[go: up one dir, main page]

JP2001133785A - ゲストホスト反射型液晶表示素子 - Google Patents

ゲストホスト反射型液晶表示素子

Info

Publication number
JP2001133785A
JP2001133785A JP31930299A JP31930299A JP2001133785A JP 2001133785 A JP2001133785 A JP 2001133785A JP 31930299 A JP31930299 A JP 31930299A JP 31930299 A JP31930299 A JP 31930299A JP 2001133785 A JP2001133785 A JP 2001133785A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
optically anisotropic
group
anisotropic layer
guest
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP31930299A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuyoshi Ichihashi
光芳 市橋
Ken Kawada
憲 河田
Kohei Arakawa
公平 荒川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP31930299A priority Critical patent/JP2001133785A/ja
Publication of JP2001133785A publication Critical patent/JP2001133785A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コントラストが高く、厚みが薄いゲストホス
ト反射型液晶表示素子をを得る。 【解決手段】 λ/4板を備えたゲストホスト反射型液
晶表示素子において、λ/4板として、光学異方性層A
と光学異方性層Bとからなり、光学異方性層AおよびB
の一方が液晶性分子から形成された層であり、他方が液
晶性分子から形成された層またはポリマーフイルムであ
り、そして、波長480nm、550nmおよび630
nmで測定したレターデーション値/波長の値がいずれ
も0.2乃至0.3の範囲内にある広帯域λ/4板を使
用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、λ/4板を備えたゲス
トホスト反射型液晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】ゲストホスト反射型液晶表示素子は、相
転移型(White-Taylor型)、二層型やλ/4型が知られ
ている。相転移型は、液晶と二色性色素との混合物にカ
イラル剤を添加し、コレステリック相と垂直配向との間
でスイッチングを行う方式である。この方式は、一つの
液晶層で白黒表示ができる。しかし、コントラスト比が
低い、駆動電圧が高い、ヒステリシスがあって階調表示
が困難であるとの問題がある。二層型は、液晶と二色性
色素との混合物の層を二層設ける方式である。この方式
は、コントラスト比が高いとの特徴がある。ただし、液
晶表示素子としては厚く、視差が生じるとの問題があ
る。λ/4型は、液晶と二色性色素との混合物からなる
層とλ/4板を組み合わせる方式である。λ/4型は、
厚さが薄く、視差の問題が解消される。λ/4板を備え
たゲストホスト反射型液晶表示素子については、特開平
6−222350号、同6−222351号、同8−3
6174号、同10−221688号の各公報に記載が
ある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】λ/4板を備えたゲス
トホスト反射型液晶表示素子では、λ/4板の性能が非
常に重要である。従来のλ/4板は、「λ/4板」と称
していても、ある特定波長でλ/4を達成しているもの
が大部分であった。λ/4を達成できる波長領域が狭い
と、表示画像のコントラストが低下する。すなわち、光
の波長により位相差が異なると、λ/4板を往復した光
が完全な直線偏光にならず、復路で二色性色素に吸収さ
れない光成分が存在する。また、従来のλ/4板は、光
の入射角によっても位相差が存在しており、それも表示
画像のコントラストが低下する原因になっていた。特開
平5−27118号、同5−27119号、同10−6
8816号、同10−90521号の各公報に、二枚の
ポリマーフイルムを積層して広い波長領域で(広帯域)
λ/4を達成できる位相差板が開示されている。しか
し、二枚のポリマーフイルムを積層すると、λ/4板が
厚くなり、液晶表示素子の薄型との長所が低下する。本
発明の目的は、コントラストが高く、厚みが薄いゲスト
ホスト反射型液晶表示素子を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(5)のゲストホスト反射型液晶表示素子によ
り達成された。 (1)λ/4板を備えたゲストホスト反射型液晶表示素
子であって、λ/4板が、光学異方性層Aと光学異方性
層Bとからなり、光学異方性層AおよびBの一方が液晶
性分子から形成された層であり、他方が液晶性分子から
形成された層またはポリマーフイルムであり、そして、
波長480nm、550nmおよび630nmで測定し
たレターデーション値/波長の値がいずれも0.2乃至
0.3の範囲内にある広帯域λ/4板であることを特徴
とするゲストホスト反射型液晶表示素子。 (2)光学異方性層AおよびBの少なくとも一方が、デ
ィスコティック液晶性分子から形成された層である
(1)に記載のゲストホスト反射型液晶表示素子。 (3)光学異方性層AおよびBの少なくとも一方が、棒
状液晶性分子から形成された層である(1)に記載のゲ
ストホスト反射型液晶表示素子。 (4)光学異方性層AおよびBの一方が、ディスコティ
ック液晶性分子から形成された層であり、他方が棒状液
晶性分子から形成された層である(1)に記載のゲスト
ホスト反射型液晶表示素子。 (5)λ/4板の厚さが、500nm乃至20μmであ
る(1)に記載のゲストホスト反射型液晶表示素子。
【0005】
【発明の効果】本発明者の研究の結果、二つの光学異方
性層AおよびBを用い、AおよびBの少なくとも一方を
液晶性分子から形成することにより、ゲストホスト反射
型液晶表示素子に適した広帯域λ/4板が得られること
が判明した。広帯域λ/4板を用いることで、ゲストホ
スト反射型液晶表示素子のコントラストを改善すること
ができる。二つの光学異方性層AおよびBの少なくとも
一方をを液晶性分子から形成すると、二枚のポリマーフ
イルムを積層する場合よりも薄いλ/4板が得られる。
これにより、ゲストホスト反射型液晶表示素子への使用
に適する、軽量で薄型の広帯域λ/4板が得られた。ま
た、光学異方性層を液晶性分子から形成すると、光学的
性質を容易に調節できる。液晶性分子を含む光学異方性
層の光学的向きは、液晶性分子のラビング方向によって
容易に調節できる。よって、従来の技術のようにフイル
ムをカットしてチップにする必要がない。さらに、液晶
性分子から形成した光学異方性層には、ポリマーフイル
ムからなる光学異方性層と比較して、耐熱性が優れてい
るとの特徴もある。ゲストホスト反射型液晶表示素子で
は、一般に液晶セルの二枚の基板の内側にλ/4板を配
置する。その場合、ポリマーフイルムでは、液晶セル内
の棒状液晶性分子の配向温度において変形する可能性が
ある。以上のように本発明によれば、コントラストが高
く、厚みが薄いゲストホスト反射型液晶表示素子が得ら
れる。
【0006】
【発明の実施の形態】[λ/4板の光学的性質]二つの
光学異方性層AおよびBが積層されている広帯域λ/4
板は、二種類の態様に分類できる。第1の態様は、波長
550nmで測定した光学異方性層Bのレターデーショ
ン値を波長550nmで測定した光学異方性層Aのレタ
ーデーション値よりも大きな値に調節し、波長480n
mで測定した光学異方性層Bのレターデーション値と波
長550nmで測定した光学異方性層Bのレターデーシ
ョン値との比よりも、波長480nmで測定した光学異
方性層Aのレターデーション値と波長550nmで測定
した光学異方性層Aのレターデーション値との比の方が
大きな値となるように調節して、さらにその差を0.1
を越える値にする。そして、光学異方性層Aの面内の遅
相軸と光学異方性層Bの面内の遅相軸とを実質的に直交
させる。第2の態様は、波長550nmで測定した光学
異方性層Aのレターデーション値を実質的にπに設定
し、波長550nmで測定した光学異方性層Bのレター
デーション値を実質的にπ/2に設定し、そして、光学
異方性層Aの面内の遅相軸と光学異方性層Bの面内の遅
相軸とを実質的に60゜の角度で交差させる。以下、第
1の態様および第2の態様について、順次説明する。
【0007】第1の態様では、第1に、波長550nm
で測定した光学異方性層Bのレターデーション値(Re
550B)を波長550nmで測定した光学異方性層A
のレターデーション値(Re550A)よりも大きな値
に調節する。すなわち、Re550AとRe550Bと
が下記式(1)を満足するようにする。 (1)Re550A<Re550B Re550AとRe550Bとの差は、100乃至18
0nmであることが好ましく、120乃至160nmで
あることがさらに好ましく、130乃至150nmであ
ることが最も好ましい。第2に、波長480nmで測定
した光学異方性層Bのレターデーション値(Re480
B)と波長550nmで測定した光学異方性層Bのレタ
ーデーション値(Re550B)との比(Re480B
/Re550B)よりも、波長480nmで測定した光
学異方性層Aのレターデーション値(Re480A)と
波長550nmで測定した光学異方性層Aのレターデー
ション値(Re550A)との比(Re480A/Re
550A)の方が大きな値となるように調節して、さら
にその差を0.1を越える値にする。すなわち、Re4
80A、Re550A、Re480BおよびRe550
Bが下記式(2)を満足するようにする。 (2)Re480A/Re550A−Re480B/R
e550B>0.08Re480A、Re550A、R
e480BおよびRe550Bは、下記式(2a)を満
足することが好ましい。また、Re480A、Re55
0A、Re480BおよびRe550Bは、下記式(2
b)および(2B)を満足することが好ましく、下記式
(2c)および(2C)を満足することがさらに好まし
く、下記式(2d)および(2D)を満足することが最
も好ましい。 (2a)Re480A/Re550A−Re480B/
Re550B>0.1 (2b)Re480B/Re550B<1.2 (2B)1.3<Re480A/Re550A (2c)Re480B/Re550B<1.15 (2C)1.45<Re480A/Re550A (2d)Re480B/Re550B<1.1 (2D)1.6<Re480A/Re550A 第3に、光学異方性層Aの面内の遅相軸(屈折率が最大
となる方向)と光学異方性層Bの面内の遅相軸とを実質
的に直交させる。実質的に直交させるとは、同一平面に
投影した二つの遅相軸間の角度が75乃至105゜であ
ることを意味する。二つの遅相軸間の角度は、80乃至
100゜であることが好ましく、85乃至95゜である
ことがさらに好ましく、87乃至93゜であることが最
も好ましい。
【0008】第2の態様では、第1に、波長550nm
で測定した光学異方性層Aのレターデーション値を実質
的にπに設定する。光学異方性層Aのレターデーション
値は、210乃至300nmであることが好ましく、2
20乃至296nmであることがより好ましく、230
乃至292nmであることがさらに好ましく、240乃
至288nmであることがさらにまた好ましく、250
乃至284nmであることが最も好ましい。第2に、波
長550nmで測定した光学異方性層Bのレターデーシ
ョン値を実質的にπ/2に設定する。光学異方性層Bの
レターデーション値は、115乃至150nmであるこ
とが好ましく、118乃至148nmであることがより
好ましく、121乃至146nmであることがさらに好
ましく、122乃至144nmであることがさらにまた
好ましく、125乃至142nmであることが最も好ま
しい。第3に、光学異方性層Aの面内の遅相軸(屈折率
が最大となる方向)と光学異方性層Bの面内の遅相軸と
を実質的に60゜の角度で交差させる。実質的に60゜
の角度で交差させるとは、同一平面に投影した二つの遅
相軸間の角度(狭い方の交差角)が50乃至70゜であ
ることを意味する。二つの遅相軸間の角度は、55乃至
65゜であることが好ましい。
【0009】広域帯λ/4とは、具体的には、波長48
0nm、550nmおよび630nmで測定したレター
デーション値/波長の値が、いずれも0.2乃至0.3
の範囲内であることを意味する。レターデーション値/
波長の値は、0.21乃至0.29の範囲内であること
が好ましく、0.22乃至0.28の範囲内であること
がより好ましく、0.23乃至0.27の範囲内である
ことがさらに好ましく、0.24乃至0.26の範囲内
であることが最も好ましい。以上述べた レターデーシ
ョン値(Re)は、光学異方性層の法線方向から入射し
た光に対する面内のレターデーション値を意味する。具
体的には、下記式により定義される値である。 レターデーション値(Re)=(nx−ny)×d 式中、nxおよびnyは光学異方性層の面内の主屈折率
であり、そしてdは光学異方性層の厚み(nm)であ
る。
【0010】[λ/4板の構成]図1は、本発明に用い
るλ/4板の代表的な態様を示す断面模式図である。図
1に示すλ/4板は、光学的性質としては前述した第2
の態様に属する。このλ/4板は、ディスコティック液
晶性分子から形成された光学異方性層A(A)および棒
状液晶性分子から形成された光学異方性層B(B)を積
層した構成を有する。光学異方性層Aの遅相軸(a)と
光学異方性層Bの遅相軸(b)との同一面内での角度
(θ)は、60゜である。光学異方性層Aは、ディスコ
ティック液晶性分子(d)を含む。ディスコティック液
晶性分子(d)は垂直に配向している。ディスコティッ
ク液晶性分子(d)の円盤面の方向が、光学異方性層A
の遅相軸(a)に相当する。光学異方性層Bは、棒状液
晶性分子(r)を含む。棒状液晶性分子(r)は水平に
配向している。棒状液晶性分子(r)の長軸方向が、光
学異方性層Bの遅相軸(b)に相当する。
【0011】[ポリマーフイルムからなる光学異方性
層]光学異方性層AおよびBの一方に、ポリマーフイル
ムを用いることができる。ポリマーフイルムは、フイル
ムに光学異方性を付与できるポリマーから形成する。そ
のようなポリマーの例には、ポリオレフィン(例、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマ
ー)、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステ
ル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステル
が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるい
はポリマー混合物を用いてもよい。フイルムの光学異方
性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸
であることが好ましい。一軸延伸は、2つ以上のロール
の周速差を利用した縦一軸延伸またはポリマーフイルム
の両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸が好
ましい。なお、二枚以上のポリマーフイルムを用いて、
二枚以上のフイルム全体の光学的性質が前記の条件を満
足してもよい。使用するポリマーの固有複屈折が正の場
合には、ポリマーフイルムの面内の屈折率が最大となる
方向は、フイルムの延伸方向に相当する。使用するポリ
マーの固有複屈折が負の場合には、ポリマーフイルムの
面内の屈折率が最大となる方向は、フイルムの延伸方向
に垂直な方向に相当する。ポリマーフイルムは、複屈折
のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により
製造することが好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、
20乃至500nmであることが好ましく、50乃至2
00nmであることがさらに好ましく、50乃至100
nmであることが最も好ましい。
【0012】[液晶性分子から形成する光学異方性層]
光学異方性層AおよびBの少なくとも一方は、液晶性分
子から形成することが好ましい。光学異方性層Aおよび
Bの双方を、液晶性分子から形成することがさらに好ま
しい。液晶性分子としては、ディスコティック液晶性分
子または棒状液晶性分子が好ましい。光学異方性層Aお
よびBの一方を、ディスコティック液晶性分子から形成
し、他方を棒状液晶性分子から形成することが特に好ま
しい。液晶性分子は、実質的に均一に配向していること
が好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定さ
れていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性
分子が固定されていることが最も好ましい。
【0013】ディスコティック液晶性分子を用いる場合
は、実質的に垂直に配向させることが好ましい。実質的
に垂直とは、ディスコティック液晶性分子の円盤面と光
学異方性層の面との平均角度(平均傾斜角)が50乃至
90度の範囲内であることを意味する。ディスコティッ
ク液晶性分子を斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々
に変化するように(ハイブリッド配向)させてもよい。
斜め配向またはハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜
角は50乃至90度であることが好ましい。ディスコテ
ィック液晶性分子は、様々な文献(C. Destrade et a
l., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (19
81) ;日本化学会編、季刊化学総説、No.22、液晶
の化学、第5章、第10章第2節(1994);B. Kohne et
al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (198
5);J. Zhang et al., J. Am.Chem. Soc., vol. 116, p
age 2655 (1994))に記載されている。ディスコティッ
ク液晶性分子の重合については、特開平8−27284
公報に記載がある。
【0014】ディスコティック液晶性分子を重合により
固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤
状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要があ
る。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重
合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこ
で、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入す
る。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性
分子は、下記式(I)で表わされる化合物であることが
好ましい。 (I) D(−L−P)n 式中、Dは円盤状コアであり;Lは二価の連結基であ
り;Pは重合性基であり;そして、nは4乃至12の整
数である。式(I)の円盤状コア(D)の例を以下に示
す。以下の各例において、LP(またはPL)は、二価
の連結基(L)と重合性基(P)との組み合わせを意味
する。
【0015】
【化1】
【0016】
【化2】
【0017】
【化3】
【0018】
【化4】
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】
【化8】
【0023】
【化9】
【0024】式(I)において、二価の連結基(L)
は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
CO−、−NH−、−O−、−S−およびそれらの組み
合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であること
が好ましい。二価の連結基(L)は、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アリーレン基、−CO−、−NH−、−
O−および−S−からなる群より選ばれる二価の基を少
なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好まし
い。二価の連結基(L)は、アルキレン基、アルケニレ
ン基、アリーレン基、−CO−および−O−からなる群
より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基
であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数
は、1乃至12であることが好ましい。アルケニレン基
の炭素原子数は、2乃至12であることが好ましい。ア
リーレン基の炭素原子数は、6乃至10であることが好
ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレ
ン基は、置換基(例、アルキル基、ハロゲン原子、シア
ノ、アルコキシ基、アシルオキシ基)を有していてもよ
い。
【0025】二価の連結基(L)の例を以下に示す。左
側が円盤状コア(D)に結合し、右側が重合性基(P)
に結合する。ALはアルキレン基またはアルケニレン基
を意味し、ARはアリーレン基を意味する。 L1:−AL−CO−O−AL− L2:−AL−CO−O−AL−O− L3:−AL−CO−O−AL−O−AL− L4:−AL−CO−O−AL−O−CO− L5:−CO−AR−O−AL− L6:−CO−AR−O−AL−O− L7:−CO−AR−O−AL−O−CO− L8:−CO−NH−AL− L9:−NH−AL−O− L10:−NH−AL−O−CO−
【0026】L11:−O−AL− L12:−O−AL−O− L13:−O−AL−O−CO− L14:−O−AL−O−CO−NH−AL− L15:−O−AL−S−AL− L16:−O−CO−AL−AR−O−AL−O−CO− L17:−O−CO−AR−O−AL−CO− L18:−O−CO−AR−O−AL−O−CO− L19:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−C
O− L20:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−A
L−O−CO− L21:−S−AL− L22:−S−AL−O− L23:−S−AL−O−CO− L24:−S−AL−S−AL− L25:−S−AR−AL−
【0027】式(I)の重合性基(P)は、重合反応の
種類に応じて決定する。重合性基(P)の例を以下に示
す。
【0028】
【化10】
【0029】
【化11】
【0030】
【化12】
【0031】
【化13】
【0032】
【化14】
【0033】
【化15】
【0034】重合性基(P)は、不飽和重合性基(P
1、P2、P3、P7、P8、P15、P16、P1
7)またはエポキシ基(P6、P18)であることが好
ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、
エチレン性不飽和重合性基(P1、P7、P8、P1
5、P16、P17)であることが最も好ましい。式
(I)において、nは4乃至12の整数である。具体的
な数字は、ディスコティックコア(D)の種類に応じて
決定される。なお、複数のLとPの組み合わせは、異な
っていてもよいが、同一であることが好ましい。
【0035】ディスコティック液晶性分子から形成する
光学異方性層にツイスト構造を導入してもよい。ツイス
ト角は3乃至45゜であることが好ましい。光学異方性
層にツイスト構造を導入するため、前記二価の連結基
(L)のAL(アルキレン基またはアルケニレン基)に
不斉炭素原子を導入し、ディスコティック液晶性分子を
螺旋状にねじれ配向させることができる。不斉炭素原子
を含むAL*の例を以下に挙げる。左側が円盤状コア
(D)側であり、右側が重合性基(P)側である。*印
を付けた炭素原子(C)が不斉炭素原子である。光学活
性は、SとRのいずれでもよい。
【0036】AL*1:−CH2 CH2 −C*HCH3
−CH2 CH2 CH2 − AL*2:−CH2 CH2 CH2 −C*HCH3 −CH
2 CH2 − AL*3:−CH2 −C*HCH3 −CH2 CH2 CH
2 CH2 − AL*4:−C*HCH3 −CH2 CH2 CH2 CH2
CH2 − AL*5:−CH2 CH2 CH2 CH2 −C*HCH3
−CH2 − AL*6:−CH2 CH2 CH2 CH2 CH2 −C*H
CH3 − AL*7:−C*HCH3 −CH2 CH2 CH2 CH2
− AL*8:−CH2 −C*HCH3 −CH2 CH2 CH
2 − AL*9:−CH2 CH2 −C*HCH3 −CH2 CH
2 − AL*10:−CH2 CH2 CH2 −C*HCH3 −CH
2 − AL*11:−CH2 CH2 CH2 CH2 −C*HCH3
