JP2003058064A

JP2003058064A - 平面型ディスプレイパネル

Info

Publication number: JP2003058064A
Application number: JP2001245176A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Wachi; 博和知; Takeshi Moriwaki; 健森脇
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2001-08-13
Filing date: 2001-08-13
Publication date: 2003-02-28

Abstract

(57)【要約】【課題】平面型ディスプレイパネル本体に、電磁波遮
蔽機能および近赤外線遮蔽機能を備えた前面保護板を一
体的に接合した構造を備えてなり、良好で安定した近赤
外線遮蔽効果を有するとともに形成が容易で材料コスト
が安価な近赤外線遮蔽層を備えた平面型ディスプレイパ
ネルを提供する。【解決手段】透明基板４と、電磁波遮蔽層５と、透明
基板４の一方の面側に設けられた、近赤外線吸収剤を含
有する近赤外線遮蔽層９と、視認側の最外層をなす反射
防止層６と、透明基板４の他方の面側の最外層として設
けられた接着剤層７を備えた前面保護板３を、接着剤層
７を介して平面型ディスプレイパネル本体２の視認側の
表面に接合する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平面型ディスプレ
イパネル、特にプラズマディスプレイパネル（以下、Ｐ
ＤＰと略記する。）本体の機械強度を向上して破損を防
止するため、かつ平面型ディスプレイパネル本体から発
生する電磁ノイズ、近赤外線を低減するために、平面型
ディスプレイパネル本体の視認側の表面に前面保護板を
一体的に接合した構造を有する平面型ディスプレイパネ
ルに関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
大画面パネルを作製でき、明瞭なフルカラー表示ができ
るなどの利点を有するＰＤＰが注目されている。ＰＤＰ
は、２枚のガラス板間に隔離形成された多数の放電セル
内で蛍光体を選択的に放電発光させることでフルカラー
表示を行うものである。この発光原理上、ＰＤＰの前面
からは他の機器の誤作動やノイズ発生の原因となる電磁
波や熱線（近赤外線）が放出されるため、これら電磁波
や熱線をカットする必要がある。

【０００３】従来、ＰＤＰ等の平面型ディスプレイパネ
ル本体に、電磁波と熱線（近赤外線）をカットするため
の機能を付与したものが知られている。例えば、特開平
１１−１１９６６６号公報には、ＰＤＰ本体と、該ＰＤ
Ｐ本体の前面に熱線カットフィルムと電磁波シールド材
を接着し、その前面に透明基板を接着してなる表示パネ
ルが開示されている。しかしながら、ここでの熱線カッ
トフィルムとしては、ベースフィルム上にＺｎＯや銀薄
膜等の熱線カットコートを施したもの、またはベースフ
ィルム上に酸化物透明電極膜と金属薄膜とを交互に積層
してなる多層膜が用いられており、このような金属材料
を用いた薄膜は、形成が容易でなく、材料コストも比較
的高いことが問題であった。

【０００４】そこで、例えば特開昭５７−２１４５８号
公報、特開昭５７−１９８４１３号公報、特開昭６０−
４３６０５号公報などでは、バインダー樹脂に近赤外線
吸収性能を有する添加剤（近赤外線吸収剤）を分散させ
た樹脂組成物からなる近赤外線遮蔽層を備えた光学フィ
ルターが開示されている。このような構成の近赤外線遮
蔽層であれば、形成が容易であり、材料も比較的安価で
ある。

【０００５】ところが、このように近赤外線吸収剤を用
いてなる近赤外線遮蔽層を、ＰＤＰ本体に接着一体化す
るタイプの前面保護板に適用した場合には、設計通りの
近赤外線遮蔽効果が得られないことがあるという問題が
あった。例えば、上記特開平１１−１１９６６６号公報
に記載されている構成において、金属材料を用いた熱線
カットフィルムに代えて、近赤外線吸収剤を用いてなる
近赤外線遮蔽層を設けた場合には、長時間の点灯前後で
近赤外線の遮蔽性能や透過光の色調に変化が生じるとい
う不都合があった。

【０００６】また、ＰＤＰなどの平面型ディスプレイパ
ネルにあっては、平面型ディスプレイパネル本体の前面
に接合されている前面保護板自身が、視認側から外力を
受けたときに変形してしまうと、その外力が平面型ディ
スプレイパネル本体の前面ガラスに作用して平面型ディ
スプレイパネル本体が破損するおそれがあるので、これ
を防止することも重要である。

【０００７】したがって本発明の課題は、平面型ディス
プレイパネル本体に、電磁波を遮蔽する機能および近赤
外線を遮蔽する機能を備えた前面保護板を一体的に接合
した構造を有する平面型ディスプレイパネルであって、
良好で安定した近赤外線遮蔽効果を有し、かつ形成が容
易で材料コストが安価な近赤外線遮蔽層を備えた平面型
ディスプレイパネルを提供すること、および平面型ディ
スプレイパネル本体の破損をより確実に防止できるよう
にした平面型ディスプレイパネルを提供することにあ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、近赤外線
吸収剤を含有する近赤外線遮蔽層を、ＰＤＰ本体に接合
一体化するタイプの前面保護板に適用したときの近赤外
線遮蔽効果の変化について鋭意検討した結果、点灯時の
ＰＤＰ本体の表面温度は、全画面の平均温度で６０℃程
度にまで上昇し、部分的には、連続して点灯される点で
８０℃程度にまで上昇すること、および後述の参考例１
の耐熱劣化試験にも示されるように、近赤外線吸収剤を
含有する近赤外線遮蔽フィルムの例では、８０℃の高温
に曝されることにより光学特性が著しく劣化することを
知見した。さらに検討を重ねた結果、ＰＤＰ本体の表面
上にガラス基板を積層すると、ＰＤＰ本体の表面におい
て８０℃に達している部位でも、該ガラス基板の表面で
は４０℃程度に表面温度が低下することがわかった。そ
して、後述の参考例２の耐熱劣化試験にも示されるよう
に、近赤外線吸収剤を含有する近赤外線遮蔽フィルムの
例で、加熱温度が４０℃程度と低ければ光学特性の大き
な劣化は生じないことを見出し、本発明を完成するに至
った。

