JP2001188189A - マルチビーム光源装置及び当該装置を用いたマルチビーム走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学部品の光軸調整などの位置合わせと複数
の光ビームの副走査方向の間隔の調整が容易であると共
に装置を小型化できるマルチビーム光源装置を提供す
る。 【解決手段】 予め位置調整されたハーフミラー１１と
二分割センサ１４が一体的に保持された移動台１０１
を、半導体レーザＬＤ１，ＬＤ２、ステッピングモータ
１５を搭載した基台１００に移動可能に保持する。ステ
ッピングモータ１５を回転駆動させて、移動台１０１を
基台１００に対して相対的に移動させることにより、光
ビーム間の間隔の調整を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば画像形成装
置等に用いられる、複数の光ビームを間隔をおいて射出
するマルチビーム光源装置およびこれを使用したマルチ
ビーム走査装置に関し、特に、複数の光ビーム間の間隔
を調整するための技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】画像形成装置等に用いられるマルチビー
ム走査装置は、複数の光ビームにより被走査面を一度に
走査できるので、単一の光ビームで走査する場合と比較
して画像の書き込み速度を速くすることができるが、そ
の一方で、光ビームの副走査方向の間隔が正しく調整さ
れていないと書き込み画素密度が副走査方向で不均一と
なり良好な再現画像を得ることができない。

【０００３】光ビームの副走査方向の間隔を調整する技
術として、例えば、ハーフプリズム、ガルバノミラーお
よび二分割センサを用いたものがある。この従来技術に
おいては、２つの半導体レーザから射出された光ビーム
はそれぞれガルバノミラーで反射されてハーフプリズム
に入射して合成され、ほぼ同一方向に射出される。他
方、各光ビームの一部はハーフプリズムによって光ビー
ムの副走査方向の間隔を検出するための二分割センサへ
導かれ、その検出結果に基づきガルバノミラーの角度を
調整して光ビームの副走査方向の間隔を調整するように
している。これらの半導体レーザとハーフプリズム、二
分割センサ、ガルバノミラーは、１つのフレームにそれ
ぞれ光軸合わせしながらネジで固定される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、光ビームを被走査面上で副走査方向に所定
間隔をもって走査させるために、ハーフプリズムや二分
割センサ等の光学部品を取り付ける位置をミクロン単位
の精度で調整する必要があり、この調整は非常に難し
い。また、器差による誤差等を補正するため、その調整
が済んだ後にガルバノミラーを用いて光ビームの副走査
方向の間隔を微調整しており、調整に多くの手間がかか
る。

【０００５】さらに、複写装置のような大きな装置に組
み込んだ後に各光学部品の位置の最終的な調整をするよ
うな場合において、作業員が外部からドライバー等の調
整具を差し込んで確認しながら調整するためのスペース
が必要となり、その分装置が大型化してしまう。本発明
は、上記の問題に鑑み、装置が大型化することなく、光
学部品の位置調整と副走査方向のビーム間隔調整が容易
なマルチビーム光源装置及びこれを使用したマルチビー
ム走査装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係るマルチビーム光源装置では、光学部品
として、複数の光源と、各光源から射出される光ビーム
を合成する合成素子と、当該合成された光ビームの副走
査方向のビーム位置を検出するための検出素子とを有
し、複数の光ビームを間隔をおいて射出するマルチビー
ム光源装置であって、前記光学部品の内、全ての光源と
合成素子の組合わせを除き、少なくとも２以上の光学部
品を保持する保持部材と、前記保持部材を他の残りの光
学部品に対して相対的に移動させる移動手段と、前記検
出素子による検出結果を参照して、光ビームが所定の間
隔になるように前記移動手段を制御する制御手段とを備
えたことを特徴とする。

【０００７】また、前記移動手段は、前記保持部材を合
成された光ビームの間隔が変化する方向に直線的に移動
させることを特徴とする。さらに、本発明に係るマルチ
ビーム走査装置は、副走査方向に所定の間隔を有する複
数の光ビームにより、被走査面を走査するマルチビーム
走査装置であって、光源として上記マルチビーム光源装
置を使用したことを特徴とする。

【０００８】

【発明の実施の形態】〈実施の形態１〉以下、本発明に
係る光源装置を使用したマルチビーム走査装置の一実施
の形態を図面を参照しながら説明する。図１は、当該マ
ルチビーム走査装置１０の全体構成を示す概略図であ
る。

