FR2993707A1 - Electrode supportee transparente pour oled - Google Patents
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Abstract
La présente invention concerne une électrode pour diode électroluminescente organique, comprenant successivement, (a) un substrat non conducteur (1), transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6, (b) une couche d'électrode transparente (2), formée d'un oxyde conducteur transparent ou d'un polymère organique conducteur transparent, et (c) un réseau continu de lignes métalliques (3), déposé par évaporation sous vide sur la couche d'électrode transparente (2), caractérisée par le fait qu'elle comporte en outre (d) au moins un moyen de diffusion de la lumière choisi parmi une couche translucide diffusante (4) ayant un indice de réfraction compris entre 1,7 et 2,4, située entre le substrat non conducteur (1) et la couche d'électrode (2), et une couche translucide diffusante (5) ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à celui du substrat non conducteur (1), située sur la face du substrat non conducteur (1) qui n'est pas tournée vers la couche d'électrode transparente (2), et par le fait que le réseau continu de lignes métalliques (3) est constitué, au moins au niveau de l'interface de contact avec l'électrode transparente (2), d'un métal ou alliage métallique ayant une réflectivité au moins égale à 80 % sur au moins une partie du spectre de la lumière visible.
Description
ELECTRODE SUPPORTEE TRANSPARENTE POUR OLED La présente invention concerne une électrode supportée destinée à 5 être utilisée, de préférence en tant qu'anode, dans une diode électroluminescente organique. Une diode électroluminescente organique (OLED, de l'anglais Organic Light Emitting Diode) est un dispositif opto-électronique comportant deux électrodes dont une au moins est transparente à la lumière visible, et un 10 empilement de couches minces comportant au moins une couche émettrice de lumière (couche EL). Cette couche émettrice de lumière est prise en sandwich au moins entre, d'une part, une couche d'injection ou de transport d'électrons (EIL ou ETL) située entre la couche EL et la cathode et, d'autre part, une couche d'injection ou de transport de trous (HIL ou HTL) située entre la 15 couche EL et l'anode. Les OLED comportant un support d'électrode transparent et une électrode transparente en contact avec celui-ci sont classiquement appelées OLED à émission à travers le substrat ou OLED à émission vers le bas (bottom emitting OLED). L'électrode transparente est dans ce cas typiquement l'anode. 20 De façon analogue, les OLED comportant un support d'électrode opaque sont appelées OLED à émission vers le haut (top emitting OLED), l'émission se faisant alors à travers l'électrode transparente qui n'est pas en contact avec le support, généralement la cathode. Au-delà d'un seuil de potentiel donné, la puissance lumineuse d'une 25 OLED dépend directement de la différence de potentiel entre l'anode et la cathode. Pour fabriquer des OLED de grande taille présentant une puissance lumineuse homogène sur toute leur surface, il est nécessaire de limiter le plus possible la chute ohmique entre les arrivées de courant, généralement situées en bordure des OLED, et le centre de l'OLED. Une voie connue pour limiter 30 cette chute ohmique est la réduction de la résistance par carré (RE ou R' de l'anglais sheet resistance) des électrodes, typiquement par augmentation de leur épaisseur. Une telle augmentation de l'épaisseur des électrodes pose toutefois d'importants problèmes lorsqu'il s'agit d'électrodes transparentes. En effet, les matériaux utilisés pour ces électrodes, par exemple l'ITO (Indium Tin Oxide), présentent une transmission lumineuse insuffisante et un coût prohibitif qui font que des épaisseurs supérieures à 500 nm sont très peu intéressantes. En pratique, les couches d'ITO ne dépassent pas environ 150 nm.
