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DE2236941A1 - Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial - Google Patents

Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial

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DE2236941A1
DE2236941A1 DE2236941A DE2236941A DE2236941A1 DE 2236941 A1 DE2236941 A1 DE 2236941A1 DE 2236941 A DE2236941 A DE 2236941A DE 2236941 A DE2236941 A DE 2236941A DE 2236941 A1 DE2236941 A1 DE 2236941A1
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photosensitive layer
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DE2236941A
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Hans Dr Dipl Chem Ruckert
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Kalle GmbH and Co KG
Original Assignee
Kalle GmbH and Co KG
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G03F7/022Quinonediazides
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Description

K 2ΐ4'8 PP-Dr.N.-ur 26. Juli 1972
,Beschreibung zur Anmeldung der
KALLE AKTIENGESELLSCHAFT Wiesbaden-Biebrich
für ein Patent auf Lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial
Die Erfindung betrifft'ein lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial, insbesondere für die übertragung von Photoresistschichten in trockenem Zustand.
Derartige Schichtübertragungsmaterialien sind z. B. aus der deutschen Auslegeschrift 1 522 515 bekannt
geworden. Die dort beschriebenen Kopierschichten sind lichtvernetzbar oder photopolymerisierbar, arbeiten also negativ, und eignen sich aufgrund ihres normalen Gehalts an thermoplastischen polymeren Substanzen besonders gut für eine trockene übertragung der Kopierschicht unter Druck und Erwärmen auf den endgültigen Träger.
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Für viele Zwecke wäre es erwünscht, auch positiv arbeitende Kopierschichten in gleicher Weise übertragen zu können. Materialien und Schichtübertragungsverfahren, die positive Übertragungsbilder liefern, sind ebenfalls bekannt. Diese Materialien und Verfahren haben jedoch bestimmte Nachteile.
Bei einem bekannten Verfahren werden z. B. positive Übertragungsbilder bzw. -masken mittels einer negativ arbeitenden Schicht hergestellt, indem die Schicht bildmäßig gehärtet wird und Träger- und Deckfolie derart getrennt werden, daß an der einen die gehärteten, an der anderen die ungehärteten Schichtteile haften, die dann jeweils auf eine andere Unterlage übertragen werden können.
In der DOS 2 028 903 wird ein positiv arbeitendes Schichtübertragungsmaterial beschrieben, das aus Polymeren mit seitenständigen Hydroxygruppen besteht, die zum Teil mit o-Chinondiazidgruppen substituiert sind. Die reproduzierbare Herstellung derartiger hochmolekularer lichtempfindlicher Substanzen ist schwierig und umständlich.
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In der DOS 2 046 115 ist ein ähnliches Material beschrieben, das jedoch niedermolekulare Chinondiazide enthält. Dieses Material enthält zusätzlich Zwischenschichten und gegebenenfalls. Haftschichten, um ein einwandfreies Aufbringen der Photoresistschicht auf die zu bearbeitende Unterlage und eine einwandfreie Abtrennung des Zwischenträgers zu ermöglichen.
Ein ähnliches Material wird in der DOS 2 106 574 beschrieben.
Alle diese Positivmaterialien sind komplizierter aufgebaut als für den gleichen Zweck geeignete Negativmaterialien und bzw. oder erfordern zusätzliche Behandlungssehritte.
Aufgabe der Erfindung war es, ein einfach aufgebautes Schichtübertragungsmaterial für trockene übertragung, insbesondere von Photoresistschichten, vorzuschlagen, das positiv arbeitet und die bekannten Vorteile der Positivschichten mit güter Übertragbarkeit und Haftung auf der endgültigen Unterlage verbindet.
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Gegenstand der Erfindung ist ein lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial mit einem Träger, einer lichtempfindlichen Schicht, die ein o-Naphthochinondiazid und ein alkalilösliches Phenolharz enthält, und gegebenenfalls einem abziehbaren Deckblatt auf der anderen Seite der lichtempfindlichen Schicht.
Das erfindungsgemäße Material ist dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht einen Ester oder ein Amid einer o-Naphthochinondiazidsulfonsäure sowie ferner mindestens ein Acrylharz enthält.
o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester und -amide sind als Bestandteile positiv arbeitender Kopierschichten bekannt und z. B. in den deutschen Patentschriften 85*4 89O, 865 109, 900 172, 907 738, 938 233 und 1 195 166, der deutschen Auslegeschrift 1 5^3 721 und der deutschen Offenlegungsschrift 2 047 816 beschrieben.
Als alkalilösliche Phenolharze kommen in bekannter Weise im wesentlichen die Phenol-Pormaldehyd-Novolake in Betracht, deren Verwendung in Positiv-Kopierschichten ebenfalls in den genannten Druckschriften beschrieben ist.
