JP2004277398A - 光学活性なスルフィミド化合物の製造方法 - Google Patents
光学活性なスルフィミド化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004277398A JP2004277398A JP2003310132A JP2003310132A JP2004277398A JP 2004277398 A JP2004277398 A JP 2004277398A JP 2003310132 A JP2003310132 A JP 2003310132A JP 2003310132 A JP2003310132 A JP 2003310132A JP 2004277398 A JP2004277398 A JP 2004277398A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- optically active
- formula
- sulfide
- sulfimide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- -1 alkyl aryl sulfide compound Chemical class 0.000 claims abstract description 61
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- VEUMANXWQDHAJV-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[(2-hydroxyphenyl)methylideneamino]ethyliminomethyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=NCCN=CC1=CC=CC=C1O VEUMANXWQDHAJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N thioanisole Chemical compound CSC1=CC=CC=C1 HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000000453 2,2,2-trichloroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(Cl)(Cl)Cl 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- DQNSKXYRRRCKGH-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-methylsulfanylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(SC)C=C1 DQNSKXYRRRCKGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LORGEKJSVDCHJA-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-(2-bromo-3-methylphenyl)sulfanyl-3-methylbenzene Chemical compound CC=1C(=C(C=CC=1)SC1=C(C(=CC=C1)C)Br)Br LORGEKJSVDCHJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- AEHWKBXBXYNPCX-UHFFFAOYSA-N ethylsulfanylbenzene Chemical compound CCSC1=CC=CC=C1 AEHWKBXBXYNPCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- KIQQUVJOLVCZKG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-methylsulfanylbenzene Chemical compound CSC1=CC=C(Cl)C=C1 KIQQUVJOLVCZKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 5
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- SYTBZMRGLBWNTM-SNVBAGLBSA-N (R)-flurbiprofen Chemical compound FC1=CC([C@H](C(O)=O)C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 SYTBZMRGLBWNTM-SNVBAGLBSA-N 0.000 description 2
- AQUBBCXSTBRUEM-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-(3-methyl-2-nitrophenyl)sulfanyl-2-nitrobenzene Chemical compound CC=1C(=C(C=CC=1)SC1=C(C(=CC=C1)C)[N+](=O)[O-])[N+](=O)[O-] AQUBBCXSTBRUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXIPVTKHYLBLMZ-UHFFFAOYSA-N Sodium azide Chemical compound [Na+].