JP2003043625A - 耐傷性を改良した光熱写真画像形成材料 - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヘイズが少なく、高い画像濃度が得られ、且
つ耐傷性に優れる光熱写真画像形成材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有して
なる光熱写真画像形成材料において、フッ素原子含有ア
ニオン系界面活性剤またはノニオン系界面活性剤の少な
くとも1種を層状化合物に挿入した複合化合物を含むこ
とを特徴とする光熱写真画像形成材料。
つ耐傷性に優れる光熱写真画像形成材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有して
なる光熱写真画像形成材料において、フッ素原子含有ア
ニオン系界面活性剤またはノニオン系界面活性剤の少な
くとも1種を層状化合物に挿入した複合化合物を含むこ
とを特徴とする光熱写真画像形成材料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像により画像を
形成する光熱写真画像形成材料に関するもので、詳しく
は、耐傷性に優れた光熱写真画像形成材料に関する。
形成する光熱写真画像形成材料に関するもので、詳しく
は、耐傷性に優れた光熱写真画像形成材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、医療や印刷の分野で環境保護や作
業性の面から感光材料の湿式処理に伴う廃液のでない光
熱写真画像形成材料が強く望まれている。この技術とし
て、例えば、米国特許第3,152,904号、同3,
487,075号及びD.モーガン(Morgan)に
よる「ドライシルバー写真材料(Dry Silver
Photographic Materials)」
(Handbook of Imaging Mate
rials,Marcel Dekker,Inc.第
48頁,1991)等に記載の方法がよく知られてい
る。これらの感光材料は通常、80〜130℃の温度で
現像が行われるので、光熱写真画像形成材料と呼ばれて
いる。
業性の面から感光材料の湿式処理に伴う廃液のでない光
熱写真画像形成材料が強く望まれている。この技術とし
て、例えば、米国特許第3,152,904号、同3,
487,075号及びD.モーガン(Morgan)に
よる「ドライシルバー写真材料(Dry Silver
Photographic Materials)」
(Handbook of Imaging Mate
rials,Marcel Dekker,Inc.第
48頁,1991)等に記載の方法がよく知られてい
る。これらの感光材料は通常、80〜130℃の温度で
現像が行われるので、光熱写真画像形成材料と呼ばれて
いる。
【0003】光熱写真画像形成材料は、現像が熱ローラ
ーや熱プレートに接触させて行われるので、その時に傷
が付きやすいという問題がある。このため感光層上部に
保護層を設け、この保護層に耐摩耗性の樹脂を使用し、
該樹脂を架橋剤で固めることやマット剤を使用するこ
と、フッ素系界面活性剤、ワックスあるいはシリコン滑
剤を添加すること等が行われている。耐熱性で耐摩耗性
のポリイミド樹脂やポリ珪素樹脂を採用すると耐傷性は
向上するが、着色や現像性が抑制される等のため、光学
的に透明(透過率が高い)で乱反射しにくい(屈折率の
低い)、静電気を帯びにくい(誘電率の低い)、水分を
吸収しない(水分透過率の低い)等の点から限定された
樹脂使用になっている。マット剤は広く使用されるが、
粒子径が大きかったり、多量に使用するとヘイズが高く
なり透明性が損なわれ(見かけのカブリ値が高くな
る)、画像濃度の低下を引き起こす。滑剤の使用は滑り
性を付与して傷を付きにくくするが、柔らかいので細い
針のような異物に接触すると傷が付きやすい欠点があ
る。いずれの方法においても最適値を超えると弊害が生
じ耐傷性のレベルを上げることができなかった。
ーや熱プレートに接触させて行われるので、その時に傷
が付きやすいという問題がある。このため感光層上部に
保護層を設け、この保護層に耐摩耗性の樹脂を使用し、
該樹脂を架橋剤で固めることやマット剤を使用するこ
と、フッ素系界面活性剤、ワックスあるいはシリコン滑
剤を添加すること等が行われている。耐熱性で耐摩耗性
のポリイミド樹脂やポリ珪素樹脂を採用すると耐傷性は
向上するが、着色や現像性が抑制される等のため、光学
的に透明(透過率が高い)で乱反射しにくい(屈折率の
低い)、静電気を帯びにくい(誘電率の低い)、水分を
吸収しない(水分透過率の低い)等の点から限定された
樹脂使用になっている。マット剤は広く使用されるが、
粒子径が大きかったり、多量に使用するとヘイズが高く
なり透明性が損なわれ(見かけのカブリ値が高くな
る)、画像濃度の低下を引き起こす。滑剤の使用は滑り
性を付与して傷を付きにくくするが、柔らかいので細い
針のような異物に接触すると傷が付きやすい欠点があ
る。いずれの方法においても最適値を超えると弊害が生
じ耐傷性のレベルを上げることができなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヘイ
ズが少なく、高い画像濃度が得られ、且つ耐傷性に優れ
る光熱写真画像形成材料を提供することである。
ズが少なく、高い画像濃度が得られ、且つ耐傷性に優れ
る光熱写真画像形成材料を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。
下の構成によって達成された。
【0006】1.支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、フッ素原子含有
アニオン系界面活性剤またはノニオン系界面活性剤の少
なくとも1種を層状化合物に挿入した複合化合物を含む
ことを特徴とする光熱写真画像形成材料。
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、フッ素原子含有
アニオン系界面活性剤またはノニオン系界面活性剤の少
なくとも1種を層状化合物に挿入した複合化合物を含む
ことを特徴とする光熱写真画像形成材料。
【0007】2.層状化合物が、モンモリロナイト、天
然マイカ、合成マイカ、ヘクトライト、セピオライト、
サポナイト、ハイデライト、ノントロナイト、スティブ
ンサイト、バーミキュライト、ハロサイトおよびハイド
ロタルサイトから選ばれる少なくとも1種であることを
特徴とする前記1に記載の光熱写真画像形成材料。
然マイカ、合成マイカ、ヘクトライト、セピオライト、
サポナイト、ハイデライト、ノントロナイト、スティブ
ンサイト、バーミキュライト、ハロサイトおよびハイド
ロタルサイトから選ばれる少なくとも1種であることを
特徴とする前記1に記載の光熱写真画像形成材料。
【0008】3.フッ素原子含有アニオン系界面活性剤
またはノニオン系界面活性剤がフッ素原子置換型アルキ
ル基またはアルケニル基(但しパーフルオロ置換型は除
く)であることを特徴とする前記1に記載の光熱写真画
像形成材料。
またはノニオン系界面活性剤がフッ素原子置換型アルキ
ル基またはアルケニル基(但しパーフルオロ置換型は除
く)であることを特徴とする前記1に記載の光熱写真画
像形成材料。
【0009】4.支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、最外層に前記1
に記載の複合化合物およびマット剤を含むことを特徴と
する光熱写真画像形成材料。
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、最外層に前記1
に記載の複合化合物およびマット剤を含むことを特徴と
する光熱写真画像形成材料。
【0010】5.支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、最外層に前記1
に記載の複合化合物およびマット剤を含み、該最外層ま
たは最外層に隣接する層がイソシアナート基、ビニルス
ルホニル基、エポキシ基およびアルコキシシラン基から
選ばれる少なくとも1つの基を有する化合物で架橋され
ていることを特徴とする光熱写真画像形成材料。
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、最外層に前記1
に記載の複合化合物およびマット剤を含み、該最外層ま
たは最外層に隣接する層がイソシアナート基、ビニルス
ルホニル基、エポキシ基およびアルコキシシラン基から
選ばれる少なくとも1つの基を有する化合物で架橋され
ていることを特徴とする光熱写真画像形成材料。
【0011】6.支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、最外層に前記1
に記載の複合化合物およびシリカ微粒子を有機ポリマー
で被覆したマット剤を含むことを特徴とする光熱写真画
像形成材料。
有機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有し
てなる光熱写真画像形成材料において、最外層に前記1
に記載の複合化合物およびシリカ微粒子を有機ポリマー
で被覆したマット剤を含むことを特徴とする光熱写真画
像形成材料。
【0012】本発明を更に詳しく説明する。まず、本発
明に使用する材料について順次述べて行く。
明に使用する材料について順次述べて行く。
【0013】(層状化合物)層状化合物は層状結晶構造
をもつ化合物のことであり、このようなものとしては、
例えばモンモリロナイト、サポナイト、ハイデライト、
ノントロナイト、ヘクトライト、セピオライト、スティ
ブンサイトなどのスメクタイト系粘土鉱物、バーミキュ
ライト、ハロサイト、その他天然又は人工の粘土鉱物、
雲母、ハイドロタルサイト、グラファイトなどが挙げら
れるが、これらの中で粘土鉱物が好適である。これらの
層状化合物は単独でも複数組み合わせて用いてもよい。
をもつ化合物のことであり、このようなものとしては、
例えばモンモリロナイト、サポナイト、ハイデライト、
ノントロナイト、ヘクトライト、セピオライト、スティ
ブンサイトなどのスメクタイト系粘土鉱物、バーミキュ
ライト、ハロサイト、その他天然又は人工の粘土鉱物、
雲母、ハイドロタルサイト、グラファイトなどが挙げら
れるが、これらの中で粘土鉱物が好適である。これらの
層状化合物は単独でも複数組み合わせて用いてもよい。
【0014】(層状化合物への挿入方法)本発明の複合
化合物を作製するには、まず、前記層状化合物を膨潤分
散させた有機分散液を調製することが必要である。前記
の有機分散液の調製においては、該層状化合物の層間
に、本発明のフッ素化合物をインターカレーション(層
間挿入)したものを用いるのが望ましく、このようなも
のを用いることにより、有機溶媒中に良好に膨潤分散さ
せることができる。
化合物を作製するには、まず、前記層状化合物を膨潤分
散させた有機分散液を調製することが必要である。前記
の有機分散液の調製においては、該層状化合物の層間
に、本発明のフッ素化合物をインターカレーション(層
間挿入)したものを用いるのが望ましく、このようなも
のを用いることにより、有機溶媒中に良好に膨潤分散さ
せることができる。
【0015】前記インターカレーションには、例えば層
状化合物において、層自体の構造欠陥又は非化学量論性
により、層自体が電荷を帯びているとき、通常その電荷
を打ち消すためにその反対の電荷をもつ化学種が層間に
存在して電気的に中性を保持しており、この化学種に対
して所望の化学種を配位させたり、交換させる、あるい
は単に電荷を打ち消すために所望の化学種を挿入する場
合と、単に層状化合物の層間に所望の化学種を挿入する
場合とがある。本発明では両者のいずれも使用すること
ができる。
状化合物において、層自体の構造欠陥又は非化学量論性
により、層自体が電荷を帯びているとき、通常その電荷
を打ち消すためにその反対の電荷をもつ化学種が層間に
存在して電気的に中性を保持しており、この化学種に対
して所望の化学種を配位させたり、交換させる、あるい
は単に電荷を打ち消すために所望の化学種を挿入する場
合と、単に層状化合物の層間に所望の化学種を挿入する
場合とがある。本発明では両者のいずれも使用すること
ができる。
【0016】前記有機分散液の調製に用いられる有機溶
媒については、層状化合物を膨潤分散させる能力を有す
るものであればよく、特に制限されず、例えばトルエ
ン、キシレン、ベンゼン、スチレン、アセトン、メチル
エチルケトンなどが挙げられるが、これらの中で芳香族
溶媒が好適である。これらの有機溶媒は1種用いてもよ
いし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また、膨
潤度を向上させるために、メタノールなどの極性添加剤
を、該溶媒に対して0.5〜8.0質量%程度添加して
もよい。
媒については、層状化合物を膨潤分散させる能力を有す
るものであればよく、特に制限されず、例えばトルエ
ン、キシレン、ベンゼン、スチレン、アセトン、メチル
エチルケトンなどが挙げられるが、これらの中で芳香族
溶媒が好適である。これらの有機溶媒は1種用いてもよ
いし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また、膨
潤度を向上させるために、メタノールなどの極性添加剤
を、該溶媒に対して0.5〜8.0質量%程度添加して
もよい。
【0017】有機分散液中の層状化合物の含有量は10
質量%以下が好ましく、10質量%を超えると該層状化
合物が分散不良を生じる場合があり、好ましくない。ま
た、混合温度や混合時間については特に制限はなく、混
合により粘度が上昇することで、層状化合物が膨潤分散
した有機分散液になったと判断できる。
質量%以下が好ましく、10質量%を超えると該層状化
合物が分散不良を生じる場合があり、好ましくない。ま
た、混合温度や混合時間については特に制限はなく、混
合により粘度が上昇することで、層状化合物が膨潤分散
した有機分散液になったと判断できる。
【0018】(フッ素原子で置換された界面活性剤)本
発明に使用する界面活性剤は、疎水性部分と親水性部分
からなり、疎水性部分はアルキル基やアルケニル基、或
いは、芳香族環にアルキルやアルケニル基が置換された
疎水性部とスルホン酸基、カルボン酸基、燐酸基または
これらのアルカリ金属塩、即ち、アニオン性基やポリオ
キシアルキレン基の部分、即ちノニオン基の部分からな
る。フッ素原子の置換は疎水性部分のC−H結合のHを
フッ素原子で置換したものである。すべての置換可能な
C−H結合のH原子をF原子で置換したものは、パーフ
ルオロアルキル、パーフルオロアルケニル、パーフルオ
ロフェニル等と呼ばれる。本発明では、すべての置換可
能な水素原子をフッ素に置換する必要がなく、アニオン
基やノニオン基と直接結合する炭素原子上の水素原子は
フッ素原子で置換されている必要がない。寧ろ、このよ
うな結合の方が好ましい。従って、疎水性基はフッ素原
子で置換された部分と置換されていない部分から成り立
っている示性式で表すことができる。フッ素原子で置換
された部分をRf基と表し、フッ素原子で置換されてい
ない基をRnfと記すると本発明の界面活性剤は以下の
ように表現することができる。POAはポリオキシアル
キレンを、Mを水素原子またはアルカリ金属塩を表す
(例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム)。
発明に使用する界面活性剤は、疎水性部分と親水性部分
からなり、疎水性部分はアルキル基やアルケニル基、或
いは、芳香族環にアルキルやアルケニル基が置換された
疎水性部とスルホン酸基、カルボン酸基、燐酸基または
これらのアルカリ金属塩、即ち、アニオン性基やポリオ
キシアルキレン基の部分、即ちノニオン基の部分からな
る。フッ素原子の置換は疎水性部分のC−H結合のHを
フッ素原子で置換したものである。すべての置換可能な
C−H結合のH原子をF原子で置換したものは、パーフ
ルオロアルキル、パーフルオロアルケニル、パーフルオ
ロフェニル等と呼ばれる。本発明では、すべての置換可
能な水素原子をフッ素に置換する必要がなく、アニオン
基やノニオン基と直接結合する炭素原子上の水素原子は
フッ素原子で置換されている必要がない。寧ろ、このよ
うな結合の方が好ましい。従って、疎水性基はフッ素原
子で置換された部分と置換されていない部分から成り立
っている示性式で表すことができる。フッ素原子で置換
された部分をRf基と表し、フッ素原子で置換されてい
ない基をRnfと記すると本発明の界面活性剤は以下の
ように表現することができる。POAはポリオキシアル
キレンを、Mを水素原子またはアルカリ金属塩を表す
(例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム)。
【0019】
Rf−Rnf−SO3M、Rf−Rnf−COOM
Rf−Rnf−PO4M、Rf−Rnf−POA
下記に好ましい具体例を示す。
【0020】
【化1】
【0021】上記フッ素原子で置換された界面活性剤
は、層間物質として層状化合物中に、最大量まで挿入す
ることができる。実用的には最大量の20〜80%が好
ましく、更に30〜70%が好ましい。
は、層間物質として層状化合物中に、最大量まで挿入す
ることができる。実用的には最大量の20〜80%が好
ましく、更に30〜70%が好ましい。
【0022】(マット剤)本発明においては、感光層側
にマット剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像
の傷つき防止のために、感光材料の表面にマット剤を配
することが好ましく、そのマット剤を感光層側の全結合
剤に対し、質量比で0.5〜30%含有することが好ま
しい。マット剤を表面に配する一般的な方法は、感光層
上層に保護層を設けて、保護層中にマット剤を添加して
塗布する方法である。感光層の下にある中間層、AH層
中にマット剤を含有させる方法もあるが、本発明におい
ては保護層に添加するのが好ましい。
にマット剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像
の傷つき防止のために、感光材料の表面にマット剤を配
することが好ましく、そのマット剤を感光層側の全結合
剤に対し、質量比で0.5〜30%含有することが好ま
しい。マット剤を表面に配する一般的な方法は、感光層
上層に保護層を設けて、保護層中にマット剤を添加して
塗布する方法である。感光層の下にある中間層、AH層
中にマット剤を含有させる方法もあるが、本発明におい
ては保護層に添加するのが好ましい。
【0023】また、支持体をはさみ感光層の反対側に非
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、濃度が出ない場
合、感光層側にマット剤を使用せず、感光層の反対側の
最外層のみにマット剤を添加する方法もある。マット剤
の使用量は感光層側および感光層の反対側の層の全結合
剤に対し、質量比で0.5〜40%含有することが好ま
しい。感光層側と感光層側と反対側の両方に使用する場
合は、感光層の反対側の層に感光層側より多く添加する
方が耐傷性の点から好ましい。
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、濃度が出ない場
合、感光層側にマット剤を使用せず、感光層の反対側の
最外層のみにマット剤を添加する方法もある。マット剤
の使用量は感光層側および感光層の反対側の層の全結合
剤に対し、質量比で0.5〜40%含有することが好ま
しい。感光層側と感光層側と反対側の両方に使用する場
合は、感光層の反対側の層に感光層側より多く添加する
方が耐傷性の点から好ましい。
【0024】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用
いることができる。有機物としては、米国特許第2,3
22,037号等に記載の澱粉、ベルギー特許第62
5,451号や英国特許第981,198号等に記載さ
れた澱粉誘導体、特公昭44−3643号等に記載のポ
リビニルアルコール、スイス特許第330,158号等
に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米
国特許第3,079,257号等に記載のポリアクリロ
ニトリル、米国特許第3,022,169号等に記載さ
れたポリカーボネートの様な有機マット剤を用いること
ができる。
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用
いることができる。有機物としては、米国特許第2,3
22,037号等に記載の澱粉、ベルギー特許第62
5,451号や英国特許第981,198号等に記載さ
れた澱粉誘導体、特公昭44−3643号等に記載のポ
リビニルアルコール、スイス特許第330,158号等
に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米
国特許第3,079,257号等に記載のポリアクリロ
ニトリル、米国特許第3,022,169号等に記載さ
れたポリカーボネートの様な有機マット剤を用いること
ができる。
【0025】本発明に特に好ましいマット剤は、シリカ
の微粒子を有機ポリマーで被覆したものである。有機ポ
リマーの被覆により、保護層内の結合剤との相溶性がよ
くなり、耐傷性が向上するためと考えられる。被覆され
るシリカ微粒子は、天然でも合成シリカでもよい。ゾル
−ゲル法で作製したコロイダルシリカであってもよい。
被覆用の有機ポリマー原料としては、はスチレン、ブタ
ジエン、アクリレート、メタクリレート、ビニルアセテ
ート等ラジカル重合性のモノマーでも良いし、縮合性の
モノマーであってもよい。被覆方法は既に公知の技術を
使用して被覆することができる。被覆量は、中心のシリ
カ微粒子の質量の10分の1から10倍までの量を適宜
設定することができる。
の微粒子を有機ポリマーで被覆したものである。有機ポ
リマーの被覆により、保護層内の結合剤との相溶性がよ
くなり、耐傷性が向上するためと考えられる。被覆され
るシリカ微粒子は、天然でも合成シリカでもよい。ゾル
−ゲル法で作製したコロイダルシリカであってもよい。
被覆用の有機ポリマー原料としては、はスチレン、ブタ
ジエン、アクリレート、メタクリレート、ビニルアセテ
ート等ラジカル重合性のモノマーでも良いし、縮合性の
モノマーであってもよい。被覆方法は既に公知の技術を
使用して被覆することができる。被覆量は、中心のシリ
カ微粒子の質量の10分の1から10倍までの量を適宜
設定することができる。
【0026】作製したマット剤の最終の形状は、定形、
不定形どちらでも良いが、好ましくは定形で、球形が好
ましく用いられる。マット剤の大きさはマット剤の体積
を球形に換算したときの直径で表される。本発明におい
てマット剤の粒径とはこの球形換算した直径のことを示
すものとする。
不定形どちらでも良いが、好ましくは定形で、球形が好
ましく用いられる。マット剤の大きさはマット剤の体積
を球形に換算したときの直径で表される。本発明におい
てマット剤の粒径とはこの球形換算した直径のことを示
すものとする。
【0027】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ま
しくは30%以下となるマット剤である。
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ま
しくは30%以下となるマット剤である。
【0028】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。(粒径の標準偏差)/(粒
径の平均値)×100本発明に係るマット剤の添加方法
は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっても
よいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマ
ット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用しても
よい。マット剤の添加量は、マット粒子の大きさにより
ヘイズの問題にならないレベルで適宜決定することがで
きるが、0.01mg/m2〜1g/m2で使用するのが
よい。過度の添加は、ヘイズが問題となる。
記の式で表される値である。(粒径の標準偏差)/(粒
径の平均値)×100本発明に係るマット剤の添加方法
