DE29517100U1 - Strömungsteilungs- und -umformungskörper - Google Patents
Strömungsteilungs- und -umformungskörperInfo
- Publication number
- DE29517100U1 DE29517100U1 DE29517100U DE29517100U DE29517100U1 DE 29517100 U1 DE29517100 U1 DE 29517100U1 DE 29517100 U DE29517100 U DE 29517100U DE 29517100 U DE29517100 U DE 29517100U DE 29517100 U1 DE29517100 U1 DE 29517100U1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- flow
- channels
- division
- flow channel
- channel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 4
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F15/00—Screen printers
- B41F15/14—Details
- B41F15/40—Inking units
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C1/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
- B05C1/04—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length
- B05C1/08—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line
- B05C1/10—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line the liquid or other fluent material being supplied from inside the roller
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S366/00—Agitating
- Y10S366/03—Micromixers: variable geometry from the pathway influences mixing/agitation of non-laminar fluid flow
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/85938—Non-valved flow dividers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/877—With flow control means for branched passages
- Y10T137/87877—Single inlet with multiple distinctly valved outlets
Landscapes
- Mechanical Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Paper (AREA)
- Vehicle Body Suspensions (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- External Artificial Organs (AREA)
- Nuclear Medicine (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Confectionery (AREA)
- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
- Chairs Characterized By Structure (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Audible-Bandwidth Dynamoelectric Transducers Other Than Pickups (AREA)
- Massaging Devices (AREA)
Description
Johannes Zimmer, Ebentaler Str. 133, 9020 Klagenfurt/ Österreich
Die Erfindung betrifft einen Strömungsteilungs- und -umforinungskörper
mit einer lang sich erstreckenden Körperlängsachse zur Strömungsteilung und Strömungsumformung von fließfähigen
und/oder gasförmigen Substanzen, umfassend wenigstens ein Teilungssystem, in dem die Substanzen zwischen einer Anschlußöffnung
eines die Substanz in zusammengefaßter Strömung führenden Gesamtstromkanals und einer Reihe von längs des
Körpers angeordneten Öffnungen, die einem in der Körperlänge
sich erstreckenden schmalen Austrittsbereich zugeordnet sind, geführt wird, wobei der von der Anschlu/3öffnung ausgehende
Gesamtstromkanal in zwei den Gesamtstrom an einer ersten Teilungsstelle teilende, Substanz führende Kanäle einer ersten
Teilungsstufe verzweigt und wenigstens eine weitere Teilungsstufe
nachgeordnet ist, in der an der zugehörigen Teilungsstelle jedes Kanalende der vorangehenden Stufe in jeweils
zwei die Strömung teilende und sie in entgegengesetzte Richtungen entlang der Körperlängsrichtung umlenkende Kanäle verzweigt.
Dem im Inneren des Strömungskanalkörpers angeordneten Strömungskanalsystem sind insbesondere in beiden Strömungsrichtungen
Arbeitsfunktionen zugeordnet. Der Strömungskanalkörper
ist vorzugsweise Teil einer Auftragungseinrichtung, z.B. einer Siebzylinder-Rundschablonen-Druckmaschine. Er kann
in einen Tragholm einer solchen Maschine eingebaut oder an 0 einen Tragholm angesetzt sein. Der Strömungskanalkörper kann
aber auch für andere Zwecke der breitengleichmäßigen Fluidverteilung
genutzt werden.
Ein gattungsgemäßer Strömungskanalkörper ist aus WO 94/17 92 7
bekannt. Ein Gesamtstromkanal, der von einer stirnseitig angeordneten
Anschlußöffnung ausgeht, führt bis in die Längsmitte des Strömungskanalkörpers. Dort erfolgt eine Stromteilung
mittels einer T-förmigen Kanalverzweigung. Diese bekann-
&igr; m · 1 t · · '
te Strömungsteilung erfolgt unmittelbar nach einer 90° Strömungsumlenkung
aus Längsrichtung in Querrichtung in Verbindung mit einer anschließenden 90°-Doppelumlenkung, die die
eigentliche Teilung bildet. Bekannte Einrichtungen der gattungsgemäßen Art erfüllen nur einige der an sie gestellten
Anforderungen, und auch nur mit Einschränkungen. Insbesondere fehlt bisher eine Einrichtung, mit der der Bereich auch sehr
großer Strömungsmengenleistungen mit allen Substanzen von wäßriger bis hochviskoser Beschaffenheit und insbesondere für
relativ große Arbeitsbreiten, nämlich insbesondere 3 bis 5 Meter, mit Teilungsgenauigkeit beherrschbar ist. Dieser Mangel
besteht insbesondere in Verbindung mit Rundschablonen-Druckmaschinen,
d.h. unter Berücksichtigung der beengten Rundschablonen-Raumverhältnisse. So beträgt der öffnungsdurchmesser
der am meisten gebräuchlichen Rundschablonen nur 130 bis maximal 160 mm. Der Mangel besteht auch angesichts
der erforderlichen Stabilität, d.h. der Geradheit über die gesamte Körperlänge. Ein wesentlicher Nachteil bekannter
Strömungskanalkörper ist in der Ungenauigkeit und Unzuverlässigkeit
der Teilung zu sehen, und zwar insbesondere bei Verwendung von Substanzen sehr unterschiedlicher Viskosität
und/oder Mengen. Je größer Substanzmenge, Körperlänge und/ oder Viskositätsunterschiede sind, desto schwerwiegender
wirken sich die Mängel aus. Einige Mangel der bekannten Strömungskanalkörper
sowie Grundlagen werden anhand der schematischen Fig. A bis C zum Stand der Technik erläutert.
Fig. A zeigt eine allgemein bekannte T-Rohrverzweigung. In
Fig. B sind eine relativ lange Strömungsstrecke Q vor der
Strömungsverzweigung und die beiden gleichlangen kürzeren T-Verzweigungstrecken
Ll und L2 mit zugehörigen Ausströmungswiderständen Gl und G2 dargestellt. Nur wenn die Strecke Q
ausreichend lang ist und die Strecken Ll und L2 gleich lang sind, kann eine Strömungshalbierung erwartet werden. Fig. C
zeigt einen bekannten Strömungskanalkörper, der eine langgestreckte Platte aufweist, in die ein Strömungskanalsystem mit
fortgesetzter Halbierungsteilung eingearbeitet ist. Der gesamte Körper umfaßt zwei solche Platten, die spiegelgleich
hergestellt sind und mit der in Fig. C gezeigten Ansichtsfläche abdichtend zusammengefügt werden. In Fig. C ist die
Längserstreckung des Strömungskanalkörpers gedrängt dargestellt.
Sie kann z.B. lOmal größer gedacht werden. Legt man
z.B. eine Rundschablonenöffnung mit 150 mm Durchmesser zugrunde, wobei von diesem Maß mindestens 50 mm für eine Rakeleinrichtung
benötigt werden, ergibt sich bei einer Arbeitsbreite von z.B. 3 Meter für einen Strömungskanalkörper ein
ProportionsVerhältnis von 1 zu 30 für die Quererstreckung zur
Längserstreckung. In Fig. C ist mit Ql bis Q4 verdeutlicht, da/3 die Querma/3e der Teilungsstufen sehr kurz sind, woraus
die erwähnte Unzuverlässigkeit für die Strömungshalbierung resultiert. Es wird daraus auch deutlich, daß die Halbierung
um so ungenauer ist, je größer der jeweilige Querschnitt eines Strömungskanals ist. Somit ist die Unzuverlässigkeit
der Teilungshalbierung an der ersten, für die Breitenverteilung jedoch besonders wesentlichen Teilungsstelle, die mit Tl
bezeichnet ist, am größten. Die erläuterten Verhältnisse sind im Prinzip für alle bisher bekannten Einrichtungen der betroffenen
Art zutreffend.
Ein Hauptziel der Erfindung besteht darin, einen Strömungskanalkörper
zur mehrfachen Strömungsteilung und -umformung insbesondere für eine Auftragungsvorrichtung wie eine Druckmaschine
od.dgl. zu schaffen, mit dem die Substanzführung hinsichtlich gleichmäßiger Breitenverteilung wesentlich verbessert
ist, und zwar für dünnflüssige Substanzen bis hin zu zähflüssigen Substanzen, bei auch besonders großen Arbeitsbreiten,
großen Substanzmengen und/oder Erhöhung der Produktionsgeschwindigkeit einer Auftragungsmaschine, wobei insbesondere
auch mechanische Körperfestigkeit bei dennoch relativ kleinem Konstruktionsquerschnitt verbessert sein soll.
35
ft*·
I #
I #
Die Ziele werden in Verbindung mit den Merkmalen des eingangs genannten Strömungskanalkörpers dadurch erreicht, da/3 der
Gesamtstromkanal an der ersten Teilungsstelle in zwei parallel
und nebeneinander verlaufende, Substanz in gleiche Richtung führende Abschnitte von Teilstromkanälen übergeht, wobei
die Strömung im Bereich vor, an und nach der Teilungsstelle geradlinig oder zumindest nahezu geradlinig verläuft. Erfindungsgemä/3
wird genaue Halbierungsteilung insbesondere dadurch zustande gebracht, da/3 der Strömungsbereich vor, an und
nach der Teilungsstelle durch einen im ganzen zumindest nahezu geradlinigen, linearen Strömungsweg gebildet ist. Dabei
ist es erfindungsgemä/3 auch wesentlich, da/3 zumindest für die
erste Strömungsteilung in dem Strömungskanalkörper die geradlinige
Strömungsteilung vorgesehen ist. Die Strömungsteilung erfolgt unabhängig von einer erst nachfolgenden Richtungsverzweigung
und Strömungsumlenkung. Wie gefunden worden ist, wird die Teilungsqualität infolge der parallelen Strömungsverzweigung
und erst anschließender Richtungsverzweigung wesentlich verbessert. Die erfindungsgemä/3e Substanzteilung
0 in der ersten Teilungsstufe führt selbst dann, wenn nachfolgende Stufen durch herkömmliche T-förmige Verzweigungen
gebildet werden, zu einer wesentlichen Verbesserung der Breitenverteilung. Diese Verbesserung ist für sehr unterschiedliche
Substanzviskositäten, relativ gro/3en Substanzdurchsatz und relativ große Arbeitsbreiten erreicht. Im Bereich
des Kanalübergangs zwischen der ersten und der nachfolgenden Stufe lassen sich im Unterschied zu bekannten Strömungskanalkörpern
wesentlich geringere Wandungsstärken oder statt dessen entsprechend größere Kanalquerschnitte vorsehen.
