DE2658365C3 - Schutzvorrichtung zum Schütze der Augen gegen schädliche Strahlung - Google Patents
Schutzvorrichtung zum Schütze der Augen gegen schädliche StrahlungInfo
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Description
30
Es ist bekannt, daß beim Durchführen von Schweißarbeiten
sowohl von der Schweißflamme bzw. vom elektrischen Schweiß-Lichtbogen als auch von der
Schmelzzone des bearbeiteten Materials eine intensive, für das menschliche Auge schädliche Strahlung ausgeht
Zum Schütze des Schweißers vor dieser schädlichen Strahlung sind deshalb Schutzbrillen und Schutzschilde
üblich, die in ihrem Mittelbereich ein strahlungsabsorbierendes vJlas aufweisen, durch welches ein großer Teil
der schädlichen Strahlung ausgefiltert wird. Die Dämpfungswirkung solcher Gläser ist so groß, daß die
Intensität der Strahlung auf Werte gedämpft wird, die für das Auge unschädlich sind. Nachteilig ist jedoch, daß
diese Gläser für den Schweißer vor dem Schweißbeginn bzw. vor dem Zünden des Lichtbogens nahezu
undurchsichtig sind. Er ist deshalb vor dem Schweißbeginn beispielsweise zum Ausrichten der Schweißelektrode
in ihre Schweißstellung dazu gezwungen, die Schutzbrille abzunehmen bzw. den Schutzschild von
seinen Augen abzuwenden, was nicht nur umständlich ist, sondern auch den weiteren Nachteil mit sich bringt,
daß die Augen beim Schweißbeginn kaum vor den schädlichen Strahlen bewahrt werden können.
Zur Verbesserung des Schutzes des Schweißers s;nd
statt der vorgenannten Strahlungsabsorbierenden Gläser auch schon Interferenzfilter bekanntgeworden, die
für einen oder mehrere, für das menschliche Auge unschädliche Wellenlängenbereiche im sichtbaren Teil
des Lichtbogenspektrums Paßbänder aufweisen, wogegen die übrigen Wellenlängen des Lichtbogenspektrums
durch das Filter ausgefiltert werden. Aber auch diesen Filtern haftet noch der Mangel an, daß ihre Durchsichtigkeit
bei noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen unbefriedigend ist
Eine Möglichkeit zur Verbesserung der Sichtmöglichkeit
durch die vorgenannten Schutzvorrichtungen bei noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen besteht
darin, in der Umgebung der Schweißstelle eine zusätzliche spezielle Lichtquelle anzuordnen, derm
Spektrum auf eine oder mehrere engbegrenzte Wellenlängen beschränkt ist. Ein Beispiel für solche Lichtquellen
sind Natriumlampen, und eine auf eine solche zusätzliche Lichtquelle abgestimmte Schutzvorrichtung
ist in der DE-OS 23 44 283 beschrieben. Diese bekannte Vorrichtung enthält in einem Schutzglas ein Interferenzfilter,
das nur den Durchgang bestimmter Anteile des Strahlungsspektrums gestattet, wobei die entsprechenden
Paßbänder an solchen Stellen des Spektrums und insbesondere im Bereich des gelben Natriumlichtes
liegen, wo auch bei höherer Lichtstärke nur geringe schädigende Auswirkungen auf das menschliche Auge
zu befürchten sind. Auf diese Weise läßt sich dann eine hinreichende Durchsichtigkeit des Schutzglases auch
bei noch nicht gezündetem Schweitl-Lichtbogen erhalten.
Indessen weisen so gestaltete Schutzvorrichtungen den neuen wesentlichen Mangel .-.f, daß diejenigen
Teile des Spektrums des SchweiC-L chtbogenv die
außerhalb des Paßbandes bzw. der Paßbänder des Filters liegen, von der Oberfläche des Interferenzfilters
stark reflektiert werden und damit in der Umgebung störend wirken und den Schweißer irritieren. Bei noch
nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen bringt diese spiegelartig starke Reflexion des Filters aber auch noch
den weiteren Nachteil mit sich, daß der Schweißer statt der durch das Schutzglas zu betrachtenden Gegenstände
auf dem Schutzglas sein eigenes Spiegelbild sieht.
Schließlich ist aus der DE-OS 24 12 302 auch schon
ein Schutzglas mit einem Interferenzfilter bekannt, das einerseits den Weilenlängen des von der zusätzlichen
Lichtquelle ausgestrahlten Lichtes zugeordnete Paßbänder aufweist und die durch diese Paßbänder
durchgelassene Strahlung auf für das menschliche Auge unschädliche Werte dämpft und das andererseits die
vom Schutzglas ausgehende starke störei.de Reflexion
vermeidet.