は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっても
よいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマ
ット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用しても
よい。マット剤の添加量は、マット粒子の大きさにより
ヘイズの問題にならないレベルで適宜決定することがで
きるが、0.01mg/m2〜1g/m2で使用するのが
よい。過度の添加は、ヘイズが問題となる。
【0029】本発明の光熱写真画像形成材料は、熱現像
処理にて写真画像を形成するもので、還元可能な銀源
(有機銀塩)、触媒活性量のハロゲン化銀、還元剤、及
び必要に応じて銀の色調を抑制する色調剤を、有機結合
剤マトリックス中に分散した状態で含有している。本発
明の光熱写真画像形成材料は常温で安定であるが、露光
後高温(例えば80℃〜140℃)に加熱されることで
現像される。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機
能する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生
成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化銀に発生
した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の
有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像を提供
し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形成がなさ
れる。この反応過程は、外部から水等の処理液を供給す
ることなしで進行する。
処理にて写真画像を形成するもので、還元可能な銀源
(有機銀塩)、触媒活性量のハロゲン化銀、還元剤、及
び必要に応じて銀の色調を抑制する色調剤を、有機結合
剤マトリックス中に分散した状態で含有している。本発
明の光熱写真画像形成材料は常温で安定であるが、露光
後高温(例えば80℃〜140℃)に加熱されることで
現像される。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機
能する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生
成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化銀に発生
した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の
有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像を提供
し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形成がなさ
れる。この反応過程は、外部から水等の処理液を供給す
ることなしで進行する。
【0030】(架橋剤)保護層に架橋剤を使用すること
により傷の付きにくい膜強度を得ることができるが、本
発明の複合化合物或いはマット剤と併用することにより
耐傷性を高めることができる。しかし、架橋反応が遅い
と、写真性能が安定せず保存性が劣化するので、即効性
であることが好ましく、イソシアナート基、エポキシ
基、ビニルスルホニル基またはアルコキシシラン基のい
ずれかを1個有する多官能型架橋剤を挙げることができ
る。好ましい架橋剤を下記に示す。
により傷の付きにくい膜強度を得ることができるが、本
発明の複合化合物或いはマット剤と併用することにより
耐傷性を高めることができる。しかし、架橋反応が遅い
と、写真性能が安定せず保存性が劣化するので、即効性
であることが好ましく、イソシアナート基、エポキシ
基、ビニルスルホニル基またはアルコキシシラン基のい
ずれかを1個有する多官能型架橋剤を挙げることができ
る。好ましい架橋剤を下記に示す。
【0031】
H1 ヘキサメチレンジイソシアナート
H2 ヘキサメチレンジイソシアナートの3量体
H3 トリレンジイソシアナート
H4 フェニレンジイソシアナート
H5 キシリレンジイソシアナート
【0032】
【化2】
【0033】上記架橋剤は、水、アルコール類、ケトン
類、非極性の有機溶媒類に溶解して添加しても良いし、
塗布液中に固形のまま添加してもよい。添加量は、結合
剤の架橋する基と当量が好ましいが10倍まで増量して
も良いし、10分の1以下まで減量してもよい。少なす
ぎると架橋反応が進まないし、多すぎると未反応の架橋
剤が写真性を劣化させるので好ましくない。
類、非極性の有機溶媒類に溶解して添加しても良いし、
塗布液中に固形のまま添加してもよい。添加量は、結合
剤の架橋する基と当量が好ましいが10倍まで増量して
も良いし、10分の1以下まで減量してもよい。少なす
ぎると架橋反応が進まないし、多すぎると未反応の架橋
剤が写真性を劣化させるので好ましくない。
【0034】(還元剤)本発明の還元剤の例は、米国特
許第3,770,448号、同3,773,512号、
同3,593,863号等の各明細書、及びResea
rch Disclosure第17029及び299
63に記載されているものを使用することができるが、
特に好ましい具体例を下記に示す。
許第3,770,448号、同3,773,512号、
同3,593,863号等の各明細書、及びResea
rch Disclosure第17029及び299
63に記載されているものを使用することができるが、
特に好ましい具体例を下記に示す。
【0035】G−1 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチル
ヘキサン G−2 ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフェニル)メタン G−3 2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)プロパン G−4 4,4′−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール) G−5 2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン。
3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチル
ヘキサン G−2 ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフェニル)メタン G−3 2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)プロパン G−4 4,4′−エチリデン−ビス(2−t−ブチル
−6−メチルフェノール) G−5 2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン。
【0036】前記に示される化合物は、水に分散した
り、有機溶媒に溶解して使用する。有機溶媒は、メタノ
ールやエタノール等のアルコール類やアセトンやメチル
エチルケトン等のケトン類、トルエンやキシレン等の芳
香族系を任意に選択することができる。還元剤の使用量
は、銀1モル当り1×10-2〜10モル、好ましくは1
×10-2〜2モルである。
り、有機溶媒に溶解して使用する。有機溶媒は、メタノ
ールやエタノール等のアルコール類やアセトンやメチル
エチルケトン等のケトン類、トルエンやキシレン等の芳
香族系を任意に選択することができる。還元剤の使用量
は、銀1モル当り1×10-2〜10モル、好ましくは1
×10-2〜2モルである。
【0037】(結合剤)本発明で用いることの出来る好
ましい結合剤は、例えば、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニリデン−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−イタ
コン酸共重合体、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチ
レンオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、スチレン−ブタジエン−アクリル酸共重
合体、ポリアセタール等である。
ましい結合剤は、例えば、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニリデン−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−イタ
コン酸共重合体、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチ
レンオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル
共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、スチレン−ブタジエン−アクリル酸共重
合体、ポリアセタール等である。
【0038】結合剤に使用する好ましいポリマーの組成
について更にガラス転移点が−20℃から80℃までが
好ましく、特に−5℃から60℃までが好ましい。ガラ
ス転移点が高いと熱現像する温度が高くなり、低いとカ
ブリやすくなり、感度の低下や軟調になるからである。
水分散ポリマーを使用する場合には、平均粒子径が1n
mから数μmの範囲の微粒子にして分散されたものが好
ましい。水分散疎水性ポリマーはラテックスとよばれ、
水系塗布の結合剤として広く使用されている。中でも耐
水性を向上させるラテックスが好ましい。結合剤として
耐水性を得る目的のラテックスの使用量は、塗布性を勘
案して決められる耐湿性の観点から多いほど好ましい。
全結合剤質量に対して50%以上100%以下、80%
以上100%以下が好ましい。
について更にガラス転移点が−20℃から80℃までが
好ましく、特に−5℃から60℃までが好ましい。ガラ
ス転移点が高いと熱現像する温度が高くなり、低いとカ
ブリやすくなり、感度の低下や軟調になるからである。
水分散ポリマーを使用する場合には、平均粒子径が1n
mから数μmの範囲の微粒子にして分散されたものが好
ましい。水分散疎水性ポリマーはラテックスとよばれ、
水系塗布の結合剤として広く使用されている。中でも耐
水性を向上させるラテックスが好ましい。結合剤として
耐水性を得る目的のラテックスの使用量は、塗布性を勘
案して決められる耐湿性の観点から多いほど好ましい。
全結合剤質量に対して50%以上100%以下、80%
以上100%以下が好ましい。
【0039】本発明においては、これらのポリマー結合
剤としては(ラテックスの場合は固形分量で)銀量に対
して4分の1から10倍の量、銀の付き量が2.0g/
m2の場合、ポリマーの付き量は0.5〜20g/m2で
あることが好ましく、更に銀の付き量の2分の1から7
倍量である1.0〜14g/m2が好ましい。銀付き量
の4分の1未満では、銀色調が大幅に劣化し、使用に耐
えない場合があるし、銀の付き量の10倍を超えると、
軟調になり使用に耐えなくなる場合がある。
剤としては(ラテックスの場合は固形分量で)銀量に対
して4分の1から10倍の量、銀の付き量が2.0g/
m2の場合、ポリマーの付き量は0.5〜20g/m2で
あることが好ましく、更に銀の付き量の2分の1から7
倍量である1.0〜14g/m2が好ましい。銀付き量
の4分の1未満では、銀色調が大幅に劣化し、使用に耐
えない場合があるし、銀の付き量の10倍を超えると、
軟調になり使用に耐えなくなる場合がある。
【0040】以下光熱写真画像形成材料に用いられるそ
の他の成分について説明する。本発明に使用する有機銀
塩の金属塩の有機酸としては、ステアリン酸、ベヘン
酸、パルミチン酸などの脂肪酸類などが挙げられる。
の他の成分について説明する。本発明に使用する有機銀
塩の金属塩の有機酸としては、ステアリン酸、ベヘン
酸、パルミチン酸などの脂肪酸類などが挙げられる。
【0041】本発明の光熱写真画像形成材料に使用され
る感光性ハロゲン化銀は、シングルジェットもしくはダ
