CN109956681A - 一种玻璃退镀清洗方法及玻璃退镀液 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种玻璃退镀清洗方法及玻璃退镀液，所述玻璃退镀清洗方法包括利用具有第一预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的退镀液对玻璃进行主退镀，持续预设时间；利用具有第二预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的清洗液对所述玻璃进行刷洗；利用具有第三预设温度的去离子水对所述玻璃进行喷淋清洗；对所述玻璃进行脱水烘干。上述玻璃退镀清洗方法及玻璃退镀液，能够避免对曝光显影后的油墨造成伤害，且生产成本低，生产效率高。
Description
技术领域
本发明属于玻璃加工技术领域，特别是涉及一种玻璃退镀清洗方法及玻璃退镀液。
背景技术
随着社会的进步，2D、3D玻璃已经应用于电子产品上，而且成为一种时尚，与传统塑料和金属手机电池盖相比，2D、3D曲面玻璃有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、耐刮伤、耐候性等优点。目前退镀工艺作为一种新型的作业方式在玻璃上得到了很好运用，该工艺不仅可以得到优美精密的图案，而且该图案没有凹凸感、质地细密。然而，现有技术中采用的退镀清洗工艺采用的是强碱性退镀液，这对曝光显影后的油墨会造成伤害。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供了一种玻璃退镀清洗方法及玻璃退镀液，能够避免对曝光显影后的油墨造成伤害，且生产成本低，生产效率高。
本发明提供的一种玻璃退镀清洗方法，包括：
利用具有第一预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的退镀液对玻璃进行主退镀，持续预设时间；
利用具有第二预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的清洗液对所述玻璃进行刷洗；
利用具有第三预设温度的去离子水对所述玻璃进行喷淋清洗；
对所述玻璃进行脱水烘干。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述退镀液包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠和质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述退镀液还包括质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述清洗液包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠和质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述清洗液还包括质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述第一预设温度的范围为65℃至75℃。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述第二预设温度的范围为50℃至55℃。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述对所述玻璃进行刷洗为：
在线速为2.5m/min至3m/min的3D平板机上利用转速为280r/min至380r/min的毛刷对所述玻璃进行刷洗。
优选的，在上述玻璃退镀清洗方法中，所述第三预设温度的范围为45℃至55℃。
本发明提供的一种玻璃退镀液，包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠、质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠和质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
通过上述描述可知，本发明提供的上述玻璃退镀清洗方法及玻璃退镀液，由于该方法包括利用具有第一预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的退镀液对玻璃进行主退镀，持续预设时间；利用具有第二预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的清洗液对所述玻璃进行刷洗；利用具有第三预设温度的去离子水对所述玻璃进行喷淋清洗；对所述玻璃进行脱水烘干，因此能够避免对曝光显影后的油墨造成伤害，且生产成本低，生产效率高。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的第一种玻璃退镀清洗方法的示意图。
具体实施方式
本发明的核心思想在于提供一种玻璃退镀清洗方法及玻璃退镀液，能够避免对曝光显影后的油墨造成伤害，且生产成本低，生产效率高。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供的第一种玻璃退镀清洗方法如图1所示，图1为本申请实施例提供的第一种玻璃退镀清洗方法的示意图，该方法包括如下步骤：
S1：利用具有第一预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的退镀液对玻璃进行主退镀，持续预设时间；
其中，五水偏硅酸钠是主退镀剂，十二烷基苯磺酸钠是湿润清洗油脂，其余是去离子水，该第一预设温度高于室温。一般来说，该方案针对的玻璃产品的加工工艺包括产品清洗、电镀NCVM(不导电真空镀)、曝光、显影、退镀、清洗和检验，而本方案是针对其中的退镀和清洗工艺进行的改进。
S2：利用具有第二预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的清洗液对所述玻璃进行刷洗；
该步骤是一种防呆措施，目的是预防膜层未退净情况的发生。
S3：利用具有第三预设温度的去离子水对所述玻璃进行喷淋清洗；
这样能够避免清洗液的残留。
S4：对所述玻璃进行脱水烘干。
烘干之后进行外观检验，检验通过的产品进入下一工序进行镀膜。
通过上述描述可知，本申请实施例提供的第一种玻璃退镀清洗方法，由于包括利用具有第一预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的退镀液对玻璃进行主退镀，持续预设时间；利用具有第二预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的清洗液对所述玻璃进行刷洗；利用具有第三预设温度的去离子水对所述玻璃进行喷淋清洗；对所述玻璃进行脱水烘干，因此能够避免对曝光显影后的油墨会造成伤害，且生产成本低，生产效率高。
