ｈ），１．７５（ｄ，３Ｈ），１．３６（ｓ，６Ｈ）
融点：８０〜８１℃

３−（（ＥＺ）−２−フェニル−２−ペンテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０１９）
融点：５４〜５７℃

３−（２−フェニル−２−ヘキセニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０２０）
融点：３７〜３８℃

３−（（Ｚ）−２，３−ジフェニルアリルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０２１）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．５２〜７．３２（ｍ，１０Ｈ），７．１６（ｓ，１Ｈ），４．８１（ｓ，２Ｈ），２．６７（ｓ，２Ｈ），１．２９（ｓ，６Ｈ）
融点：１２３〜１２５℃

３−（（Ｅ）−２，３−ジフェニルアリルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０２２）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：７．３２〜６．９９（ｍ，１０Ｈ），６．８８（ｓ，１Ｈ），４．５３（ｓ，２Ｈ），２．９１（ｓ，２Ｈ），１．３８（ｓ，６Ｈ）
融点：１５２〜１５４℃

３−（３−メチル−２−フェニル−２−ペンテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０２３）
屈折率（ｎ^Ｄ _２０）：１．５３６５

３−（２−メチル−３−フェニルアリルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０２４）
屈折率（ｎ^Ｄ _２０）：１．５４４１

（２Ｚ）−４−［（５，５−ジメチルイソオキサゾリン−３−イルスルホニル）メチル］−３−フェニルアクリル酸エチル（本発明化合物番号０２５）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：８．１４（ｓ，１Ｈ），７．６３〜７．４２（ｍ，５Ｈ），４．６２（ｓ，２Ｈ），４．３１（ｍ，２Ｈ），３．１４（ｓ，２Ｈ），１．５１（ｓ，６Ｈ），１．３７（ｔ，３Ｈ）
融点：１２５〜１２７℃

３−（（２Ｅ，４Ｅ）−２，４−ヘキサジエニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０２６）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：６．３４（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｍ，１Ｈ），５．８４（ｍ，１Ｈ），５．５４（ｍ，１Ｈ），４．０７（ｄ，２Ｈ），３．０６（ｓ，１Ｈ），１．７８（ｄ，３Ｈ），１．４７（ｓ，６Ｈ）
融点：４８〜５１℃

３−（３−メチル−２−ブテニルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号０２７）
^１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ_３／ＴＭＳ δ（ｐｐｍ））：５．３０（ｍ，１Ｈ），４．０８（ｄ，２Ｈ），３．０８（ｓ，２Ｈ），１．８４（ｓ，３Ｈ），１．７６（ｓ，３Ｈ），１．４９（ｓ，６Ｈ）
融点：３３〜３５℃
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。

水和剤
本発明化合物番号１の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の１３部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得た。

フロアブル剤
本発明化合物番号１の１３部を水６９部に分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩４部、エチレングリコール７部を加えるとともにシリコーンＡＦ−１１１Ｎ（旭化成工業株式会社製）を製剤に対し１３０ｐｐｍ加え、高速攪拌機にて３０分間混合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤を得た。

乳剤
本発明化合物番号１の３０部にキシレンとイソホロンの等量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得た。

粒剤
本発明化合物番号１の１０部、タルクとベントナイトを１：３の割合で混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得た。

次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。

＜試験例１＞ 水田土壌処理による除草効果試験
１００ｃｍ^２プラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ、コナギの種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、実施例２８に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、１ヘクタール当り１０００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表１４の基準に従って除草効果を調査した。結果を表１５に示す。

＜試験例２＞ 畑地土壌処理による除草効果試験
８０ｃｍ²プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種して覆土した。実施例２８に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表１４の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表１６に示す。

＜試験例３＞ 畑地茎葉処理による除草効果試験
８０ｃｍ²プラスチックポットに砂を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種し、温室内で２週間育成後、実施例２８に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当り１０００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表１４の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表１７に示す。

Claims (2)

1. 一般式［Ｉ］を有するイソオキサゾリン−３−イル誘導体又はその薬理上許容される塩：
   

   

   
   式中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｚ−Ｒ^６基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルフィニル基又はＣ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基を表し、さらにＲ^１及びＲ^２はこれらの結合した炭素原子と共にＣ_３〜Ｃ_７の炭素環を形成してもよく、
   Ｑは、式Ｑ^１基又は式Ｑ^２基を表し、
   

   

   
   Ｒ^３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０ハロアルキル基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、置換基群αで置換されていてもよいヘテロ環基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｚ−Ｒ^６基、又は−ＺＲ^６基を表し、
   Ｒ^４及びＲ^５は、互いに独立して、水素原子、置換基群βで置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｚ−Ｒ^６基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基又は置換されていてもよいフェニル基を表し、
   さらにＲ^４及びＲ^５はこれらの結合した炭素原子と共にＣ_３〜Ｃ_７の炭素環を形成してもよく、
   Ｚは、Ｏ、Ｓ又はＮＲ^７を表し、
   Ｒ^６及びＲ^７は、互いに独立して、水素原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基又は置換基群αで置換されていてもよいフェニル基を表し、
   ｎは、０〜２の整数を示す。
   「置換基群α」
   水酸基、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、置換基群γでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、置換基群δでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキルＣ_１〜Ｃ_３アルキルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、置換基群δでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルチオ基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルケニルオキシ基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、置換基群δでモノ置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、Ｃ_１〜Ｃ_６アシルオキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）
   「置換基群β」
   同一若しくは相異なる１〜３個のハロゲン原子、水酸基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルフィニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルアミノ基、ジ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）アミノ基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基、置換されていてもよいベンジルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基又は置換されていてもよいフェニル基
   「置換基群γ」
   水酸基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はＣ_１〜Ｃ_３アルキル基で置換されてもよい）、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、Ｃ_２〜Ｃ_６ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキルスルホニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、モノ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、ジ（Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル）カルバモイル基、カルバモイル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アシル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
   「置換基群δ」
   Ｃ_１〜Ｃ_１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基
2. 請求項１に記載のイソオキサゾリン−３−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。