【０００９】すなわち、本発明は前記課題の少なくとも
１つを解決するもので、本発明の平面型ディスプレイパ
ネルは、透明基板と、電磁波遮蔽層と、透明基板の一方
の面側に設けられた、近赤外線吸収剤を含有する近赤外
線遮蔽層と、透明基板の他方の面側の最外層として設け
られた接着剤層とを備えた前面保護板が、接着剤層を介
して平面型ディスプレイパネル本体の視認側の表面に接
合されてなることを特徴とする。

【００１０】かかる構成の平面型ディスプレイパネルに
よれば、近赤外線遮蔽層および電磁波遮蔽層を備えてい
るので、近赤外線遮蔽効果および電磁波遮蔽効果が得ら
れる。特に、平面型ディスプレイパネル本体と、近赤外
線吸収剤を含有する近赤外線遮蔽層との間に透明基板が
介在しているので、この透明基板が平面型ディスプレイ
パネル本体表面から近赤外線遮蔽層へ伝わる熱を低減さ
せる熱緩衝層としての役割を果たす。したがって、点灯
時に平面型ディスプレイパネル本体の表面温度が高くな
った場合にも、近赤外線遮蔽層に含まれる近赤外線吸収
剤の熱劣化が防止されるので、良好で安定した近赤外線
遮蔽効果が得られる。また、近赤外線吸収剤を用いた近
赤外線遮蔽層は形成が容易で材料も安価であるので、低
コスト化を図ることができる。

【００１１】本発明の平面型ディスプレイパネルにおい
て、前記前面保護板の、透明基板の一方の面側の最外層
として反射防止層を設けることが好ましい。かかる構成
の平面型ディスプレイパネルによれば、反射防止層を備
えているので、反射防止効果が得られる。なお、本発明
において反射防止層は前面保護板における最外層となる
ように設ければよく、さらに図１，２（後述）に示す前
面保護板３，１３の外側に、例えば汚染防止層など、本
発明における透明基板、電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽
層、反射防止層、および接着剤層以外の層を、必要に応
じて設けることもできる。

【００１２】前記透明基板は、２３℃における曲げ弾性
率が２０００ＭＰａ以上の高剛性透明基板であることが
好ましい。かかる構成とすれば、前面保護板自身が外力
によって変形し難いので、平面型ディスプレイパネル本
体の破損をより確実に防止することができ、信頼性が向
上する。本発明の平面型ディスプレイパネルにおいて、
特に、前記透明基板がガラスからなることが好ましい。
本発明における、平面型ディスプレイパネル本体として
は、ＰＤＰが好適である。

【００１３】

【発明の実施の形態】［第１の実施形態］図１は、本発
明に係る平面型ディスプレイパネルの第１の実施形態を
示す図である。本実施形態において、平面型ディスプレ
イパネル１は、平面型ディスプレイパネル本体２と、そ
の視認側の表面２ａ（以下、表面２ａと記す。）に接合
された前面保護板３とから構成されている。前面保護板
３は、透明基板４、電磁波遮蔽層５、近赤外線遮蔽層
９、反射防止層６、および接着剤層７を備えている。

【００１４】［平面型ディスプレイパネル本体］平面型
ディスプレイパネル本体２としては、例えばＰＤＰ、プ
ラズマアドレスリキッドクリスタルディスプレイパネル
（ＰＡＬＣ）、フィールドエミッションディスプレイ
（ＦＥＤ）などの各種の平面型ディスプレイパネルが適
用できる。これらの中でも、電磁波と近赤外線の遮蔽が
必要となるＰＤＰにおいて、本発明を適用する利点が大
きい。以下の説明は平面型ディスプレイパネルとしてＰ
ＤＰを用いた場合を例示し、「平面型ディスプレイパネ
ル１」は「ＰＤＰ１」と記し、また「平面型ディスプレ
イパネル本体２」は「ＰＤＰ本体２」と記す。

【００１５】ＰＤＰ本体２としては、種々の構成のＰＤ
Ｐ装置が使用できる。代表的なＰＤＰは、２枚のガラス
基板間に、多数の放電セルを形成するための隔壁をはさ
み、放電セル内に放電用電極を形成するとともに、各放
電セル内に赤色、緑色または青色に発光する蛍光体膜を
それぞれ形成し、かつ放電セル内にはキセノン（Ｘｅ）
を含むガスが封入される。そして放電セル内の蛍光体を
選択的に放電発光させることによって、フルカラー表示
することができる。このＰＤＰ本体２の起動時には、そ
の表面２ａから電磁波と近赤外線が放出される。

【００１６】［前面保護板］本実施形態において、前面
保護板３は、透明基板４の一方の面上に、電磁波遮蔽層
５、近赤外線遮蔽層９、および反射防止層６が順に積層
され、他方の面上に接着剤層７が設けられた構成を有す
る。この前面保護板３は接着剤層７を介してＰＤＰ本体
２の表面２ａに接合されている。

【００１７】（透明基板）透明基板４としては、各種ガ
ラス基板、各種透明樹脂基板が使用できる。特に、本実
施形態においては、透明基板４は熱緩衝層を兼ねるもの
であるので、熱伝導率が小さくて熱緩衝作用が大きいも
のが好ましい。具体的には、８０℃の加熱面上に接着さ
れた状態で、接着面とは反対側の表面温度が４０℃以下
に保たれる程度の熱緩衝作用を有するものが好ましい。
具体例としては各種のガラス基板、有機高分子材料等が
挙げられる。

【００１８】また、透明基板４は、２３℃における曲げ
弾性率が２０００ＭＰａ以上である高剛性透明基板であ
ることが好ましく、例えば各種ガラス、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂等からなる基板が挙げられる。その中
でも弾性率の大きいガラスが好ましく、特に各種のガラ
スの中でも、平均破壊応力が１００ＭＰａ以上の強化ガ
ラス、または平均破壊応力が６０〜１００ＭＰａのセミ
強化ガラス強化ガラス（倍強度ガラス）が好ましい。透
明基板４の上記曲げ弾性率が２０００ＭＰａ以上であれ
ば、外力が加わった際に前面保護板３自身が変形し難
く、外力がＰＤＰ本体２の表面２ａをなすガラスに作用
し難くなる。したがって、この前面保護板３が一体的に
接合されたＰＤＰ本体２の機械強度を効果的に向上させ
て、その破壊を防止することができる。特にガラスは、
プラスチック材料と比べて熱膨張係数が半分以下であ
り、ＰＤＰ本体２側の表面と反対面との間に若干の温度
差があっても反りが生じることがなく、また耐熱性、化
学的安定性にも優れているので透明基板４として好適で
ある。透明基板４として上記の高剛性透明基板を用いる
場合、その厚さは、ＰＤＰ本体２に十分な機械強度を付
与できるように、かつ十分な熱緩衝作用が得られるよう
に設定されるが、通常は１〜５ｍｍ程度とされる。

【００１９】透明基板４として好適な上記強化ガラスま
たはセミ強化ガラスは、周知のガラス強化工程を経るこ
とによって得られる。例えばガラス板を所定温度域に、
好ましくは６５０〜７００℃に加熱した後、強制的に風
冷して強化する風冷強化法によって得られる。この風冷
条件（主に冷却速度）および厚みを適宜調節することに
よって、強化ガラスまたはセミ強化ガラスを得ることが
できる。このような風冷強化により作製した強化ガラス
またはセミ強化ガラスは、万が一割れが生じても、その
破砕破片が小さいうえ端面も鋭利な刃物のようになるこ
とがないので安全上好ましい。

【００２０】（電磁波遮蔽層）電磁波遮蔽層５は、少な
くとも１層の金属層を含む導電膜、またはメッシュ状に
形成されたメッシュ導電膜からなる。金属層としては、
Ａｕ、ＡｇおよびＣｕからなる群から選ばれる１種以上
の金属または該金属を主成分とする層が好ましく、特
に、比抵抗が小さく、吸収が小さいことから、Ａｇを主
成分とする金属層が好ましい。さらにＡｇを主成分とす
る金属層としては、Ａｇの拡散を抑制し、結果として耐
湿性が向上することから、Ａｇを主成分としＰｄ、Ａ
ｕ、またはＣｕの少なくとも１種の金属を含む金属層で
あることが好ましい。Ｐｄ、Ａｕ、またはＣｕの少なく
とも１種の金属の含有割合は、Ａｇの含量とＰｄ、Ａ
ｕ、またはＣｕの少なくとも１種の金属の含量との総量
に対して０．３〜１０原子％であることが好ましい。
０．３原子％以上であればＡｇの安定化の効果が得られ
ると共に、１０原子％以下とすることで良好な耐湿性を
維持しつつ、良好な成膜速度及び可視光透過率が得られ
る。したがって、以上の観点からは、添加量は５．０原
子％以下が適当である。また、添加量が増加するとター
ゲットコストが著しく増加するので、通常必要な耐湿性
を勘案すると、０．５〜２．０原子％程度の範囲とな
る。電磁波遮蔽層５として、１層の金属層からなる導電
膜を用いる場合、この金属層の厚さは５〜２０ｎｍ、好
ましくは８〜１５ｎｍとされる。この金属層の形成方法
は特に限定されないが、透明基板４の一方の面上に直
接、薄い金属膜を均一に成膜可能なスパッタ法を用いて
成膜することが好ましい。または、フィルム状の透明な
基材上にスパッタ法により金属膜を成膜し、得られたス
パッタフィルムを透明基板４の一方の面上に貼り合わせ
てもよい。

【００２１】または、電磁遮蔽層５を導電膜で構成する
場合、低いシート抵抗値、低い反射率、高い可視光線透
過率が得られることから、酸化物層と金属層を交互に積
層した多層導電膜、特に、酸化物層、金属層、酸化物
層、と交互に計（２ｎ＋１）層（ｎは１以上の整数）積
層された多層導電膜が好適に使用される。酸化物層とし
ては、Ｂｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、ＩｎおよびＺｎ
からなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を主成
分とする層が挙げられる。好ましくはＴｉ、Ｓｎ、Ｉｎ
およびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸
化物を主成分とする層である。特に、吸収が小さく、屈
折率が２前後であることから、ＺｎＯを主成分とする
層、屈折率が大きく、好ましい色調を少ない層数で得ら
れやすいことからＴｉＯ₂を主成分とする層が好まし
い。酸化物層は、複数の薄い酸化物層から構成されてい
てもよい。例えば、ＺｎＯを主成分とする酸化物層に代
えて、ＳｎＯ₂を主成分とする層とＺｎＯを主成分とす
る層とから形成することもできる。

【００２２】ＺｎＯを主成分とする酸化物層は、Ｚｎ以
外の１種以上の金属を含有するＺｎＯからなる酸化物層
であることが好ましい。含有された前記の１種以上の金
属は、酸化物層中では主として酸化物の状態で存在して
いる。１種以上の金属を含有するＺｎＯとしては、Ｓ
ｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ｍｇ、およびＧａか
らなる群から選ばれる１種以上の金属を含有するＺｎＯ
が好ましく挙げられる。前記１種以上の金属の含有割合
は、得られる導電膜の耐湿性が向上することから、該金
属の合計量とＺｎとの総量に対して１〜１０原子％が好
ましい。１原子％以上とすれば、充分にＺｎＯ膜の内部
応力を低減せしめて、良好な耐湿性を得ることができ
る。また１０原子％以下とすれば、ＺｎＯの結晶性が良
好に維持されると共に、金属層との相性が低下すること
がない。安定して再現性よく低内部応力のＺｎＯ膜を得
ること、およびＺｎＯの結晶性を考慮すると、金属の含
有割合は２〜６原子％が好ましい。

【００２３】酸化物層の幾何学的膜厚（以下、単に膜厚
という）は、最も透明基板４に近い酸化物層および最も
透明基板４から遠い酸化物層は２０〜６０ｎｍ（特に３
０〜５０ｎｍ）、それ以外の酸化物層は４０〜１２０ｎ
ｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。金
属層の合計膜厚は、例えば得られる導電膜の表面抵抗値
の目標を２．５Ω／□とした場合、２５〜４０ｎｍ（特
に２５〜３５ｎｍ）、表面抵抗値の目標を１．５Ω／□
とした場合、３５〜５０ｎｍ（特に３５〜４５ｎｍ）と
することが好ましい。酸化物層と金属層との全合計膜厚
は、例えば、金属層数が２の場合は１５０〜２２０ｎｍ
（特に１６０〜２００ｎｍ）、金属層数が３の場合は２
３０〜３３０ｎｍ（特に２５０〜３００ｎｍ）、金属層
数が４の場合は２７０〜３７０ｎｍ（特に３１０〜３５
０ｎｍ）であることが好ましい。

【００２４】上記第１の金属層と第２の酸化物層との
間、第２の金属層と第３の酸化物層との間、第３の金属
層と第４の酸化物層との間には、酸化物層形成時に、金
属層が酸化されることを防止するための別の層（以下、
酸化バリア層という）を設けることができる。酸化バリ
ア層としては、例えば、金属層、酸化物層、窒化物層が
用いられる。具体的には、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｇａ、お
よびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属、該金
属の酸化物、窒化物などである。好ましくは、ＴｉやＳ
ｉとＧａとを含有するＺｎＯを用いる。酸化バリア層の
膜厚は１〜７ｎｍが望ましく、この範囲であれば透過率
の低下を抑えつつ金属層の酸化を防止することができ
る。

【００２５】電磁波遮蔽層５を導電膜で構成する場合、
その表面に酸化物膜や窒化物膜などからなる保護層を設
けることが好ましい。この保護層は、電磁波遮蔽層５
（特にＡｇを含有する金属層）を水分から保護するため
に、また、電磁波遮蔽層５上に他の層を積層させるる際
の接着剤（特にアルカリ性の接着剤）から電磁波遮蔽層
５の酸化物層（特にＺｎＯを主成分とする層）を保護す
るために用いられる。具体的には、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、
Ｂ、Ｓｎなどの金属の酸化物膜や窒化物膜などである。
特に、電磁波遮蔽層５の最上層にＺｎＯを主成分とする
層を用いた場合には、窒化物膜を用いることが好まし
い。窒化物膜としては、Ｚｒおよび／またはＳｉの窒化
物膜が挙げられ、特に、ＺｒとＳｉとの複合窒化物膜を
用いることが好ましい。この保護層は５〜３０ｎｍ、特
に５〜２０ｎｍの膜厚で形成されることが好ましい。

【００２６】電磁波遮蔽層５はメッシュ導電膜で構成す
ることもできる。メッシュ導電膜としては、フォトリソ
グラフ法により形成されたもの、印刷法により形成され
たもの、または繊維メッシュ等を用いることができる。
なかでも、フォトリソグラフ法により形成されたフォト
リソメッシュ導電膜は、表面抵抗値が０．０５Ω／□程
度と小さいので特に好ましく用いられる。具体的に、フ
ォトリソメッシュ導電膜は、金属メッシュと樹脂フィル
ムとからなり、これを製造する方法としては、樹脂フィ
ルム上に金属薄膜例えば銅箔を貼り付けたもの、または
樹脂フィルム上に蒸着もしくはメッキにより金属薄膜を
形成したものを、フォトリソグラフ法によりパターニン
グして、金属薄膜をメッシュ状にエッチングする方法が
挙げられる。

【００２７】フォトリソメッシュ導電膜の形成に用いら
れる金属薄膜の材料としては、銅、アルミニウム、ステ
ンレス、ニッケル、チタン、スズ、タングステン、クロ
ム等、およびこれらの合金が挙げられる。なかでも銅、
アルミニウム、ステンレスが好ましい。また金属薄膜の
厚さは、２〜２０μｍ、好ましくは３〜１０μｍが電磁
波遮蔽性およびエッチング性の点から好ましい。フォト
リソメッシュ導電膜の形成に用いられる樹脂フィルムと
しては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＭ
ＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）、ＰＣ（ポリカーボネ
ート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）、ポリスチ
レン等が挙げられる。フォトリソメッシュ導電膜のメッ
シュ仕様は、ピッチ２００〜４００μｍ、線幅５〜３０
μｍ程度が好ましい。

【００２８】電磁波遮蔽層５には、ＰＤＰ本体２から発
した電磁波に起因してこの電磁波遮蔽層５中で発生する
電流をアース線に導くためのアース線接続用の電極８が
接続されている。この電極８は、電磁波遮蔽層５の周縁
の少なくとも１部に接して透明基板４の一方の面側に形
成されている。その形状および寸法は特に限定されない
が、抵抗が低い方が電磁波遮蔽性能の点では優位とな
る。この電極８は、透明基板４の周縁全体に設けること
が、電磁波遮蔽層５による電磁波遮蔽効果を確保するた
めに好ましい。このような電極８は、例えば、Ａｇペー
スト（Ａｇとガラスフリットを含むペースト）やＣｕペ
ースト（Ｃｕとガラスフリットを含むペースト）を塗
布、焼成して得られる電極が好適に用いられる。さら
に、この電極８に接続された図示しない長尺のアース線
を含む構成とすることもできる。ここで、この電極８を
形成するための焼成工程は、透明基板４がガラスからな
る場合には、ガラス強化工程を兼ねることができる。し
たがって、強化工程を施す前のガラス基板上に、上記Ａ
ｇペーストまたはＣｕペーストを塗布して、焼成するこ
とによって、強化ガラスまたはセミ強化ガラスからなる
透明基板４上にＡｇまたはＣｕからなる電極８が形成さ
れた構成を得ることができる。

【００２９】（反射防止層）反射防止層６は、反射防止
性を有している層であればよく、既知の反射防止の手法
を用いて形成することができる。例えば、少なくともア
ンチグレア処理を施した層、または低屈折率層を有して
いれば反射防止効果が得られる。低屈折率層は、既知の
低屈折率の材料を用いることができるが、反射防止効
果、層形成の容易さから、非晶質含フッ素重合体からな
ることが好ましい。また、透明基板４自身が万一破損し
た際に破片の飛散を防止できる点では、樹脂フィルムの
片面に低屈折率層を積層したものが好ましい。特に、自
己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質
樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体から
なる低屈折率層を形成した積層体、具体例としては旭硝
子社製のアークトップ（商品名）で、反射防止層６を構
成することが好ましい。

【００３０】（近赤外線遮蔽層）近赤外線遮蔽層９は、
主剤である樹脂中に近赤外線吸収剤が分散された樹脂組
成物からなる。

【００３１】近赤外線遮蔽層９の形成方法は特に限定さ
れないが、例えば主剤と近赤外線吸収剤と溶剤を均一に
混合した溶液を基材上にコーティングして成膜すること
が好ましい。コーティング法としては、例えばディップ
コート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビ
アコート法、コンマコート法、ダイコート法などを選択
できる。これらのコート法は連続加工を行うことがで
き、バッチ式の蒸着法などに比べて生産性が優れてい
る。または薄く均一な塗膜を形成できるスピンコート法
も採用し得る。