[N-]=[N+]=[N-] PXIPVTKHYLBLMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- GMELMFSDPDSXOZ-UHFFFAOYSA-N (1,1,1-trichloro-2-methylpropan-2-yl) carbonochloridate Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(C)(C)OC(Cl)=O GMELMFSDPDSXOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXSOHEHWJYGZRJ-UHFFFAOYSA-N (1,1,1-trichloro-2-methylpropan-2-yl) n-diazocarbamate Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(C)(C)OC(=O)N=[N+]=[N-] WXSOHEHWJYGZRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-PHDIDXHHSA-N (1r,2r)-cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound N[C@@H]1CCCC[C@H]1N SSJXIUAHEKJCMH-PHDIDXHHSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJMLCWKZDOCOPH-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-(2-chlorophenyl)sulfanylbenzene Chemical group ClC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1Cl JJMLCWKZDOCOPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEZGPRYOJVPJKL-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfanyl-4-nitrobenzene Chemical compound CSC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 NEZGPRYOJVPJKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- LJCZNYWLQZZIOS-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichlorethoxycarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)OCC(Cl)(Cl)Cl LJCZNYWLQZZIOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WEVZXQCTGRQZOK-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1-(4-bromo-2-methylphenyl)sulfanyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC(Br)=CC=C1SC1=CC=C(Br)C=C1C WEVZXQCTGRQZOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006269 biphenyl-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C1=C(*)C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C381/00—Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
- C07C381/10—Compounds containing sulfur atoms doubly-bound to nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/07—Optical isomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】脱離の容易な基を有する化合物をナイトレン先駆体として用い、高いエナンチオ選択性で光学活性なスルフィミド化合物を製造できる方法を提供する。
【解決手段】下記式(I)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体又はその鏡像異性体を触媒として使用し、アルキルアリールスルフィド化合物を下記式(IV)で表されるアジド化合物を用いて不斉スルフィミド化反応することを特徴とする光学活性なスルフィミド化合物の製造方法である。
【化１】
（式中、Ａｒ1は、それぞれ独立して炭素数１０〜１６のアリール基を示す。）
Ｒ2−ＯＣＯＮ3 ・・・ (IV)
（式中、Ｒ2は、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数７〜１３のアラルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を示す。）
【選択図】なし
【解決手段】下記式(I)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体又はその鏡像異性体を触媒として使用し、アルキルアリールスルフィド化合物を下記式(IV)で表されるアジド化合物を用いて不斉スルフィミド化反応することを特徴とする光学活性なスルフィミド化合物の製造方法である。
【化１】
（式中、Ａｒ1は、それぞれ独立して炭素数１０〜１６のアリール基を示す。）
Ｒ2−ＯＣＯＮ3 ・・・ (IV)
（式中、Ｒ2は、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数７〜１３のアラルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を示す。）
【選択図】なし
Description
本発明は、光学活性なスルフィミド化合物の製造方法に関するものである。このような光学活性なスルフィミド化合物は、医農薬品の合成に使用でき、また、光学活性なスルフィド化合物と同様に有機合成において不斉補助剤として有用である。
ナイトレン移動反応は、窒素を含む官能基を有する光学活性な化合物の合成における最も重要な反応である。そのため、該反応用の触媒が多数開発されており、多くの反応において、高いエナンチオ選択性が達成されている。
しかしながら、これらの反応では、原子効率の低い試薬であるＮ-アリールスルフォニルイミノフェニルアイオディナン類（ＡｒＳＯ2Ｎ＝ＩＰｈ）をナイトレン先駆体として用いているため、ナイトレン先駆体の原子効率の点で、依然として改良の余地が大きかった。そこで、昨今、ナイトレン先駆体としてアジド化合物の使用が検討されており、該アジド化合物は、対応するナイトレンと副生物として窒素を生成する。
例えば、Jacobsenらは、Ｎ-アリールスルフォニルアジドが、銅イオンの存在のもと、光照射下での不斉アジリジン化反応用のナイトレン先駆体として機能することを報告した。