本申请实施例提供的第二种玻璃退镀清洗方法，是在上述第一种玻璃退镀清洗方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述退镀液包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠和质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠。
需要说明的是，其余的成分是去离子水。
本申请实施例提供的第三种玻璃退镀清洗方法，是在上述第二种玻璃退镀清洗方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述退镀液还包括质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
其中，EDTA-2NA为乙二胺四乙酸二钠，其在混合液中是作为络合剂，如果不添加这种物质也并不影响上述方案的实现。
本申请实施例提供的第四种玻璃退镀清洗方法，是在上述第一种玻璃退镀清洗方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述清洗液包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠和质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠。
需要说明的是，其余的成分是去离子水。
本申请实施例提供的第五种玻璃退镀清洗方法，是在上述第四种玻璃退镀清洗方法的基础上，还包括如下技术特征：
所述清洗液还包括质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
本申请实施例提供的第六种玻璃退镀清洗方法，是在上述第一种至第五种玻璃退镀清洗方法中任一种的基础上，还包括如下技术特征：
所述第一预设温度的范围为65℃至75℃。
该第一预设温度的范围既能保证退镀效果，又能保证油墨不被伤害，所述预设时间的范围可以为8分钟至15分钟，在这种时间范围内能够保证退镀的足够彻底，且不会对退镀液造成浪费。
本申请实施例提供的第七种玻璃退镀清洗方法，是在上述第一种至第五种玻璃退镀清洗方法中任一种的基础上，还包括如下技术特征：
所述第二预设温度的范围为50℃至55℃。
在这种温度范围内，清洗液中的各个成分能够发挥足够强的活性，能够起到更好的清洗作用。
本申请实施例提供的第八种玻璃退镀清洗方法，是在上述第一种至第五种玻璃退镀清洗方法中任一种的基础上，还包括如下技术特征：
所述对所述玻璃进行刷洗为：
在线速为2.5m/min至3m/min的3D平板机上利用转速为280r/min至380r/min的毛刷对所述玻璃进行刷洗。
需要说明的是，这只是其中一个优选方案，实际上，除了3D平板机之外还可以用九槽超声波清洗机清洗，此处并不限制。
本申请实施例提供的第九种玻璃退镀清洗方法，是在上述第一种至第五种玻璃退镀清洗方法中任一种的基础上，还包括如下技术特征：
所述第三预设温度的范围为45℃至55℃。
第三预设温度选取这种温度范围的优点是降低成本，节约能源。
本申请实施例提供的一种玻璃退镀液，包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠、质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠和质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
其中，五水偏硅酸钠是主退镀剂，十二烷基苯磺酸钠是湿润清洗油脂，EDTA-2NA为乙二胺四乙酸二钠，其在混合液中是作为络合剂，其余是去离子水。利用这种玻璃退镀液对玻璃进行退镀处理，能够避免对曝光显影后的油墨造成伤害，且生产成本低，生产效率高。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (10)
1.一种玻璃退镀清洗方法，其特征在于，包括：
利用具有第一预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的退镀液对玻璃进行主退镀，持续预设时间；
利用具有第二预设温度的包含五水偏硅酸钠和十二烷基苯磺酸钠的清洗液对所述玻璃进行刷洗；
利用具有第三预设温度的去离子水对所述玻璃进行喷淋清洗；
对所述玻璃进行脱水烘干。
2.根据权利要求1所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述退镀液包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠和质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠。
3.根据权利要求2所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述退镀液还包括质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
4.根据权利要求1所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述清洗液包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠和质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠。
5.根据权利要求4所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述清洗液还包括质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
6.根据权利要求1-5任一项所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述第一预设温度的范围为65℃至75℃。
7.根据权利要求1-5任一项所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述第二预设温度的范围为50℃至55℃。
8.根据权利要求1-5任一项所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述对所述玻璃进行刷洗为：
在线速为2.5m/min至3m/min的3D平板机上利用转速为280r/min至380r/min的毛刷对所述玻璃进行刷洗。
9.根据权利要求1-5任一项所述的玻璃退镀清洗方法，其特征在于，所述第三预设温度的范围为45℃至55℃。
10.一种玻璃退镀液，其特征在于，包括质量分数为3％至10％的五水偏硅酸钠、质量分数为1％至3％的十二烷基苯磺酸钠和质量分数为0.5％至1.5％的EDTA-2NA。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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