【００３２】コーティング法において用いられる基材と
しては透明樹脂フィルムが好ましく、例えばポリエステ
ル系、アクリル系、セルロース系、ポリエチレン系、ポ
リプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル
系、ポリカーボネート系、フェノール系、ウレタン系等
の樹脂フィルムが用いられる。中でもポリエチレンテレ
フタレートフィルムなどのポリエステルフィルムは好適
である。近赤外線遮蔽層９を構成するのに、透明フィル
ム上に近赤外線吸収剤が分散された樹脂組成物からなる
コーティング膜（近赤外線遮蔽層９）が形成された近赤
外線遮蔽フィルムを用いた場合には、図には示さない
が、近赤外線遮蔽層９と電磁波遮蔽層５との間に、基材
として用いた透明樹脂フィルムが介在する構成となる。

【００３３】また、反射防止層６として、例えば上述し
たアークトップ（商品名）など、樹脂フィルムの一方の
面上に低屈折率層を設けた積層体を用いる場合に、該反
射防止層６の樹脂フィルムを基材として用い、その他方
の面上に、主剤と近赤外線吸収剤と溶剤を均一に混合し
た溶液をコーティングして近赤外線遮蔽層９を形成する
こともできる。この場合には、近赤外線遮蔽層９と電磁
波遮蔽層５との間に基材は存在せず、電磁波遮蔽層５上
に、近赤外線遮蔽層９と反射防止層６とが一体化された
積層体が貼り合わされた構成となる。

【００３４】または、反射防止層６をなす低屈折率層中
に、近赤外線吸収剤を含有させて、反射防止機能を有す
る近赤外線遮蔽層とすることもできる。この場合には、
反射防止層６と近赤外線遮蔽層９とを別々に設ける必要
がなくなり、図には示さないが、電磁波遮蔽層５上に、
前記反射防止機能を有する近赤外線遮蔽層が設けられた
構成となる。

【００３５】または、反射防止層６として、例えば上述
したアークトップ（商品名）など、樹脂フィルムの一方
の面上に低屈折率層を設けた積層体を用いる場合には、
その樹脂フィルム中に近赤外線吸収剤を混入しておき、
前記積層体を反射防止機能を有する近赤外線遮蔽層とす
ることもできる。この場合にも、反射防止層６と近赤外
線遮蔽層９とを別々に設ける必要がなくなり、図には示
さないが、電磁波遮蔽層５上に、前記反射防止機能を有
する近赤外線遮蔽層が設けられた構成となる。

【００３６】主剤は近赤外線吸収剤を均一に分散できる
ものであれば特に限定されないが、例えばポリエステル
系樹脂、オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、
ポリカーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂が好適に用いら
れる。具体的な主剤は、例えば鐘紡社製、商品名「Ｏ−
ＰＥＴ」のポリエステル樹脂；ＪＳＲ社製、商品名「Ａ
ＲＴＯＮ」のポリオレフィン樹脂、日本ゼオン社製、商
品名「ゼオネックス」のシクロオレフィン樹脂、三菱エ
ンジニアリングプラスチック社製、商品名「ユーピロ
ン」などの市販品を用いることができる。

【００３７】また主剤を溶解するための溶剤は、特に限
定されないが、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、エ
ーテル系溶剤、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エチル
セロソルブ等のエーテルアルコール系溶剤、ジアセトン
アルコール等のケトンアルコール系溶剤、トルエン等の
芳香族系溶剤等を使用し得る。これらは単独でも２種類
以上を混合した混合溶媒系としても使用し得る。

【００３８】近赤外線吸収剤としては、少なくとも近赤
外領域（波長７８０〜１３００ｎｍ）の光の一部を吸収
できる色素が用いられ、該色素は染料、顔料のいずれで
あってもよい。具体的には、ポリメチン系、フタロシア
ニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム
系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン
系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドー
ルフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物
などが挙げられるが、これらに限定されない。特に熱線
吸収や電子機器のノイズ防止の用途には、最大吸収波長
が７５０〜１１００ｎｍである近赤外線吸収剤が好まし
く、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナ
フタロシアニン系、ジイモニウム系が好ましい。近赤外
線吸収剤は１種類としてもよいし、２種以上を混合して
用いてもよい。

【００３９】近赤外線遮蔽層９に含まれる近赤外線吸収
剤の量は、近赤外線遮蔽効果を有効に得るためには、主
剤に対して０．１質量％以上とすることが好ましく、特
に２質量％以上が好ましい。また主剤の物性を保つため
には、近赤外線吸収剤の量を１０質量％以下に抑えるこ
とが好ましい。

【００４０】近赤外線遮蔽層９の膜厚は、近赤外線遮蔽
効果を有効に得るために、０．５μｍ以上が好ましく、
成膜時の溶媒が残留しにくい、成膜の操作性が容易であ
るなどの点から２０μｍ以下が好ましい。特に１〜１０
μｍであることが好ましい。

【００４１】（接着剤層）前面保護板３は、接着剤層７
を介してＰＤＰ本体２の表面２ａに接合されている。本
発明において接着剤層７に好適な接着剤としては、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のホットメルト
型の接着剤、エポキシ、アクリレート系の紫外線硬化
型、熱硬化型接着剤を挙げることができる。この接着剤
層７の厚さは０．１〜１．０ｍｍ、好ましくは０．２〜
０．５ｍｍとする。