ブルジェット法などの写真技術の分野で公知の方法によ
り、例えば、アンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のい
ずれかの方法でも調製できる。この様に予め調製した
後、本発明の他の成分と混合して本発明に用いる組成物
中に導入することが出来る。この場合に感光性ハロゲン
化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるため、例えば感
光性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポリマーとして
米国特許第3,706,564号、同第3,706,5
65号、同第3,713,833号、同第3,748,
143号、英国特許第1,362,970号各明細書に
記載されたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外
のポリマーを用いる手段や、英国特許第1,354,1
86号明細書に記載されているような感光性ハロゲン化
銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手段、又は米国特許第
4,076,539号明細書に記載されているように感
光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製する
ことによって保護ポリマーの使用を省略する手段等の各
手段を適用することが出来る。
る感光性ハロゲン化銀は、シングルジェットもしくはダ
ブルジェット法などの写真技術の分野で公知の方法によ
り、例えば、アンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のい
ずれかの方法でも調製できる。この様に予め調製した
後、本発明の他の成分と混合して本発明に用いる組成物
中に導入することが出来る。この場合に感光性ハロゲン
化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるため、例えば感
光性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポリマーとして
米国特許第3,706,564号、同第3,706,5
65号、同第3,713,833号、同第3,748,
143号、英国特許第1,362,970号各明細書に
記載されたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外
のポリマーを用いる手段や、英国特許第1,354,1
86号明細書に記載されているような感光性ハロゲン化
銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手段、又は米国特許第
4,076,539号明細書に記載されているように感
光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製する
ことによって保護ポリマーの使用を省略する手段等の各
手段を適用することが出来る。
【0042】ハロゲン化銀は、高感度感光性材料として
機能するものであり、画像形成後の白濁を低く抑える
為、又、良好な画質を得るために粒子サイズが小さいも
のが好ましい。平均粒子サイズで0.1μm以下、好ま
しくは0.01μm〜0.1μm、特に0.02μm〜
0.08μmが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状とし
ては特に制限はなく、立方体、八面体の謂ゆる正常晶や
正常晶でない球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハ
ロゲン化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭
化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれ
であってもよい。
機能するものであり、画像形成後の白濁を低く抑える
為、又、良好な画質を得るために粒子サイズが小さいも
のが好ましい。平均粒子サイズで0.1μm以下、好ま
しくは0.01μm〜0.1μm、特に0.02μm〜
0.08μmが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状とし
ては特に制限はなく、立方体、八面体の謂ゆる正常晶や
正常晶でない球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハ
ロゲン化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭
化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれ
であってもよい。
【0043】ハロゲン化銀の量は有機銀塩の総量に対し
50%以下、好ましくは25%〜0.1%、更に好まし
くは15%〜0.1%の間である。
50%以下、好ましくは25%〜0.1%、更に好まし
くは15%〜0.1%の間である。
【0044】本発明の光熱写真画像形成材料に使用され
る感光性ハロゲン化銀は又、英国特許第1,447,4
54号明細書に記載されている様に、有機銀塩を調製す
る際にハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成
成分と共存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩
の生成とほぼ同時に生成させることが出来る。
る感光性ハロゲン化銀は又、英国特許第1,447,4
54号明細書に記載されている様に、有機銀塩を調製す
る際にハライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成
成分と共存させこれに銀イオンを注入する事で有機銀塩
の生成とほぼ同時に生成させることが出来る。
【0045】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀
形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を
生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該
当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事
が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混
入し必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン
化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かか
る試験によって有効であることが確かめられたハロゲン
化銀形成成分としては、無機ハロゲン化物、オニウムハ
ライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合
物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例につ
いては米国特許第4,009,039号、同第3,45
7,075号、同第4,003,749号、英国特許第
1,498,956号各明細書及び特開昭53−270
27号、同53−25420号各公報に詳説されるが以
下にその一例を示す。
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀
形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を
生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該
当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事
が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混
入し必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン
化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かか
る試験によって有効であることが確かめられたハロゲン
化銀形成成分としては、無機ハロゲン化物、オニウムハ
ライド類、ハロゲン化炭化水素類、N−ハロゲン化合
物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例につ
いては米国特許第4,009,039号、同第3,45
7,075号、同第4,003,749号、英国特許第
1,498,956号各明細書及び特開昭53−270
27号、同53−25420号各公報に詳説されるが以
下にその一例を示す。
【0046】無機ハロゲン化物:例えばMXnで表され
るハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び金属原
子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、Mが金属
原子の時はその原子価を表す。金属原子としては、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カ
ドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガン、
鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等があ
る)、又、臭素水などのハロゲン分子も有効である。
るハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び金属原
子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、Mが金属
原子の時はその原子価を表す。金属原子としては、リチ
ウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カ
ドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガン、
鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等があ
る)、又、臭素水などのハロゲン分子も有効である。
【0047】これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反
応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜
設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃乃至
70℃、その反応時間は0.1秒乃至72時間であり、
その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この
反応は、結合剤として使用されるポリマーの存在下に行
われることが好ましい。この際のポリマーの使用量は有
機銀塩1質量部当たり0.01乃至100質量部、好ま
しくは0.1乃至10質量部である。
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反
応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜
設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃乃至
70℃、その反応時間は0.1秒乃至72時間であり、
その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この
反応は、結合剤として使用されるポリマーの存在下に行
われることが好ましい。この際のポリマーの使用量は有
機銀塩1質量部当たり0.01乃至100質量部、好ま
しくは0.1乃至10質量部である。