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Der Träger des erfindungsgemäßen Schichtübertragungsmaterials soll so beschaffen sein, daß er sich nach der trockenen übertragung der· Schicht auf die endgültige, zu bearbeitende Unterlage leicht und ohne Beschädigung der Schicht von dieser abziehen läßt. Er kann transparent oder undurchsichtig s'ein. Geeignete Trägermaterxalxen sind z. B. in der deutschen Auslegeschrift 1 522 515 beschrieben. Für die erfindungsgemäßen Materialien werden vor allem Kunststoffolien, insbesondere Polyester- oder Polyolefinfolien verwendet, deren Oberfläche gegebenenfalls eine Vorbehandlung erfahren kann.
Das vorzugsweise zum Schutz der lichtempfindlichen Schicht verwendete Deckblatt kann ebenfalls eine Kunststoffolie sein, wie es in der genannten Auslegeschrift näher beschrieben ist. Sie soll eine geringere Haftung an der Kopierschicht haben als die Trägerfolie.
Als Acrylharze, die wesentlicher Bestandteil der lichtempfindlichen Schicht sind, kommen Homo- und Mischpolymerisate von Derivaten der Acryl- und Methacrylsäure in Betracht, insbesondere von deren Estern. Die Alkoholkomponente des Esters wird vorzugsweise von niederen
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aliphatischen Alkoholen mit etwa 1 bis 6 Kohlenstoffatomen gebildet. Besonders gut lassen sich Schichten übertragen und verarbeiten, die außer dem Acrylharz noch einen Polyvinyläther enthalten. Zusätzlich zu dem Polyvinyläther oder an dessen Stelle können der Schicht weiterhin Mischpolymerisate mit Einheiten zugesetzt werden, die saure Gruppen enthalten, insbesondere Carboxylgruppen. Bevorzugte Vertreter hierfür sind Mischpolymerisate von Alkylestern der Acryl- oder Methacrylsäure mit den freien Säuren oder Mischpolymerisate von Vinylacetat mit ungesättigten Carbonsäuren, z. B. Crotonsäure.
Die erfindungsgemäßen Schichten sind dadurch ausgezeichnet, daß sie nicht die sonst von Positivlack-Schichten bekannte Sprödigkeit besitzen, sondern geschmeidig sind. Trotzdem können sie sauber und sicher wäßrig-alkalisch entwickelt und mit den für Negativ-Trockenresists üblichen Walzen-Laminiergeräten in Schichtdicken von etwa 4 - 60 ,u übertragen werden. Durch die Kombination der Zusatzharze mit den üblichen Bestandteilen der Positiv-Kopierschicht, Naphthochinondiazid und Phenolharz, wird weder ein Haftvermittler zum Empfänger noch eine Trenn- oder Zwischenschicht zum Träger gebraucht. Die Schicht wird vorzugs-
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weise nicht durch die Trägerfolie hindurch, sondern nach deren Abziehen, vorzugsweise nach einem kurzen zusätzlichen Nachtrocknen, belichtet, ohne daß die Vorlage nach dem Belichten mit kaltem UV-Licht z. B. mit einer Metall-Halogen-Lampe, an der Schicht hängenbleibt1. · Durch mehrmaliges Laminieren übereinander werden Schichtdicken bis 60,u und mehr erreicht. Zur Erreichung größerer Schichtdicken ist dies Verfahren, z. B. 30,u aus 2 χ 15/U, außerdem sicherer und weniger staubanfällig als die Verwendung von Trockenres ist der Enddicke z. B. 30 ,u. Mit' nur 2 Typen z« B. 7,5 und 20,u können leicht zahlreiche Schichtdicken durch Aufeinander-Laminieren erzeugt werden.
Ein weiterer Vorteil der Kopierschichten der erfindungsgemäßen Materialien ist, daß sie auch auf der Trägerfolie sauber und sicher entwickelt und dann als fertiges Bild auf den Empfangsträger laminiert werden können. Auf diese Weise ist es möglich, mit verschieden angefärbten Schichten z. B. auch einen Farbsatz auf Druckpapier zu laminieren· und so einen Andruckersatz zu erhalten. Mit dem erfindungsgemäßen Material und Verfahren ist es auch möglich, belichtete, aber nicht entwickelte Positiv-Trockenresistschichten übereinander zu laminieren und dann diesen Mehrschichten-Resist bildmäßig zu einem Relief mit verschieden tiefen
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Stufen zu entwickeln. Durch unterschiedliche Färbung der einzelnen Schichten kann diese Möglichkeit, die mit Negativschichten im allgemeinen nicht durchführbar ist, sichtbar demonstriert werden. Da nach dem Belichten bereits das Bild zu sehen ist, kann passergenau laminiert werden.
Sowohl die Polyvinylalkylather als auch die Methacrylate, bevorzugt Acrylate, geben der Schicht haftklebende und weichmachende Eigenschaften und ermöglichen die einwandfreie übertragung vom Träger auf das Empfangsmaterial. Ohne die Acrylate sind die Entwicklungseigenschaften, insbesondere die Entwicklerresistenzen unbefriedigend. Völlig ohne Polyvinylalkylather ist dagegen die Entwicklung langsamer und kann im allgemeinen nicht ohne mechanische Unterstützung durchgeführt werden. Bis zu einem gewissen Maße können die Polyvinyläther durch die genannten sauren Mischpolymerisate, insbesondere saure Acrylat-Mischpolymerisate, ersetzt werden. Außerdem kann der Zusatz von Polyvinylpyrrolidon-Harzen vorteilhaft sein.
Bezogen auf den Feststoff der Schicht mit einem Gehalt an Diazoverbindung von etwa 12 - 30 % und an Novolak von etwa 25 - ^O % liegen die günstigsten Mengen der
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übrigen Harzzusätze bei etwa 5-30 % Acrylharz und 5 - 35 # Polyvinylalkyläther. Die günstigsten Anteile an sauren Mischpolymerisaten betragen etwa 5 - 15 $. Die praktisch verwendeten Zusatzmengen hängen innerhalb dieser allgemeinen Bereiche stark von der Natur der einzelnen Polymeren ab. Die Grenzen der Brauchbarkeit liegen z. B. bei den meisten Schichtkombinationen für Polyvinylmethyläther (z.B. Lutonal M 40) bei ca. 0-20 %t Polyvinyläthyläther, niedrigviskos (z.B. Lutonal A 25)
bei ca, 0-30 %t Polyvinyläthyläther, hochviskos (z.B. Lutonal A 50)
bei ca. 0-10■ #,
Polyvinylisobutyläther (z.B. Lutonal J 30) bei ca. 0-15 Polyvinylisobutylather, höher viskos (z.B. Lutonal J 60)
bei ca. 0-10 %.
Die folgenden Mengenbereiche bei. bestimmten Acrylat-Harzen beziehen sich auf den Peststoffgehalt der Handelsprodukte. Die besten Ergebnisse werden erzielt mit:
Polyäthylacrylat, niedrigviskos (z.B. Plexisol B 574)
bei ca. 5-30 %t Polyäthylacrylat, hochviskos (z.B. Plexisol'B 372)
bei ca. 5-10 %t
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Ebenfalls, aber mit etwas geringerem Effekt brauchbar sind Polybutylacrylat (z.B. Plexisol D 592) bei ca. 5-10 %, Polybutylmethacrylat (z.B. Plexisol P 550) bei ca. 8-15 %, Mischpolymerisat von )
(z. B. Plexisol PM 709) Butylmethacrylat und )
bei ca. 5 - 8 % Methylmethacrylat )
Herstellung und Verarbeitung des erfindungsgemäßen Materials erfolgen in der für Trockenresistmaterialien üblichen Weise. Die Bestandteile der lichtempfindlichen Schicht werden in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst, und die Lösung wird auf die gegebenenfalls vorbehandelte Trägerfolie aufgestrichen und getrocknet. Dann wird die freiliegende Seite der Kopierschicht gegebenenfalls mit der Deckfolie unter leichtem Druck kaschiert. Das Material wird aufgerollt und in dieser Form gelagert.
Zur Verarbeitung wird ein geeignetes Stück des Schichtübertragungsmaterials abgeschnitten, von der Deckfolie befreit und unter Druck und Erwärmen auf die zu behandelnde, meistens zu ätzende Unterlage aufgebracht. Das Abziehen der Deckfolie und Aufbringen auf die Unterlage kann mit einem handelsüblichen Laminiergerät mit heizbaren Walzen erfolgen.
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Belichten und Entwickeln werden dann wie oben beschrieben durchgeführt. Die mit dem Resistbild versehene Oberfläche kann in üblicher Weise geätzt oder galvanisiert werden.
Das erfindungsgemäße Material wird insbesondere zur Herstellung von kopierten Schaltungen, integrierten Schaltkreisen, Tief- oder Hochdruckplatten, zum Formteilätzen oder als Andruckersatz im Mehrfarbendruck verwendet.
Die erfindungsgemäßen Materialien können auch zur Herstellung von Siebdruckschablonen verwendet werden. Man erhält so erstmals ein negativ arbeitendes, vorbeschichtbares Siebdruckmaterial. Es ist möglich, die Schicht auf den Schablonenträger zu laminieren und dann auf den Siebdruckrahmen zu spannen oder das Schichtübertragungsmat.erial auf das im Rahmen aufgespannte Gewebe aufzulegen und unter Druck und Wärme aufzupressen. In beiden Fällen haftet die elastische Schicht ausreichend auf bzw. teilweise in ' der strukturierten Gewebeoberfläche. Dies Siebdruckmaterial kann sowohl nach dem Abziehen der Trägerfolie als auch vorher durch diese hindurch belichtet werden.
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Die folgenden Beispiele erläutern Herstellung Und Ver* arbeitung bestimmter AusfUhrungsformell des erfihdüngs« gemäßen Materials» Alle Prozentangaben sind Gewichts^ Prozente und beziehen sich bei den Angaben zUr Zusammen* setzung der Schichten auf Festsubstanz.
Beispiel 1
Eine 25M dicke, biaxial verstreckte und thermofixierte Polyäthylenterephthalatfolie wird in eine wäßrige Lösung getaucht, die 10 % Trichloressigsäure» 1 % Polyvinylalkohol und 0,1 % Netzmittel enthält, und dann 2 Minuten bei l*»0° C getrocknet.
Auf die vorbehandelte Folie wird eine lichtempfindliche Schicht durch Aufstreichen und Trocknen einer Lösung in Äthylenglykolmonoäthyläther aufgebracht» Die trockene Schicht ist 10,u stark und hat die folgende Zusammensetzung:
30 % Kresol-Formaldehyd-Novolak, 22 % Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäure-
(p-cumylphenyl)ester i
8 % Polyäthylacrylat, niedrigviskos (Plexisol B
Röhm ^ Haas),
8 % Polybutylmethacrylat (Plexisol P
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13 % Polyvinylmethyläther (Lutonal M 40, BASF), 13 % Polyvinyläthyläther, niedrigviskos (Lutonal A 25), 6 % Pigmentfarbstoff Imperongelb KG.
Auf die getrocknete Schicht wird eine 25,u dicke Poly-· äthylenfolie als Deck- bzw. Schutzfolie aufkaschiert, und das erhaltene Schichtgebilde wird aufgerollt.
Ein Stück des Materials wird unter einer positiven Vorlage durch die Trägerfolie hindurch 3 Minuten mit einer 5 KW Metall-Halogen-Lampe belichtet. Dann wird die Schutzfolie abgezogen und die Schicht durch Tauchen und schwaches überwischen mit 15 #iger wäßriger Trinatriumphosphatlösung in etwa 1 Minute entwickelt, mit Wasser abgewaschen und getrocknet. Es wird ein gelbes seitenverkehrtes Bild der Vorlage erhalten. Das entwickelte Bild wird durch Anpressen bei etwa 120-130° C mittels eines handelsüblichen Walzen-Laminiergeräts bei einer Durchfahrgeschwindigkeit von etwa 30 cm je Minute auf Druckpapier übertragen. Anschließend wird die Trägerfolie abgezogen, und das gelbe seitenrichtige Bild haftet fest auf dem Papier.
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Anschließend werden in gleicher Weise ein blaues und dann ein rotes TeilfärbenbiId passergenau auf das gelbe Teilfarbenbild übertragen. Es wird in gleicher Weise wie bei dem gelben Bild gearbeitet, nur wird jeweils der gelbe Farbstoff in der Schicht durch die halbe Gewichtsmenge Imperonblau KB bzw. zwei Drittel seiner Gewichtsmenge an Imperonrot KB ersetzt. Die letzte Trägerfolie kann zum Schutz auf dem DreifärbenbiId verbleiben. Um ein tonwertechteres Ergebnis zu erhalten, können die Schichtdicken und Pigmentkonzentrationen noch feiner abgestimmt und die Teilbilder nach dem übertragen ohne Vorlage nachbelichtet werden.
Beispiel 2
Auf den gleichen Träger wie in Beispiel 1 werden aus Methyläthylketon Schichten folgender Zusammensetzung aufgetragen:
30,8 % Novolak,
7,7 % Vinylacetat-Crotonsäure-Mischpolymerisat (Molekulargewicht etwa 100.000, Säurezahl bis etwa 35)»
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20.5 % Estergemisch aus 2,3,4-Trihydroxy-
benzophenon und NaphthOchinori-Cl^)-diazid-(2)-5-sulfonsäure, 15,4 % Plexisol B 574 (vgl." Beispiel 1)-t
25.6 % Lutonal A 25 (vgl. Beispiel 1).
Auf die getrockneten Schichten werden Deckfolien wie in Beispiel 1 aufgebrächt* In verschiedenen Versuchen werden mit Schichtgewichtfen von 8-40 g/rn^ bezüglich Kopie und übertragen auf gereinigte Kupferpiatten zur Herstellung von kopierten Schaltungen gute Ergebnisse erzielt. Dazu wird nach dem Abziehen der Polyäthyleri-Deckfolie die Schicht bei 120-130° C auf das Werkstück · laminiert, die Trägerfolie abgezogenj ca. 10 Minuten bei 100° C nachgetrocknet, belichtet und mit 20 %iger Trinatriumphosphatlösung in einer Schale oder in einem Sprühgerät durch Spritzen mit 2-6 atü entwickelt * Die Schicht ist hervorragend geeignet als Resist für Ätzprozesse, z. B. für das Wegätzen des freigelegten Kupfers mit Ferrichlorid-Losung, und als Galvanoresist. Bei der Kopie mit 40 .u dicker Schicht können die freigelegten Bildteile geradwandig mit Metall j ζ. B; Kupfer oder Blei/Zinn-Legierung, galvanisch verstärkt werden.