− AL*12:−C*HCH3 −CH2 CH2 CH2 − AL*13:−CH2 −C*HCH3 −CH2 CH2 − AL*14:−CH2 CH2 −C*HCH3 −CH2 − AL*15:−CH2 CH2 CH2 −C*HCH3
【0037】AL*16:−CH2 −C*HCH3 − AL*17:−C*HCH3 −CH2 − AL*18:−C*HCH3 −CH2 CH2 CH2 CH2
CH2 CH2 − AL*19:−CH2 −C*HCH3 −CH2 CH2 CH
2 CH2 CH2 − AL*20:−CH2 CH2 −C*HCH3 −CH2 CH
2 CH2 CH2 − AL*21:−CH2 CH2 CH2 −C*HCH3 −CH
2 CH2 CH2 − AL*22:−C*HCH3 −CH2 CH2 CH2 CH2
CH2 CH2 CH2 − AL*23:−CH2 −C*HCH3 −CH2 CH2 CH
2 CH2 CH2 CH2 − AL*24:−CH2 CH2 −C*HCH3 −CH2 CH
2 CH2 CH2 CH2 − AL*25:−CH2 CH2 CH2 −C*HCH3 −CH
2 CH2 CH2 CH2 − AL*26:−C*HCH3 −(CH2 8 − AL*27:−CH2 −C*HCH3 −(CH2 8 − AL*28:−CH2 −C*HCH2CH3 − AL*29:−CH2 −C*HCH2CH3 −CH2 − AL*30:−CH2 −C*HCH2CH3 −CH2 CH
2
【0038】AL*31:−CH2 −C*HCH2CH3
−CH2 CH2 CH2 CH2 − AL*32:−CH2 −C*H(n−C3 7 )−CH2
CH2 − AL*33:−CH2 −C*H(n−C3 7 )−CH2
CH2 CH2 CH2 − AL*34:−CH2 −C*H(OCOCH3 )−CH2
CH2 − AL*35:−CH2 −C*H(OCOCH3 )−CH2
CH2 CH2 CH2 − AL*36:−CH2 −C*HF−CH2 CH2 − AL*37:−CH2 −C*HF−CH2 CH2 CH2
2 − AL*38:−CH2 −C*HCl−CH2 CH2 − AL*39:−CH2 −C*HCl−CH2 CH2 CH2
CH2 − AL*40:−CH2 −C*HOCH3 −CH2 CH2 − AL*41:−CH2 −C*HOCH3 −CH2 CH2
2 CH2 − AL*42:−CH2 −C*HCN−CH2 CH2 − AL*43:−CH2 −C*HCN−CH2 CH2 CH2
CH2 − AL*44:−CH2 −C*HCF3 −CH2 CH2 − AL*45:−CH2 −C*HCF3 −CH2 CH2 CH
2 CH2
【0039】ディスコティック液晶性分子の二価の連結
基(L)に不斉炭素原子を導入する代わりに、不斉炭素
原子を含む光学活性を示す化合物(カイラル剤)を光学
異方性層に添加しても、光学異方性層にツイスト構造を
導入できる。不斉炭素原子を含む化合物としては、様々
な天然または合成化合物が使用できる。不斉炭素原子を
含む化合物中には、ディスコティック液晶性分子と同じ
または類似の重合性基を導入してもよい。重合性基を導
入すると、ディスコティック液晶性分子を実質的に垂直
(ホモジニアス)配向させた後に、固定するのと同時
に、同じまたは類似の重合反応により不斉炭素原子を含
む化合物も光学異方性層内で固定することができる。以
下にカイラル剤の例を示す。なお、C−1、C−3およ
びC−4は、左ねじれのカイラル剤、C−2およびC−
5は、右ねじれのカイラル剤である。
【0040】
【化16】
【0041】
【化17】
【0042】
【化18】
【0043】
【化19】
【0044】二種類以上のディスコティック液晶性分子
(例えば、二価の連結基に不斉炭素原子を有する分子と
有していない分子)を併用してもよい。
【0045】棒状液晶性分子を用いる場合は、実質的に
水平(ホモジニアス)配向させることが好ましい。実質
的に水平とは、棒状液晶性分子の長軸方向と光学異方性
層の面との平均角度(平均傾斜角)が0乃至40度の範
囲内であることを意味する。棒状液晶性分子を斜め配向
させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように(ハイ
ブリッド配向)させてもよい。斜め配向またはハイブリ
ッド配向の場合でも、平均傾斜角は0乃至40度である
ことが好ましい。棒状液晶性分子としては、アゾメチン
類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニル
エステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカル
ボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキ
サン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ
置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、ト
ラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル
類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分
子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができ
る。また、上記のディスコティック液晶性分子と同様
に、重合性基(上記P)を棒状液晶性分子に導入して、
棒状液晶性分子が実質的に水平に配向している状態で、
重合反応により棒状液晶性分子を固定することが特に好
ましい。
【0046】一つの光学異方性層の厚さは、100nm
乃至10μmであることが好ましく、500nm乃至1
0μmであることがさらに好ましく、2乃至8μmであ
ることが最も好ましい。光学異方性層AおよびBの厚さ
の合計、すなわちλ/4板の厚さは、500nm乃至2
0μmであることが好ましく、600nm乃至15μm
であることがさらに好ましい。
【0047】[配向膜]ディスコティック液晶性分子を
実質的に垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネ
ルギーを低下させることが重要である。具体的には、ポ
リマーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下さ
せ、これによりディスコティック液晶性分子を立てた状
態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基
としては、フッ素原子および炭素原子数が10以上の炭
化水素基が有効である。フッ素原子または炭化水素基を
配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖より
も側鎖にフッ素原子または炭化水素基を導入することが
好ましい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を0.05
乃至80重量%の割合で含むことが好ましく、0.1乃
至70重量%の割合で含むことがより好ましく、0.5
乃至65重量%の割合で含むことがさらに好ましく、1
乃至60重量%の割合で含むことが最も好ましい。炭化
水素基は、脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わ
せである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状の
いずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基(シクロアル
キル基であってもよい)またはアルケニル基(シクロア
ルケニル基であってもよい)であることが好ましい。炭
化水素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さな
い置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数
は、10乃至100であることが好ましく、10乃至6
0であることがさらに好ましく、10乃至40であるこ
とが最も好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造
またはポリビニルアルコール構造を有することが好まし
い。
【0048】ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸と
ジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテ
トラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用い