Im Substanzeinleitungsbereich erzielbare große Kanalquerschnitte und damit erreichte große Fördervolumen erlauben
insbesondere auch, mit besonders zähflüssigen, gerade noch fließfähigen Substanzen zu arbeiten. Weiterhin ist gefunden
worden, daß aufgrund der erfindungsgemäßen Parallelstromteilung
das insbesondere für Reinigungszwecke vorgesehene
Absaugen von Substanz oder Gas durch den Strömungskanalkörper
mit zu der Substanzverteilung umgekehrter Strömungsrichtung wesentlich wirksamer ausgeführt werden kann, wobei dann durch
die Parallelzusammenführung die Ansauggleichmäßigkeit verbessert wird.
5
5
Durch einen eine Anschlu/3öffnung bildenden Rohranschluß mit
vorzugsweise etwa 2 0-50 mm Durchmesser einströmende Substanz von wäßrig flüssiger, beliebig viskoser oder gasförmiger Beschaffenheit
wird zuverlässig gleichmäßig in aufeinanderfolgenden Teilungsstufen jeweils in genauer Halbierung, also
mehrfach halbierend, geteilt, wobei die Teilströme auf Längen
von insbesondere etwa 2 bis 5 Meter erstreckt, d.h. auseinandergeleitet und gedehnt werden. In einer Auftragungseinrichtung,
z.B. für eine Rundschablonenauftragung, entspricht
das Maß der Aufteilungslänge der Bahnbreite und damit der
Druck- oder Arbeitsbreite. Das Ausströmen der über die jeweilige Arbeitsbreite mehrfach halbierend aufgeteilten Substanz
erfolgt in Form einer homogen und breitengleichmäßig austretenden Substanzschicht. Zumindest wird eine weitgehende Annäherung
an eine solche schicht-, film- oder breitstrahlförmige Ausströmung erzielt. Das Ausströmen von Auftragungssubstanz
erfolgt weitgehend druckarm, d.h. nahezu drucklos, und zwar sehr nahe an der Auftragungszone. Einspritzendes Austreten
unter Druck würde Auftragungsfehler verursachen. Der erfindungsgemäße
Strömungskanalkörper eignet sich auch für Reinigungszwecke, wobei Reinigungsflüssigkeit im Unterschied zur
Auftragungssubstanz mit hohem Druck ausströmt. Die Strömungskanäle
sind derart, daß auch bei Strömungsumkehrbetrieb zwecks Entleerung des Strömungskanalsystemes und auch für das
Absaugen von Substanz und von Substanzwassergemisch aus der Auftragungszone durch den Austrittsöffnungsbereich optimaler
Strömungsfluß gegeben ist. Der Strömungskanalkörper ist nicht nur zur Selbstreinigung durch bloßes Durchströmen unterschiedlicher
Substanzen geeignet, sondern auch für anderweitige Reinigungszwecke nutzbar, z.B. für das Reinigen von
Teilen einer Auftragungsvorrichtung, und insbesondere auch
für das Reinigen einer Rundschablone. Nach erfolgter Reinigung
kann die Reinigungsflüssigkeit zweckmäßig durch das Durchströmen von Gas (Druckluft) entfernt werden.
Der unmittelbar an eine stirnseitige, insbesondere eine Rohr- oder Schlauchanschlu/3kupplung aufweisende Anschlußöffnung
anschließende, den Gesamtstrom führende Kanal und der in linearer Verlängerung weiter daran anschließende Strömungsweg
mit zwei Parallelkanalabschnitten bis in die Körperlängsmitte können zweckmäßig in den Körper eingearbeitet öder in einer
außen an dem Körper sich erstreckenden Rohrleitung vorgesehen sein. Auf dem Weg des geradlinigen Strömungsverlaufs im Bereich
zwischen der Körperstirnseite und der Körperlängsmitte beginnen die Teilungsparallelkanalabschnitte vorzugsweise in
dem ersten Wegdrittel, zumindest aber zu Beginn des letzten Wegviertels. Vorzugsweise ist querschnittsmittig in einem
Rohr eine maßgenau konstruierte Innenwand angeordnet, um mit dieser Rohrhalbierung die beiden Teilungsparallelkanalabschnitte
zu bilden. Die geradlinig verlaufende Halbierungs-Strömungsstrecke
umfaßt vorzugsweise Parallelkanalabschnitte mit gleichem Strömungsquerschnitt und gleicher Querschnittsform,
die getrennt in Körperquerrichtungen und aus diesen, getrennt bleibend, in um 180° entgegengesetzte Körperlängsrichtungen
umgelenkt werden. Eine besonders vorteilhafte Erfindungsgestaltung besteht darin, daß im schmalen, parallel
zur Körperlängsachse sich erstreckenden Substanzaustrittsbereich Austrittskanäle mit Querverlauf zur Körperlängsachse
schräg angeordnet sind. Ganz besonders vorteilhaft ist es, einen quer zur Körperlängsachse schräg angeordneten, über die
gesamte Arbeitsbreite sich erstreckenden Austrittsspalt vorzusehen, dessen Spaltquerschnittsbreite vorzugsweise im
Bereich von 0,2 bis 2,0 mm beträgt und der zweckmäßig auch mittels einer von außen an den Strömungskanalkörper angesetzten
Wand vorgesehen sein kann.
Sehr vorteilhaft werden die Querschnitte der Strömungskanäle des erfindungsgemäßen Strömungskanalkörpers insbesondere in
den letzten Teilungstufen vor dem sowie im Substanzaustrittsbereich und ggf. auch der Strömungsquerschnitt eines Austrittsspalts
derart dimensioniert, da/3 ausströmende Auftragungssubstanz praktisch drucklos, d.h. weitgehend druckentspannt
ausfließt und der Schwerkraft folgend abfliegt, während Reinigungsflüssigkeit zum Reinigen von Rakelgerätteilen
vor dem Austrittsbereich unter Druck ausspritzt, und zwar vorteilhaft so, als ob das Ausspritzen durch eine über die
Arbeitsbreite sich erstreckende Breitstrahldüse erzeugt wird, wobei ein über die Arbeitsbreite geschlossener Flüssigkeitsbreitstrahl
erzeugt wird, der im Abstand von etwa 20 bis 80 mm von den Austrittsöffnungen bzw. von der Austrittsspaltöffnung
die größte Reinigungskraft hat. Im Zusammenhang damit wird eine Substanz-Zuführungseinrichtung wie eine Pumpe in
Verbindung mit einer optimal stetig fördernden Zuführungssteuerung vorgesehen, um Druckstöße in der Substanzzuführung
zu vermeiden.
Noch andere zweckmäßige und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung gehen aus Unteransprüchen hervor.
Besonders zweckmäßige und vorteilhafte Ausbildungsformen oder -möglichkeiten der Erfindung werden anhand der folgenden Beschreibung
der in der schematischen Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele näher beschrieben. Es zeigen
Fig. 1 in Längsansicht einen erfindungsgemäßen
Strömungskanalkörper in kombinierter Bau
form mit Rohrkörper und Quaderkörper,
Fig. 2 im Teillängsschnitt in Draufsicht den
Teil eines erfindungsgemäßen Strömungskanalkörpers mit in einen
Rohrkörper eingesetztem Massivkörper,
Fig. 3 im Profilquerschnitt erfindungsgemäße
und 4 Stromungskanalkorper, die aus mehreren
Teilkörpern zusammengesetzt sind, und 5
Fig. 5 in Teillängsansicht den stirnseitigen
Endbereich des Strömungskanalkörpers
gemäß Fig. 3.
Zunächst wird anhand der Fig. 4 ein erfindungsgemäßer Strömungskanalkörper
1 im Einbauzustand in einer Auftragungseinrichtung beschrieben.
Der Strömungskanalkörper 1 ist aus einem eine Anschlußöffnung
aufweisenden Anschlußkanalkörper 101 und weiteren sogenannten Zusatzkanalkörpern 102 und 103 zusammengefügt. Zweckmäßig
sind die einzelnen Körper flächig aneinandergeklebt. Der Anschlußkanalkörper
101 umfaßt ein Rohr mit Kreisquerschnitt, in dem zwei Teilungsstufen ausgebildet sind. Das Rohr bildet
ein Tragholmrohr 16, das sich in der Vorrichtungslänge über die Auftragungsbreite einer Arbeitsauftragungsflache 81 wie
einer Warenbahn od.dgl. erstreckt. Diese ist in Arbeitsrichtung B in horizontaler Lage bewegbar, wobei sie auf einem
Magnettisch 82 aufliegt. Ein mit magnetisierbarer Masse 92 ausgestattetes, mittels eines Halteelements 91 schwenkbewegbar
gehaltenes Rakelelement in Form einer Streichrakel 9 ist mit seiner Rakelkante gegen die Warenbahn 81 und ggf. eine
Siebzylinder-Rundschablone 80 anpreßbar. Das unter das Tragholmrohr 16 sich erstreckende Halteelement 91 ist an einer in
Arbeitsrichtung B hinteren, über die Arbeitsbreite parallel zur Rohrlängsachse sich erstreckenden Wand 17 befestigt. Das
Tragholmrohr ist mit seinen Enden in Auflagern einer nicht näher dargestellten Auftragungsmaschine gehalten, wobei der
Anschlußkörper 101 um eine längsachsenparallele Körperachse schwenkbar und ggf. in der Schwenkposition festsetzbar ist.
Ein in Fig. 1 dargestellter erfindungsgemäßer Strömungskanalkörper
1, der nun näher beschrieben wird, kann mit seinem tragenden Teilkörper 15, der platten- oder balkenförmig ist,
zweckmäßig auch als Tragholmeinrichtung in einer Auftragungseinrichtung genutzt werden. Der Strömungskanalkörper 1 umfaßt
eine aus Rohren 140, 141 und 142 zusammengefügte Rohrleitung 14 und den massiven Kanalkörper 15. Dieser erstreckt sich
lang entlang seiner Körperlängsachse 10. Die Rohrleitung ist oberhalb der oberen Längsseite 151 des Kanalkörpers 15
angeordnet, mit dem sie sich längsachsenparallel von einer Stirnseite bis zur Körperlängsmitte erstreckt.
Die Rohrleitung 14 umfaßt stirnseitig ein Gesamtkanalrohr mit rechteckigem, vorzugsweise quadratischem Querschnitt.
Eine Rohr- oder Schlauchzuleitung 143 ist über eine Kupplungsverbindung
an die stirnseitige Anschlußöffnung 2 des Rohres 140 anschließbar. In das andere Ende des geraden Rohres
140 sind in abdichtender Verbindung zwei gerade parallel aneinanderliegende Teilkanairohre 141, 142 eingesteckt. Jedes
Rohr 141, 142 weist mit Ausnahme der Wandstärken genau den halben Querschnitt des Rohres 140 auf, also vorteilhaft den
Halbquadratquerschnitt des Rohres 140. Das Rohr 140 bildet erfindungsgemäß den Gesamtstromkanal Kl in geradliniger
Verbindung mit den Teilkanalrohren 141, 142, die geradlinig fortgesetzte Abschnitte von Teilstromkanälen K2a und K2b
bilden. Dabei ist die Teilungsstelle Tl der erfindungsgemäßen
Parallelstromteilung an den stirnseitigen bündigen Eingangsquerschnitten der Rohre 141, 142 gebildet. Diese Teilungsstelle
Tl ist, von der Anschlußöffnung 2 her betrachtet, am Ende des ersten Drittels der im ganzen linearen gradlinigen
Erstreckung der Rohrleitung 14 im Bereich zwischen der Körperstirnseite und der Körperlängsmitte angeordnet. Das heißt,
daß die gerade Länge eines jeden Rohres 141, 142 doppelt so lang wie der Gesamtströmungskanal Kl ist.
- &iacgr;&ogr; -
Die Halbstromrohre 141, 142 sind im Bereich der Körperlängsmitte jeweils mit einer Bogenkrümmung von 90° umgelenkt, und
sie sind, in spiegelsymmetrischer Anordnung zur Mitten-Querebene Ml des Massivkanalkörpers 15 an diesen angeflanscht.
Dadurch sind die Kanäle K2a und K2b durch in den Kanalkörper 15 eingearbeitete Kanäle fortgesetzt, die den gleichen
Querschnitt und die gleiche Querschnittsform wie die Rohre 141, 142 aufweisen. In dem Kanalkörper 15 erfolgt die
fortgesetzte Strömungsteilung. Im Anschluß an den zu der Querebene Ml parallelen und zur Körperlängsachse 10 senkrechten
Verlauf der Kanäle K2a und K2b erfolgt eine jeweils weitere Richtungsänderung der beiden Kanäle um 90° in 180°
divergierende, parallel zur Körperlängsachse 10 sich erstreckende gerade Abschnitte der Kanäle K2a und K2b.
Nachfolgende Teilungsstufen können in herkömmlicher Weise ausgebildet sein. Dann verzweigen zur Körperlängsachse 10
senkrechte Kanalabschnitte an Teilungsstellen T3, T4 auf übliche Weise in die beiden T-Armabschnitte der nachfolgenden
Teilungsstufe. Dabei findet die Richtungs- und Strömungsverzweigung an ein und derselben Stelle statt, also ganz anders
als die erfindungsgemäß vorgesehene Teilung in der ersten
Stufe. Durch fortgesetzte Teilung wird der Substanzstrom auf die gewünschte Zahl Z = 2N der Kanäle aufgeteilt, wobei N die
Stufenzahl ist. Die am Ende dieses Teilungssystems senkrecht
zur Körperlängsachse 10 sich erstreckenden Kanalabschnitte der Teilstromkanäle, nämlich in Fig. 1 die Abschnitte der
Kanäle K5 münden an der Längsunterseite 152 des Kanalkörpers 15 in Substanzaustrittsöffnungen 3. So sind in Fig. 1 an der
Körperunterseite sechzehn Austrittsöffnungen vorgesehen.
Besonders vorteilhaft ist es, insbesondere bei vielstufiger Teilung, auch eine oder mehrere der ersten Teilungsstufe
nachfolgende Teilungsstufen mit der erfindungsgemäßen Teilung
auszustatten. Dies ist in Fig. 1 für die zweite Teilungsstufe dargestellt. Die in dem Kanalkörper 15 längsachsenparallel
-limit
ihm sich erstreckenden geraden Abschnitte der Kanäle K2a und K2b gehen an der zugehörigen Teilungsstelle T2a bzw. T2b in zwei parallel nebeneinander verlaufende Abschnitte von Teilstromkanälen K3al, K3a2 bzw. K3bl, K3b2 über. Dabei sind diese geraden Abschnitte jeweils mittels eines Abschnittes einer Trennwand 40 gebildet, der sich in gerader Fortsetzung der Kanäle K2a, K2b erstreckt, wobei die dadurch gebildeten Teilstromkanalabschnitte genau den halben Strömungsquerschnitt der Kanäle K2a, K2b aufweisen. Damit erfolgt erfindungsgemä/3 die richtungsgleiche geradlinige Strömungsteilung wiederum unabhängig und getrennt von der erst anschließenden Richtungsänderung um 90° in Richtung senkrecht zur Körperlängsachse 10 und noch einmal um 90° in Richtung parallel zur Körperlängsachse 10. Dabei sind die Kanäle K3al, K3a2 bzw. K3bl, K3b2 auch in der ersten Krümmung und dem sich anschließenden geraden Abschnitt senkrecht zur Körperlängsachse 10 durch die Trennwand 40 getrennt.
ihm sich erstreckenden geraden Abschnitte der Kanäle K2a und K2b gehen an der zugehörigen Teilungsstelle T2a bzw. T2b in zwei parallel nebeneinander verlaufende Abschnitte von Teilstromkanälen K3al, K3a2 bzw. K3bl, K3b2 über. Dabei sind diese geraden Abschnitte jeweils mittels eines Abschnittes einer Trennwand 40 gebildet, der sich in gerader Fortsetzung der Kanäle K2a, K2b erstreckt, wobei die dadurch gebildeten Teilstromkanalabschnitte genau den halben Strömungsquerschnitt der Kanäle K2a, K2b aufweisen. Damit erfolgt erfindungsgemä/3 die richtungsgleiche geradlinige Strömungsteilung wiederum unabhängig und getrennt von der erst anschließenden Richtungsänderung um 90° in Richtung senkrecht zur Körperlängsachse 10 und noch einmal um 90° in Richtung parallel zur Körperlängsachse 10. Dabei sind die Kanäle K3al, K3a2 bzw. K3bl, K3b2 auch in der ersten Krümmung und dem sich anschließenden geraden Abschnitt senkrecht zur Körperlängsachse 10 durch die Trennwand 40 getrennt.
Anhand der Fig. 2, die den Längsschnitt gemä/3 Ansicht A-B in
Fig. 4 darstellt, wird die erfindungsgemäße Teilungsstruktur in einer anderen Ausführungsform beschrieben. In das Tragholmrohr
16 ist ein in Länge und Querschnitt entsprechend dem Rohr 16 dimensionierter Massivkörper 160 vorteilhaft in Klebeverbindung
dichtend und paßgenau in das Rohr 16 eingefügt. In diesem Innenkörper 160 sind die Kanäle Kl, K2a, K2b der
erfindungsgemäßen Teilung sowie Kanäle K3 der nachfolgenden Teilungsstufe ausgebildet und eingearbeitet.
Stirnseitig ist eine Zuleitung 143 in Kupplungsverbindung in eine Anschlußöffnung 2 mit Kreisquerschnitt eingesetzt. Von
dort wird der Strömungsquerschnitt über eine flach konvex gekrümmte Innenfläche in den halben Kreisinnenquerschnitt des
Kanals Kl des Rohres 16 umgeformt. In dem Gesamtströmungskanal Kl erfolgt die Strömung dann in geradem Weg und erreicht
die Teilungsstelle Tl. Diese ist durch den Stirnrand einer Trennwand 4 gebildet, die sich in der Mittenlängsachse
- 12 -
10 des Rohres 16 erstreckt und den Halbkreis-Strömungsquerschnitt
des GesamtStromkanals Kl genau halbiert. Dadurch
entstehen die geradlinig fortgesetzten Abschnitte der Teilstromkanäle K2a, K2b mit jeweils viertelkreisförmigem Querschnitt
in einem ersten und zweiten oberen Querschnittsquadranten. Die Teilungsstelle Tl wird, in Strömungsrichtung von
der Anschlußöffnung 2 her gesehen, am Ende des ersten Drittels der gemeinsam geraden Strömungsweglänge der Kanäle Kl,
K2a und K2b vorgesehen.
Aus der Teil-Längsschnittansicht gemä/3 Fig. 2 in Verbindung
mit der Profil-Querschnittsansicht gemä/3 Fig. 4 wird deutlich, da/3 die aneinanderliegenden parallelen Kanalabschnitte
K2a, K2b in Abschnitte dieser Kanäle übergehen, die in bezug auf die zur Körperlängsachse 10 senkrecht gerichtete Mittenquerebene
Ml spiegelsymmetrisch in der unteren Hälfte des Rohres 16 verlaufen, und zwar im Querschnittsbereich des mit
K2a+b bezeichneten dritten Quadranten. In Strömungsrichtung mündet der von der Teilungsstelle Tl ausgehende gerade Kanalabschnitt
K2b in die Bodenöffnung 41 mit Kreisquerschnitt, wodurch die Strömung um 180° umgeleitet wird, wobei sie in
Längsrichtung des Rohres im Bereich des Quadranten K2a+b in Richtung der Stirnseite, die die Anschlußöffnung 2 aufweist,
zurückgeführt wird. Der im Rohr 16 oben liegende und nach der 180°-Umlenkung unten liegende Abschnitt des Kanals K2b weist
den gleichen viertelkreisförmigen Querschnitt auf.
Der von der Teilungsstelle Tl ausgehende gerade Abschnitt des
Kanals K2a wird dadurch in den Querschnittsbereich des Quadranten K2a+b überführt, da/3 er durch eine schräge diagonale
Boden-Durchgangsöffnung 42 in den dann in der anderen Längshälfte des Rohres 16 geradlinig fortgeführten Abschnitt des
Kanals K2a überführt wird. Die um 180° in entgegengesetzte Richtung verlaufenden Kanalabschnitte der Kanäle K2a, K2b im
Bereich des Quadranten K2a+b weisen die gleiche Länge auf. An ihren Kanalenden wird die Teilung des Kanalsystems in her-
- 13 -
kömmlicher Weise fortgesetzt. So erfolgt nach einer Strömungsumlenkung
um 90° durch einen Durchgang 43 der Übergang in eine T-Teilung mit den jeweils zugehörigen längsachsenparallelen
Kanälen K3. Wie aus Fig. 4 ersichtlich, erstrecken sich die Kanäle K3 im Bereich des vierten Querschnittsquadranten
des Rohres 16. Es ist ersichtlich, da/3 mit der beschriebenen Querschnittsunterteilung des Rohres 16 eine
besonders hohe Festigkeitsstruktur des Tragholmes 16 bei dennoch materialsparender und gewichtsmäßig leichter Bauweise
erreicht ist. Das Querschnittsinnere des Rohres 16 bzw. der Querschnitt des Innenköprpers 160 weist in Teil-Längsabschnitten
des Rohres 16 eine kreuzförmige Struktur mit den freibleibenden Quadrantenbereichen für die Kanäle auf. Durch
konkave Rundungen der Kanalwände in den inneren Querschnittsecken wird die Körperfestigkeit weiter erhöht.