【0048】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許
第1,518,850号各明細書、特開昭51−224
30号、同51−78319号、同51−81124号
各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分によ
り有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際
に、米国特許第3,980,482号明細書に記載され
ているように、増感を達成するために低分子量のアミド
化合物を共存させてもよい。
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
する事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば米国特許第4,036,650号、英国特許
第1,518,850号各明細書、特開昭51−224
30号、同51−78319号、同51−81124号
各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形成成分によ
り有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際
に、米国特許第3,980,482号明細書に記載され
ているように、増感を達成するために低分子量のアミド
化合物を共存させてもよい。
【0049】又、これらの感光性ハロゲン化銀には、照
度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6〜11族に
属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、Os、F
e等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させること
が出来る。これらの金属イオンは金属塩をそのままハロ
ゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体又は錯体イオン
の形でハロゲン化銀に導入できる。これらの、金属錯体
及び金属錯体イオンとしては、6配位錯体イオンが好ま
しい。
度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の6〜11族に
属する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、Os、F
e等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させること
が出来る。これらの金属イオンは金属塩をそのままハロ
ゲン化銀に導入してもよいが、金属錯体又は錯体イオン
の形でハロゲン化銀に導入できる。これらの、金属錯体
及び金属錯体イオンとしては、6配位錯体イオンが好ま
しい。
【0050】配位子の具体例としては、ハロゲン化物
(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化物、
シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テル
ロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシ
ル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニ
トロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存
在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが
好ましい。配位子は同一でもよく、また異なっていても
よい。
(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化物、
シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テル
ロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシ
ル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニ
トロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存
在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが
好ましい。配位子は同一でもよく、また異なっていても
よい。
【0051】金属元素として特に好ましい具体例は、ロ
ジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(R
e)、イリジウム(Ir)及びオスミウム(Os)であ
る。
ジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(R
e)、イリジウム(Ir)及びオスミウム(Os)であ
る。
【0052】これらの金属錯体又は錯体イオンは一種類
でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用
してもよい。
でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用
してもよい。
【0053】これらの金属のイオン、金属錯体及び錯体
イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀1モ
ル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当であり、好
ましくは1×10-8〜1×10-4モルである。過度の添
加量は感度の低下や軟調、最高濃度の低下を引き起こす
ので好ましくない。これらの金属のイオン又は錯体イオ
ンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
く、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物
理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよい
が、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが
好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのがよ
り好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
添加に際しては、数回に分割して添加してもよく、ハロ
ゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特
開昭63−29603号、特開平2−306236号、
同3−167545号、同4−76534号、同6−1
10146号、同5−273683号等に記載されてい
る様に粒子内に分布を持たせて含有させることもでき
る。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒
(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、
ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加する
ことができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液もし
くは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した
水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハラ
イド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハラ
イド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添
加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製す
る方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予
め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハ
ロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特
に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とN
aCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハラ
イド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加す
る時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もしくは終
了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入することもできる。
イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀1モ
ル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当であり、好
ましくは1×10-8〜1×10-4モルである。過度の添
加量は感度の低下や軟調、最高濃度の低下を引き起こす
ので好ましくない。これらの金属のイオン又は錯体イオ
ンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
く、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物
理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよい
が、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが
好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのがよ
り好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
添加に際しては、数回に分割して添加してもよく、ハロ
ゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特
開昭63−29603号、特開平2−306236号、
同3−167545号、同4−76534号、同6−1
10146号、同5−273683号等に記載されてい
る様に粒子内に分布を持たせて含有させることもでき
る。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒
(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、
ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加する
ことができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液もし
くは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した
水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハラ
イド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハラ
イド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添
加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製す
る方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予
め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハ
ロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特
に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とN
aCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハラ
イド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加す
る時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もしくは終
了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入することもできる。
【0054】本発明の光熱写真画像形成材料は支持体上
に少なくとも一層の感光性層を有している。支持体の上
に熱現像感光層のみを形成しても良いが、この上に少な
くとも1層の非感光性層を形成することが好ましい。
に少なくとも一層の感光性層を有している。支持体の上
に熱現像感光層のみを形成しても良いが、この上に少な
くとも1層の非感光性層を形成することが好ましい。
【0055】又、感光性層に通過する光の量又は波長分
布を制御するために感光性層と同じ側にフィルター染料
層および/又は反対側にアンチハレーション染料層、い
わゆるバッキング層を形成しても良いし、感光性層に染
料又は顔料を含ませても良い。
布を制御するために感光性層と同じ側にフィルター染料
層および/又は反対側にアンチハレーション染料層、い
わゆるバッキング層を形成しても良いし、感光性層に染
料又は顔料を含ませても良い。
【0056】本発明の光熱写真画像形成材料中にはカブ
リ防止剤が含まれていても良い。有効なカブリ防止剤と
して例えば米国特許第3,589,903号などで知ら
れている水銀化合物は環境的に好ましくない。そのため
非水銀カブリ防止剤の検討が古くから行われてきた。非
水銀カブリ防止剤としては例えば米国特許第4,54
6,075号及び同第4,452,885号及び特開昭
59−57234号に開示されている様なカブリ防止剤
が好ましい。
リ防止剤が含まれていても良い。有効なカブリ防止剤と
して例えば米国特許第3,589,903号などで知ら
れている水銀化合物は環境的に好ましくない。そのため
非水銀カブリ防止剤の検討が古くから行われてきた。非
水銀カブリ防止剤としては例えば米国特許第4,54
6,075号及び同第4,452,885号及び特開昭
59−57234号に開示されている様なカブリ防止剤
が好ましい。
【0057】好ましいカブリ防止剤の例としては特開平
9−90550号段落番号〔0062〕〜〔0063〕
に記載されている化合物である。さらに、その他の好適
なカブリ防止剤は米国特許第5,028,523号及び
欧州特許第600,587号、同第605,981号、
同第631,176号に開示されている。
9−90550号段落番号〔0062〕〜〔0063〕
に記載されている化合物である。さらに、その他の好適
なカブリ防止剤は米国特許第5,028,523号及び
欧州特許第600,587号、同第605,981号、
同第631,176号に開示されている。
【0058】本発明の光熱写真画像形成材料には、例え
ば特開昭63−159841号、同60−140335
号、同63−231437号、同63−259651
号、同63−304242号、同63−15245号、
米国特許第4,639,414号、同第4,740,4
55号、同第4,741,966号、同第4,751,
175号、同第4,835,096号に記載された増感
色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素
は例えばResearch Disclosure17
643IV−A項(1978年12月p.23)、同18
431X項(1979年8月p.437)に記載もしく
は引用された文献に記載されている。特に各種スキャナ
ー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を
有利に選択することができる。例えば特開平9−340
78号、同9−54409号、同9−80679号記載
の化合物が好ましく用いられる。
ば特開昭63−159841号、同60−140335
号、同63−231437号、同63−259651
号、同63−304242号、同63−15245号、
米国特許第4,639,414号、同第4,740,4
55号、同第4,741,966号、同第4,751,
175号、同第4,835,096号に記載された増感
色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素
は例えばResearch Disclosure17
643IV−A項(1978年12月p.23)、同18
431X項(1979年8月p.437)に記載もしく
は引用された文献に記載されている。特に各種スキャナ
ー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を
有利に選択することができる。例えば特開平9−340
78号、同9−54409号、同9−80679号記載
の化合物が好ましく用いられる。
【0059】(フタラジン化合物)本発明に現像促進や
色調剤として使用するフタラジン化合物は、フタラジン
環に各種置換基を導入したものが好ましい。好ましい具
体例を下記に示す。 (1)6−tet−ブチルフタラジン (2)6,7−ジメチルフタラジン (3)6−メチルフタラジン (4)6−イソプロピルフタラジン (5)6−クロロフタラジン (6)6−エトキシフタラジン (7)6−t−アミルフタラジン (8)5,8−ジメチルフタラジン (9)6,7−エトキシフタラジン 前記に示される化合物は、水に分散したり、有機溶媒に
溶解して使用する。有機溶媒は、メタノールやエタノー
ル等のアルコール類やアセトンやメチルエチルケトン等
のケトン類、トルエンやキシレン等の芳香族系を任意に
選択することができる。還元剤の使用量は、銀1モル当
り1×10-6〜10モル、好ましくは1×10-5〜10
-2モルである。
色調剤として使用するフタラジン化合物は、フタラジン
環に各種置換基を導入したものが好ましい。好ましい具
体例を下記に示す。 (1)6−tet−ブチルフタラジン (2)6,7−ジメチルフタラジン (3)6−メチルフタラジン (4)6−イソプロピルフタラジン (5)6−クロロフタラジン (6)6−エトキシフタラジン (7)6−t−アミルフタラジン (8)5,8−ジメチルフタラジン (9)6,7−エトキシフタラジン 前記に示される化合物は、水に分散したり、有機溶媒に
溶解して使用する。有機溶媒は、メタノールやエタノー
ル等のアルコール類やアセトンやメチルエチルケトン等
のケトン類、トルエンやキシレン等の芳香族系を任意に
選択することができる。還元剤の使用量は、銀1モル当
り1×10-6〜10モル、好ましくは1×10-5〜10
-2モルである。
【0060】(ポリハロメチル化合物)ポリハロメチル
化合物は、1個の分子の中に、トリハロメチル基を少な
くとも1個有する化合物であり、脂肪族基上に置換され
たり、芳香族環やヘテロ環に置換されている。芳香族環
やヘテロ環は2価の連結基を介して更に芳香族環やヘテ
ロ環に連結してもよい。芳香族はフェニル基やナフタレ
ン基が好ましく、これら環上にハロゲン原子、例えば、
塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、アルキル基として
例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、
ドデシル基、オクタデシル基等の置換基を有してもよ
い。ヘテロ環基としては、例えば、ピリジン基、ピリミ
ジン基、キノリン基、フラン環基、チオフェン環基、イ
ミダゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チア
ゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基等で
これら環上には、芳香族環と同様な置換基を有してもよ
い。また、芳香族環やヘテロ環上には、耐拡散性を付与
するための基やハロゲン化銀への吸着を促進する基を置
換してもよい。トリハロメチル基に隣接する基はスルホ
ニル基やカルボニル基が好ましいが、直接芳香族環やヘ
テロ環上に結合してもよく、結合の方式は限定されな
い。芳香族環やヘテロ環は還元されて非アリール環にし
てもよい。トリハロメチル基のハロゲン原子としては、
臭素原子が好ましいが、塩素、フッ素、沃素でもよく、
これらの組み合わせでもよい。
化合物は、1個の分子の中に、トリハロメチル基を少な
くとも1個有する化合物であり、脂肪族基上に置換され
たり、芳香族環やヘテロ環に置換されている。芳香族環
やヘテロ環は2価の連結基を介して更に芳香族環やヘテ
ロ環に連結してもよい。芳香族はフェニル基やナフタレ
ン基が好ましく、これら環上にハロゲン原子、例えば、
塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、アルキル基として
例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、
ドデシル基、オクタデシル基等の置換基を有してもよ
い。ヘテロ環基としては、例えば、ピリジン基、ピリミ
ジン基、キノリン基、フラン環基、チオフェン環基、イ
ミダゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チア
ゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基等で
これら環上には、芳香族環と同様な置換基を有してもよ
い。また、芳香族環やヘテロ環上には、耐拡散性を付与
するための基やハロゲン化銀への吸着を促進する基を置
換してもよい。トリハロメチル基に隣接する基はスルホ
ニル基やカルボニル基が好ましいが、直接芳香族環やヘ
テロ環上に結合してもよく、結合の方式は限定されな
い。芳香族環やヘテロ環は還元されて非アリール環にし
てもよい。トリハロメチル基のハロゲン原子としては、
臭素原子が好ましいが、塩素、フッ素、沃素でもよく、
これらの組み合わせでもよい。
【0061】これらの化合物の具体例を以下に挙げる。
【0062】
【化3】
【0063】前記に示されるポリハロメチル化合物の添
加方法および添加量はフタラジン化合物と同様にするこ
とができる。
加方法および添加量はフタラジン化合物と同様にするこ
とができる。
【0064】本発明では、光熱写真画像形成材料中に、
必要に応じて、増感剤、有機または無機の填料、界面活
性剤、ステイン防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐
水化剤、分散剤、安定化剤、可塑剤、被覆助剤、消泡
剤、蛍光染料、高級脂肪酸の金属塩などを添加してもよ
い。
必要に応じて、増感剤、有機または無機の填料、界面活
性剤、ステイン防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐
水化剤、分散剤、安定化剤、可塑剤、被覆助剤、消泡
剤、蛍光染料、高級脂肪酸の金属塩などを添加してもよ
い。
【0065】熱現像感光層は複数層にしてもよく、又階
調の調節のために感度を高感度層/低感度層又は低感度
層/高感度層にしてもよい。各種の添加剤は感光性層、
非感光性層、又はその他の形成層のいずれに添加しても
よい。
調の調節のために感度を高感度層/低感度層又は低感度
層/高感度層にしてもよい。各種の添加剤は感光性層、
非感光性層、又はその他の形成層のいずれに添加しても
よい。
【0066】(支持体)支持体としては、紙、合成紙、
不織布、金属箔、プラスチックフィルムなどの支持体が
使用可能であり、またこれらを組み合わせた複合シート
を任意に用いてよい。ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレートまたはシンジオタクチックポリ
スチレン等の支持体が好ましく、2軸延伸や熱固定した
光学的に等方性が高く、寸法安定性のよい50μm〜4
00μm厚のものがよい。
不織布、金属箔、プラスチックフィルムなどの支持体が
使用可能であり、またこれらを組み合わせた複合シート
を任意に用いてよい。ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレートまたはシンジオタクチックポリ
スチレン等の支持体が好ましく、2軸延伸や熱固定した
光学的に等方性が高く、寸法安定性のよい50μm〜4
00μm厚のものがよい。
【0067】〈画像露光〉露光方法としては、特開平9
−304869号、同9−311403号および特開2
000−10230明細書記載の方法によりレーザー露
光することができる。本発明の光熱写真画像形成材料の
露光は、当該感材に付与した感色性に対し適切な光源を
用いることが望ましい。例えば、当該感材を赤外光に感
じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源
にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイパワーで
ある事や、感光材料を透明にできる等の点から、赤外半
導体レーザー(780nm、810nm、820nm)
がより好ましく用いられる。
−304869号、同9−311403号および特開2
000−10230明細書記載の方法によりレーザー露
光することができる。本発明の光熱写真画像形成材料の
露光は、当該感材に付与した感色性に対し適切な光源を
用いることが望ましい。例えば、当該感材を赤外光に感
じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源
にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイパワーで
ある事や、感光材料を透明にできる等の点から、赤外半
導体レーザー(780nm、810nm、820nm)
がより好ましく用いられる。
【0068】〈熱現像装置〉光熱写真画像形成材料を現
像する装置は、特開平11−65067号明細書、同1
1−72897号および同11−84619号明細書記
載の装置を使用することができる。
像する装置は、特開平11−65067号明細書、同1
1−72897号および同11−84619号明細書記
載の装置を使用することができる。
【0069】
【実施例】以下実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明の態様はこれに限定されない。
が、本発明の態様はこれに限定されない。
【0070】実施例1
層状化合物への界面活性剤の挿入
層状化合物を水に分散し高圧噴射ジェット法で対抗衝突
させながら、表1記載の平均粒子径を有する層状化合物
の微粒子分散液を得た。平均粒子径は、層状化合物の走
査電子顕微鏡写真を撮影し、この写真から投影面積に等
しい円の直径を算出した。この微粒子分散液にトルエン
を追加し、微粒子をトルエン溶媒に移行させ、水と分離
した。トルエン溶媒に分散した(固形分濃度15質量
%)液中に、表1に示す本発明の界面活性剤を15質量
%添加し、温度37℃で18時間攪拌をし、次いで、ト
ルエンを蒸発させて固形分濃度60%まで濃縮を行っ
た。得られた層状化合物に界面活性剤の挿入された複合
化合物FG−1〜14を添加剤として感光層側保護層の
塗布液に使用した。層状化合物への界面活性剤の挿入
は、赤外吸収においてOHおよびC−Cの伸縮振動の低
下から同定した。
させながら、表1記載の平均粒子径を有する層状化合物
の微粒子分散液を得た。平均粒子径は、層状化合物の走
査電子顕微鏡写真を撮影し、この写真から投影面積に等
しい円の直径を算出した。この微粒子分散液にトルエン
を追加し、微粒子をトルエン溶媒に移行させ、水と分離
した。トルエン溶媒に分散した(固形分濃度15質量
%)液中に、表1に示す本発明の界面活性剤を15質量
%添加し、温度37℃で18時間攪拌をし、次いで、ト
ルエンを蒸発させて固形分濃度60%まで濃縮を行っ
た。得られた層状化合物に界面活性剤の挿入された複合
化合物FG−1〜14を添加剤として感光層側保護層の
塗布液に使用した。層状化合物への界面活性剤の挿入
は、赤外吸収においてOHおよびC−Cの伸縮振動の低
下から同定した。
【0071】下塗り済み写真用支持体の作製
光学濃度で0.170に青色着色した市販の2軸延伸熱
固定済みの厚さ175μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの両面にコロナ放電処理(8W/m 2・分)
を施し、一方の面に下記下塗り塗布液a−1を塗設し乾
燥させて下塗り層A−1とし、また反対側の面に下記下
塗り塗布液b−1を塗設し乾燥させてバック層側下塗り
層B−1とした。 下塗り塗布液a−1 ブチルアクリレート(30質量%) t−ブチルアクリレート(20質量%) スチレン(25質量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2 下塗り塗布液b−1 ブチルアクリレート(40質量%) スチレン(20質量%) グリシジルアクリレート(40質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2 引き続き、下塗り層A−1及び下塗り層B−1の上表面
に、8W/m2・分のコロナ放電を施し、下塗り層A−
1の上には、下記下塗り上層塗布液a−2を乾燥膜厚
0.1μmになる様に下塗り上層A−2として、下塗り
層B−1の上には下記下塗り上層塗布液b−2を乾燥膜
厚0.1μmになる様に下塗り上層B−2を塗設した。
固定済みの厚さ175μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの両面にコロナ放電処理(8W/m 2・分)
を施し、一方の面に下記下塗り塗布液a−1を塗設し乾
燥させて下塗り層A−1とし、また反対側の面に下記下
塗り塗布液b−1を塗設し乾燥させてバック層側下塗り
層B−1とした。 下塗り塗布液a−1 ブチルアクリレート(30質量%) t−ブチルアクリレート(20質量%) スチレン(25質量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2 下塗り塗布液b−1 ブチルアクリレート(40質量%) スチレン(20質量%) グリシジルアクリレート(40質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 0.08g/m2 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.008g/m2 引き続き、下塗り層A−1及び下塗り層B−1の上表面
に、8W/m2・分のコロナ放電を施し、下塗り層A−
1の上には、下記下塗り上層塗布液a−2を乾燥膜厚
0.1μmになる様に下塗り上層A−2として、下塗り
層B−1の上には下記下塗り上層塗布液b−2を乾燥膜
厚0.1μmになる様に下塗り上層B−2を塗設した。
【0072】
下塗り上層塗布液a−2
ゼラチン 0.4g/m2
シリカ粒子(平均粒径2μm) 0.01g/m2
下塗り上層塗布液b−2
スチレンブタジエン共重合ラテックス液(固形分20%)
0.08g/m2
ポリエチレングリコール(重量平均分子量900) 0.036g/m2
シリカ粒子(平均粒子径3μm) 0.01g/m2
感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製
水900ml中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カ
リウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に
合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlとこ
れと当量の(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化
カリウムを含む水溶液370mlを、pAg7.7に保
ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間か
けて添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し
NaOHでpHを5.0に調整して平均粒子サイズ0.
06μm、粒子サイズの変動係数8%、〔100〕面比
率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラ
チン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシ
エタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5
に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
リウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に
合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlとこ
れと当量の(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化
カリウムを含む水溶液370mlを、pAg7.7に保
ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間か
けて添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し
NaOHでpHを5.0に調整して平均粒子サイズ0.
06μm、粒子サイズの変動係数8%、〔100〕面比
率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラ
チン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシ
エタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5
に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
【0073】粉末有機銀塩Aの調製
4720mlの純水にベヘン酸111.4g、アラキジ
ン酸83.8g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶
解した。次に高速で攪拌しながら1.5M/Lの水酸化
ナトリウム水溶液540.2mlを添加し十分に攪拌し
た。次に、濃硝酸6.9mlを加えた後55℃に冷却し
て有機酸ナトリウム溶液を得た。該有機酸ナトリウム溶
液の温度を55℃に保ったまま、上記感光性ハロゲン化
銀乳剤A(銀0.038モルを含む)と純水450ml
を添加し5分間攪拌した。次に1M/Lの硝酸銀溶液7
60.6mlを2分間かけて添加し、さらに20分攪拌
し、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の
電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水
洗、濾過を繰り返し、所定の濃度まで水を加えて仕上げ
た。
ン酸83.8g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶
解した。次に高速で攪拌しながら1.5M/Lの水酸化
ナトリウム水溶液540.2mlを添加し十分に攪拌し
た。次に、濃硝酸6.9mlを加えた後55℃に冷却し
て有機酸ナトリウム溶液を得た。該有機酸ナトリウム溶
液の温度を55℃に保ったまま、上記感光性ハロゲン化
銀乳剤A(銀0.038モルを含む)と純水450ml
を添加し5分間攪拌した。次に1M/Lの硝酸銀溶液7
60.6mlを2分間かけて添加し、さらに20分攪拌
し、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の
電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水