【００４２】（製造方法）本実施形態のＰＤＰ１を製造
するには、例えば、まず透明基板４の一方の面上に電極
８および電磁波遮蔽層５を順に形成し、その上面に近赤
外線遮蔽層９をコーティングまたは貼り合わせにより形
成し、さらにその上面に反射防止層６を貼り合わせる。
そして透明基板４の他方の面を接着剤層７を介してＰＤ
Ｐ本体２に接合させる。近赤外線遮蔽層９および反射防
止層６は予め一体化されたものを用い、これを電磁波遮
蔽層５上に貼り合わせてもよい。ＡｇペーストまたはＣ
ｕペーストを用いて電極８を形成する場合、透明基板４
上への塗布はスクリーン印刷法を好適に用いることがで
きる。また透明基板４としてガラス基板を用いれば、電
極８の焼成時にガラス基板も加熱されるので、焼成後に
空冷する工程を設けることにより、透明基板４として用
いたガラス基板を強化することができる。電磁波遮蔽層
５を、少なくとも１層の金属層を含む導電膜で構成する
場合、スパッタ法を用いて成膜することが好ましい、あ
るいは別途作製したスパッタフィルムを電極８が形成さ
れた面に貼り合わせてもよい。一方、電磁波遮蔽層５を
メッシュ導電膜で構成する場合には、別途作製した、電
極８が形成されたメッシュフィルムを貼り合わせる。各
層の貼り合わせは、例えばロールラミネート機など、フ
ィルムどうしを貼り合わせるのに好適な適宜の貼り合わ
せ手段を用い、必要に応じて各層間に接着剤を介在させ
てもよい。

【００４３】接着剤層７としてホットメルト系の接着剤
からなるホットメルトシートを用いる場合、この接着剤
層７を介して前面保護板３をＰＤＰ本体２に接合するた
めの好適な方法として、次の方法がある。すなわち、Ｐ
ＤＰ本体２の表面２ａにホットメルトシートを載せ、そ
の上に前面保護板３を載せて位置合わせした後、耐熱性
の粘着テープで仮固定する。その後、仮止めした一体化
品を、排気口付きの耐熱性樹脂製の袋に入れて密封す
る。次いで該排気口を真空ポンプに接続して内部の空気
を脱気し、加熱オーブンに入れてホットメルトの融着温
度に加熱する。加熱終了後、オーブンから取り出した袋
の減圧を解除し、ＰＤＰ本体２の表面２ａに接着剤層７
を介して前面保護板３が接合されたＰＤＰ１を取り出
す。

【００４４】本実施形態によるＰＤＰ１は、反射防止層
６、近赤外線遮蔽層９、および電磁波遮蔽層５を備えて
いるので、反射防止効果、近赤外線遮蔽効果、および電
磁波遮蔽効果が得られる。本実施形態における近赤外線
遮蔽層９は近赤外線吸収剤を用いて形成されたものであ
るので、材料が安価で形成も容易である。また、近赤外
線遮蔽層９に含まれる近赤外線吸収剤は熱により劣化す
る可能性があるが、点灯時に表面温度が高くなるＰＤＰ
本体２と、近赤外線遮蔽層９との間に透明基板４が介在
しているので、この透明基板４が熱緩衝層となりＰＤＰ
本体２の表面２ａから近赤外線遮蔽層９へ熱が伝わるの
が抑制される。したがって、近赤外線遮蔽層９に含まれ
る近赤外線吸収剤の熱劣化が防止され、良好で安定した
近赤外線遮蔽効果が得られる。さらに、ＰＤＰ本体２の
表面２ａ上に透明基板４が接着剤層７を介して接合一体
化されているので、ＰＤＰ本体２の表面２ａ側とその前
面に設けられる保護用のフィルターとの間に空間が存在
する場合に比べ、界面反射が大幅に低減され、外景映り
込みによる二重像をなくすことができる。

【００４５】また、本実施形態では、電磁波遮蔽層５が
透明基板４上に設けられているので、電磁波遮蔽層５を
スパッタ法により形成することができ、この電磁波遮蔽
層５に接続して設けられる電極８の形成が容易である。
さらに、本実施形態において、電磁波遮蔽層５を少なく
とも１層の金属層を含む導電膜で構成した場合には、電
磁波遮蔽層５においても近赤外線を遮蔽する作用が得ら
れるとともに、これとは別に近赤外線遮蔽層９も設けら
れているので、近赤外線遮蔽効果がさらに向上する。

【００４６】［第２の実施形態］図２は、本発明に係る
平面型ディスプレイパネルの第２の実施形態を示す図で
ある。本実施形態のＰＤＰ１１が前記第１の実施形態の
ＰＤＰ１と異なる点は、電磁波遮蔽層５が透明基板４の
ＰＤＰ本体２側に設けられている点である。すなわち、
本実施形態における前面保護板１３は、透明基板４の一
面上に、近赤外線遮蔽層９および反射防止層６が順に積
層され、他面上に、電磁波遮蔽層５および接着剤層７が
順に積層されている。そしてこの前面保護板１３が接着
剤層７を介してＰＤＰ本体２の表面２ａに接合されてい
る。図２において図１と同じ構成要素には同一の符号を
付してその説明を省略する。

【００４７】本実施形態のＰＤＰ１１を製造するには、
例えば、透明基板４の一方の面上に近赤外線遮蔽層９を
コーティングまたは貼り合わせにより形成し、さらにそ
の上面に反射防止層６を貼り合わせる。近赤外線遮蔽層
９および反射防止層６は予め一体化されたものを用いて
もよい。また、これとは別に、透明基板４の他方の面上
に電極８および電磁波遮蔽層５を順に形成する。電極８
および電磁波遮蔽層５の形成、および各層の貼り合わせ
は上記第１の実施形態と同様にして行うことができる。
そして電磁波遮蔽層５が形成された面を接着剤層７を介
してＰＤＰ本体２に接合させる。接着剤層７を介して前
面保護板３をＰＤＰ本体２に接合させる方法は、前記第
１の実施形態と同様の方法を用いることができる。本実
施形態によれば、前記第１の実施形態と同様の作用効果
が得られる。

【００４８】

【実施例】実施例１：以下の手順によって本発明に係る
ＰＤＰ装置を作製した。

【００４９】（前面保護板の作製）ソーダライムガラス
基板（厚さ２．５ｍｍ）をＰＤＰ本体と同寸法に切出
し、面取りを行った。次にこの矩形のガラス基板の一方
の面上の全周に端から幅１０ｍｍの帯状部分に、スクリ
ーン印刷法によりＡｇペースト（村田製作所社製）を印
刷した後、焼成した。焼成時の加熱温度は６６０℃と
し、加熱後、強制的に風冷することによりガラス基板を
強化した。このＡｇペースト上にスパッタ膜が形成され
ることを防ぐため、Ａｇペーストが印刷された部分をス
テンレス製薄板で覆い、粘着テープにて仮止めした。次
にＡｇペーストが印刷されたガラス面に、スパッタ法に
より、３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ
（１０ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／１．０Ｐ
ｄ−Ａｇ（１２ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／
１．０Ｐｄ−Ａｇ（１０ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（４０
ｎｍ）の多層膜を成膜した。それぞれの膜の成膜条件を
表１に示す。