Nach 90°-Umlenkung enden die Kanalenden der Kanäle K3 in
Durchgangsöffnungen 44 in der Wand des Rohres 16, und zwar im Mantelabschnitt des vierten Quadranten. Zur fortgesetzten
Strömungsteilung sind die vier über die Rohrlänge verteilten Durchgänge 44 der zweiten Teilungsstufe mit fünf nachfolgenden
Teilungsstufen verbunden. Diese fünf Teilungsstufen herkömmlicher Art sind in die Wandung des Zusatzkanalkörpers
eingearbeitet. Dieser erstreckt sich unter dem Tragholmrohr 16 bis zu dem Innenwandbereich der Rundschablone 80.
Das Abstandsteilungsma/3 der Austrittsöffnungen 3 beträgt von
Öffnungsmitte zu Öffnungsmitte, wie gefunden wurde, vorteilhaft
5 bis 15 mm. Bei einer Arbeitsbreite von 1600 mm wird durch die Teilung mit den sieben Stufen gemä/3 Fig. 4 ein
Teilungsma/3 von 1600 mm : 12 8 = 12,5 mm erreicht.
Wie aus Fig. 4 ersichtlich, münden die Austrittsöffnungen 3
in einen Schrägspalt 31, der sich über die Arbeitsbreite erstreckt und in dieser Länge mit seiner Schlitzöffnung zu dem
Rakelelement 9 hin im Bereich der Anliegezone 90 offen ist.
• i
·**
·**
- 14 -
Dabei ist der Spalt 31 im Profilquerschnitt unter einem flachen
Winkel auf die Auftragungsfläche 81 hin gerichtet. Es
ist gefunden worden, da/3 die im Profilquerschnitt gemessene
Spaltbreite (Abstand zwischen den Spaltwänden) vorteilhaft 0,5 bis 1,5 mm beträgt. Es hat sich gezeigt, daß diese Dimensionierung,
vorteilhaft in Verbindung mit dem Teilungsma/3 im Bereich von 0,5 bis 1,5 mm für die Austrittsöffnungen, gerade
dann, wenn zumindest die erste Stufe des durch die Mehrfachteilung gebildeten Teilungssystems mit der erfindungsgemäßen
Stromteilung und -umlenkung ausgebildet ist, sehr günstig ist. Versuche haben hervorragende Breitenverteilungsergebnisse
für stark unterschiedliche Fördermengen, Viskositäten und Förderleistungen ergeben.
Die Düsenlänge des Spalts 31 in Schrägrichtung auf das Rakelelement
9 liegt vorzugsweise im Bereich von 5,0 bis 25 mm.
Insebesondere mit den angegebenen Dimensionierungen ist eine überraschende und sehr vorteilhafte Doppelwirkung erzielt.
0 Einerseits tritt aufzutragende Substanz an der Schlitzöffnung
des schrägen Spalts 31 praktisch senkrecht, der Schwerkraft folgend in über die Auftragungsbreite gleichmäßig geschlossener
Schicht nach unten aus, während andererseits der Schrägspalt 31 für Reinigungsflüssigkeit eine Art Breitstrahldüse
bildet, mit der Reinigungssubstanz in Schrägrichtung des Spalts auf das Rakelelement gestrahlt wird.
Einerseits erweist sich der Austritt der Auftragungssubstanz in einem Bereich von ca. 20 bis 80 mm vor der Rakelanlagelinie
als besonders vorteilhaft, und andererseits ist gefunden worden, daß die Reinigungswirkung des Breitstrahls der
Reinigungsflüssigkeit in dem Abstand von 20 bis 80 mm optimal nutzbar ist.
Der erfindungsgemäße Strömungskanalkörper gemäß Fig. 4 ist mit einem zusätzlichen Kanalsystem für Reinigungs zwecke versehen.
Dieses Kanalsystem umfaßt einerseits die Kanäle Kl,
- 15 -
K2a und K2b der erfindungsgemäßen Parallelstromteilung und
Umlenkführung sowie zudem mit den Enden der Kanäle K2a und
K2b verbundene Kanäle KR3, die eine herkömmliche T-Kanal-Teilungsstufe
bilden, wobei noch eine weitere T-Kanal-Teilungsstufe mit Kanälen KR4 nachgeordnet ist. Die Kanäle KR3
und KR4 der zweiten und dritten Teilungsstufe sind in den Zusatzkanalkörper 103 eingearbeitet. Dieser ist wie der Zusatzkanalkörper
102 zusätzlich an das Tragholmrohr 16 angesetzt, wobei jeweils an dem Ende des Kanals K2a und K2b in
der Wand des Rohres 16 eine schließbare Öffnung 45 vorgesehen ist. Dann, wenn der Strömungskanalkörper durch die Anschlu/3-öffnung
2 mit Reinigungsflüssigkeit gespeist wird, wird die Schließöffnung 45 geöffnet, so da/3 Reinigungsflüssigkeit auch
in das zweite Teilungssystem gelangt. Vorteilhaft enden die acht Kanäle KR4 auch in einem schräg zu dem Austrittsbereich
der Auftragungssubstanz hin gerichteten, in den Körper 103
eingearbeiteten Längsspalt.' Infolge dieser Spaltdüse für Reinigungsflüssigkeit kann vorteilhaft die Innenfläche des
Kanalkörpers 102 im Bereich des Austrittsbereichs 300 gereinigt werden.
Die Reinigungsfunktion hinsichtlich Düsenwirkung und Breitenverteilung
hat sich in Verbindung mit der erfindungsgemäßen ersten Teilungsstufe als besonders günstig und wirksam herausgestellt.
In dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 3 ist ein Tragholmrohr 16 entsprechend ausgebildet wie bei dem Ausführungsbeispiel
gemäß Fig. 2 und 4. Es ist jedoch ein Zusatzkanalkörper 102'
vorgesehen, der die gesamte Unterseite des Rohres 16 überdeckt. In den Zusatzkanalkörper 102' sind drei Teilungsstufen
der Bauart mit herkömmlicher T-Stromteilung eingearbeitet. Das Rohr 16 und der Körper 102' sind vorzugsweise durch
Klebung dichtend aneinandergefügt, wobei Kanäle K4, K5 und K6
an der Seite, von der sie in den Körper 102' eingearbeitet worden sind, in ihrer Längserstreckung mittels des Rohrman-
- 16 -
tels abgedeckt sind. Das Tragholmrohr 16 in Fig. 3 ist
gegenüber der Anordnung in Fig. 4 so gedreht, da/3 die Kanäle K3 im Bereich einer in Arbeitsrichtung B hinteren Wand 17 zu
liegen kommen. Diese räumliche Anordnung ist günstig, um in diesem Bereich mit Öffnungen 44 die Verbindung mit den Kanälen
K4 vorzusehen.
Die hintere an dem Tragholmrohr 16 befestigte und den Teilkörper 102' einfassende längsseitige Wand 17 erstreckt sich
bis in die Nähe der Innenfläche der Rundschablone 80. Im Bereich ihres unteren Randes ist ein permanentmagnetisches
Gleit- und Halteteil 91 für eine magnetisierbare Rakelrolle 9 angeordnet.
Der Ausströmungsbereich 300 für Substanz ist an der Unterseite des Zusatzkanalkörpers 102' vorgesehen, die im Abstand
oberhalb der Rakelrolle 9 liegt. Die Enden der Kanäle K7 der letzten Teilungsstufe enden in zugeordneten Schrägröhrchen
32. In Arbeitsrichtung B betrachtet, verlaufen die Röhrchen 32 von oben nach unten schräg, wobei sie auf den Anlagebereich
der Rakelrolle 9 gegen das Gleit- und Halteelement 91 ausgerichtet sind, und zwar senkrecht zur Körperlängsachse 10
des Rohres 16. Dabei liegen die Austrittsöffnungen der Röhrchen 32, in Arbeitsrichtung B gesehen, vor der Rakelrolle 9.
Auch hier ist die anhand der Fig. 4 bereits beschriebene Doppelfunktion sehr günstig und vorteilhaft. Bei der Substanzauftragung
fließt die Substanz der Schwerkraft folgend in im wesentlichen senkrechter Richtung zur Auftragungsfläche
81 nach unten und bildet einen Substanzvorrat vor der Rakelrolle 9. Im Reinigungsbetrieb bilden die schräggestellten
Röhrchen einen Schrägstrahl, mit dem die Rakelrolle im oberen Bereich sowie im Anlagebereich an dem Element 91 gereinigt
wird. Als besonders vorteilhaft ist gefunden worden, die Schrägröhrchen 32 mit gleicher Austrittsöffnung eines Durchmessers
von vorzugsweise 3 bis 6 mm vorzusehen. Ebenfalls hat es sich als sehr günstig erwiesen, die Öffnungen im Teilungs-
- 17 -
ma/3 von 5 bis 15 mm aneinanderzureihen. Anstelle der Röhrchenreihe
kann auch bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. der Schrägspaltkanal gemäß Fig. 4 vorgesehen werden.
Fig. 5 zeigt den in Fig. 3 dargestellten Stromungskanalkörper
1 in Teilansicht C, und zwar nur an einer Stirnseite des Strömungskanalkörpers 1. Dort ist an den Zusatzkanalkörper
102" eine mit einem Kanal K7 verbundene Winkeldüse 33 angesetzt, die einen Reinigungsstrahl auf den stirnseitigen Endbereich
der Rakelrolle 9 richtet.
