DE3841847C1 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3841847C1 DE3841847C1 DE3841847A DE3841847A DE3841847C1 DE 3841847 C1 DE3841847 C1 DE 3841847C1 DE 3841847 A DE3841847 A DE 3841847A DE 3841847 A DE3841847 A DE 3841847A DE 3841847 C1 DE3841847 C1 DE 3841847C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ppm
- catalyst
- hkw
- water vapor
- organic halogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical group 0.000 claims description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 8
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011872 intimate mixture Substances 0.000 claims 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 11
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 11
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 10
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)Cl AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 4
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- RJCQBQGAPKAMLL-UHFFFAOYSA-N bromotrifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)Br RJCQBQGAPKAMLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- -1 platinum metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 2
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)F NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical class ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGCDGLXSBHJAHZ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2,3,4,5,6-pentafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(Cl)C(F)=C1F KGCDGLXSBHJAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100439661 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) chr4 gene Proteins 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L chromyl dichloride Chemical compound Cl[Cr](Cl)(=O)=O AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N dibromodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Br)Br AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- APTUIUORLSQNEF-UHFFFAOYSA-N dicopper tetranitrate Chemical compound [Cu++].[Cu++].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O APTUIUORLSQNEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N heavy water Substances [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 1
- 238000007210 heterogeneous catalysis Methods 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000003930 superacid Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/02—Sulfur, selenium or tellurium; Compounds thereof
- B01J27/053—Sulfates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
Bei der Produktion, Verarbeitung und Anwendung organischer
Halogenverbindungen (HKW) und der Entsorgung von Produkten,
die HKW enthalten, fallen Abfallstoffe, Abluft und Abgase
an, die durch ihren HKW-Gehalt umweltschädlich sind.
In J. K. Musick, F. W. Williams, Ind. Eng. Chem.; Prod.
Res. Devel. 13, 1974, 175/9 wird zur Abgas- und Abluftreinigung
das Verfahren der katalytischen Zersetzung
und in DE 36 40 573 Al unter Anwendung von TiO₂ vorgeschlagen.
Aus M. P. Manning, Hazard. Waste 1, 1984, 41/64
ist es bekannt, Chlorkohlenwasserstoffe (CKW) an
Cr₂O₃/-Al₂O₃ und gemäß EP 01 59 366 Al an TiO₂ katalytisch
zu oxidieren. Für den Spezialfall der Entfernung
von CKW aus Deponiegasen werden alkalische Kontaktmassen
eingesetzt (DE 34 47 066). Verfahren zur Vernichtung von
CKW-Abfällen durch Umsetzung mit TiO₂ sind aus DE 36 40 573 Al
und EP 01 59 366 Al bekannt.
Die Nachteile der bisher bekannten Verfahren zur HKW-Zersetzung
sind folgende:
Keines der bisher bekannten katalytischen Verfahren vermag
Fluorchlorkohlenwasserstoffe (FCKW) zu zersetzen. Die bisher
bekannten Katalysatoren bestehen aus Materialien (zum
Beispiel Al₂O₃, SiO₂, Cr₂O₃), welche von Fluorwasserstoff
- einem der Produkte der Zersetzung von FCKW - desaktiviert
werden (DE 25 14 585). Die katalytische Oxidation von CKW
führt zur teilweisen Oxidation von Chlorwasserstoff zu Chlor
und ist damit zur Abgas- und Abluftreinigung nicht brauchbar,
da sich Chlor - im Gegensatz zu HCl - nicht durch einfache
Maßnahmen (z. B. Wasserwäsche) entfernen läßt. Die
Chlorbildung verursacht meist Katalysatordesaktivierung und
Freisetzung von Schadstoffen, wie Chromylchlorid und Kupferchlorid
(G. Laidig et al., Erdöl, Kohle, Erdgas, Petrochem.