て、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよ
い。フッ素原子または炭化水素基は、テトラカルボン酸
起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の
繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に
存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入す
る場合、ポリイミドの主鎖または側鎖にステロイド構造
を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロ
イド構造は、炭素原子数が10以上の炭化水素基に相当
し、ディスコティック液晶性分子を垂直に配向させる機
能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シ
クロペンタノヒドロフェナントレン環構造またはその環
の結合の一部が脂肪族環の範囲(芳香族環を形成しない
範囲)で二重結合となっている環構造を意味する。
【0049】フッ素変性ポリビニルアルコールも垂直配
向膜に好ましく用いることができる。フッ素変性ポリビ
ニルアルコールは、フッ素原子を含む繰り返し単位を5
乃至80モル%の範囲で含むことが好ましく、7乃至7
0モル%の範囲で含むことがさらに好ましい。好ましい
フッ素変性ポリビニルアルコールを、下記式(PV)で
表す。 (PV) −(VAl)x−(FRU)y−(VAc)z− 式中、VAlは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り;FRUは、フッ素原子を含む繰り返し単位であり;
VAcは酢酸ビニル繰り返し単位であり;xは、20乃
至95モル%(好ましくは24乃至90モル%)であ
り;yは、5乃至80モル%(好ましくは7乃至70モ
ル%)であり;そして、zは0乃至30モル%(好まし
くは2乃至20モル%)である。好ましいフッ素原子を
含む繰り返し単位(FRU)を、下記式(FRU−I)
および(FRU−II)で表す。
【0050】
【化20】
【0051】式中、L1 は、−O−、−CO−、−SO
2 −、−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;L
2 は、単結合あるいは−O−、−CO−、−SO2 −、
−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;そしてR
1 およびRf2 は、それぞれフッ素置換炭化水素基で
ある。アルキレン基およびアリーレン基はフッ素原子に
より置換されていてもよい。上記の組み合わせにより形
成される二価の連結基の例を、以下に示す。
【0052】L1:−O−CO− L2:−O−CO−アルキレン基−O− L3:−O−CO−アルキレン基−CO−NH− L4:−O−CO−アルキレン基−NH−SO2 −アリ
ーレン基−O− L5:−アリーレン基−NH−CO− L6:−アリーレン基−CO−O− L7:−アリーレン基−CO−NH− L8:−アリーレン基−O− L9:−O−CO−NH−アリーレン基−NH−CO−
【0053】フッ素置換炭化水素基の炭化水素基は、脂
肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。脂
肪族基は、環状、分岐状あるいは直線状のいずれでもよ
い。脂肪族基は、アルキル基(シクロアルキル基であっ
てもよい)またはアルケニル基(シクロアルケニル基で
あってもよい)であることが好ましい。脂肪族基は、フ
ッ素原子以外にも、他のハロゲン原子のような強い親水
性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の
炭素原子数は、1乃至100であることが好ましく、2
乃至60であることがさらに好ましく、3乃至40であ
ることが最も好ましい。炭化水素基の水素原子がフッ素
原子で置換されている割合は、50乃至100モル%で
あることが好ましく、70乃至100モル%であること
がより好ましく、80乃至100モル%であることがさ
らに好ましく、90乃至100モル%であることが最も
好ましい。
【0054】炭素原子数が10以上の炭化水素基を有す
る変性ポリビニルアルコールも垂直配向膜に好ましく用
いることができる。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基
またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、
分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、
アルキル基(シクロアルキル基であってもよい)または
アルケニル基(シクロアルケニル基であってもよい)で
あることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のよ
うな強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。
炭化水素基の炭素原子数は、10乃至100であること
が好ましく、10乃至60であることがさらに好まし
く、10乃至40であることが最も好ましい。炭化水素
基を有する変性ポリビニルアルコールは、炭素原子数が
10以上の炭化水素基を有する繰り返し単位を2乃至8
0モル%の範囲で含むことが好ましく、3乃至70モル
%含むことがさらに好ましい。好ましい炭素原子数が1
0以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコール
を、下記式(PV)で表す。 (PV) −(VAl)x−(HyC)y−(VAc)z− 式中、VAlは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り;HyCは、炭素原子数が10以上の炭化水素基を有
する繰り返し単位であり;VAcは酢酸ビニル繰り返し
単位であり;xは、20乃至95モル%(好ましくは2
5乃至90モル%)であり;yは、2乃至80モル%
(好ましくは3乃至70モル%)であり;そして、zは
0乃至30モル%(好ましくは2乃至20モル%)であ
る。好ましい炭素原子数が10以上の炭化水素基を有す
る繰り返し単位(HyC)を、下記式(HyC−I)お
よび(HyC−II)で表す。
【0055】
【化21】
【0056】式中、L1 は、−O−、−CO−、−SO
2 −、−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;L
2 は、単結合あるいは−O−、−CO−、−SO2 −、
−NH−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの
組み合わせから選ばれる二価の連結基であり;そしてR
1 およびR2 は、それぞれ炭素原子数が10以上の炭化
水素基である。上記の組み合わせにより形成される二価
の連結基の例は、前記式(FRU−I)および(FRU
−II)で示した例と同様である。
【0057】棒状液晶性分子を実質的に水平に配向させ
るためには、上記の垂直配向膜とは逆に、配向膜の表面
エネルギーを低下させないことが重要である。具体的に
は、配向膜を構成するポリマーに、表面エネルギーを低
下させる官能基(フッ素原子および炭素原子数が10以
上の炭化水素基)を導入しないことが好ましい。言い換
えると、通常の棒状液晶性分子の配向膜が使用できる。
通常の棒状液晶性分子の配向膜については、多数の文献
(例えば、松本正一著、液晶ディスプレイ技術、196
〜201頁、産業図書、1996年)に記載がある。ま
た、棒状液晶性分子の配向膜は、液晶セル用として多数
が市販されている。本発明においては、液晶セル用とし
て公知または市販のポリマーを、棒状液晶性分子の水平
配向膜として、そのまま利用できる。なお、配向膜を使
用せずに、棒状液晶性分子を実質的に水平に配向させる
ことも可能である。例えば、ディスコティック液晶性分
子から形成した光学異方性層の上に、棒状液晶性分子か
ら形成した光学異方性層を設ける場合、ディスコティッ
ク液晶性分子から形成した光学異方性層を配向膜として
機能させることができる。また、仮支持体上(後述)に
棒状液晶性分子を塗布する前に、仮支持体あるいは後述
する中間層をラビング処理して配向膜として機能させる
こともできる。
【0058】配向膜に用いるポリマーの重合度は、20
0乃至5000であることが好ましく、300乃至30
00であることが好ましい。ポリマーの分子量は、90
00乃至200000であることが好ましく、1300
0乃至130000であることがさらに好ましい。二種
類以上のポリマーを併用してもよい。配向膜の形成にお
いて、ラビング処理を実施することが好ましい。ラビン
グ処理は、上記のポリマーを含む膜の表面を、紙や布で
一定方向に、数回こすることにより実施する。
【0059】[λ/4板の製造]光学異方性層は、液晶
性分子あるいは下記の重合性開始剤や他の添加剤を含む
塗布液を、仮支持体またはそれらの上に設けた配向膜の
上に塗布することで形成できる。仮支持体としては、ガ
ラス板またはポリマーフイルムが好ましく用いられる。
仮支持体と光学異方性層との間または仮支持体と配向膜
との間には、熱可塑性樹脂層を設けて、形成する光学異
方性層が仮支持体から容易に剥離できるようにすること
が好ましい。熱可塑性樹脂は、150℃以下の温度で軟
化もしくは粘着性となることが好ましい。また、熱可塑
性樹脂は、除去が容易であるように、特定の溶媒(例え
ば、アルカリ水溶液)に容易に溶解することが好まし
い。アルカリ水溶液に溶解する熱可塑性樹脂は、感光性
転写材料の技術分野で提案(例えば、特開平5−727
24号、同5−173320号の各公報に記載)されて
いる。それらの熱可塑性樹脂を、λ/4板の製造に転用
できる。熱可塑性樹脂層と光学異方性層との接着性を改
善するため、中間層を設けてもよい。
【0060】塗布液の調製に使用する溶媒としては、有
機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミ
ド(例、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシ
ド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物
(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサ
ン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロ
メタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、
ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテ
ル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ま
しい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液
の塗布は、公知の方法(例、押し出しコーティング法、
ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビア
コーティング法、ダイコーティング法)により実施でき
る。
【0061】塗布後、配向させた液晶性分子は、配向状
態を維持して固定する。固定化は液晶性分子に導入した
重合性基(P)の重合反応により実施することが好まし
い。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と
光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合
反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニ
ル化合物(米国特許2367661号、同236767
0号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許
2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香
族アシロイン化合物(米国特許2722512号明細書
記載)、多核キノン化合物(米国特許3046127
号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリー
ルイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンと
の組み合わせ(米国特許3549367号明細書記
載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60
−105667号公報、米国特許4239850号明細
書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許42
12970号明細書記載)が含まれる。
【0062】光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分
の0.01乃至20重量%であることが好ましく、0.
5乃至5重量%であることがさらに好ましい。液晶性分
子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ま
しい。照射エネルギーは、20mJ/cm2 乃至50J
/cm2 であることが好ましく、100乃至800mJ
/cm2 であることがさらに好ましい。光重合反応を促
進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。以
上の塗布、配向および硬化の手順を繰り返して、光学異
方性層AおよびBからなるλ/4板を形成できる。λ/
4板は、仮支持体から剥離して使用できる。液晶セル内
にλ/4板を配置する場合、形成したλ/4板を、仮支
持体から液晶セルの一方の基板に転写することができ
る。λ/4板を剥離または転写後、不要となった配向膜
および熱可塑性樹脂層を除去してもよい。液晶性分子を
配向状態のまま重合により固定すれば、液晶性分子は配
向膜がなくても配向状態を維持することができる。
【0063】[ゲストホスト反射型液晶表示素子]図2
は、ゲストホスト反射型液晶表示素子の代表的な態様を
示す断面模式図である。図2に示すゲストホスト反射型
液晶表示素子は、反射膜(1)、λ/4板(2)、下基
板(3)、下透明電極(4)、下配向膜(5)、液晶層
(6)、上配向膜(7)、上透明電極(8)および上基
板(9)が、この順に積層された構造を有する。反射膜
(1)の上側表面に凹凸を付けること(例えば、ストラ
イブ状エッチング処理)により、光散乱機能を付与して
もよい。基板(3および9)は、ガラス板またはプラス
チックフイルムからなる。透明電極(4および8)とし
ては、一般にITOが用いられる。λ/4板(2)は、
前述したように光学異方性層A(A)および光学異方性
層B(B)からなる。液晶層(6)は、液晶と二色性色
素との混合物からなる。液晶層は、スペーサー(S)に
より形成されているセルギャップに液晶と二色性色素と
の混合物を注入して得られる。
【0064】図3は、ゲストホスト反射型液晶表示素子
の別の代表的な態様を示す断面模式図である。図3に示
すゲストホスト反射型液晶表示素子は、下基板(3)、
反射膜(1)、λ/4板(2)、下配向膜(5)、液晶
層(6)、上配向膜(7)、上透明電極(8)および上
基板(9)が、この順に積層された構造を有する。下基
板(3)および上基板(9)は、ガラス板またはプラス
チックフイルムからなる。透明電極(8)としては、一
般にITOが用いられる。反射膜(1)の上側表面に凹
凸を付けることにより、光散乱機能を付与してもよい。
λ/4板(2)は、前述したように光学異方性層A
(A)および光学異方性層B(B)からなる。液晶層
(6)は、液晶と二色性色素との混合物からなる。液晶
層は、スペーサー(S)により形成されているセルギャ
ップに液晶と二色性色素との混合物を注入して得られ
る。
【0065】本発明に従うλ/4板は、図2または図3
で説明したゲストホスト反射型液晶表示素子のλ/4板
(2)として使用できる。λ/4板を備えたゲストホス
ト反射型液晶表示素子については、特開平6−2223
50号、同8−36174号、同10−268300
号、同10−292175号、同10−293301
号、同10−311976号、同10−319442
号、同10−325953号、同10−333138
号、同11−38410号の各公報に記載がある。本発
明に従うλ/4板は、上記各公報記載のゲストホスト反
射型液晶表示素子にも利用することができる。
【0066】
【実施例】[実施例1] (光学異方性層Aの形成)ステロイド変性ポリアミック
酸の希釈液を、バーコーターを用いてガラス板(仮支持
体)の上に0.5μmの厚さに塗布した。塗布層を、6
0℃の温風で2分間乾燥し、その表面をラビング処理し
て、下記の変性ポリイミドからなる配向膜を形成した。
【0067】
【化22】
【0068】配向膜の上に、下記の組成の塗布液を塗布
し、130℃で5分間加熱して、ディスコティック液晶
性分子を垂直配向させた。形成された層の厚さは、4.