Claims (13)
1. Strömungsteilungs- und -umformungskörper (1) mit einer
lang sich erstreckenden Körperlängsachse (10) zur Strömungsteilung
und Strömungsumformung von fließfähigen und/oder gasförmigen Substanzen, umfassend wenigstens ein
Teilungssystem, in dem die Substanzen zwischen einer Anschlußöffnung
(2) eines die Substanz in zusammengefaßter Strömung führenden GesamtStromkanals (Kl) und einer Reihe
von längs des Körpers angeordneten Öffnungen (3), die einem in der Körperlänge sich erstreckenden schmalen Austrittsbereich
(300) zugeordnet sind, geführt wird, wobei der von der Anschlußöffnung (2) ausgehende Gesamtstromkanal
(Kl) in zwei den Gesamtstrom an einer ersten Teilungsstelle (Tl) teilende, Substanz führende Kanäle einer
ersten Teilungsstufe verzweigt und wenigstens eine weitere Teilungsstufe nachgeordnet ist, in der an der zugehörigen
Teilungsstelle jedes Kanalende der vorangehenden Stufe in jeweils zwei die Strömung teilende und sie in
entgegengesetzte Richtungen entlang der Körperlängsrichtung umlenkende Kanäle verzweigt, dadurch gekennzeichnet
, daß der GesamtStromkanal (Kl)
an der ersten Teilungsstelle (Tl) in zwei parallel und nebeneinander verlaufende, Substanz in gleiche Richtung
führende Abschnitte von Teilstromkanälen (K2a, K2b) übergeht, wobei die Strömung im Bereich vor, an und nach der
Teilungsstelle (Tl) geradlinig oder zumindest nahezu geradlinig verläuft.
2. Strömungskanalkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß, in Richtung der zu
teilenden Strömung gesehen, die erste Teilungsstelle (Tl) in dem Bereich des zumindest nahezu geradlinigen Strömungsverlaufs
vor Beginn des letzten Bereichsviertels und
- 19 -
vorzugsweise in dem ersten Bereichsdrittel vorgesehen ist.
3. Strömungskanalkörper nach Anspruch 1 oder 2, d a durch
gekennzeichnet, daß die beiden Parallelabschnitte der Teilstromkanäle (K2a, K2b) den
gleichen Strömungsquerschnitt und vorzugsweise auch die gleiche Querschnittsform aufweisen.
4. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
den zumindest nahezu geradlinigen Strömungsverlauf bildenden Abschnitte der Kanäle (Kl, K2a, K2b) in wenigstens
einer vorzugsweise von der Körperstirnseite bis zur Körperlängsmitte sich erstreckenden Strömungsleitung (14)
ausgebildet sind, die besonders vorteilhaft im Bereich der Körperlängsmitte mit einem die weiteren Teilungsstufen
aufweisenden Kanalkörper (15) verbunden ist (Fig. 1).
5. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
den zumindest nahezu geradlinigen Strömungsverlauf bildenden Abschnitte der Kanäle (Kl, K2a, K2b) in einem
Tragholmrohr (16) ausgebildet sind.
6. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein
Kanalrohr (14, 16) vorgesehen ist, in dem die den zumindest nahezu geradlinigen Strömungsverlauf bildenden Abschnitte
der Kanäle (Kl, K2a, K2b) dadurch ausgebildet sind, daß in das Kanalrohr eine parallel mit dem Kanalrohr
über einen Teil seiner Länge sich erstreckende Trennwand (4) eingefügt ist, mittels der die beiden
parallelen Abschnitte der Teilstromkanäle (K2a, K2b) gebildet sind (Fig. 2).
- 20 -
7. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, da/3 der
Strömungskanalkörper (1) aus einem die Anschlußöffnung
(2) aufweisenden Anschlu/3kanalkörper (101) und wenigstens
einem zusätzlichen längsachsenparallel sich erstreckenden Zusatzkanalkörper (102, 103) zusammengefügt ist, wobei
jeder Zusatzkanalkörper (102, 103) wenigstens eine Teilungsstufe aufweist, da/3 ein Zusatzkanalkörper (102) mit
der Reihe Öffnungen (3) versehen ist und da/3 vorzugsweise
jeder Zusatzkanalkörper (102, 103) im Raumbereich zwischen dem Anschlu/3kanalkörper (101) und einer dem Strömungskanalkörper
(1) zugeordneten Arbeitsfläche (81) angeordnet ist.
8. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, da/3 die
parallel und nebeneinander verlaufenden, Substanz in gleiche Richtung führenden Kanalabschnitte in solche
Kanalabschnitte der zugehörigen Teilstromkanäle (K2a, K2b) übergehen, die in bezug auf eine zur Körperlängsachse
(10) senkrecht gerichtete Querebene (Ml) spiegelsymmetrisch verlaufen.
9. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, da/3 in dem Strömungskanalkörper (1) wenigstens zwei voneinander getrennte
Teilungssysteme ausgebildet sind, wobei ein Teilungssystem
zur Breitenverteilung von Auftragungssubstanz und sämtliche Teilungssysteme zur Breitenstrahlbildung
für Reinigungsflüssigkeit vorgesehen sind (Fig. 4).
10. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, da/3 der Gesamtstromkanal (Kl) und die Abschnitte der Teilstromkanäle
(K2a, K2b) und gegebenenfalls Kanäle (K3) mindestens einer nachfolgenden Stufe in Querschnitts- und
- 21 -
Längserstreckung gleichmäßig räumlich in der Quer- und
Längsdimension des Stromungskanalkörpers oder eines Strömungskanal-Teilkörpers
wie insbesondere eines Tragholmrohres (16) verteilt angeordnet sind, wobei vorzugsweise
der Körperquerschnitt in vier Quadranten mit jedem Quadranten zugeordneten gleichen Kanalquerschnitt unterteilt
ist (Fig. 3, 4).
11. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, da/3 in dem
Teilungssystem wenigstens eine nachfolgende Teilungsstufe in der gleichen Weise wie die erste Teilungsstufe mit
Substanz in gleiche Richtung führenden Parallelabschnitten von Teilstromkanälen (K3al, K3a2) ausgebildet ist
(Fig. 1).
12. Strömungskanalkörper nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, da/3 die Kanäle (K7) der letzten Teilungsstufe dicht aneinander
gereihte Austrittskanäle mit gleicher Austrittsöffnung
eines Durchmessers von vorzugsweise 3 bis 6 mm sind.
13. Strömungskanalkörper nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , da/3 der Substanzaustrittsbereich
durch mindestens einen quer, vorzugsweise senkrecht zur Körperlängsachse (10) schräg gerichteten Kanalabschnitt
gebildet ist, wobei vorzugsweise entweder eine schräg gerichtete Ausmündungsröhrchenreihe oder ein über
die Arbeitslänge des Stromungskanalkörpers (1) durchgehender Schrägspalt (31) vorgesehen ist und vorzugsweise
dessen Spaltbreite im Profilquerschnitt 0,5 bis 1,5 mm beträgt.
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE29517100U DE29517100U1 (de) | 1995-10-17 | 1995-10-17 | Strömungsteilungs- und -umformungskörper |
| ES96934705T ES2146907T3 (es) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Dispositivo de separacion y de conversion de una corriente. |
| PCT/EP1996/004493 WO1997014511A1 (de) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Strömungsteilungseinrichtung |
| AT96934705T ATE192051T1 (de) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Strömungsteilungseinrichtung |
| DE59605066T DE59605066D1 (de) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Strömungsteilungseinrichtung |
| US09/051,809 US5992453A (en) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Flow-dividing arrangement |
| BR9610957A BR9610957A (pt) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Dispositivo de divisão de fluxos e de recondução de fluxos |
| CN96197686A CN1073476C (zh) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | 流动分配和转变装置 |
| EP96934705A EP0853503B1 (de) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Strömungsteilungseinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE29517100U DE29517100U1 (de) | 1995-10-17 | 1995-10-17 | Strömungsteilungs- und -umformungskörper |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE29517100U1 true DE29517100U1 (de) | 1997-02-13 |
Family
ID=8014725
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE29517100U Expired - Lifetime DE29517100U1 (de) | 1995-10-17 | 1995-10-17 | Strömungsteilungs- und -umformungskörper |
| DE59605066T Expired - Fee Related DE59605066D1 (de) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Strömungsteilungseinrichtung |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE59605066T Expired - Fee Related DE59605066D1 (de) | 1995-10-17 | 1996-10-17 | Strömungsteilungseinrichtung |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5992453A (de) |
| EP (1) | EP0853503B1 (de) |
| CN (1) | CN1073476C (de) |
| AT (1) | ATE192051T1 (de) |
| BR (1) | BR9610957A (de) |
| DE (2) | DE29517100U1 (de) |
| ES (1) | ES2146907T3 (de) |
| WO (1) | WO1997014511A1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114746242A (zh) * | 2019-12-03 | 2022-07-12 | 乐高公司 | 用于注射成型的模具 |
Families Citing this family (379)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2371275A1 (en) * | 1998-11-20 | 2000-06-02 | Sepiatec Gmbh | Method and device for regulating individual sub-flows of a system for conveying fluid media |
| US6263918B1 (en) | 1999-04-29 | 2001-07-24 | The Regents Of The University Of California | Multiple feed powder splitter |
| US6305884B1 (en) | 1999-04-29 | 2001-10-23 | The Regents Of The University Of California | Rotary powder feed through apparatus |
| US6481453B1 (en) * | 2000-04-14 | 2002-11-19 | Nanostream, Inc. | Microfluidic branch metering systems and methods |
| US6502530B1 (en) * | 2000-04-26 | 2003-01-07 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Design of gas injection for the electrode in a capacitively coupled RF plasma reactor |
| IT1319599B1 (it) * | 2000-12-20 | 2003-10-20 | Rosaldo Fare | Testa di melt-blown e procedimento ad alimentazione controllata per laproduzione di fibrille di materiale polimerico |
| DE10100670A1 (de) * | 2001-01-09 | 2002-08-14 | Univ Braunschweig Tech | Zuführvorrichtung für eine CVD-Anlage |
| PT1392419E (pt) * | 2001-05-17 | 2012-03-06 | Amalgamated Res Inc | Estrutura fractal para misturar pelo menos dois fluidos |
| JP3694877B2 (ja) * | 2001-05-28 | 2005-09-14 | 株式会社山武 | マイクロ混合器 |
| US20020186263A1 (en) * | 2001-06-07 | 2002-12-12 | Nanostream, Inc. | Microfluidic fraction collectors |
| US6817554B2 (en) * | 2001-08-14 | 2004-11-16 | Northeastern University | Fluid nanosplitter device |
| DE10258261A1 (de) * | 2002-12-13 | 2004-06-24 | Saurer Gmbh & Co. Kg | Spinnbalken |
| GB2386168A (en) * | 2002-02-13 | 2003-09-10 | Imp College Innovations Ltd | Pipe networks |
| JP3794687B2 (ja) * | 2002-08-23 | 2006-07-05 | 株式会社山武 | マイクロ乳化器 |
| KR101070353B1 (ko) * | 2003-06-25 | 2011-10-05 | 주성엔지니어링(주) | 반도체 소자 제조장치의 가스 인젝터 |
| US7096885B2 (en) * | 2003-08-29 | 2006-08-29 | Renewability Energy Inc. | Non-pressurized flow-splitting water supply system |
| DE102004008425B4 (de) * | 2004-02-19 | 2011-12-29 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Gasführungsanordnung in einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einer längserstreckten Magnetronanordnung |
| US20080081114A1 (en) * | 2006-10-03 | 2008-04-03 | Novellus Systems, Inc. | Apparatus and method for delivering uniform fluid flow in a chemical deposition system |
| US20080087336A1 (en) * | 2006-10-11 | 2008-04-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluid-processing apparatus and fluid-processing system |
| US7993457B1 (en) | 2007-01-23 | 2011-08-09 | Novellus Systems, Inc. | Deposition sub-chamber with variable flow |
| US8673080B2 (en) | 2007-10-16 | 2014-03-18 | Novellus Systems, Inc. | Temperature controlled showerhead |
| US8512509B2 (en) * | 2007-12-19 | 2013-08-20 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor gas distribution plate with radially distributed path splitting manifold |
| WO2009078921A1 (en) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor gas distribution plate with path splitting manifold |
| US20100071614A1 (en) * | 2008-09-22 | 2010-03-25 | Momentive Performance Materials, Inc. | Fluid distribution apparatus and method of forming the same |
| US9394608B2 (en) | 2009-04-06 | 2016-07-19 | Asm America, Inc. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