【０００９】このマルチビーム走査装置１０は、光源装
置１と、コリメータレンズ１２、ポリゴンミラー３、走
査レンズ群４および折り返しミラー５などから構成され
ている。光源装置１は、２本のレーザビームを副走査方
向に所定の間隔をおいて射出するように構成されてお
り、当該光源装置１から射出された２本のレーザビーム
は、コリメータレンズ１２でコリメートされた後、面倒
れ補正のためシリンドリカルレンズ２により副走査方向
に集光されてポリゴンミラー３のミラー面に入射され
る。ポリゴンミラー３は、不図示のモータによりａ方向
に回転されているため、２本のレーザビームはそのミラ
ー面で反射して主走査方向に偏向され、走査レンズ群
４、折り返しミラー５を介して感光体ドラム６を走査す
る。

【００１０】光源装置１は、光学部品として２個の半導
体レーザＬＤ１、ＬＤ２と、それらから射出されたレー
ザビームが同一方向に進行するように合成するハーフミ
ラー１１と、集光レンズ１３と、レーザビームのビーム
位置を検出するための二分割センサ１４を備える。その
他に、光源装置１は、二分割センサ１４の検出結果を参
照し、レーザビームの間隔が所定の値になるように制御
するビーム間隔制御部２０などを備えている。

【００１１】図２は、上記光源装置１における各光学部
品の取付構造を説明するための斜視図であり、図３は、
その側面図である。半導体レーザＬＤ１、ＬＤ２は、そ
れぞれ取付金具１２１，１２２に固着され、取付金具１
２１，１２２は、図３に示すように半導体レーザＬＤ
１，ＬＤ２から射出されるレーザビームの主光線が直交
するようにネジ１２３，１２４で基台１００に取り付け
られている。

【００１２】基台１００は、その側面が図１に示すポリ
ゴンミラーの回転軸と平行になるように垂直に立てた状
態で設けられ、また、側面視コの字形状に形成されてお
り、コの字をした凹部１００ａの内側縁の対向する二辺
には、断面が三角形状のレール１０２，１０３が設けら
れている。前記凹部１００ａには平板状の移動台１０１
が配されている。

【００１３】移動台１０１には、基台１００のレール１
０２，１０３に対応する端部に、各レールに係合する、
断面が三角形状の溝２０２，２０３が設けられている。
このレールと対応する溝がそれぞれ係合することで、移
動台１０１が基台１００に矢印Ａ方向（半導体レーザＬ
Ｄ２から射出されるレーザビームと平行な方向）に摺動
可能に保持される。

【００１４】この移動台１０１には、取付金具１１１，
１３１，１４２がネジ１１２、１３２、１４３で取付け
られ、各取付金具１１１，１３１，１４２には、ハーフ
ミラー１１と、集光レンズ１３、二分割センサ１４がそ
れぞれ固着されている。ハーフミラー１１は、移動台１
０１の側面に対して起立した姿勢で、かつ、移動台１０
１の摺動方向Ａに対して４５°の角度をなすように取着
されている。

【００１５】集光レンズ１３は、その光軸が、移動台１
０１の側面に平行、かつ、移動台１０１の摺動方向Ａに
対して直交する方向に取着されている。二分割センサ１
４は、図１に示すように、受光面１４１に各受光素子１
４１ａ、１４１ｂが並設されている。受光素子１４１
ａ，１４１ｂは、図２、３に示すようにＡ方向左側から
順に並び、集光レンズ１３の光軸が受光素子１４１ａと
１４１ｂのほぼ境界線の位置にくるように取り付けられ
ている。

【００１６】上記集光レンズ１３と二分割センサ１４の
間の距離は、半導体レーザＬＤ１、ＬＤ２から射出され
るレーザビームがそれぞれハーフミラー１１で透過もし
くは反射して（以下、ハーフミラーを透過したレーザビ
ームを「透過ビーム」といい、反射したレーザビームを
「反射ビーム」という。）、集光レンズ１３で集光され
たときに、二分割センサ１４の受光面１４１上に結像で
きるような所定の距離を保っている。