34, 1981, 329/36, 333/4). Bei den Verfahren zur Vernichtung
von CKW-Abfällen entstehen andere schädliche Verbindungen,
wie TiCl₄ und CO.
Die Aktivkomponenten der Katalysatoren für die katalytische
Oxidation von CKW sind häufig kostspielig (Platinmetalle)
oder toxisch (Oxide von Chrom, Nickel, Kobalt und Molybdän).
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, die oben
aufgeführten Nachteile zu vermeiden und ein Verfahren zu
entwickeln, mit dem Halogenverbindungen nahezu vollständig
und ohne Entwicklung von schädlichen Gasen zersetzt werden
können.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den Maßnahmen gemäß
Anspruch 1 gelöst.
Mit dem erfindungsgemäßen Katalysator ist es gelungen,
neben den leichter zersetzbaren HKW auch fluorhaltige
organische Halogenverbindungen zu zersetzen, wobei die
Aktivität der Katalysatormasse in Gegenwart von HF, SO₂
und SO₃ erhalten bleibt.
Die Katalysatormasse, die in jeder geometrischen Struktur
sowie als Schicht auf einem Substrat, z. B. einer Wabenstruktur
verwendet werden kann, enthält keine giftigen
Substanzen und ist außerdem kostengünstig.
Die erfindungsgemäße Lösung beinhaltet die Verwendung eines
Hydrolysekatalysators auf Basis einer superaciden Feststoffsäure
(K. Tanabe in: B. L. Shamiro, Heterogeneous Catalysis 2,
1984, 71/94) zur Aktivierung der Umsetzung von HKW mit
Wasser und Abspaltung von Halogenwasserstoff (HW). Der gebildete
HW wird in bekannter Weise, z. B. durch Wasserwäsche,
aus dem Gasgemisch entfernt.
Je nach Zusammensetzung des HKW-Substrats entsteht durch
die Hydrolyse CO, CO₂ oder ein instabiles C-haltiges Fragment.
Im einfachsten Fall der perhalogenierten HKW mit
einem C-Atom pro Molekül wird CO₂ freigesetzt, das keiner
weiteren Nachbehandlung bedarf. Bei sämtlichen anderen
HKW entstehen auch CO und/oder C-haltige Fragmente, die
zur Zersetzung unter C-Abscheidung neigen; Zusatz von
Sauerstoff zum Prozeßgas in Gegenwart einer oxidationskatalytischen
Aktivkomponente sollte CO und die C-haltigen
Fragmente zu CO₂ umsetzen.
Als Hydrolysekatalysator zeigte sulfatisiertes Titandioxid
eine überraschend hohe Aktivität. CF₃Cl - eine Verbindung,
die gegenüber Wasser bei 500°C und 4000 bar in einem Zeitraum
von 12 h vollkommen stabil ist (A. P. Hagen, E. A. Elphingstone,
J. Inorg. Nucl. Chem. 36, 1974, 509/11) - wird in
Gegenwart von sulfatisiertem Titandioxid bei 450°C quantitativ
nach
CF₃Cl + 2 H₂O → CO₂ + 3 HF + HCl
bei einer Kontaktzeit von 0,7 sec. hydrolysiert. Am gleichen
Katalysator konnten auch die HKW CF₂Cl₂, CFCl₃, CCl₄, CF₃Br
und CF₂ClBr quantitativ nach
CX₄ + 2 H₂O → CO₂ + 4 HX (X = F, Cl, Br)
bereits bei 400°C und die HKW CF₂Cl-CFCl₂ nach
C₂F₃Cl₃ + 3 H₂O → CO + CO₂ + 3 HF + HCl
hydrolysiert werden. Da bei Abluft- und Abgasreinigung die
CO-Bildung unerwünscht ist, beinhaltet eine weitere Ausgestaltung
der Erfindung die Verwendung eines bifunktionellen
Hydrolyse-/Oxidationskatalysator gemäß Anspruch 2 und die
Oxihydrolyse mit Wasserdampf und Sauerstoff unter Bildung
von CO₂ und HW. CuO und/oder CuSO₄ wirken hier als Aktivkomponenten
für die Oxidation von CO und/oder des C-Fragmentes,
welches nach der Halogenspaltung verbleibt.