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Zur Herstellung durchkontaktierter Schaltungen ist dieser Positiv-Trockenresist ebenfalls gut geeignet, da beim Laminieren die Bohrlöcher überdeckt werden und die unbelichtete freitragende Schicht die Entwicklung und auch Ätz- und Galvanoprozesse aushält.
Beispiel 3
Auf eine entsprechend Beispiel 1 vorbehandelte 12,u dicke Polyesterfolie wird eine etwa 15/U dicke Schicht folgender Zusammensetzung aufgebracht:
30,8 % Novolak,
20.5 % Diazoverbindung wie in Beispiel 2, 5,1-Ji Plexisol B 571J (vgl. Beispiel 1),
5,1 % Polyäthylacrylat, hochviskos (Plexisol 372), 12,8 % Polyvinylmethyläther,
25.6 % Lutonal A 25 (vgl. Beispiel 1).
Die Schicht kann auch angefärbt werden, z. B, mit 0,3 % Kristallviolett. Durch ein-, zwei- oder dreimaliges Laminieren dieser Schicht aufeinander nach Abziehen der vorhergehenden Trägerfolie können Schichtdicken von 15/U und dem Mehrfachen von 15/U aus einem einzigen Positiv_
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Trockenresist aufgebaut werden. Die Belichtungszeit nimmt in erster Näherung proportional zur Schichtdicke zu. Tor dem Belichten wird vorzugsweise kurz nachgetrocknet, damit die Vorlage nicht an der etwas haftklebenden Schicht hängenbleibt. Es wird mit dem folgenden wäßrig-alkalischen Entwickler (pH ca. ity'-'i '
7*5 g Na3PO4 . 12. HgO,
3,5 g Natriummetasilikat, ■ "
2,0 g NaH2PO4 . H2O, * ''' ' " - '
1,0 g Matriumhexametäphosphat,
1,0 g wasserlösliche Methylcellulose, 985,0 g destilliertes Wasser "
entwickelt und je nach Schichtdicke und Werkstück geätzt oder galvanisiert.
Beispiel 4 '
Auf eine 25/U dicke Polypropylenfolie als Trägerfolie wird aus Methyläthy!keton eine 40,u dicke Schicht folgender Eus ammens et zung aufgebracht:
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30,8 % Novolak,
7,7 % Vinylacetat-Mischpolymerisat wie in Beispiel 2,
20.5 % der in Beispiel 2 verwendeten Diazoverbindung» 5,1 % Plexisol B 574 (vgl. Beispiel 1),
5,1 % Plexisol PM 709 (Mischpolymerisat von Butyl-
methacrylat und Methylmethacrylat),
5,1 % Polyvinylmethylather,
25.6 % Lutonal A 25 (vgl* Beispiel 1).
Als Deckfolie wird 25/U dickes Polyäthylen verwendet. Durch Abziehen dieser Deckfolie, Laminieren auf einen Kupfer-Isolierstoff-Träger, Abziehen der Trägerfolie, Nachtrocknen, Belichten, Entwickeln mit IH iiger Trinatriumphosphat-Lösung und Ätzen wird wie üblich eine Leiterplatte hergestellt.
Beispiel 5
Auf eine 50#u dicke, wie in Beispiel 1 vorbehandelte
Polyesterfolie wird aus Äthylenglykolmonoäthyläther
die folgende 8,u dicke Schicht aufgetragen:
30 % Novolak,
7,7 % Vinylacetat-Mischpolymerisat wie in Beispiel 2, 20 % der in Beispiel 2 verwendeten Diazoverbindung, 10,2 % Plexisol B 574 (vgl. Beispiel 1),
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- -ig. -
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5,1 % Polyvinylmethylather,
25,6 % Lutonal A 25 (vgl. Beispiel 1), 1,3 % Kristallviolett»
Dann wird, wie in Beispiel 1 beschrieben, eine Deckfolie aufgebracht. ·
Nach dem Abziehen der'Deckfolie wird diese gefärbte Resistschicht auf eine mit dünner Weißpigment-Schicht versehene Polyesterfolie auflaminiert und entweder vor ' oder nach dem Abziehen der Trägerfolie belichtet. Zur Erzeugung eines Bildes der Vorlage auf diesem Träger braucht die gleichmäßige glatte Schicht dann nur noch •wäßrig-alkalisch entwickelt und getrocknet zu werden. Belichten bzw. Belichten und Entwickeln auf der .Trägerfolie und Laminieren der belichteten bzw. schon entwickelten Schicht ist ebenfalls möglich.
Beispiel 6 '
Auf eine 25/U dicke Polypropylenfolie wird folgende 20/u dicke haftklebende Positiv-Trockenresistschicht aus Äthylenglykolmonoäthyläther aufgetragen:
41,7 % Novolak,
16,7 % Naphthochinon-(l,2)-diazid-(2)-5-
sulfonsäure-n-butylamid, 41,7 % Polyvinyläthylather, hochviskos
(Lutonal A 50).