【００１７】二分割センサ１４の背面には、ナット部材
１５２が接着剤などにより移動台１０１に固着されてい
る。他方、ナット部材１５２に対応する基台１００側面
上の位置には、ステッピングモータ１５がネジ１５３で
固定されている。このステッピングモータ１５の駆動軸
１５１の先端部に設けられたスクリュー部は上記ナット
部材１５２に螺合しており、ステッピングモータ１５を
駆動すれば、ネジ送り作用により移動台１０１をＡ方向
に往復移動させることができる。

【００１８】また、移動台１０１の移動量については、
ビーム間隔制御部２０からステッピングモータ１５に送
られる駆動パルス数により決定される。なお、上記ハー
フミラー１１、集光レンズ１３、二分割センサ１４の位
置調整は、移動台１０１を基台１００に取り付ける前に
実行される。そして、移動台１０１を基台１００に取り
付けた後、半導体レーザＬＤ２の反射ビームが二分割セ
ンサ１４の受光素子１４１ａ、１４１ｂの丁度中央に来
るように半導体レーザＬＤ２の位置が微調整される。図
２，３では見えないが、ネジ１２４が挿通される取付金
具１２２のネジ孔が、移動台１０１の摺動方向Ａと直交
する方向に伸びた長孔を有するため、ネジ１２４を弛め
た状態で取付金具１２２の位置を長孔に沿って動かせ
ば、半導体レーザＬＤ２の位置を微調整できる。一旦半
導体レーザＬＤ２の位置がこのように微調整されれば、
移動台１０１の摺動方向は半導体レーザＬＤ２からレー
ザビームが射出される方向と一致しており、かつ、二分
割センサ１４とハーフミラー１１は同一の移動台１０１
に搭載されているので、移動台１０１が移動しても、そ
の反射ビームは必ず受光素子１４１ａ、１４１ｂの中央
に照射される。

【００１９】図４は、上記ビーム間隔制御部２０の構成
を示すブロック図である。ビーム間隔制御部２０は、Ｃ
ＰＵ２１と、比較部２３、ＲＯＭ２４，ＬＤ駆動部２
５、ステッピングモータ駆動部２６などから構成されて
いる。比較部２３は、二分割センサ１４の受光素子１４
１ａ，１４１ｂの各検出値を比較してその差分を取得
し、正負を含めた差分量をＣＰＵ２１に出力する。

【００２０】ＲＯＭ２４は、作業者が操作パネル２２よ
りレーザビームの副走査方向の間隔調整を指示したとき
に、その調整をするための半導体レーザＬＤ１，ＬＤ２
やステッピングモータ１５の動作を制御するプログラム
を格納する。ＬＤ駆動部２５は、ＣＰＵ２１からの指示
により半導体レーザＬＤ１，ＬＤ２を点灯駆動する。な
お、このＬＤ駆動部２５は、レーザビーム走査時におい
ては、画像メモリ（不図示）に格納された画像データに
基づき半導体レーザＬＤ１，ＬＤ２を光変調させるもの
である。

【００２１】ステッピングモータ駆動部２６は、ＣＰＵ
２１からの駆動信号を受けてステッピングモータ１５を
駆動する。ＣＰＵ２１は、二分割センサ１４のセンサ出
力に基づき、ＲＯＭ２４に格納されている制御プログラ
ムに従って、ＬＤ駆動部２５やステッピングモータ駆動
部２６の動作を制御してレーザビームの副走査方向の間
隔の調整を行う。

【００２２】図５は、レーザビームの副走査方向の間隔
を調整するためのビーム間隔制御部２０における制御動
作を示すフローチャートである。例えば、装置の組み立
て時などにおいて、作業員が操作パネル２２を通してビ
ーム間隔の調整を指示すると（ステップＳ１０１：
Ｙ）、半導体レーザＬＤ１のみを点灯する（ステップＳ
１０２）。

【００２３】半導体レーザＬＤ１から射出されたレーザ
ビームは、図６に示すようにハーフミラー１１により、
二分割センサ１４方向に進む透過ビームＬＢ１と、コリ
メータレンズ１２方向へ向かう反射ビームＬＢ２とに分
離される。そのうち、透過ビームＬＢ１は二分割センサ
１４の受光素子１４１ａ，１４１ｂ上に照射される。図
７は、受光素子１４１ａ，１４１ｂに照射される透過ビ
ームＬＢ１のスポット１４４の位置の例を示し、図７
(ａ)はスポット１４４が受光素子１４１ｂ側にずれ、図
７（ｂ）は二分割センサ１４の受光素子１４１ａ，１４
１ｂの中央に位置している例を示す。