0μmであった。次に、紫外線を照射してディスコティ
ック液晶性分子を重合させた。このようにして光学異方
性層Aを形成した。波長550nmにおける光学異方性
層Aのレターデーション値を測定したところ、270n
mであった。
【0069】 ──────────────────────────────────── 光学異方性層A塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のディスコティック液晶性分子(1) 32.6重量% セルロースアセテートブチレート 0.7重量% 下記の変性トリメチロールプロパントリアクリレート 3.2重量% 下記の増感剤 0.4重量% 下記の光重合開始剤 1.1重量% メチルエチルケトン 62.0重量% ────────────────────────────────────
【0070】
【化23】
【0071】
【化24】
【0072】
【化25】
【0073】(光学異方性層Bの形成)光学異方性層A
の上に、市販の棒状液晶用ポリイミド配向膜溶液(SE
−130、日産化学(株)製)を塗布し、200℃で3
0分間焼成した。次に、光学異方性層Aの遅相軸に対し
て、60゜の角度で、ポリイミド配向膜をラビング処理
した。配向膜の上に、下記の棒状液晶性分子(1)4
3.5重量%、下記の棒状液晶性分子(2)43.5重
量%および上記の光重合開始剤3重量%をクロロホルム
に溶解した塗布液を塗布し、130℃で3分間加熱し
て、棒状液晶性分子を水平配向させた。形成された層の
厚さは、1.0μmであった。次に、窒素雰囲気下で紫
外線を500w/cm2 の照度の水銀ランプで紫外線を
照射して棒状液晶性分子を重合させた。このようにして
光学異方性層Bを形成した。
【0074】
【化26】
【0075】
【化27】
【0076】波長550nmにおける光学異方性層Bの
レターデーション値を測定したところ、138nmであ
った。ガラス板から光学異方性層AおよびBとの積層体
を剥離して、厚さが5μmのλ/4板を製造した。波長
480nm、550nmおよび630nmで測定したλ
/4板のレターデーション値は、それぞれ117nm、
139nmおよび208nmであった。
【0077】(液晶表示素子の作製)厚さ1.1mmの
透明ガラス基板上に、ITO層(透明電極層)をスパッ
タリング法により設けた。その上に、ストライブ状にエ
ッチング処理を行った。ITO層の上に、ポリアミック
酸からなるポリイミド配向膜用塗布液(SE−150、
日産化学(株)製)をスピンコート法により塗布し、8
0℃で20分間乾燥した。さらに、250℃で30分間
加熱して、ポリアミック酸をイミド化した。配向膜をラ
ビング処理した。作製した配向膜付き基板を二枚、配向
膜を対向させて貼り合わせた。貼り合わせには、直径7
μmの球状スペーサーを混合した熱硬化性エポキシ樹脂
を使用した。基板の間隙に、二色性色素(NKX−13
66、日本感光色素社製)2.0重量%とp型液晶(Z
LI−1132、メルクジャパン社製)98.0重量%
との混合物を注入して液晶層を形成し、側面を封止し
た。一方の基板の外側に、作製したλ/4板を光学異方
性層Aが基板側となるように接着剤を介して貼り合わせ
た。貼り合わせの向きは、基板の配向膜のラビング方向
と光学異方性層Aの遅相軸とが同一平面内で75゜、基
板の配向膜のラビング方向と光学異方性層Bの遅相軸と
が同一平面内で15゜の角度で、それぞれ交差するよう
に調整した。λ/4板の外側に、ヘアライン加工したア
ルミニウムフイルム(反射膜)を接着剤を介して貼り合
わせた。作製したゲストホスト反射型液晶表示素子に通
電して動作させたところ、極めてコントラストが高い画
像が表示された。
【0078】[実施例2] (液晶表示素子の作製)ガラス基板上に、アルミニウム
を蒸着して反射膜を形成した。反射膜の上に厚さ0.1
μmのポリビニルアルコール系配向膜を、スピンコート
法で形成した。配向膜にラビング処理を行った。配向膜
の上に、実施例1で用いた棒状液晶性分子(1)91重
量%、実施例1で用いた変性トリメチロールプロパント
リアクリレート5重量%、実施例1で用いた光重合開始
剤3重量%および実施例1で用いた光増感剤1重量%を
メチレンクロリドに溶解した塗布液をバーコート法で塗
布した。塗布層を115℃で加熱して、棒状液晶性分子
を配向させ光学異方性層Bを形成した。波長550nm
における光学異方性層Bのレターデーション値を測定し
たところ、138nmであった。光学異方性層Bの上
に、実施例1と同様にして変性ポリイミドからなる配向
膜を形成した。配向膜を200℃で1時間焼成後、光学
異方性層Bの遅相軸に対して30゜の角度で、配向膜に
ラビング処理を行った。配向膜の上に、実施例1で用い
た光学異方性層Aの塗布液(ただし、メチルエチルケト
ンの量を若干削減して溶質濃度を高めたもの)をバーコ
ート法により塗布し、加熱配向後に紫外線照射を行いデ
ィスコティック液晶性分子を重合させ、光学異方性層A
を形成した。波長550nmにおける光学異方性層Aの
レターデーション値を測定したところ、265nmであ
った。また、波長480nm、550nmおよび630
nmで測定したλ/4板(光学異方性層AおよびBとの
積層体)のレターデーション値は、それぞれ119n
m、138nmおよび209nmであった。
【0079】光学異方性層Aの上に、ポリアミック酸か
らなるポリイミド配向膜用塗布液(SE−150、日産
化学(株)製)をスピンコート法により塗布し、80℃
で20分間乾燥した。さらに、250℃で30分間加熱
して、ポリアミック酸をイミド化した。配向膜をラビン
グ処理した。ラビング方向は、光学異方性層Aの遅相軸
に対して75゜、そして光学異方性層Bの遅相軸に対し
て15゜の角度であった。以上のように作製した基板1
枚と、実施例1で作製した基板1枚とを配向膜が対向す
るように貼り合わせた。対向する配向膜のラビング方向
は、反平行となるように配置した。貼り合わせには、直
径7μmの球状スペーサーを混合した熱硬化性エポキシ
樹脂を使用した。基板の間隙に、二色性色素(NKX−
1366、日本感光色素社製)2.0重量%とp型液晶
(ZLI−1132、メルクジャパン社製)98.0重
量%との混合物を注入して液晶層を形成し、側面を封止
した。作製したゲストホスト反射型液晶表示素子に通電
して動作させたところ、極めてコントラストが高い画像
が表示された。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いるλ/4板の代表的な態様を示す
断面模式図である。
【図2】ゲストホスト反射型液晶表示素子の代表的な態
様を示す断面模式図である。
【図3】ゲストホスト反射型液晶表示素子の別の代表的
な態様を示す断面模式図である。
【符号の説明】
1 反射膜 2 λ/4板 3 下基板 4 下透明電極 5 下配向膜 6 液晶層 7 上配向膜 8 上透明電極 9 上基板 A 光学異方性層A B 光学異方性層B S スペーサー a 光学異方性層Aの遅相軸 b 光学異方性層Bの遅相軸 d ディスコティック液晶性分子 r 棒状液晶性分子 θ aとbとの同一面内での角度
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒川 公平 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H049 BA07 BA25 BA42 BB03 BB43 BC03 BC04 BC22 2H088 GA13 HA17 KA30 MA02 2H091 FA11Z FA14Z HA08 KA10 LA11 LA17 5C094 AA06 AA15 BA47 DA13 ED20 FB01 FB20 JA01 JA08

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 λ/4板を備えたゲストホスト反射型液
    晶表示素子であって、λ/4板が、光学異方性層Aと光
    学異方性層Bとからなり、光学異方性層AおよびBの一
    方が液晶性分子から形成された層であり、他方が液晶性
    分子から形成された層またはポリマーフイルムであり、
    そして、波長480nm、550nmおよび630nm
    で測定したレターデーション値/波長の値がいずれも
    0.2乃至0.3の範囲内にある広帯域λ/4板である
    ことを特徴とするゲストホスト反射型液晶表示素子。
  2. 【請求項2】 光学異方性層AおよびBの少なくとも一
    方が、ディスコティック液晶性分子から形成された層で
    ある請求項1に記載のゲストホスト反射型液晶表示素
    子。
  3. 【請求項3】 光学異方性層AおよびBの少なくとも一
    方が、棒状液晶性分子から形成された層である請求項1
    に記載のゲストホスト反射型液晶表示素子。
  4. 【請求項4】 光学異方性層AおよびBの一方が、ディ
    スコティック液晶性分子から形成された層であり、他方
    が棒状液晶性分子から形成された層である請求項1に記
    載のゲストホスト反射型液晶表示素子。
  5. 【請求項5】 λ/4板の厚さが、500nm乃至20
    μmである請求項1に記載のゲストホスト反射型液晶表
    示素子。
JP31930299A 1999-11-10 1999-11-10 ゲストホスト反射型液晶表示素子 Withdrawn JP2001133785A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31930299A JP2001133785A (ja) 1999-11-10 1999-11-10 ゲストホスト反射型液晶表示素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31930299A JP2001133785A (ja) 1999-11-10 1999-11-10 ゲストホスト反射型液晶表示素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001133785A true JP2001133785A (ja) 2001-05-18

Family

ID=18108691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31930299A Withdrawn JP2001133785A (ja) 1999-11-10 1999-11-10 ゲストホスト反射型液晶表示素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001133785A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6593984B2 (en) * 1998-11-06 2003-07-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Quarter wave plate comprising two optically anisotropic layers
WO2014054769A1 (ja) * 2012-10-04 2014-04-10 富士フイルム株式会社 円偏光板およびその製造方法、光学積層体
WO2015046399A1 (ja) * 2013-09-27 2015-04-02 富士フイルム株式会社 偏光板の製造方法
KR20160129350A (ko) * 2015-04-30 2016-11-09 주식회사 엘지화학 플렉서블 기판을 포함하는 만곡형 미러
WO2021193538A1 (ja) * 2020-03-27 2021-09-30 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6593984B2 (en) * 1998-11-06 2003-07-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Quarter wave plate comprising two optically anisotropic layers
WO2014054769A1 (ja) * 2012-10-04 2014-04-10 富士フイルム株式会社 円偏光板およびその製造方法、光学積層体
JPWO2014054769A1 (ja) * 2012-10-04 2016-08-25 富士フイルム株式会社 円偏光板およびその製造方法、光学積層体
WO2015046399A1 (ja) * 2013-09-27 2015-04-02 富士フイルム株式会社 偏光板の製造方法
CN105579873A (zh) * 2013-09-27 2016-05-11 富士胶片株式会社 偏振片的制造方法
KR20160129350A (ko) * 2015-04-30 2016-11-09 주식회사 엘지화학 플렉서블 기판을 포함하는 만곡형 미러
KR101999974B1 (ko) * 2015-04-30 2019-07-15 주식회사 엘지화학 플렉서블 기판을 포함하는 만곡형 미러
WO2021193538A1 (ja) * 2020-03-27 2021-09-30 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JPWO2021193538A1 (ja) * 2020-03-27 2021-09-30
JP7530963B2 (ja) 2020-03-27 2024-08-08 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001091741A (ja) 位相差板および円偏光板
JP3734211B2 (ja) 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置
JP2001183643A (ja) 液晶表示装置
JP2001004837A (ja) 位相差板および円偏光板
JP4199412B2 (ja) 光学補償シートおよびその製造方法
JP2001021720A (ja) 位相差板および円偏光板
JP2001155866A (ja) エレクトロルミネセントディスプレイ
JP2000206331A (ja) 位相差板および楕円偏光板
JP2001091951A (ja) 反射型液晶表示装置
JP2006512597A (ja) 位相差板および楕円偏光板
JP2001133785A (ja) ゲストホスト反射型液晶表示素子
JP4378023B2 (ja) 円偏光板および反射型液晶表示装置
JP2002072210A (ja) 液晶表示装置
JP2000284120A (ja) 位相差板および円偏光板
JP4125838B2 (ja) 液晶配向膜、液晶性分子を配向させる方法、光学補償シートおよびstn型液晶表示装置
JP2006285187A (ja) 光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP7600534B2 (ja) 機能性フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2001100031A (ja) 光学補償シート、楕円偏光板および液晶表示装置
JP4330321B2 (ja) 位相差板、その製造方法およびそれを用いた円偏光板
JP3987254B2 (ja) 液晶ディスプレイ用バックライト装置
JP2006276643A (ja) 位相差膜、液晶表示装置および化合物
JP2007121996A (ja) 光学補償シートならびに、これを用いた偏光板および液晶表示装置
JP2001100038A (ja) ディスコティック色素液晶膜からなる偏光シート
JP2003262728A (ja) 位相差板および円偏光板
JP2000147260A (ja) 位相差板

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070206