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Diese Schicht kann durch Laminieren bzw. einfaches Aufpressen mit geringer Erwärmung auf zahlreiche ebene Werkstoffe, z. B. Papier, Folie, Metall, Glas, Keramik und auch Holz übertragen und dann sauber von der Trägerfolie getrennt werden. Nach dem Belichten unter einer groben Vorlage ohne Berührung, z. B. in 1 mm Abstand, oder nach überwischen und Antrocknen einer Polyvinylalkoholschicht durch Belichten im Kontakt, wobei die dünne Polyvinylalkoholschicht ein Ankleben der Vorlage verhindert, kann das Bild durch 2-3 Minuten überwischen mit einer 16 %igen Trinatriumphosphat-Lösung entwickelt, dann abgespült und getrocknet werden. Die übertragenen bildmäßigen Schichtteile besitzen relativ starke haftklebende Eigenschaften. Durch Einpudern mit beliebigen Pigmentfarbstoffen, Ruß, Leuchtpulver usw. können so mit Hilfe der Trockenresistschicht Schriften und relativ grobe Zeichnungen, Figuren und Raster fixiert werden.
Beispiel 7
Auf 100 ,u dicke, wie in Beispiel 1 vorbehandelte Polyesterfolien wird je eine 12,u dicke gelbe, blaue und rote Positiv-Resistschicht folgender Zusammensetzung aus Athylenglykolmonomethylather aufgetragen:
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30 % Novolak,
7 % Vinylacetat-Mischpolymerisat wie in Beispiel 2, 20 /2 der in Beispiel 2 verwendeten Diazoverbindung» 15 Sf Plexisol B 574 (vgl. Beispiel 1),
25 % Lutonal A 25 (vgl. Beispiel 1), 3 % Farbstoff.
Als Farbstoff für die gelbe Farbfolie wird Auramin D (CI. 41 000) j für die blaue Folie Victoriareinblau FGA (C.I. Basic Blue 8l) und für die rote Folie Grasolechtrubin 2 BL (C.I. Solvent Red 128) verwendet.
Diese Farbfolien werden wie die von Beispiel 1 mit einer Deckfolie versehen und verarbeitet. Es ist jedoch auch möglich, die auf der Folie belichteten Schichten vor dem Entwickeln passergenau aufeinander zu laminieren und dabei jeweils vor dem Laminieren die Deckfolie und danach die Trägerfolie abzuziehen. Abschließend können dann alle Schichten übereinander gleichzeitig vorsichtig mit ca. 16 % Trinatriumphosphat-Lös.ung entwickelt werden.
Beispiel 8
Auf eine 25/U dicke Polypropylen-Folie wird eine 15/U dicke Photoresist-Schicht folgender Zusammensetzung
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aus Methyläthylketon-Lösung aufgetragen:
36,4 % Novolak,
9,1 % Vinylacetat-Mischpolymerisat wie in
Beispiel 2,
24,2 % der in Beispiel 2 verwendeten Diazo-
verbindung,
12.1 % des unten angegebenen Mischpolymerisats,
18.2 % Plexisol B 574 (vgl. Beispiel 1).
Dann wird die in Beispiel 1 beschriebene Deckfolie aufgebracht. Das Mischpolymerisat wird durch Polymerisieren vcn 2 Gewichtsteilen Äthylacrylat mit 18 Gewichtsteilen Methacrylsäure in Methyläthylketon in Gegenwart von Azodiisobutyronitril hergestellt und hat die Säurezahl 48,8.
Zur Herstellung von Leiterplatten wird nach dem Abziehen der Deckfolie dieser Resist bei ungefähr 135° C langsam mehrmals durch das Laminiergerät geschickt und so mit ausreichender Haftfestigkeit auf eine dünne Kupferhaut aufgebracht. Dann wird die Trägerfolie abgezogen und die Schicht ohne Nachtrocknen unter einer positiven
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Vorlage eines Schaltungsplanes belichtet. Nach dem Entwickeln mit 14 %±ger Trinatriumphosphat-Lösung durch ca. 3 Minuten Anspritzen in einem Entwicklungsgerät und fitzen mit' Ferrichlorid-Lösung wird eine Schaltungsplatte erhalten.
Beispiel 9
Auf eine 36 ,u dicke, wie in Beispiel 1 beschriebene vorbehandelte Polyesterfolie wird eine 20 ,u dicke Schicht aus Methyläthylketon als Lösungsmittel aufgetragen, die folgende Zusammensetzung hat:
35 % Novolak,
8,8 % Vinylacetat-Mischpolymerisat wie in Beispiel 2, 23 % der. im Beispiel 2 verwendeten Diazoverbindung,
11,8 % des in Beispiel 8 beschriebenen Mischpolymerisats,
17,6 % Plexisol B 574 (vgl. Beispiel 1), 3 % Polyvxnylisobutylather, höherviskos (Lutonal I 60),
0,8 % Kristallviolett.
Auf die getrocknete Schicht wird eine Deckfolie wie in Beispiel 1 aufkaschiert.
3098 86/0683
Diese Schicht wird bei 135° C von beiden Seiten auf einen doppelseitig mit einer Kupferhaut versehenen Isolierstoffträger aufgebracht und dann von beiden Trägerfolien befreit, nachgetrocknet, beidseitig belichtet, an den nach der Belichtung erkennbaren Stellen gebohrt und dann mit dem in Beispiel 3 beschriebenen Entwickler entwickelt. Zur Herstellung durchkontaktierter Leiterplatten kann anschließend durch stromloses Verkupfern der Lochwandungen, galvanisches Verstärken und Ätzen nach einem der bekannten Verfahren weiter gearbeitet werden.
Beispiel 10
Auf eine 25/U dicke Polypropylenfolie wird aus Äthylenglykolmonoäthylather eine 20 .u dicke Schicht folgender Zusammensetzung aufgetragen:
30,8 % Novolak,
7,7 % Vinylacetat-Mischpolymerisat wie in Beispiel 2, 20,5 % der in Beispiel 2 verwendeten Diazoverbindung, 15,4 % Plexisol B 574 (vgl. Beispiel 1), 25,0 % Lutonal A 25 (vgl. Beispiel 1), 0,6 % 'Kristallviolett.
309886/0683
Diese Schicht wird auf ein ausgeschnittenes Stück 120-er Polyester-Siebdruckgewebe bei ca. .120° C . in einem Laminator aufgebracht, wobei etwa ein Drittel der Schicht in das Gewebe eindringt. Anschließend wird das vorsensibilisierte Gewebe in einem Spanngerät auf einen Siebdruckrahmen übertragen und befestigt. Nach etwa 4 Minuten Belichtung mit einer 5 KW Metall-Halogen-Lampe unter einer negativen Vorlage durch die Trägerfolie hindurch wird diese abgezogen, die Schicht mit dem in Beispiel 3 angegebenen Entwickler überwischt und die Entwicklung durch Abspritzen mit Wasser und Trocknen abgeschlossen. Diese Siebdruckschablone ist hervorragend geeignet zum Drucken mit wäßrigen Farben (Textildruck) und Lösungsmittelfarben auf Basis von unpolaren Lösungsmitteln wie Benzin.
Das Aufbringen der Schicht auf das Gewebe kann auch in der Weise durchgeführt werden, daß.man die Oberfläche der Schicht oder das Gewebe oder beides mit Äthylenglykolmonoäthylather benetzt und dann unter leichtem Druck kaschiert und trocknet.
309886/088

Claims (7)

  1. Patentans ρ r ü c he
    Lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial mit einem Träger, einer lichtempfindlichen Schicht, die ein o-Naphthochinondiazid und ein alkalilösliches Phenolharz enthält, und gegebenenfalls einem abziehbaren Deckblatt auf der anderen Seite der lichtempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht einen Ester oder ein Amid einer o-Naphthochinondiazidsulfonsäure sowie ferner mindestens ein Acrylharz enthält.
  2. 2. Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Acrylharz ein Polyacryl- oder -methacrylsäureester ist.
  3. 3. Material nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht ferner mindestens einen Polyvinylather enthält.
  4. 4. Material nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht ferner ein Mischpolymerisat mit sauren Gruppen enthält.
    309836/0683
  5. 5. Material nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht 12 - 30 Gew.-% Naphthoehinondiazid,, 25 - 40 Gew.-% Phenolharz, 5-30 Gew.· Polyacryl- oder methacrylsäureester und 5-35 Gew.-% Polyvinyläther enthält.
  6. 6. Material nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischpolymerisat mit.sauren Gruppen ein Polymerisat von Alkylacrylat oder -methacrylat mit Acryl- oder Methacrylsäure ist.
  7. 7. Material nach Anspruch 49 dadurch gekennzeichnet, daß das Mischpolymerisat mit sauren Gruppen ein Polymerisat von Vinylacetat und einer ungesättigten Carbonsäure ist. ■ jif?
    309886/0683
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CA177,342A CA1006036A (en) 1972-07-27 1973-07-25 Light-sensitive layer transfer material
US05/382,864 US4093464A (en) 1972-07-27 1973-07-26 Light sensitive o-quinone diazide containing transfer composition
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FR7402208A FR2258651A2 (en) 1972-07-27 1974-01-23 Pretreating polyester support for photosensitive transfer layer - with compsn contg halogenated fatty acid, crosslinking agent, and water soluble polymer
DE19742403054 DE2403054C2 (de) 1972-07-27 1974-01-23 Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials
NL7400975A NL7400975A (en) 1972-07-27 1974-01-24 Positive-transfer matl contg o-naphthoquinone diazide sulphonic deriv - on polyester film base treated with halogenated fatty acid, giving easy sepn.