Die Umsetzung von C₂F₃Cl₃ mit Wasser und Luftsauerstoff
erfolgt hierbei bei 400°C quantitativ nach
C₂F₃Cl₃ + 3 H₂O + 0,5 O₂ → 2 CO₂ + 3 HF + 3 HCl.
Die Umsetzung von Perchlorethylen, C₂Cl₄, an einer derartigen
Katalysatormasse nach
C₂Cl₄ + 2 H₂O + O₂ → 2 CO₂ + 4 HCl
ist vollständig.
An Katalysatoren nach Anspruch 2 wurden bei folgenden HKW
bei 400°C nach der allgemeinen Gleichung
quantitative Umsätze erzielt:
CCl₃H, CCl₂H₂, CClH₃, CF₃H, C₂F₅Cl, C₂F₄Cl₂, C₂F₂Cl₄, C₂Cl₃H₃, C₂Cl₂H₄, C₂Cl₃H, C₂Cl₂H₂, C₂ClH₃, C₆H₄Cl₂, C₆F₅Cl.
CCl₃H, CCl₂H₂, CClH₃, CF₃H, C₂F₅Cl, C₂F₄Cl₂, C₂F₂Cl₄, C₂Cl₃H₃, C₂Cl₂H₄, C₂Cl₃H, C₂Cl₂H₂, C₂ClH₃, C₆H₄Cl₂, C₆F₅Cl.
Auch beliebige Gemische verschiedener HKW sind quantitativ
durch Oxihydrolyse abbaubar. Bei den vorstehenden Fällen
wurde ein Katalysator mit 1% Cu verwendet. Der Kupfergehalt
des bifunktionellen, sulfatisierten CuO/TiO₂-Katalysators
wird dem Sauerstoffbedarf der Oxihydrolysereaktion angepaßt.
Je höher der Sauerstoffbedarf, um so höher der Kupfergehalt
des Katalysators. Für organische Halogenverbindungen
C a H b X c mit c≧b ist meist ein Kupfergehalt von 1 Gewichtsprozent
ausreichend. Für c<b ist ein höherer Kupfergehalt
vorteilhaft.
Die Oxihydrolyse organischer Halogenverbindungen ist nicht
auf halogenierte Kohlenwasserstoffe beschränkt. Organische
Halogenverbindungen, die die Elemente Sauerstoff, Schwefel
und/oder Stickstoff enthalten, werden ebenfalls quantitativ
zersetzt, wie die folgenden Beispiele zeigen:
CF₃-COOH + H₂O + 0,5 O₂ → 2 CO₂ + 3 HF
S(CH₂CH₂Cl)₂ + O₂ → SO₂ + 4 CO₂ + 4 H₂O + 2HCl
2 N(n-C₄F₉)₃ + 27 H₂O + 10,5 O₂ → N₂ + 24 CO₂ + 54 HF
Ein wichtiges Beispiel zur Anwendung der Oxihydrolyse von
HKW-Gemischen im Spurenbereich ist die Entfernung der HKW
aus Deponiegas. Bei Deponiegas kann mit sulfatisiertem Titandioxid
eine vollständige Entfernung des Fluorgehaltes bewirkt
werden, die Chlorentfernung ist unvollständig, da besonders
stabile CKW (C₂Cl₄, C₂Cl₃H) nur zu 40-70% zersetzt werden.
Bei Zugabe von 0,1% Kupferoxid oder Kupfersulfat zur Katalysatormasse
ist auch hier eine vollständige Halogenentfernung
gewährleistet.
Auch CKW-Abfallprodukte beliebiger Zusammensetzung können
nach Verdampfen mit Wasserdampf und Luft an sulfatisiertem
Titandioxid mit 4% Cu weitgehend oxihydrolysiert werden.
Langzeitversuche über 1000 Stunden ergaben keinerlei
Anzeichen für eine Desaktivierung der beschriebenen Katalysatoren,
falls eine Temperatur über 550°C nicht überschritten
wird. Die Chlorbildung konnte weitgehend unterdrückt
werden.
Titandioxid-Pellets mit einem Reinheitsgrad von 98% und
einem Durchmesser von 1-2 mm und einer spezifischen Oberfläche
von 70-80 m²/g werden mit der berechneten Menge 30%iger
Schwefelsäure getränkt, so daß der fertige Katalysator
3 Gewichtsprozent Sulfat, So₄2- aufweist. Nach der Trocknung
bei 150°C wird der Katalysator bei 500°C 1 Stunde an
Luft calciniert.
Der im Beispiel 1 beschriebene Katalysator wurde mit
einer Gasmischung erprobt, die 2000 ppm CF₃Cl, 2% Wasser und
Stickstoff als Rest enthielt. Bei einer Kontaktzeit (t k ) von
2 sec wurden bei den genannten Eingangstemperaturen
folgende Restkonzentrationen an CF₃Cl mit einem Gaschrommatograph
mit ECD-Detektor ermittelt:
| T E (°C) | |
| Restkonzentration (ppm) | |
| 300 | |
| 1020 | |
| 350 | 40 |
| 400 | 5 |
| 450 | < 1 |
Mit einem FT-IR-Spektrometer wurde mit einer CaF₂-Gasküvette
nach dem Katalysator (450°C) 2000 ppm CO₂, 6000 ppm HF und
2000 ppm HCl festgestellt.
Der im Beispiel 1 beschriebene Katalysator wurde mit Gasmischungen
erprobt, die jeweils 2000 ppm HKW (bezogen auf
C₁), 2% Wasserdampf und Stickstoff als Rest enthielten. Bei
einer Kontaktzeit von 2 sec und einer Eingangstemperatur
T E =400°C wurden HKW-Restkonzentrationen <1 ppm und CO₂-Konzentrationen
von 2000 ppm festgestellt. Folgende HKW wurden
untersucht: CF₂Cl₂, CFCl₃, CCl₄, CF₂ClBr, CF₃Br und CF₂Br₂.
Der im Beispiel 1 beschriebene Katalysator wurde mit einer
Gasmischung erprobt, die 1000 ppm CF₂Cl-CFCl₂, 2% Wasserdampf
und Stickstoff als Rest enthielt. Bei t k =2 sec und
T E =450°C wurde eine CF₂Cl-CFCl₂-Restkonzentration <1 ppm
und CO- und CO₂-Konzentrationen von je 1000 ppm festgestellt.
Der im Beispiel 1 beschriebene Katalysator wurde mit einer
wäßrigen Lösung von Kupfernitrat getränkt, die soviel
Kupfer enthält, daß der fertige Katalysator a) 1%, b) 0,1%
und c) 4% Cu aufweist.
Nach der Trocknung bei 150°C wird der Katalysator bei 500°
1 h an Luft calciniert.
Der im Beispiel 5a beschriebene Katalysator wurde mit einer
Gasmischung erprobt, die 1000 ppm CF₂Cl-CFCl₂, 2% Wasserdampf
und getrocknete Luft als Rest enthielt. Bei t k =2 sec und
T E =450°C wurde eine CF₂Cl-CFCl₂-Restkonzentration <1 ppm
und eine CO₂-Konzentration von 2000 ppm festgestellt.
Der im Beispiel 5a beschriebene Katalysator wurde mit einer
Gasmischung erprobt, die 1000 ppm Perchlorethylen, C₂Cl₄
und 2% Wasserdampf und getrocknete Luft als Rest enthielt.