【００５０】

【表１】

【００５１】なお、「３Ａｌ−Ｚｎ」とは、ＡｌをＡｌ
とＺｎとの総量に対し３原子％含有するＺｎを意味し、
また「３Ａｌ−ＺｎＯ」は３Ａｌ−Ｚｎをターゲットと
し、酸素存在下でのスパッタで生成する膜を表す。また
「１．０Ｐｄ−Ａｇ」とは、ＰｄをＰｄとＡｇの総量に
対し１．０原子％含有するＡｇを意味する。スパッタリ
ングによる多層膜成膜後、ステンレス製薄板を外した。

【００５２】次に、スパッタ法による膜が形成された面
にロールラミネーター機により近赤外線遮蔽フィルムを
貼合した。近赤外線遮蔽フィルムは次のようにして製造
されたものを用いた。まず、光学用ポリエステル樹脂
（鐘紡社製、商品名「Ｏ−ＰＥＴ」）を樹脂濃度１０％
になるようにシクロペンタノンに溶解して、近赤外線遮
蔽フィルムの主剤溶液を調製した。この主剤溶液１００
ｇに対して、ニッケル，ビス−１，２−ジフェニル−
１，２−エテンジチオラト（みどり化学社製、商品名
「ＭＩＲ１０１」）を５．６ｍｇ、フタロシアニン系色
素（日本化薬社製、商品名「イーエクスカラー８０１
Ｋ」）を３．２ｍｇ、ジインモニウム系色素（日本化薬
社製、商品名「ＩＲＧ０２２」）を２２．４ｍｇ、およ
びアントラキノン系色素（大日本精化社製、色素Ａ）を
０．４ｍｇ溶解させ、得られた溶液を厚さ１５０μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製）
上に、グラビア法にてコーティングして近赤外線遮蔽フ
ィルムを得た。この近赤外線遮蔽フィルムの厚さは、基
材のポリエチレンテレフタレートフィルムを含めて１５
３μｍであった。

【００５３】続いて、近赤外線遮蔽フィルム上にロール
ラミネーター機により反射防止膜（旭硝子社製、商品名
「アークトップＵＲＰ２１７９」）を貼合した後、Ａｇ
ペースト上の近赤外線遮蔽フィルムおよび反射防止膜を
レーザーカッターにより切断、剥離することによって電
極を形成し、前面保護板を得た。

【００５４】（ＰＤＰ本体と前面保護板の一体化）上記
の通り作製した前面保護板とＰＤＰ本体を以下の方法に
て接着剤層を介して接合、一体化した。ＥＶＡ系ホット
メルトシート（ブリヂストン社製、商品名「ＥＶＡＳＡ
ＦＥ１４５０」）を、縦、横ともＰＤＰ本体より約５ｍ
ｍ小さく裁断した。このシートを、ＰＤＰ本体と、前面
保護板の反射防止膜が貼合されていない面との間に設置
し、これら３者を重ね合わせ、周囲の各辺の数カ所ずつ
を耐熱粘着テープにて仮固定した。この仮固定した一体
化品を、排気口付きのＰＥＴ製袋に入れて密封した。真
空ポンプにより７２０ｍｍＨｇまで減圧し、加熱オーブ
ン中で、１時間かけて８０℃まで昇温し、２０分間８０
℃に保持した。さらに減圧度を保ったまま、４０分かけ
て１１０℃まで昇温し、１１０℃で２０分間保持した。
その後、８０℃まで冷却した時点で減圧を解き、室温ま
で冷却させた後、ＰＥＴ製袋から一体化品（ＰＤＰ）を
取り出した。

【００５５】参考例１：上記実施例１で用いた近赤外線
遮蔽フィルムについて、次の方法で耐熱劣化試験を行っ
た。すなわち、加熱前、４０℃で１０００時間なる条件
で加熱した後、および８０℃で１０００時間なる条件で
加熱した後のそれぞれについて、光学特性を測定した。
加熱手段としては電気オーブンを用い、光学特性の評価
は分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ３１００）により
視感平均透過率（単位；％）、透過色調、および近赤外
線透過率（単位；％）を測定した。その結果を下記表２
に示す。この表において、視感平均透過率の値は可視光
（波長３８０〜７８０ｎｍ）の視感平均透過率であり、
分光光度計により得られる分光分布を、標準比視感度に
より重価平均して得られる値で表す。透過色調は分光分
布をＣＩＥ（国際照明委員会）の色度図上の座標（ｘ座
標とｙ座標）の値で表す。近赤外線透過率の値は、波長
８５０ｎｍにおける透過率および波長９００ｎｍにおけ
る透過率で表す。

【００５６】

【表２】

【００５７】表２の結果より、実施例１で用いた近赤外
線遮蔽フィルムについては、加熱前の初期状態に比べ、
８０℃で１０００時間の加熱により、視感透過率、透過
色調、および近赤外線透過率がいずれもかなり劣化した
ことが認められる。例えば、一般的に、近赤外線遮蔽フ
ィルタの性能として波長８５０ｎｍにおける透過率が１
５％以下で、波長９００ｎｍにおける透過率が１０％以
下であることが要求されるが、８０℃で１０００時間の
加熱後は、この要求を満たせないほどに近赤外線遮蔽効
果が劣化した。これに対して４０℃で１０００時間の加
熱を行った場合には、近赤外線透過率の劣化は小さく、
視感透過率および透過色調はほとんど劣化しなかった。

【００５８】試験例１：上記実施例１と同様にして作製
した前面保護板−ＰＤＰ本体一体化品（ＰＤＰ）をサン
プルとして用い、合計１０００時間点灯させて耐熱劣化
試験を行った。光学特性の測定は上記参考例１と同様に
して行った。ただし、点灯終了後にはＰＤＰ本体から前
面保護板を取り外して光学特性を測定できるようにする
ため、前面保護板とＰＤＰ本体との接合方法は上記実施
例１とは異なり、粘着剤を用いた仮接合とした。また、
点灯前の初期値を調べるために、ＰＤＰ本体に接合する
前の前面保護板についても、参考例１と同様にして光学
特性を測定した。その結果を、下記表３に示す。