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SE (1) SE377198B (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2838632A1 (de) * 1977-09-12 1979-04-05 Standex Int Corp Verfahren zum herstellen reliefartiger muster auf metalloberflaechen
US4506003A (en) * 1980-06-21 1985-03-19 Hoechst Aktiengesellschaft Positive-working radiation-sensitive mixture
US11822242B2 (en) 2019-11-14 2023-11-21 Merck Patent Gmbh DNQ-type photoresist composition including alkali-soluble acrylic resins

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1581435A (en) * 1976-05-07 1980-12-17 Letraset International Ltd Production of dry transfer materials
JPS53119025A (en) * 1977-03-26 1978-10-18 Sumitomo Chemical Co Light forming material
US4216019A (en) * 1977-07-21 1980-08-05 Kenneth James Reed Photographically produced stencils
JPS5511266A (en) * 1978-07-12 1980-01-26 Sumitomo Chem Co Ltd Production of photo molding material for making stencil
JPS58190952A (ja) * 1982-04-30 1983-11-08 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版の現像液
US4504566A (en) * 1982-11-01 1985-03-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers
JPS5997140A (ja) * 1982-11-26 1984-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd カラ−プル−フイングシ−トの製法
WO1989005475A1 (en) * 1987-12-10 1989-06-15 Macdermid, Incorporated Image-reversible dry-film photoresists
US4985337A (en) * 1988-11-15 1991-01-15 Konica Corporation Image forming method and element, in which the element contains a release layer and a photosensitive o-quinone diaziode layer
US5348833A (en) * 1990-03-05 1994-09-20 Hoechst Aktiengesellschaft Colored positive-working quinone diazide photosensitive recording material for the production of a color test image utilizing adhesive layer containing alkali-insoluble organic polymer and alkali-soluble polyester
JP3710717B2 (ja) * 2001-03-06 2005-10-26 東京応化工業株式会社 厚膜用ポジ型ホトレジスト組成物、ホトレジスト膜およびこれを用いたバンプ形成方法
JP4213366B2 (ja) * 2001-06-12 2009-01-21 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 厚膜レジストパターンの形成方法
US6517988B1 (en) * 2001-07-12 2003-02-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Radiation-sensitive, positive working coating composition based on carboxylic copolymers
TW200739265A (en) * 2005-12-06 2007-10-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Positive photoresist composition and method of forming photoresist pattern using the same
KR20120104450A (ko) * 2011-03-08 2012-09-21 (주)엘지하우시스 웨이퍼 가공 필름용 점착제 조성물

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2046115A1 (de) * 1969-10-29 1971-05-06 Shipley Co
DE2106574A1 (de) * 1970-03-03 1971-09-23 Shpley Co Inc Lichtempfindliches Laminat

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4910841B1 (de) * 1965-12-18 1974-03-13
GB1136544A (en) * 1966-02-28 1968-12-11 Agfa Gevaert Nv Photochemical cross-linking of polymers
US3474719A (en) * 1966-04-15 1969-10-28 Gaf Corp Offset printing plates
US3551154A (en) * 1966-12-28 1970-12-29 Ferrania Spa Light sensitive article comprising a quinone diazide and polymeric binder
US3634082A (en) * 1967-07-07 1972-01-11 Shipley Co Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether
JPS49441B1 (de) * 1968-08-14 1974-01-08
US3637384A (en) * 1969-02-17 1972-01-25 Gaf Corp Positive-working diazo-oxide terpolymer photoresists
US3837860A (en) * 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
US3660097A (en) * 1969-11-28 1972-05-02 Polychrome Corp Diazo-polyurethane light-sensitive compositions
GB1342088A (en) * 1970-06-02 1973-12-25 Agfa Gevaert Process for producing multicolour photographic images
US3782939A (en) * 1972-02-09 1974-01-01 Mining And Mfg Co Dry positive-acting photoresist

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2046115A1 (de) * 1969-10-29 1971-05-06 Shipley Co
DE2106574A1 (de) * 1970-03-03 1971-09-23 Shpley Co Inc Lichtempfindliches Laminat

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2838632A1 (de) * 1977-09-12 1979-04-05 Standex Int Corp Verfahren zum herstellen reliefartiger muster auf metalloberflaechen
US4506003A (en) * 1980-06-21 1985-03-19 Hoechst Aktiengesellschaft Positive-working radiation-sensitive mixture
US11822242B2 (en) 2019-11-14 2023-11-21 Merck Patent Gmbh DNQ-type photoresist composition including alkali-soluble acrylic resins

Also Published As

Publication number Publication date
JPS4946734A (de) 1974-05-04
AT331273B (de) 1976-08-10
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BE802733A (fr) 1974-01-24

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