Bei t k =2 sec und T E =450°C wurde eine C₂Cl₄-Restkonzentration
<1 ppm und CO₂- bzw. HCl-Konzentrationen von 2000
bzw. 4000 ppm festgestellt.
Der im Beispiel 5a beschriebene Katalysator wurde mit einer
Gasmischung erprobt, die 2000 ppm HKW (bezogen auf C₁),
2% Wasserdampf und getrocknete Luft als Rest enthielt.
Bei t k =2 sec und T E =400°C wurde eine HKW-Restkonzentration
<1 ppm und eine CO₂-Konzentration von 2000 ppm gemessen.
Folgende HKW wurden in dieser Weise untersucht:
CCl₃H, CCl₂H₂, CClH₃, CFH₃, CF₂ClH, C₂F₅Cl, C₂F₄Cl₂, C₂F₂Cl₄, C₂Cl₃H₃, C₂Cl₂H₄, CH₃CHF₂, C₂Cl₃H, C₂Cl₂H₂, C₂ClH₃, C₆ClH₄ (Dichlorbenzol-Isomere), C₆F₅Cl (Pentafluorchlorbenzol).
CCl₃H, CCl₂H₂, CClH₃, CFH₃, CF₂ClH, C₂F₅Cl, C₂F₄Cl₂, C₂F₂Cl₄, C₂Cl₃H₃, C₂Cl₂H₄, CH₃CHF₂, C₂Cl₃H, C₂Cl₂H₂, C₂ClH₃, C₆ClH₄ (Dichlorbenzol-Isomere), C₆F₅Cl (Pentafluorchlorbenzol).
Der im Beispiel 5c beschriebene Katalysator wurde mit einer
Gasmischung erprobt, die 500 ppm S(CH₂-CH₂Cl)₂, 2% Wasserdampf
und getrocknete Luft als Rest enthielt. Bei t k =2 sec
und T E =400°C wurde eine Restkonzentration von S(CH₂-CH₂Cl)₂
<0,1 ppm und Konzentrationen von CO₂, SO₂ und HCl von 2000,
500 und 1000 ppm gemessen.
Der im Beispiel 1 beschriebene Katalysator wurde mit einem
Deponiegas erprobt, welches Methan und CO₂ als Hauptbestandteil,
2% Wasserdampf und 3% Sauerstoff und ein Gemisch von
21 identifizierten HKW mit einem Gesamtchlorgehalt von
40 ppm und einem Gesamtfluorgehalt von 15 ppm enthielt. Bei
t k =1 sec und T E von 350°C wurde der Gesamtchlorgehalt auf
4 ppm und der Gesamtfluorgehalt auf <1 ppm abgesenkt. Mit dem
im Beispiel 5b beschriebenen Katalysator wurde unter
gleichen Bedingungen auch der Gesamtchlorgehalt auf <1 ppm
abgesenkt.
Der im Beispiel 5c beschriebene Katalysator wurde mit einem
gasförmigen Gemisch aus einem CKW-Abfallprodukt mit der
mittleren Zusammensetzung CH1,69Cl0,72O0,05 mit 3 Vol.-%,
20 Vol.-% Wasserdampf und Luft als Rest erprobt. Bei t k =6 sec
und T E =400°C wurde eine CKW-Restkonzentration von <10 ppm
Gesamtchlor, 3 Vol.-% CO₂ und 2,2 Vol.-% HCl festgestellt.
Allgemeine Bemerkungen zu den Beispielen 1-11.
Bei den Beispielen 2-4 und 6-9 wurde nach einer Versuchsdauer
von 100 h keine meßbare Desaktivierung der Katalysatoren
gemäß Beispiel 1 und Beispiele 5a-c festgestellt.
Bei den Beispielen 10-11 wurde nach einer Versuchsdauer
von 1000 Stunden keine meßbare Desaktivierung bemerkt.