【００５９】比較例１：上記実施例１において、近赤外
線遮蔽フィルムを設ける位置をガラス基板の透明基板の
ＰＤＰ本体側とした他は同様にして前面保護板を作製し
た。すなわち、上記実施例１と同様にして、強化ガラス
上にＡｇペーストを形成し、その上に３Ａｌ−ＺｎＯ
（４０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１０ｎｍ）／３Ａｌ
−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１２ｎｍ）
／３Ａｌ−ＺｎＯ（８０ｎｍ）／１．０Ｐｄ−Ａｇ（１
０ｎｍ）／３Ａｌ−ＺｎＯ（４０ｎｍ）の多層膜を成膜
した。そして、このスパッタ法による膜が形成された面
にロールラミネーター機により反射防止膜（旭硝子社
製、商品名「アークトップＵＲＰ２１７９」）を貼合し
た後、Ａｇペースト上の反射防止膜をレーザーカッター
により切断、剥離することによって電極を形成した。一
方、上記ガラスのスパッタ法による膜が形成された面と
は反対側の面上に、ロールラミネーター機により、上記
実施例１と同様の近赤外線遮蔽フィルムを貼合して、前
面保護板を得た。

【００６０】比較試験例１：上記比較例１で作製した前
面保護板とＰＤＰ本体を、粘着剤を用いて仮接合し、こ
の一体化品（ＰＤＰ）を合計１０００時間点灯させて耐
熱劣化試験を行った。光学特性の測定は上記参考例１と
同様にして行った。また、点灯前の初期値を調べるため
に、ＰＤＰ本体に接合する前の前面保護板、すなわち上
記比較例１で作製した前面保護板についても、参考例１
と同様にして光学特性を測定した。その結果を、下記表
３にあわせて示す。

【００６１】

【表３】

【００６２】表３の結果より、比較試験例１では、１０
００時間の点灯前後で視感平均透過率が１．１％も増加
し、近赤外線透過率については波長８５０ｎｍにおける
透過率が２．３％、波長９００ｎｍにおける透過率が
２．１％もそれぞれ増加したのに対して、試験例１で
は、視感平均透過率の増加はわずか０．３％であり、波
長８５０ｎｍにおける透過率の増加は０．３％、波長９
００ｎｍにおける透過率の増加は０．７％とそれぞれ小
さかった。また、透過色調も、比較試験例１では、１０
００時間の点灯前後でｘ値が０．００６、ｙ値が０．０
１０それぞれ増加したのに対して、試験例１では、ｘ値
が０．００２増加し、ｙ値が０．００３増加しただけで
あった。これらのことから、試験例１では光学特性の劣
化が抑えられていることが認められた。

【００６３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
平面型ディスプレイパネル本体の表面上に、透明基板
と、電磁波遮蔽層と、透明基板の視認側に設けられた近
赤外線遮蔽層を備えた前面保護板が一体的に接合されて
いるので、平面型ディスプレイパネル本体の表面温度が
上昇した場合でも近赤外線遮蔽効果の安定性が良好で信
頼性が高い平面型ディスプレイパネルが得られる。ま
た、透明基板として、２３℃における曲げ弾性率が２０
００ＭＰａ以上と剛性が高いものを用いれば、視認側か
ら加わる外力を、平面型ディスプレイパネル本体のガラ
ス板と、これに一体的に接合されている高剛性の透明基
板との両方で支えることができるので、平面型ディスプ
レイパネルの視認側に極めて高い剛性が付与されること
になり、平面型ディスプレイパネルの破損をより確実に
防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る平面型ディスプレイパネルの第
１の実施形態を示す断面図である。

【図２】本発明に係る平面型ディスプレイパネルの第
２の実施形態を示す断面図である。

【符号の説明】

１，１１平面型ディスプレイパネル（ＰＤＰ）２平面型ディスプレイパネル本体（ＰＤＰ本体）２ａ視認側の表面（表面）３，１３前面保護板４透明基板５電磁波遮蔽層６反射防止層７接着剤層８電極９近赤外線遮蔽層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ３２Ｂ 7/02 ＺＡＢＢ３２Ｂ 7/02 ＺＡＢ５Ｇ４３５Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 5/22 1/11 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｅ 5/22 29/87 Ｈ０１Ｊ 11/02 29/89 29/87 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ 29/89 ＺＦターム(参考） 2H048 CA12 CA19 CA24 2K009 AA02 CC03 DD02 4F100 AB17C AB24C AB25C AG00B AK17E AK51E AR00B AR00C AR00D AR00E BA05 BA07 BA10A BA10E CA07D CB00A GB41 JD08 JD08C JD10 JD10D JG01C JK04B JN01B JN06E YY00B 5C032 CC06 CC07 DD02 DE01 DE05 DF02 DF05 DG01 DG03 DG04 DG06 DG09 EE03 EE10 5C040 FA10 GH10 MA04 MA08 MA09 5G435 AA00 AA01 AA08 AA09 AA12 AA16 BB06 GG11 GG33 GG42 HH02 HH03 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板(４)と、電磁波遮蔽層(５)と、
透明基板(４)の一方の面側に設けられた、近赤外線吸収
剤を含有する近赤外線遮蔽層(９)と、透明基板(４)の他
方の面側の最外層として設けられた接着剤層(７)とを備
えた前面保護板が、接着剤層(７)を介して平面型ディス
プレイパネル本体の視認側の表面に接合されてなること
を特徴とする平面型ディスプレイパネル。
【請求項２】前記前面保護板が、透明基板(４)の一方
の面側の最外層として設けられた反射防止層(６)を備え
てなることを特徴とする請求項１に記載の平面型ディス
プレイパネル。
【請求項３】前記透明基板(４)が、２３℃における曲
げ弾性率が２０００ＭＰａ以上の高剛性透明基板である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の平面型ディ
スプレイパネル。
【請求項４】前記透明基板(４)が、ガラスからなるこ
とを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の平面型
ディスプレイパネル。
【請求項５】前記平面型ディスプレイパネル本体がプ
ラズマディスプレイパネルであることを特徴とする請求
項１〜４のいずれかに記載の平面型ディスプレイパネ
ル。