また、本発明者らは、Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体が、光照射なしの条件で、アリールスルフォニルアジドをナイトレン先駆体としたアルキルアリールスルフィドのスルフィミド化反応の触媒として機能し、該反応が高いエナンチオ選択性で進行することを報告した（非特許文献１参照）。しかしながら、得られた含窒素化合物からアリールスルフォニル基を除去するには、多くの場合、厳しい反応条件を必要とする。
村上、内田、香月、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron letters)、４２、７０７１頁、２００１年
そこで、本発明の目的は、脱離の容易な基を有する化合物をナイトレン先駆体として用い、高いエナンチオ選択性で光学活性なスルフィミド化合物を製造できる方法を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を行った結果、特定のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒とし、アルキルアリールスルフィド化合物をカルバモイル基を有する特定のアジド化合物を用いて不斉スルフィミド化反応することにより、光学純度の高いスルフィミド化合物を製造できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法は、下記式(I)又は下記式(II)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒として使用し、下記式(III)で表されるアルキルアリールスルフィド化合物を下記式(IV)で表されるアジド化合物を用いて不斉スルフィミド化反応することを特徴とする。
（式(I)及び式(II)中、Ａｒ1は、それぞれ独立して炭素数１０〜１６のアリール基を示す。）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基を示し；Ｘ及びＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）
Ｒ2−ＯＣＯＮ3 ・・・ (IV)
（式中、Ｒ2は、炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数７〜１３のアラルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を示し、該アルキル基、アラルキル基及びアリール基中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）
（式(I)及び式(II)中、Ａｒ1は、それぞれ独立して炭素数１０〜１６のアリール基を示す。）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基を示し；Ｘ及びＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）
Ｒ2−ＯＣＯＮ3 ・・・ (IV)
（式中、Ｒ2は、炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数７〜１３のアラルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を示し、該アルキル基、アラルキル基及びアリール基中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）
本発明の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法の好適例においては、前記Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体が、下記式(V)又は下記式(VI)で表される。
本発明の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法の他の好適例においては、前記式(III)で表されるアルキルアリールスルフィド化合物が、メチルフェニルスルフィド、メチル-ｐ-メトキシフェニルスルフィド、メチル-ｐ-クロロフェニルスルフィド、エチルフェニルスルフィド、メチル-ｏ-ブロモフェニルスルフィド、又はメチル-ｏ-ニトロフェニルスルフィドである。
本発明の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法の他の好適例においては、前記式(IV)で表されるアジド化合物において、Ｒ2が、メチル基、ｎ-ブチル基、ベンジル基、ｔ-ブチル基、フェニル基、２,２,２-トリクロロエチル基、又は２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基である。ここで、式(IV)中のＲ2としは、２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基が特に好ましい。
本発明の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法の他の好適例においては、前記スルフィミド化合物が、下記式(VII)で表される。
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ及びＹは上記と同義である。）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ及びＹは上記と同義である。）
ここで、上記式(VII)で表されるスルフィミド化合物として、具体的には、Ｒ1がメチル基又はエチル基で；Ｘが水素原子、塩素原子、又はメトキシ基で；Ｙが水素原子、臭素原子、又はニトロ基で；Ｒ2がメチル基、ｎ-ブチル基、ベンジル基、ｔ-ブチル基、フェニル基、２,２,２-トリクロロエチル基、又は２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基である化合物を挙げることができる。該式(VII)で表されるスルフィミド化合物の中でも、式(VII)中のＲ2が２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基である化合物が特に好ましい。
上記に示したように、本発明の製造方法では、脱離が容易なＲ2−ＯＣＯ基を有する式(IV)のアジド化合物をナイトレン先駆体として使用できるため、生成物から保護基を外すのに要するコストを低減できる。また、高いエナンチオ選択率で光学活性なスルフィミドの両鏡像異性体を製造することができる。これにより、医農薬品の合成または有機合成における不斉補助剤に使用できる光学活性なスルフィミド化合物を光学純度の高い状態で提供することができる。
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明で触媒として使用する光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体は、前記式(I)又は式(II)で表される。ここで、式(II)の錯体は、式(I)の錯体の鏡像異性体である。式(I)及び式(II)中、Ａｒ1は、それぞれ独立して炭素数１０〜１６のアリール基を示し、該アリール基としては、例えば１-ナフチル基、２-ビフェニル基、２-フェニル-１-ナフチル基、２-メチル-１-ナフチル基、２-[３,５-ジメチルフェニル]-１-ナフチル基、２-[４-メチルフェニル]-１-ナフチル基、２-{４-[ｔ-ブチルジフェニルシリル]フェニル}-１-ナフチル基、２-メトキシ-１-ナフチル基等が例示できる。これらの中でも、Ａｒ1としては、触媒活性及びエナンチオ選択性の観点から、２-フェニル-１-ナフチル基が好ましく、この場合、Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体は、前記式(V)又は式(VI)で表される。これらのＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体はアピカル位にＣＯ配位子を有する。触媒としてのＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体の使用量は、基質のアルキルアリールスルフィドのモル量に対し、0.1〜100mol％、好ましくは1〜4mol％の範囲である。
本発明で使用するアルキルアリールスルフィドは、上記式(III)で表される。式(III)において、Ｒ1は炭素数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基を示し、炭素数１〜１０のアルキル基としては、 メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ- ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等が例示でき、該アルキル基はハロゲン等で置換されていてもよい。また、Ｘ及びＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し、炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が例示でき、該アルコキシ基はハロゲン等で置換されていてもよい。
上記式(III)のアルキルアリールスルフィドとして、具体的には、メチルフェニルスルフィド、メチル-ｐ-メトキシフェニルスルフィド、メチル-ｐ-クロロフェニルスルフィド、エチルフェニルスルフィド、メチル-ｏ-ブロモフェニルスルフィド、メチル-ｏ-ニトロフェニルスルフィド、メチル-ｐ-ニトロフェニルスルフィド、及びメチル-ｐ-ブロモフェニルスルフィド等が挙げられる。なお、スルフィド化合物として、ジアルキルスルフィドを用いると、エナンチオ選択性が低くなり好ましくない。
本発明でナイトレン先駆体として使用するアジド化合物は、上記式(IV)で表されるＮ-カルバモイルアジドであり、脱離が容易なＲ2−ＯＣＯ基を有する。式(IV)において、Ｒ2は、炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数７〜１３のアラルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を示し、該アルキル基、アラルキル基及びアリール基中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ここで、炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ-ブチル基、ｔ-ブチル基、イソプロピル基、ビス(シクロヘキシル)メチル基等が挙げられ、ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、２,２,２-トリクロロエチル基及び２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基等が挙げられる。また、炭素数７〜１３のアラルキル基としては、ベンジル基、２-フェニルエチル基、３-フェニルプロピル基、ジフェニルメチル基等が挙げられ、炭素数６〜１０のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、２,４,６-トリメチルフェニル基等が挙げられる。これらの中でも、式(IV)のＲ2としては、アルキル基及びアラルキル基が好ましく、ハロゲンで置換されたアルキル基が更に好ましい。これらのＮ-カルバモイルアジドは、例えば、市販されている２,２,２-トリクロロエチル クロロホルメイト及び２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル クロロホルメイトをアセトン中でアジ化ナトリウムで処理して容易に合成でき、入手が容易である。
上記式(IV)のアジド化合物の使用量は、前記アルキルアリールスルフィド化合物に対し、1〜3当量(eq)、好ましくは1〜1.5当量(eq)の範囲である。収率を上げる観点からは、上記アルキルアリールスルフィド化合物のモル数に比べて、上記アジド化合物のモル数を幾分過剰にするのが好ましい。
本発明の最終生成物である光学活性なスルフィミド化合物は、上記式(VII)で表される。なお、式(I)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体と式(II)のＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体との使い分けによって、光学活性なスルフィミド化合物の両鏡像異性体が得られる。式(VII)において、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ及びＹは上記と同義である。これら光学活性なスルフィミド化合物は医農薬品の合成に使用でき、また、光学活性なスルフィド化合物と同様に有機合成において不斉補助剤として有用である。
本発明で行う不斉スルフィミド化反応は、スルフィドとナイトレン先駆体とをエナンチオ選択的に反応させる反応であり、スルフィドの不斉イミド化反応である。従来のスルフィミド化反応では、生成物からアリールスルフォニル基を除去するのが困難なアリールスルフォニルアジドをナイトレン先駆体として用いていたが、本発明では、脱離が容易なＲ2−ＯＣＯ基を有する式(IV)のアジド化合物をナイトレン先駆体に使用する点で、生成物から該Ｒ2−ＯＣＯ基を容易に外すことができる。
本発明の製造方法で得られるスルフィミド化合物の光学純度、即ち、鏡像体過剰率は、以下の式で表される。
式中、[α]Dは試料の比旋光度を、[α]Dmaxは光学的に純粋な物質の比旋光度を、Ｒは試料中に占めるＲ体の割合を、Ｓは試料中に占めるＳ体の割合を示す。Ｒ体とＳ体の割合が同じ場合、即ちラセミ体の場合は、鏡像体過剰率は0％eeとなる。生成物の鏡像体過剰率は、光学活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィー(ＨＰＬＣ)により測定することができる。
式中、[α]Dは試料の比旋光度を、[α]Dmaxは光学的に純粋な物質の比旋光度を、Ｒは試料中に占めるＲ体の割合を、Ｓは試料中に占めるＳ体の割合を示す。Ｒ体とＳ体の割合が同じ場合、即ちラセミ体の場合は、鏡像体過剰率は0％eeとなる。生成物の鏡像体過剰率は、光学活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィー(ＨＰＬＣ)により測定することができる。
本発明では、ゼオライトの存在下で不斉スルフィミド化反応することが好ましい。ゼオライトが存在しない場合でも、不斉スルフィミド化反応は高いエナンチオ選択性で進行するが、ゼオライトの存在下で行うことにより、収率を大きく向上させることができる。本発明で使用するゼオライトとしては、ＭＳ-３Ａ、ＭＳ-４Ａ、ＭＳ-５Ａ等が例示でき、この中でも、ＭＳ-４Ａが好ましい。ゼオライトの使用量としては、基質のアルキルアリールスルフィド化合物1mmolに対し、50〜500mg、好ましくは100〜300mgの範囲である。
本発明の不斉スルフィミド化反応は、溶媒中で行う。溶媒としては、クロロベンゼン、ジクロロエタン、トルエン、ジクロロメタン等が例示でき、ジクロロメタンが好ましい。溶媒の使用量は、基質のアルキルアリールスルフィド1mmolに対し、2〜50mL、好ましくは4〜10mLの範囲である。
本発明の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法は、10〜40℃の範囲で実施でき、室温で好適に実施できる。本発明は、室温と温和な温度条件で実施できるため、温度調節にかかるエネルギーコストを抑制することができる。また、本発明では、アルキルアリールスルフィド化合物、アジド化合物、溶媒及び触媒の混合溶液を、撹拌することにより光学活性なスルフィミド化合物を製造することができる。反応時間は特に限定されず、反応温度に応じて適宜選択される。反応温度が高い場合は反応時間を短く、反応温度が低い場合は反応時間を長くすることが好ましい。但し、0℃まで下げると反応の進行が著しく遅くなる。
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
（錯体合成例１）
(1R,2R)-1,2-ジアミノシクロヘキサン[Aldrich Chem. Co.](27.5mg, 0.24mmol)をエタノール(5ml)に溶解させる。次に、(aR)-3-ホルミル-2-ヒドロキシ-2'-フェニル-1,1'-ビナフチル[H. Sasaki, R. Irie, T. Hamada, K. Suzuki, and T.Katsuki, Tetrahedron, 50(41), 11827-11838(1994)等に記載の方法にて合成](179.7mg, 0.48mmol)を加え、この溶液を24時間室温で撹拌する。反応終了後、生じた沈殿物をろ取し、1時間50℃で減圧乾燥させる。乾燥した残渣に、窒素雰囲気下トリルテニウムドデカカルボニル[Aldrich Chem. Co.](152.1mg, 0.24mmol)と脱水エタノール(10ml)を加え、生じた懸濁液を5日間加熱還流する。その後室温に戻し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、溶媒を取り除く。得られた残渣をジクロロメタン/エタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで精製分離し、前記式(V)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体(80.5mg, 収率36%)を得た。
(1R,2R)-1,2-ジアミノシクロヘキサン[Aldrich Chem. Co.](27.5mg, 0.24mmol)をエタノール(5ml)に溶解させる。次に、(aR)-3-ホルミル-2-ヒドロキシ-2'-フェニル-1,1'-ビナフチル[H. Sasaki, R. Irie, T. Hamada, K. Suzuki, and T.Katsuki, Tetrahedron, 50(41), 11827-11838(1994)等に記載の方法にて合成](179.7mg, 0.48mmol)を加え、この溶液を24時間室温で撹拌する。反応終了後、生じた沈殿物をろ取し、1時間50℃で減圧乾燥させる。乾燥した残渣に、窒素雰囲気下トリルテニウムドデカカルボニル[Aldrich Chem. Co.](152.1mg, 0.24mmol)と脱水エタノール(10ml)を加え、生じた懸濁液を5日間加熱還流する。その後室温に戻し、ロータリーエバポレーターで濃縮し、溶媒を取り除く。得られた残渣をジクロロメタン/エタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで精製分離し、前記式(V)で表されるＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体(80.5mg, 収率36%)を得た。
上記の方法で得られた錯体の元素分析の結果は、Ｈ 4.32％、Ｃ 65.12％、Ｎ 2.35％であり、Ｃ61Ｈ44Ｎ2Ｏ3Ｒｕ・２Ｈ2Ｏ・２ＣＨ2Ｃｌ2の理論値（Ｈ 4.52％、Ｃ 65.23％、Ｎ 2.42％）と非常に良く一致していた。また、上記方法で得られた錯体のＩＲ測定の結果、1323.1, 1423.4, 1490.9, 1541.0, 1577.7, 1612.4, 1934.5, 2019.3cm-1に上記錯体に特徴的なシグナルが観測された。
（実施例１）