Eine Bildung von Chlor durch Oxidation von HCl in den Beispielen
6-9 konnte durch Messung mit einem Massenspektrometer
nicht festgestellt werden.
Claims (6)
1. Verfahren zur Zersetzung organischer Halogenverbindungen
in der Gasphase zu Kohlendioxid und Halogenwasserstoff(en),
dadurch gekennzeichnet, daß man ein
Gasgemisch aus organischen Halogenverbindungen mit
Wasserdampf und/oder Sauerstoff bei erhöhten Temperaturen
mit einer Katalysatormasse kontaktiert, die aus
sulfatisiertem Titandioxid mit einem Sulfatgehalt von
0,05-10 Gewichtsprozent besteht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
eine Katalysatormasse verwendet wird, die aus einem
innigen Gemisch von sulfatisiertem Titandioxid mit
einem Sulfatgehalt von 0,05-10 Gewichtsprozent und
Kupferoxid und/oder Kupfersulfat mit einem Kupfergehalt
von 0,05-20 Gewichtsprozent, vorzugsweise
0,5-5 Gewichtsprozent der fertigen Katalysatormasse
besteht.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß man bei Temperaturen von 100-600°C,
vorzugsweise 300-500°C und mit Kontaktzeiten von
0,05-100 sec, vorzugsweise 0,1-20 sec arbeitet.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß auf c Mol Halogen X in
der organischen Halogenverbindung C a H b X c mindestens
Mol Wasserdampf zur Verfügung gestellt wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß auf a Mol Kohlenstoff und
b Mol Wasserdampf in der organischen Halogenverbindung
C a H b X c mindestens
eingesetzt
wird, wobei d die Zahl der C-C-Bindungen kennzeichnet.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß eine spezifische Oberfläche
der Katalysatormasse von 15-180 m²/g, vorzugsweise
25-125 m²/g eingestellt wird.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3841847A DE3841847C1 (de) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | |
| US07/353,951 US4935212A (en) | 1988-12-13 | 1989-05-19 | Method of decomposing organic halogen compounds in gaseous phase |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3841847A DE3841847C1 (de) | 1988-12-13 | 1988-12-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3841847C1 true DE3841847C1 (de) | 1990-02-01 |
Family
ID=6369004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3841847A Expired - Lifetime DE3841847C1 (de) | 1988-12-13 | 1988-12-13 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4935212A (de) |
| DE (1) | DE3841847C1 (de) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3940493A1 (de) * | 1989-12-07 | 1991-06-13 | Man Technologie Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur entfernung von fluor und anorganischen fluoriden aus gasen |
| EP0439738A1 (de) * | 1990-01-27 | 1991-08-07 | MAN Nutzfahrzeuge Aktiengesellschaft | Verfahren zur Zersetzung organischer Halogenverbindungen |
| EP0485787A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-05-20 | Tosoh Corporation | Anordnung zur Behandlung von organische Halogenverbindungen enthaltenden Abgasen |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5176897A (en) * | 1989-05-01 | 1993-01-05 | Allied-Signal Inc. | Catalytic destruction of organohalogen compounds |
| US5254797A (en) * | 1989-06-07 | 1993-10-19 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of treating exhaust gas |
| US5780383A (en) * | 1990-08-09 | 1998-07-14 | Sun Company, Inc. (R&M) | Solid superacid catalyst comprising group VII metal and having Ho less than -18 |
| US5397552A (en) * | 1992-02-27 | 1995-03-14 | Process Technologies, Inc. | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous organic compounds |
| US5260036A (en) * | 1992-02-27 | 1993-11-09 | Process Technologies, Inc. | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous halogenated organic compounds |