| US8802201B2 (en) | 2009-08-14 | 2014-08-12 | Asm America, Inc. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
| TWM412453U (en) | 2009-09-10 | 2011-09-21 | Lam Res Corp | Replaceable upper chamber parts of plasma reaction chamber and ceramic side gas injector |
| US8511889B2 (en) * | 2010-02-08 | 2013-08-20 | Agilent Technologies, Inc. | Flow distribution mixer |
| KR101843609B1 (ko) | 2011-03-04 | 2018-05-14 | 노벨러스 시스템즈, 인코포레이티드 | 하이브리드 세라믹 샤워헤드 |
| US9312155B2 (en) | 2011-06-06 | 2016-04-12 | Asm Japan K.K. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
| US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
| US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
| HUP1100436A2 (en) * | 2011-08-15 | 2013-02-28 | Ecosolifer Ag | Gas flow system for using in reaction chamber |
| KR101267464B1 (ko) * | 2011-10-13 | 2013-05-31 | 세메스 주식회사 | 유체 분사 장치 |
| US9017481B1 (en) | 2011-10-28 | 2015-04-28 | Asm America, Inc. | Process feed management for semiconductor substrate processing |
| US9162236B2 (en) * | 2012-04-26 | 2015-10-20 | Applied Materials, Inc. | Proportional and uniform controlled gas flow delivery for dry plasma etch apparatus |
| US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
| US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
| TWI470098B (zh) * | 2013-02-01 | 2015-01-21 | Adpv Technology Ltd | Gas release device for coating process |
| US10008368B2 (en) * | 2013-03-12 | 2018-06-26 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone gas injection assembly with azimuthal and radial distribution control |
| US9353439B2 (en) * | 2013-04-05 | 2016-05-31 | Lam Research Corporation | Cascade design showerhead for transient uniformity |
| US10683571B2 (en) | 2014-02-25 | 2020-06-16 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same |
| US10167557B2 (en) | 2014-03-18 | 2019-01-01 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same |
| US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
| US10741365B2 (en) * | 2014-05-05 | 2020-08-11 | Lam Research Corporation | Low volume showerhead with porous baffle |
| SG10201810178TA (en) * | 2014-05-16 | 2018-12-28 | Applied Materials Inc | Showerhead design |
| US10858737B2 (en) | 2014-07-28 | 2020-12-08 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead assembly and components thereof |
| US9890456B2 (en) | 2014-08-21 | 2018-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in situ formation of gas-phase compounds |
| US9657845B2 (en) | 2014-10-07 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Variable conductance gas distribution apparatus and method |
| US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
| JP5847913B1 (ja) * | 2014-11-06 | 2016-01-27 | 住友精密工業株式会社 | 熱交換器 |
| US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
| JP6189351B2 (ja) | 2015-03-18 | 2017-08-30 | 株式会社東芝 | 流路構造 |
| US10378107B2 (en) | 2015-05-22 | 2019-08-13 | Lam Research Corporation | Low volume showerhead with faceplate holes for improved flow uniformity |
| US10023959B2 (en) | 2015-05-26 | 2018-07-17 | Lam Research Corporation | Anti-transient showerhead |
| US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
| US10600673B2 (en) | 2015-07-07 | 2020-03-24 | Asm Ip Holding B.V. | Magnetic susceptor to baseplate seal |
| WO2017042867A1 (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | 三菱電機株式会社 | 積層型ヘッダ、熱交換器、及び、空気調和装置 |
| US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
| US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
| US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
| JP6462613B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2019-01-30 | 株式会社東芝 | 分流構造 |
| US10343920B2 (en) | 2016-03-18 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Aligned carbon nanotubes |
| US10865475B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides and silicides |
| US10190213B2 (en) | 2016-04-21 | 2019-01-29 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides |
| US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
| US10032628B2 (en) | 2016-05-02 | 2018-07-24 | Asm Ip Holding B.V. | Source/drain performance through conformal solid state doping |
| US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
| KR102553629B1 (ko) * | 2016-06-17 | 2023-07-11 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 처리 장치 |
| JP6696322B2 (ja) * | 2016-06-24 | 2020-05-20 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス処理装置、ガス処理方法及び記憶媒体 |
| US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
| US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
| US10714385B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of tungsten |
| KR102532607B1 (ko) | 2016-07-28 | 2023-05-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 가공 장치 및 그 동작 방법 |
| US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US10643826B2 (en) | 2016-10-26 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
| US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
| US10229833B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10643904B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures |
| US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10134757B2 (en) | 2016-11-07 | 2018-11-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
| CN106410110B (zh) * | 2016-11-07 | 2019-08-13 | 云南创能斐源金属燃料电池有限公司 | 用于金属燃料电池的液体分配器 |
| KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
| KR102762543B1 (ko) | 2016-12-14 | 2025-02-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
| US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
| KR102700194B1 (ko) | 2016-12-19 | 2024-08-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US10867788B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
| US10655221B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD |
| US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| USD876504S1 (en) | 2017-04-03 | 2020-02-25 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust flow control ring for semiconductor deposition apparatus |
| KR102457289B1 (ko) | 2017-04-25 | 2022-10-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| US10892156B2 (en) | 2017-05-08 | 2021-01-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
| US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
| US10685834B2 (en) | 2017-07-05 | 2020-06-16 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures |
| KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
| US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
| TWI815813B (zh) | 2017-08-04 | 2023-09-21 | 荷蘭商Asm智慧財產控股公司 | 用於分配反應腔內氣體的噴頭總成 |
| US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
| US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
| US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
| US10249524B2 (en) | 2017-08-09 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly |
| US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
| USD900036S1 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Heater electrical connector and adapter |
| US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
| KR102491945B1 (ko) | 2017-08-30 | 2023-01-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
| US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| KR102401446B1 (ko) | 2017-08-31 | 2022-05-24 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| KR102630301B1 (ko) | 2017-09-21 | 2024-01-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치 |
| US10844484B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
| US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
| US10319588B2 (en) | 2017-10-10 | 2019-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
| WO2019073610A1 (ja) * | 2017-10-13 | 2019-04-18 | 三菱電機株式会社 | 積層型ヘッダー、熱交換器、及び、冷凍サイクル装置 |
| US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
| US10910262B2 (en) | 2017-11-16 | 2021-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure |
| KR102443047B1 (ko) | 2017-11-16 | 2022-09-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
| US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
| CN111344522B (zh) | 2017-11-27 | 2022-04-12 | 阿斯莫Ip控股公司 | 包括洁净迷你环境的装置 |
| US11127617B2 (en) | 2017-11-27 | 2021-09-21 | Asm Ip Holding B.V. | Storage device for storing wafer cassettes for use with a batch furnace |
| US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
| KR102695659B1 (ko) | 2018-01-19 | 2024-08-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 플라즈마 보조 증착에 의해 갭 충진 층을 증착하는 방법 |
| TWI852426B (zh) | 2018-01-19 | 2024-08-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沈積方法 |
| USD903477S1 (en) | 2018-01-24 | 2020-12-01 | Asm Ip Holdings B.V. | Metal clamp |
| US11018047B2 (en) | 2018-01-25 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Hybrid lift pin |
| USD880437S1 (en) | 2018-02-01 | 2020-04-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
| US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
| EP3737779A1 (de) | 2018-02-14 | 2020-11-18 | ASM IP Holding B.V. | Verfahren zum abscheiden eines ruthenium-haltigen films auf einem substrat durch ein zyklisches abscheidungsverfahren |
| US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
| US10658181B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication |
| KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
| US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
| US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
| US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
| US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
| KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
| US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
| KR102501472B1 (ko) | 2018-03-30 | 2023-02-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
| KR102600229B1 (ko) | 2018-04-09 | 2023-11-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| KR102474847B1 (ko) * | 2018-04-25 | 2022-12-06 | 삼성전자주식회사 | 가스 인젝터 및 웨이퍼 처리 장치 |
| US12025484B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
| TWI811348B (zh) | 2018-05-08 | 2023-08-11 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構 |
| US12272527B2 (en) | 2018-05-09 | 2025-04-08 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for use with hydrogen radicals and method of using same |
| TWI879056B (zh) | 2018-05-11 | 2025-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構 |
| KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
| TWI840362B (zh) | 2018-06-04 | 2024-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 水氣降低的晶圓處置腔室 |
| US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
| US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
| US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
| KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
| JP7515411B2 (ja) | 2018-06-27 | 2024-07-12 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 |
| TWI871083B (zh) | 2018-06-27 | 2025-01-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於形成含金屬材料之循環沉積製程 |
| US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
| KR102686758B1 (ko) | 2018-06-29 | 2024-07-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10767789B2 (en) | 2018-07-16 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components |
| US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
| US10883175B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein |
| US10829852B2 (en) | 2018-08-16 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution device for a wafer processing apparatus |
| US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| KR102707956B1 (ko) | 2018-09-11 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
| US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