洗、濾過を繰り返し、所定の濃度まで水を加えて仕上げ
た。
【0074】感光層塗布液の調製
上記で下塗りを施した支持体上に感光層側をA−2にな
るように以下の各層を順次形成し、試料を作製した。
尚、乾燥は各々75℃で1分間行った。
るように以下の各層を順次形成し、試料を作製した。
尚、乾燥は各々75℃で1分間行った。
【0075】
感光層面側塗布
第1層:ハレーション防止層(AH)層
結合剤(PBV−1:重合度600) 1.2g/m2
ハレーション防止染料C1 2×10-5モル/m2
第2層:感光層
感光層の調製は以下の組成物をメチルエチルケトン溶液
に添加し、塗布液を調製した。銀量として1.2g/m
2なる量のハロゲン化銀と有機銀塩の調製液をポリマー
結合剤と混合した。
に添加し、塗布液を調製した。銀量として1.2g/m
2なる量のハロゲン化銀と有機銀塩の調製液をポリマー
結合剤と混合した。
【0076】
結合剤(PBV−1:重合度600) 5.6g/m2
増感色素A1 2.1×10-4モル/Ag1モル
ハレーション防止染料C1 1.1×10-5モル/m2
カブリ防止剤1:ピリジニウムヒドロブロミドパーブロミド
0.3mg/m2
カブリ防止剤2:イソチアゾロン 1.2mg/m2
カブリ防止剤3:5−メチルベンゾトリアゾール
120mg/m2
還元剤:例示化合物G−2 3.3mmol/m2
ポリハロメチル化合物:例示化合物HL−2 4.2×10-5モル/m2
第3層:保護層
結合剤(セルロースアセテートブチレート) 1.2g/m2
本発明の複合化合物:表1記載(層状化合物と挿入界面活性剤を表示)
0.3g/m2
【0077】
【化4】
【0078】感光層と反対側(下塗りB−2の上)にバ
ック層およびバック層の保護層を塗布した。
ック層およびバック層の保護層を塗布した。
【0079】
バック層面塗布
第1層:バック層
結合剤(PBV−1:重合度600) 1.2g/m2
染料C1(AHおよび感光層と同じ) 70mg/m2
第2層:バック層保護膜
セルロースアセテートブチレート 0.8g/m2
マット剤(PMMA:平均粒径3μm) 0.02g/m2
界面活性剤(ポリフロロデシルスルホン酸) 0.02g/m2
(写真性能の評価)露光および現像の条件は、光熱写真
画像形成材料を810nmの半導体レーザーを有するレ
ーザー感光計で露光し、次いで熱ドラムを用いて120
℃で8秒間熱現像処理した。その際、露光及び現像は2
5℃、相対湿度50%に調湿した部屋で行った。得られ
た画像の感度とカブリを自動濃度計により評価を行っ
た。感度はカブリより0.3高い濃度を与える露光量の
比の逆数で評価した。カブリ(ヘイズ込み)の測定は、
未露光の試料を熱現像し、濃度を測定した。最高濃度の
測定は、濃度1.5を与える露光量の10倍の露光量を
与えた点の濃度を測定した。
画像形成材料を810nmの半導体レーザーを有するレ
ーザー感光計で露光し、次いで熱ドラムを用いて120
℃で8秒間熱現像処理した。その際、露光及び現像は2
5℃、相対湿度50%に調湿した部屋で行った。得られ
た画像の感度とカブリを自動濃度計により評価を行っ
た。感度はカブリより0.3高い濃度を与える露光量の
比の逆数で評価した。カブリ(ヘイズ込み)の測定は、
未露光の試料を熱現像し、濃度を測定した。最高濃度の
測定は、濃度1.5を与える露光量の10倍の露光量を
与えた点の濃度を測定した。
【0080】(耐傷性の評価)耐傷性の評価は、深さ3
μmの凹凸のあるローラーで5kPaの加重を掛けなが
ら試料を擦過して傷のレベルを目視評価した。傷のない
レベルを5、傷が最も多いレベルを1とし、中程度で、
実用的に問題ないレベルを3として評価した結果を表1
に示す。
μmの凹凸のあるローラーで5kPaの加重を掛けなが
ら試料を擦過して傷のレベルを目視評価した。傷のない
レベルを5、傷が最も多いレベルを1とし、中程度で、
実用的に問題ないレベルを3として評価した結果を表1
に示す。
【0081】
【表1】
【0082】表1から、本発明の複合化合物を用いる
と、写真性能においてカブリ(ヘイズ込み)が低く、最
高濃度が高く、耐傷性に優れた光熱写真画像形成材料を
得ることが出来る。
と、写真性能においてカブリ(ヘイズ込み)が低く、最
高濃度が高く、耐傷性に優れた光熱写真画像形成材料を
得ることが出来る。
【0083】実施例2
実施例1と同様に光熱写真画像形成材料を作製したが、
ここでは、本発明の複合化合物とマット剤を使用した。
被覆マット剤はコロイダルシリカ微粒子(数平均粒子径
3μm)を下記に示すモノマー組成で表面を20質量%
重合被覆したものを0.3g/m2使用した。被覆方法
は、原料のコロイダルシリカ微粒子の25質量%の分散
水溶中5リットル中に重合開始剤として過硫酸アンモニ
ウムを12g添加し、温度65℃に保ちながら以下のモ
ノマー組成を30分かけて合計で50g添加し、3時間
かけて被覆を行った。 D−1:MMA/St/EA/AA D−2:MMA/St/EA/HEMA D−3:MMA/EA/PS D−4:MMA/EA/BA/IA D−5:MMA/HA/MAA D−6:St/MMA/EA/BA/AA ここでMMAはメタクリル酸メチル、Stはスチレン、
AAはアクリル酸、EAはアクリル酸エチル、HEMA
はヒドロキシエチルメタクリレート、HAはヒドロキシ
エチルアクリレート、PSはポリスチレンスルホン酸、
IAはイタコン酸、MAAはメタクリル酸、BAはアク
リル酸ブチルを表す。
ここでは、本発明の複合化合物とマット剤を使用した。
被覆マット剤はコロイダルシリカ微粒子(数平均粒子径
3μm)を下記に示すモノマー組成で表面を20質量%
重合被覆したものを0.3g/m2使用した。被覆方法
は、原料のコロイダルシリカ微粒子の25質量%の分散
水溶中5リットル中に重合開始剤として過硫酸アンモニ
ウムを12g添加し、温度65℃に保ちながら以下のモ
ノマー組成を30分かけて合計で50g添加し、3時間
かけて被覆を行った。 D−1:MMA/St/EA/AA D−2:MMA/St/EA/HEMA D−3:MMA/EA/PS D−4:MMA/EA/BA/IA D−5:MMA/HA/MAA D−6:St/MMA/EA/BA/AA ここでMMAはメタクリル酸メチル、Stはスチレン、
AAはアクリル酸、EAはアクリル酸エチル、HEMA
はヒドロキシエチルメタクリレート、HAはヒドロキシ
エチルアクリレート、PSはポリスチレンスルホン酸、
IAはイタコン酸、MAAはメタクリル酸、BAはアク
リル酸ブチルを表す。
【0084】
【表2】
【0085】表2より本発明の複合化合物およびマット
剤を用いると、写真性能においてカブリ(ヘイズ込み)
が低く、最高濃度が高く、耐湿性に優れた光熱写真画像
形成材料を得ることが出来る。更にマット剤としてシリ
カ微粒子を有機ポリマーで被覆したマット剤は耐傷性が
向上することがわかる。
剤を用いると、写真性能においてカブリ(ヘイズ込み)
が低く、最高濃度が高く、耐湿性に優れた光熱写真画像
形成材料を得ることが出来る。更にマット剤としてシリ
カ微粒子を有機ポリマーで被覆したマット剤は耐傷性が
向上することがわかる。
【0086】実施例3
実施例1と同様に試料を作製したが、保護層に架橋剤を
0.2ミリモル/m2添加し、更にマット剤0.3g/
m2を併用し、感光層および保護層を同時に架橋した。
評価は実施例2と同様に行った。
0.2ミリモル/m2添加し、更にマット剤0.3g/
m2を併用し、感光層および保護層を同時に架橋した。
評価は実施例2と同様に行った。
【0087】
【表3】
【0088】表3より本発明の複合化合物を架橋剤、更
にマット剤と併用すると、写真性能においてカブリ(ヘ
イズ込み)が低く、最高濃度が高く、耐傷性に優れた光
熱写真画像形成材料を得ることが出来る。
にマット剤と併用すると、写真性能においてカブリ(ヘ
イズ込み)が低く、最高濃度が高く、耐傷性に優れた光
熱写真画像形成材料を得ることが出来る。
【0089】
【発明の効果】本発明により、ヘイズが少なく、高い画
像濃度が得られ、且つ耐傷性に優れる光熱写真画像形成
材料を提供することができた。
像濃度が得られ、且つ耐傷性に優れる光熱写真画像形成
材料を提供することができた。
Claims (6)
- 【請求項1】 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有して
なる光熱写真画像形成材料において、フッ素原子含有ア
ニオン系界面活性剤またはノニオン系界面活性剤の少な
くとも1種を層状化合物に挿入した複合化合物を含むこ
とを特徴とする光熱写真画像形成材料。 - 【請求項2】 層状化合物が、モンモリロナイト、天然
マイカ、合成マイカ、ヘクトライト、セピオライト、サ
ポナイト、ハイデライト、ノントロナイト、スティブン
サイト、バーミキュライト、ハロサイトおよびハイドロ
タルサイトから選ばれる少なくとも1種であることを特
徴とする請求項1に記載の光熱写真画像形成材料。 - 【請求項3】 フッ素原子含有アニオン系界面活性剤ま
たはノニオン系界面活性剤がフッ素原子置換型アルキル
基またはアルケニル基(但しパーフルオロ置換型は除
く)であることを特徴とする請求項1に記載の光熱写真
画像形成材料。 - 【請求項4】 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有して
なる光熱写真画像形成材料において、最外層に請求項1
に記載の複合化合物およびマット剤を含むことを特徴と
する光熱写真画像形成材料。 - 【請求項5】 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有して
なる光熱写真画像形成材料において、最外層に請求項1
に記載の複合化合物およびマット剤を含み、該最外層ま
たは最外層に隣接する層がイソシアナート基、ビニルス
ルホニル基、エポキシ基およびアルコキシシラン基から
選ばれる少なくとも1つの基を有する化合物で架橋され
ていることを特徴とする光熱写真画像形成材料。 - 【請求項6】 支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有
機銀塩、この有機銀塩の還元剤および結合剤を含有して
なる光熱写真画像形成材料において、最外層に請求項1
に記載の複合化合物およびシリカ微粒子を有機ポリマー
で被覆したマット剤を含むことを特徴とする光熱写真画
像形成材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236456A JP2003043625A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 耐傷性を改良した光熱写真画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236456A JP2003043625A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 耐傷性を改良した光熱写真画像形成材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003043625A true JP2003043625A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19067719
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001236456A Pending JP2003043625A (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | 耐傷性を改良した光熱写真画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003043625A (ja) |
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2001
- 2001-08-03 JP JP2001236456A patent/JP2003043625A/ja active Pending
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