| US5601184A (en) * | 1995-09-29 | 1997-02-11 | Process Technologies, Inc. | Method and apparatus for use in photochemically oxidizing gaseous volatile or semi-volatile organic compounds |
| US5955037A (en) * | 1996-12-31 | 1999-09-21 | Atmi Ecosys Corporation | Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases |
| US7294315B1 (en) * | 1999-06-09 | 2007-11-13 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for disposing of fluorine-containing compound by decomposition |
| US7261868B2 (en) * | 2001-09-13 | 2007-08-28 | Hitachi, Ltd. | Process and apparatus for the decomposition of fluorine compounds |
| US7569193B2 (en) | 2003-12-19 | 2009-08-04 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants |
| US7736599B2 (en) * | 2004-11-12 | 2010-06-15 | Applied Materials, Inc. | Reactor design to reduce particle deposition during process abatement |
| EP1954926A2 (de) * | 2005-10-31 | 2008-08-13 | Applied Materials, Inc. | Prozessunterdrückungsreaktor |
| CN100408176C (zh) * | 2006-06-06 | 2008-08-06 | 太原理工大学 | 一种Cu基固相催化剂的制备方法 |
| FR2940919B1 (fr) * | 2009-01-12 | 2011-12-09 | Inst Francais Du Petrole | Utilisation d'une composition a base de tio2 pour la captation de composes halogenes contenus dans un melange gazeux |
| US8043574B1 (en) | 2011-04-12 | 2011-10-25 | Midwest Refrigerants, Llc | Apparatus for the synthesis of anhydrous hydrogen halide and anhydrous carbon dioxide |
| US8128902B2 (en) * | 2011-04-12 | 2012-03-06 | Midwest Refrigerants, Llc | Method for the synthesis of anhydrous hydrogen halide and anhydrous carbon dioxide |
| CA2859298C (en) * | 2011-12-15 | 2020-09-22 | Sakai Chemical Industry Co., Ltd. | Granular body of titanium oxide having transition metal and/or transition metal oxide supported thereon, and method for decomposing waste plastic/organic material using said granular body |
| US8834830B2 (en) | 2012-09-07 | 2014-09-16 | Midwest Inorganics LLC | Method for the preparation of anhydrous hydrogen halides, inorganic substances and/or inorganic hydrides by using as reactants inorganic halides and reducing agents |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0159366A1 (de) * | 1982-08-18 | 1985-10-30 | The Dow Chemical Company | Verfahren zur Umsetzung chlorierter Kohlenwasserstoffe und Metalloxide in Oxide von Kohlenstoff und Metallchloriden |
| DE3640573A1 (de) * | 1985-11-28 | 1987-06-04 | Suppan Friedrich | Verfahren und anlage zur energiegewinnung aus giftigen abfallstoffen bei deren gleichzeitiger entsorgung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS524470A (en) * | 1975-07-01 | 1977-01-13 | Asahi Glass Co Ltd | Catalytic decomposition process for organie substances containing halo gen |
| JPS55104634A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-11 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | Improved process for exhaust gas treatment by means of catalyst combustion system |
| US4423024A (en) * | 1980-03-11 | 1983-12-27 | The Dow Chemical Company | Selective conversion of chlorinated alkanes to hydrogen chloride and carbon dioxide |
| SU1369777A1 (ru) * | 1986-04-09 | 1988-01-30 | Всесоюзный Центральный Научно-Исследовательский Институт Охраны Труда Вцспс | Способ очистки вентил ционных выбросов от примесей органических веществ |
-
1988
- 1988-12-13 DE DE3841847A patent/DE3841847C1/de not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-05-19 US US07/353,951 patent/US4935212A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0159366A1 (de) * | 1982-08-18 | 1985-10-30 | The Dow Chemical Company | Verfahren zur Umsetzung chlorierter Kohlenwasserstoffe und Metalloxide in Oxide von Kohlenstoff und Metallchloriden |
| DE3640573A1 (de) * | 1985-11-28 | 1987-06-04 | Suppan Friedrich | Verfahren und anlage zur energiegewinnung aus giftigen abfallstoffen bei deren gleichzeitiger entsorgung |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| TANABE, K. in: B.L. Shamiro, Hetero geneous Catalysis, 2, 1984, S. 71-94 * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3940493A1 (de) * | 1989-12-07 | 1991-06-13 | Man Technologie Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur entfernung von fluor und anorganischen fluoriden aus gasen |
| EP0431351B1 (de) * | 1989-12-07 | 1994-09-21 | MAN Nutzfahrzeuge Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung von Fluor und anorganischen Fluoriden aus Gasen |
| EP0439738A1 (de) * | 1990-01-27 | 1991-08-07 | MAN Nutzfahrzeuge Aktiengesellschaft | Verfahren zur Zersetzung organischer Halogenverbindungen |
| EP0485787A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-05-20 | Tosoh Corporation | Anordnung zur Behandlung von organische Halogenverbindungen enthaltenden Abgasen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4935212A (en) | 1990-06-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3841847C1 (de) | ||
| DE69430675T2 (de) | Chrom-katalysator und katalytisches oxydationsverfahren | |
| DE2416980B2 (de) | Verfahren zum Abscheiden von Stickstoffoxyden aus Abgas | |
| DE1417725B2 (de) | Verwendung eines Katalysators auf der Basis von Halogeniden des Kupfers, des Lanthans oder der Lanthaniden und der Alkalimetalle für die Oxychlorierung bzw. Oxybromierung von Kohlenwasserstoffen | |
| DE1468679C3 (de) | Chlorfluorierung von Acetylen | |
| DE1245935B (de) | Verfahren zur Ruckgewinnung von Brom aus dem bei der Umsetzung von Fluor- bzw Fluorchlorkohlewasserstoffen mit Brom entstandenen Bromwasserstoff | |
| EP0439738B1 (de) | Verfahren zur Zersetzung organischer Halogenverbindungen | |
| DE69008201T2 (de) | Verfahren zur Beseitigung von organischen Chlorverbindungen durch Verbrennung. | |
| EP0215317B1 (de) | Verfahren zum Entfernen von Schwefelwasserstoff aus Abgasen | |
| DD297394A5 (de) | Verfahren zur herstellung von chlorparaffin-nebelsaetzen hoher dichte und stabilitaet | |
| DE69122234T2 (de) | Verfahren zum entfernen organischer halide | |
| DE3038404A1 (de) | Verfahren zur herstellung von schwefeltetrafluorid | |
| DE19834882A1 (de) | Reinigung von Sulfurylfluorid | |
| EP0667180A1 (de) | Verfahren zur Entsorgung von halogenierten Kohlenwasserstoffen | |
| DE2703984C3 (de) | Verfahren zur katalytischen Umwandlung organischer Chlorverbindungen | |
| DE60100343T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von hochreinem HFC-125 | |
| DE69106036T2 (de) | Erhöhte Leistung von Alumina zur Entfernung von niedrig konzentriertem Fluor aus Gasströmen. | |
| DE2209841A1 (de) | Verfahren zur Abtrennung von Fluorwasserstoff | |
| DE69318772T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,1,1-Trifluoro-2-Chloroethan | |
| DE69024900T2 (de) | Katalytische Oxidation von Ammoniak | |
| DE3334225C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan | |
| DE69717191T2 (de) | Verfahren zur Regenerierung eines Katalysators auf der Basis von dreiwertigen Chromverbindungen | |
| DE2548908B2 (de) | Verfahren zur herstellung von formaldehyd | |
| DE69807980T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von HCFC-123 | |
| EP1049536B1 (de) | Verfahren zur hydrierenden abreicherung von fckw und halonen aus gasphasen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8100 | Publication of patent without earlier publication of application | ||
| D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| Q161 | Has additional application no. |
Ref document number: 4002437 Country of ref document: DE |
|
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: MAN NUTZFAHRZEUGE AG, 8000 MUENCHEN, DE |
|
| 8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |