ES2683395T3

ES2683395T3 - Acristalamiento de control solar

Info

Publication number: ES2683395T3
Application number: ES13715283.1T
Authority: ES
Inventors: Laura Jane Singh; Augustin PALACIOS-LALOY; Etienne Sandre-Chardonnal
Original assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Current assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Priority date: 2012-03-21
Filing date: 2013-03-08
Publication date: 2018-09-26
Anticipated expiration: 2033-03-08
Also published as: EP2828215B1; US20150070755A1; MX352463B; JP2015519275A; AU2013237314B2; KR20140148380A; CN104203856A; EA028233B1; FR2988387A1; PT2828215T; EP2828215A1; PL2828215T3; MX2014010912A; FR2988387B1; EA201491733A1; IN2014DN06793A; WO2013140061A1; AU2013237314A1; BR112014021526B1

Abstract

Acristalamiento de control solar que comprende un sustrato de vidrio dotado, en una de sus caras, de un apilamiento de capas de función antisolar, en donde el apilamiento comprende la secuencia de las siguientes capas, a partir de la superficie del sustrato de vidrio: - una capa inferior de protección de las capas superiores contra la migración de los iones alcalinos provenientes del sustrato de vidrio, de espesor comprendido entre 25 y 100 nm; - una capa de un óxido mixto de indio y estaño (ITO), de espesor comprendido entre 100 y 250 nm; - una capa superior de protección de la capa de ITO contra el oxígeno del aire, en particular durante un tratamiento térmico tal como un temple o un recocido, siendo la capa superior de un espesor comprendido entre 25 y 100 nm; estando caracterizado dicho acristalamiento porque: - dichas capas superior e inferior están constituidas esencialmente por un material dieléctrico seleccionado de un nitruro de silicio, un nitruro de aluminio o su mezcla; - capas intermedias hechas de un metal que comprende cromo, eventualmente parcial o completamente oxidadas y/o nitruradas, se colocan a cada lado de y en contacto con dicha capa de ITO, estando comprendido el espesor de dichas capas intermedias entre 0,5 y 3 nanómetros.

Description

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Acristalamiento de control solar

La invencion se refiere al ambito de los sustratos o artfculos de vidrio, en particular de tipo acristalamiento de edificios o automoviles, que comprende, en su superficie, revestimientos obtenidos por el apilamiento de una secuencia de capas delgadas, que les confiere propiedades de control solar, en particular propiedades de proteccion solar. Por acristalamiento se entiende, en el sentido de la presente invencion, cualquier producto de vidrio compuesto por uno o mas sustratos de vidrio, en particular, acristalamientos simples, acristalamientos dobles, acristalamientos triples, y similares. Por antisolar se entiende, en el sentido de la presente invencion, la capacidad del acristalamiento de limitar selectivamente el flujo energetico, en particular la radiacion infrarroja (IR) proveniente de la radiacion solar, que lo atraviesa desde el exterior hacia el interior de la vivienda o habitaculo, al tiempo que conserva una transmision luminosa suficiente, es decir, normalmente superior a 40%, incluso 50% o incluso 55%. Mas particularmente, la presente invencion se refiere a acristalamientos dotados de apilamientos cuya capa funcional o activa, es decir, la que confiere a dicho apilamiento la principal de tales propiedades, esta compuesta por un oxido mixto de indio y estano, a menudo denominado ITO en el ambito.

Tales acristalamientos dotados de apilamientos de capas delgadas actuan, por tanto, sobre la radiacion solar y permiten una proteccion solar y/o un aislamiento termico. Estos revestimientos se depositan convencionalmente mediante tecnicas de deposito de tipo CVD para los mas simples o generalmente en la actualidad mediante tecnicas de deposito por pulverizacion al vacfo de un blanco, a menudo denominada magnetron en el ambito, en particular cuando el revestimiento esta constituido por un apilamiento mas complejo de capas sucesivas.

Generalmente, los apilamientos de capas delgadas que tienen propiedades de control solar comprenden una, incluso varias capas activas. Por capa activa se entiende una capa que actua de manera significativa sobre el flujo de la radiacion solar que pasa a traves de dicho acristalamiento. Tal capa activa, de manera conocida, puede funcionar ya sea principalmente en el modo de reflexion de la radiacion infrarroja o principalmente en el modo de absorcion de la radiacion infrarroja.

En particular, los apilamientos mas eficientes comercializados actualmente incorporan al menos una capa metalica de tipo plata que funciona esencialmente en el modo de reflexion de la radiacion IR. Estos apilamientos se consideran generalmente de baja emisividad (low-e en ingles). Sin embargo, estas capas son muy sensibles a la humedad y por tanto se usan exclusivamente en acristalamientos dobles, en la cara 2 o 3 de estos, para ser protegidas de la humedad. Los apilamientos segun la invencion no comprenden tales capas.

Las patentes y solicitudes de patentes de EE.UU. US 5.800.933, EP 456487 A2, EP 560534 A1 y EP 622645 A1 describen apilamientos de capas intermedias de NiCr o de Ni que rodean una capa de plata de baja emisividad. Segun estas publicaciones, el uso de tales capas intermedias permite resolver los problemas de adherencia de la capa metalica de Ag a las capas dielectricas colocadas en cualquier parte del apilamiento, como tambien se indica en la publicacion “Airca Coating Technology, Proceedings of the 2nd Coating Technology Symposium, 12 a 14 de marzo de 1990”.

Otras capas metalicas con funcion de proteccion solar tambien se han descrito en el ambito, que comprenden capas funcionales del tipo Nb, Ta o W o nitruros de estos metales, como se describe por ejemplo en la solicitud WO 01/21540. Sin embargo, dentro de tales capas, la radiacion solar es absorbida esta vez pero no selectivamente, es decir, que la radiacion IR (en particular, la de longitud de onda comprendida entre aproximadamente 780 nm y 2500 nm) y la radiacion visible son tambien absorbidas no selectivamente. Por tanto tales acristalamientos presentan selectividades, como se ilustran por la relacion TL/g, inferiores a, o a lo sumo, aproximadamente 1.

Segun la invencion y convencionalmente, la selectividad es igual a la relacion del factor de transmision luminosa/factor solar g, como se determina segun la norma internacional ISO 9050 (2003).

De forma conocida y convencional, en la relacion anterior, el factor de transmision luminosa (a menudo denominado transmision luminosa Tl) corresponde al porcentaje del flujo luminoso incidente, es decir, en el intervalo de longitudes de onda de 380 a 780 nm, que atraviesa el acristalamiento, segun el iluminante D65 y segun los criterios determinados en la norma internacional ISO 9050 (2003).

De forma conocida, en la relacion anterior el factor solar FS, tambien denominado a menudo g, es igual a la relacion de la energfa que atraviesa el acristalamiento (es decir, que entra en el local) a la energfa solar incidente. Mas particularmente, corresponde a la suma del flujo transmitido directamente a traves del acristalamiento y del flujo absorbido por el acristalamiento (incluyendo en el mismo los apilamientos de capas eventualmente presentes en una de sus superficies) y despues remitidos hacia el interior (el local). El factor solar tambien se determina segun las indicaciones descritas en la norma internacional ISO 9050 (2003).

En general, todas las caracterfsticas luminosas presentadas en la presente descripcion se obtienen segun los principios y metodos descritos en la norma internacional ISO 9050 (2003) relativos a la determinacion de las

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caracterfsticas luminosas y solares de los acristalamientos utilizados en el vidrio para la construccion.

La solicitud de patente de EE.UU. US 2009/0320824 describe alternativamente apilamientos basados en el uso de capas de indio dopado con estano (ITO) como capa barrera a la radiacion infrarroja. Segun esta publicacion, la colocacion de una capa de oxido de silicio SiO2 o de nitruro de silicio Si3N4 por encima de la capa de ITO mejora sustancialmente la durabilidad del apilamiento cuando este se somete a temperaturas que pueden llegar hasta 500°C. Asimismo, se indica que la insercion de una capa de oxido de silicio SiO2 o de nitruro de silicio Si3N4 por debajo de la capa de ITO permite evitar la migracion de los alcalinos desde el sustrato hacia la capa de ITO y por lo tanto su deterioro. El uso de capas de oxido de silicio, con un espesor como mfnimo igual a, pero en la mayorfa de los casos mucho mayor que 100 nm como se indica en esta publicacion, presenta, sin embargo, un problema de rentabilidad economica debido a la velocidad de deposito demasiado baja de la capa de SiO2 por la llamada tecnica de pulverizacion catodica con magnetron. Por tanto, el uso de capas de nitruro de silicio parece preferible desde un punto de vista economico, siendo su velocidad de deposito aproximadamente tres veces mayor que la del oxido de silicio. Sin embargo, como se explicara con mas detalle mas adelante, los estudios de la sociedad solicitante han demostrado que el uso de tales capas que comprenden nitruro, en particular si el acristalamiento dotado del apilamiento tiene que someterse a un tratamiento termico a una temperatura mas alta, se traduce en la aparicion de una turbidez en el acristalamiento, que lo hace inadecuado, en particular, para una utilizacion como acristalamiento en la construccion. Ademas, se ha descubierto que tal apilamiento presenta propiedades de resistencia mecanica manifiestamente insuficientes, en particular con respecto a las rayaduras, como se describira mas adelante en la presente descripcion.

El objetivo principal de la presente invencion es en primer lugar proporcionar acristalamientos que comprenden un apilamiento de capas que les confiere propiedades de control solar, y en particular propiedades de reflexion del infrarrojo de la radiacion solar, pero que presentan una alta selectividad, en el sentido descrito anteriormente, es decir, una relacion TL/g mayor que 1,1 o incluso mayor que 1,2, siendo ademas duradero dicho apilamiento con el tiempo, sin tomar precauciones especfficas.

Otro objetivo de la presente invencion es proporcionar acristalamientos de control solar cuyo apilamiento de capas es capaz, en particular, despues de un tratamiento termico tal como un temple o una flexion, de conservar valores de Tl suficientemente altos para una utilizacion como acristalamiento “claro”, y en particular una Tl del orden de al menos 40%, en particular del orden de al menos 50% e idealmente superior a 55%, sin deterioro significativo de las propiedades de reflexion de la radiacion IR del apilamiento.

Por lo tanto, segun otro aspecto de la presente invencion, un tratamiento termico en el acristalamiento es generalmente necesario para permitir el mejoramiento de las propiedades de reflexion de la radiacion IR de la cara del acristalamiento dotada del apilamiento de capas, medidas por la emisividad normal bn descrita en la norma ISO 10292 (1994), anexo A. De una manera conocida, por ejemplo descrita en la publicacion de referencia “Les techniques de l'ingenieur, Vitrage a isolation thermique renforcee [Las tecnicas del ingeniero, Acristal amiento de aislamiento termico reforzado], C3635 (2004)”, esta propiedad de reflexion es directamente una funcion de la emisividad de la cara del acristalamiento dotada del apilamiento que comprende la capa reflectante en el IR. En particular, de forma conocida, las capas funcionales segun la invencion, del tipo de ITO (Oxido de Indio y Estano, o incluso oxido mixto de indio y de estano), despues de su deposito por pulverizacion catodica, en general tienen que someterse a un tratamiento termico a temperaturas del orden de 620°C durante unos minutos con el fin de mejorar la cristalinidad de las mismas y por lo tanto reducir su emisividad. La invencion proporciona asf acristalamientos cuya emisividad normal bn es minima despues de tal tratamiento termico, en particular inferior a 20% y preferentemente inferior a 15%.

Por supuesto, segun una propiedad esencial para su posible uso, los apilamientos de capas delgadas de los que estan dotados los acristalamientos segun la invencion tambien tienen que ser suficientemente resistentes mecanicamente, en particular si tienen que ser colocados sobre una cara externa del acristalamiento. En particular, deben ser resistentes a las rayaduras que pueden ser provocadas por los distintos medios utilizados para su limpieza.

Finalmente, un acristalamiento segun la invencion permite, por tanto, seleccionar convenientemente la radiacion que lo atraviesa, favoreciendo la transmision de las ondas luminosas, es decir, cuya longitud de onda esta comprendida entre aproximadamente 380 y 780 nm, mientras que refleja selectivamente una parte mas importante de las radiaciones infrarrojas, es decir, cuya longitud de onda es mayor que 780 nm, en particular las radiaciones del infrarrojo cercano, es decir, cuya longitud de onda esta comprendida entre aproximadamente 780 nm y aproximadamente 1400 nm.

Por tanto, segun la invencion es posible mantener una iluminacion intensa de la habitacion o del habitaculo protegido por el acristalamiento minimizando la cantidad de calor que entra en el debido a la radiacion solar en tiempo soleado, cuyo caracter de baja emisividad permite ademas, en tiempo frio, minimizar la perdida de calor a traves del acristalamiento.

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Segun otra ventaja de la presente invencion, tambien son mucho menos sensibles qufmicamente, en particular, a la humedad, y por tanto pueden ser colocados en una cara externa de un acristalamiento multiple o en una de las caras de un acristalamiento simple, en particular su cara 2 (es decir, la orientada hacia el interior).

Mas especfficamente, la presente invencion se refiere a un acristalamiento de control solar que comprende un sustrato de vidrio dotado, en una de sus caras, de un apilamiento de capas con funcion antisolar, en donde el apilamiento comprende la secuencia de las siguientes capas, a partir de la superficie del sustrato de vidrio:

- una capa inferior de proteccion de las capas superiores contra la migracion de los iones alcalinos provenientes del sustrato de vidrio, de espesor comprendido entre 25 y 100 nm, preferiblemente entre 40 y 90 nm;

- una capa de un oxido mixto de indio y estano (ITO), de espesor comprendido entre 100 y 250 nm, preferiblemente entre 100 y 200 nm;

- una capa superior de proteccion de la capa de ITO contra el oxfgeno del aire, en particular durante un tratamiento termico tal como un temple o un recocido, siendo la capa superior de un espesor comprendido entre 25 y 100 nm, preferiblemente entre 40 y 90 nm;

- dichas capas superior e inferior estan constituidas esencialmente por un material dielectrico seleccionado de un nitruro de silicio, un nitruro de aluminio o su mezcla;

- capas intermedias hechas de un metal que comprende cromo, eventualmente parcial o completamente oxidadas y/o nitruradas, se colocan a cada lado de y en contacto con dicha capa de iTo, estando comprendido el espesor de dichas capas intermedias entre 0,5 y 3 nanometros.

Por la expresion “eventualmente parcial o totalmente oxidadas y/o nitruradas” se entiende que las capas intermedias, convencionalmente depositadas inicialmente en forma de capas totalmente metalicas por tecnicas de pulverizacion catodica convencionales, pueden despues potencialmente ser oxidadas o nitruradas, parcial o completamente, bajo el efecto de los diferentes depositos de las capas o tambien de los tratamientos termicos efectuados posteriormente. Por ejemplo, una nitruracion de la capa metalica intermedia es posible segun la invencion cuando una capa nitrurada del apilamiento se deposita posteriormente por pulverizacion reactiva en presencia de nitrogeno, como para el caso del deposito de la capa protectora superior de nitruro de silicio. Del mismo modo, sin apartarse del marco de la invencion, una oxidacion posterior de la capa metalica intermedia es posible durante el deposito con magnetron de la capa de ITO en presencia de oxfgeno o incluso durante un tratamiento termico posterior, despues del deposito del apilamiento completo como se ha indicado anteriormente.

En el sentido de la presente invencion, se entiende por oxido de indio-estano (o tambien oxido de indio dopado con estano o ITO por su denominacion inglesa: Indium tin oxide) un oxido mixto o una mezcla obtenida a partir de los oxidos de indio (III) (In2O3) y de estano (IV) (SnO2), preferiblemente en las proporciones en peso comprendidas entre 70 y 95% para el primer oxido y 5 a 20% para el segundo oxido. Una proporcion en peso tfpica es aproximadamente 90% en peso de In2O3 para aproximadamente el 10% en peso de SnO2.

Segun los modos que han dado buenos rendimientos:

- El espesor de dichas capas intermedias esta comprendido entre 1 y 2,5 nanometros.

- El metal comprende al menos 10% en peso de Cr, preferiblemente al menos 20% en peso de Cr.

- El metal es una aleacion de nfquel y cromo.

- La relacion en peso de Cr/Ni en la aleacion esta comprendida entre 10/90 y 40/60, en particular aproximadamente 20/80.

- Las capas de proteccion inferior y superior estan constituidas esencialmente por un nitruro de silicio, eventualmente dopado por un elemento seleccionado de Al, Zr o B.

- El apilamiento comprende ademas, por encima de la capa superior, una capa de un oxido dielectrico seleccionado de oxido de silicio o un oxido de titanio.

- El espesor de la capa de oxido dielectrico esta comprendido entre 1 y 15 nanometros, preferiblemente aun entre 2 y 10 nanometros.

A modo de ejemplo, un acristalamiento de control solar preferido segun la invencion comprende un apilamiento constituido por de la secuencia de las siguientes capas, a partir de la superficie del sustrato de vidrio:

- una capa inferior constituida esencialmente por nitruro de silicio y que comprende eventualmente aluminio, de espesor comprendido entre 30 y 100 nm, preferiblemente entre 40 y 90 nm;

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- una primera capa intermedia de una aleacion de nfquel y de cromo, eventualmente parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, de espesor comprendido entre 0,5 y 3 nm, preferiblemente entre 1 y 2,5 nm;

- una capa de ITO de espesor comprendido entre 100 y 250 nm;

- una segunda capa intermedia de una aleacion de nfquel y de cromo, eventualmente parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, de espesor comprendido entre 0,5 y 3 nm, preferiblemente entre 1 y 2,5 nm;

- una capa superior constituida esencialmente por nitruro de silicio y que comprende eventualmente aluminio, de espesor comprendido entre 30 y 100 nm.

Preferiblemente, el apilamiento anterior comprende ademas, por encima de la capa superior, una capa de un oxido dielectrico seleccionado de oxido de silicio o un oxido de titanio, de espesor comprendido entre 1 y 10 nm.

Los ejemplos siguientes se dan unicamente a modo de ilustracion y no limitan, bajo cualquiera de los aspectos descritos, el alcance de la presente invencion. Para fines de comparacion, todos los apilamientos de los siguientes ejemplos se sintetizan sobre sustratos de vidrio simples. Todas las capas de los apilamientos se han depositado segun las tecnicas convencionales de depositos a vacfo por pulverizacion con magnetron.

Ejemplo 1:

En este ejemplo segun la invencion, se ha depositado una secuencia de capas, segun tecnicas de magnetron convencionales, para la obtencion de un apilamiento constituido por la siguiente secuencia de capas:

Vidrio: /Si3N4 /NiCr /ITO /NiCr /Si3N4

: (56 nm) (1 nm) (175 nm) (1 nm) (70 nm)

El apilamiento se deposita sobre un sustrato constituido por una hoja de vidrio, comercializada por la sociedad Saint- Gobain Glass France bajo la referencia Parsol H®, cuya transmision luminosa inicial es igual a 0,74 y el factor g es igual a 0,60.

Mas especfficamente y de acuerdo con las tecnicas habituales en el ambito, las capas sucesivas se depositan en los compartimentos especfficos y sucesivos del dispositivo de pulverizacion catodica, estando dotado especfficamente cada compartimento, segun la capa a depositar, de una atmosfera y de blancos de Si metalico, de una aleacion de nfquel/cromo de relacion ajustada o de ITO.

Las capas de nitruro de silicio (a menudo representadas por Si3N4 en las formulaciones adjuntas por conveniencia, incluso si esta estequiometrfa no se considera necesariamente) se depositan en un primer compartimento del dispositivo a partir de un blanco de silicio metalico dopado con 8% en peso de aluminio, en una atmosfera reactiva que contiene argon y nitrogeno segun los procesos y las condiciones de operacion bien conocidos en el ambito. Las capas de Si3N4 contienen por tanto una pequena cantidad de aluminio.

Las capas metalicas de NiCr se obtienen por pulverizacion de un blanco de aleacion de NiCr (80% en peso de Ni y 20% en peso de Cr) con un plasma constituido exclusivamente por argon, segun los procesos y las condiciones de operacion bien conocidos en el ambito.

Las capas de ITO se obtienen por pulverizacion de un blanco (90% en peso de oxido de indio y 10% en peso de oxido de estano) en una atmosfera que contiene esencialmente argon y una pequena parte de oxfgeno, segun los procesos y las condiciones de operacion bien conocidos en el ambito.

El sustrato dotado de su apilamiento se sometio despues a un tratamiento termico que consiste en calentamiento a 620°C durante 8 minutos, seguido de un temple.

Los factores Tl y g se miden en el acristalamiento segun la invencion con el fin de determinar la selectividad del mismo.

La emisividad en incidencia normal bn tambien se mide en la cara interna del sustrato recubierto con el apilamiento de capas, segun las condiciones descritas en la norma ISO 10292 (1994), anexo A.

Ejemplo 2 (comparativo):

Segun esta realizacion, se ha procedido de manera identica al ejemplo 1 en el mismo dispositivo y segun los mismos procesos y se ha obtenido un apilamiento sustancialmente identico, con la excepcion de que las capas de NiCr no se

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Vidrio: /Si3N4 /ITO/ Si3N4

: (56 nm) (175 nm) (70 nm)

Se han medido los factores Tl, g y sn en este acristalamiento en las mismas condiciones indicadas anteriormente. Ejemplo 3 (segun la invencion):

En este ejemplo, se ha procedido de una manera identica al ejemplo 1 y se ha obtenido un apilamiento sustancialmente identico, excepto que las capas de NiCr presentan un espesor de 1,6 nm. Por tanto, el apilamiento esta constituido por la siguiente secuencia de capas:

Vidrio /Si3N4 /NiCr /ITO /NiCr /Si3N4

(56 nm) (1,6 nm) (175 nm) (1,6 nm) (70 nm)

Se han medido los factores Tl, g y sn en este acristalamiento en las mismas condiciones indicadas anteriormente. Ejemplo 4 (segun la invencion):

En este ejemplo, se ha procedido de una manera identica al ejemplo 1 y se ha obtenido un apilamiento sustancialmente identico, excepto que las capas de NiCr presentan un espesor de 2,5 nm. Por tanto, el apilamiento esta constituido por la siguiente secuencia de capas:

Vidrio /Si3N4 /NiCr /ITO /NiCr /Si3N

(56 nm) (2,5 nm) (175 nm) (2,5 nm) (70 nm)

Se han medido los factores Tl, g y sn en este acristalamiento en las mismas condiciones indicadas anteriormente. Ejemplo 5 (comparativo):

En este ejemplo, se ha procedido de una manera identica al ejemplo 1 y se ha otenido un apilamiento sustancialmente identico, excepto que las capas de NiCr presentan un espesor de 4,0 nm. Por tanto, el apilamiento esta constituido por la siguiente secuencia de capas:

Vidrio /Si3N4 /NiCr /ITO /NiCr /Si3N

(56 nm) (4,0 nm) (175 nm) (4,0 nm) (70 nm)

Se han medido los factores Tl, g y sn en este acristalamiento en las mismas condiciones indicadas anteriormente.

Las caracterfsticas de los diferentes acristalamientos obtenidos se indican en la siguiente tabla 1:

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Tabla 1

: Ejemplo 1 Ejemplo 2 Ejemplo 3 Ejemplo 4 Ejemplo 5

Capa refl. IR: ITO ITO ITO ITO ITO

Espesor (nm) de capa refl.: 175 175 175 175 175

Capas de NiCr: Si no si si si

Espesor (nm) de capas de NiCr: 1 - 1,6 2,5 4,0

Tl (%): 55 63 49 46 34

g (%): 42 46 39 38 31

Selectividad (TL/g): 1,31 1,37 1,25 1,21 1,10

8n (%): 13 16 13 16 13

Aspecto visual: Transparente Turbidez en los bordes Transparente Turbidez muy ligera en los bordes Turbidez en los bordes

La comparacion de los datos indicados en la tabla 1 muestra que el apilamiento comparative segun el ejemplo 2 presenta la mejor selectividad, pero tambien una turbidez perfectamente visible en los bordes de la muestra, que hace imposible la utilizacion de dicho acristalamiento. El deposito de una capa mas gruesa de NiCr segun el ejemplo 4 se traduce ademas en una disminucion sustancial de la selectividad, debido a una cafda sustancial de la transmision luminosa.

Pruebas de resistencia a las rayaduras:

La resistencia a las rayaduras de los apilamientos segun los ejemplos 1 a 5 se mide segun la tecnica EST (Prueba de Rayadura de Erichsen). Se trata de indicar el valor de la fuerza aplicada necesaria, en newtons, para producir una rayadura en el apilamiento durante la realizacion de la prueba (punta de Van Laar, bola de acero). El valor seleccionado es el primer valor que ha originado una rayadura continua y visible a simple vista.

El valor indicado en la siguiente tabla 2 es por tanto la fuerza ejercida (en newtons) que ha originado la aparicion de rayaduras continuas.

Tabla 2

: Ejemplo 2 Ejemplo 3 Ejemplo 4 Ejemplo 5

Fuerza eiercida (N): 0,2 0,6 2,0 2,0

Los datos indicados en la tabla 2 muestran que los apilamientos dotados de las capas de NiCr presentan una resistencia mecanica sustancialmente mejorada en comparacion con el apilamiento segun el ejemplo 2 desprovisto de tales capas.

Ejemplos 6 y 7 (comparativos):

En estos ejemplos, se ha procedido de una manera identica al ejemplo y se ha obtenido un apilamiento sustancialmente identico, excepto que las capas de NiCr del ejemplo 1 se sustituyen por capas de titanio metalico de espesor, respectivamente, de 1,6 y 4,0 nm, obtenidas por pulverizacion de los blancos esta vez de titanio, en una atmosfera de argon.

El apilamiento segun el ejemplo 6 esta constituido por la siguiente secuencia de capas:

Vidrio /Si3N4: /Ti /ITO /Ti /Si3N4

(56 nm): (1,6 nm) (175 nm) (1,6 nm) (70 nm)

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Vidrio /Si3N4 /Ti /ITO /Ti /Si3N4

(56 nm) (4,0 nm) (175 nm) (4,0 nm) (70 nm)

En este acristalamiento se han medido los factores Tl, g y sn en las mismas condiciones indicadas anteriormente y la resistencia de los revestimientos a las rayaduras. Los resultados se combinan en la Tabla 3 a continuacion:

Tabla 3

: Ejemplo 6 Ejemplo 7

Capa refl. IR: ITO ITO

Espesor (nm) de capa refl.: 175 175

Capas de Ti: si si

Espesor(nm) de capas de Ti: 1,6 4,0

Tl (%): 53 30

g (%): 40 29

Selectividad (TL/g): 1,32 1,05

sn (%): 14 15

Aspecto visual: Transparente Turbidez + puntos marrones

Fuerza ejercida para rayadura ____________(N)____________: 0,2 0,1

Se ve claramente que, a diferencia de las capas de NiCr, las capas de Ti colocadas a cada lado de la capa activa reflectante de ITO esta vez no aportan mejoramiento alguno en los rendimientos de la resistencia a las rayaduras del apilamiento.

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REIVINDICACIONES

1. Acristalamiento de control solar que comprende un sustrato de vidrio dotado, en una de sus caras, de un apilamiento de capas de funcion antisolar, en donde el apilamiento comprende la secuencia de las siguientes capas, a partir de la superficie del sustrato de vidrio:

- una capa inferior de proteccion de las capas superiores contra la migracion de los iones alcalinos provenientes del sustrato de vidrio, de espesor comprendido entre 25 y 100 nm;

- una capa de un oxido mixto de indio y estano (ITO), de espesor comprendido entre 100 y 250 nm;

- una capa superior de proteccion de la capa de ITO contra el oxfgeno del aire, en particular durante un tratamiento termico tal como un temple o un recocido, siendo la capa superior de un espesor comprendido entre 25 y 100 nm;

estando caracterizado dicho acristalamiento porque:

- dichas capas superior e inferior estan constituidas esencialmente por un material dielectrico seleccionado de un nitruro de silicio, un nitruro de aluminio o su mezcla;

- capas intermedias hechas de un metal que comprende cromo, eventualmente parcial o completamente oxidadas y/o nitruradas, se colocan a cada lado de y en contacto con dicha capa de ITO, estando comprendido el espesor de dichas capas intermedias entre 0,5 y 3 nanometros.
2. Acristalamiento segun la reivindicacion precedente, en el que el espesor de dichas capas intermedias esta comprendido entre 1 y 2,5 nanometros.
3. Acristalamiento segun cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el metal comprende al menos 10% en peso de Cr.
4. Acristalamiento segun cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el metal es una aleacion de nfquel y de cromo.
5. Acristalamiento segun la reivindicacion precedente, en el que la relacion en peso de Cr/Ni en la aleacion esta comprendida entre 10/90 y 40/60.
6. Acristalamiento segun cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que las capas de proteccion inferior y superior estan constituidas esencialmente por un nitruro de silicio, eventualmente dopado con un elemento seleccionado de Al, Zr o B.
7. Acristalamiento segun cualquiera de las reivindicaciones precedentes, que comprende ademas, por encima de la capa superior, una capa de un oxido dielectrico seleccionado de oxido de silicio o un oxido de titanio.
8. Acristalamiento segun la reivindicacion precedente, en el que el espesor de la capa de oxido dielectrico esta comprendido entre 1 y 15 nanometros.
9. Acristalamiento segun cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el apilamiento esta constituido por la secuencia de las siguientes capas, a partir de la superficie del sustrato de vidrio:

- una capa inferior constituida esencialmente por nitruro de silicio y que comprende eventualmente aluminio, de espesor comprendido entre 30 y 100 nm, preferiblemente entre 40 y 90 nm;

- una primera capa intermedia de una aleacion de nfquel y cromo, eventualmente parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, de espesor comprendido entre 0,5 y 3 nm, preferiblemente entre 1 y 2,5 nm;

- una capa de ITO de espesor comprendido entre 100 y 250 nm;

- una segunda capa intermedia de una aleacion de nfquel y cromo, eventualmente parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, de espesor comprendido entre 0,5 y 3 nm, preferiblemente entre 1 y 2,5 nm;

- una capa superior constituida esencialmente por nitruro de silicio y que comprende eventualmente aluminio, de espesor comprendido entre 30 y 100 nm.
10. Acristalamiento segun la reivindicacion precedente, que comprende ademas, por encima de la capa superior, una capa de un oxido dielectrico seleccionado de oxido de silicio o un oxido de titanio, de espesor comprendido entre 1 y 10 nm.