| US20210402668A1 (en) * | 2018-09-27 | 2021-12-30 | Vanderbilt University | Multi-material printing device for energy storage and conversion applications |
| CN110970344B (zh) | 2018-10-01 | 2024-10-25 | Asmip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法 |
| US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
| US10847365B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD |
| US10811256B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-10-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for etching a carbon-containing feature |
| KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
| US12378665B2 (en) | 2018-10-26 | 2025-08-05 | Asm Ip Holding B.V. | High temperature coatings for a preclean and etch apparatus and related methods |
| US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| KR102748291B1 (ko) | 2018-11-02 | 2024-12-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
| US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
| US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
| US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
| US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10559458B1 (en) | 2018-11-26 | 2020-02-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming oxynitride film |
| US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
| KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
| US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| TWI874340B (zh) | 2018-12-14 | 2025-03-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統 |
| TWI866480B (zh) | 2019-01-17 | 2024-12-11 | 荷蘭商Asm Ip 私人控股有限公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
| KR102727227B1 (ko) | 2019-01-22 | 2024-11-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| CN111524788B (zh) | 2019-02-01 | 2023-11-24 | Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法 |
| KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
| TWI838458B (zh) | 2019-02-20 | 2024-04-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於3d nand應用中之插塞填充沉積之設備及方法 |
| TWI845607B (zh) | 2019-02-20 | 2024-06-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備 |
| TWI873122B (zh) | 2019-02-20 | 2025-02-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備 |
| TWI842826B (zh) | 2019-02-22 | 2024-05-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備及處理基材之方法 |
| US11742198B2 (en) | 2019-03-08 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOCN layer and method of forming same |
| KR102858005B1 (ko) | 2019-03-08 | 2025-09-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체 |
| KR102782593B1 (ko) | 2019-03-08 | 2025-03-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법 |
| KR20200116033A (ko) | 2019-03-28 | 2020-10-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도어 개방기 및 이를 구비한 기판 처리 장치 |
| KR102809999B1 (ko) | 2019-04-01 | 2025-05-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자를 제조하는 방법 |
| US11447864B2 (en) | 2019-04-19 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
| KR20200125453A (ko) | 2019-04-24 | 2020-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
| KR20200130121A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기 |
| KR102869364B1 (ko) | 2019-05-07 | 2025-10-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법 |
| KR20200130652A (ko) | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조 |
| JP7598201B2 (ja) | 2019-05-16 | 2024-12-11 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
| JP7612342B2 (ja) | 2019-05-16 | 2025-01-14 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
| USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| FR3096012B1 (fr) * | 2019-05-17 | 2021-04-16 | A Raymond Et Cie | système de distribution d’un fluide pour véhicule, distributeur fluidique associé et procédé d’éjection de fluide utilisant d’un tel système |
| USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
| USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
| KR20200141002A (ko) | 2019-06-06 | 2020-12-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법 |
| KR20200141931A (ko) | 2019-06-10 | 2020-12-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법 |
| KR20200143254A (ko) | 2019-06-11 | 2020-12-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조 |
| USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
| USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
| KR20210005515A (ko) | 2019-07-03 | 2021-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법 |
| JP7499079B2 (ja) | 2019-07-09 | 2024-06-13 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
| CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
| KR102895115B1 (ko) | 2019-07-16 | 2025-12-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| KR20210010816A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법 |
| KR102860110B1 (ko) | 2019-07-17 | 2025-09-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법 |
| US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
| CN112242295B (zh) | 2019-07-19 | 2025-12-09 | Asmip私人控股有限公司 | 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法 |
| TWI839544B (zh) | 2019-07-19 | 2024-04-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成形貌受控的非晶碳聚合物膜之方法 |
| CN112309843A (zh) | 2019-07-29 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法 |
| CN112309900B (zh) | 2019-07-30 | 2025-11-04 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| KR20210015655A (ko) | 2019-07-30 | 2021-02-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 방법 |
| CN112309899B (zh) | 2019-07-30 | 2025-11-14 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| KR20210018759A (ko) | 2019-08-05 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서 |
| KR20210018761A (ko) | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 냉각 장치를 포함한 히터 어셈블리 및 이를 사용하는 방법 |
| USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
| JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
| KR20210024423A (ko) | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법 |
| USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
| USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
| USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
| USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
| KR20210024420A (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법 |
| US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
| WO2021042116A1 (en) | 2019-08-23 | 2021-03-04 | Lam Research Corporation | Thermally controlled chandelier showerhead |
| CN114641592B (zh) | 2019-08-28 | 2025-01-17 | 朗姆研究公司 | 金属沉积 |
| KR102806450B1 (ko) | 2019-09-04 | 2025-05-12 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법 |
| KR102733104B1 (ko) | 2019-09-05 | 2024-11-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| EP4025419A1 (de) * | 2019-09-06 | 2022-07-13 | Dow Global Technologies LLC | Flüssigkeitsabgabevorrichtung mit flexiblem film |
| US12469693B2 (en) | 2019-09-17 | 2025-11-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a carbon-containing layer and structure including the layer |
| US11426740B2 (en) * | 2019-09-20 | 2022-08-30 | Daltile Corporation | Adhesive splitter systems and methods of using the same |
| US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
| KR20210042810A (ko) | 2019-10-08 | 2021-04-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
| TWI846953B (zh) | 2019-10-08 | 2024-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理裝置 |
| TW202128273A (zh) | 2019-10-08 | 2021-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氣體注入系統、及將材料沉積於反應室內之基板表面上的方法 |
| KR102879443B1 (ko) | 2019-10-10 | 2025-11-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체 |
| US12009241B2 (en) | 2019-10-14 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette |
| TWI834919B (zh) | 2019-10-16 | 2024-03-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法 |
| US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
| KR102845724B1 (ko) | 2019-10-21 | 2025-08-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법 |
| KR20210050453A (ko) | 2019-10-25 | 2021-05-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조 |
| US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
| KR102890638B1 (ko) | 2019-11-05 | 2025-11-25 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
| US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
| KR102861314B1 (ko) | 2019-11-20 | 2025-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템 |
| CN112951697B (zh) | 2019-11-26 | 2025-07-29 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| US11450529B2 (en) | 2019-11-26 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface |
| CN112885692B (zh) | 2019-11-29 | 2025-08-15 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| CN112885693B (zh) | 2019-11-29 | 2025-06-10 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| JP7527928B2 (ja) | 2019-12-02 | 2024-08-05 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基板処理装置、基板処理方法 |
| KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| JP7703317B2 (ja) | 2019-12-17 | 2025-07-07 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 窒化バナジウム層および窒化バナジウム層を含む構造体を形成する方法 |
| KR20210080214A (ko) | 2019-12-19 | 2021-06-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조 |
| TWI887322B (zh) | 2020-01-06 | 2025-06-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 反應器系統、抬升銷、及處理方法 |
| JP7730637B2 (ja) | 2020-01-06 | 2025-08-28 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ガス供給アセンブリ、その構成要素、およびこれを含む反応器システム |
| US11993847B2 (en) | 2020-01-08 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Injector |
| KR102882467B1 (ko) | 2020-01-16 | 2025-11-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고 종횡비 피처를 형성하는 방법 |
| KR102675856B1 (ko) | 2020-01-20 | 2024-06-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법 |
| TWI889744B (zh) | 2020-01-29 | 2025-07-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 污染物捕集系統、及擋板堆疊 |
| TWI871421B (zh) | 2020-02-03 | 2025-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 包括釩或銦層的裝置、結構及其形成方法、系統 |
| KR20210100010A (ko) | 2020-02-04 | 2021-08-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치 |
| US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
| TW202146691A (zh) | 2020-02-13 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氣體分配總成、噴淋板總成、及調整至反應室之氣體的傳導率之方法 |
| KR20210103956A (ko) | 2020-02-13 | 2021-08-24 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 수광 장치를 포함하는 기판 처리 장치 및 수광 장치의 교정 방법 |
| US11781243B2 (en) | 2020-02-17 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon |
| TWI895326B (zh) | 2020-02-28 | 2025-09-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 專用於零件清潔的系統 |
| KR20210113043A (ko) | 2020-03-04 | 2021-09-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반응기 시스템용 정렬 고정구 |
| KR20210116240A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치 |
| KR20210116249A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 록아웃 태그아웃 어셈블리 및 시스템 그리고 이의 사용 방법 |
| KR102775390B1 (ko) | 2020-03-12 | 2025-02-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법 |
| US12173404B2 (en) | 2020-03-17 | 2024-12-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing epitaxial material, structure formed using the method, and system for performing the method |
| KR102755229B1 (ko) | 2020-04-02 | 2025-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 |
| TWI887376B (zh) | 2020-04-03 | 2025-06-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 半導體裝置的製造方法 |
| TWI888525B (zh) | 2020-04-08 | 2025-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
| US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
| KR20210128343A (ko) | 2020-04-15 | 2021-10-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 크롬 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 크롬 나이트라이드 층을 포함하는 구조 |
| US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
| TW202143328A (zh) | 2020-04-21 | 2021-11-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於調整膜應力之方法 |
| TW202208671A (zh) | 2020-04-24 | 2022-03-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括硼化釩及磷化釩層的結構之方法 |
| CN113555279A (zh) | 2020-04-24 | 2021-10-26 | Asm Ip私人控股有限公司 | 形成含氮化钒的层的方法及包含其的结构 |
| KR102866804B1 (ko) | 2020-04-24 | 2025-09-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리 |
| KR20210132612A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 화합물들을 안정화하기 위한 방법들 및 장치 |
| KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
| KR102783898B1 (ko) | 2020-04-29 | 2025-03-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고체 소스 전구체 용기 |
| KR20210134869A (ko) | 2020-05-01 | 2021-11-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환 |
| JP7726664B2 (ja) | 2020-05-04 | 2025-08-20 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基板を処理するための基板処理システム |
| JP7736446B2 (ja) | 2020-05-07 | 2025-09-09 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同調回路を備える反応器システム |
| KR20210137395A (ko) | 2020-05-07 | 2021-11-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 불소계 라디칼을 이용하여 반응 챔버의 인시츄 식각을 수행하기 위한 장치 및 방법 |
| KR102788543B1 (ko) | 2020-05-13 | 2025-03-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구 |
| TW202146699A (zh) | 2020-05-15 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成矽鍺層之方法、半導體結構、半導體裝置、形成沉積層之方法、及沉積系統 |
| TW202147383A (zh) | 2020-05-19 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備 |
| KR102795476B1 (ko) | 2020-05-21 | 2025-04-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법 |
| KR20210145079A (ko) | 2020-05-21 | 2021-12-01 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판을 처리하기 위한 플랜지 및 장치 |
| KR102702526B1 (ko) | 2020-05-22 | 2024-09-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 과산화수소를 사용하여 박막을 증착하기 위한 장치 |
| TW202212650A (zh) | 2020-05-26 | 2022-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沉積含硼及鎵的矽鍺層之方法 |
| TWI876048B (zh) | 2020-05-29 | 2025-03-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| TW202212620A (zh) | 2020-06-02 | 2022-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 處理基板之設備、形成膜之方法、及控制用於處理基板之設備之方法 |
| TW202208659A (zh) | 2020-06-16 | 2022-03-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沉積含硼之矽鍺層的方法 |
| KR20210158809A (ko) | 2020-06-24 | 2021-12-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘이 구비된 층을 형성하는 방법 |
| TWI873359B (zh) | 2020-06-30 | 2025-02-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| TWI896694B (zh) | 2020-07-01 | 2025-09-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沉積方法、半導體結構、及沉積系統 |
| KR102707957B1 (ko) | 2020-07-08 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
| KR20220010438A (ko) | 2020-07-17 | 2022-01-25 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 포토리소그래피에 사용하기 위한 구조체 및 방법 |
| TWI878570B (zh) | 2020-07-20 | 2025-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於沉積鉬層之方法及系統 |
| KR20220011092A (ko) | 2020-07-20 | 2022-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 전이 금속층을 포함하는 구조체를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
| US12322591B2 (en) | 2020-07-27 | 2025-06-03 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film deposition process |
| KR20220021863A (ko) | 2020-08-14 | 2022-02-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
| US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
| TW202228863A (zh) | 2020-08-25 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 清潔基板的方法、選擇性沉積的方法、及反應器系統 |
| CN111997139B (zh) * | 2020-08-25 | 2021-08-20 | 永嘉县真山园林工程有限公司 | 一种市政给水用具有调节功能的分流装置 |
| US11725280B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers |
| TW202229601A (zh) | 2020-08-27 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成圖案化結構的方法、操控機械特性的方法、裝置結構、及基板處理系統 |
| KR20220033997A (ko) | 2020-09-10 | 2022-03-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 갭 충진 유체를 증착하기 위한 방법 그리고 이와 관련된 시스템 및 장치 |
| USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
| WO2022056464A1 (en) * | 2020-09-14 | 2022-03-17 | Verily Life Sciences Llc | Pupae dispensing systems |
| KR20220036866A (ko) | 2020-09-16 | 2022-03-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 산화물 증착 방법 |
| USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
| TWI889903B (zh) | 2020-09-25 | 2025-07-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
| KR20220045900A (ko) | 2020-10-06 | 2022-04-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 함유 재료를 증착하기 위한 증착 방법 및 장치 |
| CN114293174A (zh) | 2020-10-07 | 2022-04-08 | Asm Ip私人控股有限公司 | 气体供应单元和包括气体供应单元的衬底处理设备 |
| TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
| KR102873665B1 (ko) | 2020-10-15 | 2025-10-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자의 제조 방법, 및 ether-cat을 사용하는 기판 처리 장치 |
| EP4235059A4 (de) * | 2020-10-21 | 2023-11-29 | Mitsubishi Electric Corporation | Verteiler, wärmetauscher und klimatisierungsvorrichtung |
| TW202217037A (zh) | 2020-10-22 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成 |
| TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
| TW202229620A (zh) | 2020-11-12 | 2022-08-01 | 特文特大學 | 沉積系統、用於控制反應條件之方法、沉積方法 |
| TW202229795A (zh) | 2020-11-23 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具注入器之基板處理設備 |
| TW202235649A (zh) | 2020-11-24 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 填充間隙之方法與相關之系統及裝置 |
| KR20220076343A (ko) | 2020-11-30 | 2022-06-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터 |
| US12255053B2 (en) | 2020-12-10 | 2025-03-18 | Asm Ip Holding B.V. | Methods and systems for depositing a layer |
| TW202233884A (zh) | 2020-12-14 | 2022-09-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成臨限電壓控制用之結構的方法 |
| US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
| TW202232639A (zh) | 2020-12-18 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具有可旋轉台的晶圓處理設備 |
| TW202226899A (zh) | 2020-12-22 | 2022-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具匹配器的電漿處理裝置 |
| TW202242184A (zh) | 2020-12-22 | 2022-11-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 前驅物膠囊、前驅物容器、氣相沉積總成、及將固態前驅物裝載至前驅物容器中之方法 |
| TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
| CN113198656B (zh) * | 2021-04-26 | 2022-03-15 | 东风延锋汽车饰件系统有限公司 | 喷胶设备的自动清洗装置及方法 |
| USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
| USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
| USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
| USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
| USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
| USD1099184S1 (en) | 2021-11-29 | 2025-10-21 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
| USD1060598S1 (en) | 2021-12-03 | 2025-02-04 | Asm Ip Holding B.V. | Split showerhead cover |
| CN116952027B (zh) * | 2022-04-13 | 2024-11-26 | 山东大学 | 一种树状结构冷凝器的环路热管 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2734224A (en) * | 1956-02-14 | winstead | ||
| DE2338458A1 (de) * | 1973-07-28 | 1975-02-06 | Karl Hehl | Mehrfachduese einer spritzgiessmaschine |
| US4017240A (en) * | 1975-11-19 | 1977-04-12 | Rubbermaid Incorporated | Die for extruding sheet material |
| DE3102132A1 (de) * | 1981-01-23 | 1982-08-26 | Phoenix Ag, 2100 Hamburg | Vorrichtung zum herstellen eines duennen beschichtungsfilmes auf gewebe |
| US4909181A (en) * | 1988-10-18 | 1990-03-20 | W. Wrigley Jr. Company | Fluid distribution bar |
| DE4026198A1 (de) * | 1990-08-18 | 1992-02-27 | Vepa Ag | Vorrichtung zum aufbringen eines fluessigkeitsfilmes auf eine warenbahn |
| DE9218012U1 (de) * | 1992-04-07 | 1993-08-05 | Eduard Küsters Maschinenfabrik GmbH & Co KG, 47805 Krefeld | Vorrichtung zum Auftragen eines fluiden Behandlungsmediums auf eine laufende Bahn |
| DE9302207U1 (de) * | 1993-02-12 | 1994-06-09 | Zimmer, Johannes, Klagenfurt | Vorrichtung zum breitenverteilenden Auftragen fließfähiger Substanzen |
-
1995
- 1995-10-17 DE DE29517100U patent/DE29517100U1/de not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-10-17 WO PCT/EP1996/004493 patent/WO1997014511A1/de not_active Ceased
- 1996-10-17 US US09/051,809 patent/US5992453A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-17 EP EP96934705A patent/EP0853503B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-17 ES ES96934705T patent/ES2146907T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-17 DE DE59605066T patent/DE59605066D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-17 BR BR9610957A patent/BR9610957A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-10-17 CN CN96197686A patent/CN1073476C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-17 AT AT96934705T patent/ATE192051T1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114746242A (zh) * | 2019-12-03 | 2022-07-12 | 乐高公司 | 用于注射成型的模具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2146907T3 (es) | 2000-08-16 |
| ATE192051T1 (de) | 2000-05-15 |
| US5992453A (en) | 1999-11-30 |
| EP0853503B1 (de) | 2000-04-26 |
| BR9610957A (pt) | 1999-07-13 |
| CN1200057A (zh) | 1998-11-25 |
| DE59605066D1 (de) | 2000-05-31 |
| CN1073476C (zh) | 2001-10-24 |
| EP0853503A1 (de) | 1998-07-22 |
| WO1997014511A1 (de) | 1997-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0853503B1 (de) | Strömungsteilungseinrichtung | |
| EP0577681B1 (de) | Schlitzdüse zum abgeben von flüssigkeiten | |
| EP0472050B1 (de) | Vorrichtung zum Aufbringen eines Flüssigkeitsfilmes auf eine Warenbahn | |
| AT392807B (de) | Stoffauflauf fuer eine papiermaschine od.dgl. | |
| DE4000405A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum gleichmaessigen aufbringen eines fluids auf eine bewegte materialbahn | |
| DE3733996A1 (de) | Vorrichtung zur zufuhr einer fluessigkeit in einen laenglichen fluessigkeitsvorrat | |
| DE2354426B2 (de) | Stoffauflauf für Papiermaschinen | |
| DE3541784C1 (de) | Vorrichtung zum Auftragen von fluessigem Klebstoff,insbesondere von Schmelzklber(hot melt) | |
| DE4010262A1 (de) | Duese fuer viskose fluessigkeit | |
| EP0406529B1 (de) | Streicheinrichtung | |
| EP0212110A2 (de) | Mischkopf zum Vermischen zumindest zweier Kunststoff bildender Komponenten | |
| EP0205654B2 (de) | Vorrichtung zum Aufbringen eines Flüssigkeitsfilmes grosser Breite auf eine Warenbahn | |
| EP1136126B1 (de) | Dosiervorrichtung für insbesondere zähflüssige Flüssigkeiten | |
| DE1511196B1 (de) | Stoffauflauf fuer Papiermaschinen | |
| EP0683700B1 (de) | Vorrichtung zum zuführen einer substanz an eine auftragungsstelle, verfahren zur substanzzuführung sowie zum reinigen der vorrichtung | |
| EP2531650A1 (de) | Ventil zum regulieren eines fluidstroms | |
| EP0813468B1 (de) | Vorrichtung zum mischen mischfähiger komponenten | |
| DE8533284U1 (de) | Schlitzdüse | |
| DE20010074U1 (de) | Rohrleitungsanordnung zur Versorgung einer Oberflächenkühlanlage | |
| DE19507910C1 (de) | Vorrichtung zum Mischen mischfähiger Komponenten | |
| DE2036792C (de) | Stoffauflauf | |
| DE2526767C3 (de) | Zweikolbenpumpe zur Förderung von Frischbeton | |
| DE3613071A1 (de) | Extrusionskopf | |
| DE1511196C (de) | Stoffauflauf für Papiermaschinen | |
| DE102019105620A1 (de) | Vorrichtung zur Aufbringung eines Materials auf ein Substrat |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R207 | Utility model specification |
Effective date: 19970327 |
|
| R150 | Utility model maintained after payment of first maintenance fee after three years |
Effective date: 19990204 |
|
| R151 | Utility model maintained after payment of second maintenance fee after six years |
Effective date: 20011113 |
|
| R152 | Utility model maintained after payment of third maintenance fee after eight years |
Effective date: 20031001 |
|
| R071 | Expiry of right |