JP2003121964A - 熱現像感光材料及びその処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱現像にて画像ムラが発生しにくく、カブリ
が抑制され、膜付き、最高濃度が優れた硬調な熱現像感
光材料及びその処理方法を提供すること。 【解決手段】 支持体上に、ハロゲン化銀、有機銀塩、
現像剤、一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるビニル化合物
の少なくとも１つ、及び一般式（VI）〜（VII）で表さ
れるシラン化合物の少なくとも１つを含有することを特
徴とする熱現像感光材料。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は印刷用及び医用の熱
現像感光材料及びその処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】熱現像感光材料（熱現像銀塩感光材料）
を印刷版への焼付原稿として用いる際には、網点写真原
稿の再現性を高めるために、硬調性が求められている。
硬調性を付与するために、特表平１１−５１１５７１
号、特開平１１−１１９３７２号、同１１−２３１４５
９号、同１１−３２７０７７号に記載されているような
置換アルケン化合物や、特表平１０−５１２０６１号に
記載されているようなヒドラジン化合物を硬調化剤とし
て用いることが知られているが、熱現像で画像ムラが発
生するという問題があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は、熱現像で画像ム
ラが発生しにくく、カブリが抑制され、膜付き、最高濃
度が優れた硬調な熱現像感光材料及びその処理方法を提
供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成される。

【０００５】１．支持体上に、ハロゲン化銀、有機銀
塩、現像剤、前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるビニ
ル化合物の少なくとも１つ、及び前記一般式（VI）〜
（VII）で表されるシラン化合物の少なくとも１つを含
有することを特徴とする熱現像感光材料。

【０００６】２．上記１記載の熱現像感光材料を１００
〜１３０℃で５〜５０秒熱現像処理することを特徴とす
る処理方法。

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明者
は鋭意研究の結果、支持体上に、ハロゲン化銀、有機銀
塩、現像剤、前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される新規
ビニル化合物の少なくとも１つ、及び前記一般式（VI）
〜（VII）で表されるシラン化合物の少なくとも１つを
含有する熱現像感光材料により、本発明の目的が達成さ
れることを見出した。また、本発明の熱現像感光材料
は、１００〜１３０℃で５〜５０秒熱現像処理すること
が好ましい。

【０００８】（新規ビニル化合物）本発明に用いられる
前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるビニル化合物は特
願２００１−３０７５０２に記載の方法を参考にして製
造することができる。

【０００９】一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるビニル化
合物において電子吸引性基とは、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、カルボンアミド基、スルファモイル
基、スルホンアミド基、トリフルオロメチル基、トリク
ロロメチル基、ホスホリル基、カルボキシ基（またはそ
の塩）、スルホ基（またはその塩）、ヘテロ環基、イミ
ノ基またはこれらの電子吸引性基で置換されたフェニル
基である。

【００１０】これらの基は置換基を有していてもよく、
その置換基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原
子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子）、アルキ
ル基（アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基
等を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、複素環基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基
（例えばピリジニオ基）、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイ
ル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモ
イル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル
基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキ
シ基単位の繰り返しを付加した基を含む）、アリールオ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコ
キシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、
（アルキル、アリール、またはヘテロ環）アミノ基、Ｎ
−置換の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホン
アミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、
（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミ
ノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チ
オセミカルバジド基、ヒドラジノ基、第４級のアンモニ
ウム基、オキサモイルアミノ基、（アルキルもしくはア
リール）スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、ア
シルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト
基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、
（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキル
またはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその
塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スル
ホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドも
しくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。
これらの置換基はさらに置換基を有していてもよい。

【００１１】電子吸引性基として好ましくは、総炭素数
０〜１６、特に０〜１２のものであり、シアノ基、ニト
ロ基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、ヘテ
ロ環基（５〜６員のヘテロ環基であり、ベンゼン環もし
くはナフタレン環と縮合していてもよい）、または任意
の電子吸引性基で置換されたフェニル基である。

【００１２】一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるビニル化
合物において電子供与性基は、ハメットの置換基定数σ
ｐが−０．０１よりも小さい値を取る置換基のことであ
り、例えば、ヒドロキシル基（またはその塩）、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環ア
ミノ基、σｐが負の値を取るヘテロ環基またはこれらの
電子供与性基で置換されたフェニル基等が挙げられる。

【００１３】一般式（II）で表されるビニル化合物にお
いて、Ｘ₂で表される電子供与性基として好ましくは、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、
σｐが負の値を取るヘテロ環基またはこれらの電子供与
性基で置換されたフェニル基が挙げられ、更に好ましく
は、σｐが負の値を取る電子供与性基で置換されたフェ
ニル基等が挙げられる。

【００１４】一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるビニル化
合物の具体例を以下に示すが本発明はこれに限定されな
い。

【００１５】

【化７】

【００１６】

【化８】

【００１７】

【化９】

【００１８】

【化１０】

【００１９】

【化１１】

【００２０】

【化１２】

【００２１】

【化１３】

【００２２】

【化１４】

【００２３】

【化１５】

【００２４】

【化１６】

【００２５】

【化１７】

【００２６】

【化１８】

【００２７】

【化１９】

【００２８】

【化２０】

【００２９】

【化２１】

【００３０】

【化２２】

【００３１】

【化２３】

【００３２】

【化２４】

【００３３】

【化２５】

【００３４】

【化２６】

【００３５】

【化２７】

【００３６】

【化２８】

【００３７】これらのビニル化合物は主として硬調化剤
として機能する。これらのビニル化合物の添加層は、ハ
ロゲン化銀を含む層及び／またはその隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀１モル当たり１×１０^-5〜
１モルが好ましく、１×１０^-3〜０．５モルがより好ま
しい。これらのビニル化合物はハロゲン化銀粒子形成時
から塗布までの任意の時期に熱現像感光材料中に添加で
きる。

【００３８】これらビニル化合物は、適当な有機溶媒、
例えばアルコール類（メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセトン、
メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブ等に溶解して用いる
ことができる。また、既によく知られている乳化分散法
によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフ
ェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフ
タレート等のオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノン等
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製
して用いることができる。あるいは固体分散法として知
られている方法によって、ビニル化合物の粉末を水の中
にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって
分散して用いることもできる。

【００３９】（シラン化合物）次に本発明で用いられる
前記一般式（VI）〜（VII）で表されるシラン化合につ
いて説明する。

【００４０】前記一般式（VI）〜（VII）において、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸はそれぞれ
置換されてもよい直鎖、分岐または環状の炭素数１〜３
０のアルキル基（メチル基、エチル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基、シクロアルキル基等）、アルケニ
ル基（プロペニル基、ブテニル基、ノネニル基等）、ア
ルキニル基（アセチレン基、ビスアセチレン基、フェニ
ルアセチレン基等）、アリール基またはヘテロ環基（フ
ェニル基、ナフチル基、テトラヒドロピラン基、ピリジ
ル基、フリル基、チオフェニル基、イミダゾール基、チ
アゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基
等）を表し、置換基としては電子吸引性の置換基または
電子供与性の置換基いずれをも有することができる。

【００４１】置換基の例としては、炭素数１〜２５アル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
シクロヘキシル基等）、ハロゲン化アルキル基（トリフ
ルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等）、シクロ
アルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基
等）、アルキニル基（プロパルギル基等）、グリシジル
基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基
（フェニル基等）、複素環基（ピリジル基、チアゾリル
基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロ
リル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル
基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル
基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等）、ハロゲン原子
（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等）、
アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキ
シ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリー
ルオキシ基（フェノキシ基等）、アルコキシカルボニル
基（メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニ
ル基、ブチルオキシカルボニル基等）、アリールオキシ
カルボニル基（フェニルオキシカルボニル基等）、スル
ホンアミド基（メタンスルホンアミド基、エタンスルホ
ンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホ
ンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基等）、スルファモイル基（アミノス
ルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミ
ノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシル
アミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル
基、フェニルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノ
スルホニル基等）、ウレタン基（メチルウレイド基、エ
チルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシル
ウレイド基、フェニルウレイド基、２−ピリジルウレイ
ド基等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基、ブ
タノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、
ベンゾイル基、ピリジノイル基等）、カルバモイル基
（アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジ
メチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル
基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミ
ノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピ
リジルアミノカルボニル基等）、アミド基（アセトアミ
ド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサン
アミド基、ベンズアミド基等）、スルホニル基（メチル
スルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル
基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル
基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（アミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ
基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、２−ピリジ
ルアミノ基等）、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等から選
択することができる。またこれらの基は更にこれらの基
で置換されていてもよい。

【００４２】Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃及びＬ₄は２価の連結基を表
し、アルキレン基（エチレン基、プロピレン基、ブチレ
ン基、ヘキサメチレン基等）、オキシアルキレン基（オ
キシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン
基、オキシヘキサメチレン基またはこれらの複数の繰り
返し単位からなる基等）、アミノアルキレン基（アミノ
エチレン基、アミノプロピレン基、アミノブチレン基、
アミノヘキサメチレン基、これらの複数の繰り返し単位
を有する基等）、カルボキシアルキレン基（カルボキシ
エチレン基、カルボキシプロピレン基、カルボキシブチ
レン基、チオエーテル基、オキシエーテル基、スルホン
アミド基、カルバミド基等）等が挙げられる。

【００４３】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及び
Ｒ⁸から選ばれる置換基の少なくとも１つが耐拡散性基
または吸着性基であることが好ましく、特にＲ²が耐拡
散性基または吸着性基であることが好ましい。

【００４４】耐拡散性基は、バラスト基とも呼ばれ炭素
数が６以上の脂肪族基や炭素数が３以上のアルキル基が
導入されているアリール基等が好ましい。耐拡散性は、
バインダーや架橋剤の使用量によって異なるが、耐拡散
性の基を導入することにより、室温状態の分子内の移動
距離が抑制され経時での反応を抑制できる。

【００４５】耐拡散性を評価する方法は、両端が開口し
ているキャピラリー内にバインダーを入れ架橋し、キャ
ピラリーの１開口面に被検化合物を接触存在させて、一
定温度、一定時間経過後、移動した量を赤外分光法、質
量分析法、アイソトープ法、ＮＭＲ法等により調べて行
う。拡散の程度は温度や時間を変化させて調べることが
でき、拡散を１％〜１億倍まで遅くすることが分子量や
固定化基の導入により可能であるが、拡散性を過度に抑
えようとすると分子量の増大や固体化基の溶解性等の問
題が生じるので、室温下での拡散が１０％〜１００万倍
まで遅くなるような基の導入が適当である。

【００４６】吸着性基もハロゲン化銀に対しての吸着量
を調べることにより評価できる。吸着量の測定は、被検
物質をハロゲン化銀を含む溶液に添加し、ハロゲン化銀
を濾別したあとの溶液の濃度を測定することによりハロ
ゲン化銀に吸着した量を算出することができる。吸着量
は、ハロゲン化銀溶液の銀イオン濃度、ハロゲン化銀の
粒子形状、粒子径によって異なるが、ここでは有機銀に
添加するハロゲン化銀の形状、粒子径、電位等の条件で
測定するのが望ましい。好ましい例は、沃素を０．１〜
１０モル％含む平均粒子径１０〜３００ｎｍの立方晶、
八面体または平板粒子の沃臭化銀をｐＡｇが６〜８の条
件で２５℃±５℃、１〜４８時間放置した後のハロゲン
化銀粒子の吸着量を測定することである。沃素を含まな
い臭化銀粒子や塩化銀粒子で測定してもよい。ハロゲン
化銀粒子の表面積の３〜１００％範囲で被覆すると算出
された場合は吸着性と判定することができる。吸着性の
試験は、色素、染料、安定化剤、カブリ抑制剤等を添加
しないハロゲン化銀乳剤で調べることが好ましいが、実
際の系に近い色素、安定化剤、カブリ抑制剤等の添加さ
れたハロゲン化銀乳剤で測定してもよい。

【００４７】吸着性基は、硫黄や窒素原子を少なくとも
１つ含む基やアルキレンオキサイド基やカルボキシル基
のようなヘテロ原子のないハロゲン化銀吸着基でもよ
い。好ましい吸着性基としては窒素原子を含む１〜３級
のアミノ基やイミダゾール基、トリアゾール基、オキサ
ゾール基、チアゾール基、テトラゾール基等である。

【００４８】Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃及びＬ₄は２価の連結基を示
し、例えば、−ＣＨ₂−基、−ＣＦ₂−基、＝ＣＦ−基、
−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｃ
ＯＮＨ−基、−ＳＯ₂ＮＨ−基、ポリオキシアルキレン
基、チオ尿素基、ポリメチレン基、またはこれらの基の
組み合わせたもの等を表す。この様な化合物の具体的な
例を以下に示すが、これにより本発明は限定されるもの
ではない。

【００４９】

【化２９】

【００５０】

【化３０】

【００５１】

【化３１】

【００５２】

【化３２】

【００５３】これらの化合物は、アルコキシシラン化合
物やハロゲン化珪素を出発原料として連結基と結合させ
る方法を用いて製造することができる。耐拡散性基と結
合したシラン化合物は耐拡散性基とシラン基を有する化
合物とを結合させることにより合成することができる。

【００５４】これらの化合物を添加する方法は公知の添
加法に従って添加することができる。即ち、メタノール
やエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンや
アセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチ
ルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加すること
ができる。また、サンドミル分散やジェットミル分散、
超音波分散やホモジナイザー分散により１μｍ以下の微
粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもでき
る。更にガラスビーズやジルコニア微粒子メディアを使
用するサンドミル分散、細管から溶液を高速に噴出させ
て硬い板状で砕いたり、２方向からの細管の液体を衝突
させて分散させる方法いずれでもよい。微粒子分散は、
水溶液中に平均粒子径１ｎｍ以上１０μｍ以下の大きさ
が好ましく、粒子分布が狭いことが好ましい。水溶液中
に分散するには、攪拌により泡が発生しにくいものがよ
い。微粒子分散技術については多くの技術が開示されて
いるが、これらに準じて分散することができる。

【００５５】これらのシラン化合物は、ハロゲン化銀、
有機銀塩、還元剤等の添加剤の存在する層に添加されて
バインダーと反応するのが好ましいが、これら添加剤を
含む層の隣接層に添加されてもよいし、中間層を介して
添加されてもよい。即ち感光層や感光層に隣接する層に
添加することが好ましいが、中間層や下塗り層中に添加
することもできる。本発明の化合物の添加量は好ましく
は銀１モル当たり１×１０^-8〜５モル、特に１×１０^-5
〜１モルである。銀のない感光層以外に添加する場合も
単位面積に換算して添加量を決めることができる。添加
量が多いと感度低下、コントラスト低下、最高濃度低下
等を引き起こす場合があり、添加量が不足すると本発明
の効果を充分得られないことがある。

【００５６】本発明の一般式（VI）及び一般式（VII）
で表されるシラン化合は架橋剤として機能する。

【００５７】（有機銀塩）本発明の有機銀塩は還元可能
な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸
及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖（１０〜３０、好ま
しくは１５〜２５の炭素原子数）の脂肪族カルボン酸及
び含窒素複素環を有する複素環式カルボン酸の銀塩等が
好ましく用いられる。また、配位子が、４．０〜１０．
０の銀イオンに対する総安定定数を有する有機または無
機の銀塩錯体も有用である。

【００５８】本発明で好ましく用いられる有機銀塩の例
としては、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第
１７０２９及び２９９６３に記載されており、次のもの
がある：脂肪酸の銀塩（例えば、没食子酸、シュウ酸、
ベヘン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩）；銀のカルボキシアルキルチ
オ尿素塩（例えば、１−（３−カルボキシプロピル）チ
オ尿素、１−（３−カルボキシプロピル）−３，３−ジ
メチルチオ尿素等の銀塩）；アルデヒドとヒドロキシ置
換芳香族カルボン酸との重合反応生成物の銀錯体（例え
ば、アルデヒド類（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド等）とヒドロキシ置換芳香族カル
ボン酸類（例えば、サリチル酸、安息香酸、３，５−ジ
ヒドロキシ安息香酸、５，５−チオジサリチル酸等）と
の重合反応生成物の銀錯体等）；チオン類の銀塩または
錯体（例えば、３−（２−カルボキシエチル）−４−ヒ
ドロキシメチル−４−チアゾリン−２−チオン、及び３
−カルボキシメチル−４−チアゾリン−２−チオン等の
銀塩または錯体）；イミダゾール、ピラゾール、ウラゾ
ール、１，２，４−チアゾール及び１Ｈ−テトラゾー
ル、３−アミノ−５−ベンジルチオ−１，２，４−トリ
アゾール及びベンゾトリアゾールから選択される窒素酸
と銀との錯体または塩；サッカリン、５−クロロサリチ
ルアルドキシム等の銀塩；及びメルカプタン誘導体の銀
塩。上記記載の有機銀塩の中でも、脂肪酸の銀塩が好ま
しく用いられ、更に好ましく用いられるのは、ベヘン酸
銀、アラキジン酸銀及び／またはステアリン酸銀であ
る。

【００５９】有機銀塩は、水溶性銀化合物と銀と錯形成
する化合物を混合することにより得られるが、正混合
法、逆混合法、同時混合法等が好ましく用いられる。ま
た、特開平９−１２７６４３号に記載されている様なコ
ントロールドダブルジェット法を用いることも可能であ
る。

【００６０】具体的には、有機酸にアルカリ金属塩（例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）を加えて
有機酸アルカリ金属塩ソープ（例えば、ベヘン酸ナトリ
ウム、アラキジン酸ナトリウム等）を作製した後に、前
記ソープに硝酸銀を添加して有機銀塩の結晶を作製す
る。その際にハロゲン化銀を混在させてもよいが、上記
一連の反応工程は、適当な攪拌部材を用いて反応槽内が
均一になるように十分に攪拌しながら行う必要がある。

【００６１】通常、熱現像感光材料に含有されている有
機銀塩は、水系の母液中で形成され、多くの場合予め形
成されたハロゲン化銀とここで混合される。最も一般的
な製造過程の概略としては、この後遠心脱水等により母
液を除きスラリー及び／またはウエットケーキを得る。
次いで乾燥過程を経てドライ粉末を形成し、有機溶媒及
び／またはバインダー中で分散され、調液の後、支持体
に塗布される。また、これまでに知られている熱現像感
光材料の有機銀塩の製造は、大気雰囲気下で行うことが
できる。

【００６２】低カブリ及び高感度の他に保存性、特に熱
現像後の保存性改良の観点から、調液工程を高窒素濃度
雰囲気下で行うことも好ましい。乾燥装置としては、真
空乾燥機、凍結乾燥機、熱風加熱式箱型乾燥機、気流式
乾燥機、噴霧乾燥機等があるが、特に気流式乾燥機が本
発明では好ましく用いられる。気流式乾燥機としては、
直管タイプ、滞留時間増加のために中胴を拡大したタイ
プ、旋回流タイプ等があるが、旋回流タイプが好ましく
用いられる。

【００６３】（ハロゲン化銀）本発明で用いられるハロ
ゲン化銀は光センサーとして機能する。

【００６４】本発明においては、画像形成後の白濁を低
く抑えるため、及び良好な画質を得るためにハロゲン化
銀の平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒子サ
イズが好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．
０１〜０．１μｍ、特にこのましくは０．０２〜０．０
８μｍである。ここでいう粒子サイズとは、電子顕微鏡
で観察される個々の粒子像と等しい面積を有する円の直
径（円相当径）を指す。またハロゲン化銀は単分散であ
ることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求
められる単分散度が４０％以下をいう。更に好ましくは
３０％以下であり、特に好ましくは２０％以下であるこ
とである。

【００６５】単分散度＝（粒径の標準偏差）／（粒径の
平均値）×１００ ハロゲン化銀の形状については、特に制限はないが、ミ
ラー指数〔１００〕面の占める割合が高いことが好まし
く、この割合が５０％以上、更には７０％以上、特に８
０％以上であることが好ましい。ミラー指数〔１００〕
面の比率は増感色素の吸着における〔１１１〕面と〔１
００〕面との吸着依存性を利用したＴ．Ｔａｎｉ、Ｊ．
Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ． ２９ １６５（１９８５）
により求めることができる。

【００６６】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径ｒμｍとして垂直方向の厚みをｈμ
ｍとした場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものを
いう。その中でも好ましくはアスペクト比が３以上５０
以下のものである。また粒径は０．１μｍ以下であるこ
とが好ましく、０．０１〜０．０８μｍであることがよ
り好ましい。これらは米国特許第５，２６４，３３７
号、同第５，３１４，７９８号、同第５，３２０，９５
８号等に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得
ることができる。

【００６７】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、Ｐ．Ｇｌａｆｋｉｄｅｓ著 Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ
Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ
（Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅｌ社刊 １９６７年）、Ｇ．
Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ著 Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍ
ｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａ
ｌ Ｐｒｅｓｓ刊 １９６６年）、Ｖ．Ｌ．Ｚｅｌｉｋ
ｍａｎ ｅｔ ａｌ著 Ｍａｋｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏａ
ｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏ
ｎ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊 １９６４年）
等に記載された方法を用いて調製することができる。即
ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよ
く、また、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる
形成法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
合せ等のいずれを用いてもよい。

【００６８】本発明に用いられるハロゲン化銀には、周
期表の６〜１１族に属する金属イオンを含有することが
好ましい。上記の金属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐ
ｔ、Ａｕ等が好ましい。

【００６９】これらの金属イオンは金属錯体または金属
錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの
金属錯体または金属錯体イオンとしては、下記一般式で
表される６配位金属錯体が好ましい。

【００７０】一般式 〔ＭＬ₆〕^m 式中、Ｍは周期表の６〜１１族の元素から選ばれる遷移
金属、Ｌは配位子、ｍは−、２−、３−または４−を表
す。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲン化
物（弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物）、シアン化
物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、
テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロ
シル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、
ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が
存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占めるこ
とが好ましい。Ｌは同一でもよく、また異なっていても
よい。

【００７１】Ｍとして特に好ましい具体例は、ロジウム
（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、イ
リジウム（Ｉｒ）及びオスミウム（Ｏｓ）である。

【００７２】以下に、遷移金属錯体イオンの具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されない。

【００７３】１：〔ＲｈＣｌ₆〕^3- ２：〔ＲｕＣｌ₆〕^3- ３：〔ＲｅＣｌ₆〕^3- ４：〔ＲｕＢｒ₆〕^3- ５：〔ＯｓＣｌ₆〕^3- ６：〔ＩｒＣｌ₆〕^4- ７：〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ８：〔ＲｕＢｒ₄（Ｈ₂Ｏ）〕^2- ９：〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₄〕^- １０：〔ＲｈＣｌ₅（Ｈ₂Ｏ）〕^2- １１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- １２：〔Ｒｅ（ＮＯ）（ＣＮ）₅〕^2- １３：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ（ＣＮ）₄〕^2- １４：〔Ｒｈ（ＮＯ）₂Ｃｌ₄〕^- １５：〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₄〕^- １６：〔Ｒｕ（ＮＯ）（ＣＮ）₅〕^2- １７：〔Ｆｅ（ＣＮ）₆〕^3- １８：〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2- １９：〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２０：〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^- ２２：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ₄（ＴｅＣＮ）〕^2- ２３：〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2- ２４：〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ₄（ＳｅＣＮ）〕^2- ２５：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）₄〕^2- ２６：〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２７：〔Ｉｒ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2- これらの金属イオン、金属錯体または金属錯体イオンは
一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以
上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体また
は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲ
ン化銀１モル当たり１×１０^-9〜１×１０^-2モルが適当
であり、好ましくは１×１０^-8〜１×１０^-4モルであ
る。

【００７４】これらの金属を提供する化合物は、ハロゲ
ン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み
込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つ
まり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段
階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の
段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段
階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段
階で添加する。

【００７５】添加に際しては、数回に渡って分割して添
加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭６３−２９６０３号、特開平２
−３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７６
５３４号、同６−１１０１４６号、同５−２７３６８３
号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有
させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもた
せることができる。

【００７６】これらの金属化合物は、水あるいは適当な
有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコ
ール類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して
添加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水
溶液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に
溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または
水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、あるいは銀
塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第３の水
溶液として添加し、３液同時混合の方法でハロゲン化銀
粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物
の水溶液を反応容器に投入する方法、あるいはハロゲン
化銀調製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドー
プしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる
方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしく
は金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水
溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。

【００７７】粒子表面に添加する時には、粒子形成直後
または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時
に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。

【００７８】本発明においては、ハロゲン化銀粒子は粒
子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を施す場
合、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知
られている方法の水洗により脱塩することができる。

【００７９】本発明のハロゲン化銀は化学増感されてい
ることが好ましい。好ましい化学増感法としては当業界
でよく知られているように硫黄増感法、セレン増感法、
テルル増感法を用いることができる。また金化合物や白
金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や
還元増感法が適用できる。

【００８０】硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法
に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物を用
いることができるが、特開平７−１２８７６８号等に記
載の化合物を使用することができる。テルル増感剤とし
ては例えばジアシルテルリド類、ビス（オキシカルボニ
ル）テルリド類、ビス（カルバモイル）テルリド類、ジ
アシルテルリド類、ビス（オキシカルボニル）ジテルリ
ド類、ビス（カルバモイル）ジテルリド類、Ｐ＝Ｔｅ結
合を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Ｔｅ−オル
ガニルテルロカルボン酸エステル類、ジ（ポリ）テルリ
ド類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール
類、テルロスルホナート類、Ｐ−Ｔｅ結合を有する化合
物、含Ｔｅヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機
テルル化合物、コロイド状テルル等を用いることができ
る。

【００８１】貴金属増感法に好ましく用いられる化合物
としては、例えば塩化金酸、カリウムクロロオーレー
ト、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナ
イド、あるいは米国特許第２，４４８，０６０号、英国
特許第６１８，０６１号等に記載されている化合物を好
ましく用いることができる。

【００８２】還元増感法に用いられる具体的な化合物と
しては、アスコルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例え
ば、塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、
ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリ
アミン化合物等を用いることができる。また、乳剤のｐ
Ｈを７以上またはｐＡｇを８．３以下に保持して熟成す
ることにより還元増感することができる。また、ハロゲ
ン化銀粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部
分を導入することにより還元増感することができる。

【００８３】（還元剤）本発明に用いられる還元剤につ
いて説明する。

【００８４】本発明の還元剤の好適な例は、米国特許第
３，７７０，４４８号、同第３，７７３，５１２号、同
第３，５９３，８６３号、及びＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉ
ｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９及び２９９６３に記載さ
れており、次のものがある。アミノヒドロキシシクロア
ルケノン化合物（例えば、２−ヒドロキシピペリジノ−
２−シクロヘキセノン）；還元剤の前駆体としてアミノ
リダクトン類（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）エステル（例え
ば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテー
ト）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例えば、Ｎ−ｐ−メ
チルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；アルデヒドまた
はケトンのヒドラゾン類（例えば、アントラセンアルデ
ヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファーアミドフェノー
ル類；ホスファーアミドアニリン類；ポリヒドロキシベ
ンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔ−ブチル−ヒドロ
キノン、イソプロピルヒドロキノン及び（２，５−ジヒ
ドロキシ−フェニル）メチルスルホン）；スルフヒドロ
キサム酸類（例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム
酸）；スルホンアミドアニリン類（例えば、４−（Ｎ−
メタンスルホンアミド）アニリン）；２−テトラゾリル
チオヒドロキノン類（例えば、２−メチル−５−（１−
フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒドロキノン）；テ
トラヒドロキノキサリン類（例えば、１，２，３，４−
テトラヒドロキノキサリン）；アミドキシム類；アジン
類（例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラジド類と
アスコルビン酸の組み合わせ）；ポリヒドロキシベンゼ
ンとヒドロキシルアミンの組み合わせ；リダクトン；ヒ
ドラジン；ヒドロキサム酸類；アジン類とスルホンアミ
ドフェノール類の組み合わせ；α−シアノフェニル酢酸
誘導体；ビス−β−ナフトールと１，３−ジヒドロキシ
ベンゼン誘導体の組み合わせ；５−ピラゾロン類；スル
ホンアミドフェノール還元剤；２−フェニルインダン−
１，３−ジオン類；クロマン；１，４−ジヒドロピリジ
ン類（例えば、２，６−ジメトキシ−３，５−ジカルボ
エトキシ−１，４−ジヒドロピリジン）；ビスフェノー
ル類（例えば、ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル
−５−メチルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、４，５−エ
チリデン−ビス（２−ｔ−ブチル−６−メチル）フェノ
ール）、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体及び３−ピ
ラゾリドン類。中でも、特に好ましい還元剤はヒンダー
ドフェノール類である。ヒンダードフェノール類として
は下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。

【００８５】

【化３３】

【００８６】一般式（Ａ）中、Ｒは水素原子または炭素
原子数１〜１０のアルキル基（例えば、ブチル基、２，
４，４−トリメチルペンチル基等）を表し、Ｒ′及び
Ｒ″は、各々、炭素原子数１〜５のアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基等）を表す。

【００８７】一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、これらに限定されな
い。

【００８８】

【化３４】

【００８９】

【化３５】

【００９０】還元剤の使用量は好ましくは銀１モル当り
１×１０^-2〜１０モル、特に好ましくは１×１０^-2〜
１．５モルである。

【００９１】（カブリ防止剤）本発明の熱現像感光材料
には、酸無水物やスルホニウム塩化合物とともに、必要
に応じて従来知られているカブリ防止剤類を少量併用す
ることもできる。併用することができるカブリ防止剤の
好ましい例としてハロゲン化カブリ防止化合物が挙げら
れる。ハロゲン化カブリ防止化合物を併用することによ
り、特に画像記録後の材料の画像安定性に効果がある
他、通常のカブリ防止機能と、貯蔵安定性に効果があ
る。特に好ましいハロゲン化カブリ防止化合物は、以下
の一般式（Ｃ）で示され得る。

【００９２】一般式（Ｃ） Ａｒ−（ＳＯ₂）_y−ＣＨ_3-n（Ｘ）_n 式中、ｙは０または１であり、Ｘはハロゲン原子であ
り、ｎは１、２または３であり、そしてＡｒは芳香族も
しくは複素芳香族基である。

【００９３】一般式（Ｃ）に含まれる化合物の詳細な列
挙は、米国特許第４，５４６，０７５号、同第４，７５
６，９９９号、同第４，４５２，８８５号、同第３，８
７４，９４６号及び同第３，９５５，９８２号に記載さ
れている。本発明に有用であると考えられる他のハロゲ
ン化化合物には、特開昭５９−５７２３４号に記載され
ているようなジハロゲン化化合物が含まれる。

【００９４】これらのハロゲン化カブリ防止化合物は、
ハロゲン化銀またはその隣接層中に、銀１モルに対して
通常５×１０^-4〜０．５モル、好ましくは５×１０^-3〜
５×１０^-2モルの含有量で含有される。

【００９５】（増感色素）本発明の熱現像感光材料に
は、例えば特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４
０３３５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９
６５１号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４
５号、米国特許第４，６３９，４１４号、同第４，７４
０，４５５号、同第４，７４１，９６６号、同第４，７
５１，１７５号、同第４，８３５，０９６号に記載され
る増感色素が使用できる。本発明に使用される有用な増
感色素は、例えばＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕ
ｒｅ第１７６４３ IV−Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２
３）に記載若しくは引用された文献に記載されている。
特に、各種光源の分光特性に適した分光感度を有する増
感色素を有利に選択することができる。例えばアルゴン
イオンレーザー光源に対しは、特開昭６０−１６２２４
７号、特開平２−４８６３５号、米国特許第２，１６
１，３３１号、西独特許第９３６，０７１号、特開平５
−１１３８９号等に記載のシンプルメロシアニン類、ヘ
リウムネオンレーザー光源に対しては、特開昭５０−６
２４２５号、同５４−１８７２６号、同５９−１０２２
２９号に示された三核シアニン色素類、特開平７−２８
７３３８号に記載されたメロシアニン類、ＬＥＤ光源及
び赤外半導体レーザー光源に対しては特公昭４８−４２
１７２号、同５１−９６０９号、同５５−３９８１８
号、特開昭６２−２８４３４３号、特開平２−１０５１
３５号に記載されたチアカルボシアニン類、赤外半導体
レーザー光源に対しては特開昭５９−１９１０３２号、
特開昭６０−８０８４１号に記載されたトリカルボシア
ニン類、特開昭５９−１９２２４２号、特開平３−６７
２４２号の一般式（IIIａ）、（IIIｂ）に記載された４
−キノリン核を含有するジカルボシアニン類等が有利に
選択される。更に赤外レーザー光源の波長が７５０ｎｍ
以上更に好ましくは８００ｎｍ以上である場合このよう
な波長域のレーザーに対応するためには、特開平４−１
８２６３９号、同５−３４１４３２号、特公平６−５２
３８７号、同３−１０９３１号、米国特許第５，４４
１，８６６号、特開平７−１３２９５号等に記載されて
いる増感色素が好ましく用いられる。これらの増感色素
は単独で用いてもよく、増感色素の組み合わせは特に、
強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素ととも
に、それ自身分光増感作用を持たない色素あるいは可視
光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す
物質を乳剤中に含んでいてもよい。

【００９６】（硫黄化合物）本発明には現像を抑制ある
いは促進させ、現像を制御するため、現像前後の保存性
を向上させるため、また、前述の強式増感のように分光
増感効率を向上させるため等にメルカプト化合物、ジス
ルフィド化合物、チオン化合物等の硫黄化合物を含有さ
せることができる。本発明にメルカプト化合物を使用す
る場合、いかなる構造のものでもよいが、Ａｒ−ＳＭ、
Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒで表されるものが好ましい。式中、
Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子を表し、Ａｒは１
個以上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリ
ウム原子を有する芳香環または縮合芳香環である複素芳
香環を表す。好ましくは、複素芳香環はベンゾイミダゾ
ール、ナフスイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフト
チアゾール、ベンゾオキサゾール、ナフスオキサゾー
ル、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダ
ゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チ
アジアゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリ
ンまたはキナゾリノンである。この複素芳香環は、例え
ば、ハロゲン（例えば、Ｂｒ及びＣｌ）、ヒドロキシ、
アミノ、カルボキシ、アルキル（例えば、１個以上の炭
素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有するもの）
及びアルコキシ（例えば、１個以上の炭素原子、好まし
くは１〜４個の炭素原子を有するもの）からなる置換基
群から選択されるものを有してもよい。メルカプト置換
複素芳香族化合物としては、２−メルカプトベンゾイミ
ダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メ
ルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプト−５−メチ
ルベンゾチアゾール、３−メルカプト−１，２，４−ト
リアゾール、２−メルカプトキノリン、８−メルカプト
プリン、２，３，５，６−テトラクロロ−４−ピリジン
チオール、４−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジ
ン、２−メルカプト−４−フェニルオキサゾール等が挙
げられるが、本発明はこれらに限定されない。

【００９７】（バインダー）本発明の熱現像感光材料に
用いられる好適なバインダーは透明または半透明で、一
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ（ビニルアルコール）、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ（ビニルピロリ
ドン）、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル酸）、ポ
リ（メチルメタクリル酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ
（メタクリル酸）、コポリ（スチレン−無水マレイン
酸）、コポリ（スチレン−アクリロニトリル）、コポリ
（スチレン−ブタジエン）、ポリ（ビニルアセタール）
類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニ
ルブチラール）等）、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレ
タン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）、
ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ
（ビニルアセテート）、セルロースエステル類、ポリ
（アミド）類等がある。親水性でも非親水性でもよい。

【００９８】また熱現像感光材料の表面を保護したり擦
り傷を防止するために、感光性層（ハロゲン化銀を含む
層）の外側に非感光性層を有することができる。これら
の非感光性層に用いられるバインダーは感光性層に用い
られるバインダーと同じ種類でも異なった種類でもよ
い。

【００９９】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光性層のバインダー量が１．５〜１０ｇ／ｍ²
であることが好ましい。さらに好ましくは１．７〜８ｇ
／ｍ²である。１．５ｇ／ｍ²未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。

【０１００】（色調剤）本発明の熱現像感光材料におい
て、上述した各成分と共に色調剤、色調付与剤若しくは
付活剤トーナーと称せられる添加剤（以下色調剤と呼
ぶ）を使用することが望ましい。色調剤は有機銀塩と還
元剤の酸化還元反応に関与して、生ずる銀画像を濃色、
特に黒色にする機能を有する。本発明に用いられる好適
な色調剤の例はＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒ
ｅ第１７０２９号に開示されており、次のものがある。

【０１０１】イミド類（例えば、フタルイミド）；環状
イミド類、ピラゾリン−５−オン類及びキナゾリノン
（例えば、スクシンイミド、３−フェニル−２−ピラゾ
リン−５−オン、１−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び２，４−チアゾリジンジオン）；ナフタールイミド
類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミ
ド）；コバルト錯体（例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート）、メルカプタン類（例えば、３
−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）；Ｎ−（ア
ミノメチル）アリールジカルボキシイミド類（例えば、
Ｎ−（ジメチルアミノメチル）フタルイミド）；ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム（ｉｓｏｔｈ
ｉｕｒｏｎｉｕｍ）誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン（１−カル
バモイル−３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−
（３，６−ジオキサオクタン）ビス（イソチウロニウム
トリフルオロアセテート）、及び２−（トリブロモメチ
ルスルホニル）ベンゾチアゾールの組み合わせ）；メロ
シアニン染料（例えば、３−エチル−５−（（３−エチ
ル−２−ベンゾチアゾリニリデン（ベンゾチアゾリニリ
デン））−１−メチルエチリデン）−２−チオ−２，４
−オキサゾリジンジオン）；フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩（例えば、４−
（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノ
ン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン、及び２，３
−ジヒドロ−１，４−フタラジンジオン）；フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ（例えば、６−ク
ロロフタラジノン＋ベンゼンスルフィン酸ナトリウ
ム）；フタラジン＋フタル酸の組み合わせ；フタラジン
（フタラジンの付加物を含む）とマレイン酸無水物、及
びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸またはｏ
−フェニレン酸誘導体及びその無水物（例えば、フタル
酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物）から選択される少なくとも１
つの化合物との組み合わせ；キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナフトキサジン誘導体；ベンズオキサジ
ン−２，４−ジオン類（例えば、１，３−ベンズオキサ
ジン−２，４−ジオン）；ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類（例えば、２，４−ジヒドロキシピリミジ
ン）；及びテトラアザペンタレン誘導体（例えば、３，
６−ジメルカプト−１，４−ジフェニル−１Ｈ，４Ｈ−
２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペンタレン）。好まし
い色調剤としてはフタラゾンまたはフタラジンである。

【０１０２】（ハレーション防止染料）本発明において
は、感光性層と支持体間及び／または感光性層と反対面
に染料含有層を有することができる。染料層に含有せし
める染料は露光光源波長に吸収を持つことが必要である
が、その吸収波形、化学構造は任意である。近赤外レー
ザーを光源に用いる場合、染料層の透過吸収スペクトル
は、７５０〜８３０ｎｍに吸収極大を有することが好ま
しい。また、可視領域、近紫外領域の吸収は少ない物が
好ましい。

【０１０３】上記の通り、本発明に使用可能な染料の構
造は任意であるが、好ましく使用できる染料の例とし
て、特開平７−１３２９５号に記載される染料化合物、
特開平８−２７８５９２号、特開平９−２３０５３１
号、特開平１１−２２３８９８号に記載される染料、特
開平１１−２３１４６４号に記載の色素、特表平９−５
０９５０３号に記載のジヒドロペリミジンスクエア酸錯
体染料、特開平１０−３６６９５号、特開平１０−１０
４７８５号、特開平１０−２０４３１０号に記載のジヒ
ドロペリミジンスクアリリウム染料、特開平１０−１０
４７７９号、特開平１０−２０７００２号に記載のスク
アリリウム染料、特開平７−１０２１７９号に記載のオ
キソノール化合物等が挙げられる。

【０１０４】また、本発明では２種以上の染料を併用す
ることも可能である。２種以上の染料を使用する際に
は、同一の染料層に含有せしめてもよく、また、別個の
染料層を設けても構わない。

【０１０５】これらの染料は、支持体を挟んで感光性層
と反対側に設置した染料層に用いる場合、露光波長にお
ける染料層の吸収が０．３以上となる様な添加量で使用
することが好ましい。より好ましくは、同吸収が０．５
以上２未満、特に好ましくは同吸収が０．７以上１．５
未満となる様な添加量で使用する。また、これらの染料
を、支持体と感光層の間に設置した染料層に用いる場合
も、上記と同様の添加量で使用することが好ましい。

【０１０６】また、これらの染料は、感光性層に添加す
ることも可能である。感光性層にこれらの染料を添加す
る際には、露光波長における感光性層の吸収が０．６未
満となる様な添加量で使用することが好ましい。より好
ましくは、同吸収が０．５未満、特に好ましくは同吸収
が０．０１以上０．４未満となる様な添加量で使用す
る。

【０１０７】また、これらの染料の用法に関しては、好
ましく使用できる染料の例で挙げた特許群に記載されて
いる方法も利用できる。

【０１０８】（マット剤）本発明の熱現像感光材料に
は、必要に応じて、感光性層側またはその反対側にマッ
ト剤を含有することができる。本発明において用いられ
るマット剤の材質は、有機物及び無機物のいずれでもよ
い。例えば、無機物としては、スイス特許３３０，１５
８号等に記載のシリカ、仏国特許１，２９６，９９５号
等に記載のガラス粉、英国特許１，１７３，１８１号等
に記載のアルカリ土類金属またはカドミウム、亜鉛等の
炭酸塩、等をマット剤として用いることができる。有機
物としては、米国特許２，３２２，０３７号等に記載の
澱粉、ベルギー特許６２５，４５１号や英国特許９８
１，１９８号等に記載された澱粉誘導体、特公昭４４−
３６４３号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特
許３３０，１５８号等に記載のポリスチレンあるいはポ
リメタアクリレート、米国特許３，０７９，２５７号等
に記載のポリアクリロニトリル、米国特許３，０２２，
１６９号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マ
ット剤を用いることができる。

【０１０９】本発明に用いられるマット剤は任意の構成
層中に含むことができるが、好ましくは感光性層以外の
構成層であり、更に好ましくは支持体から見て最も外側
の層である。

【０１１０】マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分
散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布
した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法
を用いてもよい。また複数の種類のマット剤を添加する
場合は、両方の方法を併用してもよい。

【０１１１】（帯電防止剤）本発明においては帯電性を
改良するために金属酸化物及び／または導電性ポリマー
等の導電性化合物を含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光性層と下引の間の層等に含有させる。
本発明においては米国特許５，２４４，７７３号カラム
１４〜２０に記載された導電性化合物が好ましく用いら
れる。

【０１１２】本発明の熱現像感光材料の塗布に用いられ
るすべての塗布液は、塗布前に濾過することが好まし
い。その濾過では、絶対濾過精度または準絶対濾過精度
が５〜５０μｍの濾材を少なくとも１回は通過させるこ
とが好ましい。

【０１１３】（層構成）本発明において、感光性層に隣
接する保護層の乾燥膜厚が感光性層の膜厚の１／１０〜
１／２であることが好ましく、１／５〜１／２であるこ
とがより好ましい。１／１０未満ではカブリや現像ムラ
が劣化することがあり、また１／２を越えると感度や画
像の最高濃度が劣化することがある。

【０１１４】（塗布方法）感光性層、保護層及びバック
コート層等本発明の熱現像感光材料上に必要な各層を塗
設する方法に特に制限はなく、従来知られている、エア
ナイフコーティング、ディップコーティング、バーコー
ティング、カーテンコーティング、ホッパーコーティン
グ等の方法を用いることができる。また、これらの層を
２層以上同時に塗布してもよい。塗布液の溶媒としては
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、トルエン
の様な有機溶媒が好ましく用いられる。

【０１１５】塗布には、各層の塗布、乾燥を繰り返す逐
次重層塗布方式が挙げられる。また複数のコーターを用
いて既塗布層の乾燥前に次の層を塗布して複数層を同時
に乾燥させたり、スライドコーティング、カーテンコー
ティングや複数のスリットを有するエクストルージョン
型ダイコーターを用いて、複数の塗布液を積層させて塗
布する同時重層塗布方式も用いられる。このうち後者
が、外部より持ち込まれる異物による塗布故障の発生を
防止できる点でより好ましい。さらに、同時重層塗布方
式を用いる場合は、層間での混合を生じさせないため
に、最上層の塗布液の塗布時の粘度を０．１Ｐａ・ｓ以
上とし、他の層の塗布液の塗布時の粘度を０．０３Ｐａ
・ｓ以上とすることが好ましい。また各層の塗布液で溶
解していた固形分が隣接する層と液体状で積層される
と、隣接層の有機溶媒に難溶または不溶の場合、境界面
で析出して塗膜の乱れや濁りを引き起こすので、各層の
塗布液に最も多く含まれる有機溶剤が同種（各塗布液に
共通に含有される有機溶媒の各液における含有量が、他
の有機溶媒よりも多い）であることが好ましい。

【０１１６】重層塗布後はできるだけ早く乾燥されるこ
とが好ましく、流動、拡散、密度差等に起因する層間混
合を避けるため１０秒以内で乾燥工程に至るのが望まし
い。乾燥方式については、熱風乾燥方式、赤外線乾燥方
式等が用いられ、特に熱風乾燥方式が好ましい。その時
の乾燥温度は３０〜１００℃が好ましい。

【０１１７】本発明の熱現像感光材料は、塗布乾燥直後
に目的のサイズに断裁後、包装されてもよいし、ロール
状に巻き取り、断裁・包装する前に一時保管してもよ
い。巻き取り方式は特に限定されないが、張力制御によ
る巻き取りが一般的に用いられる。

【０１１８】（支持体）本発明に用いられる支持体は現
像処理後の画像の変形を防ぐためにプラスチックフィル
ム（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテ
ート、ポリエチレンナフタレート）であることが好まし
い。

【０１１９】中でも好ましい支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）及びシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラス
チック（以下ＳＰＳと略す）の支持体が挙げられる。支
持体の厚みとしては通常５０〜３００μｍであり、好ま
しくは７０〜１８０μｍである。また熱処理したプラス
チック支持体を用いることもできる。採用するプラスチ
ックとしては、前記のプラスチックが挙げられる。支持
体の熱処理とはこれらの支持体を製膜後、感光性層が塗
布されるまでの間に、支持体のガラス転移点より通常３
０℃以上高い温度で、好ましくは３５℃以上高い温度
で、より好ましくは４０℃以上高い温度で加熱すること
がよい。

【０１２０】次に、支持体に用いられるプラスチックに
ついて説明する。ＰＥＴはポリエステルの成分が全てポ
リエチレンテレフタレートからなるものであるが、ポリ
エチレンテレフタレート以外に、酸成分としてテレフタ
ル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、イソフタル
酸、ブチレンジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソ
フタル酸、アジピン酸等、グリコール成分としてエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオー
ル、シクロヘキサンジメタノール等の変性ポリエステル
成分が、全ポリエステルの１０モル％以下含まれたポリ
エステルであってもよい。

【０１２１】ＳＰＳは通常のポリスチレン（アタクチッ
クポリスチレン）と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。ＳＰＳの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、２連鎖、３連鎖、５連鎖、あるい
はそれ以上の規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、２連鎖で８５％以
上、３連鎖で７５％以上、５連鎖で５０％以上、それ以
上の連鎖で３０％以上であることが好ましい。ＳＰＳの
重合は特開平３−１３１８４３号に記載の方法に準じて
行うことができる。

【０１２２】本発明に用いられる支持体の製膜方法及び
下引製造方法は公知の方法を用いることができるが、好
ましくは、特開平９−５００９４号の段落〔００３０〕
〜〔００７０〕に記載された方法を用いることである。

【０１２３】熱現像条件は９０〜１５０℃で５〜９０
秒、好ましくは１００〜１３０℃で５〜５０秒である。
段階的に温度変化をしてもよい。

【０１２４】（露光及び処理方法）本発明の熱現像感光
材料の露光には公知の技術を適用できる。例えば、アル
ゴンイオンレーザー（４８８ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎｅレーザ
ー（６３３ｎｍ）、赤色半導体レーザー（６７０ｎ
ｍ）、赤外半導体レーザー（７８０ｎｍ、８２０ｎｍ）
等のレーザーが好ましく用いられる。

【０１２５】本発明の熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温に加熱することで現像される。本発明
の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良い
が、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇
温して現像される。熱現像感光材料への熱供給は、画像
形成層のある面をヒートドラム等に密着させる方式、画
像形成層のある面の裏側をヒートパネル等に密着させる
方式、または、オーブン内をローラーで搬送させる方式
等があるが、画像形成層のある面をヒートドラム等に密
着させる方式、画像形成層のある面の裏側をヒートパネ
ル等に密着させる方式が、熱を安定して均一に供給でき
るので好ましく用いられる。また、熱現像材料と接触す
るヒートドラムや、ヒートパネルの表面には、密着性と
熱伝導性の点でシリコンラバーが貼り付けてあるのが通
常である。現像条件としては９０〜１５０℃で５〜９０
秒が好ましく、１００〜１３０℃で５〜５０秒がより好
ましい。また温度を段階的に変えてもよい。加熱温度が
９０℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、ま
た１５０℃を越えるとバインダーが溶融し、ローラーへ
の転写等、画像そのものだけでなく搬送性や、現像機等
へも悪影響を及ぼすことがある。現像時間は迅速処理が
望ましい。加熱することで有機銀塩（酸化剤として機能
する）と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生
成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供
給なしに進行する。

【０１２６】

【実施例】以下に、本発明を実施例を挙げて具体的に説
明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもの
ではない。

【０１２７】実施例１ 〈下引済みＰＥＴ支持体の作製〉市販の２軸延伸熱固定
済みの厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルムの両面に８Ｗ／
ｍ²・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引
塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し
乾燥させて下引層Ａ−１とし、また反対側の面に下記帯
電防止加工した下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍ
になるように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層Ｂ−
１とした。

【０１２８】 （下引塗布液ａ−１） ブチルアクリレート（３０質量％）、ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％） 、スチレン（２５質量％）、２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量％） の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径３μｍ） ０．０５ｇ コロイダルシリカ（平均粒径９０μｍ） ０．１ｇ 水で１Ｌに仕上げる （下引塗布液ｂ−１） ＳｎＯ₂／Ｓｂ（９／１質量比、平均粒径０．１８μｍ） ２００ｍｇ／ｍ²になる量 ブチルアクリレート（３０質量％）スチレン（２０質量％）グリシジルアクリ レート（４０質量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１Ｌに仕上げる。

【０１２９】（支持体の熱処理）上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を１４０℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。

【０１３０】（染料含有層の塗布）支持体の下引き層Ｂ
−１の上に下記組成の染料含有層塗布液１を乾燥質量が
４．２ｇ／ｍ²になるよう塗布し、５５℃で３０分乾燥
しバックコート層とした。

【０１３１】 （染料含有層塗布液１） ２−ブタノン ４０ｇ ＣＡＢ３８１−２０ （イーストマンケミカル社製セルロースアセテートブチレート） １．７ｇ ＣＡＢ５５３−０．４ （イーストマンケミカル社製セルロースアセテートプロピレート） １．７ｇ マルカリンカーＰＨＭＣ （丸善石油化学社製ポリヒドロキシスチレン） ０．３ｇ 染料Ｄ−１ ３２ｍｇ ポリエステル樹脂バイテル２２００Ｂ ２００ｍｇ マット剤：単分散度１５％平均粒子サイズ８μｍ単分散シリカ ４５ｍｇ Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₂Ｃ₈Ｆ₁₇ ２００ｍｇ Ｃ₉Ｆ₁₉−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ ７５ｍｇ

【０１３２】

【化３６】

【０１３３】（ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）水９００ｍ
ｌ中にイナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０
ｍｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた
後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（６０／３
８／２）のモル比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃
化カリウムを硝酸銀に対し等モル、〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ
₅〕塩を銀１モル当たり１×１０^-6モル及び塩化ロジウ
ム塩を銀１モル当たり１×１０^-6モル含む水溶液３７０
ｍｌを、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールドダブ
ルジェット法で添加した。その後４−ヒドロキシ−６−
メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを０．３
ｇ添加し、ＮａＯＨでｐＨを８、ｐＡｇ６．５に調整す
ることで還元増感を行い平均粒子サイズ０．０６μｍ、
単分散度１０％の投影直径面積の変動係数８％、〔１０
０〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳
剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理を行
ってハロゲン化銀乳剤Ａを得た。

【０１３４】（ベヘン酸Ｎａ溶液の調製）９４５ｍｌの
純水にベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．９ｇ、ス
テアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に高速で攪
拌しながら１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液９
８ｍｌを添加した。次に濃硝酸０．９３ｍｌを加えた
後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘン酸Ｎａ溶
液を得た。

【０１３５】（ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Ａからの
プレフォーム乳剤の調製）上記のベヘン酸Ｎａ溶液に前
記ハロゲン化銀乳剤Ａを１．５１ｇ（銀量として）添加
し水酸化ナトリウム溶液でｐＨ８．１に調整した後に１
モル／Ｌの硝酸銀溶液１４７ｍｌを７分間かけて加え、
さらに２０分攪拌し限外濾過により水溶性塩類を除去し
た。できたベヘン酸銀は平均粒子サイズ０．８μｍ、単
分散度８％の粒子であった。分散物のフロックを形成
後、水を取り除き、更に６回の水洗と水の除去を行った
後乾燥させ、プレフォーム乳剤とした。

【０１３６】（感光性乳剤１の調製）できあがったプレ
フォーム乳剤に、ポリビニルブチラール（平均分子量３
０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）５４
４ｇとトルエン１０７ｇを徐々に添加して混合した後
に、０．５ｍｍサイズのＺｒＯ₂のビーズミルを用いた
メディア分散機で４０００ｐｓｉで分散し感光性乳剤１
を調製した。

【０１３７】前記支持体上に下記の各層を両面同時塗布
し、熱現像感光材料１〜３３を作製した。

【０１３８】（感光層面側塗布）支持体の下引き層Ａ−
１の上に以下の組成の感光層塗布液と保護層塗布液を、
表面保護層が最上層となるよう同時重層塗布した。その
際、感光層塗布液は塗布銀量が１．５ｇ／ｍ²になる様
に塗布した。尚、乾燥は６０℃、１５分間で行った。

【０１３９】 （感光層塗布液組成） 感光性乳剤１ ２４０ｇ 増感色素１（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ かぶり防止剤１（６％メタノール溶液） ３ｍｌ 臭化カルシウム（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ ２−４−クロロベンゾイル安息香酸（１２％メタノール溶液） ９．２ｍｌ ２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液） １１ｍｌ トリブロモメチルスルホキノリン（５％メタノール溶液） １７ｍｌ フタラジン ０．６ｇ ビニル化合物（表１、２記載の化合物） 表１、２記載の量 シラン化合物（表１、２記載の化合物） 表１、２記載の量 ４−メチルフタル酸 ０．２５ｇ テトラクロロフタル酸 ０．２ｇ 安定剤１ ０．２ｇ 還元剤Ａ−４（２０％メタノール溶液） ２９．５ｍｌ イソシアネート化合物（モーベイ社製、Ｄｅｓｍｏｄｕｒ Ｎ３３００） ０．５ｇ

【０１４０】

【化３７】

【０１４１】 （保護層塗布液組成） アセトン ５ｍｌ／ｍ² メチルエチルケトン ２１ｍｌ／ｍ² ＣＡＢ−３８１−２０ （イーストマンケミカル社製 セルロースアセテートブチレート） ２．３ｇ／ｍ² メタノール ７ｍｌ／ｍ² フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ² マット剤：単分散度１０％平均粒子サイズ４μｍ単分散シリカ ７０ｍｇ／ｍ² Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₂Ｃ₈Ｆ₁₇ ２０ｍｇ／ｍ² Ｃ₉Ｆ₁₉−Ｃ₆Ｈ₄−ＳＯ₃Ｎａ １０ｍｇ／ｍ² （露光、熱現像）上記で作製した熱現像感光材料を５ｃ
ｍ×１５ｃｍに切断して２３℃、５０％ＲＨの条件で１
２時間調湿した後、酸素と水分を透過しないバリア袋に
入れて、経時代用サーモとして４０℃で３日間加温し
た。その後、７８０ｎｍの半導体レーザーを搭載したイ
メージセッター機であるサイテックス社製Ｄｏｌｅｖ
２ｄｒｙを用いて３００線で５％刻みで露光量変化させ
るように網点を露光し、１２０℃で２５秒の熱現像を行
った。

【０１４２】〈評価〉 （Ｄｍａｘ、Ｄｍｉｎ）上記で露光及び熱現像処理した
熱現像感光材料の露光部分の最高濃度（Ｄｍａｘ）と未
露光部分の濃度（Ｄｍｉｎ）を濃度測定機（Ｘｒｉｔ
ｅ）で測定した。

【０１４３】（硬調化）熱現像処理した試料について５
％の網点を１００倍のルーペで網点画質を目視で観察
し、下記基準で評価した ５：フリンジが全く認められない ４：フリンジが僅かに認められる ３：フリンジが若干認められるが実用可 ２：フリンジが目立ち実用不可 １：フリンジが明らかに目立つ。

【０１４４】（画像ムラ）熱現像処理した試料について
濃度が１になるところの画像ムラを目視で観察し、下記
基準で評価した ５：画像ムラが全く認められない ４：画像ムラが僅かに認められる ３：画像ムラが若干認められるが実用可 ２：画像ムラが目立ち実用不可 １：画像ムラが明らかに目立つ。

【０１４５】（膜付）熱現像処理した試料について乳剤
面に市販のセロテープ（Ｒ）を貼り、勢いよく剥がし
た。膜面が全く剥がれない物を５ランクとし、剥がれる
度合いに応じてランクをさげた。３未満は実用に耐えな
い。

【０１４６】以上の結果を表１、２に示す。

【０１４７】

【表１】

【０１４８】

【表２】

【０１４９】表１、２から明らかなように、本発明の試
料は画像ムラが発生せず、かつカブリが抑制され、膜付
き、最高濃度が優れた硬調な画像を与えることがわか
る。

【０１５０】実施例２ 実施例１で作製した熱現像感光材料１、４、５を表３の
ように現像条件を変えて処理し、実施例１と同様に評価
した。その結果を表３に示す。

【０１５１】

【表３】

【０１５２】表３から明らかなように、本発明の試料は
本発明の処理方法でＤｍａｘが高く、Ｄｍｉｎが低く、
硬調な画像が得られ、かつ熱現像時の熱現像ムラが少な
く、膜付きが良いことが分かった。

【０１５３】

【発明の効果】本発明により、熱現像にて画像ムラが発
生しにくく、カブリが抑制され、膜付き、最高濃度が優
れた硬調な熱現像感光材料及びその処理方法を提供する
ことができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、ハロゲン化銀、有機銀塩、
   現像剤、一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるビニル化合物
   の少なくとも１つ、及び一般式（VI）〜（VII）で表さ
   れるシラン化合物の少なくとも１つを含有することを特
   徴とする熱現像感光材料。 【化１】 （式中、Ｒ₁は水素原子または置換基を表し、Ｗは電子
   吸引性基を表す。Ｘ₁は水素原子または置換基を表す。
   ただし、Ｗがシアノ基を表す場合、Ｘ₁は水素原子また
   は電子吸引性基を表す。Ｑ₁ ⁺は第４級アンモニウム基を
   表し、Ｙは酸素原子または硫黄原子を表す。） 【化２】 （式中、Ｒ₂は水素原子または置換基を表し、Ｘ₂は電子
   供与性基を表す。Ｑ₂ ⁺は金属イオンを表し、Ｙは酸素原
   子または硫黄原子を表す。） 【化３】 （式中、Ｒ₁₁は１価の置換基を表し、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃はいず
   れか一方が水素原子であり、他方が−Ｌ₁₁−Ｒ₁₄基を表
   す。Ｌ₁₁はＯ、Ｓ、ＮＲ₁₅を表し、Ｒ₁₅は水素原子また
   は１価の置換基を表し、Ｒ₁₄は１価の置換基を表す。Ｘ
   ₁₁は電子供与性のヘテロ環基を表す。ただし、Ｘ₁₁がシ
   アノ基を表す場合、Ｒ₁₁は電子吸引性基を表す。） 【化４】 （式中、Ｒ₂₁は１価の置換基を表し、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃はいず
   れか一方が水素原子であり、他方が−Ｌ₂₂−Ｒ₂₄基を表
   す。Ｌ₂₂はＯ、Ｓ、ＮＲ₂₅を表し、Ｒ₂₅は水素原子また
   は１価の置換基を表し、Ｒ₂₄は１価の置換基を表す。Ｘ
   ₂₁は電子吸引性基を表し、Ｌ₂₁は芳香族炭素環基を表
   す。ただし、Ｘ₂₁がシアノ基を表す場合、Ｒ₂₁は電子供
   与性基を表す。ｎ２は０または１を表す。） 【化５】 （式中、Ｗ₁は水素原子または置換基を表し、Ｗ₂はシア
   ノ基を除く電子吸引性基または水素原子であり、互いに
   連結して環を形成しない。Ｌ₃₁はＯ、Ｓ、ＮＲ ₃₂を表
   し、Ｒ₃₂は水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ₃₁は
   １価の置換基を表す。） 【化６】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は
   各々置換されてもよいアルキル基、アルケニル基、アル
   キニル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｌ₁、
   Ｌ₂、Ｌ₃及びＬ₄は２価の連結基を表し、ｍ及びｎは１
   〜３の整数を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｐ１及びｐ２は
   １〜３の整数であり、ｑ１及びｑ２は０、１または２で
   あり、ｐ１＋ｑ１及びｐ２＋ｑ２は３であり、ｒ１及び
   ｔは０または１〜１０００の整数を表す。）
2. 【請求項２】 請求項１記載の熱現像感光材料を１００
   〜１３０℃で５〜５０秒熱現像処理することを特徴とす
   る処理方法。