前記式(V)で表される錯体(1.9mg, 2.0μmol)を乾燥トルエン(1mL)に溶解させ、真空下で共沸させて濃縮し、再びジクロロメタン(0.5mL)に溶解させた。この溶液にメチルフェニルスルフィド(11.7μL, 0.1mmol)及びＭＳ-４Ａ(20mg)を加え、この懸濁液を室温で0.5時間撹拌した。次に、この懸濁液にＮ-メトキシカルボニルアジド(10.9μL, 0.13mmol)を加え、混合物全体を室温で更に24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を、酢酸エチルを用いてシリカゲルでクロマトグラフ分離し、対応するスルフィミド化合物(4.1mg, 収率21％)を得た。このスルフィミド化合物の鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックＡＤ-Ｈ(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプロパノール(=9/1)混合液を用い高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、鏡像体過剰率は13％eeであった。結果を表１に示す。
前記式(V)で表される錯体(1.9mg, 2.0μmol)を乾燥トルエン(1mL)に溶解させ、真空下で共沸させて濃縮し、再びジクロロメタン(0.5mL)に溶解させた。この溶液にメチルフェニルスルフィド(11.7μL, 0.1mmol)及びＭＳ-４Ａ(20mg)を加え、この懸濁液を室温で0.5時間撹拌した。次に、この懸濁液にＮ-メトキシカルボニルアジド(10.9μL, 0.13mmol)を加え、混合物全体を室温で更に24時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を、酢酸エチルを用いてシリカゲルでクロマトグラフ分離し、対応するスルフィミド化合物(4.1mg, 収率21％)を得た。このスルフィミド化合物の鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックＡＤ-Ｈ(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプロパノール(=9/1)混合液を用い高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、鏡像体過剰率は13％eeであった。結果を表１に示す。
（実施例２〜７）
Ｎ-メトキシカルボニルアジド(0.13mmol)に代えて、実施例２ではＮ-ｎ-ブトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例３ではＮ-ベンジルオキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例４ではＮ-ｔ-ブトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例５ではＮ-フェニルオキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例６ではＮ-２,２,２-トリクロロエトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例７では、Ｎ-２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を用いた以外は実施例１と同様にして行った。結果を表１に示す。
Ｎ-メトキシカルボニルアジド(0.13mmol)に代えて、実施例２ではＮ-ｎ-ブトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例３ではＮ-ベンジルオキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例４ではＮ-ｔ-ブトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例５ではＮ-フェニルオキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例６ではＮ-２,２,２-トリクロロエトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を、実施例７では、Ｎ-２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエトキシカルボニルアジド(0.13mmol)を用いた以外は実施例１と同様にして行った。結果を表１に示す。
表１の実施例１〜７に対応する反応式を下記に示す。
表１から、式(IV)のアジド化合物において、Ｒ2がアルキル基の場合、該アルキル基の嵩が大きくなるに従い、エナンチオ選択性が向上することが分かる。このことから、式(IV)のアジド化合物のＲ2が、立体因子を通じてエナンチオ選択性に影響を及ぼしていることが分かる。また、アルキル基の水素を塩素で置換することにより、収率及び鏡像体過剰率が更に向上することが分かる。このことから、電気的因子を通じて反応速度に影響を及ぼすものと考えられる。特に、嵩高く且つ電子吸引性のアルキル基を有する２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエトキシカルボニルアジドが、本発明の方法におけるアジド化合物として好ましいことが分かる。
（参照例１〜４）
Ｎ-メトキシカルボニルアジド(0.13mmol)に代えて、表２に示すアジド化合物(0.13mmol)を用いる以外は、実施例１と同様に行った。結果を表２に示す。
Ｎ-メトキシカルボニルアジド(0.13mmol)に代えて、表２に示すアジド化合物(0.13mmol)を用いる以外は、実施例１と同様に行った。結果を表２に示す。
表２から、式(IV)のアジド化合物以外のアジド化合物では、不斉スルフィミド化反応が起こらないことが分かる。
（実施例８〜１２）
メチルフェニルスルフィド(0.1mmol)に代えて、表３に示す構造のスルフィド化合物(0.1mmol)を用いる以外は、実施例７と同様に行った。結果を表３に示す。
メチルフェニルスルフィド(0.1mmol)に代えて、表３に示す構造のスルフィド化合物(0.1mmol)を用いる以外は、実施例７と同様に行った。結果を表３に示す。
表３の実施例７〜１２に対応する反応式を下記に示す。
表３から、本発明の方法によれば、種々のアルキルアリールスルフィドのスルフィミド化を非常に高いエナンチオ選択性で進行させることができるのが分かる。
本発明の製造方法で得られる光学活性なスルフィミド化合物は、医農薬品の合成に使用でき、また、光学活性なスルフィド化合物と同様に有機合成において不斉補助剤として有用である。
Claims (8)
- 下記式(I)又は下記式(II)で表される光学活性なＲｕ(サレン)(ＣＯ)錯体を触媒として使用し、下記式(III)で表されるアルキルアリールスルフィド化合物を下記式(IV)で表されるアジド化合物を用いて不斉スルフィミド化反応することを特徴とする光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
（式(I)及び式(II)中、Ａｒ1は、それぞれ独立して炭素数１０〜１６のアリール基を示す。）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜１０の直鎖若しくは分岐のアルキル基を示し；Ｘ及びＹはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）
Ｒ2−ＯＣＯＮ3 ・・・ (IV)
（式中、Ｒ2は、炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数７〜１３のアラルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を示し、該アルキル基、アラルキル基及びアリール基中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。） - 前記Ｒｕ(サレン)(ＣＯ)錯体が、下記式(V)又は下記式(VI)で表されることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
- 前記式(III)で表されるアルキルアリールスルフィド化合物が、メチルフェニルスルフィド、メチル-ｐ-メトキシフェニルスルフィド、メチル-ｐ-クロロフェニルスルフィド、エチルフェニルスルフィド、メチル-ｏ-ブロモフェニルスルフィド、又はメチル-ｏ-ニトロフェニルスルフィドであることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
- 前記式(IV)で表されるアジド化合物において、Ｒ2が、メチル基、ｎ-ブチル基、ベンジル基、ｔ-ブチル基、フェニル基、２,２,２-トリクロロエチル基、又は２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基であることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
- 前記式(IV)で表されるアジド化合物において、Ｒ2が、２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基であることを特徴とする請求項４に記載の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
- 前記スルフィミド化合物が、下記式(VII)で表されることを特徴とする請求項１に記載の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ及びＹは上記と同義である。） - 前記式(VII)で表されるスルフィミド化合物において、Ｒ1がメチル基又はエチル基で；Ｘが水素原子、塩素原子、又はメトキシ基で；Ｙが水素原子、臭素原子、又はニトロ基で；Ｒ2がメチル基、ｎ-ブチル基、ベンジル基、ｔ-ブチル基、フェニル基、２,２,２-トリクロロエチル基、又は２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基であることを特徴とする請求項６に記載の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
- 前記式(VII)で表されるスルフィミド化合物において、Ｒ2が、２,２,２-トリクロロ-１,１-ジメチルエチル基であることを特徴とする請求項７に記載の光学活性なスルフィミド化合物の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003310132A JP2004277398A (ja) | 2003-02-25 | 2003-09-02 | 光学活性なスルフィミド化合物の製造方法 |
| US10/777,244 US20040230077A1 (en) | 2003-02-25 | 2004-02-13 | Method of producing optically active sulfimide compound |
| EP04250921A EP1452523A3 (en) | 2003-02-25 | 2004-02-20 | Method of producing optically active sulfimide compounds |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003047744 | 2003-02-25 | ||
| JP2003310132A JP2004277398A (ja) | 2003-02-25 | 2003-09-02 | 光学活性なスルフィミド化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004277398A true JP2004277398A (ja) | 2004-10-07 |
Family
ID=32775228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003310132A Pending JP2004277398A (ja) | 2003-02-25 | 2003-09-02 | 光学活性なスルフィミド化合物の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20040230077A1 (ja) |
| EP (1) | EP1452523A3 (ja) |
| JP (1) | JP2004277398A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008222611A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Nissan Chem Ind Ltd | アルミニウムサラレン錯体触媒を用いた光学活性スルホキシド化合物の製造法 |
| WO2009014362A3 (en) * | 2007-07-25 | 2009-03-12 | Rstech Corp | Novel bimetallic salen catalyst and method for the synthesis of chiral compounds using the same |
| CN112010794A (zh) * | 2020-09-25 | 2020-12-01 | 温州大学 | 一种合成n-取代硫酰亚胺类化合物的方法 |
-
2003
- 2003-09-02 JP JP2003310132A patent/JP2004277398A/ja active Pending
-
2004
- 2004-02-13 US US10/777,244 patent/US20040230077A1/en not_active Abandoned
- 2004-02-20 EP EP04250921A patent/EP1452523A3/en not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008222611A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Nissan Chem Ind Ltd | アルミニウムサラレン錯体触媒を用いた光学活性スルホキシド化合物の製造法 |
| WO2009014362A3 (en) * | 2007-07-25 | 2009-03-12 | Rstech Corp | Novel bimetallic salen catalyst and method for the synthesis of chiral compounds using the same |
| KR100910067B1 (ko) | 2007-07-25 | 2009-09-10 | 주식회사 알에스텍 | 신규 바이메탈 살렌 촉매 및 이를 이용한 키랄 화합물의제조방법 |
| CN112010794A (zh) * | 2020-09-25 | 2020-12-01 | 温州大学 | 一种合成n-取代硫酰亚胺类化合物的方法 |
| CN112010794B (zh) * | 2020-09-25 | 2022-08-26 | 温州大学 | 一种合成n-取代硫酰亚胺类化合物的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1452523A2 (en) | 2004-09-01 |
| US20040230077A1 (en) | 2004-11-18 |
| EP1452523A3 (en) | 2004-09-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5665890A (en) | Stereoselective ring opening reactions | |
| CN110467555A (zh) | 一种轴手性芳基吲哚化合物及其合成方法 | |
| JP4178151B2 (ja) | 光学活性なα−ヒドロキシホスホン酸及びその誘導体の製造方法、光学活性アルミニウム（サラレン）錯体及びその製造方法、並びにサラレン配位子の製造方法 | |
| US20060030718A1 (en) | Cobalt-based catalysts for the cyclization of alkenes | |
| CN116730938B (zh) | 一种合成5-羟甲基恶唑烷酮的方法 | |
| JP3772219B2 (ja) | 光学活性なアジリジン化合物及びアミン化合物の製造方法 | |
| JP2004277398A (ja) | 光学活性なスルフィミド化合物の製造方法 | |
| CN1198157A (zh) | 用作对映体选择性环氧化催化剂的二萘并氮杂䓬鎓盐 | |
| US8367871B2 (en) | Process for production of optically active sulfoxide compound using iron-salan complex catalyst | |
| JP3716460B2 (ja) | 不斉シクロプロパン化反応 | |
| RU2283826C1 (ru) | Способ получения 3,6-диметил-1,8-диалкил(фенил)-2,6-октадиенов | |
| CN115155658B (zh) | 一类基于vapol合成硒硫类化合物的合成方法 | |
| JP2003073350A (ja) | 光学活性なサレンルテニウム（ｉｉ）錯体を用いる光学活性なスルフィミド化合物の製造方法 | |
| JP4441502B2 (ja) | 光学活性なα−アミノホスホン酸又はその誘導体の製造方法 | |
| WO2001009077A1 (fr) | Derives chiraux n-substitues de la norephedrine, leur preparation et leur utilisation pour la synthese de composes fonctionnalises optiquement actifs par transfert d'hydrogene | |
| JP4962924B2 (ja) | 光学活性アルコールの製造方法 | |
| JP2004323445A (ja) | 光学活性なスルホキシド化合物の製造方法 | |
| JP3825497B2 (ja) | 光学活性キノリルアルキルアルコール及びその製造方法 | |
| JP2018135292A (ja) | 光学活性アルコールの製造方法及び不斉触媒 | |
| JP4076035B2 (ja) | 光学活性アルコールの立体選択的製造方法 | |
| RU2286328C1 (ru) | Способ получения 4,7-диалкил(бензил)иден-2,10-додекадиенов | |
| JP5501701B2 (ja) | イミンの不斉シアノ化方法 | |
| RU2283828C1 (ru) | Способ получения 2,9-диметил-4,7-диалкил(бензил)-иден-1,9-декадиенов | |
| JP2000063314A (ja) | 光学活性な１−置換−２−プロパノールの製造方法 | |
| EP1727783A4 (en) | CHIRAL TERTIARY AMINOALKYLNAPHTHOLE |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061121 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070424 |