【００２４】図７（ａ）に示すように、例えば、スポッ
ト１４４が受光素子１４１ｂ側にずれている場合には、
比較部２３からの出力が０以外の値となり、ビーム間隔
制御部２０のＣＰＵ２１（図４）は、透過ビームＬＢ１
のスポット１４４が二分割センサ１４の中央からずれて
いると判断する（ステップＳ１０３：Ｎ）。そして当該
比較部２３からの出力値を参照しながらステッピングモ
ータ１５を駆動してその値が０となる方向に移動台１０
１を移動させる（ステップＳ１０４）。

【００２５】比較部２３からの出力値が０となれば、図
７（ｂ）に示すように透過ビームＬＢ１のスポット１４
４が二分割センサ１４の中央に位置している（以下、図
７（ｂ）となる移動台１０１の位置を、「基準位置」と
いう。）と判断し（ステップＳ１０５：Ｙ）、ステッピ
ングモータ１５を停止すると共に半導体レーザＬＤ１を
消灯する（ステップＳ１０６、Ｓ１０７）。

【００２６】また、ステップＳ１０３の段階で既に透過
ビームＬＢ１のスポット１４４が、二分割センサ１４の
中央に位置していると判断した場合にはそのまま半導体
レーザＬＤ１を消灯する（ステップＳ１０７）。以上の
制御により、移動台１０１は図６に実線で示す基準位置
に調整される。なお、この基準位置において、例えば、
半導体レーザＬＤ１，ＬＤ２を点灯すれば、半導体レー
ザＬＤ２からの反射ビームＬＢ４が丁度二分割センサ１
４の中央に入射するように予め調整してあるので、半導
体レーザＬＤ１からの透過ビームＬＢ１は前記反射ビー
ムＬＢ４とほぼ一致する。また、半導体レーザＬＤ１か
らの反射ビームＬＢ２は、半導体レーザＬＤ２からの透
過ビームＬＢ３と副走査方向（移動台１０１の摺動方向
Ａと直交する方向）に距離ｄ１の間隔をもって並進す
る。距離ｄ１は、ハーフミラー１１の厚さおよび屈折率
に依存して決まる値である。

【００２７】さて、移動台１０１を基準位置に調整した
後、ステッピングモータ１５を所定の駆動パルス分だけ
回転駆動させて（ステップＳ１０８）、感光体ドラム６
上の副走査方向における２本のレーザビームの間隔が目
的の値になるように、移動台１０１を基準位置から移動
させる。この移動台１０１の基準位置からの移動距離と
２本のレーザビームの間隔について以下に説明する。

【００２８】例えば、図６の破線で示すように、移動台
１０１を基準位置から矢印Ａの左方向に距離ｄ３だけ移
動させた場合、ハーフミラー１１表面で反射した半導体
レーザＬＤ１からの反射ビームＬＢ２の主光線の位置
は、図中一点鎖線の位置から破線で示す位置まで平行移
動する。このとき、半導体レーザＬＤ１の反射ビームＬ
Ｂ２と、半導体レーザＬＤ２からの透過ビームＬＢ３と
の副走査方向の間隔は、基準位置にあるときよりもさら
にｄ２大きくなる。

【００２９】このレーザビームが副走査方向に移動した
距離ｄ２と、移動台１０１の基準位置からの移動距離ｄ
３とは比例するため、２本のレーザビームの副走査方向
の間隔の調整を行うには、移動台１０１の基準位置から
の移動距離を制御すればよい。２本のレーザビームが感
光体ドラム６上で目的の副走査方向の間隔となるときの
移動台１０１の基準位置からの移動距離は、ステッピン
グモータ１５の駆動パルス数として予めＲＯＭ２４(図
４)に格納されており、ステップＳ８でこの駆動パルス
数だけステッピングモータ１５を駆動すれば、レーザビ
ーム間の副走査方向の間隔を目的の値に調整できる。

【００３０】以上のように、本実施の形態では、基台１
００と移動台１０１に搭載された部品の取り付け位置や
光軸の調整は、装置に組み込む前に予め済ませておき、
組み込み後は、二分割センサ１４の検出結果に基づき基
台１００と移動台１０１との位置関係のみを自動的に行
うようにしているので、従来、組み込み後に必要であっ
た調整の手間がなくなる。

【００３１】また、組み込み後に外部から微調整するス
ペースを装置内に設ける必要がなくなるので、設計の自
由度が増すと共に装置の小型化が図れる。〈実施の形態
２〉上記実施の形態１では、ハーフミラー１１と二分割
センサ１４を移動台１０１に一体的に保持させ、これを
基台１００に対して移動させることにより、組み込み後
の微調整の煩わしさをなくすようにした。しかし、移動
台１０１に搭載される光学部品の組み合わせはこれには
限定されず、２個の半導体レーザおよびハーフミラーを
含む組み合わせで一体的に保持されてさえいなければ、
移動台１０１の移動により２本のレーザビーム間の間隔
を調整することができる。

【００３２】図８は、その組み合わせの一例として、１
個の半導体レーザと二分割センサを移動台に搭載したと
きの光源装置１の構成を示す図である。なお、本実施の
形態２は、一部光学部品やその配置などが異なる以外は
基本的に実施の形態１とほぼ同じ構成であり、共通部分
の説明は省略して、異なる部分を中心に説明を行う。同
図に示すように、基台１０４は側面視Ｕ字形状をしてお
り、Ｕ字形状の凹部１０４ａの内側縁の対向する二辺に
は、断面が三角形状をしたレール１０６，１０７がそれ
ぞれ設けられ、その凹部１０４ａには平板状の移動台１
０５が配されている。

【００３３】移動台１０５には、基台１０４のレール１
０６，１０７に対応する端部に、各レールに係合する、
断面が三角形状をした溝２０６，２０７が設けられてい
る。各レールと対応する溝がそれぞれ係合することで、
移動台１０５が基台１０４に矢印Ｂ方向（半導体レーザ
ＬＤ１から射出されるレーザビームと平行な方向）に摺
動可能に保持される。

【００３４】この移動台１０５は、図２，３の場合と同
様、ステッピングモータ１５を駆動源としたネジ送り機
構により移動台１０５の摺動方向Ｂに往復移動させるこ
とができる。基台１０４には、半導体レーザＬＤ１とハ
ーフミラー１１、集光レンズ１３、が予め光軸調整され
た状態で固定されている。その他に基台１０４には、集
光レンズ１３の背面に取付金具１６１がネジ１６２で取
着されている。

【００３５】取付金具１６１には折り返しミラー１６が
固着され、折り返しミラー１６が基台１０４の側面に対
して起立した姿勢で、かつ、その反射面が集光レンズ１
３の光軸に対して１３５°の角度をなすように取着され
ている。移動台１０５には、半導体レーザＬＤ２と二分
割センサ１４が一体保持されている。

【００３６】半導体レーザＬＤ２は、射出されたレーザ
ビームが移動台１０５の摺動方向Ｂに直行する方向に進
行して半導体レーザＬＤ１からの透過ビームとハーフミ
ラー１１表面で直交するように移動台１０５に固定され
ている。二分割センサ１４は、移動台１０５の摺動方向
Ｂに沿った方向に受光素子１４１ａ，１４１ｂが並設さ
れ、半導体レーザＬＤ１からの透過ビームと、半導体レ
ーザＬＤ２からの反射ビームがほぼ重なるときのレーザ
ビームが、折り返しミラー１６により９０°折り返され
て受光素子１４１ａと１４１ｂのほぼ境界線の位置にく
るように移動台１０５に固定されている。

【００３７】実施の形態２における光源装置１は、レー
ザビーム間の副走査方向の間隔調整を図５とほぼ同じ制
御を行っており、以下、その制御の異なる部分を主に説
明し、同じ部分の説明は省略する。ステップＳ１０２に
おいては、半導体レーザＬＤ２のみを点灯させる。半導
体レーザＬＤ２から射出されたレーザビームは、図９に
示すようにハーフミラー１１により、二分割センサ１４
方向に進む透過ビームＬＢ６と、コリメータレンズ１２
方向へ向かう反射ビームＬＢ５とに分離される。そのう
ち、反射ビームＬＢ５は、二分割センサ１４の受光素子
１４１ａ，１４１ｂ上に照射される。

【００３８】ステップＳ１０４においては、このときの
当該比較部２３からの出力値を参照しながらその値が０
となる方向にステッピングモータ１５を駆動して移動台
１０５を移動させる。比較部２３からの出力値が０とな
れば、ステップＳ１０５において、図７（ｂ）に示すよ
うに透過ビームＬＢ５が二分割センサ１４の中央に位置
している（以下、図７（ｂ）となる移動台１０５の位置
を、「基準位置」という。）と判断し（ステップＳ１０
５：Ｙ）、ステッピングモータ１５を停止すると共に半
導体レーザＬＤ２を消灯する（ステップＳ１０６、Ｓ１
０７）。

【００３９】以上の制御により、移動台１０５は図９に
実線で示す基準位置に調整される。この基準位置から例
えば、移動台１０５を矢印Ｂ方向下側に距離ｄ４だけ移
動した場合、半導体レーザＬＤ２と二分割センサ１４は
図９で示す破線の位置に移動する。そのため透過ビーム
ＬＢ６の主光線も一点鎖線で示す位置から破線で示す位
置に副走査方向（移動台１０５の摺動方向Ｂ）に距離ｄ
４だけシフトする。したがって透過ビームＬＢ６と、図
示しない半導体レーザＬＤ１から射出される反射ビーム
との副走査方向の間隔も距離ｄ４増加する。

【００４０】基準位置からの移動台１０５の移動距離ｄ
４と、透過ビームＬＢ６が副走査方向にずれた距離ｄ４
とはほぼ一致するため、移動台１０５の基準位置からの
移動距離を制御すれば、上記実施の形態１と同様に感光
体ドラム６表面上でのレーザビームの副走査方向の間隔
を目的の値とすることができる。このように半導体レー
ザＬＤ２と二分割センサ１４を一体的に保持する移動台
１０５を直線的に移動しても、簡単な構成で半導体レー
ザＬＤ２と移動台１０５との間の基準位置調整を簡単に
行うことができる。さらにレーザビームの副走査方向の
間隔調整もほぼ同時に行うことができるため調整の手間
を省くことができる。

【００４１】また、上記実施の形態１に比べると折り返
しミラー１６が必要となるが、従来技術に比べると作業
員が外部からドライバーを差し入れて部品の位置の調整
をするスペースを取らない分、装置自体のコンパクト化
を図ることができる。 〈変形例〉以上、本発明に係るマルチビーム光源装置に
ついて、実施の形態１，２に基づき説明してきたが、本
発明はこれら実施の形態に限定されないのは勿論であ
り、例えば、以下のような形態で実施することができ
る。

【００４２】上記実施の形態１では、半導体レーザＬ
Ｄ２の反射ビームＬＢ４のスポットの位置が二分割セン
サ１４のセンサ面の丁度中央に来るように、予め当該半
導体レーザの取付位置を調整してから、光源装置１を装
置本体に組み込むようにしたが、この調整をしなくて
も、反射ビームＬＢ４のスポットが二分割センサ１４の
受光素子１４１ａと１４１ｂに渡るようにさえしておけ
ばよい。

【００４３】この場合におけるビーム間隔調整は、ま
ず、半導体レーザＬＤ２だけを点灯させ、そのときの比
較部２３の出力値を記憶する。次に半導体レーザＬＤ１
だけを点灯させ、このときの比較部２３の出力値が上記
記憶した出力値と等しくなるまで移動台１０１を移動さ
せる。この値が等しくなったときに半導体レーザＬＤ１
からの透過ビームＬＢ１と半導体レーザＬＤ２の反射ビ
ームＬＢ４が一致したと判断し、このときの移動台１０
１の位置を基準位置としてステップＳ１０８の処理を実
行すればよい。

【００４４】なお、ビーム位置検出素子として、上述の
ような二分割センサ１４の代わりにラインＣＣＤセンサ
などを用いてもよい。この場合には、ＣＣＤセンサの出
力に基づき２本のビームの間隔を直接検出することがで
きるので、一旦移動台１０１を基準位置に移動させると
いう処理は不要とすることができる。 上記実施の形態１では、２個の半導体レーザにおける
レーザビームの間隔調整について述べたが、半導体レー
ザが３個以上であっても、移動台を半導体レーザの個数
に合わせて増加させ、他の光学部品に対して相対的に移
動するように構成すれば、複数のレーザビーム間の間隔
調整も可能である。

【００４５】なお、複数のレーザビームを射出する半導
体レーザアレイを２個以上使用してもよい。この場合に
は、まず、各半導体レーザアレイを主走査方向に所定角
度傾けて、個々のアレイから発せられるレーザビーム間
の副走査方向の間隔が所定の値になるように調整すると
共に、上述のように一部の光学部品を移動台に搭載し
て、各アレイから射出される複数のレーザビームのまと
まり同士の位置関係を調整することができる。

【００４６】上記実施の形態１では、副走査方向のレ
ーザビームの間隔調整を組み立て時に行っていたが、さ
らに電源投入時や環境温度の変化にともなって自動調整
させてもよい。このようにすれば、装置の振動や、取付
金具などの熱膨張により、各光学部品の位置がずれて
も、常に被走査面の書き込み画素密度を精度のよい状態
に保つことができる。

【００４７】また、印字密度が変更可能な画像形成装置
に採用される場合には、当該印字密度の変更に合わせて
レーザビームの間隔を変更する場合の調整方法としても
利用できる。

【００４８】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明に係る
マルチビーム光源装置によれば、当該光源装置を形成す
る光学部品の内、全ての光源と合成素子の組合わせを除
き、少なくとも２以上の光学部品を同一の保持部材に保
持し、この保持部材を他の残りの光学部品に対して相対
的に移動させる移動手段を備え、前記検出素子による検
出結果を参照して光ビームの間隔が所定の大きさになる
ように前記移動手段を制御するようにしているので、少
なくとも保持部材に搭載する光学部品については、装置
に組み込む前に光軸合わせなどの調整を実行でき、組み
込み後は制御手段により光ビームの間隔が自動的に制御
される。

【００４９】これにより、従来のように装置に組み込ん
だ後の面倒な微調整が不要になり組立効率を向上させる
ことができる。また、組み込み後に外部から調整具を挿
入して微調整するスペースを装置本体に設ける必要がな
いので、当該装置の設計の自由度が増すと共に組み込ま
れた装置本体の小型化も図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１に係るマルチビーム走査
装置の全体構成を示す斜視図である。

【図２】上記マルチビーム走査装置に用いられる光源装
置の斜視図である。

【図３】上記光源装置の側面図である。

【図４】上記光源装置におけるレーザビーム間の調整の
制御を行う制御ブロック図である。

【図５】上記マルチビーム走査装置におけるレーザビー
ムの副走査方向の間隔制御の内容を示すフローチャート
である。

【図６】上記光源装置のレーザビームの副走査方向の間
隔の調整を説明するための図である。

【図７】レーザビームの副走査方向の位置を検出するた
めの二分割センサを説明するための図である。

【図８】本発明の実施の形態２に係る光源装置の側面図
である。

【図９】本発明の実施の形態２に係る光源装置のレーザ
ビームの副走査方向の間隔の調整を説明するための図で
ある。

【符号の説明】

１ 光源装置 １０ マルチビーム走査装置 １１ ハーフミラー １２ コリメータレンズ １３ 集光レンズ １４ 二分割センサ １５ ステッピングモータ ２０ ビーム間隔制御部 ２３ 比較部 １００ 基台 １０１ 移動台 １０２，１０３ レール １４１ａ，１４１ｂ 受光素子 ＬＢ１，ＬＢ２ 半導体レーザ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学部品として、複数の光源と、各光源
   から射出される光ビームを合成する合成素子と、当該合
   成された光ビームのビーム位置を検出するための検出素
   子とを有し、複数の光ビームを間隔をおいて射出するマ
   ルチビーム光源装置であって、 前記光学部品の内、全ての光源と合成素子を含む組合わ
   せを除き、少なくとも２以上の光学部品を保持する保持
   部材と、 前記保持部材を他の残りの光学部品に対して相対的に移
   動させる移動手段と、前記検出素子による検出結果を参
   照して、光ビームが所定の間隔になるように前記移動手
   段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするマル
   チビーム光源装置。
2. 【請求項２】 前記移動手段は、前記保持部材を、合成
   された光ビームの間隔が変化する方向に直線的に移動さ
   せることを特徴とする請求項１記載のマルチビーム光源
   装置。
3. 【請求項３】 副走査方向に所定の間隔を有する複数の
   光ビームにより、被走査面を走査するマルチビーム走査
   装置であって、光源として請求項１または２記載のマル
   チビーム光源装置を使用したことを特徴とするマルチビ
   ーム走査装置。