DE3520812A1 - Herstellung von optischen bauteilen - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 8
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/36—Mechanical coupling means
- G02B6/3628—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers
- G02B6/3684—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers characterised by the manufacturing process of surface profiling of the supporting carrier
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- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
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- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/136—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by etching
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/26—Bombardment with radiation
- H01L21/263—Bombardment with radiation with high-energy radiation
- H01L21/268—Bombardment with radiation with high-energy radiation using electromagnetic radiation, e.g. laser radiation
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/36—Mechanical coupling means
- G02B6/3628—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers
- G02B6/3632—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers characterised by the cross-sectional shape of the mechanical coupling means
- G02B6/3636—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers characterised by the cross-sectional shape of the mechanical coupling means the mechanical coupling means being grooves
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/36—Mechanical coupling means
- G02B6/3628—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers
- G02B6/3684—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers characterised by the manufacturing process of surface profiling of the supporting carrier
- G02B6/3692—Mechanical coupling means for mounting fibres to supporting carriers characterised by the manufacturing process of surface profiling of the supporting carrier with surface micromachining involving etching, e.g. wet or dry etching steps
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Computer Hardware Design (AREA)
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Description
THE GENERAL ELECTRIC COMPANY, p.I.e., London, England
Herstellung von optischen Bauteilen
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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von optischen Bauteilen nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 und ein Gerät für die Herstellung von optischen Bauteilen nach dem Oberbegriff
des Anspruchs 6 und betrifft insbesondere die Herstellung von solchen Bauteilen, die Rillen aufweisen,
v;ie z.B. integrierte optische Bauteile oder auch Bauteile,
die zum Ankoppeln oder Zusammenfügen von Lichtleitfasern
dienen. Rillen werden bei der Herstellung von integrierten optischen Bauteilen ausgebildet, um
darin ein Glas anzulagern, so daß auf diese Weise ein in einem Substrat oder auch einer Trägerschicht eingebetteter
Lichtwellenleiter hergestellt wird. Indem verschiedene Muster von derartigen Rillen ausgebildet werden,
können unterschiedliche integrierte optische Anordnungen realisiert werden.
Zum Koppeln oder Zusammenfügen von Lichtleitfasern werden Rillen in Trägerschichten ausgebildet zum Ausrichten
der Lichtleitfasern. Üblicherweise werden die Rillen mit der Breite der Lichtleitfaser hergestellt,
die in der Rille aufgenommen wird, und die Trägerschicht ist aus einem Material mit dem gleichen thermischen Expansionsindex
und dem gleichen Brechungsindex wie die Lichtleitfaser hergestellt. Eine genaue Kopplung der
Glasfasern kann auf diese Weise leicht erzielt werden.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung derartiger optischer Bauteile
und ein Gerät für die Herstellung dieser optischen Bauteile anzugeben. Diese Aufgabe wird durch die kennzeichnenden
Merkmale der Ansprüche 1 und 6 gelöst.
BAD OHtGiNAL
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung optischer Bauteile umfaßt als Verfahrensschritt die
Ausbildung einer Rille in einer Trägerschicht durch Fokussieren des Ausgangsstrahls eines Lasers auf dieser
Trägerschicht, um so einen Teil der Trägerschicht zu verdampfen, wobei eine Relativbewegung zwischen der
Trägerschicht und dem Laserstrahl so erzeugt wird, daß sich diese Rille ausbildet.
Vorzugsweise sind weiterhin Vorrichtungen vorgesehen zum Entfernen von Staub, der sich aufgrund der
verdampften Trägerschicht bildet, während die Rillen hergestellt werden. Diese Vorrichtungen enthalten hierzu
vorzugsweise eine oder mehrere Düsen, die mit einer Vakuumpumpe verbunden sind und in der Nähe des Verdampfungspunktes
angeordnet sind.
Ist die Trägerschicht aus Quarzglas geformt, so kann sie alternativ oder auch zusätzlich in Flußsäure
geätzt werden, nachdem die Rillen hergestellt sind, um so sämtliche zurückbleibenden Staubteilchen zu entfernen.
Der Laser ist vorzugsweise ein CO^-Laser bekannter
Art.
Im folgenden wird die Erfindung an Hand der Figuren
1 bis 5 näher erläutert. Dabei zeigen:
F I G . 1 und 2 schematisch und nicht maßstabgetreu ein Verfahren zur Herstellung optischer Bauteile entsprechend
der vorliegenden Erfindung und
F I G . 3 bis 5 verschiedene Querschnitte von Rillen, die mit dem Verfahren der FIG. 1 und 2 ausführbar
sind.
In den FIG. 1 und 2 ist eine im wesentlichen ebene Trägerschicht 1 aus Quarzglas aus zwei Richtungen,
die zueinander um 90° versetzt sind, gezeigt. Ferner ist in der Trägerschicht eine Rille 2 durch Verdampfen
des Quarzglases durch ein CC^-Laser L ausgebildet.
Ein Laserausgangsstrahl 3 wird durch eine Linse 4 auf die Oberfläche der Trägerschicht 1 fokussiert,
und wenn diese Strahlung von der Trägerschicht absorbiert wird, wird eine ausreichende Wärme erzeugt, um den bestrahlten
Bereich zu verdampfen. Indem die Trägerschicht in bezug auf den Punktstrahl des Lasers bewegt wird,
wird eine Rille ausgebildet. In der FIG. 1 ist die Trägerschicht auf einem bewegbaren Träger 5 befestigt, der
mittels eines elektrischen Motors 7 und eines Unter-Setzungsgetriebes
8 bei Steuerung mit einer geeigneten Steuervorrichtung 9 über eine Grundplatte 6 verschiebbar
ist. Die Steuervorrichtung oder auch Steuerschaltung 9, die beispielsweise durch einen Computer realisiert
ist, kann ebenfalls die Funktion des Lasers L steuern. Jedoch können auch andere Vorrichtungen zum
Erzeugen der erforderlichen Relativbewegung der Trägerschicht 1 verwendet werden, wobei z.B. der Laser L
und die Linse 4 alternativ zu dem Träger 5 bewegt werden.
Das Querschnittsprofil der Rille und ihre Gesamtausdehnungen hängen in kritischer Weise von der Lichtfleckgröße
des fokussierten COp-Lasers, der Ausgangsleistung des Lasers, der Geschwindigkeit der Träger-
schicht relativ zu dem fokussierten Laserfleck und von dem Abstand zwischen der Oberfläche der Trägerschicht
und der Fokusebene der fokussierenden Linse ab. Wenn
erforderlich, können daher ein oder mehrere dieser Variablen so eingestellt werden, daß die Geometrie
der Rillen verändert werden kann. Die FIG. 3 bis 5 zeigen drei typische Querschnittsprofile von Rillen,
die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren in einfacher
Weise erhältlich sind.
Wenn der bestrahlte Flächenbereich der Trägerschicht verdampft wird, bildet sich jedoch Quarzglasstaub,
der entfernt werden muß und zwar sowohl aus Sicherheitsgründen als auch zur Erzeugung von Rillen
guter Qualität. Daher sind, wie in der FIG. 2 zu sehen ist, zwei Düsen 15 nahe dem Verdampfungspunkt
angeordnet, wobei ihre anderen, rückwärtigen Enden mit einer nicht dargestellten Vakuumpumpe verbunden
sind, mittels derer der Quarzglasstaub von der Rille
weggesaugt wird.
Wenn diese Anordnung zur Staubabsaugung nicht sämtlichen Staub entfernt, der sich z.B. in der Nähe
der Rillen ablagert und daher rauhe Rillenkanten erzeugt, so kann die Trägerschicht anschließend mit
Flußsäure geätzt werden. Auf diese Weise wird der angelagerte Quarzglasstaub oder auch das angelagerte
Quarzglaspuder beseitigt, und es werden auf diese Weise wieder Rillen mit weichen Kanten hergestellt.
Das oben beschriebene Verfahren zur Herstellung von Rillen in Trägerschichten für optische Bauteile
ist sehr einfach und vielseitig. Es kann in einfacher Weise angewandt werden, wenn sehr komplizierte Muster
von Rillen mit gekrümmten Verläufen, Verjüngungen und abrupten oder periodischen Breite/Tiefe-Variationen
hergestellt werden sollen. Das Verfahren eignet sich ferner gut für eine Computersteuerung und bietet sich
daher für die Massenproduktion von Rillen mit einer hohen Geschwindigkeit an. Dabei kann durch Änderung
der Software das Muster der Rillen sehr leicht abgeändert werden.
Obwohl es im allgemeinen vorteilhafter ist, die
Trägerschicht in bezug auf den Laserausgangsstrahl zu
bewegen, wie oben beschrieben wurde, so kann es in manchen Fällen aber auch vorteilhafter sein, die
Trägerschicht stationär zu halten und mit dem Laserausgangsstrahl die Trägerschicht abzutasten. Dabei
können parallele Rillen erzeugt werden, indem die Position der Trägerschicht in transversaler Richtung zu
den Rillen jeweils zwischen jeder Abtastung eingestellt wird.
-J-
- Leerseite -
Claims (1)
11012
Pctieniaüwälie
Reiche! u. Reichel
Reiche! u. Reichel
Parkstraße 13
6000 Frankfurt a. M. 1 35 20
6000 Frankfurt a. M. 1 35 20
THE GENERAL ELECTRIC COMPANY, p.l.c, London, England
Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung optischer Bauteile, die
eine Rille in einem Substrat aufweisen, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Herstellung der Rille (2) der Ausgangsstrahl
(3) eines Lasers (L) auf dem Substrat (1) fokussiert wird, so daß ein Teilbereich des Substrats verdampft
wird, und eine Relativbewegung zwischen dem Substrat und dem Laserausgangsstrahl so ausgeführt wird, daß
die Rille (2) ausgebildet wird.
10
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2. Verfahren nach Anspruch 1, welches als weiteren Verfahrensschritt das Entfernen von Staub, der sich
beim Verdampfen des Substrats bildet, durch Absaugung vorsieht.
3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Substrat aus Quarzglas hergestellt ist und in dem die Entfernung
von zumindest eines Teils des sich während des Verdampfens bildenden Staubes durch Ätzen mit Flußsäure
bewirkt wird.
4. Verfahren nach jedem vorangehenden Anspruch, in dem anschließend das Glas in der hergestellten Rille
oder den hergestellten Rillen angelagert wird.
3. Verfahren nach jedem der Ansprüche 1, 2 oder 3, in dem zwei Lichtleitfasern zur Realisierung einer optischen
Kopplung zwischen beiden Lichtleitfasern mit ihren Enden dicht aneinander hintereinander in einer
hergestellten Rille befestigt werden.
ßÄD ORKaINAl
6. Gerät zur Herstellung von optischen Bauteilen mit einem Substrat, in dem eine oder mehrere Rillen ausgebildet
sind,
dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät eine Trägervorrichtung (5) für das Substrat
(1), einen Laser (L), eine Vorrichtung (4) zum Fokussieren des Laserausgangsstrahls auf einen Bereich
(2) des Substrats zum Verdampfen des Substratmaterials in diesem Bereich und Vorrichtungen (6, 8) aufweist zur
Erzeugung einer Relativbewegung zwischen dem Substrat einerseits und dem Laser und der Vorrichtung zum Fokussieren
andererseits zur Ausbildung einer Rille (2) in der Substratoberfläche.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB848414879A GB8414879D0 (en) | 1984-06-11 | 1984-06-11 | Optical components |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3520812A1 true DE3520812A1 (de) | 1985-12-12 |
Family
ID=10562261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19853520812 Withdrawn DE3520812A1 (de) | 1984-06-11 | 1985-06-11 | Herstellung von optischen bauteilen |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE3520812A1 (de) |
| FR (1) | FR2565700A1 (de) |
| GB (2) | GB8414879D0 (de) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8603893D0 (en) * | 1986-02-17 | 1986-03-26 | Gen Electric Co Plc | Optical fibre switch |
| BG46808A1 (en) * | 1988-05-27 | 1990-03-15 | Univ Plovdivski | Device for laser engraving |
| WO1997035811A1 (en) | 1996-03-25 | 1997-10-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | A laser processing method for a glass substrate, and a diffraction grating and a microlens array obtained therefrom |
| GB2331074A (en) * | 1997-11-01 | 1999-05-12 | Pilkington Micronics Limited | Channelled glass substrate |
| TW407219B (en) * | 1998-08-03 | 2000-10-01 | Lucent Technologies Inc | Method of making ferrule connectors for optical fibers |
| DE102012101058B3 (de) * | 2012-02-09 | 2012-12-13 | Highyag Lasertechnologie Gmbh | Depositionsspleißen |
| FR3057677B1 (fr) * | 2016-10-13 | 2019-12-13 | Stmicroelectronics Sa | Procede de fabrication d'un guide d'onde |
| US10067291B2 (en) | 2016-10-13 | 2018-09-04 | Stmicroelectronics Sa | Method of manufacturing a waveguide |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL129233C (de) * | 1965-01-15 | |||
| GB1215713A (en) * | 1967-03-16 | 1970-12-16 | Nat Res Dev | Improvements relating to thermal cutting apparatus |
| GB1367767A (en) * | 1970-12-31 | 1974-09-25 | Secr Defence | Laser machining of oxide materials |
| US3885943A (en) * | 1974-07-01 | 1975-05-27 | Ford Motor Co | Method of cutting glass with a laser |
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| US4323755A (en) * | 1979-09-24 | 1982-04-06 | Rca Corporation | Method of making a machine-readable marking in a workpiece |
| FR2476524A1 (fr) * | 1980-02-27 | 1981-08-28 | Sumitomo Metal Ind | Procede pour travailler la surface d'un cylindre de laminage a froid |
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| CH638124A5 (fr) * | 1980-10-23 | 1983-09-15 | Raskin Sa | Machine a decouper un materiau en feuille. |
| SE425464B (sv) * | 1980-11-06 | 1982-10-04 | Optik Innovation Ab Oiab | Forfarande vid framstellning av en lins eller en form for gjutning av en lins |
| DE3145278C2 (de) * | 1981-11-14 | 1985-02-14 | Schott-Zwiesel-Glaswerke Ag, 8372 Zwiesel | Verfahren zum berührungslosen Abtragen von Material von der Oberfläche eines Glasgegenstandes und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
-
1984
- 1984-06-11 GB GB848414879A patent/GB8414879D0/en active Pending
-
1985
- 1985-06-10 GB GB08514619A patent/GB2160196A/en not_active Withdrawn
- 1985-06-10 FR FR8508748A patent/FR2565700A1/fr not_active Withdrawn
- 1985-06-11 DE DE19853520812 patent/DE3520812A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2160196A (en) | 1985-12-18 |
| GB8514619D0 (en) | 1985-07-10 |
| GB8414879D0 (en) | 1984-07-18 |
| FR2565700A1 (fr) | 1985-12-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |