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ES2558683T3 - Dispositivo quirúrgico de plasma - Google Patents

Dispositivo quirúrgico de plasma Download PDF

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ES2558683T3
ES2558683T3 ES06762496.5T ES06762496T ES2558683T3 ES 2558683 T3 ES2558683 T3 ES 2558683T3 ES 06762496 T ES06762496 T ES 06762496T ES 2558683 T3 ES2558683 T3 ES 2558683T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
plasma
channel
cooling channel
generating device
cathode
Prior art date
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Active
Application number
ES06762496.5T
Other languages
English (en)
Inventor
Nickolay Suslov
Igor Rubiner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Plasma Surgical Investments Ltd
PLASMA SURGICAL AB
Original Assignee
Plasma Surgical Investments Ltd
PLASMA SURGICAL AB
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Plasma Surgical Investments Ltd, PLASMA SURGICAL AB filed Critical Plasma Surgical Investments Ltd
Application granted granted Critical
Publication of ES2558683T3 publication Critical patent/ES2558683T3/es
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

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    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B18/04—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating
    • A61B18/042—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating using additional gas becoming plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
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    • H05H1/28—Cooling arrangements
    • H—ELECTRICITY
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Abstract

Un dispositivo quirúrgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma (1), donde dicho dispositivo generador de plasma (1, 101, 201) comprende: un ánodo (5); un cátodo (7); un canal de plasma (11,111, 211) que se extiende longitudinalmente entre dicho cátodo y a través de dicho ánodo, que tiene una abertura de salida en el extremo más alejado del cátodo; al menos un electrodo intermedio (9', 9", 9"') dispuesto al menos parcialmente entre dicho ánodo y dicho cátodo, donde dicho al menos un electrodo intermedio y dicho ánodo forman al menos una parte del canal de plasma, y dicho al menos un electrodo intermedio está aislado eléctricamente uno de otro y de dicho ánodo; y al menos un canal de refrigeración (23, 123, 223) que se extiende longitudinalmente en el dispositivo, mediante lo cual un líquido refrigerante que circula por dicho canal de refrigeración enfría una porción del dispositivo a la cual el al menos un canal de refrigeración es adyacente, que se caracteriza porque dicho al menos un canal de refrigeración (23, 123, 223) tiene al menos una abertura de salida (25, 125, 225) en el extremo más próximo al ánodo y dicha al menos una abertura de salida (25, 125, 225) del canal de refrigeración (23, 123, 223) está dispuesta muy próxima a la abertura de salida de dicho canal de plasma en el extremo más alejado del cátodo, mediante lo cual el líquido refrigerante que fluye hacia fuera de dicha al menos una abertura de salida del canal de refrigeración restringe un área de un efecto del plasma.

Description

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DESCRIPCION
Dispositivo quirurgico de plasma Reivindicacion de prioridad
Esta solicitud reivindica prioridad de una solicitud de patente sueca N° 0501603-5 presentada el 08 de julio de 2005. Campo de la invencion
La presente invencion se refiere a un dispositivo quirurgico de plasma compuesto por un dispositivo generador de plasma, donde el dispositivo generador de plasma comprende un anodo, un catodo y al menos un electrodo intermedio, donde dicho electrodo intermedio esta dispuesto al menos parcialmente entre dicho anodo y dicho catodo, y dicho electrodo intermedio y dicho anodo forman al menos una parte de un canal de plasma que tiene una abertura en dicho anodo.
Antecedentes tecnicos
Dispositivos de plasma se refieren a los dispositivos que estan dispuestos para generar un plasma gas. Se conoce el uso de dispositivos de plasma, como WO 2004/105450 (Bijker et al.) en aplicaciones industriales. WO 2004/105450 da a conocer una fuente de cascada provista de una envoltura para un catodo, un numero de placas de cascada aisladas que juntas se unen a un canal de plasma, y una placa anodo con una abertura de salida conectada al canal de plasma. Otros dispositivos de plasma como plasma gas se pueden usar, por ejemplo, en cirugfa para causar destruccion (diseccion) y/o coagulacion de tejidos biologicos.
Como regla, dichos dispositivos de plasma estan formados con un extremo largo y estrecho o similar que puede aplicarse facilmente a un area deseada a tratar, como un tejido que sangra. En la punta del dispositivo, esta presente un plasma gas, cuya alta temperatura permite el tratamiento del tejido adyacente a la punta.
WO 2004/030551 (Suslov) da a conocer un dispositivo quirurgico de plasma segun el estado anterior de la tecnica.
Este dispositivo comprende un sistema generador de plasma con un anodo, un catodo y un canal de suministro de gas para suministrar gas al sistema generador de plasma. Ademas el sistema generador de plasma comprende una pluralidad de electrodos que se disponen entre dichos catodo y anodo. Una envoltura de un material electricamente conductor que esta conectado al anodo encierra al sistema generador de plasma y forma el canal de suministro de gas.
Debido a los avances recientes en tecnologfa quirurgica, la conocida como cirugfa laparoscopica (ojo de cerradura) se esta utilizando mas a menudo. Esto implica, por ejemplo, una mayor necesidad de dispositivos con dimensiones pequenas para permitir la accesibilidad sin una cirugfa de gran extension. Los instrumentos pequenos tambien son ventajosos en las operaciones quirurgicas para lograr una buena precision.
Tambien es deseable poder mejorar la precision del chorro de plasma de tal manera que, por ejemplo, puedan ser afectadas por el calor areas mas pequenas. Asimismo es deseable poder obtener un dispositivo generador de plasma que proporcione una accion limitada de calor alrededor del area que se debe tratar.
Por lo tanto, existe la necesidad de mejores dispositivos de plasma, en particular dispositivos de plasma con pequenas dimensiones y de gran precision que puedan producir un plasma de alta temperatura.
Resumen de la invencion
Un objetivo de la presente invencion es proporcionar un dispositivo quirurgico de plasma.
Segun la invencion, se proporciona un dispositivo quirurgico de plasma como el definido en la reivindicacion 1.
Segun la invencion, el dispositivo generador de plasma comprende al menos un canal de refrigeracion que esta dispuesto con al menos una abertura de salida ubicada mas alla de, en la direccion del catodo al anodo, dicho al menos un electrodo intermedio, y la direccion del canal de dicho canal de refrigeracion en dicha abertura de salida tiene un componente direccional, que es el mismo que el de la direccion del canal del canal de plasma en la abertura de este.
Esta construccion del dispositivo generador de plasma permite que un refrigerante, que esta adaptado para fluir en el canal de refrigeracion, fluya hacia fuera por el extremo del dispositivo generador de plasma en las proximidades de la abertura del canal de plasma. Una ventaja lograda por esta disposicion es que se puede usar un refrigerante que fluya hacia fuera a traves de una salida del canal de refrigeracion para apantallar y restringir un chorro de plasma que es emitido a traves de la salida del canal de plasma que se abre en el anodo. El apantallamiento y la restriccion del chorro de plasma permiten, entre otras cosas, ventajas en el tratamiento sobre todo de areas pequenas puesto que se pueden limitar las propagaciones activadas del chorro generador de plasma.
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Tambien es posible utilizar el refrigerante fluyendo hacia fuera para enfriar un objeto afectado por el chorro de plasma. Enfriar el objeto que debe ser tratado puede, por ejemplo, ser adecuado para proteger las regiones que rodean el area de tratamiento.
Por ejemplo, el chorro de plasma puede ser apantallado en su direccion longitudinal para que haya un calor sustancialmente bajo en un lado de la pantalla y un calor sustancialmente alto en el otro lado de la pantalla. De esta manera, se obtiene una posicion sustancialmente distinta del chorro de plasma, en la direccion del flujo del chorro de plasma, donde se afecta el objeto a tratar, lo que puede proporcionar mayor precision en el funcionamiento del dispositivo generador de plasma.
Analogamente, el refrigerante fluyendo hacia fuera puede proporcionar apantallamiento del chorro de plasma en la direccion radial con respecto a la direccion del flujo del chorro de plasma. El apantallamiento en la direccion radial de esta manera permite que una superficie relativamente pequena pueda ser afectada por el calor en el tratamiento. El apantallamiento en la direccion lateral, con respecto a la direccion del flujo del plasma, tambien puede permitir que las areas alrededor de la region tratada puedan al mismo tiempo ser enfriadas por el refrigerante fluyendo hacia fuera y asf verse afectadas en una medida relativamente pequena por el calor del chorro de plasma.
Los dispositivos generadores de plasma del estado anterior de la tecnica tienen generalmente un sistema de refrigeracion cerrado para enfriar el dispositivo generador de plasma en funcionamiento. Dicho sistema de refrigeracion cerrado esta a menudo organizado por el refrigerante que fluye por un camino en el dispositivo generador de plasma y vuelve por otro camino. Esto causa a menudo recorridos de flujo relativamente largos. Un inconveniente de los recorridos de flujo largos es que los canales de flujo para el refrigerante se deben hacer con frecuencia relativamente grandes para evitar cafdas de presion grandes. Esto significa a su vez que los canales de flujo ocupan espacio que afecta las dimensiones externas del dispositivo generador de plasma.
Otra ventaja de la invencion es que las cafdas de presion en el canal de refrigeracion se pueden reducir en comparacion, por ejemplo, con los sistemas de refrigeracion cerrados y circulantes. Consecuentemente la seccion transversal del canal de refrigeracion se puede mantener relativamente pequena, lo que significa que tambien se pueden reducir las dimensiones externas del dispositivo generador de plasma. Las dimensiones reducidas del dispositivo generador de plasma son a menudo deseables en relacion, por ejemplo, con el uso en regiones de espacio limitado o en el funcionamiento que requiere una gran precision. Convenientemente el extremo del dispositivo generador de plasma proximo al anodo ("el extremo anodo del dispositivo") tiene una dimension externa que es menor de 10 mm, preferentemente menor de 5 mm. En una realizacion alternativa, la dimension externa del dispositivo generador de plasma es igual o inferior a 3 mm. El extremo anodo del dispositivo tiene preferentemente una geometna externa circular.
Por lo tanto, la invencion permite que el refrigerante que esta adaptado al flujo a traves del canal de refrigeracion se pueda utilizar para enfriar el dispositivo generador de plasma en funcionamiento, apantallar y limitar la propagacion del chorro de plasma y enfriar las regiones que rodean el area afectada por el chorro de plasma. Sin embargo, se apreciara que, dependiendo de la aplicacion, es posible usar campos individuales de aplicacion o varios de estos campos de aplicacion.
Para permitir que el refrigerante del canal de refrigeracion fluya hacia fuera en las inmediaciones del chorro de plasma, es ventajoso disponer la abertura de salida del canal de refrigeracion al lado y espaciada de la abertura del canal de plasma.
En una realizacion, la abertura del canal de refrigeracion esta dispuesta en el anodo.
Disponiendo la abertura de salida del canal de refrigeracion y la abertura del canal de plasma proximas entre sf, el extremo del dispositivo generador de plasma tiene en las inmediaciones del anodo una boquilla con al menos dos salidas para la descarga del refrigerante y el plasma, respectivamente. Es conveniente dejar que el canal de refrigeracion se extienda a lo largo de todo el anodo, o partes del anodo, para permitir tambien un enfriamiento del anodo en el funcionamiento. En una realizacion, la salida del canal de refrigeracion esta dispuesta en el mismo nivel que, o delante de, en la direccion del catodo al anodo, la salida del canal de plasma en el anodo.
La extension principal del canal de refrigeracion es convenientemente sustancialmente paralela a dicho canal de plasma. Al disponer el canal de refrigeracion paralelo al canal de plasma, es posible proporcionar, por ejemplo, un dispositivo generador de plasma compacto y estrecho. El canal de refrigeracion consiste adecuadamente en un canal de circulacion cuya extension principal se dispone en la direccion longitudinal del canal de plasma. Con un diseno asf, el refrigerante puede, por ejemplo, ser suministrado en un extremo del dispositivo generador de plasma de modo que fluya hacia fuera en el extremo opuesto proximo al anodo.
Dependiendo de las propiedades deseables del dispositivo generador de plasma, una porcion de salida del canal de refrigeracion se puede dirigir y colocar en angulo de diferentes maneras adecuadas. En una realizacion del dispositivo generador de plasma, la direccion del canal del canal de refrigeracion en la abertura de salida se puede extender, en la direccion del catodo al anodo, en un angulo entre +30 y -30 grados en relacion con la direccion de
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canal de dicho canal de plasma en la abertura de este. Eligiendo angulos diferentes para distintos dispositivos generadores de plasma, el chorro de plasma puede ser as^ apantallado y restringido de diversas maneras en su direccion longitudinal y transversalmente a su direccion longitudinal. Las variaciones adecuadas indicadas antes de la direccion del canal del canal de refrigeracion en relacion con la direccion del canal del canal de plasma son tales que un angulo de 0 grados corresponde al hecho de que las direcciones de canal de ambos canales son paralelas.
En el caso de que se desee una restriccion en la direccion lateral, radialmente transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma, del chorro de plasma, la direccion del canal del canal de refrigeracion en dicha abertura de salida se puede extender, en la direccion del catodo al anodo, sustancialmente paralela a la direccion del canal de dicho canal de plasma en la abertura de este.
En otra realizacion, puede ser deseable una menor restriccion radial transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma. Para una realizacion alternativa, por ejemplo, la direccion del canal del canal de refrigeracion en dicha abertura de salida se puede extender, en la direccion del catodo al anodo, en un angulo hacia fuera de la direccion del canal de dicho canal de plasma en la abertura de este.
En otra realizacion alternativa, la direccion del canal del canal de refrigeracion en dicha abertura de salida se puede extender, en la direccion del catodo al anodo, en un angulo hacia la direccion del canal de dicho canal de plasma en la abertura de este. Esta realizacion permite, por ejemplo, que el chorro de plasma se pueda restringir, mediante el refrigerante fluyendo hacia fuera, tanto en la direccion lateral a la direccion del flujo del chorro de plasma como en la direccion longitudinal de la direccion de flujo del chorro de plasma.
Se apreciara que una porcion de salida del canal de refrigeracion se puede disponer de diversas maneras dependiendo de las propiedades y el comportamiento que se deseen en el dispositivo generador de plasma. Tambien se apreciara que el dispositivo generador de plasma se puede proporcionar con una pluralidad de tales porciones de salida. Una pluralidad de tales porciones de salida se puede dirigir y colocar en angulo de manera similar. Sin embargo, tambien es posible disponer una pluralidad de diferentes porciones de salida con diferentes direcciones y angulos con relacion a la direccion del canal del canal de plasma en la abertura de este.
El dispositivo generador de plasma tambien se puede proporcionar con uno o mas canales de refrigeracion. Por otra parte cada canal de refrigeracion de ese tipo, se puede proporcionar con una o mas porciones de salida.
En el uso, el canal de refrigeracion es preferentemente recorrido por un refrigerante que fluye del catodo al anodo. Como refrigerante, preferentemente se hace uso del agua, aunque son posibles otros tipos de lfquidos. El uso de un refrigerante adecuado permite que el calor emitido por el dispositivo generador de plasma en funcionamiento pueda ser absorbido y extrafdo.
Para proporcionar un enfriamiento eficaz del dispositivo generador de plasma, puede ser ventajoso que una parte de dicho canal de refrigeracion se extienda a lo largo de dicho al menos un electrodo intermedio. Al permitir que el refrigerante en el canal de refrigeracion fluya en contacto directo con el electrodo intermedio, se logra por lo tanto una buena transferencia de calor entre el electrodo intermedio y el refrigerante. Para un enfriamiento adecuado de las piezas grandes del electrodo intermedio, una parte de dicho canal de refrigeracion se puede extender a lo largo de la periferia externa de dicho al menos un electrodo intermedio. Por ejemplo, el canal de refrigeracion rodea la periferia externa de dicho al menos un electrodo intermedio.
En una realizacion, un manguito final del dispositivo generador de plasma, donde dicho manguito final esta preferentemente conectado al anodo, constituye parte de una superficie lfmite colocada radialmente hacia fuera del canal de refrigeracion. En otra realizacion alternativa, dicho al menos un electrodo intermedio constituye parte de una superficie lfmite colocada radialmente hacia dentro del canal de refrigeracion. Empleando estas partes de la estructura del dispositivo generador de plasma como parte de las superficies lfmite del canal de refrigeracion, se puede obtener una buena transferencia de calor entre el refrigerante y las piezas adyacentes que se calientan en funcionamiento. Ademas las dimensiones del dispositivo generador de plasma se pueden reducir mediante el uso de porciones separadas del canal de refrigeracion que son reducidas.
Es ventajoso disponer el canal de refrigeracion para que, cuando este en uso, sea recorrido por una cantidad de refrigerante entre 1 y 5 ml/s. Dichas velocidades de flujo son especialmente ventajosas en aplicaciones quirurgicas en las que velocidades de flujo mayores pueden ser perjudiciales para el paciente.
Para permitir que el refrigerante sea distribuido alrededor del chorro de plasma, puede ser ventajoso que se provea de al menos un canal de refrigeracion con al menos dos salidas, preferentemente al menos cuatro salidas. Ademas el dispositivo generador de plasma se puede proveer adecuadamente de una pluralidad de canales de refrigeracion. La cantidad de canales de refrigeracion y la cantidad de salidas puede variar opcionalmente, dependiendo del campo de aplicacion y de las propiedades deseadas del dispositivo generador de plasma.
Segun la invencion, se proporciona un dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma como el descrito antes. Dicho dispositivo quirurgico de plasma del tipo descrito en este documento se puede
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usar adecuadamente para la destruccion o la coagulacion de tejido biologico. Ademas, dicho dispositivo quirurgico de plasma se puede usar de manera ventajosa en cirugfa ca^aca o cerebral. Alternativamente dicho dispositivo quirurgico de plasma se puede usar ventajosamente en cirugfa de hugado, de bazo, de rinon o en el tratamiento de la piel en cirugfa plastica y cosmetica.
Breve descripcion de las figuras
La invencion se describira ahora en mas detalle con referencia a los dibujos esquematicos acompanantes que a modo de ejemplo ilustran actualmente las realizaciones preferidas de la invencion.
La figura 1a es una vista de una seccion transversal de una realizacion de un dispositivo generador de plasma segun la invencion;
La figura 1b es una ampliacion parcial de la realizacion de acuerdo con la figura 1a;
La figura 2a es una vista de una seccion transversal de una realizacion alternativa del dispositivo generador de plasma;
La figura 2b es una vista del plano frontal del dispositivo generador de plasma de acuerdo con la figura 2a;
La figura 2c es una vista del plano frontal de una realizacion alternativa del dispositivo generador de plasma de acuerdo con la figura 2a; y
La figura 3 es una vista de una seccion transversal de otra realizacion alternativa de un dispositivo generador de plasma.
Descripcion de las realizaciones preferidas
La figura 1a muestra una seccion transversal de una realizacion de un dispositivo generador de plasma 1 segun la invencion. La seccion transversal de la figura 1 se toma a traves del centro del dispositivo generador de plasma 1 en su direccion longitudinal. El dispositivo comprende un manguito final alargado 3 que aloja un sistema generador de plasma para generar plasma que se descarga en el extremo del manguito final 3. El plasma generado se puede utilizar, por ejemplo, para detener hemorragias en tejidos, vaporizar tejidos, cortar tejidos, etc.
El dispositivo generador de plasma 1 de acuerdo con la figura 1a comprende un catodo 5, un anodo 7 y una cantidad de electrodos 9', 9", 9'" dispuestos entre el anodo y el catodo, denominados en este texto electrodos intermedios. Los electrodos intermedios 9', 9", 9'" son anulares y forman parte de un canal de plasma 11 que se extiende desde una posicion delante del catodo 5 y despues hacia y a traves del anodo 7. El extremo de entrada del canal de plasma 11 es el extremo mas cercano al catodo 5; el canal de plasma se extiende a traves del anodo 7 donde se dispone su abertura de salida. Un plasma esta disenado para ser calentado en el canal de plasma 11 para finalmente salir por la abertura del canal de plasma en el anodo 7. Los electrodos intermedios 9', 9", 9'" estan aislados y separados entre sf por un medio aislante anular 13', 13", 13"'. La forma de los electrodos intermedios 9', 9", 9'" y las dimensiones del canal de plasma 11 se pueden ajustar a cualquier proposito deseado. La cantidad de electrodos intermedios 9', 9", 9'" tambien se puede variar opcionalmente. La realizacion que se muestra en la figura 1a cuenta con tres electrodos intermedios 9', 9", 9"'.
En la realizacion que se muestra en la figura 1a, el catodo 5 esta formado como un elemento cilmdrico alargado. Preferentemente el catodo 5 esta hecho de tungsteno con aditivos opcionales, como lantano. Dichos aditivos se pueden usar, por ejemplo, para bajar la temperatura que se produce en el extremo del catodo 5.
Ademas el extremo 15 del catodo 5 que se dirige al anodo 7 tiene una porcion final que se afina progresivamente. Esta porcion que se afina progresivamente 15 forma convenientemente una punta colocada en el extremo del catodo, como se muestra en la figura 1a. La punta del catodo 15 es adecuadamente de forma conica. La punta del catodo 15 puede tambien consistir en una parte de un cono o tener formas alternativas con una geometna que se afine progresivamente hacia el anodo 7.
El otro extremo del catodo 5 que se dirige hacia fuera del anodo 7 esta conectado a un conductor electrico para ser conectado a una fuente de energfa electrica. El conductor esta convenientemente rodeado por un aislador. (El conductor no se muestra en la figura 1a).
Conectado al extremo de entrada del canal de plasma 11, se dispone una camara de plasma 17, que tiene una superficie de seccion transversal, transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma 11, que excede la superficie de seccion transversal del canal de plasma 11 en el extremo de entrada de este. La camara de plasma 17 que se muestra en la figura 1a es de seccion transversal circular, transversalmente a la direccion longitudinal del canal de plasma 11, y tiene una magnitud Lch en la direccion longitudinal del canal de plasma 11 que corresponde aproximadamente al diametro de la Dch de la camara de plasma 17. La camara de plasma 17 y el canal de plasma 11 estan dispuestos sustancialmente concentricos entre sf. El catodo 5 se extiende en la camara de plasma 17 al menos la mitad de la longitud Lch de este y el catodo 5 se dispone sustancialmente concentrico con la camara de plasma 17. La camara de plasma 17 consta de un rebajo formado por el primer electrodo intermedio 9' que esta ubicado proximo al catodo 5.
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La figura 1a tambien muestra un elemento aislante 19 que se extiende a lo largo y alrededor de partes del catodo 5. El elemento aislante 19 esta formado adecuadamente como un manguito cilmdrico alargado y el catodo 5 esta parcialmente posicionado en un agujero circular que se extiende a traves del elemento aislante tubular 19. El catodo 5 este sustancialmente centrado en el agujero pasante del elemento aislante 19. Ademas el diametro interno del elemento aislante 19 excede ligeramente el diametro externo del catodo 5, formando asf una distancia entre la superficie circunferencial externa del catodo 5 y la superficie interna del agujero circular del elemento aislante 19.
Preferentemente el elemento aislante 19 esta hecho de un material resistente a la temperatura, como la ceramica, material plastico resistente a la temperatura o similar. El elemento aislante 19 esta destinado a proteger las piezas adyacentes del dispositivo generador de plasma de las altas temperaturas que se pueden producir, por ejemplo, alrededor del catodo 5, en particular alrededor de la punta 15 del catodo.
El elemento aislante 19 y el catodo 5 se disponen entre sf de modo que el extremo 15 del catodo 5 que se dirige al anodo se proyecte mas alla de una cara final 21, que se dirige al anodo 7, del elemento aislante 19. En la realizacion que se muestra en la figura 1a, aproximadamente la mitad de la punta que se afina progresivamente 15 del catodo 5 se proyecta mas alla de la cara final 21 del elemento aislante 19.
Una pieza de suministro de gas (no se muestra en la figura 1a) esta conectada a la pieza generadora de plasma. El gas suministrado al dispositivo generador de plasma 1 consiste ventajosamente en el mismo tipo de gases que se utilizan como el gas generador de plasma en los instrumentos del estado anterior de la tecnica, por ejemplo gases inertes, como argon, neon, xenon, helio, etc. El gas generador de plasma se deja fluir a traves de la pieza de suministro de gas y en el espacio dispuesto entre el catodo 5 y el elemento aislante 19. Consecuentemente, el gas generador de plasma fluye a lo largo del catodo 5 dentro del elemento aislante 19 hacia el anodo 7. A medida que el gas generador de plasma pasa el extremo 21 del elemento aislante 19, el gas se pasa a la camara de plasma 17.
El dispositivo generador de plasma 1 comprende ademas uno o mas canales de refrigeracion 23 que se abren en el manguito final alargado 3. Los canales de refrigeracion 23 estan parcialmente hechos adecuadamente en una sola pieza con una envoltura (que no se muestra) que esta conectada al manguito final 3. El manguito final 3 y la envoltura se pueden interconectar, por ejemplo, mediante un empalme roscado, pero tambien son concebibles otros metodos de conexion, tales como soldadura, soldadura en barra, etc. Por otra parte el manguito final tiene convenientemente una dimension exterior que es menor de 10 mm, preferentemente menor de 5 mm, en particular entre 3 mm y 5 mm. Al menos una porcion de la envoltura situada junto al manguito final tiene adecuadamente una forma y una dimension externas que corresponden sustancialmente a la dimension externa del manguito final. En la realizacion del dispositivo generador de plasma que se muestra en la figura 1a, el manguito final tiene una seccion transversal circular transversalmente a su direccion longitudinal.
Los canales de refrigeracion 23 constan adecuadamente de canales de flujo pasantes que se extienden a traves del dispositivo y se abren en el anodo 7 o en su proximidad. Ademas las piezas de dichos canales de refrigeracion 23 se pueden formar, por ejemplo, por extrusion de la envoltura o trabajo mecanico de la envoltura. Sin embargo, se apreciara que las partes del canal de refrigeracion 23 tambien pueden estar formadas por una o mas piezas que estan separadas de la envoltura y dispuestas dentro de la envoltura.
El dispositivo generador de plasma 1 se puede proporcionar con un canal de refrigeracion 23 que este provisto de una o mas aberturas de salida 25. Alternativamente, el dispositivo generador de plasma 1 se puede proporcionar con multiples canales de refrigeracion 23, cada uno de los cuales se puede proporcionar con una o mas aberturas de salida 25. Cada canal de refrigeracion 23 tambien se puede dividir en varias porciones de canal que se combinan en una porcion de canal comun, donde dicha porcion comun del canal se puede proporcionar con una o mas aberturas de salida 25. Tambien es posible utilizar todos o algunos de los canales 23 para otros fines. Por ejemplo, se pueden disponer tres canales 23, dos para que el refrigerante pase por ellos y uno para aspirar lfquidos, o similares, de un area quirurgica etc.
En la realizacion que se muestra en la figura 1a, una parte del canal de refrigeracion 23 se extiende a traves del manguito final 3 y alrededor de los electrodos intermedios 9', 9", 9"'. El canal de refrigeracion 23 de acuerdo con la figura 1a esta provisto de una pluralidad de aberturas de salida 25.
Ademas las aberturas de salida 25 del canal de refrigeracion 23 estan dispuestas mas alla, en la direccion del catodo 5 al anodo 7, de los electrodos intermedios 9', 9", 9"'. En la realizacion que se muestra en la figura 1a, el canal de refrigeracion 23 se extiende a traves del manguito final 3 y el anodo 7. Ademas la direccion del canal del canal de refrigeracion 23 en las aberturas de salida 25 tiene un componente direccional, que es el mismo que el de la direccion del canal del canal de plasma 11 en la abertura de este. De acuerdo con la figura 1a, se muestran estas dos aberturas de salida 25. Preferentemente el dispositivo generador de plasma 1 se proporciona con cuatro o mas aberturas de salida 25.
Los canales de refrigeracion 23 se pueden utilizar parcialmente para enfriar el dispositivo generador de plasma 1 en funcionamiento. Como refrigerante, preferentemente se hace uso del agua, aunque son posibles otros tipos de lfquidos. Para proporcionar enfriamiento, una porcion del canal de refrigeracion 23 esta dispuesta de modo que el
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refrigerante se suministra al manguito final 3 y fluye entre los electrodos intermedios 9', 9", 9'" y la pared interna del manguito final 3. Cuando el dispositivo esta en funcionamiento, se prefiere dejar que una cantidad de flujo de 1-5 ml/s fluya a traves del dispositivo generador de plasma 1. La cantidad de flujo del refrigerante puede, sin embargo, variarse opcionalmente dependiendo de factores como temperatura de funcionamiento, propiedades de funcionamiento deseadas, ambito de aplicacion, etc. En las aplicaciones quirurgicas, la velocidad de flujo del refrigerante es tfpicamente entre 1 y 3 ml/s y la temperatura del refrigerante que fluye a traves de la abertura de salida 25 es habitualmente entre 25 y 40 °C.
El refrigerante destinado a fluir a traves de los canales de refrigeracion 25 tambien se puede usar para apantallar el chorro de plasma y restringir el intervalo del chorro de plasma que es emitido a traves de la salida del canal de plasma 11 en el anodo 7. El refrigerante tambien se puede usar para enfriar areas adyacentes a una region, de un objeto, afectada por el chorro de plasma.
En la realizacion que se muestra en la figura 1a, la direccion del canal del canal de refrigeracion 23 en las aberturas de salida 25 se dirige en un angulo a hacia el centro de la direccion longitudinal del canal de plasma 11.
Las porciones de salida dirigidas permiten que el chorro de plasma generado en funcionamiento pueda ser apantallado en su direccion longitudinal por el refrigerante que fluye a traves de las aberturas de salida 25 del canal de refrigeracion 23. Como resultado, un operador que opere el dispositivo puede obtener una posicion esencialmente distinta en la que el chorro de plasma estara activo. Delante de esta posicion, se produce adecuadamente poco efecto del chorro de plasma. En consecuencia, esto permite una buena precision, por ejemplo, en cirugfa y otros campos de aplicacion que requieran precision. Al mismo tiempo, el refrigerante descargado a traves de la abertura de salida 25 de un canal de refrigeracion 23 puede proporcionar un efecto de apantallamiento en la direccion lateral radialmente hacia fuera del centro del chorro de plasma. Debido a dicho apantallamiento, una superficie limitada puede ser afectada localmente por el calor, y las areas enfriadas del objeto tratado, fuera de la zona afectada por el calor del plasma, son afectadas en un grado relativamente pequeno por el chorro de plasma.
Las figuras 2a-3 ilustran realizaciones alternativas de un dispositivo generador de plasma 1. Las diferencias importantes entre estas realizaciones y la realizacion de acuerdo con la figura 1a se describen a continuacion.
En la realizacion que se muestra en la figura 2a, la direccion del canal del canal de refrigeracion 123 en las aberturas de salida 125 esta dispuesta sustancialmente paralela a la direccion longitudinal del canal de plasma 111. En este caso, se obtiene principalmente el apantallamiento del chorro de plasma en la direccion radial con respecto a la lmea central del canal de plasma 111.
La figura 3 muestra otra realizacion alternativa de un dispositivo generador de plasma 201. En la realizacion que se muestra en la figura 3, la direccion del canal del canal de refrigeracion 223 en las aberturas de salida 225 se dirige en un angulo p hacia fuera del centro de la direccion longitudinal del canal de plasma 211. Esto resulta en apantallamiento que aumenta en distancia, en relacion con la lmea central del canal de plasma 211, con un aumento de la distancia desde el anodo 207 y, por tanto, la salida del canal de plasma 211.
Se apreciara que las realizaciones de acuerdo con las figuras 1-3 se pueden combinar para dar realizaciones adicionales. Por ejemplo, diferentes salidas se pueden dirigir y colocar en angulos diferentes en relacion con la direccion longitudinal del canal de plasma 23; 123; 223. Por ejemplo, es posible proporcionar un dispositivo generador de plasma 1; 101; 201 con dos porciones de salida que se dirigen paralelas al canal de plasma 11; 111; 211 y dos porciones de salida que se dirijan hacia el centro de la direccion longitudinal del canal de plasma 11; 111; 211. Las variaciones con respecto al angulo y la direccion de la direccion del canal del canal de refrigeracion 23; 123; 223 en las aberturas de salida 25; 125; 225, se pueden combinar opcionalmente dependiendo de las propiedades deseadas del dispositivo generador de plasma 1; 101; 201.
Tambien es posible variar el angulo de la direccion del canal en las porciones de salida 25; 125; 225 en relacion con la direccion longitudinal del canal de plasma 11; 111; 211. Preferentemente, las porciones de salida estan dispuestas en un angulo a, p de ±30 grados en relacion con la direccion longitudinal del canal de plasma 11; 111; 211. En la realizacion que se muestra en la figura 1a las porciones de salida estan dispuestas en un angulo a de + 10 grados con respecto a la direccion longitudinal del canal de plasma 11; 111; 211. Para el dispositivo generador de plasma que se muestra en la figura 1a, un angulo a de 10° significa que el refrigerante que fluye a traves de la abertura del canal de refrigeracion intersectara el centro de la direccion longitudinal del canal de plasma aproximadamente 8-10 mm delante de la salida del canal de plasma en el anodo.
En la realizacion que se muestra en la figura 3, las porciones de salida estan dispuestas en un angulo p de -10 grados en relacion con la direccion longitudinal del canal de plasma 11; 111; 211.
Las figuras 2b-2c son vistas frontales de diferentes realizaciones del dispositivo generador de plasma 101 en la figura 2a. La figura 2b muestra un diseno en el que las aberturas de salida 125 de las porciones de salida estan dispuestas al lado y espaciadas de la salida del canal de plasma 111 en el anodo. En la realizacion que se muestra en la figura 2b, las aberturas de salida 125 estan formadas como ocho entradas circulares que comunican con el
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canal de refrigeracion 123. Es posible disponer opcionalmente mas o menos de ocho entradas circulares dependiendo de las propiedades y el comportamiento deseables del dispositivo generador de plasma 101. Tambien es posible variar el tamano de las entradas circulares.
La figura 2c muestra un diseno alternativo de las aberturas de salida 125 del canal de refrigeracion 123. La figura 2c es una vista frontal del dispositivo generador de plasma 101 en la figura 2a. En la realizacion que se muestra en la figura 2c, las aberturas de salida 125 estan formadas como cuatro entradas en arco que comunican con el canal de refrigeracion.
Se apreciara que las aberturas de salida 125 del canal de refrigeracion 123 se pueden disenar opcionalmente con un numero de geometnas y tamanos alternativos. La superficie de seccion transversal de las aberturas de salida puede ser tfpicamente de 0.50 y 2.0 mm2, preferentemente de 1 a 1.5 mm2.
Es evidente que estos diferentes disenos de las aberturas de salida 25; 125; 225 tambien se pueden utilizar para las realizaciones del dispositivo generador de plasma como se muestra en las figuras 1a-b y 3.
La descripcion siguiente se refiere a las figuras 1a-b. Las condiciones y dimensiones establecidas tambien son, sin embargo, importantes como realizaciones ejemplares de las realizaciones del dispositivo generador de plasma que se muestra en las figuras 2a-3.
Los electrodos intermedios 9', 9", 9'" que se muestran en la figura 1a estan dispuestos dentro del manguito final 3 del dispositivo generador de plasma 1 y estan ubicados esencialmente concentricos con el manguito final 3. Los electrodos intermedios 9', 9" 9'" tienen un diametro externo que en relacion con el diametro interno del manguito final 3 forman un espacio intermedio entre la superficie externa de los electrodos intermedios 9', 9", 9'" y la pared interna del manguito final 3. Es en este espacio entre los electrodos intermedios 9', 9", 9'" y el manguito final 3 donde el refrigerante fluye para ser descargado a traves de las aberturas de salida 125 del canal de refrigeracion 23.
En la realizacion que se muestra en la figura 1a, tres electrodos intermedios 9', 9", 9"', separados por medio del aislante 13', 13", 13" ', se disponen entre el catodo 5 y el anodo 7. El primer electrodo intermedio 9', el primer aislador 13' y el segundo electrodo intermedio 9" estan convenientemente encajados a presion uno en el otro. Analogamente, el segundo electrodo intermedio 9", el segundo aislador 13" y el tercer electrodo intermedio 9'"estan convenientemente encajados a presion uno en el otro. Sin embargo, se apreciara que el numero de electrodos intermedios 9', 9", 9'" se puede elegir opcionalmente dependiendo de la finalidad deseada.
El electrodo intermedio 9'" que se coloca mas alla del catodo 5 esta en contacto con un medio aislante anular 13'" que se dispone contra el anodo 7.
El anodo 7 se conecta con el manguito final alargado 3. En la realizacion que se muestra en la figura 1a, el anodo 7 y el manguito final 3 estan integralmente formados uno con el otro. En realizaciones alternativas, el anodo 7 se puede disenar como un elemento independiente que se una al manguito final 3 por un empalme roscado entre el anodo y el manguito final, por soldadura o por soldadura en barra. La conexion entre el anodo 7 y el manguito final 3 es adecuadamente tal que proporciona el contacto electrico entre ambos.
Se describiran a continuacion relaciones geometricas adecuadas entre las partes incluidas en el dispositivo generador de plasma 1, 101,201 con referencia a las figuras 1a-b. Cabe senalar que las dimensiones que se indican a continuacion solo constituyen realizaciones ejemplares del dispositivo generador de plasma 1, 101, 201 y se pueden variar dependiendo del campo de aplicacion y las propiedades deseadas. Cabe senalar que los ejemplos descritos en las figuras 1a-b tambien se pueden aplicar a las realizaciones de las figuras 2a-3.
El diametro interno di del elemento aislante 19 es solo ligeramente mayor que el diametro externo dc del catodo 5. En una realizacion, la diferencia en la seccion transversal, en una seccion transversal comun, entre el catodo 5 y el diametro interno di del elemento aislante 19 es adecuadamente igual o mayor que una seccion transversal minima del canal de plasma 11. Dicha seccion transversal del canal de plasma 11 se puede colocar en cualquier lugar a lo largo de la extension del canal de plasma 11.
En la realizacion que se muestra en la figura 1b, el diametro externo dc del catodo 5 es de aproximadamente 0.50 mm y el diametro interno di del elemento aislante de aproximadamente 0.80 mm.
En una realizacion, el catodo 5 se dispone de modo que una longitud parcial de la punta del catodo 15 se proyecte mas alla de una superficie lfmite 21 del elemento aislante 19. La punta 15 del catodo 5 esta en la figura 1b posicionada de modo que aproximadamente la mitad de la longitud Lc de la punta 15 se proyecta mas alla de la superficie lfmite 21 del elemento aislante 19. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, esta proyeccion lc corresponde a aproximadamente el diametro dc del catodo 5.
La longitud total Lc de la punta del catodo 15 es adecuadamente mayor que 1.5 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 15. Preferentemente la longitud total Lc de la punta del catodo 15 es
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aproximadamente 1.5-3 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 15. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, la longitud Lc de la punta del catodo 15 corresponde a aproximadamente 2 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 15.
En una realizacion, el diametro dc del catodo 5 es de aproximadamente 0.3-0.6 mm en la base de la punta del catodo 15. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, el diametro dc del catodo 5 es de aproximadamente 0.50 mm en la base de la punta del catodo 15. Preferentemente el catodo tiene un diametro dc sustancialmente identico entre la base de la punta del catodo 15 y el extremo del catodo 5 opuesto a la punta del catodo 15.
Sin embargo, se apreciara que es posible variar este diametro dc a lo largo de la extension del catodo 5. En una realizacion, la camara de plasma 17 tiene un diametro Dc que corresponde a aproximadamente 2 - 2.5 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 15. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, la camara de plasma 17 tiene un diametro Dch que corresponde a aproximadamente 2 veces el diametro dc del catodo 5.
La magnitud Lch de la camara de plasma 17 en la direccion longitudinal del dispositivo generador de plasma 1 corresponde a aproximadamente 2 - 2.5 veces el diametro dc del catodo 5 en la base de la punta del catodo 15. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, la longitud Lch de la camara de plasma 17 corresponde a aproximadamente al diametro Dch de la camara de plasma 17.
En una realizacion la punta 15 del catodo 5 se extiende en mas de la mitad de la longitud Lch de la camara plasma 17 o en mas de dicha longitud. En una realizacion alternativa, la punta 15 del catodo 5 se extiende sobre 1/2 a 2/3 de la longitud Lch de la camara de plasma 17. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, la punta del catodo 15 se extiende aproximadamente sobre mas de la mitad la longitud Lch de la camara de plasma 17.
En la realizacion que se muestra en la figura 1b, el catodo 5 que se extiende en la camara de plasma 17 esta posicionado a una distancia entre el extremo de la camara de plasma 17 mas cercano al anodo 7 que corresponde a aproximadamente el diametro dc del catodo 5 en la base de este.
En la realizacion que se muestra en la figura 1b, la camara de plasma 17 esta en comunicacion fluida con el canal de plasma 11. El canal de plasma 11 tiene convenientemente un diametro dch que es de aproximadamente 0.2 - 0.5 mm. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, el diametro dch del canal de plasma 11 es de aproximadamente 0.40 mm. Sin embargo, se apreciara que el diametro dch del canal de plasma 11 se puede variar de diferentes maneras a lo largo de la extension del canal de plasma 11 para proporcionar diferentes propiedades deseables.
Una porcion de transicion 27 se dispone entre la camara de plasma 17 y el canal de plasma 11 y constituye una transicion que se afina progresivamente, en la direccion del catodo 5 al anodo 7, entre el diametro Dch de la camara de plasma 17 y el diametro dch del canal de plasma 11. La porcion de transicion 27 se puede formar de varios modos alternativos. En la realizacion que se muestra en la figura 1b, la porcion de transicion 27 se forma como un borde biselado que forma una transicion entre el diametro interno Dch de la camara de plasma 17 y el diametro interno dch del canal de plasma 11. Sin embargo, cabe senalar que la camara de plasma 17 y el canal de plasma 11 se pueden disponer en contacto directo entre sf sin una porcion de transicion 27 dispuesta entre los dos. El uso de una porcion de transicion 27 como la que se muestra en la figura 1b permite una extraccion de calor ventajosa para enfriar las estructuras adyacentes a la camara de plasma 17 y el canal de plasma 11.
El canal de plasma 11 esta formado por el anodo 7 y los electrodos intermedios 9', 9", 9"' dispuestos entre el catodo 5 y el anodo 7. La longitud del canal de plasma 11 entre la abertura del canal de plasma mas proxima al catodo y hasta el anodo corresponde adecuadamente a aproximadamente 4-10 veces el diametro dch del canal de plasma 11. En la realizacion que se muestra en la figura 1a, la longitud del canal de plasma 11 entre la abertura del canal de plasma mas proxima al catodo y el anodo es de aproximadamente 1.6 mm.
Esa parte del canal de plasma que se extiende a traves del anodo es de aproximadamente 3-4 veces el diametro dch del canal de plasma 11. Para la realizacion que se muestra en la figura 1a, esa parte del canal de plasma que se extiende a traves del anodo tiene una longitud de aproximadamente 2 mm.
El dispositivo generador de plasma 1 se puede proporcionar adecuadamente como una pieza de un instrumento desechable. Por ejemplo, un dispositivo completo con el dispositivo generador de plasma 1, vaina exterior, tubos, terminales de acoplamiento, etc. se puede vender como un instrumento desechable. Alternativamente, solo el dispositivo generador de plasma 1 puede ser desechable y estar conectado a dispositivos de uso multiple.
Otras realizaciones y variantes son concebibles dentro del alcance de la presente invencion. Por ejemplo, la cantidad y forma de los electrodos 9', 9", 9'" se puede variar segun el tipo de gas generador de plasma que se utiliza y de las propiedades deseadas del plasma generado.
Cuando se usa gas generador de plasma, como argon, que se suministra traves de una pieza de suministro de gas, se introduce en el espacio entre el catodo 5 y el elemento aislante 19 segun se describio antes. El gas generador de
plasma suministrado se hace pasar a traves de la camara de plasma 17 y el canal de plasma 11 para ser descargado a traves de la abertura del canal de plasma 11 en el anodo 7. Habiendose establecido el suministro de gas, se enciende un sistema de tension, que inicia un proceso de descarga en el canal de plasma 11 y establece un arco electrico entre el catodo 5 y el anodo 7. Antes de establecer el arco electrico, es adecuado suministrar 5 refrigerante al dispositivo generador de plasma 1 a traves del canal de refrigeracion 23, como se describio antes. Habiendose establecido el arco electrico, se genera un plasma gas en la camara de plasma 17, que durante el calentamiento se hace pasar a traves del canal de plasma 11 a la abertura de este en el anodo 7.
Una corriente de funcionamiento adecuada para los dispositivos generadores de plasma 1, 101,201 de acuerdo con 10 las figuras 1-3 es 4-10 amperios, preferentemente de 4 a 6 amperios. La tension de servicio de los dispositivos generadores de plasma 1, 101, 201 depende, entre otras cosas, de la cantidad de electrodos intermedios y de la longitud de los mismos. Un diametro relativamente pequeno del canal de plasma permite un consumo de energfa relativamente bajo y una corriente operativa relativamente baja en el usoo del dispositivo generador de plasma 1, 101,201.
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En el arco electrico establecido entre el catodo y el anodo, prevalece en el centro del mismo, a lo largo del eje central del canal de plasma, una temperatura T que es proporcional a la relacion entre la corriente de descarga I y el diametro dch del canal de plasma (T=k*i/dch). Para proporcionar, en un nivel de corriente relativamente bajo, una alta temperatura del plasma, por ejemplo 10 000 a 15 000 °C, a la salida del canal de plasma en el anodo, la seccion 20 transversal del canal de plasma y, por lo tanto, la seccion transversal del arco electrico que calienta el gas debe ser pequena, por ejemplo de 0.2-0.5 mm. Con una pequena seccion transversal del arco electrico, la fuerza del campo electrico en el canal tiene un valor elevado.

Claims (16)

  1. 5
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    REIVINDICACIONES
    1. Un dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma (1), donde dicho dispositivo generador de plasma (1, 101,201) comprende:
    un anodo (5); un catodo (7);
    un canal de plasma (11,111, 211) que se extiende longitudinalmente entre dicho catodo y a traves de dicho anodo, que tiene una abertura de salida en el extremo mas alejado del catodo;
    al menos un electrodo intermedio (9', 9", 9"') dispuesto al menos parcialmente entre dicho anodo y dicho catodo, donde dicho al menos un electrodo intermedio y dicho anodo forman al menos una parte del canal de plasma, y dicho al menos un electrodo intermedio esta aislado electricamente uno de otro y de dicho anodo; y al menos un canal de refrigeracion (23, 123, 223) que se extiende longitudinalmente en el dispositivo, mediante lo cual un lfquido refrigerante que circula por dicho canal de refrigeracion enfna una porcion del dispositivo a la cual el al menos un canal de refrigeracion es adyacente,
    que se caracteriza porque dicho al menos un canal de refrigeracion (23, 123, 223) tiene al menos una abertura de salida (25, 125, 225) en el extremo mas proximo al anodo y
    dicha al menos una abertura de salida (25, 125, 225) del canal de refrigeracion (23, 123, 223) esta dispuesta muy proxima a la abertura de salida de dicho canal de plasma en el extremo mas alejado del catodo, mediante lo cual el ifquido refrigerante que fluye hacia fuera de dicha al menos una abertura de salida del canal de refrigeracion restringe un area de un efecto del plasma.
  2. 2. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, en el que la abertura de salida (25, 125, 225) del canal de refrigeracion (23, 123, 223) esta dispuesta en el anodo (5).
  3. 3. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, en el cual una porcion sustancial de dicho canal de refrigeracion (23, 123, 223) es sustancialmente paralela a dicho canal de plasma (11, 111,211).
  4. 4. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, en el cual un angulo (a, p) de una direccion del canal de refrigeracion (23, 123, 223) en dicha abertura de salida (25, 125, 225) del canal de refrigeracion con respecto a una direccion de dicho canal de plasma (11, 125, 211) en la abertura de dicho canal de plasma mas alejada del catodo esta comprendido entre +30 y -30 grados.
  5. 5. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma (101) de la reivindicacion 4, en el que una direccion del canal de refrigeracion (123) en dicha abertura de salida (125) del canal de refrigeracion es sustancialmente paralela a una direccion del canal de plasma (111) en la abertura de salida del canal de plasma mas alejada del catodo.
  6. 6. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma (1) de la reivindicacion 4, en el que el canal de refrigeracion (23) en dicha abertura de salida (25) del canal de refrigeracion esta en angulo hacia el canal de plasma.
  7. 7. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma (201) de la reivindicacion 4, en el que el canal de refrigeracion (223) en dicha abertura de salida (225) del canal de refrigeracion esta en angulo hacia fuera del canal de plasma.
  8. 8. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, en el que durante el funcionamiento el lfquido refrigerante fluye a traves de dicho canal de refrigeracion en la direccion del catodo al anodo.
  9. 9. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, el en que una parte de dicho canal de refrigeracion (23, 123, 223) se extiende a lo largo de dicho al menos un electrodo intermedio (9', 9", 9"').
  10. 10. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, el en que una parte de dicho canal de refrigeracion (23, 123, 223) se extiende a lo largo de la periferia externa de dicho al menos un electrodo intermedio (9', 9", 9"').
  11. 11. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, que comprende ademas un manguito (3) conectado al anodo (7), que forma una parte de la superficie lfmite posicionada radialmente hacia fuera del canal de refrigeracion (23, 123, 223).
  12. 12. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, el en que dicho al menos un electrodo intermedio (9', 9", 9"') forma una parte de la superficie lfmite posicionada radialmente hacia dentro del canal de refrigeracion (23, 123, 223).
  13. 13. El dispositivo quirurgico que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, en el que durante el funcionamiento el Kquido refrigerante fluye a traves de dicho canal de refrigeracion (23, 123, 223) con una velocidad entre 1 y 5 ml/s.
    5 14. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1, en
    el que dicho al menos un canal de refrigeracion (23, 123, 223) tiene al menos dos aberturas de salida (25, 125, 225).
  14. 15. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 14, en el que dichas al menos dos aberturas de salida (25, 125, 225) estan dispuestas alrededor de dicha abertura de
    10 salida del canal de plasma (11, 111, 211).
  15. 16. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 15, el que dicho al menos un canal de refrigeracion tiene al menos cuatro aberturas de salida.
    15 17. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 16,
    en el que una seccion transversal de la abertura del al menos un canal de refrigeracion es alargada.
  16. 18. El dispositivo quirurgico de plasma que comprende un dispositivo generador de plasma de la reivindicacion 1 que comprende dos o mas canales de refrigeracion (23, 123, 223).
    20
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