Il est bien connu de réduire ou surmonter ce problème de la conductivité insuffisante de l'ITO en doublant l'anode d'une grille métallique. Le matériau de choix pour la formation d'une telle grille est bien entendu l'aluminium, un métal de faible coût présentant une conductivité élevée. L'aluminium pose toutefois un problème de formation de monticules (en anglais hiliock formation) par migration thermique des atomes vers la surface des couches. Ce phénomène est à l'origine de défauts de fiabilité des dispositifs électroniques. Bien que les mécanismes de formation de ces monticules ne soient pas encore bien élucidés, un remède courant consiste à encadrer une couche d'aluminium par deux couches minces d'un autre métal, typiquement du molybdène (voir par exemple l'article Effect of Capping Layer on Hillock Formation in Thin Al Films, dans Metals and Materials International, Vol. 14, numéro 2 (2008), pages 147 - 150). Les grilles métalliques à triple couche Mo-Al-Mo ou Cr-Al-Cr (grilles MAM) sont ainsi communément utilisées pour limiter la résistivité des anodes transparentes en ITO dans des dispositifs électro-optiques tels que des OLED (US 2006/0154550, US 2010/0079062). L'utilisation de telles grilles MAM pose toutefois un problème considérable dans des OLED comportant des moyens d'extraction de la lumière situés à l'extérieur de l'anode transparente. De tels moyens, bien connus dans la technique, servent en effet à limiter le phénomène de piégeage de la lumière émise dans les couches à haut indice des OLED (couches organiques ETL/EL/HTL et anode transparente). Il s'agit généralement d'un émail à haut indice contenant des éléments diffusants ou d'une interface rugueuse diffusante, situés entre l'anode et le substrat. Un phénomène analogue de piégeage de la lumière dans le substrat existe à l'interface verre/air et peut être limité par un moyen identique, à savoir une couche ou une interface diffusante. Lorsque la couche ou l'interface diffusante se trouve entre l'anode et le substrat, on parle généralement de couche d'extraction interne (IEL, internai extraction layer), tandis qu'un moyen diffusant (couche ou interface diffusante) situé à l'extérieur du substrat est appelé couche d'extraction externe (EEL, external extraction layer). Les centres diffusants de ces IEL ou EEL, en déviant les rayons lumineux à faible angle d'incidence, leur permettent de sortir du « guide d'onde » où ils sont piégés. Ils sont déviés soit directement vers l'extérieur de l'OLED, soit vers l'intérieur puis réfléchis par la cathode métallique avant de sortir de l'OLED. Dans ses recherches visant à optimiser toujours davantage l'efficacité lumineuse des OLED, la Demanderesse s'est aperçue que l'utilisation d'une grille MAM pour augmenter la conductivité de l'anode avait un effet néfaste sur le rendement lumineux global d'une OLED comportant une IEL ou EEL. La figure 1 montre l'évolution simulée de l'efficacité d'extraction dans l'air d'une OLED avec IEL et d'une OLED sans IEL, en fonction du taux d'occultation de la surface active de l'anode par la grille métallique MAM. La surface active de l'anode est la zone soumise au champ électrique créé par le potentiel entre les deux électrodes (= zone de recouvrance entre les deux électrodes planes de l'OLED). L'efficacité d'extraction dans l'air est le rapport du flux énergétique parvenant à l'extérieur de l'OLED au flux énergétique émis par la surface émettrice, cette dernière étant égale à la surface active non occultée par la grille métallique. Dans la figure 1, cette efficacité d'extraction dans l'air a été fixée arbitrairement à 100 % pour l'OLED avec une couche IEL, et aussi à 100 % pour une OLED sans IEL, bien qu'elle soit en valeur absolue inférieure à la première. Le modèle de simulation ayant permis d'obtenir ces courbes a été établi avec les données suivantes : - Substrat en verre parfaitement transparent, n = 1,5, épaisseur 0,7 mm, - IEL, n = 1,91, coefficient d'absorption 1 mm-1, épaisseur 10 grn, - Anode en ITO, n = 2,0, épaisseur 110 nm, - Grille d'un métal caractérisé par son spectre de réflectivité en fonction de l'angle d'incidence et de la longueur d'onde, - Empilement de couches organiques, n = 1,9, coefficient d'absorption 150 mm-1, épaisseur 1 grn, avec source de lumière située au centre de l'empilement, Cathode en aluminium, caractérisée par son spectre de réflectivité en fonction de l'angle d'incidence et de la longueur d'onde. On constate qu'en l'absence d'IEL l'efficacité d'extraction dans l'air diminue très faiblement en fonction du taux d'occultation de l'anode par la grille MAM. On passe d'une efficacité de 100 % pour un taux d'occultation nul à environ 98 % pour un taux d'occultation de 40 'Vo. Cette faible diminution de 2 % seulement est attribuée à l'absorption, par le molybdène, des rayons lumineux réfléchis par l'interface substrat/air. En présence d'une IEL, l'efficacité d'extraction diminue plus fortement.
Elle est de 5 % pour un taux d'occultation de seulement 10 'Vo. L'IEL semble amplifier l'absorption de la lumière par la grille d'électrode. L'homme du métier se trouve ainsi devant le dilemme d'avoir à choisir entre une bonne efficacité d'extraction (à faible taux d'occultation) et une homogénéité d'éclairage satisfaisante (à plus fort taux d'occultation).
La présente invention permet à l'homme du métier de sortir de ce dilemme. La Demanderesse a en effet découvert qu'en couvrant ou en remplaçant le molybdène ou le chrome des grilles MAM par un métal à réflectivité élevée, il était possible non seulement de ne pas réduire l'efficacité d'extraction mais de l'augmenter significativement.
La présente invention a par conséquent pour objet une électrode pour diode électroluminescente organique, comprenant successivement, (a) un substrat non conducteur, transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6, (b) une couche d'électrode transparente ou translucide, formée d'un oxyde conducteur transparent ou translucide ou d'un polymère organique conducteur transparent ou translucide, et (c) un réseau continu de lignes métalliques, déposé par évaporation sous vide sur la couche d'électrode transparente, caractérisé par le fait qu'elle comporte en outre (d) au moins un moyen de diffusion de la lumière choisi parmi une couche translucide diffusante ayant un indice de réfraction compris entre 1,7 et 2,4, située entre le substrat non conducteur (a) et la couche d'électrode, une couche translucide diffusante ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à celui du substrat non conducteur, située sur la face du substrat non conducteur qui n'est pas tournée vers la couche d'électrode, et par le fait que le réseau continu de lignes métalliques est constitué, au moins au niveau de l'interface de contact avec la couche d'électrode, d'un métal ou alliage métallique ayant une réflectivité au moins égale à 80 % sur au moins une partie du spectre de la lumière visible. L'invention a également pour objet une OLED comportant une telle électrode, de préférence en tant qu'anode.
Dans un mode de réalisation préféré de l'invention le métal ou alliage métallique au niveau de l'interface de la grille avec la couche d'électrode transparente ou translucide est choisi parmi l'argent, l'aluminium et les alliages à base d'argent ou d'aluminium ayant une réflectivité moyenne de la lumière visible (400 - 700 nm) au moins égale à 80 % Toutefois, bien que l'argent et l'aluminium et les alliages à base de ces métaux soient des matériaux particulièrement préférés pour former la grille de l'électrode, ils peuvent, dans certains cas particuliers être remplacés par d'autres métaux. En effet, l'argent et l'aluminium se caractérisent par une réflectivité élevée sur tout le spectre (400 - 700 nm) qui est appropriée pour des OLEDs blanches. Or, lorsque l'OLED émet une lumière rouge, il peut-être intéressant d'utiliser du cuivre ou des alliages à base de cuivre qui présentent une réflectivité élevée en particulier pour la lumière rouge. De manière analogue, lorsque l'OLED émet de la lumière bleue le zinc et des alliages de zinc peuvent être utilisés avantageusement.
Les avantages de l'utilisation d'un métal à haute réflectivité au niveau de l'interface de contact entre la grille métallique et l'anode sont illustrés à la figure 2. Ce graphique reprend, pour comparaison, les deux courbes de la figure 1 et représente en outre l'évolution simulée de l'efficacité d'extraction pour une OLED avec IEL où le molybdène (réflectivité = 35 % ) , au niveau de l'interface de contact avec l'anode transparente, est remplacé par de l'argent (réflectivité = 95 %). On constate que, de façon surprenante, l'efficacité d'extraction dans l'air augmente avec le taux d'occultation de l'anode. Pour un taux d'occultation de 10 %, l'efficacité d'extraction dans l'air d'une OLED selon l'invention atteint 103 % alors qu'elle est limitée à 95 % pour une OLED comparative avec une grille MAM (Mo-Al-Mo), ce qui représente un gain d'efficacité de plus de 8 %. Grâce à la présente invention, l'homme du métier est ainsi libre d'augmenter le taux d'occultation de l'anode, sans risquer une dégradation de l'efficacité d'extraction dans l'air de l'OLED. Cela présente un intérêt pour la fabrication d'OLEDs de grande taille. En effet, un taux d'occultation faible, par exemple inférieur à 5 %, est satisfaisant pour l'obtention de résistances par carré (R^) de l'ordre de 2 ohms ou plus, qui permettent la fabrication d'OLEDs à luminosité homogène ayant des dimensions allant jusqu'à environ 50 - 100 mm. Par contre, pour des OLEDs plus grandes, il est nécessaire d'abaisser la RE de l'anode composite (ITO + grille) à des valeurs inférieures ou égales à 1 ohm, en augmentant les taux d'occultation à des valeurs supérieures à 10 'Vo. Si un abaissement de la RE par augmentation de l'épaisseur de la grille est 15 envisageable pour des techniques d'impression utilisant des pâtes de particules métalliques (pâtes d'argent), il ne l'est pas pour des dépôts par évaporation sous vide. En effet pour cette technique, utilisée dans la présente invention, le coût d'un revêtement devient prohibitif à partir d'environ 1 grn. Le taux d'occultation de la zone active de la couche d'électrode 20 transparente par le réseau continu de lignes métalliques est de préférence compris entre 5 et 50 %, en particulier entre 10 et 35 %, et de manière particulièrement préférée entre 15 et 30 'Vo. La présente invention permet ainsi, grâce à l'augmentation des valeurs acceptables pour les taux d'occultation, la fabrication d'OLEDs à luminosité 25 homogène plus grandes et plus efficaces. Les électrodes de la présente invention et les OLEDs fabriquées à partir de celles-ci ont avantageusement des tailles telles que leur dimension la plus faible est supérieure à 10 cm, de préférence supérieure à 15 cm et de manière particulièrement préférée supérieure à 20 cm. 30 L'aire de la surface active des OLEDs de la présente invention est de préférence comprise entre 0,02 et 1 m2, en particulier entre 0,05 et 0,5 m2. Le gain d'efficacité observé présente en outre l'avantage suivant: Lorsque le taux d'occultation de la zone active d'une OLED augmente, la surface émettrice et la luminosité de l'OLED diminuent. Ceci est vrai quelle que soit la nature du métal de la grille de l'électrode. Les fabricants, pour compenser cette perte de luminosité due à la réduction de la surface émettrice, pourraient augmenter l'intensité du courant entre les deux électrodes. Ceci se traduirait toutefois par une diminution fortement indésirable de la durée de vie des OLED. En effet, la durée de vie des composés organiques fluorescents ou phosphorescents des couches émettrices est d'autant plus courte que ces composés sont traversés par de forts courants électriques. On admet généralement qu'elle est divisée par trois lorsque l'intensité du courant électrique les traversant double. L'utilisation d'une électrode selon l'invention limite avantageusement cette perte de durée de vie. Ainsi, pour une OLED selon l'état de la technique avec IEL et grille MAM, un taux d'occultation de 20 % entraînant une diminution de la luminosité d'environ 25 %, compensée par une augmentation correspondante de la tension appliquée, se traduirait par une diminution de la durée de vie de l'OLED estimée à 30 'Vo. Pour une OLED selon l'invention, un taux d'occultation de 20 % entraînant une diminution de la luminosité d'environ 15 %, compensée par une augmentation correspondante de la tension, se traduirait par une diminution de la durée de vie de 20 seulement. Dans mode de réalisation préféré, de la présente invention, l'électrode pour OLED comprend successivement, (a) un substrat non conducteur, transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6, (d) une couche translucide diffusante (IEL) ayant un indice de réfraction compris entre 1,7 et 2,4, (b) une couche d'électrode transparente, formée d'un oxyde conducteur transparent ou d'un polymère organique conducteur transparent, et (c) un réseau continu de lignes métalliques en contact avec la couche d'électrode transparente. Le réseau de lignes métalliques peut bien entendu être constitué totalement d'argent, d'aluminium ou d'un alliage à base d'un de ces métaux. Ces deux métaux ont en effet une conductivité et réflectivité telles qu'ils rempliraient parfaitement leur rôle.
L'argent est toutefois un métal d'un coût élevé et il est souhaitable de limiter les quantités utilisées. Dans la présente invention, lorsque le réseau continu de lignes métalliques contient de l'argent ou un alliage à base d'argent, cet argent se trouve de préférence sous forme d'une première couche, en contact avec l'électrode transparente, ayant une épaisseur comprise entre 30 et 100 nm. Sur cette première couche, est déposée avantageusement une deuxième couche d'aluminium, ayant une épaisseur comprise entre 100 et 500 nm. L'utilisation d'une grille constituée uniquement d'aluminium n'est pas 10 non plus recommandée car l'aluminium présente des problèmes d'électromigration et/ou de migration thermique et est classiquement associé à d'autres couches métalliques, comme déjà expliqué en introduction. Dans un autre mode de réalisation intéressant de la présente invention, le réseau de lignes métalliques comporte une structure MAM selon 15 l'état de la technique, à savoir une structure à trois couches Mo-Al-Mo ou Cr- Al-Cr, une couche en argent ou à base d'argent suffisamment épaisse étant insérée entre la structure MAM et l'anode transparente. On considère que cette couche d'argent est suffisamment épaisse lorsqu'elle a une épaisseur comprise entre 30 et 100 nm, de préférence entre 50 et 90 nm. 20 Les couches diffusantes situées entre le substrat non conducteur et l'anode sont connues dans la technique et sont décrites par exemple dans EP2178343 et W02011/089343. De manière connue, l'indice de réfraction de l'émail est de préférence supérieur ou égal à l'indice de réfraction de l'anode transparente, et l'indice de réfraction des particules diffusantes est de 25 préférence supérieur à celui de l'émail. Bien que la nature chimique des particules diffusantes ne soit pas particulièrement limitée, elles sont de préférence choisies parmi les particules de TiO2 et de 902. Pour une efficacité d'extraction optimale, elles sont présentes dans le moyen de diffusion de la lumière en une concentration 30 comprise entre 104 et 107 particules/mm2. Plus la taille des particules est importante, plus leur concentration optimale est située vers la limite inférieure de cette fourchette. La couche d'émail diffusante a généralement une épaisseur comprise entre 1 gm et 100 gm, en particulier entre 2 et 50 gm, et de manière particulièrement préférée entre 5 et 30grn. Les particules diffusantes dispersées dans cet émail ont de préférence un diamètre moyen, déterminé par DLS (dynamic light scattering), compris entre 0,05 et 5 grn, en particulier entre 0,1 et 3 grn.
Le moyen d'extraction de la lumière peut également être situé sur la face extérieure du substrat, c'est-à-dire la face qui sera opposée à celle tournée vers l'anode. Il peut s'agir d'un réseau de microlentilles ou de micropyramides tel que décrit dans l'article dans Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 46, n° 7A, pages 4125-4137 (2007) ou bien d'un satinage, par exemple un satinage par dépoli à l'acide fluorhydrique. Pour l'anode on peut en principe utiliser n'importe quel matériau conducteur transparent ou translucide présentant un indice de réfraction suffisamment élevé, proche de l'indice moyen de l'empilement HTL/EL/ETL. On peut citer à titre d'exemple de tels matériaux les oxydes conducteurs transparents tels que l'oxyde de zinc dopé à l'aluminium (AZO), l'oxyde d'étain dopé à l'indium (ITO) ou le dioxyde d'étain (Sn02). Ces matériaux ont avantageusement un coefficient d'absorption très inférieur à celui des matériaux organiques formant l'empilement HTL/EL/ITL, de préférence un coefficient d'absorption inférieur à 0,005, en particulier inférieur à 0,0005.
La couche d'anode peut avoir une structure de type multicouche, comportant par exemple, sur une couche de base relativement épaisse, une couche superficielle plus mince, destinée à améliorer l'adhésion de la grille métallique sur l'anode. Cette mince couche peut être une couche métallique, par exemple à base de Ti, Ni ou Cr. Pour que l'anode conserve son caractère transparent, l'épaisseur de cette couche ne doit pas excéder environ 5 nm, de préférence 2 nm (absorption inférieure à 5 %). L'épaisseur globale de la couche d'anode en oxyde conducteur transparent est typiquement comprise entre 50 et 200 nm. Lorsque l'oxyde conducteur transparent n'est pas l'ITO, il est 30 généralement recommandé de recouvrir la couche d'anode d'une mince couche supplémentaire présentant un travail de sortie plus élevé, par exemple une couche de ITO, de Mo03, WO3ou de V205. Les techniques de dépôt de ces oxydes telles que la pulvérisation cathodique, le dépôt sous vide par magnétron, les procédés sol-gel ou la pyrolyse, n'aboutissent généralement pas à des couches suffisamment lisses pour une application en tant qu'électrode d'OLED. Il sera par conséquent généralement nécessaire de procéder, après dépôt, à une étape de polissage. Le PEDOT (poly(3,4-éthylènedioxythiophène)) est un polymère organique conducteur électrique connu qui pourrait constituer une alternative intéressante aux oxydes conducteurs mentionnés ci-dessus, à condition d'ajuster son indice de réfraction par exemple par incorporation de nanoparticules d'un oxyde à indice élevé, tel que l'oxyde de titane. La possibilité de déposer ce polymère sous forme liquide permet en effet d'aboutir à des couches d'un lissé de surface suffisant, qui pourrait rendre superflue l'étape de polissage. Le réseau continu de lignes métalliques est avantageusement couvert d'une couche de passivation en polymère organique, typiquement en polyimide, qui sert principalement à prévenir les courts-circuits entre ces lignes conductrices saillantes et la cathode séparées par l'empilement très fin des couches organiques HTL/EL/ETL. La figure 3 représente de manière très schématique une électrode supportée selon l'invention en coupe transversale. Cette électrode comporte un substrat non conducteur 1 essentiellement transparent, couvert sur chacune de ses deux faces principales d'une couche diffusante transparente 4,5. La couche diffusante 5 située au niveau de l'interface avec l'air est appelée couche d'extraction externe (EEL), tandis que la couche diffusante 4, située sur la face tournée vers l'intérieur de l'OLED est appelée couche d'extraction interne (IEL). Une couche d'électrode transparente 2 couvre l'IEL 4. Un réseau continu de lignes métalliques 3 est déposé à la surface de la couche d'électrode transparente. Ce réseau de lignes métalliques 3 est constitué, au moins au niveau de son interface avec l'électrode transparente 2, d'un métal ou d'un alliage ayant une réflectivité moyenne de la lumière visible au moins égale à 80 %.30
Claims (10)
- REVENDICATIONS1. Electrode pour diode électroluminescente organique, comprenant 5 successivement, (a) un substrat non conducteur (1), transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6, (b) une couche d'électrode transparente ou translucide (2), formée d'un oxyde conducteur transparent ou translucide ou d'un polymère organique 10 conducteur transparent ou translucide, et (c) un réseau continu de lignes métalliques (3), déposé par évaporation sous vide sur la couche d'électrode transparente (2), caractérisé par le fait qu'elle comporte en outre (d) au moins un moyen de diffusion de la lumière choisi parmi 15 une couche translucide diffusante (4) ayant un indice de réfraction compris entre 1,7 et 2,4, située entre le substrat non conducteur (1) et la couche d'électrode (2), une couche translucide diffusante (5) ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à celui du substrat non conducteur (1), située sur la 20 face du substrat non conducteur (1) qui n'est pas tournée vers la couche d'électrode transparente (2), et par le fait que le réseau continu de lignes métalliques (3) est constitué, au moins au niveau de l'interface de contact avec la couche d'électrode (2), d'un métal ou alliage métallique ayant une réflectivité au moins égale à 80 % sur 25 au moins une partie du spectre de la lumière visible.
- 2. Electrode selon la revendication 1, caractérisé par le fait que le métal ou alliage métallique au niveau de l'interface de la grille avec la couche d'électrode (2) est choisi parmi l'argent, l'aluminium et les alliages à base d'argent ou d'aluminium ayant une réflectivité moyenne de la lumière visible 30 au moins égale à 80 'Vo.
- 3. Electrode selon la revendication 1 ou 2, caractérisée par le fait qu'elle comprend successivement, (a) un substrat non conducteur (1), transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6,(d) une couche translucide diffusante (4) ayant un indice de réfraction compris entre 1,7 et 2,4, (b) une couche d'électrode transparente ou translucide (2), formée d'un oxyde conducteur transparent ou translucide ou d'un polymère organique conducteur transparent ou translucide, et (c) un réseau continu de lignes métalliques (3) en contact avec la couche d'électrode (2).
- 4. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que le réseau continu de lignes métalliques (3) comporte une première couche, en contact avec la couche d'électrode (2), constituée d'argent ou d'un alliage à base d'argent, d'une épaisseur comprise entre 30 et 100 nm, et, sur cette première couche, une deuxième couche constitué d'aluminium, d'une épaisseur comprise entre 100 et 500 nm.
- 5. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, 15 caractérisée par le fait que le taux d'occultation de la zone active de la couche d'électrode (2) par le réseau continu de lignes métalliques (3) est compris entre 5 et 50%, de préférence entre 10 et 35%, en particulier entre 15 et 30 %.
- 6. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, 20 caractérisée par le fait que le réseau continu de lignes métalliques (3) est couvert d'une couche de passivation.
- 7. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que la couche d'électrode transparente ou translucide (2) est une couche d'anode et présente une épaisseur comprise entre 50 et 25 200 nm.
- 8. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que la couche translucide diffusante (4,5) contient des particules diffusantes en une quantité comprise entre 104 à 107 particules/mm2 de surface d'électrode. 30
- 9. Diode électroluminescente organique comprenant une électrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, de préférence en tant qu'anode.
- 10. Diode électroluminescente organique selon la revendication 8, caractérisée par le fait que l'aire de la surface active est comprise entre 0,02 2 2 35 et 1 m2, en particulier entre 0,05 met 0,5 m.
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