Das in der DE-OS 24 12 302 beschriebene Schutzglas
er.ihält ein Filter mit einem spektralselektiven Teil, der
ein völlig dielektrisches oder ein metallisches Interferenzfilter mit Paßbändern für einen oder für mehrere
Wellenbereiche aufweist, die im Strahlungsspektrum der zusätzlichen Lichtquelle vorkommen. Das Filter
weist außerdem einfache oder mehrfache Schichten mit einem absorbierenden und/oder nichtabsorbierenden
Material auf. die den spektralselektiven Teil beiderseits umgeben. Zusätzlich wird das Filter des Schutzglases
durch optisch dicke Beläge umgeben. Die einfachen oder mehrfachen Schichten des Filters sind so
ausgebildet, daß der Reflexionsfaktor zwischen dem Filter und den dieses einschließenden Belägen niedrige
neutrale Werte annimmt und die spektrale Funktion des selektiven Teile: des Filters durch diese Beläge
praktisch unbeeinträchtigt bleibt Wenigstens einer dieser äußeren Beläge oder Medien besteht aus einem
festen absorbie'enden oder nichtabsorbierenden Mate
rial, wie beispielsweise Glas, das die Form einer ebenen oder gekrümmten Platte aufweist.
Der vorliegenden Erfindung liegt, ausgehend von der im Oberbegriff des Patentanspruches I angeführten und
in der DE-OS 24 12 302 beschriebenen Schutzvorrichtung die Aufgabe zugrunde, die letztere so zu
vervollkommnen, daß in Verbindung mit der zusätzlichen speziellen Lichtquelle ein besonders wirksamer
Schutz erzielt wird.
Die gestellte Aufgabe ist durch die im Kennzeichen des Patentanspruches wiedergegebene Lehre gelöst.
Durch die erfindungsgemäße Ausbildung der Schutzvorrichtung wird trotz einer guten Durchsichtigkeit des
Schutzgiases gegenüber der zusätzlichen Lichtquelle und der Vermeidung jeglicher störenden Reflexion bei
noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen ein äußerst zuverlässiger Schutz des Auges vor schädlicher
Strahlung erzielt
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteran-Sprüchen
gekennzeichnet.
In der Zeichnung ist die Erfindung beispielsweise veranschaulicht; es zeigt
Fig 1 den grundsätzlichen Aufbau der gesamten Filteranordnung in einem schematisch gehaltenen
teilschnitt,
F i g. 2 ein den Reflexionsfaktor eines dem ersten Ausführungsbeispiel entsprechenden Filters über der
iir-ii—la , j c 1.1 : ι ι—_~j.-._ γλ:»......»*»
Fig.3 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel wiedergebendes
Diagramm,
F i g. 4 ein F i g. 2 entsprechendes Diagramm für ein Filter gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel,
Fig.5 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des
Filters gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel wiedergebendes Diagramm,
Fig.6 ein der Fig.2 entsprechendes Diagramm für
ein Filter gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel,
F i g. 7 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel wiedergebendes
Diagramm,
Fig.8 ein der Fig.2 entsprechendes Diagramm für
ein Filter gemäß dem vierten Ausführungsbeispiel,
F i g. 9 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters gemäß dem vierten Ausführungsbeispiel wiedergebendes
Diagramm,
Fig. 10 ein die Brechungszahl η und den Absorptionskoeffizienten k des dem fünften Ausführungsbeispiel
entsprechenden Filters über der von der Filteroberfläehe aus gemessenen Dicke zweier Mehrfachschichten
des Filters wiedergebendes Diagramm,
F i g. 11 ein der F i g. 2 entsprechendes Diagramm für
ein Filter gemäß dem fünften Ausführungsbeispiel,
Fig. 12 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des +5
Filters gemäß dem fünften Ausführungsbeispiel wiedergebendes Diagramm,
Fig. 13 eine bevorzugte Ausführungsform der als Schutzglas für eine Schweiß-Schutzbrille ausgebildeten
Filteranordnung in einer vergrößert dargestellten Seitenansicht
Gemäß dem in F i g. 1 dargestellten grundsätzlichen Aufbau der Filteranordnung zum Schütze der Augen
gegen beispielsweise beim Schweißen auftretende schädliche Strahlung ist eine spektralselektive Mehrfachschicht
3 vorgesehen, die als metallisches Interferenzfilter ausgebildet ist Die Mehrfachschicht 3 bildet
ein Paßband in einem Wellenbereich der Lichtstrahlung, in dem eine in der Nähe einer (nicht dargestellten)
Schweißstelle vorgesehene zusatzliche (ebenfalls nicht dargestellte) Lichtquelle ihren Hauptstrahlungsbereich
aufweist Beiderseits der Mehrfachschicht 3 weist die Filteranordnung weiterhin je eine Mehrfachschicht 2
und 4 eines absorbierenden und neihtabsorbierenden Materials auf. Die Mehrfachschichten 2 und 4 sind so
beschaffen, daß an deren Außenflächen gegenüber einer
auftreffenden Strahlung niedrige Reflexionswerte Rn
und Ä54 auftreten, deren Werte zwischen 1Q und 10%
liegen können. Die spektralselektive Wirkung der Mehrfachschicht 3 bleibt durch die Weiteren Mehrfachschichten
2 und 4 nahezu unverändert. Durch die Mehrfachschichten 2 und 4 wird aber die Intensität des
innerhalb des Paßbandes bzw. innerhalb etwa vorgesehener mehrerer Paßbänder in der spektralselektiven
Mehrfachschicht 3 durchgelassenen Lichtes gedämpft.
Von den beiderseits der so gegebenen Filteranordnung außen anschließenden Medien kann zumindest
eines aus einem festen absorbierenden öder nichtabsorbierenden Material, beispielsweise aus einer ebenen
oder gekrümmten Glasplatte bestehen, die zugleich eine tragplatte für die Filteranordnung bilden kann.
Nachstehend werden einige Ausführungsbeispiele für die Zusammensetzung und die Dicke der verschiedenen
teilschichten der vorgenannten Mehrfachschichten 2,3 und 4 wiedergegeben:
Beispiel 1 für eine durch die Filteranordnung durchzulassende Wellenlänge von λ - 589 nm
| Mehrfach- Teilschicht | 1 | 4 | 11 | Material | Schichtdicke |
| Schicht Nr. | 2 | 12 | |||
| 3 | 13 | nm | |||
| 4 | 14 | SiO2 | 270 | ||
| 5 | 15 | Cr | 6 | ||
| 6 | 16 | SiO2 | 270 | ||
| 2 ■ | 7 | 17 | Cr | 6 | |
| I 8 | SiO2 | 270 | |||
| 3 9 | Cr | 6 | |||
| 1 10 | SiO2 | 270 | |||
| Ag | 50 | ||||
| MgF2 | 850 | ||||
| Ag | 50 | ||||
| SiO2 | 270 | ||||
| Cr | 6 | ||||
| SiO2 | 270 | ||||
| Cr | 6 | ||||
| SiO2 | 270 | ||||
| Cr | 6 | ||||
| SiO2 | 270 |
Beispiel 1 gibt die Werte eines Interferenzfilters für eine Lichtquelle starker Strahlung wieder, deren
Hauptstrahlung im Bereich der Wellenlänge λ=590 nm liegt wie es beispielsweise bei Natriurnlampen oder
Hochdruck-Quecksilberlampen der Fall ist Das Filter weist in Übereinstimmung mit Fig. 1 die Mehrfachschichten
2,3 und 4 auf, von denen die Mehrfachschichten 2 und 4 aus jeweils sieben Teibchichten zusammengesetzt
sind. Die erste teilschieht besteht aus einem Quärzfilm einer Dickevon 270 nm, während die zweite
Teilschicht aus einem Chromfilm einer Dicke von 6 nm besteht Die dritte, fünfte und siebente Teilschicht
besteht jeweils wiederum aus einem Quarzfilm einer Dicke von 270 nm, während die vierte und sechste
Teilschicht erneut aus einem Chromfilm einer Dicke von 6 nm bestehen. Die Mehrfachjchicht 3 besteht aus drei
Teilschichten, von denen die ente und dritte jeweils aus einem Silberfilm einer Dicke von 50 nm bestehen,
während die mittlere Teilschicht aus einem Magnesiumfluoridfüm
einer Dicke von 850 nm besteht
Fig.2 veranschaulicht die Reflexion und Fig.3 die
Durchlässigkeit der im Beispiel Filteranordnung.
1 wiedergegebenen Beispie! 3 für eine durch die Filteranofdnung durchzulassende
Wellenlänge von λ = 589 nm
Beispiel 2 für eine durch die Filteranordnung durch- Mehrfach- Teilschicht
zulassene Wellenlänge von A= 589 nm 5 schlcht Nr·
Mehrfachschichc
Teilschicht
Nr.
Nr.
Material
2
3
4
5
6
7
3
4
5
6
7
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
14
15
16
17
18
19
AI2O3
Cr
Al2O,
Cr
AI2O3
Cr
Al2O3
Ag
Al2O3
Ag
Al2O3
Ag
Schichtdicke
227 6
76
14
76
227
33 306
77 841
33
| Al2O3 | 227 |
| Cr | 6 |
| Al2O3 | 76 |
| Cr | ' 14 |
| Al2O3 | 76 |
| Cr | 6 |
| Al2O3 | 227 |
IO
15
20
30 Material
10
Π
Π
13
14
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
16
17
18
19
20
21
22
23
Al2O3
Cr
Al2O3
Cr
AI2O3
Cr
Al2O3
Cr
AI2O3
Schichtdicke nm
227 6
76 7
76 7
76
227
| Ag | 33 |
| ΑΙ,Ο, | 306 |
| Ag | 77 |
| Al2O3 | 841 |
| Ag | 33 |
| Al2O3 | 227 |
| Cr | ' 6 |
| Al2O3 | 76 |
| Cr | 7 |
| Al2O3 | 76 |
| Cr | 7 |
| Al2O3 | 76 |
| Cr | 6 |
| Al2O3 | 227 |
Beispiel 2 gibt ebenfalls die Werte eines Interferenzfilters für eine Lichtquelle mit einer Hauptstrahlung im
Bereich der Wellenlänge λ=590 nm wieder, das gemäß F i g. 1 die Mehrfachschichten 2, 3 und 4 aufweist.
Während die Mehrfachschichten 2 und 4 wiederum jeweils aus sieben Teilschichten zusammengesetzt sind,
ist die spektralselektive Mehrfachschicht 3 in diesem Falle aus fünf Teilschichten zusammengesetzt Wie aus
der Tabelle ersichtlich ist, bestehen die beiden äußersten Schichten jeder Mehrfachschicht 2 bzw. 4 aus einem
AhOs-FiIm einerDicke von 227 nm, während die jeweils
nach innen anschließenden beiden Teilschichten aus einem Chromfilm einer Dicke von 6 nm bestehen.
Während die mittelste Teilschicht der beiden Mehrfachschichten 2 und 4 ebenfalls jeweils aus einem Chromfilm
besteht, der jedoch eine Dicke von 14 nm aufweist, bestehen die beiderseits der mittleren Teilschicht
"anschließenden letzten beiden Teüschichten der beiden
Mehrfachschichten 2 und 4 wiederum aus einem Al2Os-FiIm, der jedoch eine Dicke von 76 nm aufweist
Die Mehrfachschicht 3 besteht beim Beispiel 2 aus fünf Teüschichten, von denen die beiden äußersten aus
Silber mit einer Dicke von 33 nm und die mittlere Teilschicht ebenfalls aus Silber mit einer Dicke von
77 nm bestehen. Die zwischen den vorgenannten Teilschichten befindlichen restlichen beiden Teüschichten
bestehen wiederum jeweils aus einem AbOa-FiIm,
von denen der eine, in der Tabelle mit 9 bezeichnete eine Dicke von 306 nm und der andere, in der Tabelle mit 11
bezeichnete eine Dicke von 841 nm aufweist
Das in Fig.4 wiedergegebene Diagramm veranschaulicht
die Reflexionswerte und das in Fig.5 •wiedergegebene Diagramm die Durch'Siiigkeit der
dem Beispiel 2 entsprechenden Filteranordnung über der Wellenlänge wieder.
Beispiel 3 gibt ebenfalls die Werte eines Interferenzfilters für eine Lichtquelle starker Strahlung mit einer
Hauptstrahlung im Bereich der Wellenlänge λ=590 rim wieder, wobei das Filter gemäß F i g. 1 die Mehrfachschichten
2, 3 und 4 aufweist Gemäß der Tabelle bestehen die beiden Mehrfachschichten 2 und 4 aus
jeweils neun Teüschichten und die Mehrfachschicht 3 aus fünf Teüschichten. Dabei unterscheidet sich das
Beispiel 3 vom Beispiel 2 dadurch, daß in den Mehrfachschichten 2 und 4 die mittlere Teilschicht
jeweils durch drei Teüschichten ersetzt wurde, von denen die beiden äußeren Chromfilme einer Dicke von
7 nm sind, während die neue mittlere Teilschicht aus einem Al2O3-FiIm einer Dicke von 76 nm besteht.
Das in Fig.6 wiedergegebene Diagramm veranschaulicht
die Reflexion und das in Fig. 7 wiedergegebene Diagramm die Durchlässigkeit des dem Beispiel 3
entsprechenden Filters über der Wellenlänge.
Beispiel4 für eine durch die Filteranordnung durchzulassende
Wellenlänge von λ = 589 nm
| Mehrfach- | 2 | Teilschicht | Material | Schichtdicke |
| 60 schicht | Nr. | |||
| nm | ||||
| 1 | η = 1,35 | 277 | ||
| 65 | 2 | Cr | 7 | |
| 3 | η = 1,35 | 93 | ||
| 4 | Cr | 15 | ||
| 5 | η = 1,35 | 93 |
Fortsetzung
Mehrfachschicht
Teilschicht
Nr.
Nr.
Material
Schichtdicke nm
6
7
8
9
10
7
8
9
10
11
12
13
14
15
12
13
14
15
Ag
η = 1,35
Ag
/i = 1,35
Ag
η = 1,35
Cr
η = 1,35
Cr
// = 1,35
33
385
385
77
604
604
33
93
15
93
277
Auch in Beispiel 4 betrifft ein Interferenzfilter für eine
zusätzliche Lichtquelle mit einer Hauptstrahlung bei der Wellenlänge A = 590nm, das gemäß Fig. 1 aus den
Mehrfachschichten 2,3 und 4 zusammengesetzt ist. Wie aus der Tabelle ersichtlich ist, bestehen die beiden
äußeren Mehrfachschichten 2 und 4 aus jeweils fünf Teilschichten, die in diesem Falle spiegelsymmetrisch
zur Filtermitte gleich ausgebildet sind. Dabei bestehen die dielektrischen Teilschichten jeweils aus einem
Material mit der Brechungszahl /7=1,35, wofür beispielsweise das Material MgF2 und Na3AlF6 in Frage
kommt. Die jeweils äußerste Teilschicht der beiden Mehrfachschichten 2 und 4 besteht aus einem
dielektrischen Film einer Dicke von 277 nm, während die jeweils nach innen anschließende Teilschicht ein
Chromfilm einer Dicke von 7 nm ist. Die mittlere und die jeweils nach der Mitte der ganzen Filteranordnung
zu gelegene äußere Teilschicht der beiden Mehrfachschichten 2 und 4 bestehen jeweils aus einem
dielektrischen Film einer Dicke von 93 nm, während die restliche Teilschicht jeweils aus einem Chromfilm einer
Dicke von 15 nm besteht
Die mittlere Mehrtechschicht 3 des Beispiels 4 besteht wiederum aus fünf Teilschichten, von denen die beiden
äußersten Silberschichten einer Dicke von 33 nm sind. Auch die mittlere Teilschicht besteht aus einem
Silberfilm, der hier jedoch eine Dicke von 77 nm aufweist Die beiden restlichen Teilschichten bestehen
wiederum aus einem dielektrischen Material mit einer Brechungszahl /7=1,35, von denen die gemäß der
Tabelle zweite, mit 7 bezeichnete eine Dicke von 385 nm und die in der Tabelle mit 9 bezeichnete Teilschicht eine
picke von 604 nm aufweist
Das in F i g. 8 wiedergegebene Diagramm zeigt die Reflexion und das in F i g. 9 wiedergegebene Diagramm
die Durchlässigkeit der dem Beispiel 4 entsprechenden Filteranordnung über csr Wellenlänge an.
Fig. 10 bis 12 veranschaulichen die Werte einer
Filteranordnung gemäß einem fünften Ausführungsbeispiel. Das in Fig. 10 wiedergegebene Diagramm zeigt
die Brechungszahl η und den Absorptionskoeffizienten iin Abhängigkeit von der Dicke ζ der Mehrfachschichten
2 und 4 gemäß F i g. 1, und zwar jeweils von deren einer Außenfläche aus gemessen. Dabei haben beide
Mehrfachschichten 2 und 4 gemäß Fi g. 10 eine gleiche Dicke von jeweils 1 μ und die Werte der Brechivngszahl
π und des Absorptionskoeifizienten k verlaufen jeweils
spiegelbildlich zur Mitte der Mehrfachschicht Dabei fällt die Brechungszahl η von den beiden Außenflächen
jeder Mehrfaehsehicht 2 und 4 mit einem Wert von etwa 1,46 bis zu ei/*-em Wert von etwa 0,95 in der Mitte der
Mehrfaehsehicht ab, während der Absorptionskoeffizient
von eiriem äußeren Wert £=0 bis zu einem Wert
von etwa £=0,2 in der Mitte der jeweiligen Mehrfaehsehicht ansteigt.
Bei dem Beispiel 5 besteht die mittlere Mehrfaehsehicht 3 aus drei Teilschichten, von denen die beiden
äußeren jeweils aus einem dünrten Silberfilm einer
ίο Dicke von 50 nm und die mittlere aus einem dünnen
Mägnesiumfluoridfilm einer Dicke von 690 nm besteht Die beiden weiteren Mehrfachschichten 2 und 4
bestehen jeweils aus einer Mischung von Aluminium und Quarz. Die in den Fig. 11 und 12 wiedergegebenen
Diagramme veranschaulichen die Reflexion und die Durchlässigkeit der dem Beispiel 5 entsprechenden
Filteranordnung über der Wellenlänge in nm.
Bei allen vorgenannten Beispielen können die verschiedenen Teilschichten durch Vakuumaufdampfung
erzeugt werden. Alle von den Beispielen betroffenen Filteranordnungen sind vor allem für eine
als Natriumlampe ausgebildete zusätzliche Lichtquelle mit einer Hauptstrahlung im Bereich von A = 590nm
vorgesehen. Der Filteraufbau kann aber auch so
abgewandelt werden, daß die Filteranordnung einer anderen durchzulassenden Wellenlänge zugeordnet ist,
beispielsweise einer von Niederdruck-Quecksilberlampen erzeugten Hauptstrahlung mit einer Wellenlänge
von λ = 546 nm. Sofern die Filteranordnung einer anderen als der bei den vorstehenden Ausführungsbeispielen
berücksichtigten Wellenlänge A' = 589nm zugeordnet werden soll, dann muß sie entsprechend
üblichen optischen Regeln nach der Formel
h =
geändert werden, worin h die gesuchte Dicke der
Teilschicht in der abgewandelten Filteranordnung, A'die
Dicke der entsprechenden Teilsdiicht hei den vorstehend
beschriebenen Ausführungsbeispielen, n' die Brechungszahl des dielektrischen Materials bei einer
Wellenlänge von 589 nm, η die Brechungszahl des
gewünschten dielektrischen Materials, λ die gewünschte
Wellenlänge und Λ' die Wellenlänge 589 nm ist Die
optische Weglänge der einzelnen Teilschichten bleibt bei dieser Umwandlung unverändert
Beim Dimensionieren der den vorgenannten Ausführungsbeispielen entsprechenden Filteranordnungen
wurde angestrebt, den Reflexionsfaktor über den ganzen vorkommenden Wellenlängenbereich so niedrig
und gleichmäßig wie möglich zu erhalten, was auch aus den Fig.2, 4, 6, 8 und 11 hervorgeht, in denen der
Reflexionsfaktor durchschnittlich unter 5% beträgt und der Reflexionsfaktor im ganzen für das Auge empfindlichen
Wellenlängenbereich an keiner Stelle 15% übersteigt
Mit den vorgenannten Ausführungsbeispielen hat man somit ein Filter geschaffen, welches Licht nur in
den Wellenlängenbereichen der zusätzlichen Lichtquelle durchläßt und zugleich die Intensität des durchgelassenen
Lichtes auf einen Wert dämpft, der für das menschliche Auge unschädlich ist, wobei vom Füter
auch keine unerwünschten (störenden) Reflexionen ausgehen können. Die Herstellung der Filier kann
vorzugsweise durch ein an sich bekanntes Aufdampfen der verschiedenen Teilschichten erfolgen Eine solche
1*1
Heistellung ist wirtschaftlich sehr vorteilhaft und führt auch zu einem mechanisch sehr haltbaren Erzeugnis.
Die Anwendung der erfindungsgemäßen Schutevorrichtung ist nicht an Schweißen gebunden, sondern kann
auch sonst überall dort erfolgen, wo eine iür das menschliche Auge schädliche Strahlung auftreten kann.
Bei allen vorstehend in den Ausführungsbeispielen beschriebenen Filtern übersteigt der Durchlässigkeitsbereich
den Wellenlängenbereich der von der zusätzlichen Lichtquelle ausgehenden Strahlung beiderseits um
einen gewissen Wert Würde der Durchlässigkeitsbereich zu eng gemacht werden, dann könnte er mit
Rücksicht auf die bei der Filterherstellung unvermeidlichen Toleranzabweichungen bei der Dicke der einzelnen
Schichten aus dem Strahlungsbereich der zusätzlichen Lichtquelle herausfallen. Würde man jedoch im
Interesse der Einhaltung eines engeren Durchlässigkeitsbereiches die vorgenannten Herstellungstoleranzen
entsprechend verringern, dann würde dies bei den hergestellter; Filtern zu einem erheblichen Ausschuß
führen.
Es ist im übrigen kaum möglich, für die in den vorstehenden Ausführungsbeispielen erläuterten Filterkonstruktionen
Angaben über die bei den einzelnen Teilschichten einzuhaltenden Dickentoleranzen zu machen,
weil die Toleranzen der verschiedenen Teilschichten alle voneinander abhängen.
Sofern zu erwarten ist, daß die von einem Lichtbogen
ausgehende Strahlung besonders intensiv ist oder die Strahlungsintensität starken plötzlichen Schwankungen
ausgesetzt ist, dann kann es eintreten, daß die Durchlässigkeit der vorstehend beschriebenen Filter zu
groß ausfällt und doch noch die Gefahr einer Augenschädigung besteht In solchen Fällen kann als
Medium 1 des in Fi g. 1 dargestellten Filters ein farbiges Glas der Type OG 560 verwendet werden, welches vom
Jenaer Glaswerk, Schott & Genossen, in Mainz hergestellt wird. Allerdings ist dann wieder zu befürchten, daß
* dadurch auch bei den vorgenannten Filtern die Dämpfung so stark ausfällt, daß das Schutzglas
gegenüber der zusätzlichen Lichtquelle zu undurchsichtig für eine Benutzung bei noch nicht gezündetem
Schweiß-Lichtbogen ausfällt
Eine auch den letztgenannten Mangel vermeiden'de weitere Ausführungsform des Schutzglases ist in
Fig. 13 dargestellt Dort enthält das Schutzglas eine
Kombination eines Filters gemäß den vorgenannten Ausführungsbeispielen mit einer zusätzlichen lichtempfindlichen
Substratschicht deren Durchlässigkeit bei zunehmender Anstrahlung abnimmt Auf diese Weise
kann das Filter innerhalb seines Durchlässigkeitsbereiches durchlässiger gestaltet werden, als es ohne die
photochromatische Substratschicht der Fall wäre, und der Schweißer kann vor dem eigentlichen Schweißbeginn
gegenüber der zusätzlichen Lichtquelle stets ausreichend darch das Schutzglas auf seinen Arbeitsbereich
blicken, während seine Augen während des Schweißvoi'ganges auch beim Auftreten einer zu
starken Strahlung oder sehr starker Schwankungen der ausgestrahlten Lichtstärke trotzdem geschützt bleiben.
Das in Fig. 13 dargestellte, zur Verwendung in einer Schutzbrille gekrümmte Schutzglas besteht aus einer äußeren Platte Γ eines photochemischiin Substrates, wie es beispielsweise als Verbindung 224 durch die Firma Applied Photophysics Ltd. hergestellt wird. Hinter der Platte 1' folgt das eigentliche Filter 2', das aus den in den vorgenannten Ausführungsbeispielen genannten unterschiedlichen Mehrfachschichten zusammengesetzt ist Dahinter folgt schließlich als Tragschicht Und zugleich zum Schutz des Filters vor Beschädigungen eine beispielsweise aus Glas bestehende Tragplatte
Das in Fig. 13 dargestellte, zur Verwendung in einer Schutzbrille gekrümmte Schutzglas besteht aus einer äußeren Platte Γ eines photochemischiin Substrates, wie es beispielsweise als Verbindung 224 durch die Firma Applied Photophysics Ltd. hergestellt wird. Hinter der Platte 1' folgt das eigentliche Filter 2', das aus den in den vorgenannten Ausführungsbeispielen genannten unterschiedlichen Mehrfachschichten zusammengesetzt ist Dahinter folgt schließlich als Tragschicht Und zugleich zum Schutz des Filters vor Beschädigungen eine beispielsweise aus Glas bestehende Tragplatte
IS' 3'. Das Glas kann spektral absorbierend oder transparent
sein. Es kann beispielsweise ein beim Jenaer Glaswerk, Schott & Genossen, in Mainz hergestelltes
Glas der Type OG 560 verwendet werden. Durch die photochromatische Substratschicht der Platte Γ kann
bei einer besonders starken Anstrahiung eine zusätzliche Dämpfung erreicht werden. Infolgedessen kann die
Durchlässigkeit des Filters 2' trotz Wahrung eines ausreichenden Schutzes der Augen größer gewählt
werden, als es ohne Vorhandensein der Substratschicht notwendig wäre. Dabei sind die Substratschicht und das
Filter 2' so aufeinander abgestimmt daß das Schutzglas für die beim Schweißen auftretende Strahlung nur
derart schwach lichtdurchlässig ist daß das menschliche Auge dadurch nicht gefährdet werden kann. Selbst eine
vom Lichtbogen bei verstärkter Emission ausgehende störende Blendung bleibt unschädlich, weil sie im
wesentlichen nur psychologischer Natur ist Die vergrößerte Durchlässigkeit ist von großer Bedeutung,
weil sie das Schutzglas bei seiner normalen Verwendung durchsichtiger macht und deshalb auch dort, beispielsweise
bei Bewegungen und Handlangungen, getragen werden kann, wo herkömmliche Schutzbrillen oder
Schutzschilde mangels ausreichender Durchsichtigkeit abgenommen werden mußten.
In einer Abwandlung Jes in F i g. 13 dargestellten und
vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispieles kann die Tragplatte 3' als Schutzglas ebenfalls die vorgenannte
Verbindung 224 oder eine vergleichbare Verbindung enthalten, während an Stelle der dargestellter, durch die
Substratschicht gebildeten Platte Γ eine absorbierende oder nichtabsorbierende Glasplatte oder Verbindung
224 bzw. vergleichbare Verbindung vorgesehen sein kann. Selbstverständlich kann das in Fig. 13 dargestellte
Schutzglas bei gleichbleibender Zusammensetzung
so statt gekrümmt auch eben ausgebildet sein, wenn es
beispielsweise an einem Schutzschild vorgesehen wird. Je nachdem, ob das photochromatische Material der
durch die Platte 1' gebildeten Substratschicht mehr oder weniger empfindlich ist kann es entweder auf der dem
Schweiß-Lichtbögen zugewandten oder auf der dem Schweiß-Lichtbogen abgelegenen Seite des Filters 2'
angeordnet werden.
Hierzu 12 Blatt Zeichnungen
Claims (11)
1. Schutzvorrichtung zum Schütze der Augen gegen schädliche, beispielsweise beim Schweißen
auftretende Strahlung mit einer in deren Umgebung vorgesehenen, vor allem im Bereich einer gewissen
Wellenlänge λ eine starke Emission aufweisenden Lichtquelle mit einer spektralselektiven ersten
Mehrfachschicht in Form eines metallischen Interfe- ι ο renzfilters und mit beiderseits des letzteren befindlichen
weiteren Mehrfachschichten, die so ausgebildet sind, daß der Reflexionsfaktor an den Grenzflächen
zwischen dem Interferenzfilter und den umgebenden Medien spektral neutrale Werte annimmt und die rs
Spektralfunktion der spektralselektiven ersten Mehrfachschicht durch die sie umgebenden weiteren
Mehrfachschichten im wesentlichen unbeeinträchtigt bleibt, dadurch gekennzeichnet, daß
die spektralselektive erste Mehrfachschicht (3) ein Paßband tür hauptsächlich die Wellenlänge (λ) der
Lichtquelle aufweist und jede der die erste Mehrfachschicht (3) umgebenden weiteren Mehrfachschichten
(2 und 4) entweder aus
abwechselnden Schichten von SiO2 und Cr5 wobei beide äußersten Schichten aus S1O2 bestehen, oder aus
abwechselnden Schichten von SiO2 und Cr5 wobei beide äußersten Schichten aus S1O2 bestehen, oder aus
abwechselnden Schichten von AI2O3 und Cr, wobei
beide äußersten Schichten aus AI2O3 bestehen, oder
aus abwechselnden Schichten eines Materials mit der Brechungj^ahl /2= 135, wie MgF2 oder Na3AlFe und
Cr, oder aus
einem Belag einer duTh λ bestimmten integrierten
optischen Dicke gebildet sind dessen Brechungszahl π und Absorptionskoeffizient k stufenlos wechseln,
wobei sich von jeder Endfläche zur Mitte des Belages hin π von im wesentlichen 1,46 bis im
wesentlichen 0,95 und k von im wesentlichen 0 bis im wesentlichen 0,2 verändert
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden weiteren Mehrfachschichten
(2 und 4) jeweils aus einer SiO2-Schicht einer
Dicke von im wesentlichen
270 (λ/589) ■ (/7,(589)//τ(λ)) nm
und (a— 1) Cr-Schichten mit einer im wesentlichen 6 nm betragenden Dicke bestehen, wobei jede
Cr-Schicht zwischen zwei SKVSchichten angeordnet ist, worin /7i(589) die Brechungszahl für S1O2 bei
A = 589nm und n\ (λ) die Brechungszahl bei der
Wellenlänge λ ist und worin 2<a<6 sowie vorzugsweise a = 4 ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die spektralselektive Mehrfachschicht
(3) aus zwei Ag-Schichten einer Dicke von im wesentlichen 50 nm und aus einer zwischen diesen
befindlichen MgF2-Schicht einer Dicke von im wesentlichen
850 (λ/589) · (m (589)//32 (λ)) nm
besteht, worin n2 (589) die Brechungszahl für MgF2
bei λ = 589 nm und /32 (λ) die Brechungszahl bei der
Wellenlänge λ ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Weiteren Mehrfachschich-
35
40
45 ten (2 und 4) jeweils aus zwei äußeren AI2O3-Siehiehten
einer im wesentlichen
227 (λ/589) - (m (589)//j3 (λ)) nm
betragenden Dicke bestehen, an die nach innen jeweils eine Cr-Schicht einer Dicke von im
wesentlichen 6 nm anschließt, während eine an jede Cr-Schicht nach innen anschließende Al2O3-Schicht
eine Dicke von im wesentlichen
76 (2/589) · m(589)/n3fl))nm
aufweist und daß eine mittlere Schicht entweder aus Cr einer Dicke von im wesentlichen 14 nm oder aus
zwei Cr-Schichten einer Dicke von im wesentlichen 7 nm mit einer dazwischen eingeschlossenen Al2O3-Schicht
einer Dicke von im wesentlichen
76 (λ/589) · (n3 (589)//73 (λ)) nm
besteht, worin /73 (589) die Brechungszahl für AI2O3
bei λ=589 nm und π2 (λ) die Brechungszahl bei der
Wellenlänge λ ist
5. Vorrichtung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet,
daß jede der beiden weiteren Mehrfachschichten (2 und 4) aus einer ersten Schicht aus
einem Material mit einer Brechungszahl /7= 1,35 bei
einer Wellenlänge λ=589 nm und einer Dicke von im wesentlichen
277(λ/589)·(1,35//74(λ))ηπι,
aus einer zweiten Schicht aus Cr einer Dicke von im wesentlichen 7 nm, aus zwei weiteren Cr-Schichten
einer Dicke von im wesentlichen
93 (λ/589) -(1,35Zn4 (λ)) nm
und aus einer zwischen den beiden letztgenainnten Schichten eingeschlossenen weiteren Cr-Schicht
einer Dicke von im wesentlichen 15 nm besteht, worin /74 (λ) die Brechungszahl für das gemannte
Material bei der Wellenlänge A ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die spektralselektive Mehrfachschicht
(3) aus einer im wesentlichen 33 nm dicken Ag-Schicht, einer im wesentlichen
306 (λ/589) · (m (589)//J3 (λ)) nm
dicken AUOs-Schicht, einer im wesentlichen 77 nm
dicken Ag-Schicht, einer im wesentlichen
841 (λ/589) · (nz (589)//j3 (λ)) nm
dicken Al2O3-Schicht und aus einer im wesentlichen
33 nm dicken Ag-Schicht besteht.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die spektiralselektive
Mehrfachschicht (3) aus einer im wesentlichen 35 nm dicken Ag-Schicht, einer im wesentlichen
385 (λ/589)-(1,35Zn4 (λ)) nm
dicken Schicht eines Materials mit einer Brechiungszahl
/7=1,35 bei der Wellenlänge A = 589nm, einer
im wesentlichen 77 nm dicken Ag-Schicht, eimsr im wesentlichen
604 (λ/589) · (U5//74 (λ)) nm
dicken Schicht des genannten Materials und einer im wesentlichen 33 nm dicken Ag-Schicht besteht,
worin /74 (λ) die Brechungszahl des genannten
Materials bei der Wellenlänge λ ist.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle
eine Natrium- oder eine Hochdruck-Quecksilberlampe mit einer im Bereich der Wellenlänge
λ = 589 liegenden Emission, wobei die Dicke dielektrischer Teilschichten der Mehrfachschichten
(2 und 4) der Wellenlänge λ = 589 angepaßt ist.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle eine
Niederdruck-Quecksilberlampe mit einer Emission im Bereich der Wellenlänge λ = 546 nm ist, wobei die
Dicke dielektrischer Teilschichten der Mehrfachschichten (2 und 4) der Wellenlänge A = 546nm
angepaßt ist.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer
der beiden Außenflächen des durch die Mehrfachschichten (2 bis 4) gebildeten Filters (2') eine
zusätzliche Schicht (Platte 1') eines lichtempfindlichen Substrates vorgesehen ist, dessen Lichtdurchlässigkeit
mit zunehmender Anstrahlung abnimmt (Fig. 13).
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer freien Außenfläche des durch die Mehrfachschichten
(2 bis 4) gebildeten Filters (2') eine Tragschicht aus einer durchsichtigen oder dunklen, beispielsweise
aus Glas bestehenden Tragplatte (3') vorgesehen ist
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE7514650A SE395833B (sv) | 1975-12-23 | 1975-12-23 | Skyddsanordning for skydd mot stralning, exv vid svetsning |
| SE7514649A SE403566B (sv) | 1975-12-23 | 1975-12-23 | Skyddsglas for skydd mot ljusstralning, som kan underga kraftiga intensitetsvariationer, sasom vid svetsning |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2658365A1 DE2658365A1 (de) | 1977-07-21 |
| DE2658365B2 DE2658365B2 (de) | 1978-08-10 |
| DE2658365C3 true DE2658365C3 (de) | 1979-04-19 |
Family
ID=26656679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| DE19762658365 Expired DE2658365C3 (de) | 1975-12-23 | 1976-12-23 | Schutzvorrichtung zum Schütze der Augen gegen schädliche Strahlung |
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Families Citing this family (1)
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- 1976-12-23 DE DE19762658365 patent/DE2658365C3/de not_active Expired
- 1976-12-23 NL NL7614347A patent/NL7614347A/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-12-23 JP JP15612376A patent/JPS5292844A/ja active Pending
- 1976-12-23 BR BR7608671A patent/BR7608671A/pt unknown
Also Published As
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| DE2658365A1 (de) | 1977-07-21 |
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